JPH07325296A - Plastic substrate for liquid crystal display panel - Google Patents

Plastic substrate for liquid crystal display panel

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JPH07325296A
JPH07325296A JP11896094A JP11896094A JPH07325296A JP H07325296 A JPH07325296 A JP H07325296A JP 11896094 A JP11896094 A JP 11896094A JP 11896094 A JP11896094 A JP 11896094A JP H07325296 A JPH07325296 A JP H07325296A
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JP
Japan
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styrene
maleic anhydride
liquid crystal
primary amine
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP11896094A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Kawaguchi
英夫 川口
Takashi Watanabe
渡辺  孝
Koji Inoue
浩治 井上
Yuichi Wakata
裕一 若田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP11896094A priority Critical patent/JPH07325296A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a substrate for liquid crystal display panel low in moisture vapor permeation rate, excellent in adhesivility to a supporting body and a transparent electrode and having excellent solvent resistance by providing a hardened layer formed by cross-linking and bonding an addition polymerizable monomer to a styrene/maleic acid monoamide copolymer on one surface of a plastic film. CONSTITUTION:A polymerization initiator or photopolymerization initiator (1), the addition polymerizable monomer (2) having an ethylenic unsaturated double bond and a photopolymerizable composition (3) obtained by allowing a styrene/maleic anhydride copolymer having a repeating unit expressed by formula 1 and 500-10000 weight average molecular weight to react with a primary amine expressed by formula 11 are applied on the plastic film and are photopolymerized. The reaction ratio of the primary amine to the styrene/maleic anhydride copolymer is preferably 0.1-1.0 equivalent per equivalent of styrene/ maleic anhydride copolymer. As the primary amine, 2-ethoxy ethylamine or 3-methoxy propylamine is preferably used.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、透湿率の低い液晶表示
パネル用プラスチック基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plastic substrate for a liquid crystal display panel having a low moisture permeability.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示パネルはノート型パソコ
ン、電子手帳、携帯電話等の、携帯性が重要視される装
置に多用されており、それに伴って薄型化、軽量化等の
要求が強まっている。通常、これらの表示パネルではガ
ラス基板を使用しており、この基板を薄くする等の検討
がなされているが、薄くすればするほど破損しやすくな
るという問題点がある。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display panels have been widely used in devices such as notebook personal computers, electronic notebooks, mobile phones, etc. where portability is important, and along with this demand for thinner and lighter devices. ing. Usually, a glass substrate is used in these display panels, and studies have been made to reduce the thickness of the substrate. However, there is a problem that the thinner the substrate, the easier it is to break.

【0003】この問題点を解決するため、プラスチック
シート(又はフィルム)を基板として使用する可能性が
検討されているが、プラスチック基板の大きな問題点の
一つは、ガラス基板に較べ、水分を透し易いことであ
る。基板を通して液晶中に侵入した水分は、液晶分子を
加水分解させて劣化させ、更にひどいときには電極を侵
したりすることがあり、これを防止するため、これまで
種々の工夫がなされている。
In order to solve this problem, the possibility of using a plastic sheet (or film) as a substrate has been studied, but one of the major problems of the plastic substrate is that it is more permeable to moisture than a glass substrate. It is easy to do. Moisture that has penetrated into the liquid crystal through the substrate may hydrolyze and deteriorate liquid crystal molecules, and may even damage the electrodes. In order to prevent this, various measures have been taken so far.

【0004】特開昭61−69027には、ポリビニル
アルコールの膜を設ける技術が開示されている。しか
し、これらの層は、耐熱性が必ずしも十分ではなく、ま
た、耐溶剤性の点から、貼合せたり重層塗布を行う必要
がある。
Japanese Patent Laid-Open No. 61-69027 discloses a technique of forming a polyvinyl alcohol film. However, these layers do not always have sufficient heat resistance, and from the viewpoint of solvent resistance, it is necessary to perform lamination or multilayer coating.

【0005】特開平4−337208には、金属薄膜と
透明透明金属酸化物の層を設けることが開示されてい
る。この方法は、透湿性の視点からは非常に有効である
が、真空処理が主体となり、工程上経済性が劣る。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 4-337208 discloses providing a metal thin film and a transparent transparent metal oxide layer. Although this method is very effective from the viewpoint of moisture permeability, vacuum processing is the main method and the process is economically inferior.

【0006】特開平3−9323、特開平5−3131
50には、支持体にアンカーコート層を設け、次いで耐
透気層を設け、その上に更に架橋性樹脂硬化物からなる
層を設ける技術が開示されている。しかし、アンカーコ
ート層で接着力を上げ、しかも上から硬化樹脂層で押さ
えても、必ずしも十分な耐熱性が付与されてはいない。
耐透気性層にビニル系ポリマーを使用すれば、高温処理
時にこの層が軟化して膜ずれを起こしたり、或いは、ハ
ロゲン化ビニリデンを多量に使用した時には、往々にし
て、脱ハロゲン化水素反応を起こして着色したりする現
象が起こる。耐透気性を高めるためにこの層の厚さを厚
くすればこの傾向は一層強くなる。
Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 3-9323 and 5-3131
No. 50 discloses a technique in which an anchor coat layer is provided on a support, an air permeation resistant layer is then provided, and a layer made of a crosslinked resin cured product is further provided thereon. However, even if the adhesive strength is increased by the anchor coat layer and the cured resin layer is pressed from above, sufficient heat resistance is not always imparted.
If a vinyl-based polymer is used for the gas permeable layer, this layer softens during high temperature treatment to cause film misalignment, or when a large amount of vinylidene halide is used, dehydrohalogenation reaction often occurs. There is a phenomenon that it is awakened and colored. This tendency becomes even stronger if the thickness of this layer is increased in order to improve air resistance.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、
(1)透湿性を低下させ、(2)支持体及び透明電極と
の密着が良好であり、(3)透明電極のパターニング処
理においても侵されることがない、(4)配向膜の塗布
溶剤でも侵されない、(5)180℃の雰囲気中に1時
間程度放置しても変形、着色を生じない、(6)紫外線
及び/又は熱で硬化する、耐透湿性と透明電極用下引き
層としての特性を兼ね備えた層を有する液晶表示パネル
用プラスチック基板を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to
(1) The moisture permeability is lowered, (2) the adhesion between the support and the transparent electrode is good, (3) it is not attacked by the patterning treatment of the transparent electrode, and (4) the coating solvent for the alignment film is also used. No corrosion, (5) Deformation or coloring does not occur even if left in an atmosphere of 180 ° C. for about 1 hour, (6) Curing by ultraviolet rays and / or heat, moisture resistance and as an undercoat layer for transparent electrodes An object of the present invention is to provide a plastic substrate for a liquid crystal display panel, which has a layer having both characteristics.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意努力
した結果、本発明の目的が、プラスチックフィルムもし
くはシート上に、少なくとも(1)光重合開始剤もしく
は光重合開始剤系、又は熱重合開始剤もしくは熱重合開
始剤系、(2)エチレン性不飽和二重結合を有する付加
重合性モノマー、及び(3)下記一般式(I)で示され
る繰り返し単位を有し、重量平均分子量が500〜1
0,000のスチレン/マレイン酸無水物共重合体と、
下記一般式(II)で示される1級アミンを、無水物基
の1当量に対して1.0〜0.1当量の比率で反応して
得られるスチレン/マレイン酸モノアミド共重合体を含
むことを特徴とする光重合性組成物を塗布し、光重合及
び/又は熱重合させたプラスチック基板により達成され
ることを見いだし、本発明を成すに至った。
As a result of earnest efforts, the present inventors have found that the object of the present invention is to provide at least (1) a photopolymerization initiator or a photopolymerization initiator system, or heat on a plastic film or sheet. A polymerization initiator or a thermal polymerization initiator system, (2) an addition polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated double bond, and (3) a repeating unit represented by the following general formula (I), and having a weight average molecular weight: 500-1
50,000 styrene / maleic anhydride copolymers,
Include a styrene / maleic acid monoamide copolymer obtained by reacting a primary amine represented by the following general formula (II) in a ratio of 1.0 to 0.1 equivalent relative to 1 equivalent of an anhydride group. The present invention has been accomplished by discovering that this can be achieved by applying a photopolymerizable composition characterized by the above, and performing photopolymerization and / or heat polymerization on a plastic substrate.

【0009】[0009]

【化1】 [Chemical 1]

【0010】ここで、Фは炭素数1〜4のアルキル基、
炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数8〜12のアラル
キル基、ハロゲン原子もしくはそれらの2種以上の組み
合わせで置換されてもよいフェニル基を表す。xとyは
繰り返し単位のモル分率を表し、y/x+y=0.15
〜0.45である。 R−NH2 (II) ここで、Rは炭素数1〜12のアルキル基、炭素数7〜
14のアラルキル基、炭素数6〜18のアリール基、も
しくは炭素数2〜14のアルコキシアルキル基を表す。
以下、本発明を詳細に説明する。
Where Φ is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
It represents an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an aralkyl group having 8 to 12 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted with a halogen atom or a combination of two or more thereof. x and y represent the mole fraction of the repeating unit, and y / x + y = 0.15
Is about 0.45. Wherein R-NH 2 (II), R is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, 7 carbon atoms
14 represents an aralkyl group having 14 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, or an alkoxyalkyl group having 2 to 14 carbon atoms.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0011】本発明に用いられるスチレン/マレイン酸
無水物共重合体は繰り返し単位の組成比y/x+yが
0.15〜0.45が好ましいが、特に好ましくは0.
2〜0.45である。
The composition ratio y / x + y of repeating units of the styrene / maleic anhydride copolymer used in the present invention is preferably 0.15 to 0.45, particularly preferably 0.
2 to 0.45.

【0012】スチレン/マレイン酸共重合体の重量平均
分子量は、500〜20,000の範囲が好ましいが、
より好ましくは1,000〜10,000である。重量
平均分子量が500未満の共重合体は製造が難しい。
The weight average molecular weight of the styrene / maleic acid copolymer is preferably in the range of 500 to 20,000,
More preferably, it is 1,000 to 10,000. It is difficult to produce a copolymer having a weight average molecular weight of less than 500.

【0013】本発明に使用する1級アミンの具体例とし
ては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、
イソ−プロピルアミン、ブチルアミン、t−ブチルアミ
ン、sec−ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシル
アミン、シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オク
チルアミン、ラウリルアミン、ベンジルアミン、フェネ
チルアミン、アニリン、オクチルアニリン、アニシジ
ン、4−クロルアニリン、1−ナフチルアミン、メトキ
シメチルアミン、2−メトキシエチルアミン、2−エト
キシエチルアミン、3−メトキシプロピルアミン、2−
ブトキシエチルアミン、2−シクロヘキシルオキシエキ
ルアミン、3−エトキシプロピルアミン、3−プロポキ
シプロピルアミン、3−イソプロポキシプロピルアミ
ン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン等を挙げる
事ができる。特に好ましい1級アミンの例は2−メトキ
シエチルアミン、2−エトキシエチルアミンまたは3−
メトキシプロピルアミンである。
Specific examples of the primary amine used in the present invention include methylamine, ethylamine, propylamine,
Iso-propylamine, butylamine, t-butylamine, sec-butylamine, pentylamine, hexylamine, cyclohexylamine, heptylamine, octylamine, laurylamine, benzylamine, phenethylamine, aniline, octylaniline, anisidine, 4-chloroaniline, 1-naphthylamine, methoxymethylamine, 2-methoxyethylamine, 2-ethoxyethylamine, 3-methoxypropylamine, 2-
Examples thereof include butoxyethylamine, 2-cyclohexyloxyethylamine, 3-ethoxypropylamine, 3-propoxypropylamine, 3-isopropoxypropylamine, cyclohexylamine and benzylamine. Examples of particularly preferred primary amines are 2-methoxyethylamine, 2-ethoxyethylamine or 3-
Methoxypropylamine.

【0014】本発明において、該スチレン/マレイン酸
無水物共重合体と1級アミンの反応比率はマレイン酸無
水物基の1当量に対し、0.1〜1.0当量が好ましい
が、更に好ましくは0.2〜1.0当量である。アミン
の仕込量をマレイン酸無水物当量より過剰にすることで
目的の反応を効率的に進行させることができるが、その
場合は過剰のアミンを共重合体の再沈澱などの方法によ
り除去、精製することが望ましい。
In the present invention, the reaction ratio of the styrene / maleic anhydride copolymer and the primary amine is preferably 0.1 to 1.0 equivalent, more preferably 1 equivalent to the maleic anhydride group. Is 0.2 to 1.0 equivalent. The desired reaction can be efficiently progressed by making the charged amount of amine excess over the maleic anhydride equivalent, but in that case, excess amine is removed and purified by a method such as reprecipitation of the copolymer. It is desirable to do.

【0015】エチレン性不飽和二重結合を有する付加重
合性モノマーは単独でまたは他のモノマーとの組み合わ
せで使用することができるもので、具体的には、t−ブ
チルアクリレート、エチレングリコールジアクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリエチ
レングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、2−エチル,2−ブチル−プロパ
ンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、
ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソ
シアヌレート、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、
1,4−ジヒドロキシベンゼンジメタクリレート、デカ
メチレングリコールジアクリレート、スチレン、ジアリ
ルフマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリルア
クリレート、メタクリルアミドまたはキシリレンビスア
クリルアミド等を挙げることができる。特に好ましいの
はペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレート、トリス(2−アクリロイル
オキシエチル)イソシアヌレートである。
The addition-polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated double bond can be used alone or in combination with other monomers, and specifically, t-butyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, 2-ethyl, 2-butyl-propanediol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate,
Polyoxyethylated trimethylolpropane triacrylate, tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate, 1,4-diisopropenylbenzene,
Examples thereof include 1,4-dihydroxybenzene dimethacrylate, decamethylene glycol diacrylate, styrene, diallyl fumarate, triallyl trimellitic acid, lauryl acrylate, methacrylamide, and xylylenebisacrylamide. Particularly preferred are pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate.

【0016】上記組成物中におけるモノマーの全量は、
組成物の全成分に対して10重量%〜80重量%であ
り、特に好ましくは20重量%〜70重量%である。8
0重量%を越えると組成物のタッキネスが増加してしま
い取り扱い性において劣る。
The total amount of monomers in the above composition is
It is 10% to 80% by weight, particularly preferably 20% to 70% by weight, based on all components of the composition. 8
If it exceeds 0% by weight, the tackiness of the composition is increased and the handleability is poor.

【0017】上記組成物中に含ませる光重合開始剤また
は光重合開始剤系は、実質的に、既知の全ての化合物を
使用する事ができる。例としては、p−メトキシフェニ
ル−2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(p−ブトキシスチリル)−5−トリクロロメ
チル−1,3,4−オキサジアゾール、9−フェニルア
クリジン、9,10−ジメチルベンズフェナジン、ベン
ゾフェノン/ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミ
ダゾール/メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジ
メチルケタール、チオキサントン/アミンなどがある。
特に好ましいのは2−(p−ブトキシスチリル)−5−
トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾールのよ
うなトリハロメチル基含有化合物がある。光重合開始剤
の添加量は、全固形分の0.1重量%〜20重量%、特
に好ましくは0.5重量%〜5重量%である。
As the photopolymerization initiator or the photopolymerization initiator system contained in the composition, substantially all known compounds can be used. Examples include p-methoxyphenyl-2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-butoxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole, 9-phenyl. There are acridine, 9,10-dimethylbenzphenazine, benzophenone / Michler's ketone, hexaarylbiimidazole / mercaptobenzimidazole, benzyldimethylketal, thioxanthone / amine and the like.
Particularly preferred is 2- (p-butoxystyryl) -5-
There are trihalomethyl group-containing compounds such as trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole. The addition amount of the photopolymerization initiator is 0.1% by weight to 20% by weight, and particularly preferably 0.5% by weight to 5% by weight, based on the total solid content.

【0018】熱重合開始剤としては、各種パーオキサイ
ド、アゾ化合物等が挙げられ、具体的には、2,2−ア
ゾビスイソブチロニトリル、1,1’−アゾビス(シク
ロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビ
ス(2−メチルブチロニトリル)等がある。
Examples of the thermal polymerization initiator include various peroxides and azo compounds. Specific examples include 2,2-azobisisobutyronitrile and 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile). ), 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) and the like.

【0019】プラスチックフィルムもしくはシートとし
ては、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、
ポリメチルメタアクリレート、ポリアクリレート、ポリ
エーテル、ポリスルホン、及びノルボルネンポリマー等
の単独重合体や共重合体等が使用できる。
As the plastic film or sheet, polycarbonate, polyether sulfone, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate,
Homopolymers or copolymers of polymethylmethacrylate, polyacrylate, polyether, polysulfone, norbornene polymer and the like can be used.

【0020】本発明の、耐透湿性のある架橋硬化層の膜
厚は、1〜20μmが好ましく、更に好ましくは、2〜
15μmである。この層は、単独で設けても良いし、支
持体と該層との間に他の層を設けることもできる。該層
を設けるには、スピンコーター、ロールコーター、ホッ
パーコーター、デップコーター等を用いることができ
る。ロール状のプラスチックフィルムに連続塗布しても
良いし、シート状に裁断して1枚づつ塗布しても良い。
The film thickness of the moisture-permeable and crosslinked cured layer of the present invention is preferably 1 to 20 μm, more preferably 2 to 20 μm.
It is 15 μm. This layer may be provided alone, or another layer may be provided between the support and the layer. A spin coater, a roll coater, a hopper coater, a dip coater, or the like can be used to provide the layer. It may be continuously applied to a roll-shaped plastic film, or may be cut into a sheet shape and applied one by one.

【0021】光重合の場合には、光源として水銀灯等を
使用し、紫外光を照射すればよい。照射を窒素雰囲気下
か又は減圧下で行うことにより、照射効率を挙げること
ができる。熱重合の場合は、80〜150℃の雰囲気下
に置くか、ホットプレート上にフィルムを置けば良い。
In the case of photopolymerization, a mercury lamp or the like may be used as a light source and ultraviolet light may be irradiated. Irradiation efficiency can be improved by performing irradiation in a nitrogen atmosphere or under reduced pressure. In the case of thermal polymerization, it may be placed in an atmosphere of 80 to 150 ° C. or the film may be placed on a hot plate.

【0022】該層上に透明電極を設けるには、スパッタ
ー、真空蒸着、イオンプレーティング等の、当業者に公
知の方法を使用することができる。このようにして作成
された透明電極は、フォトリソプロセスを用いてパター
ニングすることが可能であり、また、電極上に液晶用配
向膜を塗布することも可能である。
To provide a transparent electrode on the layer, a method known to those skilled in the art, such as sputtering, vacuum deposition, or ion plating, can be used. The transparent electrode thus formed can be patterned by using a photolithography process, and an alignment film for liquid crystal can be applied onto the electrode.

【0023】本発明になる液晶表示パネル用プラスチッ
ク基板は、TN(Twisted Nematic)型、STN(Super Tw
isted Nematic)型、強誘電性液晶型、MIM(Metal-Ins
ulator-Metal)型等を用いた表示素子に使用できる。以
下に、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。
The plastic substrate for a liquid crystal display panel according to the present invention is a TN (Twisted Nematic) type, STN (Super Tw) type.
isted Nematic) type, ferroelectric liquid crystal type, MIM (Metal-Ins)
It can be used for a display element using an emulator-metal type or the like. Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples, but the present invention is not limited thereto.

【0024】[0024]

【実施例】【Example】

実施例1 [スチレン/マレイン酸アミド共重合体の合成]スチレ
ン/マレイン酸無水物共重合体(アトケム社製SMA2
000、スチレン/マレイン酸無水物=約2/1(モル
比)、重量平均分子量=2800)30.6部をプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート122.
4部に溶解した。これにメトキシエチルアミン3.76
部/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト15.0部の溶液を室温で約1時間かけて滴下した。
更に室温下で6時間撹拌してスチレン/マレイン酸無水
物のメトキシエチルアミン変成体の20重量%溶液を得
た。
Example 1 [Synthesis of styrene / maleic acid amide copolymer] Styrene / maleic anhydride copolymer (SMA2 manufactured by Atchem Co., Ltd.)
000, styrene / maleic anhydride = about 2/1 (molar ratio), weight average molecular weight = 2800) and 30.6 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate 122.
Dissolved in 4 parts. Methoxyethylamine 3.76
Parts / propylene glycol monomethyl ether acetate (15.0 parts) was added dropwise at room temperature over about 1 hour.
Further, the mixture was stirred at room temperature for 6 hours to obtain a 20% by weight solution of methoxyethylamine modified product of styrene / maleic anhydride.

【0025】[塗液の調製]下記の組成で混合溶解し、
0.2μmの穴径のフィルターでろ過し保護層形成用塗
液を調製した。 ・合成例で製造した共重合体の20重量%溶液 68部 ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 3.4部 ・トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート 10.2部 ・2−(4−ブトキシスチリル)−5−トリクロロメチル− 1,3,4−オキサジアゾール 0.65部 ・ハイドロキノンモノメチルエーテル 0.007部 ・ふっ素系界面活性剤(F177P) 0.002部 (大日本インキ化学(株)製 メカ゛ファックF111P)
[Preparation of coating liquid] Mix and dissolve with the following composition,
A coating liquid for forming a protective layer was prepared by filtering with a filter having a hole diameter of 0.2 μm. 20 parts by weight solution of the copolymer produced in Synthesis Example 68 parts Dipentaerythritol hexaacrylate 3.4 parts Tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate 10.2 parts 2- (4-butoxystyryl) -5 -Trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole 0.65 part-Hydroquinone monomethyl ether 0.007 part-Fluorine-based surfactant (F177P) 0.002 part (MechaFac F111P manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) )

【0026】[塗膜の作成]膜厚120μmのノルボル
ネン系ポリマー上に、バーコーターを用いて上記塗液を
塗布し、乾燥後の膜厚が3μmとなるように塗膜を形成
した。減圧下で、超高圧水銀灯を用い、200mj/c
2の光量で紫外線照射し、引き続き145℃で60分
間加熱処理した。
[Preparation of coating film] The above coating liquid was applied onto a norbornene-based polymer having a film thickness of 120 μm using a bar coater to form a coating film having a film thickness after drying of 3 μm. 200 mj / c under ultra-high pressure mercury lamp under reduced pressure
It was irradiated with ultraviolet rays with a light amount of m 2 , and subsequently heat-treated at 145 ° C. for 60 minutes.

【0027】[透湿率の測定]JIS−70208に規
定されたカップ法に準じて、透湿率の測定を行った。但
し、雰囲気は30℃、85%RHとした。また、比較試
料として、ノルボルネンポリマーよりなる単独のフィル
ムを用いた。透湿率は下記の通りであった。 本発明になるフィルム 1.7×10-3 g/24Hr・cm2 ノルボルネン単体フィルム 5.1×10-3 g/24Hr・cm2 これから、透湿率が1/3に減少したことが判る。
[Measurement of Moisture Permeability] The moisture permeability was measured in accordance with the cup method defined in JIS-70208. However, the atmosphere was 30 ° C. and 85% RH. As a comparative sample, a single film made of norbornene polymer was used. The moisture permeability was as follows. Film according to the present invention 1.7 × 10 −3 g / 24Hr · cm 2 Norbornene simple substance film 5.1 × 10 −3 g / 24Hr · cm 2 From this, it can be seen that the moisture permeability was reduced to 1/3.

【0028】[透明電極の形成]本願発明になる、上記
耐透湿層を設けたフィルム上に、マグネトロンスパッタ
ー装置を用いて、インジューム・錫酸化物(酸化錫含量
10%、以下、ITOと略す)のターゲットを使用し、
10nm/分のスパッタレートで膜厚100nmのIT
O膜を形成した。表面抵抗率は42Ω/□であった。
[Formation of transparent electrode] Indium tin oxide (tin oxide content: 10%, hereinafter referred to as ITO) was formed on the film provided with the moisture-proof layer according to the present invention by using a magnetron sputtering apparatus. Abbreviated target is used,
IT with a film thickness of 100 nm at a sputtering rate of 10 nm / min
An O film was formed. The surface resistivity was 42Ω / □.

【0029】さらにITO膜上にポジ型フォトレジスト
(フジハントエレクトロニクステクノロジー社製、FH
2130)を形成後、電極パターンマスクを介して露光
し、現像し、塩酸/塩化鉄水溶液でITO層をエッチン
グし、レジスト剥離液(フジハントエレクトロニクステ
クノロジー社製、MS2001)で剥離したところ、全
く欠陥のないITO電極が得られた。
Furthermore, a positive photoresist (FH, manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd., is formed on the ITO film).
2130), exposed through an electrode pattern mask, developed, etched the ITO layer with hydrochloric acid / iron chloride aqueous solution, and peeled with a resist stripping solution (Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd., MS2001). The ITO electrode without the obtained was obtained.

【0030】一方、同時に全く同じ方法でノルボルネン
単体フィルム上に透明電極を形成した場合には、エッチ
ング処理時にITO面に亀裂が発生した。部分的には更
にひどく、ITOが殆ど剥離した処もあった。
On the other hand, when the transparent electrode was formed on the norbornene simple substance film by the same method at the same time, the ITO surface was cracked during the etching process. In some areas, it was even worse, and there were areas where the ITO had almost peeled off.

【0031】[配向膜の形成]ノルボルネンフィルム上
に耐透湿膜、透明電極層まで設けた基板に、配向膜塗液
(ポリイミド樹脂のN−メチルピロリドン/γ−ブチロ
ラクトン溶液)を、スピンコーターで塗布し145℃で
乾燥したが、膨潤する事なく、また、レチキュレーショ
ンの発生も無く、配向膜層が得られた。
[Formation of Alignment Film] On a substrate provided with a moisture-proof film and a transparent electrode layer on a norbornene film, an alignment film coating liquid (polyimide resin N-methylpyrrolidone / γ-butyrolactone solution) was spin-coated. Although it was applied and dried at 145 ° C., an alignment film layer was obtained without swelling and generation of reticulation.

【0032】実施例2 [塗液の調製]下記の組成で混合溶解し、0.2μmの
穴径のフィルターでろ過し保護層形成用塗液を調製し
た。 ・合成例で製造した共重合体の20重量%溶液 68部 ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 3.4部 ・トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート 10.2部 ・2,2’−アゾビスイソブチロニトリル 0.7部 ・ふっ素系界面活性剤(F177P) 0.002部 (大日本インキ化学(株)製 メカ゛ファックF111P)
Example 2 [Preparation of coating liquid] The following composition was mixed and dissolved, and filtered through a filter having a hole diameter of 0.2 μm to prepare a coating liquid for forming a protective layer. 20 parts by weight solution of the copolymer produced in the synthesis example 68 parts Dipentaerythritol hexaacrylate 3.4 parts Tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate 10.2 parts 2,2'-azobisisobutyro Nitrile 0.7 parts ・ Fluorosurfactant (F177P) 0.002 parts (MechaFac F111P manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)

【0033】上記塗液をポリエーテルスルホンフィルム
(厚さ110μm)上に塗布し、80℃で20分間乾燥
した。乾燥後の膜厚は8μmであった。更にこれを17
5℃で1時間熱処理した。
The above coating solution was applied onto a polyether sulfone film (thickness 110 μm) and dried at 80 ° C. for 20 minutes. The film thickness after drying was 8 μm. Further 17
It heat-processed at 5 degreeC for 1 hour.

【0034】この試料について、実施例1と同様の条件
で透湿率を測定したところ、1.2×10-3 g/24Hr・cm2であ
った。
The moisture permeability of this sample was measured under the same conditions as in Example 1 and found to be 1.2 × 10 −3 g / 24 Hr · cm 2 .

【0035】この層の上に、実施例1と同様にしてIT
O層を設け、パターニングした。配向膜を塗布後、18
0℃で30分間熱処理したが、電極面には亀裂やレチキ
ュレーションの発生は無く、更に、その後のラビング工
程でも何等問題は発生しなかった。
On this layer, as in the first embodiment, IT
An O layer was provided and patterned. 18 after applying the alignment film
After heat treatment at 0 ° C. for 30 minutes, no cracks or reticulation were generated on the electrode surface, and no problem occurred in the subsequent rubbing process.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明の液晶表示パネル用プラスチック
基板は、透湿性が低く、支持体及び透明電極との密着が
良好であり、実質上、透明電極のパターニング処理時及
び配向膜の塗布溶剤にも侵されることがなく、180℃
の雰囲気中に1時間程度放置しても変形や着色を生じる
ことがない。
EFFECT OF THE INVENTION The plastic substrate for liquid crystal display panel of the present invention has low moisture permeability, good adhesion to the support and the transparent electrode, and is practically used as a coating solvent for the patterning of the transparent electrode and a coating solvent for the alignment film. 180 ℃
Even if left in the atmosphere for about 1 hour, no deformation or coloring occurs.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 若田 裕一 静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真 フイルム株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Yuichi Wakata Inventor Yuichi Wakata 200 Onakazato, Fujinomiya-shi, Shizuoka Fuji Photo Film Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラスチックフィルム又はプラスチック
シートの少なくとも片面に、少なくとも、スチレン/マ
レイン酸モノアミド共重合体とエチレン性不飽和二重結
合を有する単量体及び重合開始剤を含有する層を形成
し、光及び/又は熱重合後、透明電極を設けたことを特
徴とする液晶表示パネル用プラスチック基板。
1. A layer containing at least one side of a plastic film or plastic sheet, containing at least a styrene / maleic acid monoamide copolymer, a monomer having an ethylenically unsaturated double bond, and a polymerization initiator, A plastic substrate for a liquid crystal display panel, which is provided with a transparent electrode after light and / or thermal polymerization.
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