JPH07318991A - Photorefractive polymer - Google Patents

Photorefractive polymer

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JPH07318991A
JPH07318991A JP11072094A JP11072094A JPH07318991A JP H07318991 A JPH07318991 A JP H07318991A JP 11072094 A JP11072094 A JP 11072094A JP 11072094 A JP11072094 A JP 11072094A JP H07318991 A JPH07318991 A JP H07318991A
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JP
Japan
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photorefractive
polymer
photoconductive
group
present
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Application number
JP11072094A
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Japanese (ja)
Inventor
Shingu Naruwa Hari
ハリ・シング・ナルワ
Atsushi Tsunoda
角田  敦
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication of JPH07318991A publication Critical patent/JPH07318991A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a polymer having electro-optical and photoconductive molecules in a single state and acting as a photorefractive medium having a significant electro-optical effect and high photoconductivity by introducing photoconductive groups into a structure. CONSTITUTION:This photorefractive polymer is a polymer represented by the formula, wherein A is C or Si, B is O, alkyl, fluoroalkyl, etc., D is H, halogen, CF3, cyano, etc., R is H, halogen or a group having nonlinear optical characteristics such as optionally substd. benzene, pyridine, stilbene, azobenzene, tolan or triazine and X is H, halogen or a photoconductive group such as optionally substd. carbazole, phthalocyanine, porphyrin, porphyrazine, metallocene, squalene, azo pigment or naphthalene. A sensitizer such as trinitrofluorenone may further be used.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はエレクトロニクス及びフ
ォトニクス分野に適用できる新規なフォトリフラクティ
ブ高分子及びフォトリフラクティブ装置に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a novel photorefractive polymer and photorefractive device applicable to the fields of electronics and photonics.

【0002】[0002]

【従来の技術】フォトリフラクティブ材料は、電気光学
特性,光導電性及び光イオン化可能な格子欠陥を有する
という3種の性質を統合した非線形光学材料であり、そ
れらの格子中に光イオン化可能な欠陥がある。経験的に
フォトリフラクティブ材料に伴う要求特性として、
(1)ポッケルス線形EO効果を生じる中心対称性の欠
如、(2)空間電荷を生じるに十分な深い準位の密度の
存在の二点が挙げられる。これにより、レーザ光で電流
を生じ、電場の存在が屈折率を変化する。電場は線形の
電気光学効果により屈折率を変調する。イオン化した電
荷の移動が、拡散,電場励起の移動もしくは光起電力効
果により発生する。フォトリフラクティブ結晶中に生じ
た屈折率の回折格子は、適当な波長範囲の光を用いるこ
とにより消去できる。これらは、例えば、ピー グンタ
ー ジェイ ピー ヒイナード「フォトレフラクティブ
マテリアルス アンド ゼア アプリケーションズ」
(P.Gunter J.P.Huignard「Photorefractive Materials
and Their Applications I&II」、Springer−Verl
ag社(1988年,1989年))に詳述されている。フ
ォトリフラクティブ効果は非常に多種の電気光学結晶に
おいて観測されている。最も周知のものとしてチタン酸
バリウム(BaTiO3 ),ニオブ酸リチウム(LiN
bO3),タンタル酸リチウム(LiTaO3),ニオブ
酸カリウム(KNbO3),SrxBa1-xNb26(S
BN),Bi12SiO20(BSO),Bi12GeO20(BG
O),Bi12TaO20(BTO),KTa1-xNbx3(K
TN),GaAs,InP等がある。これらの無機EO
結晶はホログラフィ技術に好適なものと見なされてき
た。これらに関しては、例えば、エイ ロイ ケイ シ
ン“アテチュード フォンド ジー ロッチ”(A.Roy
K.Singh、Atti.Fond.G. Rochi 誌,48巻,327頁
(1993年))に記載されている。異なった応用に対し
てフォトリフラクティブ材料を選定する因子は、フォト
リフラクティブ感度,動作範囲(最大屈折率変化),フ
ォトリフラクティブ記録及び消去時間,分光感度,空間
周波数,外部電場依存性及び解像度がある。
Photorefractive materials are non-linear optical materials that combine the three properties of electro-optical properties, photoconductivity, and photo-ionizable lattice defects, and photo-ionizable defects in their lattice. There is. Empirically, the required characteristics of photorefractive materials are:
There are two points: (1) lack of central symmetry that causes the Pockels linear EO effect, and (2) existence of a deep level density sufficient to generate space charge. This causes a current to be generated by the laser light, and the presence of an electric field changes the refractive index. The electric field modulates the refractive index by the linear electro-optic effect. The movement of ionized charges occurs due to diffusion, movement of electric field excitation, or photovoltaic effect. The diffraction grating having a refractive index generated in the photorefractive crystal can be erased by using light in an appropriate wavelength range. These are, for example, P. Gunther Jay P. Heinard, "Photorefractive Materials and There Applications".
(P.Gunter JP Huignard "Photorefractive Materials
and Their Applications I & II ", Springer-Verl
Ag Company (1988, 1989)). Photorefractive effects have been observed in a wide variety of electro-optic crystals. The most well-known ones are barium titanate (BaTiO 3 ), lithium niobate (LiN
bO 3 ), lithium tantalate (LiTaO 3 ), potassium niobate (KNbO 3 ), Sr x Ba 1-x Nb 2 O 6 (S
BN), Bi 12 SiO 20 (BSO), Bi 12 GeO 20 (BG
O), Bi 12 TaO 20 (BTO), KTa 1-x Nb x O 3 (K
TN), GaAs, InP and the like. These inorganic EO
Crystals have been considered suitable for holographic techniques. Regarding these, for example, Aloy Roy Kashin "Attitude Fondo Gee Roche" (A.Roy
K. Singh, Atti. Fond. G. Rochi, 48, 327 (1993)). The factors that select photorefractive materials for different applications are photorefractive sensitivity, operating range (maximum refractive index change), photorefractive recording and erasing time, spectral sensitivity, spatial frequency, external electric field dependence and resolution.

【0003】フォトリフラクティブ材料は、3種類に区
分できる。(1)BaTiO3 ,LiNbO3,LiT
aO3,KNbO3 ,SBN,KTN等の酸素8面体強
誘電体。記録したホログラムの保存時間もしくは回折格
子の消滅時間は、KNbO3のミリ秒から、KTNの数
時間及びLiNbO3 の定着過程を経た場合の数年の範
囲にある。一般にSBNは青−緑の波長範囲に用いられ
る。これらの材料の応答時間は向上でき、ホログラフィ
ックな記録媒体として適用可能である。これらの種類の
材料は、光双安定,位相共役,共振器及び光コンピュー
ティングなどの他の用途にも使用される。(2)BS
O,BGO及びBTO等の4面体酸化物構造を有するシ
レナイト材料。BTOのバンド幅はBSO及びBGOよ
り狭く、赤外波長への応用の観点で注目される。シレナ
イトはゲインは小さいが、フォトリフラクティブ応答の
速度がBaTiO3,LiNbO3よりかなり速い。
(3)GaAs,GaSb,InAs,InSb等のII
I−V 族,CuCl,CdS,CdSe,CdTe,Z
nS,ZnSe,ZnTe,HgSe,HgS等のII−
VI族半導体結晶のフォトリフラクティブ材料。GaAs
結晶を用いて、ピコ秒のフォトリフラクティブ応答が得
られた例がある。高速の応答を利用して、光情報処理,
光コンピューティング及び光スイッチに使用できる。半
導体結晶のフォトリフラクティブ効果は0.9〜1.6μ
の波長で生じる。
Photorefractive materials can be classified into three types. (1) BaTiO 3 , LiNbO 3 , LiT
Oxygen octahedral ferroelectrics such as aO 3 , KNbO 3 , SBN, and KTN. The storage time of the recorded hologram or the disappearance time of the diffraction grating is in the range of milliseconds for KNbO 3 to several years for several hours of KTN and the fixing process of LiNbO 3 . Generally, SBN is used in the blue-green wavelength range. The response time of these materials can be improved and it can be applied as a holographic recording medium. These types of materials are also used in other applications such as optical bistability, phase conjugation, resonators and optical computing. (2) BS
A silenite material having a tetrahedral oxide structure such as O, BGO and BTO. The bandwidth of BTO is narrower than that of BSO and BGO, and is noted from the viewpoint of application to infrared wavelengths. Although the gain of sillenite is small, the speed of photorefractive response is considerably faster than that of BaTiO 3 or LiNbO 3 .
(3) II of GaAs, GaSb, InAs, InSb, etc.
IV group, CuCl, CdS, CdSe, CdTe, Z
II-of nS, ZnSe, ZnTe, HgSe, HgS, etc.
Photorefractive material for Group VI semiconductor crystals. GaAs
There is an example where a picosecond photorefractive response was obtained using a crystal. Utilizing high-speed response, optical information processing,
It can be used for optical computing and optical switch. Photorefractive effect of semiconductor crystal is 0.9-1.6μ
Occurs at the wavelength of.

【0004】最近、電気光学性及び光導電性の有機材料
に増感剤を添加したフォトリフラクティブ材料がホログ
ラフィの技術分野で非常に注目されている。フォトリフ
ラクティブ材料は、非常に多様の光導電材料あるいは電
気光学材料が合成できる点で可能性が高く、それらの組
成物は高いフォトリフラクティブ特性を示す。最初の有
機フォトリフラクティブ材料はテトラシアノキノジメタ
ン(TCNQ)と有機非線形光学材料COANPとの組
合せにより得られた。これは、ケイ シュッタジェイ
フリガー グンター“ソリッド ステート コミュニケ
ーション”(K.Sutter J.Hulliger Gunter、“Solid St
ate Communication誌,第74巻,867頁(1990年))
に記載がある。これ以来、新規なフォトリフラクティブ
高分子はフォトニクス分野への応用において重要な要素
になりつつある。3−フルオロ−4−N,N′−ジエチ
ルアミノ−β−ニトロスチレンをドープし、2,4,7
−トリニトロフルオレノン(TNF)で増感したPVK
からなる有機組成物は大きなフォトリフラクティブ特性
を示した。これは、エム シー ドンカース“オプティ
クス レター”(M.C.Donckers 他著,Optics Letter
誌,第18巻,1044頁(1993年)及びW.E.Moerner
他著,Organic Thin Films for PhotonicApplications
(1993年)Technical Digest Series 第17巻,AC
S/OSAJoint Meeting(カナダ,トロント,8月6
−8日開催))220頁に記載がある。TNFやC60
どの非線形光学色素団あるいは増感添加物をドープした
ポリ−(4−n−ブトキシフェニル)エチルシランは、
39ミリ秒での回折格子形成が認められた。これは、エ
ス エム サイレンス エトアル“ジャーナル オブオ
プティカル ソサイアティ オブ アメリカ”(S.M.Si
lence et al、Journalof Optical Society of America
誌,B巻(1993年))に記載がある。同様なPVK
への非線形光学色素あるいは増感剤の添加は新規なフォ
トリフラクティブ高分子を形成する。エス ドカルム
エトアル“フィジカル レビュー”(S.Ducharme et a
l、Physical Review誌,第66巻,1846頁(199
0年)及びS.M.Silence著,Optics Letter誌,第17
巻,1107頁(1992年))を参照のこと。非線形光
学色素のドーピング及び添加物で増感したフォトリフラ
クティブ高分子は将来のホログラフィック応用には極め
て期待が持てると思われる。ビーキッペレン エトアル
“エレクトロニク レター”(B.Kippelen et al、
Electronic Letter誌,第29巻,1873頁(1993
年)、B.Kippelen他著、Organic Thin Films for Photo
nic Applications(1993年)Technical Digest Ser
ies 第17巻,ACS/OSA Joint Meeting(カナ
ダ,トロント,8月6−8日開催))228頁等に関連す
る記載がある。
Recently, a photorefractive material obtained by adding a sensitizer to an electro-optical and photoconductive organic material has received a great deal of attention in the technical field of holography. Photorefractive materials are highly likely to be capable of synthesizing a wide variety of photoconductive or electro-optical materials, and their compositions exhibit high photorefractive properties. The first organic photorefractive material was obtained by the combination of tetracyanoquinodimethane (TCNQ) and the organic nonlinear optical material COANP. This is Kei Shutta Jay
Freger Gunter "Solid State Communication" (K.Sutter J.Hulliger Gunter, "Solid St.
ate Communication Magazine, Vol. 74, p. 867 (1990))
There is a description in. Since then, novel photorefractive polymers have become an important element for application to the field of photonics. Doped with 3-fluoro-4-N, N'-diethylamino-β-nitrostyrene, 2,4,7
-PVK sensitized with trinitrofluorenone (TNF)
The organic composition consisting of showed a large photorefractive property. This is MCDonckers et al., Optics Letter.
Magazine, Vol. 18, p. 1044 (1993) and WE Moerner.
Other work, Organic Thin Films for Photonic Applications
(1993) Technical Digest Series Volume 17, AC
S / OSA Joint Meeting (Toronto, Canada, August 6)
-8 days)) See page 220. Poly- (4-n-butoxyphenyl) ethylsilane doped with a non-linear optical dye group such as TNF or C 60 or a sensitizing additive is
Diffraction grating formation was observed in 39 ms. This is the Sm Silence Etoal “Journal of Optical Society of America” (SMSi
lence et al, Journal of Optical Society of America
Journal, Volume B (1993)). Similar PVK
Addition of non-linear optical dyes or sensitizers to them forms new photorefractive polymers. Es de Calm
Etoaru “Physical Review” (S.Ducharme et a
l, Physical Review, 66, 1846 (199)
0) and SMSilence, Optics Letter, 17th
Vol., P. 1107 (1992)). Photorefractive polymers sensitized with doping and additives of non-linear optical dyes are very promising for future holographic applications. B.Kippelen et al, "Electronic Letter"
Electronic Letter, Vol. 29, p. 1873 (1993
, B.Kippelen et al., Organic Thin Films for Photo
nic Applications (1993) Technical Digest Ser
ies, Volume 17, ACS / OSA Joint Meeting (Toronto, Canada, held August 6-8) 228, etc.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】各種の無機結晶のフォ
トリフラクティブ材料が開発されているが、これらはい
ずれも成型性,加工性に乏しく集積化出来ない。さらに
無機フォトリフラクティブ材料は均質な単結晶や薄膜の
形成は一般に困難である。これらのフォトリフラクティ
ブ材料から新規な素子を製造するには、多層構造などの
構造的な要請を全部は満足することが出来ないという問
題がある。本発明の目的は、新規なフォトリフラクティ
ブ高分子から形成される新規フォトリフラクティブ高分
子を提供することにある。
Various kinds of inorganic crystal photorefractive materials have been developed, but none of them have sufficient moldability and processability and cannot be integrated. Furthermore, it is generally difficult to form a homogeneous single crystal or thin film with an inorganic photorefractive material. In order to manufacture a new device from these photorefractive materials, there is a problem that all structural requirements such as a multilayer structure cannot be satisfied. An object of the present invention is to provide a novel photorefractive polymer formed from the novel photorefractive polymer.

【0006】フォトリフラクティブ効果に使用できるフ
ォトリフラクティブ高分子は新規な発明である。この仮
説を実現するため、下記に合成法を例示する各種の高分
子を合成した。
Photorefractive polymers that can be used for the photorefractive effect are a novel invention. In order to realize this hypothesis, various polymers whose synthesis methods are exemplified below were synthesized.

【0007】有機高分子は材料科学と関連した化学及び
特異な物理の両面から、重要で興味ある材料である。
Organic polymers are important and interesting materials in terms of chemistry and peculiar physics related to material science.

【0008】本発明の目的は、大きな電気光学効果と光
導電性を示すフォトリフラクティブ媒質となる、単一で
電気光学性と光導電性分子を有する高分子を開発するこ
とにある。
An object of the present invention is to develop a single polymer having an electro-optical property and a photo-conductive molecule, which is a photorefractive medium exhibiting a large electro-optical effect and photo-conductivity.

【0009】本発明の高分子は機械的あるいは熱的特性
に優れ、優れた耐環境性,化学的安定性を示す。さらに
これらは良好な接着性を持ち、超薄膜に加工できる。本
発明の高分子は加工,成型あるいは化学的改質が容易か
つ長期間安定である点で、従来の無機あるいは有機組成
物と物理的特性を比較して遥かに優れている。本発明の
他の目的は、良好な加工性,機械的強度及び熱的,耐環
境安定性を有するフォトニクス及びエレクトロニクス用
の高分子材料を提供することにある。
The polymer of the present invention is excellent in mechanical or thermal properties and exhibits excellent environmental resistance and chemical stability. Furthermore, they have good adhesion and can be processed into ultra thin films. The polymer of the present invention is far superior to conventional inorganic or organic compositions in physical properties in that it can be easily processed, molded or chemically modified and is stable for a long period of time. Another object of the present invention is to provide a polymer material for photonics and electronics, which has good processability, mechanical strength, and thermal and environmental stability.

【0010】さらに、本発明の目的は、耐久性,強度及
び安定性のある、非線形光学材料として適用可能なフォ
トリフラクティブ高分子を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a photorefractive polymer having durability, strength and stability, which is applicable as a nonlinear optical material.

【0011】本発明の他の目的は、高い電気光学定数及
び光導電性を示すフォトリフラクティブ媒質を提供する
ことにある。
Another object of the present invention is to provide a photorefractive medium exhibiting a high electro-optic constant and photoconductivity.

【0012】本発明の他の目的は、合成が容易で、加工
性,高い機械的強度と安定性を有するフォトリフラクテ
ィブ材料を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a photorefractive material which is easy to synthesize, has processability, high mechanical strength and stability.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明は従来の問題点を
下記する手段で解決する。すなわち、本発明は光導電性
を示す基を有することを特徴とするフォトリフラクティ
ブ高分子である。本発明は又光導電性を示す基を有する
高分子を用いたフォトリフラクティブ装置である。
The present invention solves the conventional problems by the means described below. That is, the present invention is a photorefractive polymer having a group exhibiting photoconductivity. The present invention is also a photorefractive device using a polymer having a photoconductive group.

【0014】本発明は下記する化1で示される高分子で
ある。
The present invention is a polymer represented by the following chemical formula 1.

【0015】[0015]

【化1】 [Chemical 1]

【0016】但し、式中、AはC,Siであり、Bは
O,アルキル,フルオロアルキル,CH2O,CF2O,
CF2 ,アリル,フルオロアリル等であり、Dは水素,
ハロゲン,CF3 ,シアノ等であり、Rは水素,ハロゲ
ン、あるいは置換されていてもよいベンゼン,ピリジ
ン,スチルベン,アゾベンゼン,トラン,トリアジン,
ベンジリデン,アゾメチン,アジン,アズレン,フルオ
レン,ヘテロ環,ナフタレン,フェナントレン,アント
ラセン,クリセン,ビフェニル,フェニルヒトラゾン,
チアゾールなどの非線形光学特性を有する基であり、X
は水素,ハロゲンあるいは置換されていてもよいカルバ
ゾール,フタロシアニン,ポルフィリン,ポルフィラジ
ン,メタロセン,スクワレン,アゾ色素,ナフタレン,
ナフタセン,ピレン,ペリレン色素,スチリルアントラ
セン,アンスリルエチレン,アントラセノフェン,アン
トラセノクラウンエーテル,トリフェニルメタン色素,
ローダミン,ペリノン,ピセン,アセン,チアピリリウ
ム塩,シアニン色素,フェニルヒドラゾン,ジチオン,
フラーレン,ジハロアンスレンジオン,エピンドリジオ
ン,トリハロピランスレンジオン,キナクリドン,テト
ラハロチオインジゴ,アズレニウム色素,アントラセン
色素,アントラキノン,クロロジエンブルー,ベンゾチ
アゾール,オキサゾール,ヒドラゾン,キノリン,スチ
ルベン,アゾベンゼン、ベンジリデン,アクリジン,フ
ルオレン,インドール,ヘテロ環,チノリンなどの光導
電性を有する基である。更に、トリニトロフルオレノン
(TNF),ジアゾナフタキノン,アジド,アリルケト
ン,アルカノン,アリルアルデヒドなどの増感剤を使用
してもよい。
However, in the formula, A is C and Si, B is O, alkyl, fluoroalkyl, CH 2 O, CF 2 O,
CF 2 , allyl, fluoroallyl, etc., D is hydrogen,
Halogen, CF 3 , cyano, etc., R is hydrogen, halogen, or optionally substituted benzene, pyridine, stilbene, azobenzene, tolan, triazine,
Benzylidene, azomethine, azine, azulene, fluorene, heterocycle, naphthalene, phenanthrene, anthracene, chrysene, biphenyl, phenylhithrazone,
A group having a non-linear optical characteristic such as thiazole, X
Is hydrogen, halogen or optionally substituted carbazole, phthalocyanine, porphyrin, porphyrazine, metallocene, squalene, azo dye, naphthalene,
Naphthacene, pyrene, perylene dye, styrylanthracene, anthrylethylene, anthracenophene, anthracenocrown ether, triphenylmethane dye,
Rhodamine, perinone, picene, acene, thiapyrylium salt, cyanine dye, phenylhydrazone, dithion,
Fullerene, dihaloanthrendione, epindridione, trihalopyranslenion, quinacridone, tetrahalothioindigo, azurenium dye, anthracene dye, anthraquinone, chlorodiene blue, benzothiazole, oxazole, hydrazone, quinoline, stilbene, azobenzene, benzylidene, It is a group having photoconductivity such as acridine, fluorene, indole, heterocycle, and thynoline. In addition, trinitrofluorenone
Sensitizers such as (TNF), diazonaphthaquinone, azide, allyl ketone, alkanone and allyl aldehyde may be used.

【0017】本発明は、化1においてR及びXが共に上
記のような光導電性の有機化合物である高分子である。
更に増感剤を添加してもよい。
The present invention is a polymer in which both R and X in the chemical formula 1 are photoconductive organic compounds as described above.
Further, a sensitizer may be added.

【0018】本発明は、化2で示される高分子である。The present invention is a polymer represented by Chemical formula 2.

【0019】[0019]

【化2】 [Chemical 2]

【0020】但し、式中、Aは、NH,N(CnH2n+
1),CONH,CON(CnH2n+1),COO(Cn
H2n+1)等のスペーサであり、Bは、水素,フッ
素,アリル等であり、Rは、上記のような非線形光学特
性あるいは光導電性の基であり、Xは上記のような光導
電性の基である。
However, in the formula, A is NH, N (CnH2n +
1), CONH, CON (CnH2n + 1), COO (Cn
H2n + 1) or the like, B is hydrogen, fluorine, allyl or the like, R is a non-linear optical characteristic or photoconductive group as described above, and X is a photoconductive group as described above. Is.

【0021】本発明は、化3で示される高分子である。The present invention is a polymer represented by Chemical formula 3.

【0022】[0022]

【化3】 [Chemical 3]

【0023】但し、式中、Bは、水素あるいはフッ素で
あり、Rは上記のような非線形光学特性あるいは光導電
性の基であり、Xは上記のような光導電性の基である。
However, in the formula, B is hydrogen or fluorine, R is a non-linear optical property or photoconductive group as described above, and X is a photoconductive group as described above.

【0024】本発明は、化4で示される高分子である。The present invention is a polymer represented by Chemical formula 4.

【0025】[0025]

【化4】 [Chemical 4]

【0026】但し、式中、AはO,S,アルキル,フル
オロアルキル,CH2O,CF2O,アリル,フルオロア
リル等であり、Rは上記のような非線形光学特性あるい
は光導電性の基であり、Xは上記のような光導電性の基
である。
However, in the formula, A is O, S, alkyl, fluoroalkyl, CH 2 O, CF 2 O, allyl, fluoroallyl, etc., and R is a group having the above-mentioned nonlinear optical characteristics or photoconductive property. And X is a photoconductive group as described above.

【0027】本発明は、化5で示される高分子である。The present invention is a polymer represented by Chemical formula 5.

【0028】[0028]

【化5】 [Chemical 5]

【0029】但し、式中、Aは水素,アルキル,フルオ
ロアルキル,アリル,フルオロアリル等であり、Rは上
記のような非線形光学特性あるいは光導電性の基であ
り、Xは上記のような光導電性の基である。
However, in the formula, A is hydrogen, alkyl, fluoroalkyl, allyl, fluoroallyl, etc., R is a non-linear optical characteristic or photoconductive group as described above, and X is light as described above. It is a conductive group.

【0030】本発明は、化6で示される高分子である。The present invention is a polymer represented by Chemical formula 6.

【0031】[0031]

【化6】 [Chemical 6]

【0032】但し、式中、Aは水素,アルキル,フルオ
ロアルキル,アリル,フルオロアリル等であり、Rは上
記のような非線形光学特性あるいは光導電性の基であ
り、Xは上記のような光導電性の基である。
However, in the formula, A is hydrogen, alkyl, fluoroalkyl, allyl, fluoroallyl, etc., R is a non-linear optical characteristic or photoconductive group as described above, and X is light as described above. It is a conductive group.

【0033】本発明は、化7で示される高分子である。The present invention is a polymer represented by Chemical formula 7.

【0034】[0034]

【化7】 [Chemical 7]

【0035】但し、式中、Aは水素,F,CH3等のア
ルキル,CF3等のフルオロアルキル,アリル,フルオ
ロアリル等であり、BはO又はSであり、Rは上記のよ
うな非線形光学特性あるいは光導電性の基であり、Xは
上記のような光導電性の基である。
However, in the formula, A is hydrogen, alkyl such as F, CH 3 and the like, fluoroalkyl such as CF 3 and the like, allyl, fluoroallyl and the like, B is O or S, and R is the above-mentioned nonlinearity. It is an optical characteristic or photoconductive group, and X is a photoconductive group as described above.

【0036】本発明は、化8で示される高分子である。The present invention is a polymer represented by Chemical Formula 8.

【0037】[0037]

【化8】 [Chemical 8]

【0038】但し、式中、Rは上記のような非線形光学
特性あるいは光導電性の基であり、Xは上記のような光
導電性の基である。
However, in the formula, R is a non-linear optical characteristic or photoconductive group as described above, and X is a photoconductive group as described above.

【0039】本発明は、化9で示される高分子である。The present invention is a polymer represented by Chemical formula 9.

【0040】[0040]

【化9】 [Chemical 9]

【0041】但し、式中、Rは上記のような非線形光学
特性あるいは光導電性の基であり、Xは上記のような光
導電性の基である。
However, in the formula, R is a non-linear optical characteristic or photoconductive group as described above, and X is a photoconductive group as described above.

【0042】本発明は、化10で示される高分子であ
る。
The present invention is a polymer represented by Chemical formula 10.

【0043】[0043]

【化10】 [Chemical 10]

【0044】但し、式中、Rは上記のような非線形光学
特性あるいは光導電性の基であり、Xは上記のような光
導電性の基である。
However, in the formula, R is a non-linear optical characteristic or photoconductive group as described above, and X is a photoconductive group as described above.

【0045】本発明は、化11で示される高分子であ
る。
The present invention is a polymer represented by Chemical formula 11.

【0046】[0046]

【化11】 [Chemical 11]

【0047】但し、式中、Rは上記のような非線形光学
特性あるいは光導電性の基であり、Xは上記のような光
導電性の基である。
In the formula, R is a non-linear optical characteristic or photoconductive group as described above, and X is a photoconductive group as described above.

【0048】本発明は、化12で示される高分子であ
る。
The present invention is a polymer represented by Chemical formula 12.

【0049】[0049]

【化12】 [Chemical 12]

【0050】但し、式中、Rは上記のような非線形光学
特性あるいは光導電性の基であり、Xは上記のような光
導電性の基である。
However, in the formula, R is a non-linear optical characteristic or photoconductive group as described above, and X is a photoconductive group as described above.

【0051】本発明は、化13で示される高分子であ
る。
The present invention is a polymer represented by Chemical formula 13.

【0052】[0052]

【化13】 [Chemical 13]

【0053】但し、式中、Rは上記のような非線形光学
特性あるいは光導電性の基であり、Xは上記のような光
導電性の基である。
In the formula, R is a non-linear optical characteristic or photoconductive group as described above, and X is a photoconductive group as described above.

【0054】本発明は、化14で示される高分子であ
る。
The present invention is a polymer represented by Chemical formula 14.

【0055】[0055]

【化14】 [Chemical 14]

【0056】但し、式中、Rは上記のような非線形光学
特性あるいは光導電性の基であり、Xは上記のような光
導電性の基である。
However, in the formula, R is a non-linear optical characteristic or photoconductive group as described above, and X is a photoconductive group as described above.

【0057】本発明は、化15で示される高分子であ
る。
The present invention is a polymer represented by Chemical formula 15.

【0058】[0058]

【化15】 [Chemical 15]

【0059】但し、式中、Rは上記のような非線形光学
特性あるいは光導電性の基であり、Xは上記のような光
導電性の基である。
However, in the formula, R is a nonlinear optical characteristic or photoconductive group as described above, and X is a photoconductive group as described above.

【0060】本発明は、化16で示される高分子であ
る。
The present invention is a polymer represented by Chemical formula 16.

【0061】[0061]

【化16】 [Chemical 16]

【0062】但し、式中、Rは上記のような非線形光学
特性あるいは光導電性の基であり、Xは上記のような光
導電性の基である。
However, in the formula, R is a nonlinear optical characteristic or photoconductive group as described above, and X is a photoconductive group as described above.

【0063】本発明は、化17で示される高分子であ
る。
The present invention is a polymer represented by Chemical formula 17.

【0064】[0064]

【化17】 [Chemical 17]

【0065】但し、式中、Rは上記のような非線形光学
特性あるいは光導電性の基であり、Xは上記のような光
導電性の基である。
However, in the formula, R is a non-linear optical characteristic or photoconductive group as described above, and X is a photoconductive group as described above.

【0066】本発明は、化18で示される高分子であ
る。
The present invention is a polymer represented by Chemical formula 18.

【0067】[0067]

【化18】 [Chemical 18]

【0068】但し、式中、Mcはメタロセンであり、R
は上記のような非線形光学特性あるいは光導電性の基で
ある。
However, in the formula, Mc is a metallocene and R
Is a group having the above-mentioned nonlinear optical characteristics or photoconductivity.

【0069】本発明は、化9で示される高分子である。The present invention is a polymer represented by Chemical formula 9.

【0070】[0070]

【化19】 [Chemical 19]

【0071】但し、式中、PcはSi,Ge,Al等を
含有するフタロシアニンであり、Rは上記のような非線
形光学特性あるいは光導電性の基である。
However, in the formula, Pc is a phthalocyanine containing Si, Ge, Al, etc., and R is a group having the above-mentioned nonlinear optical characteristics or photoconductivity.

【0072】本発明は、化20で示される高分子であ
る。
The present invention is a polymer represented by Chemical Formula 20.

【0073】[0073]

【化20】 [Chemical 20]

【0074】但し、式中、Mは有機金属基、メタルフリ
ーフタロシアニン,金属フタロシアニン,ポルフィリ
ン,アヌレン,メタロセン等であり、Rは上記のような
非線形光学特性あるいは光導電性の基である。
However, in the formula, M is an organic metal group, metal-free phthalocyanine, metal phthalocyanine, porphyrin, annulene, metallocene, etc., and R is a group having the above-mentioned nonlinear optical characteristics or photoconductivity.

【0075】本発明は、化21で示される高分子であ
る。
The present invention is a polymer represented by Chemical formula 21.

【0076】[0076]

【化21】 [Chemical 21]

【0077】但し、式中、Rは上記のような非線形光学
特性あるいは光導電性の基であり、Xは上記のような光
導電性の基である。
However, in the formula, R is a non-linear optical characteristic or photoconductive group as described above, and X is a photoconductive group as described above.

【0078】本発明は、上記のような非線形光学特性の
化合物及び光導電性の化合物のうちいずれか一方を主鎖
に他方を側鎖に持つ高分子である。
The present invention is a polymer having one of the compounds having the above-mentioned nonlinear optical characteristics and the photoconductive compound as a main chain and the other as a side chain.

【0079】本発明は、カルボン酸,コレステリル,フ
ェニルエステル,シッフベース,ベンジリデン,アゾキ
シベンゼン,ビフェニル,カイラルアコール,安息香
酸,ベンゾアルデヒド,フェノール,アニリン,アセト
フェノン,シクロヘキサンビフェニル,ベンゾニトリ
ル,シクロヘキサンカルボン酸,アルキルハロベンゼ
ン,カルコン等の化合物よりなる強誘電性液晶及び上記
のような光導電性化合物からなる高分子である。
The present invention comprises carboxylic acid, cholesteryl, phenyl ester, Schiff base, benzylidene, azoxybenzene, biphenyl, chiral alkole, benzoic acid, benzaldehyde, phenol, aniline, acetophenone, cyclohexanebiphenyl, benzonitrile, cyclohexanecarboxylic acid, Ferroelectric liquid crystals made of compounds such as alkylhalobenzene and chalcone, and polymers made of the above photoconductive compounds.

【0080】本発明は、上記のような非線形光学特性又
は光導電性化合物とセルロース,チトサン,アミロー
ズ,レバン,モナン,キシラン,チキン,ペプチド,イ
ヌリン等よりなる生体高分子を用いることを特徴とする
高分子である。
The present invention is characterized by using the above-mentioned non-linear optical property or a biopolymer comprising a photoconductive compound and cellulose, chitosan, amylose, levan, monan, xylan, chicken, peptide, inulin and the like. It is a polymer.

【0081】本発明は、上記のような非線形光学特性化
合物及びポリビニルカルバゾール,ポリ−4−フェニル
−2,6−(p−フェノキシ)キノリンからなる高分子
である。
The present invention is a polymer comprising the above non-linear optical property compound and polyvinylcarbazole and poly-4-phenyl-2,6- (p-phenoxy) quinoline.

【0082】本発明は、上記例示した非線形光学特性化
合物及びスピロピラン,ビオロゲン,ヘミチオインジ
ゴ,ポルフィリン,フタロシアニン,ジアリレン等のフ
ォトクロミック化合物よりなる高分子である。
The present invention is a polymer comprising the above-exemplified nonlinear optical characteristic compound and a photochromic compound such as spiropyran, viologen, hemithioindigo, porphyrin, phthalocyanine, and diarylene.

【0083】本発明は、有機フォトレジスト,有機発光
材料、あるいは有機超伝導材料及び上記の非線形光学特
性化合物よりなる高分子である。
The present invention is a polymer comprising an organic photoresist, an organic light emitting material, or an organic superconducting material and the above-mentioned nonlinear optical characteristic compound.

【0084】本発明の高分子は、膜厚0.1 ないしは5
00μの連続的な固相フィルムとして、従来周知のスピ
ンコート,モールド等の方法により形成できる。本発明
の高分子の分子組成構造は分散媒質の選定及び種類によ
り制御できる。本発明の高分子は良好な耐熱性と化学的
安定性を示す。
The polymer of the present invention has a film thickness of 0.1 to 5
A continuous solid film of 00 μ can be formed by a conventionally known method such as spin coating or molding. The molecular composition structure of the polymer of the present invention can be controlled by the selection and type of dispersion medium. The polymer of the present invention exhibits good heat resistance and chemical stability.

【0085】本発明をさらに具体化して大きなフォトリ
フラクティブ特性を示す有機電気光学材料の高分子を提
供できる。応答時間はミリ秒からサブピコ秒の範囲で高
分子の種類に応じて選定できる。
The present invention can be further embodied to provide a polymer of an organic electro-optical material exhibiting a large photorefractive characteristic. The response time can be selected in the range of millisecond to subpicosecond according to the type of polymer.

【0086】[0086]

【実施例】以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説
明する。
The present invention will be described in more detail with reference to examples.

【0087】(実施例1)0.1g のクロロメチル置換
ポリスチレンをDMSO(15ml)に溶解した。この
溶液に、テトラアミノ銅フタロシアニン0.02gのD
MSO(15ml)溶液を加え、100−120℃に3
6時間反応させた。生成物はメタノールに注いで洗浄
し、濾過した。暗青色の本発明の高分子が得られた。収
率50%。
(Example 1) 0.1 g of chloromethyl-substituted polystyrene was dissolved in DMSO (15 ml). To this solution, 0.02 g of tetraaminocopper phthalocyanine D
MSO (15 ml) solution was added and the mixture was heated to 100-120 ° C for 3
The reaction was carried out for 6 hours. The product was poured into methanol, washed, and filtered. A dark blue polymer of the invention was obtained. Yield 50%.

【0088】(実施例2)3.63g の2,2−ビス
(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパンを2.
83g の4−フルオロニトロベンゼンとを、DMF中
で炭酸カリウムを触媒として、80℃,6時間反応させ
た。生成物と等モルのジクロロシリコンフタロシアニン
の8ヘキシル置換体をDMF中で炭酸カリウムを触媒と
して100℃で24時間反応した。生成物を真空乾燥し
本発明の高分子を得た。収率55%。
(Example 2) 3.63 g of 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane was added to 2.
83 g of 4-fluoronitrobenzene was reacted in DMF with potassium carbonate as a catalyst at 80 ° C. for 6 hours. An 8-hexyl substituted product of dichlorosilicon phthalocyanine in an equimolar amount to the product was reacted in DMF with potassium carbonate as a catalyst at 100 ° C. for 24 hours. The product was vacuum dried to obtain the polymer of the present invention. Yield 55%.

【0089】[0089]

【発明の効果】本発明によれば、従来に優る高性能のフ
ォトリフラクティブ高分子が提供され、各種の光学用途
に好適に使用できる。
According to the present invention, a high-performance photorefractive polymer superior to conventional ones is provided and can be suitably used for various optical applications.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】構造中に光導電性を示す基を有することを
特徴とするフォトリフラクティブ高分子。
1. A photorefractive polymer having a group having photoconductivity in its structure.
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