JPH0738275B2 - Read-only semiconductor memory device - Google Patents

Read-only semiconductor memory device

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JPH0738275B2
JPH0738275B2 JP15873388A JP15873388A JPH0738275B2 JP H0738275 B2 JPH0738275 B2 JP H0738275B2 JP 15873388 A JP15873388 A JP 15873388A JP 15873388 A JP15873388 A JP 15873388A JP H0738275 B2 JPH0738275 B2 JP H0738275B2
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memory cell
column
selection circuit
row
power supply
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弘之 小畑
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は縦型読出専用半導体記憶装置(以下、縦型ROM
と記す)に関し、特に電源もしくはグランドに乗ったノ
イズによる誤動作を防止可能な縦型ROMに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial application] The present invention relates to a vertical read-only semiconductor memory device (hereinafter, vertical ROM
)), Particularly to a vertical ROM capable of preventing malfunction due to noise on the power supply or ground.

[従来の技術] 従来の縦型ROMを第5図に示す。この縦型ROMは例えば第
2図(a)のようなNチャンネル型MOSFETで構成された
4個のメモリセルMCi0〜MCi3、及びメモリセルMCi0〜MC
i3を選択するためのNチャンネル型のセレクト用MOSFET
MSiを直列接続してなるメモリセルブロック1と、メモ
リセルブロック1を列方向及び行方向に複数個配列して
なるメモリセルアレイ2と、メモリセルブロック1を列
方向に接続する複数の列線D0〜D3と、メモリセルブロッ
ク1を構成するメモリセルMCi0〜MCi3を行方向に接続す
る複数の行線W00〜W33と、アドレス信号AY1〜▲
▼を入力とするYデコーダ31及びYデコーダ31の出力YD
0〜YD3で駆動され列線D0〜D3を選択するためのNチャン
ネル型MOSFET YS0〜YS3で構成されたYセレクタ32より
なる列選択回路3と、アドレス信号AX0〜▲▼を
入力とし行線W00〜W33を選択するための行選択回路4
と、アドレス信号AB0〜▲▼を入力としセレクト
用MOSFET MSiを駆動してメモリセルブロック1を選択す
るためのメモリセルブロック選択回路5と、メモリセル
アレイ1内の選択されたメモリセルに記憶されたデータ
を読み出すセンスアンプ6とで構成されている。
[Prior Art] FIG. 5 shows a conventional vertical ROM. This vertical ROM includes four memory cells MCi0 to MCi3 and memory cells MCi0 to MCi formed by N-channel MOSFETs as shown in FIG.
N-channel select MOSFET for selecting i3
A memory cell block 1 having MSi connected in series, a memory cell array 2 having a plurality of memory cell blocks 1 arranged in a column direction and a row direction, and a plurality of column lines D0 connecting the memory cell blocks 1 in the column direction. To D3, a plurality of row lines W00 to W33 connecting the memory cells MCi0 to MCi3 forming the memory cell block 1 in the row direction, and the address signals AY1 to ▲.
Y decoder 31 that receives ▼ as input and output YD of Y decoder 31
A column selection circuit 3 which is driven by 0 to YD3 and comprises N selectors YS0 to YS3 for selecting the column lines D0 to D3, and a column selection circuit 3 and an address signal AX0 to ▲ ▼ are input to a row line W00. ~ Row selection circuit 4 for selecting W33
And a memory cell block selection circuit 5 for selecting the memory cell block 1 by driving the selection MOSFET MSi by inputting the address signals AB0 to ▲ ▼, and stored in the selected memory cell in the memory cell array 1. It is composed of a sense amplifier 6 for reading data.

尚、第5図においてYデコーダ31及びメモリセルブロッ
ク選択回路5を構成するノアゲート(NOR)は第2図
(b)に示したように、Pチャンネル型MOSFET P01及び
P02とNチャンネル型MOSFET N01及びN02よりなり電源端
子VCCとグランド端子VSS間に構成され、行選択回路4を
構成するナンドゲート(NAND)は第2図(c)に示した
ように、Pチャンネル型MOSFET P11及びP12とNチャン
ネル型MOSFET N11及びN12よりなる。第2図(c)に示
したように第5図における行選択回路4は電源端子VCC
とグランド端子VSS間に構成されたナンドゲートでな
る。
In FIG. 5, the Y-decoder 31 and the NOR gate (NOR) constituting the memory cell block selection circuit 5 are the P-channel MOSFET P01 and the NOR gate (NOR) as shown in FIG.
The NAND gate (NAND) that is composed of P02 and N-channel MOSFETs N01 and N02 and is between the power supply terminal VCC and the ground terminal VSS and that constitutes the row selection circuit 4 is a P-channel type as shown in FIG. 2 (c). It consists of MOSFETs P11 and P12 and N-channel type MOSFETs N11 and N12. As shown in FIG. 2 (c), the row selection circuit 4 in FIG.
And a NAND gate configured between the ground terminal VSS.

次にその動作を簡単に説明しておく。例えば、アドレス
信号AY0及びAY1が高レベルであればYデコーダ31の出力
YD0が高レベル、YD1〜YD3が低レベルになり、Yセレク
タ32を構成するNチャンネル型MOSFET YS0がオン、YS1
〜YS3がオフして列線D0が選択され、またアドレス信号A
B0及びAB1が高レベルであればメモリセルブロック選択
回路5の出力BS0が高レベル、BS1〜BS3が低レベルとな
り、選択されたメモリセルブロック選択回路の出力BS0
で駆動されているメモリセルブロックを構成するセレク
ト用MOSFETがオンし、従って選択された列線D0に接続さ
れ、しかも選択されたメモリセルブロック回路の出力BS
0で駆動されたセレクト用MOSFETが存在するメモリセル
ブロックが選択される。さらにアドレス信号AX0及びAX1
が高レベルであれば、行線W00,W10,W20,W30が低レベル
となって選択され、行線W01〜W03,W11〜W13,W21〜W23,W
31〜W33が高レベルとなって非選択となり、選択された
メモリセルブロック内に存在し、しかも選択された行線
で駆動されたメモリセルが選択状態となる。そしてもし
選択されたメモリセルがNチャンネル型ディプリーショ
ンMOSFETであればゲート電位が低レベルでもオンしてい
るので選択された列線D0とグランド端子VSSはセレクト
用MOSFETを介して電気的に接続され、一方選択されたメ
モリセルがNチャンネル型エンハンスメントMOSFETであ
ればゲート電位が低レベルであるのでオフして選択され
た列線D0とグランド端子VSSは電気的に切断され、選択
された列線D0とグランド端子VSSが電気的に接続されて
いるか、切断されているかをセンスアンプ6で検出し
て、メモリセルに記憶されたデータを読み出す。
The operation will be briefly described below. For example, if the address signals AY0 and AY1 are at high level, the output of the Y decoder 31
YD0 becomes high level, YD1 to YD3 become low level, N-channel type MOSFET YS0 forming Y selector 32 turns on, YS1
~ YS3 is turned off, column line D0 is selected, and address signal A
If B0 and AB1 are at high level, the output BS0 of the memory cell block selection circuit 5 becomes high level and BS1 to BS3 become low level, and the output BS0 of the selected memory cell block selection circuit
The select MOSFET that composes the memory cell block driven by is turned on and is therefore connected to the selected column line D0, and the output BS of the selected memory cell block circuit
The memory cell block in which the select MOSFET driven by 0 exists is selected. Furthermore, address signals AX0 and AX1
Is high level, the line lines W00, W10, W20, W30 are selected as low level, and the line lines W01 ~ W03, W11 ~ W13, W21 ~ W23, W are selected.
31 to W33 become high level and become non-selected, and the memory cells existing in the selected memory cell block and driven by the selected row line are in the selected state. If the selected memory cell is an N-channel depletion MOSFET, the selected column line D0 and the ground terminal VSS are electrically connected via the selecting MOSFET because the gate potential is on even when the gate potential is low. On the other hand, if the selected memory cell is an N-channel enhancement MOSFET, the gate potential is at a low level, so the selected column line D0 is electrically cut off and the selected column line D0 is electrically disconnected. The sense amplifier 6 detects whether D0 and the ground terminal VSS are electrically connected or disconnected, and the data stored in the memory cell is read.

[発明が解決しようとする問題点] 上述した従来の縦型ROMは、電源が行選択回路に直接印
加されているので電源端子とグランド端子が低インピー
ダンスで結合し、電源端子に乗ったノイズがグランド端
子に伝達されるかもしくはグランド端子に乗ったノイズ
が、電源端子に伝達されてセンスアンプなどが誤動作と
いう欠点があった。
[Problems to be Solved by the Invention] In the conventional vertical ROM described above, since the power is directly applied to the row selection circuit, the power supply terminal and the ground terminal are coupled with low impedance, and the noise on the power supply terminal is reduced. The noise transmitted to the ground terminal or riding on the ground terminal is transmitted to the power supply terminal and the sense amplifier or the like malfunctions.

すなわち縦型ROMでは第6図(a)に示したように、選
択された行線Wi0は行選択回路を構成するNチャンネル
型MOSFET NX00とNX0を介してグランド端子VSSに接続さ
れ、非選択の行線Wi1,Wi2及びWi3は行選択回路を構成す
るPチャンネル型MOSFET PX1,PX2及びPX3を介して電源
端子VCCに接続されている。ここでNチャンネル型MOSFE
T NX00とNX0を抵抗RNX00とRXN0に、Pチャンネル型MOSF
ET PX1,PX2及びPX3を抵抗RPX1,RPX2及びRPX3に置き換
え、ゲートに電源電圧が印加されてオンしている非選択
のメモリセルMCi1,MCi2及びMCi3のゲート容量をCi1,Ci2
及びCi3で表し、オン抵抗をRMCi1,RMCi2及びRMCi3で表
すと、第6図(b)に示したような等価回路となる。第
6図(b)で選択されたメモリセルMCi0のゲート容量及
びオン抵抗が図示されていないが、ゲートがグランド電
位であるので選択されたメモリセルMCi0がNチャンネル
型エンハンスメントMOSFETである場合オフするためであ
る。尚、選択されたメモリセルMCi0がNチャンネル型デ
ィプリーションMOSFETである場合はオンし、オン抵抗は
ゲート容量及び抵抗RNX00とRNX0を介してグランド端子V
SSに接続されるが、選択されたメモリセルMCi0がNチャ
ンネル型エンハンスメントMOSFETの場合とほぼ同様の動
作となるので、以下では選択されたメモリセルMCi0がN
チャンネル型ディプリーションMOSFETである場合の説明
は省略する。
That is, in the vertical ROM, as shown in FIG. 6 (a), the selected row line Wi0 is connected to the ground terminal VSS through the N-channel MOSFETs NX00 and NX0 that form the row selection circuit, and is not selected. The row lines Wi1, Wi2 and Wi3 are connected to the power supply terminal VCC via P-channel type MOSFETs PX1, PX2 and PX3 which form a row selection circuit. N-channel type MOSFE
T NX00 and NX0 are connected to resistors RNX00 and RXN0 and P-channel type MOSF
ET PX1, PX2, and PX3 are replaced with resistors RPX1, RPX2, and RPX3, and the gate capacitance of unselected memory cells MCi1, MCi2, and MCi3 that are turned on when the power supply voltage is applied to their gates is set to Ci1, Ci2.
And Ci3 and the on-resistances are represented by RMCi1, RMCi2, and RMCi3, the equivalent circuit shown in FIG. 6 (b) is obtained. Although the gate capacitance and on-resistance of the selected memory cell MCi0 are not shown in FIG. 6 (b), since the gate is at the ground potential, it is turned off when the selected memory cell MCi0 is an N-channel type enhancement MOSFET. This is because. When the selected memory cell MCi0 is an N-channel depletion MOSFET, it is turned on, and the on resistance is the gate capacitance and the ground terminal V via the resistors RNX00 and RNX0.
Although the selected memory cell MCi0 is connected to SS, the selected memory cell MCi0 operates in almost the same manner as in the case of the N-channel type enhancement MOSFET.
Description of the case of a channel depletion MOSFET is omitted.

さらに第6図(b)の抵抗RPX1,RPX2及びRPX3を並列接
続して抵抗RPXに、ゲート容量Ci1,Ci2及びCi3を並列接
続して容量CCに置き換えると共に、オン抵抗RMCi1,RMCi
2及びRMCi3を直列接続して抵抗RMCに置き換えると、第
6図(c)に示す等価回路となり、メモリセルの数が非
常に多い大容量縦型ROMにおいては例えばRPX=1.0Ω、C
C=10000PF、RMC=0.1Ωとなる。
Further, the resistors RPX1, RPX2 and RPX3 shown in FIG. 6 (b) are connected in parallel to replace the resistor RPX, and the gate capacitors Ci1, Ci2 and Ci3 are connected in parallel to replace the capacitor CC, and the on-resistances RMCi1 and RMCi are replaced.
When 2 and RMCi3 are connected in series and replaced with a resistor RMC, the equivalent circuit shown in FIG. 6 (c) is obtained, and in a large capacity vertical ROM with a large number of memory cells, for example, RPX = 1.0Ω, C
C = 10000PF and RMC = 0.1Ω.

ここで第6図(d)で示したように、電源vと電源端子
VCC及びグランド端子VSS間には寄生インピーダンスZVCC
及びZGNDが存在し、例えばlZVCCl=10Ω、lZGNDl=10Ω
であり、またlRPX+1/jWCC+RMCl=1.1Ω(W=2πf:f
=100MHzとした)となって、電源vと電源端子VCC及び
グランド端子VSS間に存在する寄生インピーダンスZVCC
およびZGNDと比較すると、電源端子VCCとグランド端子V
SSは1.1Ωという低インピーダンスで結合しており、例
えば電源端子VCCに、1.0V、f=100MHzのノイズが乗っ
た場合、グランド端子VSSに伝達されるノイズVNGNDは次
式で表され、 VNGND=1.0V×lZGNDl/lZGNDl+lRPX+1/jWCC+RMCl =0.9V となる。上式の結果より、電源端子VCCに乗ったノイズ
のほとんどがグランド端子VSSに伝達され、センスアン
プなどのグランドもグランド端子VSSに接続されている
ので、グランド端子VSSに伝達されたノイズのためにセ
ンスアンプなどが誤動作する。また、グランド端子VSS
に1.0V、f=100MHzのノイズが乗った場合、電源端子VC
Cに伝達されるノイズVNVCCは同様に、 VNVCC=1.0V×lZVCCl/lZVCCl+lRPX+1/jWCC+RMCl =0.9V となり、グランド端子VSSに乗ったノイズも殆ど電源端
子VCCに伝達されセンスアンプ等の電源も電源端子VCCに
接続されているので、電源端子VCCに伝達されたノイズ
のためにセンスアンプ等が誤動作することもある。
Here, as shown in FIG. 6 (d), the power source v and the power source terminal
Parasitic impedance ZVCC between VCC and ground pin VSS
And ZGND exist, for example, lZVCCl = 10Ω, lZGNDl = 10Ω
And lRPX + 1 / jWCC + RMCl = 1.1Ω (W = 2πf: f
= 100MHz), the parasitic impedance ZVCC existing between the power supply v and the power supply terminal VCC and the ground terminal VSS.
Power supply terminal VCC and ground terminal V
SS is coupled with a low impedance of 1.1Ω. For example, when noise of 1.0V and f = 100MHz is applied to the power supply terminal VCC, the noise VNGND transmitted to the ground terminal VSS is expressed by the following formula, VNGND = 1.0V x lZGNDl / lZGNDl + lRPX + 1 / jWCC + RMCl = 0.9V. From the result of the above formula, most of the noise riding on the power supply terminal VCC is transmitted to the ground terminal VSS, and the ground of the sense amplifier is also connected to the ground terminal VSS. The sense amplifier etc. malfunctions. Also, ground terminal VSS
If 1.0V, f = 100MHz noise is present on the power supply terminal VC
Similarly, the noise VNVCC transmitted to C becomes VNVCC = 1.0V x lZVCCl / lZVCCl + lRPX + 1 / jWCC + RMCl = 0.9V, and most of the noise riding on the ground pin VSS is also transmitted to the power supply pin VCC and the power supply for the sense amplifier etc. Since the noise is transmitted to the power supply terminal VCC, the sense amplifier and the like may malfunction.

[問題点を解決するための手段] 本発明の要旨は複数個のメモリセルと前記複数個のメモ
リセルを選択するためのセレクト用トランジスタとを直
列接続してなるメモリセルブロックを列方向及び行方向
に複数個配列してなるメモリセルアレイと、前記メモリ
セルブロックを列方向に接続する複数の列線と、前記メ
モリセルブロックを構成するメモリセルを行方向に接続
する複数の行線と、アドレス信号を入力とする列デコー
ダ及び前記列デコーダの出力で駆動され前記列線を選択
するための列セレクタにより構成される列選択回路と、
アドレス信号を入力とし、前記行線を選択するための行
選択回路と、アドレス信号を入力とし、前記セレクト用
トランジスタを駆動して前記メモリセルブロックを選択
するメモリセルブロック選択回路と、前記メモリセルア
レイ内の選択されたメモリセルに記憶されたデータを読
み出すセンスアンプとを備えた読出専用半導体記憶装置
において、抵抗素子を介して前記行選択回路の負荷素子
に、電源を印加することである。
[Means for Solving the Problems] The gist of the present invention is to provide a memory cell block in which a plurality of memory cells and a select transistor for selecting the plurality of memory cells are connected in series in a column direction and a row direction. A plurality of memory cells arranged in a row direction, a plurality of column lines connecting the memory cell blocks in a column direction, a plurality of row lines connecting memory cells forming the memory cell block in a row direction, and an address. A column selection circuit configured by a column decoder that receives a signal and a column selector that is driven by the output of the column decoder and that selects the column line;
A row selection circuit that receives an address signal and selects the row line; a memory cell block selection circuit that receives the address signal and drives the selection transistor to select the memory cell block; and the memory cell array. In a read-only semiconductor memory device including a sense amplifier for reading data stored in a selected memory cell in the memory cell, power is applied to a load element of the row selection circuit via a resistance element.

[発明の従来技術に対する相違点] 上述した従来の縦型ROMに対し、本発明は電源端子とグ
ランド端子が低インピーダンスで結合しないという相違
点を有する。
[Differences from the Prior Art of the Invention] The present invention is different from the above-described conventional vertical ROM in that the power supply terminal and the ground terminal are not coupled with low impedance.

[実施例] 第1実施例 第1図は本発明の第1実施例を示す回路図であり、例え
ば第2図(a)に示したようなNチャンネル型MOSFETで
構成された4個のメモリセルMCi0〜MCi3及びメモリセル
MCi0〜MCi3を選択するためのNチャンネル型のセレクト
用MOSFET MSiを直列接続してなるメモリセルブロック1
と、メモリセルブロック1を列方向及び行方向に複数個
配列してなるメモリセルアレイ2と、メモリセルブロッ
ク1を列方向に接続する複数の列線D0〜D3と、メモリセ
ルブロック11を構成するメモリセルMCi0〜MCi3行方向に
接続する複数の行線W00〜W33と、アドレス信号AY0〜▲
▼を入力とするYデコーダ31及びYデコーダ31の
出力YD0〜YD3で駆動され列線D0〜D3を選択するためのN
チャンネル型MOSFET YS0〜YS3で構成されたYセレクタ3
2よりなる列選択回路3と、アドレス信号AX0〜▲
▼を入力とし行線W00〜W33を選択するための行選択回路
4と、アドレス信号AB0〜▲▼を入力としセレク
ト用MOSFET MSiを駆動してメモリセルブロック1を選択
するためのメモリセルブロック選択回路5と、メモリセ
ルアレイ1内の選択されたメモリセルに記憶されたデー
タを読み出すためのセンスアンプ6で構成され、行選択
回路4を構成するNAND(第2図(c)参照)は抵抗素子
RXを介して電源端子VCCに接続されている。尚第1図に
おけるYデコーダ31及びメモリセルブロック選択回路5
を構成するNORの構成は第2図(b)に、行選択回路4
を構成するNANDの構成は第2(c)図に示してある。
[Embodiment] First Embodiment FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention. For example, four memories composed of N-channel MOSFETs as shown in FIG. 2 (a). Cells MCi0 to MCi3 and memory cells
Memory cell block 1 in which N-channel select MOSFETs MSi for selecting MCi0 to MCi3 are connected in series
A memory cell array 2 in which a plurality of memory cell blocks 1 are arranged in the column direction and the row direction, a plurality of column lines D0 to D3 connecting the memory cell blocks 1 in the column direction, and a memory cell block 11 Memory cells MCi0 to MCi3 A plurality of row lines W00 to W33 connected in the row direction and address signals AY0 to ▲
N for selecting the column lines D0 to D3 driven by the Y decoder 31 and the outputs YD0 to YD3 of the Y decoder 31 to which ▼ is input.
Y selector 3 composed of channel type MOSFET YS0 to YS3
2 column select circuit 3 and address signals AX0 to ▲
A row selection circuit 4 for selecting the row lines W00 to W33 with ▼ as an input, and a memory cell block selection for driving the selection MOSFET MSi with an address signal AB0 to ▲ ▼ as an input to select the memory cell block 1 The NAND (see FIG. 2 (c)), which is composed of the circuit 5 and the sense amplifier 6 for reading the data stored in the selected memory cell in the memory cell array 1, and which constitutes the row selection circuit 4, is a resistance element.
It is connected to the power supply pin VCC via RX. The Y decoder 31 and the memory cell block selection circuit 5 in FIG.
FIG. 2 (b) shows the configuration of the NOR constituting the row selection circuit 4
The structure of the NAND constituting the above is shown in FIG. 2 (c).

次にメモリセルアレイ1内の選択されたメモリセルに記
憶されたデータを読み出す動作であるが、前述した従来
の縦型ROMの場合と全く同様であるのでここでの説明は
省略する。
Next, the operation of reading the data stored in the selected memory cell in the memory cell array 1 is completely the same as the case of the conventional vertical ROM described above, and therefore the description thereof is omitted here.

第1図に示した第1実施例では、行選択回路4を構成す
るNANDは抵抗素子RXを介して電源端子VCCに接続されて
いるので、電源端子VCC〜抵抗素子RX〜行選択回路4を
構成するPチャンネル型MOSFETと等価な抵抗RPX〜メモ
リセルのゲート容量CC〜メモリセルのオン抵抗RMC〜グ
ランド端子VSSで構成される等価回路は第3図に示した
ようになり、さらに電源vと電源端子VCC及びグランド
端子VSS間には寄生インピーダンスZVCC及びZGNDが存在
する。第3図において、例えばRX=100Ω、RPX=1.0
Ω、CC=10000PF、RMC=0.1Ω、lZVCCl=10Ω及びlZGND
l=10Ωとすると、lRX+RPX+1/jWCC+RMCl=101.1Ω
(W=2πf:f=100MHzとした)となってlZVCClやlZGND
lと比較すると、電源端子VCCとグランド端子VSSは101.1
Ωと高いインピーダンスで結合しているので、例えば電
源端子VCCに1.0V、f=100MHzのノイズが乗った場合、
グランド端子VSSに伝達されるノイズVNGNDは次式で表さ
れ、 VNGND=1.0V×lZGNDl/lRX+RPX+1/jWCC+RMCl+lZGNDl =0.09V となる。上式の結果より、電源端子VCCに乗ったノイズ
は1/10以下となってグランド端子VSSにはほとんどノイ
ズが伝達されず、グランド端子VSSに伝達されたノイズ
のためにセンスアンプ等が誤動作することはない。
In the first embodiment shown in FIG. 1, since the NAND configuring the row selection circuit 4 is connected to the power supply terminal VCC via the resistance element RX, the power supply terminal VCC to the resistance element RX to the row selection circuit 4 are connected to each other. The equivalent circuit composed of the resistance RPX equivalent to the P-channel MOSFET to be constructed, the gate capacitance CC of the memory cell, the on-resistance RMC of the memory cell, and the ground terminal VSS is as shown in FIG. Parasitic impedances ZVCC and ZGND exist between the power supply terminal VCC and the ground terminal VSS. In FIG. 3, for example, RX = 100Ω, RPX = 1.0
Ω, CC = 10000PF, RMC = 0.1Ω, lZVCCl = 10Ω and lZGND
If l = 10Ω, lRX + RPX + 1 / jWCC + RMCl = 101.1Ω
(W = 2πf: f = 100MHz) and becomes lZVCCl or lZGND
Compared with l, power supply terminal VCC and ground terminal VSS are 101.1
Since it is coupled with Ω with a high impedance, for example, when noise of 1.0V, f = 100MHz is applied to the power supply terminal VCC,
The noise VNGND that is transmitted to the ground terminal VSS is expressed by the following formula: VNGND = 1.0V x lZGNDl / lRX + RPX + 1 / jWCC + RMCl + lZGNDl = 0.09V. From the result of the above formula, the noise on the power supply terminal VCC becomes 1/10 or less and almost no noise is transmitted to the ground terminal VSS, and the noise transmitted to the ground terminal VSS causes the sense amplifier to malfunction. There is no such thing.

またグランド端子VSSに1.0V、f=100MHzのノイズが乗
った場合、電源端子VCCに伝達されるノイズVNVCCは同様
に VNVCC=1.0V×lZVCCl/lZVCCl+lRX+RPX+1/jWCC+RMCl =0.09V となり、グランド端子VSSに乗ったノイズも電源端子VCC
にほとんど伝達されず、電源端子VCCに伝達されたノイ
ズのためにセンスアンプ等が誤動作することもない。
In addition, when noise of 1.0V, f = 100MHz is applied to the ground terminal VSS, the noise VNVCC transmitted to the power supply terminal VCC is also VNVCC = 1.0V × lZVCCl / lZVCCl + lRX + RPX + 1 / jWCC + RMCl = 0.09V, and the noise is transmitted to the ground terminal VSS. Noise also power supply pin VCC
The noise transmitted to the power supply terminal VCC does not cause the sense amplifier to malfunction.

尚、第1図に示した第1実施例において、アドレス信号
AX0〜▲▼が変化した場合、行選択回路4を構成
する4個のNANDのうち、選択されたNAND1個の出力が高
レベルから低レベルに、非選択となったNAND1個の出力
が低レベルから高レベルに変化するが、残りの2個のNA
NDの出力は高レベルを維持しており、この高レベルを維
持しているNANDの出力に接続されたメモリセルのゲート
容量は平滑容量として動作するため、100Ω程度の抵抗
素子RXを介して行選択回路4を構成するNANDと電源端子
VCCが接続されていても、行選択回路4の動作に悪影響
を与えることはない。しかも実際の縦型ROMでは、8個
もしくは16個のメモリセルでメモリセルブロックが構成
されており、行選択回路を構成するNANDにおいて、アド
レス信号が変化した場合8個のうち6個もしくは16個の
うち14個は高レベルを維持しており、この高レベルを維
持しているNANDの出力に持続されたメモリセルのゲート
容量は非常に大きな平滑容量となり、100Ω程度の抵抗
素子RXは行選択回路の動作になんら悪影響を与えること
はない。また、抵抗素子RXのかわりに、ゲートが電源端
子VCCに接続されたNチャンネル型MOSFETなどを接続し
ても同様の効果があることは明らかである。
In the first embodiment shown in FIG. 1, the address signal
When AX0 to ▲ ▼ changes, the output of one selected NAND among the four NANDs configuring the row selection circuit 4 changes from high level to low level, and the output of one non-selected NAND outputs low level. To high level, but the remaining 2 NAs
The output of ND maintains a high level, and the gate capacitance of the memory cell connected to the output of the NAND that maintains this high level operates as a smoothing capacitance. NAND and power supply terminals that compose the selection circuit 4
Even if VCC is connected, the operation of the row selection circuit 4 is not adversely affected. Moreover, in an actual vertical ROM, a memory cell block is composed of 8 or 16 memory cells, and when the address signal changes in the NAND which constitutes the row selection circuit, 6 or 16 out of 8 Of these, 14 keep the high level, and the gate capacitance of the memory cell maintained by the output of the NAND that maintains this high level becomes a very large smoothing capacitance, and the resistance element RX of about 100Ω selects the row. It has no adverse effect on the operation of the circuit. Further, it is apparent that the same effect can be obtained by connecting an N-channel MOSFET whose gate is connected to the power supply terminal VCC instead of the resistance element RX.

第2実施例 第4図は本発明による第2実施例を示す回路図であり、
第1図に示した第1実施例において、行選択回路4を構
成するNANDを第2(d)図に示したような3入力NANDに
変更すると共に、列線W00〜W13を駆動するNANDと列線W2
0〜W33を駆動するNANDを設け、列線W00〜W13を駆動する
NAND及び列線W20〜W33を駆動するNANDにメモリセルブロ
ック選択回路5に入力されているアドレス信号AB1及び
▲▼を印加することにより、列線W00〜W13を駆動
するNANDか列線W20〜W33を駆動するNANDのどちらか一方
だけを選択する構成となっている。
Second Embodiment FIG. 4 is a circuit diagram showing a second embodiment according to the present invention.
In the first embodiment shown in FIG. 1, the NAND constituting the row selection circuit 4 is changed to the 3-input NAND as shown in FIG. 2 (d), and the NAND for driving the column lines W00 to W13 is used. Column line W2
A NAND for driving 0 to W33 is provided to drive column lines W00 to W13
By applying the address signals AB1 and ▲ ▼ input to the memory cell block selection circuit 5 to the NAND and the NAND that drives the column lines W20 to W33, the NAND that drives the column lines W00 to W13 or the column lines W20 to W33. It is configured to select only one of the NAND that drives the.

第4図に示した本発明による第2実施例においても、行
選択回路を構成するNANDは抵抗素子RXを介して電源端子
VCCに接続されているので、前述した本発明による第1
実施例と同様の効果があることは明かであり、ここでの
説明は省略する。
Also in the second embodiment according to the present invention shown in FIG. 4, the NAND constituting the row selection circuit is connected to the power supply terminal via the resistance element RX.
Since it is connected to VCC,
It is obvious that the same effect as that of the embodiment is obtained, and the description thereof is omitted here.

さらに、例えばアドレス信号AB1及びAX1が高レベルであ
り、アドレス信号AX0が高レベルから低レベルに変化し
た場合、第1図に示した第1実施例においては、列線W0
0,W10,W20およびW30の4本が低レベルから高レベルに変
化して非選択状態になり、列線W01,W11,W21及びW31の4
本が高レベルから低レベルに変化して選択状態となり、
列線W02,W03,W12,W13,W22,W23,W32及びW33の8本が高レ
ベルに維持しているが、第4図に示した第2実施例にお
いては、列線W00及びW10の2本が低レベルから高レベル
変化して非選択状態となり、列線W01及びW02の2本が高
レベルから低レベルに変化して選択状態となり、列線W0
2,W03,W12,W13,W20〜W23,W30〜W33の12本が高レベルを
維持しているので平滑容量がより大きく(この例では1.
5倍となる)なるため、行選択回路4を構成するNANDと
電源端子VCCに接続されている抵抗素子RXをより大きな
値に設定することが可能となり、従って電源端子VCCと
グランド端子VSSのインピーダンスをさらに高い値に設
定することができて、電源端子VCCに乗ったノイズがグ
ランド端子VSSにさらに伝達されにくくできるという効
果もある。また、同様にグランド端子VSSに乗ったノイ
ズも電源端子VCCにさらに伝達されにくくできるという
効果もある。
Further, for example, when the address signals AB1 and AX1 are at high level and the address signal AX0 changes from high level to low level, in the first embodiment shown in FIG. 1, the column line W0
The four lines 0, W10, W20 and W30 change from the low level to the high level and become the non-selected state, and the four column lines W01, W11, W21 and W31
The book changes from high level to low level and is in the selected state,
Eight column lines W02, W03, W12, W13, W22, W23, W32 and W33 are maintained at a high level, but in the second embodiment shown in FIG. 4, two column lines W00 and W10 are used. The book changes from the low level to the high level to the non-selected state, and the two column lines W01 and W02 change from the high level to the low level to the selected state, and the column line W0
Since 12, W03, W12, W13, W20 to W23, W30 to W33 maintain the high level, the smoothing capacity is larger (1.
Therefore, it is possible to set a larger value for the NAND element that constitutes the row selection circuit 4 and the resistance element RX that is connected to the power supply terminal VCC, and therefore the impedance of the power supply terminal VCC and the ground terminal VSS. Can also be set to a higher value, and the noise on the power supply terminal VCC can be more difficult to be transmitted to the ground terminal VSS. Further, similarly, there is also an effect that noise riding on the ground terminal VSS can be more difficult to be transmitted to the power supply terminal VCC.

[発明の効果] 以上説明したように本発明は、抵抗素子を介して行選択
回路に電源を印加することにより、電源端子からグラン
ド端子にもしくはグランド端子から電源端子に伝達され
たノイズによるセンスアンプ等の誤動作を防止すること
ができる効果がある。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, by applying power to the row selection circuit via the resistance element, the sense amplifier due to noise transmitted from the power supply terminal to the ground terminal or from the ground terminal to the power supply terminal. This has the effect of preventing malfunctions such as

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明による第1実施例を示す回路図、第2図
(a)〜(d)はメモリセルブロックの構成,NORの構成
及び2種類のNANDの構成をそれぞれ示す回路図、第3図
は第1実施例の動作を説明するための等価回路図、第4
図は本発明による第2実施例を示す回路図、第5図は従
来の縦型ROMを示す回路図、第6図(a)〜(d)は従
来例の動作を説明するための等価回路図である。 MCi0〜MCi3……メモリセル、MSi……セレクト用MOSFE
T、1……メモリセルブロック、2……メモリセルアレ
イ、D0〜D3……列線、W00〜W33……行線、31……Yデコ
ーダ、32……Yセレクタ、3……列選択回路、4……行
選択回路、5……メモリセルブロック選択回路、6……
センスアンプ、VCC……電源端子、VSS……グランド端
子、P01,P02,P11,P12,P21,P22,P23,PX1,PX2,PX3……P
チャンネル型MOSFET、YS0〜YS3,N01,N02,N11,N12,N21,N
22,N23,NX00,NX0……Nチャンネル型MOSFET、RNX00,RNX
0,RPX1,RPX2,RPX3,RMCi1,RMCi2,RMCi3,RPX,RMC,RX……
抵抗、Ci1,Ci2,Ci3,CC……容量、ZVCC,ZGND……寄生イ
ンピーダンス、V……電源。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment according to the present invention, and FIGS. 2 (a) to (d) are circuit diagrams showing a memory cell block configuration, a NOR configuration, and two types of NAND configurations, respectively. FIG. 3 is an equivalent circuit diagram for explaining the operation of the first embodiment, and FIG.
FIG. 6 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention, FIG. 5 is a circuit diagram showing a conventional vertical ROM, and FIGS. 6A to 6D are equivalent circuits for explaining the operation of the conventional example. It is a figure. MCi0 to MCi3 …… Memory cells, MSi …… MOSFE for selection
T, 1 ... Memory cell block, 2 ... Memory cell array, D0-D3 ... Column line, W00-W33 ... Row line, 31 ... Y decoder, 32 ... Y selector, 3 ... Column selection circuit, 4 ... Row selection circuit, 5 ... Memory cell block selection circuit, 6 ...
Sense amplifier, VCC …… Power supply terminal, VSS …… Ground terminal, P01, P02, P11, P12, P21, P22, P23, PX1, PX2, PX3 …… P
Channel type MOSFET, YS0 to YS3, N01, N02, N11, N12, N21, N
22, N23, NX00, NX0 ... N-channel MOSFET, RNX00, RNX
0, RPX1, RPX2, RPX3, RMCi1, RMCi2, RMCi3, RPX, RMC, RX ...
Resistance, Ci1, Ci2, Ci3, CC ... Capacity, ZVCC, ZGND ... Parasitic impedance, V ... Power supply.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数個のメモリセルと前記複数個のメモリ
セルを選択するためのセレクト用トランジスタとを直列
接続してなるメモリセルブロックを列方向及び行方向に
複数個配列してなるメモリセルアレイと、前記メモリセ
ルブロックを列方向に接続する複数の列線と、前記メモ
リセルブロックを構成するメモリセルを行方向に接続す
る複数の行線と、アドレス信号を入力とする列デコーダ
及び前記列デコーダの出力で駆動され前記列線を選択す
るための列セレクタにより構成される列選択回路と、ア
ドレス信号を入力とし、前記行線を選択するための行選
択回路と、アドレス信号を入力とし、前記セレクト用ト
ランジスタを駆動して前記メモリセルブロックを選択す
るメモリセルブロック選択回路と、前記メモリセルアレ
イ内の選択されたメモリセルに記憶されたデータを読み
出すセンスアンプとを備えた読出専用半導体記憶装置に
おいて、抵抗素子を介して前記行選択回路の負荷素子
に、電源を印加することを特徴とする読出専用半導体記
憶装置。
1. A memory cell array in which a plurality of memory cell blocks each having a plurality of memory cells and select transistors for selecting the plurality of memory cells connected in series are arranged in a column direction and a row direction. A plurality of column lines that connect the memory cell blocks in the column direction, a plurality of row lines that connect the memory cells that form the memory cell block in the row direction, a column decoder that receives an address signal, and the column. A column selection circuit driven by the output of the decoder and configured by a column selector for selecting the column line, an address signal as an input, a row selection circuit for selecting the row line, and an address signal as an input, A memory cell block selection circuit that drives the select transistor to select the memory cell block; and a selected memory cell block in the memory cell array. In read-only semiconductor memory device including a sense amplifier for reading data stored in Moriseru, the load element of the row selection circuit through a resistive element, a read-only semiconductor memory device and applying the power.
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