JPH07326649A - Remote control system of semiconductor manufacturing equipment - Google Patents

Remote control system of semiconductor manufacturing equipment

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Publication number
JPH07326649A
JPH07326649A JP11695294A JP11695294A JPH07326649A JP H07326649 A JPH07326649 A JP H07326649A JP 11695294 A JP11695294 A JP 11695294A JP 11695294 A JP11695294 A JP 11695294A JP H07326649 A JPH07326649 A JP H07326649A
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JP
Japan
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screen
semiconductor manufacturing
coordinates
coordinate
screen information
Prior art date
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Application number
JP11695294A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Teruaki Kanatsuki
輝明 金築
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Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nissin Electric Co Ltd filed Critical Nissin Electric Co Ltd
Priority to JP11695294A priority Critical patent/JPH07326649A/en
Publication of JPH07326649A publication Critical patent/JPH07326649A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To constitute a system at a low cost without installing special software in accordance with each ion implanter, in a remote controller, by operating an implanter main body with coordinate data. CONSTITUTION:When an ion implanter I1 is operated from a remote controller 1, communication with the ion implanter I1 is selected by a communication switching part 8. According to the demand from a command issuing part 8, a screen data taking-in part 30 transmits image data which are displayed on a CRT 25. Thereby the same screen data as the screen data which are displayed on a man-machine interface 21 are displayed on the remote controller 1. When coordinate data inputted in a touch panel 5 are transmitted and synthesized with the screen data by using a video RAM 28, a control part 22 controls an implanter main body 23, on the basis of the synthesized data. The man-machine interface 21 transmits the screen data which are changed as the result of control.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、イオン注入装置等の半
導体製造装置を装置本体から離間した位置で制御する半
導体製造装置の遠隔制御システムに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus remote control system for controlling a semiconductor manufacturing apparatus such as an ion implantation apparatus at a position separated from an apparatus body.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造ラインにおけるイオン注入装
置等は、注入条件の入力等の制御操作を行なうために制
御装置を有している。その制御装置は、通常、装置本体
に設けられているが、装置本体から離間した位置での操
作を実現するために、図5に示すように、リモートコン
トローラ51が設けられている。リモートコントローラ
51は、通常、注入装置用コントローラ52とRS23
2Cケーブル53を介して1対1に接続されている。
2. Description of the Related Art An ion implantation apparatus or the like in a semiconductor manufacturing line has a control apparatus for performing control operations such as inputting implantation conditions. The control device is usually provided in the device body, but in order to realize an operation at a position separated from the device body, a remote controller 51 is provided as shown in FIG. The remote controller 51 is typically an injector controller 52 and an RS23.
It is connected one-to-one via the 2C cable 53.

【0003】より詳しくは、図6に示すように、注入装
置用コントローラ52には、マシンホストコンピュータ
(以降、マシンホストと称する)54と、シーケンスコ
ントローラ55と、ビームコントローラ56と、エンド
ステーションコントローラ57とが設けられている。マ
シンホスト54には、CRT58とキーボード59とが
接続されており、それぞれがコントロール画面の表示と
キー入力とを行なうようになっている。各コントローラ
55〜57は、RS232Cケーブル60…を介してマ
シンホスト54に接続されるとともに、注入装置本体6
1が接続されている。
More specifically, as shown in FIG. 6, the injection device controller 52 includes a machine host computer (hereinafter referred to as a machine host) 54, a sequence controller 55, a beam controller 56, and an end station controller 57. And are provided. A CRT 58 and a keyboard 59 are connected to the machine host 54, and each of them displays a control screen and inputs keys. Each of the controllers 55 to 57 is connected to the machine host 54 via the RS232C cable 60 ...
1 is connected.

【0004】一方、リモートコントローラ51は、コン
トローラ本体62、キーボード63およびCRT64か
らなっている。
On the other hand, the remote controller 51 comprises a controller body 62, a keyboard 63 and a CRT 64.

【0005】上記のように構成されるシステムにおい
て、リモートコントローラ51では、コントローラ本体
62により、キーボード63の入力が常時監視されてい
る。その入力があった場合、入力されたキーコードは、
コントローラ本体62により、RS232Cケーブル5
3を通じてマシンホスト54に伝送される。このキーコ
ードは、マシンホスト54用のキーボード59からの入
力と同様に扱われる。
In the system configured as described above, in the remote controller 51, the controller body 62 constantly monitors the input of the keyboard 63. If there is that input, the entered key code is
RS232C cable 5 by controller body 62
3 to the machine host 54. This key code is treated in the same manner as the input from the keyboard 59 for the machine host 54.

【0006】そして、マシンホスト54がそのキーコー
ドを基に動作条件を取得すると、その動作条件がマシン
ホスト54から各コントローラ55〜57に通知され
る。システムの動作モードがフルオートモードに指定さ
れている場合は、マシンホスト54により、その旨が各
コントローラ55〜57に指示されてシステムの立ち上
げが完了する。そして、システム立ち上げの完了後は、
マシンホスト54の指令により注入が開始する。
When the machine host 54 acquires the operating condition based on the key code, the operating condition is notified from the machine host 54 to the controllers 55 to 57. When the operation mode of the system is designated as the full-auto mode, the machine host 54 instructs the controllers 55 to 57 to that effect to complete the startup of the system. And after the system startup is completed,
Injection is started according to a command from the machine host 54.

【0007】上記のシステムにおけるマシンホスト54
は、各コントローラ55〜57の指令塔としての役割を
果たすようになっている。また、オペレータによるシス
テムの立ち上げは、注入装置本体61に設けられる制御
盤を用いて行なわれる。
Machine host 54 in the above system
Serves as a command tower for each of the controllers 55 to 57. The operator starts up the system by using the control panel provided in the injection device main body 61.

【0008】上記のシステムでは、リモートコントロー
ラ51のキーボード63からの入力が、マシンホスト5
4のキーボード59からの入力と同等に行なわれるよう
に構成されているので、リモートコントローラ51によ
るイオン注入装置の遠隔操作を容易に行なうことができ
る。
In the above system, the input from the keyboard 63 of the remote controller 51 is transmitted to the machine host 5
Since it is configured to be performed in the same manner as the input from the keyboard 59 of No. 4, the remote control of the ion implantation apparatus by the remote controller 51 can be easily performed.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】一般に、半導体製造ラ
インは、自動化され、ウェーハの収容されたカセットが
搬送ロボットによりイオン注入装置に搬送されるように
なっているため、イオン注入装置の制御盤が機械室側
(後面)に面して配されている。また、イオン注入装置
は、通常、半導体製造ラインに複数台配備され、それぞ
れの形式が異なることが多い。このため、上記のような
複数台のイオン注入装置をそれらと離間した場所で集中
的に監視・操作することができるシステムが要求され
る。
Generally, a semiconductor manufacturing line is automated and a cassette containing wafers is transferred to an ion implanter by a transfer robot. It is located facing the machine room (rear surface). In addition, a plurality of ion implanters are usually provided in a semiconductor manufacturing line, and the types of the ion implanters are often different. Therefore, there is a demand for a system capable of intensively monitoring and operating a plurality of ion implanters as described above at a place separated from them.

【0010】しかしながら、従来のシステムでは、リモ
ートコントローラ51と注入装置用コントローラ52と
が1対1に接続されているため、上記のように複数台の
イオン注入装置を集中的に制御することができない。こ
のような不都合を解消するには、図7に示すように、イ
オン注入装置71〜73とリモートコントローラ74と
をリレー等の切替器75を介して接続する構成を備えた
システムが考えられる。
However, in the conventional system, since the remote controller 51 and the implanter controller 52 are connected in a one-to-one relationship, it is impossible to centrally control a plurality of ion implanters as described above. . In order to eliminate such an inconvenience, as shown in FIG. 7, a system having a configuration in which the ion implanters 71 to 73 and the remote controller 74 are connected via a switch 75 such as a relay can be considered.

【0011】このシステムでは、リモートコントローラ
74からの切替信号により、切替器75の接続が切り替
えられ、イオン注入装置71〜73のいずれか1つが選
択されてリモートコントローラ74に接続される。これ
により、リモートコントローラ74とイオン注入装置7
1〜73との間でCRT信号(画面データ)およびキー
コードの通信が可能になる。
In this system, the connection of the switch 75 is switched by a switching signal from the remote controller 74, and any one of the ion implanters 71 to 73 is selected and connected to the remote controller 74. Thereby, the remote controller 74 and the ion implanter 7
The CRT signal (screen data) and the key code can be communicated with 1 to 73.

【0012】ところが、上記のシステムでは、イオン注
入装置71〜73毎に異なる処理を行なうために、各イ
オン注入装置71〜73に対応した仕様のソフトウェア
を組み込む必要がある。また、上記のシステムには、リ
モートコントローラ74と各イオン注入装置71〜73
とを接続するRS232Cケーブル76…に距離的な制
限があるうえ、CRT信号の伝送可能な距離にも限界が
ある。
However, in the above system, in order to perform different processing for each of the ion implanters 71 to 73, it is necessary to incorporate software having specifications corresponding to each of the ion implanters 71 to 73. In addition, the above system includes a remote controller 74 and each of the ion implanters 71 to 73.
The RS232C cable 76 for connecting to and is limited in distance, and also the transmission distance of the CRT signal is limited.

【0013】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
のであって、半導体製造装置(イオン注入装置)毎の遠
隔制御用のソフトウェアを必要とすることなく安価にシ
ステムを構成することができる遠隔制御装置を提供する
ことを目的としている。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and a system can be inexpensively constructed without requiring remote control software for each semiconductor manufacturing apparatus (ion implantation apparatus). It is intended to provide a remote control device.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体製造装置
の遠隔制御システムは、上記の課題を解決するために、
半導体製造装置の制御内容を座標の入力により設定する
設定箇所が設けられた画面情報を発生する画面情報発生
手段と、この画面情報発生手段により発生した画面情報
を表示し、かつ画面上での上記設定箇所の座標を入力す
る第1座標入力手段が設けられている第1表示装置とを
有する複数の半導体製造装置と、これら半導体製造装置
を離間した位置で集中的に制御するとともに、上記画面
情報を表示し、かつ画面上での上記設定箇所の座標を入
力する第2座標入力手段を有する第2表示装置が設けら
れている遠隔制御装置とが互いに通信しうるように接続
されており、上記遠隔制御装置は、各半導体製造装置の
うちいずれか1つとの通信を選択する通信選択手段と、
上記第1表示装置に表示される画面情報を要求する画面
情報要求手段と、上記第2座標入力手段により入力され
た座標を座標情報として上記通信選択手段により選択さ
れた半導体製造装置に送信する座標情報送信手段とを有
する一方、上記半導体製造装置は、上記画面情報要求手
段からの要求に基づいて上記第1表示装置に表示されて
いる画面情報を上記遠隔制御装置に送信する画面情報送
信手段と、上記第1座標入力手段により入力された座標
および上記座標情報送信手段から送信された座標に関連
した制御内容に基づいて上記半導体製造装置の制御を行
なう制御手段とを有していることを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, a remote control system for a semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention comprises:
Screen information generating means for generating screen information provided with setting points for setting the control contents of the semiconductor manufacturing apparatus by inputting coordinates, and screen information generated by the screen information generating means, and displaying the above on the screen. A plurality of semiconductor manufacturing devices having a first display device provided with a first coordinate input means for inputting coordinates of a set location, and these semiconductor manufacturing devices are centrally controlled at distant positions, and the screen information is also provided. And a remote control device provided with a second display device having a second coordinate input means for inputting the coordinates of the above-mentioned set location on the screen are connected so as to be able to communicate with each other. The remote control device includes a communication selecting unit that selects communication with any one of the semiconductor manufacturing devices,
Screen information requesting means for requesting screen information displayed on the first display device, and coordinates for transmitting the coordinates input by the second coordinate input means as coordinate information to the semiconductor manufacturing device selected by the communication selecting means. On the other hand, the semiconductor manufacturing apparatus has a screen information transmitting means for transmitting the screen information displayed on the first display device to the remote control device based on a request from the screen information requesting means. A control means for controlling the semiconductor manufacturing apparatus based on the control content related to the coordinates input by the first coordinate input means and the coordinates transmitted from the coordinate information transmission means. I am trying.

【0015】[0015]

【作用】上記の構成においては、画面情報発生手段より
発生した画面情報が第1表示装置に表示される。その画
面は、制御内容が座標に対応されたものとなっている。
したがって、第1座標入力手段にて座標が入力される
と、制御手段により、その座標に応じた制御内容で半導
体製造装置の制御が行なわれる。
In the above arrangement, the screen information generated by the screen information generating means is displayed on the first display device. On the screen, the control contents correspond to the coordinates.
Therefore, when the coordinates are input by the first coordinate input means, the control means controls the semiconductor manufacturing apparatus with the control content according to the coordinates.

【0016】一方、遠隔制御装置側で通信選択手段によ
り半導体製造装置のうちいずれか1つとの通信が選択さ
れると、画面情報要求手段により、その半導体製造装置
に対し、第1表示装置に表示されている画面情報が要求
される。すると、上記の画面情報は、半導体製造装置側
の画面情報送信手段により遠隔制御装置に送信され、遠
隔制御装置の第2表示装置に表示される。これにより、
第2表示装置には、第1表示装置と同じ内容の画面が表
示されることになる。
On the other hand, when communication with any one of the semiconductor manufacturing devices is selected by the communication selecting means on the remote control device side, the screen information requesting means displays the semiconductor manufacturing device on the first display device. Screen information is requested. Then, the above screen information is transmitted to the remote control device by the screen information transmitting means on the semiconductor manufacturing device side, and is displayed on the second display device of the remote control device. This allows
A screen having the same contents as the first display device will be displayed on the second display device.

【0017】そして、オペレータにより、第2座標入力
手段から上記の画面上での座標が入力されると、その座
標が、座標情報送信手段により半導体製造装置に送信さ
れる。半導体製造装置側では、制御手段により、上記の
座標と関連した制御内容に基づいて半導体製造装置の制
御が行なわれる。
When the operator inputs the coordinates on the screen from the second coordinate input means, the coordinates are transmitted to the semiconductor manufacturing apparatus by the coordinate information transmitting means. On the side of the semiconductor manufacturing apparatus, the control means controls the semiconductor manufacturing apparatus based on the control content related to the coordinates.

【0018】このように、上記の構成によれば、遠隔制
御装置側で第1表示装置で表示される内容の画面を見な
がらの操作が可能になる。しかも、画面上の座標に基づ
いて半導体製造装置の制御を行なうので、オペレータ
は、第2表示装置に表示される画面上で座標を入力する
だけで容易に制御を実行することができる。すなわち、
上記の構成は、各半導体製造装置と遠隔制御装置との間
で画面情報および座標情報のやり取りを行なうだけで、
半導体製造装置の制御を行なうようになっているので、
半導体製造装置の機種毎に異なった処理を行なうソフト
ウェアを遠隔制御装置に組み込む必要がなくなる。
As described above, according to the above configuration, it is possible to operate the remote control device while looking at the screen of the content displayed on the first display device. Moreover, since the semiconductor manufacturing apparatus is controlled based on the coordinates on the screen, the operator can easily execute the control simply by inputting the coordinates on the screen displayed on the second display device. That is,
With the above configuration, by simply exchanging screen information and coordinate information between each semiconductor manufacturing device and the remote control device,
Since it is designed to control semiconductor manufacturing equipment,
It is not necessary to incorporate software that performs different processing for each model of the semiconductor manufacturing device into the remote control device.

【0019】[0019]

【実施例】本発明の一実施例について図1ないし図4に
基づいて説明すれば、以下の通りである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The following will describe one embodiment of the present invention with reference to FIGS.

【0020】本実施例に係る遠隔制御システムは、図1
に示すように、半導体製造装置としての複数のイオン注
入装置I1 〜In と、遠隔制御装置としてのリモートコ
ントローラ1とを備えており、各イオン注入装置I1
n とリモートコントローラ1とが、インタフェースケ
ーブル2を介して相互に接続されている。インタフェー
スケーブル2は、TCP/IP通信を行なうことが可能
な通信路である。
The remote control system according to this embodiment is shown in FIG.
As shown in, a plurality of ion implantation apparatus I 1 ~I n as a semiconductor manufacturing device, and a remote controller 1 as a remote control device, the ion implantation apparatus I 1 ~
I n and the remote controller 1 is connected to each other via an interface cable 2. The interface cable 2 is a communication path capable of TCP / IP communication.

【0021】リモートコントローラ1は、コントローラ
本体3と、第2表示装置としてのCRT4とを備えてお
り、CRT4の図示しない表示部には、タッチパネル5
が取り付けられている。第2座標入力手段としてのタッ
チパネル5は、表示部に表示される画面を透視しうるよ
うに全面が透明であり、対向する2つの電極が押圧され
て接触することで、その位置の座標を入力する構成とな
っている。
The remote controller 1 includes a controller body 3 and a CRT 4 as a second display device, and a touch panel 5 is provided on a display section (not shown) of the CRT 4.
Is attached. The touch panel 5 as the second coordinate input means has a transparent entire surface so that the screen displayed on the display unit can be seen through, and the two electrodes facing each other are pressed and brought into contact with each other to input the coordinates of the position. It is configured to do.

【0022】一方、コントローラ本体3は、ビデオRA
M6と、座標抽出部7と、通信切替部8と、コマンド発
行部9と、送受信部10とを有している。
On the other hand, the controller body 3 is a video RA.
It has an M6, a coordinate extracting unit 7, a communication switching unit 8, a command issuing unit 9, and a transmitting / receiving unit 10.

【0023】ビデオRAM6は、表示すべき情報を格納
するメモリであり、その情報をCRT4に供給するよう
になっている。座標抽出部7は、タッチパネル5にて入
力された座標を電気信号(座標情報)として抽出するよ
うになっている。座標抽出部7から出力される座標情報
は、ビデオRAM6およびコマンド発行部9に入力され
る。
The video RAM 6 is a memory for storing information to be displayed, and supplies the information to the CRT 4. The coordinate extraction unit 7 extracts the coordinates input on the touch panel 5 as an electric signal (coordinate information). The coordinate information output from the coordinate extracting unit 7 is input to the video RAM 6 and the command issuing unit 9.

【0024】通信切替部8は、送受信部10を介しての
通信を切り替えて、イオン注入装置I1 〜In のいずれ
か1つとの通信を選択するようになっており、通信選択
手段としての機能を有している。
The communication switching section 8 switches the communication via the transceiver unit 10 is adapted to select either one of the communication of the ion implanter I 1 ~I n, as a communication selection means It has a function.

【0025】通信切替部8は、例えば、イオン注入装置
1 〜In を個々の通信チャンネルに対応させるととも
に、そのチャンネルを選択するための画面をビデオRA
M6を通じてCRT4に表示させるように設定してお
き、タッチパネル5により各チャンネルが選択されるよ
うになっている。すなわち、この構成の通信切替部8に
よれば、タッチパネル5による入力があると、その座標
に応じた通信チャンネルが選択されるように、送受信部
10を制御するようになっている。上記の通信チャンネ
ルとイオン注入装置I1 〜In 個々とは、あらかじめ対
応付けられており、図示しないメモリ等に登録されてい
る。
The communication switching unit 8 makes the ion implanters I 1 to I n correspond to individual communication channels, and displays a screen for selecting the channels on the video RA.
The display is set to be displayed on the CRT 4 through M6, and each channel is selected by the touch panel 5. That is, according to the communication switching unit 8 of this configuration, when there is an input from the touch panel 5, the transmission / reception unit 10 is controlled so that the communication channel corresponding to the coordinates is selected. The above-mentioned communication channels and the ion implantation apparatus I 1 ~I n individually are associated in advance, are registered in a memory (not shown) or the like.

【0026】コマンド発行部9は、イオン注入装置I1
〜In に対する後述の画面情報を要求する画面要求コマ
ンドと上記の座標情報を送信するための座標送信コマン
ドとを発行するようになっている。すなわち、コマンド
発行部9は、画面情報要求手段および座標情報送信手段
としての機能を有している。また、このコマンド発行部
9は、通信切替部8により通信の選択が行なわれて通信
の相手先が確定すると画面要求コマンドを発行するよう
になっている。
The command issuing unit 9 uses the ion implanter I 1
Is adapted to issue a coordinate transmission command for transmitting a screen request command and the coordinate information for requesting screen information will be described later with respect ~I n. That is, the command issuing unit 9 has a function as a screen information requesting unit and a coordinate information transmitting unit. The command issuing unit 9 also issues a screen request command when communication is selected by the communication switching unit 8 and the communication partner is determined.

【0027】送受信部10は、コントローラ本体3と、
イオン注入装置I1 〜In における後述のマンマシンイ
ンタフェース21との通信を行なうようになっている。
この送受信部10は、上記のように通信切替部8によっ
て通信経路を切り替えて後述の送受信部31に選択的に
接続される構成になっている。また、送受信部10は、
送信データに対しTCP/IP通信に必要なプロトコル
処理を行なうようとともに、プロトコル処理が施されて
いる受信データから元のデータを抽出するようになって
いる。
The transmitter / receiver 10 includes a controller body 3 and
The ion implanters I 1 to I n are adapted to communicate with a man-machine interface 21 described later.
The transmission / reception unit 10 is configured to switch the communication path by the communication switching unit 8 as described above and selectively connect to the transmission / reception unit 31 described later. In addition, the transceiver 10
The protocol processing required for TCP / IP communication is performed on the transmission data, and the original data is extracted from the reception data subjected to the protocol processing.

【0028】上記座標抽出部7、通信切替部8およびコ
マンド発行部9は、図示しないCPUが所定のプログラ
ムを実行することにより実現される機能モジュールであ
る。
The coordinate extracting unit 7, the communication switching unit 8 and the command issuing unit 9 are functional modules realized by a CPU (not shown) executing a predetermined program.

【0029】一方、イオン注入装置I1 〜In は、マン
マシンインタフェース(図中、M/I)21と、制御部
22と、注入装置本体23とを有している。なお、マン
マシンインタフェース21については、便宜上、イオン
注入装置I1 においてのみ図1に詳細に示す。
On the other hand, the ion implantation apparatus I 1 ~I n, (in the figure, M / I) man-machine interface 21, a control unit 22, and a injection unit main body 23. The man-machine interface 21 is shown in detail in FIG. 1 only for the ion implanter I 1 for convenience.

【0030】マンマシンインタフェース21は、マシン
本体24と、第1表示装置としてのCRT25とを備え
ており、CRT25の図示しない表示部には、タッチパ
ネル26が取り付けられている。第1座標入力手段とし
てのタッチパネル26は、タッチパネル5と同様に押圧
位置の座標を入力する構成となっている。また、マシン
本体24は、画面データ発生部27と、ビデオRAM2
8と、座標抽出部29と、画面データ取込部30と、送
受信部31とを有している。
The man-machine interface 21 includes a machine body 24 and a CRT 25 as a first display device, and a touch panel 26 is attached to a display section (not shown) of the CRT 25. The touch panel 26 as the first coordinate input means is configured to input the coordinates of the pressed position similarly to the touch panel 5. In addition, the machine body 24 includes a screen data generator 27 and a video RAM 2
8, a coordinate extraction unit 29, a screen data acquisition unit 30, and a transmission / reception unit 31.

【0031】画面データ発生部27は、注入装置本体2
1を制御するための条件設定や処理結果の表示等を行な
うための画面を発生するようになっており、例えば、G
UI(Graphic User Interface)により構成されている。
上記の画面は、ウインドウ形式であって、制御内容を設
定するための設定箇所がその位置の座標で設定事項を入
力しうるように構成されており、その座標はタッチパネ
ル26にて入力された座標が用いられるようになってい
る。例えば、ドーズ量等のパラメータの変更は、各設定
箇所の座標の入力毎に一定量ずつパラメータが変化する
ことにより行なわれる。
The screen data generator 27 is used for the injection device main body 2
A screen for setting conditions for controlling 1 and displaying processing results is generated.
It is composed of a UI (Graphic User Interface).
The above-mentioned screen is in a window format, and the setting location for setting the control content is configured so that the setting items can be input at the coordinates of the position, and the coordinates are the coordinates input on the touch panel 26. Is being used. For example, the parameters such as the dose amount are changed by changing the parameters by a constant amount each time the coordinates of each set location are input.

【0032】ビデオRAM28は、ビデオRAM6と同
様、表示すべき情報を格納するメモリであり、画面デー
タ発生部27で発生した画面データを格納するようにな
っている。また、ビデオRAM28は、送受信部31に
より受信されたコマンド発行部9からの座標送信コマン
ドを受けると、格納している画面データにその座標情報
を合成するようになっている。
The video RAM 28, like the video RAM 6, is a memory for storing information to be displayed, and stores the screen data generated by the screen data generating section 27. When the video RAM 28 receives the coordinate transmission command from the command issuing unit 9 received by the transmitting / receiving unit 31, the video RAM 28 synthesizes the coordinate information with the stored screen data.

【0033】座標抽出部29は、座標抽出部7と同様、
タッチパネル26からの座標を電気信号(座標情報)と
して抽出するものであり、その座標情報をビデオRAM
28に供給するようになっている。
The coordinate extracting unit 29, like the coordinate extracting unit 7,
The coordinates from the touch panel 26 are extracted as an electric signal (coordinate information), and the coordinate information is stored in a video RAM.
28.

【0034】画面データ取込部30は、送受信部31に
より受信されたコマンド発行部9からの画面要求コマン
ドを受けると、ビデオRAM28から画面データを取り
込んで送受信部31に送出するようになっている。すな
わち、画面データ取込部30は、画面情報送信手段とし
ての機能を有している。送受信部31は、コントローラ
本体3との通信を行なう部分であり、具体的には送受信
部10と同様にプロトコル処理を行なうようになってい
る。
Upon receiving the screen request command from the command issuing unit 9 received by the transmitting / receiving unit 31, the screen data capturing unit 30 captures the screen data from the video RAM 28 and sends it to the transmitting / receiving unit 31. . That is, the screen data acquisition unit 30 has a function as a screen information transmission unit. The transmission / reception unit 31 is a unit that communicates with the controller main body 3, and specifically performs protocol processing similar to the transmission / reception unit 10.

【0035】上記画面データ発生部27、座標抽出部2
9および画面データ取込部30は、図示しないCPUが
所定のプログラムを実行することにより実現される機能
モジュールである。
The screen data generator 27 and the coordinate extractor 2
The CPU 9 and the screen data acquisition unit 30 are functional modules implemented by a CPU (not shown) executing a predetermined program.

【0036】制御手段としての制御部22は、図2に示
すようにフルオートコントローラ41と、注入コントロ
ーラ42と、波形成形器43と、電源コントローラ44
と、真空コントローラ45・46と、エンドステーショ
ンコントローラ47とを備えている。フルオートコント
ローラ41、電源コントローラ44と、真空コントロー
ラ45およびエンドステーションコントローラ47は、
マンマシンインタフェース21とネットワーク接続され
ている。
As shown in FIG. 2, the control unit 22 as a control means has a fully automatic controller 41, an injection controller 42, a waveform shaper 43, and a power supply controller 44.
, Vacuum controllers 45 and 46, and an end station controller 47. The fully automatic controller 41, the power supply controller 44, the vacuum controller 45, and the end station controller 47 are
It is network-connected to the man-machine interface 21.

【0037】フルオートコントローラ41は、注入装置
本体24の制御およびイオン源の立ち上げおよび立ち下
げを始めとしたフルオート制御を行なうようになってい
る。注入コントローラ42は、ドーズカウントやビーム
電流の監視等の注入に関する制御を行なうようになって
いる。波形成形器43は、静電スキャナおよびQレンズ
に与える電圧波形を適切な形状に成形するようになって
いる。この波形成形器43は、注入コントローラ42に
接続されており、波形成形器43で発生した異常等の情
報を注入コントローラ42に通知するように構成されて
いる。また、注入コントローラ42および波形成形器4
3は、フルオートコントローラ41とネットワーク接続
されている。
The full-auto controller 41 is designed to perform full-auto control such as control of the implanter main body 24 and start and stop of the ion source. The implantation controller 42 controls the implantation such as dose count and beam current monitoring. The waveform shaper 43 shapes the voltage waveform applied to the electrostatic scanner and the Q lens into an appropriate shape. The waveform shaper 43 is connected to the injection controller 42, and is configured to notify the injection controller 42 of information such as an abnormality that has occurred in the waveform shaper 43. In addition, the injection controller 42 and the waveform shaper 4
3 is network-connected to the fully automatic controller 41.

【0038】電源コントローラ42は、注入装置本体2
4の各部に電力を供給する電源部を制御するようになっ
ている。真空コントローラ45・46は、注入装置本体
24の真空ポンプ等の真空排気系を制御するようになっ
ている。真空コントローラ46は、真空コントローラ4
5に従属して接続され、ローカルコントローラとして機
能している。エンドステーションコントローラ47は、
注入装置本体24のエンドステーションにおけるウェー
ハ搬送および注入処理を制御するようになっている。
The power supply controller 42 is used for the injection device main body 2
4 controls the power supply unit that supplies power to each unit. The vacuum controllers 45 and 46 are configured to control a vacuum exhaust system such as a vacuum pump of the injection device main body 24. The vacuum controller 46 is the vacuum controller 4
5 is connected as a subordinate and functions as a local controller. The end station controller 47
The wafer transfer and the implantation process in the end station of the implantation apparatus body 24 are controlled.

【0039】上記の構成において注入制御を行なう際に
は、イオン注入装置I1 側にて操作を行なう場合、画面
データ発生部27により発生した画面データがビデオR
AM28に格納され、その画面データがCRT25に表
示される。そこで、オペレータの操作によりタッチパネ
ル26における任意の位置が押圧されると、その位置の
座標は、座標抽出部29により抽出されて座標データ
(座標情報)としてビデオRAM28に取り込まれ、画
面データと合成される。すると、その合成データはCR
T25に表示されるとともに、制御部22により、ビデ
オRAM28の合成データに基づいて注入装置本体23
の制御が行なわれる。
In performing the implantation control in the above-mentioned configuration, when the operation is performed on the side of the ion implanter I 1 , the screen data generated by the screen data generator 27 is the video R.
It is stored in the AM 28 and the screen data is displayed on the CRT 25. Therefore, when an arbitrary position on the touch panel 26 is pressed by the operator's operation, the coordinates of the position are extracted by the coordinate extracting unit 29 and are taken into the video RAM 28 as coordinate data (coordinate information) and combined with the screen data. It Then, the synthetic data is CR
In addition to being displayed at T25, the control unit 22 controls the injection device main body 23 based on the combined data in the video RAM 28.
Is controlled.

【0040】一方、リモートコントローラ1により操作
を行なう場合、通信切替部8により送受信部10の通信
経路が切り替えられる。このとき、例えば、イオン注入
装置I1 との通信が選択されると、コマンド発行部9が
画面要求コマンドを発行する。画面要求コマンドは、送
受信部10により、図3の(a)に示すように、TCP
/IPヘッダが付加されて送信される。
On the other hand, when the remote controller 1 is operated, the communication switching section 8 switches the communication path of the transmitting / receiving section 10. At this time, for example, when the communication with the ion implanter I 1 is selected, the command issuing unit 9 issues a screen request command. The screen request command is transmitted by the transmission / reception unit 10 as shown in FIG.
/ IP header is added and transmitted.

【0041】画面要求コマンドは、イオン注入装置I1
の送受信部31に受信されると、画面データ取込部30
に送出される。画面データ取込部31では、画面要求コ
マンドを受けることにより、ビデオRAM28に格納さ
れている、CRT25に現在表示中の画面データが取り
込まれる。すると、その画面データは、画面データ取込
部30により、図3の(b)に示すように、TCP/I
Pヘッダおよび画面応答コマンドが付加されて送受信部
31を通じて送信される。
The screen request command is the ion implanter I 1
When received by the transmitting / receiving unit 31 of the screen data capturing unit 30
Sent to. Upon receiving the screen request command, the screen data acquisition unit 31 acquires the screen data currently displayed on the CRT 25, which is stored in the video RAM 28. Then, the screen data is transferred to the TCP / I, as shown in FIG.
The P header and the screen response command are added and transmitted through the transmitting / receiving unit 31.

【0042】上記の画面応答コマンドは、送受信部10
に受信されると、画面データのみが抽出されてビデオR
AM6に格納され、その画面データはCRT4に表示さ
れる。これにより、リモートコントローラ1では、イオ
ン注入装置I1 側で表示されている画面と同一の画面を
監視しながら、イオン注入装置I1 の操作を行なうこと
ができる。
The above screen response command is sent and received by the transmitting / receiving unit 10.
When received, the screen data is extracted and the video R
The data is stored in AM6 and the screen data is displayed on CRT4. As a result, the remote controller 1 can operate the ion implanter I 1 while monitoring the same screen displayed on the ion implanter I 1 side.

【0043】リモートコントローラ1において、オペレ
ータによりタッチパネル5の所望の箇所が押圧される
と、その位置の座標は、座標抽出部7により抽出されて
座標データとしてビデオRAM6に取り込まれて画面デ
ータに合成されるとともに、コマンド発行部9に与えら
れる。そして、座標データは、コマンド発行部9によ
り、図3の(c)に示すように、TCP/IPヘッダお
よび座標送信コマンドが付加されて送受信部10を通じ
て送信される。
When the operator presses a desired portion of the touch panel 5 in the remote controller 1, the coordinates of that position are extracted by the coordinate extracting unit 7 and are taken into the video RAM 6 as coordinate data to be combined with the screen data. And is given to the command issuing unit 9. Then, the coordinate data is transmitted by the command issuing unit 9 through the transmitting / receiving unit 10 with the TCP / IP header and the coordinate transmission command added, as shown in (c) of FIG.

【0044】座標送信コマンドは、イオン注入装置I1
の送受信部31に受信されると、座標データのみが抽出
されてビデオRAM28に取り込まれる。ビデオRAM
28では、上記の座標データと画面データとが合成さ
れ、この合成データが制御部22およびCRT25に与
えられる。これにより、CRT25には、その座標にお
ける操作点が記された画面が表示される。また、合成デ
ータに基づいて、制御部22により注入装置本体23の
制御が行なわれる。
The coordinate transmission command is the ion implanter I 1
When it is received by the transmitting / receiving unit 31, the coordinate data only is extracted and loaded into the video RAM 28. Video ram
At 28, the coordinate data and the screen data are combined, and the combined data is given to the control unit 22 and the CRT 25. As a result, the CRT 25 displays a screen in which the operating point at the coordinates is marked. Further, the control unit 22 controls the injection device main body 23 based on the combined data.

【0045】そして、制御の結果は、注入装置本体23
から制御部22を通じてビデオRAM28に転送され、
ビデオRAM28にて画面データに加えられる。この画
面データは、操作後の変化した画面としてCRT25に
表示されるとともに、画面データ取込部30により、図
3の(d)に示すように、TCP/IPヘッダおよび画
面応答コマンドが付加されて送受信部31を通じて送信
される。
The result of the control is the injection device main body 23.
From the control unit 22 to the video RAM 28,
It is added to the screen data in the video RAM 28. This screen data is displayed on the CRT 25 as a changed screen after the operation, and the screen data importing unit 30 adds a TCP / IP header and a screen response command as shown in FIG. It is transmitted through the transmitting / receiving unit 31.

【0046】上記の画面応答コマンドは、送受信部10
に受信されると、画面データのみが抽出されてビデオR
AM6に格納され、その画面データはCRT4に表示さ
れる。これにより、リモートコントローラ1では、イオ
ン注入装置I1 側で行なわれた注入装置本体23の制御
の結果により変化した画面が、CRT4に表示される。
The above screen response command is sent and received by the transmitting / receiving unit 10.
When received, the screen data is extracted and the video R
The data is stored in AM6 and the screen data is displayed on CRT4. As a result, in the remote controller 1, the CRT 4 displays a screen changed as a result of the control of the implanter main body 23 performed on the side of the ion implanter I 1 .

【0047】続いて、上記のように行なわれる処理の遷
移を、図4の状態遷移図を参照にして説明する。
Next, the transition of the processing performed as described above will be described with reference to the state transition diagram of FIG.

【0048】まず、リモートコントローラ1にてイオン
注入装置I1 との通信が選択されると、リモートコント
ローラ1は、マンマシンインタフェース21に対して画
面データを要求する。マンマシンインタフェース21
は、この要求を受信すると、現在表示中の画面データを
送信する。リモートコントローラ1は、その画面データ
を受信し、表示する。
First, when communication with the ion implanter I 1 is selected by the remote controller 1, the remote controller 1 requests screen data from the man-machine interface 21. Man-machine interface 21
When receiving this request, sends the screen data currently displayed. The remote controller 1 receives and displays the screen data.

【0049】その後、リモートコントローラ1からマン
マシンインタフェース21に対して定期的にI/Oデー
タが要求される。この要求は、上記の画面データの要求
と同様のコマンドを用いて行なわれる。また、I/Oデ
ータは、イオン注入装置I1側での操作による処理で変
化した画面データであり、要求に応じてリモートコント
ローラ1に提供されて表示される。
Thereafter, the remote controller 1 periodically requests the man-machine interface 21 for I / O data. This request is made using the same command as the above-mentioned screen data request. Further, the I / O data is screen data changed by the processing by the operation on the side of the ion implanter I 1 , and is provided and displayed on the remote controller 1 upon request.

【0050】さらに、リモートコントローラ1側でオペ
レータによるタッチパネル5の操作が行なわれると、そ
の操作位置を示す座標がマンマシンインタフェース21
に送信される。すると、マンマシンインタフェース21
では、上記の座標に応じた注入装置本体23の処理結果
に応じて表示画面が変更される。そして、その変更され
た画面データは、送信されてマンマシンインタフェース
21側で表示される。
Furthermore, when the operator operates the touch panel 5 on the remote controller 1 side, the coordinates indicating the operation position are displayed on the man-machine interface 21.
Sent to. Then, the man-machine interface 21
Then, the display screen is changed according to the processing result of the injection device main body 23 according to the above coordinates. Then, the changed screen data is transmitted and displayed on the man-machine interface 21 side.

【0051】以上述べたように、本実施例に係る遠隔制
御システムでは、リモートコントローラ1によりイオン
注入装置I1 〜In からいずれか1つを選択して通信を
行なうようになっている。また、上記の遠隔制御システ
ムでは、リモートコントローラ1側で、マンマシンイン
タフェース21で表示されている画面と同じ画面を表示
するようになっている。さらに、上記の遠隔制御システ
ムでは、リモートコントローラ1においてイオン注入装
置I1 〜In と同様に座標データにより制御装置本体2
3の操作を行なうようになっている。
[0051] As described above, in the remote control system according to the present embodiment is adapted to perform communication by selecting any one from the ion implantation apparatus I 1 ~I n by the remote controller 1. In the above remote control system, the same screen as the screen displayed on the man-machine interface 21 is displayed on the remote controller 1 side. Furthermore, in the above remote control system, an ion implantation apparatus I 1 ~I n similarly to controller body by the coordinate data 2 in the remote controller 1
The operation of 3 is performed.

【0052】このような特徴点により、複数のイオン注
入装置I1 〜In を1台のリモートコントローラ1で遠
隔制御することができる。また、リモートコントローラ
1側で画面を見ながら、マンマシンインタフェース21
における操作と同様な操作を行なうことができる。さら
に、座標データにより注入装置本体23の操作を行なう
ことで、リモートコントローラ1にイオン注入装置I1
〜In 毎に応じた特殊なソフトウェアを組み込む必要が
なくなる。
[0052] With such a feature point can remotely control a plurality of ion implantation apparatus I 1 ~I n in the remote controller 1 one. While watching the screen on the remote controller 1 side, the man-machine interface 21
The same operation as the operation in can be performed. Further, by operating the implanter main body 23 according to the coordinate data, the ion implantation device I 1 is added to the remote controller 1.
There is no need to incorporate a special software in accordance with each ~I n.

【0053】なお、本実施例において、第1および第2
座標入力手段としてタッチパネル5・26を用いたが、
第1および第2座標入力手段は、これに限らず、例えば
タブレットやマウス等の座標を入力する入力装置であっ
てもよい。
In this embodiment, the first and second
Although the touch panels 5 and 26 were used as the coordinate input means,
The first and second coordinate input means is not limited to this, and may be an input device such as a tablet or a mouse for inputting coordinates.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上のように、本発明の半導体製造装置
の遠隔制御システムは、半導体製造装置の制御内容を座
標の入力により設定する設定箇所が設けられた画面情報
を発生する画面情報発生手段と、この画面情報発生手段
により発生した画面情報を表示し、かつ画面上での上記
設定箇所の座標を入力する第1座標入力手段が設けられ
ている第1表示装置とを有する複数の半導体製造装置
と、これら半導体製造装置を離間した位置で集中的に制
御するとともに、上記画面情報を表示し、かつ画面上で
の上記設定箇所の座標を入力する第2座標入力手段を有
する第2表示装置が設けられている遠隔制御装置とが互
いに通信しうるように接続されており、上記遠隔制御装
置は、各半導体製造装置のうちいずれか1つとの通信を
選択する通信選択手段と、上記第1表示装置に表示され
る画面情報を要求する画面情報要求手段と、上記第2座
標入力手段により入力された座標を座標情報として上記
通信選択手段により選択された半導体製造装置に送信す
る座標情報送信手段とを有する一方、上記半導体製造装
置は、上記画面情報要求手段からの要求に基づいて上記
第1表示装置に表示されている画面情報を上記遠隔制御
装置に送信する画面情報送信手段と、上記第1座標入力
手段により入力された座標および上記座標情報送信手段
から送信された座標に関連した制御内容に基づいて上記
半導体製造装置の制御を行なう制御手段とを有している
構成である。
As described above, in the remote control system for a semiconductor manufacturing apparatus of the present invention, screen information generating means for generating screen information provided with setting points for setting the control contents of the semiconductor manufacturing apparatus by inputting coordinates. And a first display device provided with first coordinate input means for displaying the screen information generated by the screen information generating means and for inputting the coordinates of the above-mentioned set location on the screen. A second display device having a device and a second coordinate input means for centrally controlling the semiconductor manufacturing device at a distant position, displaying the screen information, and inputting coordinates of the set position on the screen. Is connected so that they can communicate with each other, and the remote control device is a communication selector that selects communication with any one of the semiconductor manufacturing devices. Screen information requesting means for requesting screen information displayed on the first display device, and coordinates input by the second coordinate input means as coordinate information to the semiconductor manufacturing device selected by the communication selecting means. On the other hand, the semiconductor manufacturing apparatus transmits the screen information displayed on the first display device to the remote control device based on the request from the screen information requesting device. And a control means for controlling the semiconductor manufacturing apparatus based on the control content related to the coordinates input by the first coordinate input means and the coordinates transmitted from the coordinate information transmission means. Is.

【0055】これにより、複数の半導体製造装置の何れ
かを選択して遠隔制御装置と通信を行なうので、複数の
半導体製造装置を1つの遠隔制御装置で制御することが
できる。また、第1表示装置に表示された画面を第2表
示装置に表示させるので、オペレータは、遠隔制御装置
側で第1表示装置に表示される内容の画面を見ながら操
作することができる。さらに、画面上の座標に基づいて
半導体製造装置の制御を行なうので、オペレータは、第
2表示装置に表示される画面上で座標を入力するだけで
容易に制御を実行することができる。
As a result, one of the plurality of semiconductor manufacturing apparatuses is selected to communicate with the remote control apparatus, so that the plurality of semiconductor manufacturing apparatuses can be controlled by one remote control apparatus. Further, since the screen displayed on the first display device is displayed on the second display device, the operator can operate while viewing the screen of the content displayed on the first display device on the remote control device side. Furthermore, since the semiconductor manufacturing apparatus is controlled based on the coordinates on the screen, the operator can easily execute the control simply by inputting the coordinates on the screen displayed on the second display device.

【0056】すなわち、上記の構成は、各半導体製造装
置と遠隔制御装置との間で画面情報および座標情報のや
り取りを行なうだけで、半導体製造装置の制御を行なう
ようになっているので、半導体製造装置の機種毎に異な
る処理を行なうソフトウェアを遠隔制御装置に組み込む
必要がなくなる。それゆえ、上記のように構成された半
導体製造装置であれば、機種に関わらず遠隔制御装置に
よる遠隔制御を行なうことができる。
That is, in the above structure, the semiconductor manufacturing apparatus is controlled only by exchanging screen information and coordinate information between each semiconductor manufacturing apparatus and the remote control apparatus. It is not necessary to incorporate software that performs different processing for each device type into the remote control device. Therefore, the semiconductor manufacturing apparatus configured as described above can perform remote control by the remote control device regardless of the model.

【0057】したがって、本発明の半導体製造装置の遠
隔制御システムを採用すれば、半導体製造装置毎に遠隔
制御用のソフトウェアを必要とすることなく安価にシス
テムを構成することができるという効果を奏する。
Therefore, if the remote control system for a semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention is adopted, there is an effect that the system can be constructed at low cost without the need for remote control software for each semiconductor manufacturing apparatus.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る遠隔制御システムの構
成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a remote control system according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の遠隔制御システムにおける制御部の構成
を示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of a control unit in the remote control system of FIG.

【図3】図1の遠隔制御システムにおけるイオン注入装
置とリモートコントローラとの間で送受信されるデータ
の通信フォーマットを示す説明図である。
3 is an explanatory diagram showing a communication format of data transmitted and received between an ion implantation device and a remote controller in the remote control system of FIG.

【図4】図1の遠隔制御システムにおいて行なわれる通
信の手順を示す状態遷移図である。
4 is a state transition diagram showing a procedure of communication performed in the remote control system of FIG.

【図5】従来の遠隔制御システムの概略構成を示すブロ
ック図である。
FIG. 5 is a block diagram showing a schematic configuration of a conventional remote control system.

【図6】図5の遠隔制御システムの詳細な構成を示すブ
ロック図である。
6 is a block diagram showing a detailed configuration of the remote control system of FIG.

【図7】従来の他の遠隔制御システムの構成を示すブロ
ック図である。
FIG. 7 is a block diagram showing the configuration of another conventional remote control system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 リモートコントローラ(遠隔制御装置) 4 CRT(第2表示装置) 5 タッチパネル(第2座標入力手段) 8 通信切替部(通信選択手段) 9 コマンド発行部(画面情報要求手段、座標情
報送信手段) 21 マンマシンインタフェース 22 制御部(制御手段) 25 CRT(第1表示装置) 26 タッチパネル(第1座標入力手段) 27 画面データ発生部(画面情報発生手段) I1 〜In イオン注入装置(半導体製造装置)
1 Remote Controller (Remote Control Device) 4 CRT (Second Display Device) 5 Touch Panel (Second Coordinate Input Means) 8 Communication Switching Section (Communication Selection Means) 9 Command Issuing Section (Screen Information Requesting Means, Coordinate Information Sending Means) 21 man-machine interface 22 control unit (control means) 25 CRT (first display device) 26 touch panel (the first coordinate input means) 27 screen data generating section (screen information generating means) I 1 ~I n ion implantation apparatus (semiconductor manufacturing apparatus )

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体製造装置の制御内容を座標の入力に
より設定する設定箇所が設けられた画面情報を発生する
画面情報発生手段と、この画面情報発生手段により発生
した画面情報を表示し、かつ画面上での上記設定箇所の
座標を入力する第1座標入力手段が設けられている第1
表示装置とを有する複数の半導体製造装置と、これら半
導体製造装置を離間した位置で集中的に制御するととも
に、上記画面情報を表示し、かつ画面上での上記設定箇
所の座標を入力する第2座標入力手段を有する第2表示
装置が設けられている遠隔制御装置とが互いに通信しう
るように接続されており、 上記遠隔制御装置は、各半導体製造装置のうちいずれか
1つとの通信を選択する通信選択手段と、上記第1表示
装置に表示される画面情報を要求する画面情報要求手段
と、上記第2座標入力手段により入力された座標を座標
情報として上記通信選択手段により選択された半導体製
造装置に送信する座標情報送信手段とを有する一方、 上記半導体製造装置は、上記画面情報要求手段からの要
求に基づいて上記第1表示装置に表示されている画面情
報を上記遠隔制御装置に送信する画面情報送信手段と、
上記第1座標入力手段により入力された座標および上記
座標情報送信手段から送信された座標に関連した制御内
容に基づいて上記半導体製造装置の制御を行なう制御手
段とを有していることを特徴とする半導体製造装置の遠
隔制御システム。
Claim: What is claimed is: 1. A screen information generating means for generating screen information provided with setting points for setting control contents of a semiconductor manufacturing apparatus by inputting coordinates, and screen information generated by the screen information generating means, and A first coordinate input means is provided for inputting the coordinates of the above-mentioned setting location on the screen.
A second semiconductor manufacturing apparatus having a display device, and controlling the semiconductor manufacturing apparatuses centrally at positions separated from each other, displaying the screen information, and inputting the coordinates of the set location on the screen. A remote control device provided with a second display device having coordinate input means is connected so as to communicate with each other, and the remote control device selects communication with any one of the semiconductor manufacturing devices. Communication selecting means, screen information requesting means for requesting screen information displayed on the first display device, and semiconductor selected by the communication selecting means with the coordinates input by the second coordinate input means as coordinate information. While having coordinate information transmitting means for transmitting to the manufacturing apparatus, the semiconductor manufacturing apparatus is displayed on the first display device based on a request from the screen information requesting means. And screen information transmission means for transmitting the screen information to the remote control device,
Control means for controlling the semiconductor manufacturing apparatus based on the control content related to the coordinates input by the first coordinate input means and the coordinates transmitted from the coordinate information transmission means. Remote control system for semiconductor manufacturing equipment.
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