JPH07319175A - Electrophotographic photoreceptor - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor

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Publication number
JPH07319175A
JPH07319175A JP13485594A JP13485594A JPH07319175A JP H07319175 A JPH07319175 A JP H07319175A JP 13485594 A JP13485594 A JP 13485594A JP 13485594 A JP13485594 A JP 13485594A JP H07319175 A JPH07319175 A JP H07319175A
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JP
Japan
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layer
resin
charge
charge generation
generation layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP13485594A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Yamazaki
一夫 山崎
Akira Imai
彰 今井
Ryosaku Igarashi
良作 五十嵐
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP13485594A priority Critical patent/JPH07319175A/en
Publication of JPH07319175A publication Critical patent/JPH07319175A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide an electrophotographic photoreceptor having good characteristics and little image defect in which an interference fringes pattern is not produced in an image even when the photoreceptor is used for an electrophotographic device using a coherent exposure light source, further performance can be stably maintained under any environments from low temp. low humidity to high temp. high humidity, and an image with little defect can be stably obtd. CONSTITUTION:This electrophotographic photoreceptor is produced by successively forming a charge producing layer 1 and a charge transfer layer 2 on a conductive supporting body 3. Thickness of the charge producing layer 1 is >=2mum. The charge producing layer contains a carrier in the same polarity as the electrification polarity of the photoreceptor and has >=0.2X10<-8>cm<2>/V carrier range.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、複写機、プリンター等
に使用される電子写真感光体に関するものである。さら
に詳しくは、露光光源としてレーザー光などの可干渉光
を用いる場合に好適な電子写真感光体に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member used in copying machines, printers and the like. More specifically, the present invention relates to an electrophotographic photosensitive member suitable when coherent light such as laser light is used as an exposure light source.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、電子写真感光体としては、セレ
ン、セレン−テルル合金、セレン−ヒ素合金、酸化亜鉛
などの無機系の光導電性材料を用いたものが主流であっ
たが、最近では無公害性、成膜性などの点から、有機系
の光導電性材料を用いた電子写真感光体が開発され、実
用化されている。なかでも、感光層を電荷輸送層と電荷
発生層とに機能分離させた層構成を有する有機系電子写
真感光体の開発が積極的に進められている。現在、採用
されている機能分離型の有機系電子写真感光体多くは、
アルミニウムのような導電性基体の上に電荷発生層、電
荷輸送層が順次積層されてなる感光層を備えた構成のも
のである。電荷発生層は膜厚が厚くなると電荷発生層内
で発生した帯電極性と同極性の電荷が導電性基体にスム
ーズに注入されにくくなり、メモリーの発生や繰り返し
使用時の帯電性の低下、残留電位の上昇などの不具合を
もたらす原因となるので、極めて薄い膜とされることが
必要であり、一般にはサブミクロンオーダーの薄膜とさ
れる。このような薄膜で入射してくる露光光を十分吸収
するためには、電荷発生材は露光光に対する吸収係数が
大きく電荷発生効率の高いことが要求がされ、主として
顔料系物質が使用されている。電荷発生層は上述のよう
に導電性基体上に極めて薄い膜として形成されているの
で、基体表面に汚れ、傷、凹凸などの欠陥があると電荷
発生層に成膜ムラが生じて膜厚、膜質にバラツキが生
じ、画像上に白抜け、黒点、濃度ムラ、カブリなど種々
の欠陥が発生する原因となる。このような問題を解決す
るために、基体表面の汚れを十分に除去するような洗浄
方法の改良、基体表面を傷のない均一な形状とする仕上
げ加工方法の改良などが進められてきた。
2. Description of the Related Art Conventionally, electrophotographic photoconductors have mainly been those using an inorganic photoconductive material such as selenium, selenium-tellurium alloy, selenium-arsenic alloy, and zinc oxide. An electrophotographic photoreceptor using an organic photoconductive material has been developed and put into practical use in view of its pollution-free property and film-forming property. In particular, the development of an organic electrophotographic photosensitive member having a layer structure in which a photosensitive layer is functionally separated into a charge transport layer and a charge generating layer has been actively pursued. Many of the function-separated organic electrophotographic photoconductors currently used are
It has a structure including a photosensitive layer in which a charge generation layer and a charge transport layer are sequentially laminated on a conductive substrate such as aluminum. As the charge generation layer becomes thicker, it becomes difficult for the charge having the same polarity as the charge polarity generated in the charge generation layer to be injected into the conductive substrate smoothly, resulting in the occurrence of memory, deterioration of chargeability during repeated use, and residual potential. Therefore, it is necessary to make the film extremely thin, and it is generally made to be a submicron order thin film. In order to sufficiently absorb the incident exposure light with such a thin film, the charge generation material is required to have a large absorption coefficient for the exposure light and high charge generation efficiency, and a pigment-based substance is mainly used. . Since the charge generation layer is formed as an extremely thin film on the conductive substrate as described above, if there are defects such as stains, scratches and irregularities on the surface of the substrate, the charge generation layer will be uneven in film thickness, This causes variations in the film quality and causes various defects such as white spots, black spots, uneven density, and fog on the image. In order to solve such a problem, improvement of a cleaning method for sufficiently removing dirt on the surface of the substrate and improvement of a finishing method for forming the substrate surface into a uniform shape without scratches have been advanced.

【0003】一方、露光光としてレーザー光などコヒー
レント性の光を用いる電子写真装置が開発され、これに
適した感光体の開発が進められている。このような装置
においては、露光光のコヒーレント性のために、入射し
てきた露光光の基体表面での反射光、感光層内での多重
反射光が干渉を起こし、この干渉に起因する干渉縞模様
が画像に現れる問題が生じてくる。この問題を解消する
ために、基体の表面を粗面化し感光層を透過して基体表
面に達した露光光を乱反射させることにより干渉を防止
する方法が特公平2−60178号公報に開示されてい
る。しかし、この方法は意識的に基体表面に凹凸を形成
するものであり、電荷発生層の成膜ムラが発生しやす
く、画像欠陥が発生しやすいという問題を有している。
このような問題を避け、基体表面を粗面化する必要をな
くす方法として、基体の表面を露光光を吸収するような
染料で着色する方法(特開昭58−100138号公
報、特開昭59−158号公報)、電荷発生層中に露光
光を吸収するような顔料または染料を添加しておく方
法、露光光に対する吸収係数の大きな電荷発生材料を用
い、ある膜厚以上の厚さの電荷発生層を設ける方法(特
公平3−36220号公報)などが提案されている。し
かしながら、これらの方法は、電荷発生層中あるいは基
体と電荷発生層との間に電荷トラップを生じやすく、感
光体の感度の低下、長時間使用中の性能の低下などの不
具合が起こりやすくなる。この問題の解決策として、基
体上に、バインダー中に酸化チタン、酸化錫、あるいは
カーボン微粉末を分散した塗布液を塗布して下引き層を
形成し、基体表面の凹凸をカバーし、かつ、露光光を散
乱させる方法が特公昭62−42498号公報により提
案されている。しかし、この方法は前述のような導電性
微粒子がバインダー中にかならずしも均一に分散せず、
部分的に偏在したり、粒子が凝集したりすることがしば
しば起こり、画像上に濃度ムラ、黒点、白抜けなどの欠
陥が発生しやすい。
On the other hand, an electrophotographic apparatus using a coherent light such as a laser light as an exposure light has been developed, and a photosensitive member suitable for this has been developed. In such a device, due to the coherence of the exposure light, the reflected light of the incident exposure light on the substrate surface and the multiple reflected light in the photosensitive layer interfere with each other, resulting in an interference fringe pattern. Will appear in the image. In order to solve this problem, Japanese Patent Publication No. 2-60178 discloses a method of roughening the surface of the substrate to diffusely reflect the exposure light that has passed through the photosensitive layer and reached the surface of the substrate to prevent interference. There is. However, this method intentionally forms irregularities on the surface of the substrate, and has a problem that uneven film formation of the charge generation layer is likely to occur and image defects are likely to occur.
As a method of avoiding such problems and eliminating the need for roughening the surface of the substrate, a method of coloring the surface of the substrate with a dye capable of absorbing exposure light (Japanese Patent Laid-Open Nos. 58-100138 and 59-59). No. 158), a method of adding a pigment or a dye that absorbs exposure light into a charge generation layer, a charge generation material having a large absorption coefficient for exposure light is used, and a charge having a certain thickness or more is used. A method of providing a generating layer (Japanese Patent Publication No. 3-36220) has been proposed. However, these methods tend to cause charge traps in the charge generation layer or between the substrate and the charge generation layer, and cause problems such as reduction in sensitivity of the photoreceptor and deterioration in performance during long-term use. As a solution to this problem, a coating liquid in which titanium oxide, tin oxide, or carbon fine powder is dispersed in a binder is applied on a substrate to form an undercoat layer, which covers irregularities on the substrate surface, and A method of scattering exposure light is proposed in Japanese Examined Patent Publication No. 62-42498. However, this method does not always uniformly disperse the conductive fine particles in the binder as described above,
Local uneven distribution and particle aggregation often occur, and defects such as density unevenness, black spots, and white spots are likely to occur on the image.

【0004】上述のような問題点を解消し、コヒーレン
ト性の光を露光光として用いたときの干渉の発生を防ぐ
ために積極的に形成した基体表面の凹凸の機能を阻害す
ることなく電荷発生層に成膜ムラを発生させる欠点をカ
バーし、同時にその他の基体表面の欠陥による電荷発生
層の成膜ムラの発生を防ぐ方法として、使用するコヒー
レント性の露光光に対して透明な下引き層で基体を被覆
する方法が提案されている。例えば、ポリアミド(特開
昭52−25638号公報)、ナイロン(特開昭58−
15351号公報)、ポリエーテル(特開平2−242
265号公報)などの比較的抵抗の低い樹脂で下引き層
を形成したり、バインダー樹脂と相溶性のある有機導電
性物質、例えば、有機カルボン酸塩、りん酸塩(特開昭
62−270962号公報)、キレート化合物(特開昭
64−10259号公報)等で下引き層を形成する方法
が提案されている。
In order to solve the above-mentioned problems and prevent the occurrence of interference when coherent light is used as the exposure light, the charge generating layer is positively formed without hindering the function of the unevenness of the substrate surface. As a method of covering the defects that cause unevenness of film formation at the same time and at the same time preventing the occurrence of uneven film formation of the charge generation layer due to other defects on the surface of the substrate, an undercoating layer transparent to the coherent exposure light used is used. Methods have been proposed for coating substrates. For example, polyamide (JP-A-52-25638), nylon (JP-A-58-58).
15351), polyether (JP-A-2-242)
No. 265) or the like to form an undercoat layer with a resin having a relatively low resistance, or an organic conductive substance compatible with a binder resin, such as an organic carboxylate or a phosphate (JP-A-62-270962). JP-A-64-10259), a method of forming an undercoat layer with a chelate compound (JP-A-64-10259), and the like.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述のような、使用す
るコヒーレント性の露光光に対して透明な材料からなる
下引き層は、その上に電荷発生層をムラなく成膜するこ
とができ、特性良好で画像欠陥が少なく、かつ、コヒー
レント性の露光光を使用する電子写真装置に用いても画
像に干渉縞模様が発生しない感光体が得られる。しかし
ながら、上述のような材料からなる下引き層は温度や湿
度の変化によりその抵抗が変化するため、低温低湿から
高温高湿にわたる各環境下で感光体の性能を安定に維持
することが難しいという問題があった。本発明は、上記
のような事情に鑑みてなされたものであって、その目的
は、特性良好で画像欠陥が少なく、かつ、コヒーレント
性の露光光を使用する電子写真装置に用いても画像に干
渉縞模様が発生せず、しかも、低温低湿から高温高湿に
わたる各環境下で性能を安定に維持することができ、欠
陥の少ない画像が安定して得られる電子写真感光体を提
供することにある。
As described above, the undercoating layer made of a material which is transparent to the coherent exposure light to be used can have a charge generating layer uniformly formed thereon, It is possible to obtain a photoconductor which has good characteristics and few image defects, and has no interference fringe pattern in an image even when used in an electrophotographic apparatus using coherent exposure light. However, since the resistance of the undercoat layer made of the above-mentioned materials changes with changes in temperature and humidity, it is difficult to stably maintain the performance of the photoconductor in each environment from low temperature low humidity to high temperature high humidity. There was a problem. The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide an image even when used in an electrophotographic apparatus that uses good coherent exposure light and has few image defects. To provide an electrophotographic photosensitive member that does not generate an interference fringe pattern, can stably maintain the performance in each environment from low temperature and low humidity to high temperature and high humidity, and can stably obtain an image with few defects. is there.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、種々の材
料について検討した結果、電荷発生層における帯電極性
と同極性のキャリアレンジを特定の値以上にすることに
より、上記課題を解決する電子写真感光体が得られるこ
とを見出だし、本発明を完成するに至った。すなわち、
本発明は、導電性支持体上に、少なくとも電荷発生層お
よび電荷輸送層を順次積層してなる電子写真感光体にお
いて、電荷発生層の厚みが2μm以上であり、かつ、電
荷発生層における帯電極性と同極性のキャリアレンジが
0.2×10-8cm2 /V以上であることを特徴とす
る。
As a result of studying various materials, the inventors of the present invention solve the above problems by setting the carrier range of the same polarity as the charge polarity in the charge generation layer to a specific value or more. It has been found that an electrophotographic photosensitive member can be obtained, and the present invention has been completed. That is,
The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member comprising a conductive support, and at least a charge generation layer and a charge transport layer sequentially laminated on the conductive support, the charge generation layer having a thickness of 2 μm or more, and the charge polarity of the charge generation layer. And a carrier range of the same polarity as 0.2 × 10 −8 cm 2 / V or more.

【0007】ここで、キャリアレンジとは、荷電キャリ
アが膜中を移動する移動度(μ)と荷電キャリアの寿命
(τ)との積で与えられる。予めコロナ帯電した感光体
に光照射を行い、表面電位の光減衰速度からキャリアレ
ンジを求める方法が、最も簡便かつ再現性に優れている
ため、種々の研究においても多用されている。光減衰曲
線の測定は、市販の静電複写紙試験装置などを用いて行
うことができ、次式(1)によってキャリアレンジを算
出することができる。
Here, the carrier range is given by the product of the mobility (μ) in which the charge carriers move in the film and the life (τ) of the charge carriers. The method of obtaining the carrier range from the light decay rate of the surface potential by irradiating the pre-corona-charged photoconductor with light is the most convenient and excellent in reproducibility, and is therefore widely used in various studies. The measurement of the light attenuation curve can be performed by using a commercially available electrostatic copying paper tester or the like, and the carrier range can be calculated by the following equation (1).

【数1】 ここで、Eは電界、tは時間、Φは感光体における量子
効率、eは電気素量、Iは入射光子数、εは比誘電率、
ε0 は真空誘電率、Lは感光層の膜厚、μは荷電キャリ
アの移動度、τは荷電キャリアの寿命である。なお、測
定時の入射光は、像露光に使用する領域の波長の単色光
が、キャリア移動律速を生じせしめないような比較的弱
い露光量で用いられる。なお、膜厚の上限はキャリアレ
ンジとの関係に依存するが、(膜厚/電界)の3倍以上
のキャリアレンジとなるような関係が満たされるような
膜厚とするのが好ましい。
[Equation 1] Here, E is the electric field, t is the time, Φ is the quantum efficiency of the photoconductor, e is the elementary charge, I is the number of incident photons, ε is the relative dielectric constant,
ε 0 is the vacuum dielectric constant, L is the thickness of the photosensitive layer, μ is the mobility of charge carriers, and τ is the life of the charge carriers. The incident light at the time of measurement is used with a relatively weak exposure amount such that the monochromatic light having the wavelength in the region used for image exposure does not cause the carrier movement to be controlled. Although the upper limit of the film thickness depends on the relationship with the carrier range, it is preferable that the film thickness satisfy the relationship that the carrier range is three times or more of (film thickness / electric field).

【0008】以下、本発明の感光層について説明する。
図1ないし図4は、本発明の電子写真感光体の断面を示
す模式図である。図1においては、導電性支持体3上に
電荷発生層1が設けられ、その上に電荷輸送層2が設け
られている。図2においては、さらに、導電性支持体3
上に下引き層4が設けられており、また、図3において
は、表面に保護層5が設けられている。さらに、図4に
おいては、下引き層4と保護層5の両者が設けられてい
る。
The photosensitive layer of the present invention will be described below.
1 to 4 are schematic views showing a cross section of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. In FIG. 1, the charge generation layer 1 is provided on the conductive support 3, and the charge transport layer 2 is provided thereon. In FIG. 2, the conductive support 3 is further added.
An undercoat layer 4 is provided on the upper side, and in FIG. 3, a protective layer 5 is provided on the surface. Further, in FIG. 4, both the undercoat layer 4 and the protective layer 5 are provided.

【0009】導電性支持体としては、アルミニウム、ニ
ッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、およびアル
ミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレ
ス、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、ITO
等の薄膜を設けたプラスチックフィルム等あるいは導電
性付与剤を塗布、または、含浸させた紙、およびプラス
チックフィルム等があげられる。これらの導電性支持体
は、ドラム状、シート状、プレート状等、適宜の形状の
ものとして使用されるが、これらに限定されるものでは
ない。さらに導電性支持体の表面は、中心線平均粗さR
aが0.10μm以上で、凹部の最大幅が10μ以下に
されたものが好ましい。Raは0.10μm未満では干
渉縞が生じ易く、好ましくは0.14〜1.0μm、よ
り好ましくは0.14〜0.2μmの範囲である。
Examples of the conductive support include metals such as aluminum, nickel, chromium and stainless steel, and aluminum, titanium, nickel, chromium, stainless steel, gold, vanadium, tin oxide, indium oxide and ITO.
Examples thereof include a plastic film or the like provided with a thin film such as the above, paper coated with or impregnated with a conductivity-imparting agent, and a plastic film. These conductive supports are used in a suitable shape such as a drum shape, a sheet shape, and a plate shape, but are not limited thereto. Further, the surface of the conductive support has a center line average roughness R
It is preferable that a is 0.10 μm or more and the maximum width of the recess is 10 μm or less. If Ra is less than 0.10 μm, interference fringes are likely to occur, and the range is preferably 0.14 to 1.0 μm, more preferably 0.14 to 0.2 μm.

【0010】導電性支持体表面を粗面化する方法として
は、切削加工により、表面切削の精度を調節する方法、
回転砥石を圧接する方法、エッチング法、サンドペーパ
ー加工法、乾式ホーニング処理法、湿式ホーニング処理
法、サンドブラスト加工法、バフ加工法等があげられる
が、それらの中で切削加工による方法、乾式または湿式
ホーニング処理法が加工時間が短くて済むこと、作業が
簡単であること、所望の表面粗さが得られやすいこと、
安定性があることなどの理由により好ましい方法であ
る。切削加工により、表面切削の精度を調節する場合に
は、例えば、V字形状の切刃を有するバイトを、フライ
ス盤、旋盤などの切削加工機械によって、円筒状導電性
支持体を回転させながら規則的に所定方向に圧接移動さ
せることにより、所望の平目溝状の凹凸を形成すること
ができる。また、湿式ホーニング処理は、水などの液体
に粉末状の研磨剤を懸濁させ、高速度で基体表面に吹き
付けて粗面化する方法であるが、その場合、表面粗さ
は、吹き付け圧力、速度、研磨剤の量、種類、形状、大
きさ、硬度、比重及び懸濁温度等により制御することが
できる。同様に、乾式ホーニング処理は、研磨剤をエア
ーにより、高速度で導電性支持体表面に吹き付けて粗面
化する方法であり、湿式ホーニング処理と同じように表
面粗さを制御することができる。これら湿式または乾式
ホーニング処理に用いる研磨剤としては、炭化ケイ素、
アルミナ、鉄、ガラスビーズ等の粒子があげられる。湿
式または乾式ホーニング処理において、画像形成時に現
出する干渉縞模様の原因となる局所的に大きく荒れてい
る部分の形成を低減するためには、例えば、研磨剤の吹
き付け速度を下げて単位被処理面積当りの処理時間を長
くするのが極めて好ましい方法である。すなわち、粗面
化処理時間を長くし、研磨剤の吹き付け速度を下げるこ
とにより、研磨剤の被処理基体への衝突エネルギーのバ
ラツキを低減せしめる。その結果として、通常粗さ部分
に比べて、局所的に大きくあれている部分を減少させる
ことができる。この方法によれば、所望の表面粗さが得
られやすいこと、安定性があること、新たな工程設備を
導入する必要がないことなどの利点がある。なお、吹き
付け速度は、噴霧スプレーガンと基体表面の距離および
圧縮空気、ノズル口径等によって規定されるものであ
り、それらを調整することによって、吹き付け速度を制
御することができる。
As a method of roughening the surface of the conductive support, a method of adjusting the precision of surface cutting by cutting,
There are a method of pressing a rotary grindstone, an etching method, a sandpaper processing method, a dry honing processing method, a wet honing processing method, a sandblast processing method, a buff processing method, and the like. Among them, a cutting method, a dry method or a wet method. The honing method requires a short processing time, the work is easy, and the desired surface roughness is easily obtained.
It is a preferable method because of its stability. When adjusting the precision of surface cutting by cutting, for example, a tool having a V-shaped cutting edge is regularly rotated by a cutting machine such as a milling machine or a lathe while rotating the cylindrical conductive support. By pressing and moving in a predetermined direction, it is possible to form desired flat groove-shaped irregularities. The wet honing treatment is a method of suspending a powdery abrasive in a liquid such as water and spraying it on the surface of the substrate at a high speed to roughen the surface. It can be controlled by speed, amount of abrasive, type, shape, size, hardness, specific gravity, suspension temperature and the like. Similarly, the dry honing treatment is a method of spraying an abrasive with air at a high speed on the surface of the conductive support to roughen the surface, and the surface roughness can be controlled in the same manner as the wet honing treatment. As the abrasive used in these wet or dry honing treatments, silicon carbide,
Examples thereof include particles of alumina, iron, glass beads and the like. In the wet or dry honing process, in order to reduce the formation of a locally locally roughened portion that causes an interference fringe pattern that appears at the time of image formation, for example, the spraying speed of the polishing agent may be decreased to reduce the unit surface treatment. Increasing the processing time per area is a very preferred method. That is, by increasing the roughening treatment time and decreasing the spraying speed of the polishing agent, it is possible to reduce the variation in the collision energy of the polishing agent on the substrate to be processed. As a result, it is possible to reduce the locally locally roughened portion as compared with the normal roughness portion. According to this method, the desired surface roughness can be easily obtained, the stability is obtained, and it is not necessary to introduce new process equipment. The spraying speed is defined by the distance between the spray gun and the substrate surface, compressed air, nozzle diameter, etc., and the spraying speed can be controlled by adjusting them.

【0011】また、導電性支持体表面は、陽極酸化処理
を施した金属であることが好ましい。陽極酸化処理は、
例えば、アルミニウムの場合には、クロム酸、硫酸、シ
ュウ酸、燐酸等の酸性液中で行われる。このようにして
形成した陽極酸化被膜は、化学的不導態として作用し
て、感光層中のイオン性物質が移動し、支持体金属との
化学反応による局所的な電荷注入部が生じるのを防止す
るものと考えられる。陽極酸化被膜の厚さは、0.01
μm以上であることが必要である。厚さが0.01μm
よりも薄くなると、画質向上効果が十分でなくなり、白
斑点、黒斑点が生じるようになる。上記のようにして形
成された陽極酸化被膜は、皮膜の安定性を高めるため
に、例えば、主成分として酢酸ニッケルを含有する水溶
液中に浸漬させる高温封孔処理や沸騰水封孔処理などの
封孔処理を施すことが望ましい。
Further, the surface of the conductive support is preferably a metal subjected to anodizing treatment. The anodizing process is
For example, in the case of aluminum, it is carried out in an acidic liquid such as chromic acid, sulfuric acid, oxalic acid and phosphoric acid. The anodic oxide film thus formed acts as a chemical non-conducting substance, and the ionic substance in the photosensitive layer is moved, so that a local charge injection part due to a chemical reaction with the support metal is generated. It is considered to prevent. The thickness of the anodized film is 0.01
It must be at least μm. Thickness is 0.01 μm
If the thickness is smaller than this, the effect of improving the image quality becomes insufficient and white spots and black spots occur. The anodic oxide coating formed as described above is, for example, a sealing material such as a high temperature sealing treatment or a boiling water sealing treatment in which it is immersed in an aqueous solution containing nickel acetate as a main component in order to enhance the stability of the coating. Pore treatment is desirable.

【0012】また、導電性支持体と電荷発生層の間にさ
らに下引き層を設けてもよい。この下引き層は積層構造
からなる感光層の帯電時において導電性支持体から感光
層への電荷の注入を阻止するとともに、感光層を導電性
支持体に対して一体的に接着保持せしめる接着層として
の作用等を示す。この下引き層に用いる結着樹脂として
は、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、塩化ビニ
リデン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール樹脂、水溶
性ポリエステル樹脂、ニトロセルロース、カゼイン、ゼ
ラチン、ポリグルタミン酸、澱粉、スターチアセテー
ト、アミノ澱粉、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミ
ド、ジルコニウムキレート化合物、チタニルキレート化
合物、チタニルアルコキシド化合物、有機チタニル化合
物、シランカップリング剤などの公知の材料をあげるこ
とができる。また、下引き層の厚みは0.01〜10μ
m、好ましくは0.05〜2μmが適当である。さらに
この下引き層を設けるときに用いる塗布方法としては、
ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング
法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビ
ードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カ
ーテンコーティング法などの通常方法を用いることがで
きる。
An undercoat layer may be further provided between the conductive support and the charge generation layer. The undercoat layer is an adhesive layer that prevents the injection of charges from the conductive support to the photosensitive layer during charging of the photosensitive layer having a laminated structure, and also integrally holds the photosensitive layer to the conductive support. And the like. The binder resin used for the undercoat layer includes polyethylene resin, polypropylene resin, acrylic resin, methacrylic resin, polyamide resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, phenol resin, polycarbonate resin, polyurethane resin, polyimide resin, vinylidene chloride resin. , Polyvinyl acetal resin, vinyl chloride-
Vinyl acetate copolymer, polyvinyl alcohol resin, water-soluble polyester resin, nitrocellulose, casein, gelatin, polyglutamic acid, starch, starch acetate, amino starch, polyacrylic acid, polyacrylamide, zirconium chelate compound, titanyl chelate compound, titanyl alkoxide Known materials such as compounds, organic titanyl compounds, and silane coupling agents can be used. The thickness of the undercoat layer is 0.01 to 10 μm.
m, preferably 0.05-2 μm. Further, as a coating method used when providing the undercoat layer,
Conventional methods such as a blade coating method, a Mayer bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method and a curtain coating method can be used.

【0013】電荷発生層は、電荷発生材料を結着樹脂に
分散させてなるもので、電荷発生材料としては、フタロ
シアニン系、スクアリウム系、アントアントロン系、ペ
リレン系、アゾ系、アントラキノン系、ピレン系、ピリ
リウム塩等の有機顔料および染料が用いられる。フタロ
シアニン系顔料としては、例えば、無金属フタロシアニ
ン、オキシチタニウムフタロシアニン、クロロガリウム
フタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、ヒドロ
キシガリウムフタロシアニン等があげられる。結着樹脂
としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができ
る。また、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニル
アントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機
光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい
結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリア
リレート樹脂(ビスフェノールAとフタル酸の重縮合体
等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェ
ノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニリデン樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリア
クリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロー
ス樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリ
ビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の
絶縁性樹脂をあげることができるが、これらに限定され
るものではない。これらの結着樹脂は単独あるいは二種
以上混合して用いることができる。
The charge generation layer is formed by dispersing a charge generation material in a binder resin, and as the charge generation material, there are phthalocyanine type, squarylium type, anthanthrone type, perylene type, azo type, anthraquinone type, and pyrene type. , Organic pigments and dyes such as pyrylium salts are used. Examples of the phthalocyanine-based pigment include metal-free phthalocyanine, oxytitanium phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, dichlorotin phthalocyanine, and hydroxygallium phthalocyanine. The binder resin can be selected from a wide range of insulating resins. It can also be selected from organic photoconductive polymers such as poly-N-vinylcarbazole, polyvinylanthracene, polyvinylpyrene, polysilane. Preferred binder resins include polyvinyl butyral resins, polyarylate resins (polycondensates of bisphenol A and phthalic acid, etc.), polycarbonate resins, polyester resins, phenoxy resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, vinylidene chloride resins, polyamides. Resin, acrylic resin, polyacrylamide resin, polyvinyl pyridine resin, cellulose resin, urethane resin, epoxy resin, casein, polyvinyl alcohol resin, polyvinylpyrrolidone resin, and other insulating resins can be mentioned, but are not limited to these. Absent. These binder resins may be used alone or in combination of two or more.

【0014】また、配合比(重量比)は、10:1〜
1:10の範囲が好ましい。またこれらを分散させる方
法としてはボールミル分散法、アトライター分散法、サ
ンドミル分散法等の通常の方法を用いることができる。
さらに、この分散の際、粒子を0.5μm以下、好まし
くは0.3μm以下、さらに好ましくは0.15μm以
下の粒子サイズにすることが有効である。また、これら
の分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノー
ル、n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアル
コール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチ
ル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、メチレンクロライド、クロロホルム等の通常の有機
溶剤を単独あるいは二種以上混合して用いることができ
る。
The compounding ratio (weight ratio) is 10: 1 to
A range of 1:10 is preferred. As a method for dispersing these, a usual method such as a ball mill dispersion method, an attritor dispersion method, or a sand mill dispersion method can be used.
Further, during this dispersion, it is effective that the particles have a particle size of 0.5 μm or less, preferably 0.3 μm or less, more preferably 0.15 μm or less. Further, as a solvent used for dispersing these, methanol, ethanol, n-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, n-butyl acetate, dioxane, Ordinary organic solvents such as tetrahydrofuran, methylene chloride and chloroform may be used alone or in combination of two or more.

【0015】また、電荷発生層における電子のキャリア
レンジを0.2×10-8cm2 /V以上、好ましくは、
0.5×10-8cm2 /V以上にするために電子輸送材
料を添加することができる。電子輸送材料としては、p
−ベンゾキノン、クロラニル、ブロモアニル、アントラ
キノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン
系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン等のフ
ルオレノン系化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェ
ノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合
物等またはこれらの化合物からなる基を主鎖または側鎖
に有する重合体等があげられる。これらの電荷輸送材料
は単独でも、二種以上を混合して用いてもよい。同様に
正孔のキャリアレンジを大きくするためには正孔輸送材
料を添加すればよい。
The carrier range of electrons in the charge generation layer is 0.2 × 10 -8 cm 2 / V or more, preferably,
An electron-transporting material can be added in order to obtain 0.5 × 10 −8 cm 2 / V or more. As an electron transport material, p
-Quinone compounds such as benzoquinone, chloranil, bromoanil, anthraquinone, tetracyanoquinodimethane compounds, fluorenone compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone, xanthone compounds, benzophenone compounds, cyanovinyl compounds, ethylene Examples thereof include a system compound and the like, or a polymer having a group composed of these compounds in a main chain or a side chain. These charge transport materials may be used alone or in combination of two or more. Similarly, in order to increase the carrier range of holes, a hole transport material may be added.

【0016】また、本発明で用いる電荷発生層の厚みは
2.0μm以上である。また、電荷発生層を設ける際の
塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤー
バーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コ
ーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコ
ーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法
を用いることができる。
The thickness of the charge generation layer used in the present invention is 2.0 μm or more. As a coating method for providing the charge generation layer, a usual method such as a blade coating method, a Mayer bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method and a curtain coating method is used. be able to.

【0017】電荷輸送層は、電荷輸送層材料を適当な結
着樹脂中に含有させて形成されている。正孔輸送材料と
しては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化
合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチル
系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合
物、ヒドラゾン系化合物またはこれ等の化合物からなる
基を主鎖または側鎖に有する重合体等があげられる。こ
れらの電荷輸送材料は単独でも、二種以上を混合して用
いてもよい。これらの正孔輸送材料の中でも、ベンジジ
ン系化合物、トリアリールアミン系化合物、さらにこれ
らの化合物の混合物が好ましく使用される。さらに、電
荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、
ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポ
リ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチ
レン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹
脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムア
ルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−N−
ビニルカルバゾール等の公知の樹脂を用いることができ
るがこれらに限定されるものではない。これらの結着樹
脂のうち下記構造式(I)〜(V)で示されるポリカー
ボネート樹脂を用いたときに、特によい特性を示す。
The charge transport layer is formed by containing the charge transport layer material in a suitable binder resin. As the hole transport material, a triarylamine-based compound, a benzidine-based compound, an arylalkane-based compound, an aryl-substituted ethyl-based compound, a stilbene-based compound, an anthracene-based compound, a hydrazone-based compound, or a group composed of these compounds is a main chain. Alternatively, a polymer having a side chain may be used. These charge transport materials may be used alone or in combination of two or more. Among these hole transport materials, benzidine compounds, triarylamine compounds, and mixtures of these compounds are preferably used. Further, the binder resin used for the charge transport layer is a polycarbonate resin,
Polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene-butadiene copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, Vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene-alkyd resin, poly-N-
A known resin such as vinylcarbazole can be used, but the resin is not limited to these. Among these binder resins, particularly good properties are exhibited when the polycarbonate resin represented by the following structural formulas (I) to (V) is used.

【0018】[0018]

【化1】 また、これらの結着樹脂は単独あるいは二種以上混合し
て用いることができる。
[Chemical 1] These binder resins may be used alone or in combination of two or more.

【0019】電荷輸送材料と結着樹脂との配合比(重量
比)は10:1〜1:5が好ましい。本発明で用いる電
荷輸送層の厚みは、一般的には、5〜50μm、好まし
くは10〜30μmが適当である。塗布方法としては、
ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング
法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビ
ードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カ
ーテンコーティング法等の通常の方法を用いることがで
きる。さらに、電荷輸送層を設ける際に用いる溶剤とし
ては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン
等の芳香族炭化水素類、アセトン、2−ブタノン等のケ
トン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等
のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、
エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類な
どの通常の有機溶剤を単独あるいは二種以上混合して用
いることができる。
The compounding ratio (weight ratio) of the charge transport material and the binder resin is preferably 10: 1 to 1: 5. The thickness of the charge transport layer used in the present invention is generally 5 to 50 μm, preferably 10 to 30 μm. As a coating method,
Usual methods such as a blade coating method, a Meyer bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method and a curtain coating method can be used. Further, as the solvent used in providing the charge transport layer, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, ketones such as acetone and 2-butanone, halogens such as methylene chloride, chloroform and ethylene chloride. Cycloaliphatic hydrocarbons, tetrahydrofuran,
Ordinary organic solvents such as cyclic or linear ethers such as ethyl ether may be used alone or in combination of two or more.

【0020】また、複写機中で発生するオゾンや酸化性
ガス、あるいは光、熱による感光体の劣化を防止する目
的で、感光層中に酸化防止剤、光安定剤等の添加剤を添
加することができる。例えば、酸化防止剤としては、ヒ
ンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレ
ンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピ
ロクロマン、スピロインダノンおよびそれらの誘導体、
有機硫黄化合物、有機燐化合物等があげられる。光安定
剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾー
ル、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の
誘導体が挙げられる。また、感度の向上、残留電位の低
減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なく
とも1種の電子受容性物質を含有させることができる。
本発明の感光体に使用可能な電子受容性物質としては、
例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水
マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル
酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタ
ン、o−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、ク
ロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオ
レノン、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ
安息香酸、フタル酸等をあげることができる。これらの
うち、フルオレノン系、キノン系やCl、CN、NO2
等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好
ましい。
Additives such as antioxidants and light stabilizers are added to the photosensitive layer for the purpose of preventing the deterioration of the photoreceptor due to ozone or oxidizing gas generated in the copying machine, or light or heat. be able to. For example, as the antioxidant, hindered phenol, hindered amine, paraphenylenediamine, arylalkane, hydroquinone, spirochroman, spiroindanone and their derivatives,
Examples thereof include organic sulfur compounds and organic phosphorus compounds. Examples of the light stabilizer include benzophenone, benzotriazole, dithiocarbamate, and tetramethylpiperidine derivatives. Further, at least one electron-accepting substance can be contained for the purpose of improving sensitivity, reducing residual potential, and reducing fatigue during repeated use.
The electron accepting substance that can be used in the photoreceptor of the present invention includes
For example, succinic anhydride, maleic anhydride, dibromomaleic anhydride, phthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, o-dinitrobenzene, m-dinitrobenzene, chloranil, dinitroanthraquinone, trinitrate. Examples thereof include nitrofluorenone, picric acid, o-nitrobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid and phthalic acid. Of these, fluorenone type, quinone type, Cl, CN, NO 2
Particularly preferred are benzene derivatives having electron-withdrawing substituents such as

【0021】さらに必要に応じて電荷輸送層の上に保護
層を設けてもよい。この保護層は、積層構造からなる感
光層の帯電時の電荷輸送層の化学的変質を防止するとと
もに、感光層の機械的強度を改善するために用いられ
る。この保護層は、導電性材料を適当なバインダー中に
含有させて形成されている。導電性材料としては、N,
N′−ジメチルフェロセン等のメタロセン化合物、N,
N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニ
ル)−[1,1′−ビフェニル]−4,4′−ジアミン
等の芳香族アミン化合物、酸化アンチモン、酸化スズ、
酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズ−酸化アンチモ
ン等の金属酸化物等の材料を用いることができるが、こ
れらに限定されるものではない。また、この保護層に用
いる結着樹脂としては、ポリアミド樹脂、ポリウレタン
樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポ
リスチレン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂等、公知の樹
脂を用いることができる。また、この保護層は電気抵抗
が109 〜1014Ω・cmとなるように構成することが
好ましい。電気抵抗が1014Ω・cm以上になると残留
電位が上昇しカブリの多い複写物となってしまい、ま
た、109 Ω・cm以下になると画像のボケ、解像力の
低下が生じてしまう。また、保護層は像露光に用いられ
る光の透過を実質上妨げないように構成されなければな
らない。本発明で用いる保護層の膜厚は0.5〜20μ
m、好ましくは1〜10μmが適当である。塗布方法と
しては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーテ
ィング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング
法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング
法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いるこ
とができる。
If necessary, a protective layer may be provided on the charge transport layer. This protective layer is used to prevent chemical deterioration of the charge transport layer during charging of the photosensitive layer having a laminated structure and to improve the mechanical strength of the photosensitive layer. This protective layer is formed by containing a conductive material in a suitable binder. As the conductive material, N,
Metallocene compounds such as N'-dimethylferrocene, N,
Aromatic amine compounds such as N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-[1,1'-biphenyl] -4,4'-diamine, antimony oxide, tin oxide,
Materials such as titanium oxide, indium oxide, and metal oxides such as tin oxide-antimony oxide can be used, but are not limited thereto. As the binder resin used for this protective layer, known resins such as polyamide resin, polyurethane resin, polyester resin, epoxy resin, polyketone resin, polycarbonate resin, polyvinylketone resin, polystyrene resin, polyacrylamide resin and the like can be used. it can. Further, it is preferable that this protective layer is configured to have an electric resistance of 10 9 to 10 14 Ω · cm. When the electric resistance is 10 14 Ω · cm or more, the residual potential rises to give a copy with a lot of fog, and when it is 10 9 Ω · cm or less, the image becomes blurred and the resolution is lowered. Also, the protective layer should be constructed so as not to substantially interfere with the transmission of light used for imagewise exposure. The thickness of the protective layer used in the present invention is 0.5 to 20 μm.
m, preferably 1-10 μm. As a coating method, a usual method such as a blade coating method, a Meyer bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method and a curtain coating method can be used.

【0022】[0022]

【実施例】以下、実施例によって本発明を説明するが、
実施例は本発明を詳しく説明するためのものであり、本
発明が実施例によって制約されるものではない。なお、
実施例および比較例において、「部」はすべて「重量
部」である。 実施例1 表面が中心線平均粗さRaが0.14μmで、凹部の最
大幅が1.8μmとなるように粗面化されたアルミニウ
ムパイプを陽極酸化処理し、5μmの厚さの酸化膜を形
成したアルミニウム基体上にジルコニウム化合物(商品
名:オルガチックスZC540、マツモト製薬社製)1
0部およびシラン化合物(商品名:A1110、日本ユ
ニカー社製)1部とi−プロパノール40部およびブタ
ノール20部とからなる溶液を浸漬コーティング法で塗
布し、150℃において10分間加熱乾燥し膜厚0.1
μmの下引き層を形成した。次にCuKαを線源とする
粉末X線回折図を図5に示すジクロロスズフタロシアニ
ン結晶1部、ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エス
レックBM−S、積水化学社製)1部および所定量の酢
酸n−ブチルを、ガラスビーズとともにペイントシェー
カーで1時間処理して分散した後、得られた塗布液を上
記下引き層上に塗布し、膜厚約5.0μmの電荷発生層
を形成した。次に、下記構造式(VI)に示す化合物2部
と下記構造式(I)
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.
The examples are for explaining the present invention in detail, and the present invention is not limited to the examples. In addition,
In the examples and comparative examples, all "parts" are "parts by weight". Example 1 An aluminum pipe whose surface has a centerline average roughness Ra of 0.14 μm and which is roughened so that the maximum width of the recess is 1.8 μm is anodized to form an oxide film having a thickness of 5 μm. Zirconium compound (trade name: Organix ZC540, manufactured by Matsumoto Pharmaceutical Co., Ltd.) on the formed aluminum substrate 1
A solution consisting of 0 part and 1 part of a silane compound (trade name: A1110, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) and 40 parts of i-propanol and 20 parts of butanol was applied by a dip coating method, and dried by heating at 150 ° C. for 10 minutes to give a film thickness. 0.1
An undercoat layer of μm was formed. Next, a powder X-ray diffraction pattern using CuKα as a radiation source is shown in FIG. 5, 1 part of dichlorotin phthalocyanine crystal, 1 part of polyvinyl butyral resin (trade name: S-REC BM-S, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and a predetermined amount of acetic acid n. -Butyl was treated with a glass bead with a paint shaker for 1 hour to be dispersed, and then the obtained coating liquid was applied onto the undercoat layer to form a charge generation layer having a thickness of about 5.0 µm. Next, 2 parts of the compound represented by the following structural formula (VI) and the following structural formula (I)

【化2】 Mw=39000(粘度平均分子量)で示されるポリ
(4,4′−シクロヘキシリデンジフェニレンカーボネ
ート)3部を、モノクロロベンゼン20部に溶解し、得
られた塗布液を、電荷発生層が形成されたアルミニウム
基体上に浸漬コーティング法で塗布し、120℃におい
て1時間加熱乾燥、膜厚20μmの電荷輸送層を形成し
た。
[Chemical 2] 3 parts of poly (4,4′-cyclohexylidenediphenylene carbonate) represented by Mw = 39000 (viscosity average molecular weight) was dissolved in 20 parts of monochlorobenzene, and the resulting coating liquid was used to form a charge generation layer. It was applied on an aluminum substrate by a dip coating method and dried by heating at 120 ° C. for 1 hour to form a charge transport layer having a film thickness of 20 μm.

【0023】このようにして得られた電子写真感光体
を、富士ゼロックス(株)製レーザープリンターXP−
11を改造した評価装置内に装着し、電気特性および画
質特性の評価を行った。電気特性の評価は、常温常湿
(20℃、40%RH)および低温低湿(10℃、15
%RH)において、上記装置内の現像位置での電位を測
定することにより行った。ここで、帯電後レーザー光照
射しない場合の電位をVH、12mJ/m2 のレーザー
光を照射した場合の電位をVL、約30mJ/m2のレ
ーザー光を照射した場合の電位をVRとする。また、同
評価装置において、実際にプリントを出力させて、画像
上の欠陥の評価も行った。その結果を表1に示す。ま
た、アルミ基体上に同一条件の電荷発生層だけを設けた
サンプルの光減衰曲線を、静電複写紙試験装置(川口電
気社製:エレクトロスタティックアナライザーEPA−
8100)を用いて測定して、キャリアレンジを求め
た。キャリアレンジの値は0.6×10-8cm2 /Vで
あった。
The electrophotographic photosensitive member thus obtained was used as a laser printer XP- manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd.
The No. 11 was mounted in a modified evaluation apparatus, and the electrical characteristics and image quality characteristics were evaluated. The electrical characteristics are evaluated at room temperature and normal humidity (20 ° C, 40% RH) and low temperature and low humidity (10 ° C, 15%).
% RH) by measuring the potential at the development position in the above device. Here, the potential when the laser light is not irradiated after charging is VH, the potential when the laser light of 12 mJ / m 2 is irradiated is VL, and the potential when the laser light of about 30 mJ / m 2 is irradiated is VR. Further, in the same evaluation device, prints were actually output to evaluate defects on the image. The results are shown in Table 1. In addition, an optical attenuation curve of a sample in which only a charge generation layer under the same conditions is provided on an aluminum substrate is measured by an electrostatic copying paper test apparatus (Kawaguchi Electric Co., Ltd .: Electrostatic Analyzer EPA-
8100) to determine the carrier range. The value of the carrier range was 0.6 × 10 -8 cm 2 / V.

【0024】実施例2 実施例1におけるジクロロスズフタロシアニン結晶の代
わりに、CuKαを線源とする粉末X線回折図を図6に
示すジクロロスズフタロシアニン結晶を用いた以外は、
実施例1と同様にして感光体を作製し、同様の測定を行
った。その結果を表1に示す。また、この電荷発生層の
キャリアレンジの値は1.0×10-8cm2 /Vであっ
た。 実施例3 実施例1におけるジクロロスズフタロシアニン結晶の代
わりに、CuKαを線源とする粉末X線回折図を図7に
示すジクロロスズフタロシアニン結晶を用いた以外は、
実施例1と同様にして感光体を作製し、同様の測定を行
った。その結果を表1に示す。また、この電荷発生層の
キャリアレンジの値は1.0×10-8cm2 /Vであっ
た。 実施例4 実施例1における電荷発生層の代わりに、X型メタルフ
リーフタロシアニン結晶1部、ポリビニルブチラール樹
脂(商品名:エスレックBM−S、積水化学社製)1
部、3,5−ジメチル−3′,5′−ジ−ter−ブチ
ル−4,4′−ジフェノキノン1部および所定量の酢酸
n−ブチルをガラスビーズとともにペイントシェーカー
で1時間処理して分散した後、得られた塗布液を上記下
引き層上に塗布し、膜厚約3.0μmの電荷発生層を形
成し用いた以外は、実施例1と同様にして感光体を作製
し、同様の測定を行った。その結果を表1に示す。ま
た、この電荷発生層のキャリアレンジの値は0.5×1
-8cm2 /Vであった。
Example 2 In place of the dichlorotin phthalocyanine crystal in Example 1, a powder X-ray diffraction diagram using CuKα as a radiation source is shown in FIG. 6 except that the dichlorotin phthalocyanine crystal was used.
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1, and the same measurement was performed. The results are shown in Table 1. The value of the carrier range of this charge generation layer was 1.0 × 10 −8 cm 2 / V. Example 3 In place of the dichlorotin phthalocyanine crystal in Example 1, a dichlorotin phthalocyanine crystal whose powder X-ray diffraction diagram using CuKα as a radiation source is shown in FIG. 7 was used, except that
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1, and the same measurement was performed. The results are shown in Table 1. The value of the carrier range of this charge generation layer was 1.0 × 10 −8 cm 2 / V. Example 4 Instead of the charge generation layer in Example 1, 1 part of X-type metal-free phthalocyanine crystal, polyvinyl butyral resin (trade name: S-REC BM-S, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 1
Parts, 3,5-dimethyl-3 ', 5'-di-ter-butyl-4,4'-diphenoquinone and 1 part of a predetermined amount of n-butyl acetate were treated with a glass bead on a paint shaker for 1 hour to be dispersed. Thereafter, a photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the obtained coating liquid was applied onto the above-mentioned undercoat layer to form and use a charge generation layer having a thickness of about 3.0 μm. The measurement was performed. The results are shown in Table 1. The value of the carrier range of this charge generation layer is 0.5 × 1.
It was 0 -8 cm 2 / V.

【0025】比較例1〜3 実施例1〜3において、電荷発生層の膜厚を0.15μ
mとした以外は、実施例1と同様にして感光体を作製
し、同様の測定を行った。その結果を表1に示す。 比較例4 実施例1におけるジクロロスズフタロシアニン結晶の代
わりに、X型メタルフリーフタロシアニン結晶を用いた
以外は実施例1と同様にして感光体を作製し、同様の測
定を行った。その結果を表1に示す。また、この電荷発
生層のキャリアレンジの値は0.1×10-9cm2 /V
であった。 比較例5 実施例1において、下引き層を膜厚約1.0μmの共重
合ナイロン(商品名:CM8000、東レ(株)製)と
し、電荷発生層の膜厚を0.15μmとした以外は、実
施例1と同様にして感光体を作製し、同様の測定を行っ
た。その結果を表1に示す。 比較例6 粗面化処理されていないAlパイプ(Ra=0.08μ
m)を用い、電荷発生層を0.15μmの膜厚とした以
外は、実施例1と同様にして感光体を作製し、同様の測
定を行った。その結果を表1に示す。
Comparative Examples 1 to 3 In Examples 1 to 3, the charge generation layer has a thickness of 0.15 μm.
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that m was set, and the same measurement was performed. The results are shown in Table 1. Comparative Example 4 A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that an X-type metal-free phthalocyanine crystal was used instead of the dichlorotin phthalocyanine crystal in Example 1, and the same measurement was performed. The results are shown in Table 1. The carrier range of this charge generation layer is 0.1 × 10 -9 cm 2 / V.
Met. Comparative Example 5 Except that the undercoat layer was a copolymerized nylon (trade name: CM8000, manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of about 1.0 μm and the thickness of the charge generation layer was 0.15 μm in Example 1. A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1, and the same measurement was performed. The results are shown in Table 1. Comparative Example 6 Al pipe not subjected to surface roughening treatment (Ra = 0.08μ)
m) was used and a photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the charge generation layer had a thickness of 0.15 μm, and the same measurement was performed. The results are shown in Table 1.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明の電子写真感光体は、電荷発生層
の膜厚とキャリアレンジを上記の条件のもとに使用した
から、特性良好で画像欠陥が少なく、かつ、コヒーレン
ト性の露光光を使用する電子写真装置に用いても画像に
干渉縞模様が発生せず、しかも、低温低湿から高温高湿
にわたる各環境下で性能を安定に維持することができ、
欠陥の少ない画像を安定して得ることができる。
Since the electrophotographic photoreceptor of the present invention is used under the above conditions for the film thickness and carrier range of the charge generation layer, it has good characteristics, few image defects, and coherent exposure light. No interference fringe pattern is generated in the image even when used in an electrophotographic device that uses, and the performance can be stably maintained in each environment from low temperature low humidity to high temperature high humidity.
An image with few defects can be stably obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の電子写真感光体の一例の模式的断面
図を示す。
FIG. 1 shows a schematic sectional view of an example of an electrophotographic photosensitive member of the present invention.

【図2】 本発明の電子写真感光体の他の一例の模式的
断面図を示す。
FIG. 2 shows a schematic sectional view of another example of the electrophotographic photosensitive member of the present invention.

【図3】 本発明の電子写真感光体の他の一例の模式的
断面図を示す。
FIG. 3 shows a schematic sectional view of another example of the electrophotographic photosensitive member of the present invention.

【図4】 本発明の電子写真感光体のさらに他の一例の
模式的断面図を示す。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing still another example of the electrophotographic photosensitive member of the present invention.

【図5】 実施例1で使用したジクロロスズフタロシア
ニン結晶の粉末X線回折図を示す。
5 shows a powder X-ray diffraction pattern of the dichlorotin phthalocyanine crystal used in Example 1. FIG.

【図6】 実施例2で使用したジクロロスズフタロシア
ニン結晶の粉末X線回折図を示す。
FIG. 6 shows a powder X-ray diffraction pattern of the dichlorotin phthalocyanine crystal used in Example 2.

【図7】 実施例3で使用したジクロロスズフタロシア
ニン結晶の粉末X線回折図を示す。
FIG. 7 shows a powder X-ray diffraction pattern of the dichlorotin phthalocyanine crystal used in Example 3.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…電荷発生層、2…電荷輸送層、3…導電性支持体、
4…下引き層、5…保護層。
1 ... Charge generating layer, 2 ... Charge transporting layer, 3 ... Conductive support,
4 ... Undercoat layer, 5 ... Protective layer.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性支持体上に、電荷発生層および電
荷輸送層を順次積層してなる電子写真用感光体におい
て、電荷発生層の膜厚が2μm以上であり、感光体の帯
電極性と同極性のキャリアの電荷発生層におけるキャリ
アレンジが0.2×10-8cm2 /V以上であることを
特徴とする電子写真感光体。
1. An electrophotographic photosensitive member comprising a conductive support and a charge generation layer and a charge transport layer sequentially laminated on the conductive support, wherein the thickness of the charge generation layer is 2 μm or more, and the charge polarity of the photosensitive member is An electrophotographic photosensitive member characterized by having a carrier range of carriers of the same polarity in a charge generation layer of 0.2 × 10 −8 cm 2 / V or more.
【請求項2】 該導電性支持体が、中心線平均粗さRa
が0.10μm以上で、凹部の最大幅が10μm以下で
ある粗面を有することを特徴とする請求項1記載の電子
写真感光体。
2. The conductive support has a center line average roughness Ra.
Is 0.10 μm or more and the concave portion has a maximum width of 10 μm or less, and the electrophotographic photosensitive member according to claim 1.
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