JPH07316399A - Thermosetting resin composition and electronic part - Google Patents

Thermosetting resin composition and electronic part

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JPH07316399A
JPH07316399A JP11298294A JP11298294A JPH07316399A JP H07316399 A JPH07316399 A JP H07316399A JP 11298294 A JP11298294 A JP 11298294A JP 11298294 A JP11298294 A JP 11298294A JP H07316399 A JPH07316399 A JP H07316399A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin composition
acid
thermosetting resin
epoxy
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Pending
Application number
JP11298294A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Shiomi
浩 塩見
Masatsugu Akiba
真継 秋庭
Noriaki Saito
憲明 斉藤
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the composition, containing an epoxy resin, a curing agent for the epoxy resin and a specific additive, excellent in processability, heat and moisture resistances, adhesion and suitable as a sealing material for electronic parts. CONSTITUTION:This composition contains (A) an epoxy resin having >=2 epoxy groups in the molecule (e.g. a novolak type epoxy resin), (B) a curing agent for the epoxy resin (preferably a novolak resin of phenols) and (C) an additive capable of chelating with copper and allay 42 (an allay of Fe and Ni containing 42% Ni) (preferably anthranilic acid, aminophenol, gallic acid, a gallic acid ester, malonic acid or malic acid). Furthermore, (D) a filler is preferably further contained therein.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、特に、電子部品の封止
用材料として有用な熱硬化性樹脂組成物およびその組成
物によって成形封止されている電子部品に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thermosetting resin composition which is particularly useful as a sealing material for electronic parts and an electronic part molded and sealed with the composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、LSI、IC、トランジスタ等、
半導体の封止には、経済的に有用なエポキシ樹脂による
トランスファー成形が行われている。特に、最近では、
LSIの表面実装が行われており、ハンダ浴中に直接浸
漬される場合が増えてきている。その際、封止材は、20
0 ℃以上の高温にさらされるため、封止材中に吸湿して
いた水分が膨張し、クラックが入ったり、ダイパッドと
の界面に剥離を生ずる問題が発生する。このため、樹脂
封止材には、耐熱性や密着性が要求され、特に高接着性
が求められている。現状では、エポキシ樹脂としてo −
クレゾールノボラックのグリシジルエーテル、また硬化
剤としてフェノールノボラックを用いた封止材が主流で
あるが、上記の問題により、実用上は防湿梱包をして使
用されている。
2. Description of the Related Art Recently, LSIs, ICs, transistors, etc.
Transfer molding with an economically useful epoxy resin is performed for sealing a semiconductor. Especially recently
The surface mounting of LSIs is performed, and the number of cases in which they are directly immersed in a solder bath is increasing. At that time, the sealing material is 20
Since it is exposed to a high temperature of 0 ° C. or higher, the moisture absorbed in the encapsulant expands, causing problems such as cracking and peeling at the interface with the die pad. Therefore, the resin sealing material is required to have heat resistance and adhesiveness, and particularly high adhesiveness. Currently, o-
The mainstream is a sealing material using glycidyl ether of cresol novolac and phenol novolac as a curing agent, but due to the above problems, it is practically used in a moisture-proof package.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】o −クレゾールノボラ
ックのグリシジルエーテルおよびフェノールノボラック
を主とする封止材は、耐熱性と吸湿性の点では一応のバ
ランスがとれているが、接着性および密着性に関しては
不充分である為、半田クラック性において問題がある。
本発明の目的は、加工性、耐熱性および耐湿性に優れ、
特に従来知られている樹脂組成物よりも密着性および接
着性に優れ、封止材料用組成物として有用な熱硬化性樹
脂組成物を提供することである。
The encapsulant mainly composed of glycidyl ether of o-cresol novolac and phenol novolac is well balanced in terms of heat resistance and hygroscopicity, but adhesiveness and adhesion However, there is a problem in solder cracking property.
The object of the present invention is excellent in workability, heat resistance and moisture resistance,
It is an object of the present invention to provide a thermosetting resin composition which is particularly excellent in adhesion and adhesiveness as compared with conventionally known resin compositions and which is useful as a composition for a sealing material.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】このような事情に鑑み本
発明者らは、より密着性および接着性に優れ、かつ加工
性、耐熱性、耐湿性にも優れ、バランスのとれたエポキ
シ樹脂組成物について鋭意検討した結果、エポキシ樹脂
およびエポキシ樹脂硬化剤からなる樹脂組成物に、リー
ドフレームの材質である銅および42アロイ(42%の
Niを含むFeとNiとの合金)との接着力を高める添
加剤を配合することにより得られた樹脂組成物が上記目
的に適うことを見出し本発明を完成するに至った。
In view of such circumstances, the present inventors have found that the epoxy resin composition has a well-balanced epoxy resin composition having excellent adhesion and adhesiveness, and also excellent processability, heat resistance and moisture resistance. As a result of diligent study, the resin composition composed of the epoxy resin and the epoxy resin curing agent has an adhesive force with copper and 42 alloy (an alloy of Fe and Ni containing 42% Ni) of the lead frame. The present inventors have found that the resin composition obtained by blending the additive for enhancing the above-mentioned purpose is suitable for the above purpose, and have completed the present invention.

【0005】即ち、本発明は以下の通りである。 (1)(A)分子中に2個以上のエポキシ基を有するエ
ポキシ樹脂、(B)エポキシ樹脂硬化剤および(C)銅
および42アロイとキレート化可能な添加剤を含有して
なることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。 (2)更に、上記の(A)、(B)、および(C)成分
に加え(D)充填剤を含有してなる熱硬化性樹脂組成
物。 (3)上記(1)または(2)記載の熱硬化性樹脂組成
物によって成形封止してなることを特徴とする電子部
品。
That is, the present invention is as follows. (1) A resin containing (A) an epoxy resin having two or more epoxy groups in a molecule, (B) an epoxy resin curing agent, and (C) an additive capable of chelating copper and 42 alloy. And a thermosetting resin composition. (2) A thermosetting resin composition which further contains (D) a filler in addition to the components (A), (B), and (C). (3) An electronic component formed by molding and encapsulating the thermosetting resin composition as described in (1) or (2) above.

【0006】以下に本発明を詳細に説明する。本発明で
使用される(A)成分については公知のエポキシ樹脂を
用いることができるが、これらについて具体的に例示す
ると、フェノール、o−クレゾール、ナフトール等のフ
ェノール類とホルムアルデヒドの反応生成物であるノボ
ラック樹脂から誘導されるノボラック系エポキシ樹脂、
フロログリシン、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)
−メタン、1,1,2,2,−テトラキス(4 −ヒドロ
キシフェニル)エタン等の三価以上のフェノール類から
誘導されるグリシジルエーテル化合物、ビスフェノール
A、ビスフェノールF、ハイドロキノン、レゾルシン、
1,1'−ビス(3 −t −ブチル−6 −メチル−4 −ヒドロ
キシフェニル)ブタン、テトラメチルビフェノール、ナ
フタレンジオール等の二価フェノール類から誘導される
グリシジルエーテル化合物またはテトラブロムビスフェ
ノールA等のハロゲン化ビスフェノール類から誘導され
るジグリシジルエーテル化合物、
The present invention will be described in detail below. Known epoxy resins can be used for the component (A) used in the present invention, and specific examples thereof are reaction products of phenols such as phenol, o-cresol, and naphthol with formaldehyde. Novolac-based epoxy resin derived from novolac resin,
Phloroglysin, Tris- (4-hydroxyphenyl)
A glycidyl ether compound derived from a trivalent or higher phenol such as methane, 1,1,2,2, -tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, bisphenol A, bisphenol F, hydroquinone, resorcin,
Glycidyl ether compounds derived from dihydric phenols such as 1,1′-bis (3-t-butyl-6-methyl-4-hydroxyphenyl) butane, tetramethylbiphenol, naphthalenediol or tetrabromobisphenol A Diglycidyl ether compounds derived from halogenated bisphenols,

【0007】フェノール類と芳香族カルボニル化合物と
の縮合反応により得られる多価フェノールのグリシジル
エーテル化合物、p−アミノフェノール、m−アミノフ
ェノール、4 −アミノメタクレゾール、6 −アミノメタ
クレゾール、4,4' −ジアミノジフェニルメタン、3,3' −
ジアミノジフェニルメタン、4,4' −ジアミノジフェニル
エーテル、3,4'- ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ビ
ス(4 −アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4 −ビス(3
−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3 −ビス(4−アミ
ノフェノキシ)ベンゼン、1,3 −ビス(3 −アミノフェ
ノキシ)ベンゼン、2,2 −ビス(4 −アミノフェノキシ
フェニル)プロパン、p−フェニレンジアミン、m−フ
ェニレンジアミン、2,4 −トルエンジアミン、2,6 −ト
ルエンジアミン、p−キシリレンジアミン、m−キシリ
レンジアミン、1,4 −シクロヘキサンビス(メチルアミ
ン)、1,3 −シクロヘキサンビス(メチルアミン)等か
ら誘導されるアミン系エポキシ樹脂、
Glycidyl ether compounds of polyhydric phenol obtained by condensation reaction of phenols and aromatic carbonyl compounds, p-aminophenol, m-aminophenol, 4-aminometacresol, 6-aminometacresol, 4,4 '-Diaminodiphenylmethane, 3,3'-
Diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3
-Aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane, p-phenylenediamine , M-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, 2,6-toluenediamine, p-xylylenediamine, m-xylylenediamine, 1,4-cyclohexanebis (methylamine), 1,3-cyclohexanebis ( Amine-based epoxy resin derived from methylamine),

【0008】p−オキシ安息香酸、m−オキシ安息香
酸、テレフタル酸、イソフタル酸等の芳香族カルボン酸
から誘導されるグリシジルエステル系化合物、5,5 −ジ
メチルヒダントイン等から誘導されるヒダントイン系エ
ポキシ化合物、2,2 −ビス(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)プロパン、2,2 −ビス〔4 −(2,3 −エポキシプ
ロピル)シクロヘキシル〕プロパン、ビニルシクロヘキ
センジオキサイド、3,4 −エポキシシクロヘキシルメチ
ル−3,4 −エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等
の脂環式エポキシ樹脂、N,N−ジグリシジルアニリン
等があり、これらのエポキシ樹脂の一種または二種以上
が使用される。これらの中でも、耐湿性の点からグリシ
ジルエーテル型のエポキシ樹脂が好ましく、中でも、o
−クレゾールノボラック系エポキシ樹脂、テトラメチル
ビフェノールおよびフェノール類と芳香族カルボニル化
合物との縮合反応により得られる多価フェノールのグリ
シジルエーテル化合物が硬化性および耐熱性あるいは吸
湿性の点から好ましい。
Glycidyl ester compounds derived from aromatic carboxylic acids such as p-oxybenzoic acid, m-oxybenzoic acid, terephthalic acid and isophthalic acid, and hydantoin epoxy compounds derived from 5,5-dimethylhydantoin and the like. , 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl) propane, 2,2-bis [4- (2,3-epoxypropyl) cyclohexyl] propane, vinylcyclohexenedioxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 There are alicyclic epoxy resins such as 1,4-epoxycyclohexanecarboxylate, N, N-diglycidylaniline and the like, and one or more of these epoxy resins are used. Among these, a glycidyl ether type epoxy resin is preferable from the viewpoint of moisture resistance, and among them, o
A cresol novolac epoxy resin, tetramethyl biphenol, and a glycidyl ether compound of a polyhydric phenol obtained by a condensation reaction of a phenol and an aromatic carbonyl compound are preferable from the viewpoint of curability and heat resistance or hygroscopicity.

【0009】また、(B)成分であるエポキシ樹脂硬化
剤についても、公知のものが使用できる。これらについ
て例示すると、ビスフェノールA、テトラブロモビスフ
ェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ビ
ス(4 −ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、ビス
(4 −ヒドロキシフェニル)エタン、1,3,3 −トリメチ
ル−1 −m−ヒドロキシフェニルインダン−5 または7
−オール、1,3,3 −トリメチル−1 −p−ヒドロキシフ
ェニルインダン−6 −オール、レゾルシン、ハイドロキ
ノン、カテコールおよびフエノール、o−クレゾール等
のフェノール類とホルムアルデヒドの反応生成物である
フェノール類ノボラック等のポリフェノール化合物、マ
レイン酸、フタル酸、ナジク酸、メチル−テトラヒドロ
フタル酸、メチルナジク酸等のポリカルボン酸およびそ
の無水物、
As the epoxy resin curing agent as the component (B), known ones can be used. Examples of these are bisphenol A, tetrabromobisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,3,3-trimethyl-1-m-hydroxy. Phenylindane-5 or 7
-Ol, 1,3,3-trimethyl-1-p-hydroxyphenylindan-6-ol, resorcin, hydroquinone, catechol and phenol, phenols such as o-cresol and phenol novolak which is a reaction product of formaldehyde Polyphenol compounds such as maleic acid, phthalic acid, nadic acid, methyl-tetrahydrophthalic acid, methyl nadic acid and the like, and their anhydrides,

【0010】ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフ
ェニルスルホン、ジアミノジフェニルエーテル、フェニ
レンジアミン、ジアミノジシクロヘキシルメタン、キシ
リレンジアミン、トルエンジアミン、ジアミノジシクロ
シクロヘキサン、ジクロロ−ジアミノジフェニルメタン
(それぞれ異性体を含む)、エチレンジアミン、ヘキサ
メチレンジアミン等のポリアミン化合物、さらにはジシ
アンジアミド、テトラメチルグアニジン等、エポキシ基
と反応可能な活性水素含有化合物が例示できる。中で
も、フェノール類ノボラック樹脂が硬化性及び耐湿性の
点から好ましく用いられる。
Diaminodiphenylmethane, diaminodiphenyl sulfone, diaminodiphenyl ether, phenylenediamine, diaminodicyclohexylmethane, xylylenediamine, toluenediamine, diaminodicyclocyclohexane, dichloro-diaminodiphenylmethane (including isomers), ethylenediamine, hexamethylenediamine, etc. Examples of the polyamine compound include the active hydrogen-containing compound capable of reacting with an epoxy group, such as dicyandiamide and tetramethylguanidine. Among them, phenolic novolac resins are preferably used from the viewpoint of curability and moisture resistance.

【0011】本発明の組成物において、(A)成分であ
るエポキシ樹脂と(B)成分であるエポキシ樹脂硬化剤
との配合割合に関しては、エポキシ基と活性水素の当量
比が0.7〜1.2当量が好ましい。この範囲から大き
く逸脱すると耐湿性、硬化性等が低下するので好ましく
ない。
In the composition of the present invention, regarding the mixing ratio of the epoxy resin as the component (A) and the curing agent for the epoxy resin as the component (B), the equivalent ratio of epoxy groups to active hydrogen is 0.7 to 1. .2 equivalents are preferred. If it deviates significantly from this range, the moisture resistance, curability and the like are deteriorated, which is not preferable.

【0012】本発明の樹脂組成物の熱硬化の方法につい
て述べると、無触媒でも硬化可能であるが、硬化促進剤
(触媒)を用いることにより、更に容易に硬化せしめる
ことが可能となる。このような触媒について例示する
と、トリフェニルホスフィン、トリ−4−メチルフェニ
ルホスフィン、トリ−4−メトキシフェニルホスフィ
ン、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、
トリ−2−シアノエチルホスフィンなどの有機ホスフィ
ン化合物およびこれらの塩、トリブチルアミン、トリエ
チルアミン、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウ
ンデセン−7、トリアミルアミン等の三級アミン、塩化
ベンジルトリメチルアンモニウム、水酸化ベンジルトリ
メチルアンモニウム、トリエチルアンモニウムテトラフ
ェニルボレート等の4級アンモニウム塩、イミダゾール
類、三弗化ホウ素錯体、遷移金属アセチルアセトナート
等が例示されるが、これらに限定されるものではない。
これらの中でも、有機ホスフィン化合物、イミダゾール
類およびこれらの塩(具体的には、テトラフェニルホス
ホニウムテトラフェニルボレート、4−メチルイミダゾ
ールテトラフェニルボレート等)あるいはトリエチルア
ンモニウムテトラフェニルボレートが特に好ましい。
The method of heat-curing the resin composition of the present invention will be described. Although it can be cured without a catalyst, it can be more easily cured by using a curing accelerator (catalyst). Examples of such catalysts include triphenylphosphine, tri-4-methylphenylphosphine, tri-4-methoxyphenylphosphine, tributylphosphine, trioctylphosphine,
Organic phosphine compounds such as tri-2-cyanoethylphosphine and salts thereof, tertiary amines such as tributylamine, triethylamine, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 and triamylamine, benzyltrimethylammonium chloride Examples thereof include, but are not limited to, quaternary ammonium salts such as benzyltrimethylammonium hydroxide and triethylammonium tetraphenylborate, imidazoles, boron trifluoride complex, transition metal acetylacetonate, and the like.
Among these, organic phosphine compounds, imidazoles and salts thereof (specifically, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, 4-methylimidazole tetraphenylborate, etc.) or triethylammonium tetraphenylborate are particularly preferable.

【0013】本発明で使用される添加剤(C)は、銅お
よび42アロイとキレート化可能な化合物であり、一般
的にはカルボン酸基、水酸基あるいはアミノ基を分子内
に2個以上有する化合物あるいはこれらのエステル化物
であり(官能基は必ずしも同じである必要はない)、こ
れらを例示するとアントラニル酸、アミノフェノール、
没食子酸、没食子酸エステル化物、マロン酸、リンゴ
酸、8−キノリノール、マレイン酸n−ブチルフェノー
ル等があげられるがこれらに限定されるものではない。
これらの1種または2種以上が用いられる。これらの中
でも没食子酸エステル化物およびマロン酸が特に好まし
い。
The additive (C) used in the present invention is a compound capable of chelating with copper and 42 alloy, and is generally a compound having two or more carboxylic acid groups, hydroxyl groups or amino groups in the molecule. Alternatively, these are esterified products (the functional groups do not necessarily have to be the same), and if these are exemplified, anthranilic acid, aminophenol,
Examples thereof include gallic acid, gallic acid esterified products, malonic acid, malic acid, 8-quinolinol, and n-butylphenol maleate, but are not limited thereto.
These 1 type (s) or 2 or more types are used. Among these, gallic acid esterified products and malonic acid are particularly preferable.

【0014】本発明において、(C)成分の配合量は
(A)および(B)成分の合計量100重量部に対し
て、好ましくは0.1〜5重量部、更に好ましくは0.
5〜3重量部である。配合量がこの範囲より少ないと、
接着性の改良効果に乏しく、また、多すぎると機械物性
および耐熱性が低下する傾向を示す。
In the present invention, the compounding amount of the component (C) is preferably 0.1 to 5 parts by weight, more preferably 0.1 part by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the components (A) and (B).
5 to 3 parts by weight. If the amount is less than this range,
The effect of improving the adhesiveness is poor, and if it is too large, the mechanical properties and heat resistance tend to decrease.

【0015】本発明で用いられる充填剤(D)として
は、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、タルク、炭酸
カルシウム、チタンホワイト、クレー、アスベスト、マ
イカ、ベンガラ、ガラス繊維等が挙げられるが、中でも
特に溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナが好ましく用い
られる。
Examples of the filler (D) used in the present invention include fused silica, crystalline silica, alumina, talc, calcium carbonate, titanium white, clay, asbestos, mica, red iron oxide, glass fiber and the like. Fused silica, crystalline silica and alumina are preferably used.

【0016】充填剤の配合割合は目的に応じて適宜決め
ることができるが、半導体の封止に用いる場合には、樹
脂組成物全量中の30〜94重量%であることが好まし
く、より好ましくは65〜92重量%である。充填剤量
が30重量%より少ない場合は耐湿性に劣り、また、9
4重量%を越える場合は成形性に問題を生ずる。
The blending ratio of the filler can be appropriately determined according to the purpose, but when it is used for encapsulating a semiconductor, it is preferably 30 to 94% by weight of the total amount of the resin composition, and more preferably. It is 65 to 92% by weight. When the amount of the filler is less than 30% by weight, the moisture resistance is inferior, and 9
If it exceeds 4% by weight, problems occur in moldability.

【0017】本発明において、その他必要に応じて天然
ワックス、合成ワックス、高級脂肪酸およびその金属塩
類、若しくはパラフィン等の離型剤あるいはカーボンブ
ラックのような着色剤、さらにシランカップリング剤等
の表面処理剤等を添加してもよい。また、三酸化アンチ
モン、リン化合物、ブロム化エポキシ樹脂等の難燃剤を
加えてもよい。難燃効果を出すためには、ブロム化エポ
キシ樹脂が特に好ましい。
In the present invention, if necessary, a natural wax, a synthetic wax, a higher fatty acid and a metal salt thereof, a releasing agent such as paraffin or a coloring agent such as carbon black, and a surface treatment such as a silane coupling agent. Agents and the like may be added. Further, a flame retardant such as antimony trioxide, a phosphorus compound and a brominated epoxy resin may be added. A brominated epoxy resin is particularly preferable for producing a flame retardant effect.

【0018】また、例えば、低応力化するには、各種エ
ラストマーを添加またはあらかじめ反応させて用いても
よい。具体的には、ポリブタジエン、ブタジエン−アク
リロニトリル共重合体、シリコーンゴム、シリコーンオ
イル等の添加型あるいは反応型のエラストマーが挙げら
れる。
Further, for example, in order to reduce the stress, various elastomers may be added or reacted in advance and used. Specific examples thereof include addition type or reaction type elastomers such as polybutadiene, butadiene-acrylonitrile copolymer, silicone rubber and silicone oil.

【0019】このようにして得られた樹脂組成物はロー
ルあるいはコニーダー等の一般の混練機により、溶融混
合することによりコンパウンド化が可能である。本発明
による樹脂組成物を用いて半導体等、電子部品を封止す
るには、トランスファーモールド、コンプレッションモ
ールド、インジェクションモールド等の従来から公知の
成形法により硬化成形すればよい。
The resin composition thus obtained can be compounded by melt mixing with a general kneader such as a roll or a cokneader. In order to seal electronic parts such as semiconductors using the resin composition according to the present invention, curing molding may be carried out by a conventionally known molding method such as transfer molding, compression molding, injection molding or the like.

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明の樹脂組成物は、主に半導体等の
電子部品の封止に用いられる。そして加工性、耐熱性お
よび耐湿性に優れ、特に従来知られている樹脂組成物よ
りも密着性および接着性に優れ、封止材料用組成物とし
て極めて有用である。
The resin composition of the present invention is mainly used for sealing electronic parts such as semiconductors. Further, it is excellent in workability, heat resistance and moisture resistance, particularly excellent in adhesion and adhesiveness as compared with conventionally known resin compositions, and is extremely useful as a composition for a sealing material.

【0021】[0021]

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れに限定されるものではない。硬化成形物の評価法は、
以下のとおりである。 ・ゲルタイム:実施例および比較例で得られた混練物を
180 ℃の熱板の凹部に0.5g取り、ゲル化までの時間を測
定した。
EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited thereto. The evaluation method of the cured molding is
It is as follows. -Gel time: the kneaded products obtained in Examples and Comparative Examples
0.5 g was taken in the concave portion of the hot plate at 180 ° C., and the time until gelation was measured.

【0022】・ガラス転移温度:熱機械的分析装置(SH
IMADZU DT-30)を用いて測定した。 ・曲げ強度、曲げ弾性率:JIS K-6911に従い、インスト
ロン万能材料試験機(SHIMADZU IS-10T )で測定した。
測定温度は、20℃および240℃である。
Glass transition temperature: thermomechanical analyzer (SH
It was measured using IMADZU DT-30). Bending strength and flexural modulus: Measured with an Instron universal material testing machine (SHIMADZU IS-10T) according to JIS K-6911.
The measurement temperature is 20 ° C and 240 ° C.

【0023】・吸水率:恒温恒湿糟(TABAI PR-2)を用
い、85℃/85%RHの条件で重量変化を測定した。 ・スパイラルフロー:EMMI−1−66に準じて190
℃/70kg/cm2 の条件で行った。
Water absorption rate: The weight change was measured under the conditions of 85 ° C./85% RH by using a constant temperature and constant humidity (TABAI PR-2).・ Spiral flow: 190 according to EMMI-1-66
It was carried out under the condition of ° C / 70 kg / cm 2 .

【0024】・硬度発現性(バーコール硬度):190
℃/120秒の成形条件で行った。 ・接着力試験:銅および42アロイ製の引き抜き強度測
定用フレーム(図1参照)を用い、コンパウンドをモー
ルドし、後硬化後、フレームの引き抜き強さによって評
価を行った。
Hardness developing property (Burcol hardness): 190
It was carried out under the molding conditions of ° C / 120 seconds. -Adhesion test: A compound was molded using a pull-out strength measuring frame (see Fig. 1) made of copper and 42 alloy, and after the post-curing, the pull-out strength of the frame was evaluated.

【0025】・密着性評価試験:模擬IC(52ピンQFP
パッケージ:パッケージ厚さ2.05mm)を85℃/85%RH/48
時間の条件にて吸湿させた後、直ちに240 ℃のハンダ浴
に30秒浸漬した後のダイパッド裏面の剥離度合いを超音
波探査映像装置(日立建機(株)製 AT5000)にて測定
した剥離面積の割合にて評価。評価基準は、○:剥離面
積0 〜30%、△:剥離面積31〜70%、×:剥離面積71〜
100 %である。試験個体数10個の平均値。
Adhesion evaluation test: simulated IC (52-pin QFP
Package: Package thickness 2.05mm) 85 ℃ / 85% RH / 48
Peeling area measured with an ultrasonic probe imager (AT5000 manufactured by Hitachi Construction Machinery Co., Ltd.) after measuring the degree of peeling on the back surface of the die pad immediately after absorbing moisture under the conditions of time and immediately immersing it in a solder bath at 240 ° C for 30 seconds. It is evaluated by the ratio. Evaluation criteria are: ○: peeling area 0 to 30%, △: peeling area 31 to 70%, ×: peeling area 71 to
100%. Average of 10 test individuals.

【0026】実施例1〜6 エポキシ樹脂としてo −クレゾールノボラックのグリシ
ジルエーテル(商品名スミエポキシESCN-195XL、住友化
学工業(株)製、エポキシ当量196g/当量、加水分解性
塩素330 ppm )およびフェノール類と芳香族カルボニル
化合物との縮合物のグリシジルエーテル化物(商品名
スミエポキシESX-221 、住友化学工業(株)製、エポキ
シ当量213.1g/当量、加水分解性塩素170 ppm )、エポ
キシ樹脂硬化剤としてフェノールノボラック(群栄化学
工業(株)製、商品名 PSM−4261、OH当量=
106g/eq)、キレート化剤として没食子酸n−プロピ
ル、マロン酸、o−アミノフェノール、硬化促進剤とし
てトリフェニルフォスフィン、充填剤として破砕状溶融
シリカ(商品名 FS-891、電気化学工業(株)製)、球
状溶融シリカ(商品名 FB-74 、電気化学(株)製)、
離型剤としてカルナバワックス、カップリング剤γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン(商品名 SH-6
040 、東レ・ダウコーニングシリコーン(株)製)を表
1に示した量(重量部)で配合し、ロールで加熱混練
し、トランスファー成形を行った。
Examples 1 to 6 Glycidyl ether of o-cresol novolac (trade name: Sumiepoxy ESCN-195XL, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., epoxy equivalent 196 g / equivalent, hydrolyzable chlorine 330 ppm) and phenols as epoxy resin Glycidyl ether compound of the condensate of carbonyl and aromatic carbonyl compound (trade name
Sumiepoxy ESX-221, Sumitomo Chemical Co., Ltd., epoxy equivalent 213.1 g / equivalent, hydrolyzable chlorine 170 ppm), phenol novolac as an epoxy resin curing agent (Gunei Chemical Co., Ltd., trade name PSM-4261) , OH equivalent =
106 g / eq), n-propyl gallate as a chelating agent, malonic acid, o-aminophenol, triphenylphosphine as a curing accelerator, and crushed fused silica as a filler (trade name FS-891, Electrochemical Industry ( Co., Ltd.), spherical fused silica (trade name FB-74, manufactured by Denki Kagaku Co., Ltd.),
Carnauba wax as a release agent, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane as a coupling agent (trade name SH-6
040, manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd. was blended in the amounts (parts by weight) shown in Table 1, heated and kneaded with a roll, and transfer molding was performed.

【0027】180 ℃で、5 時間ポストキュアーを行い、
硬化成形物を得た。配合処方および得られた樹脂組成物
の物性ならびにそれらの硬化成形物の物性を表1および
表2に示す。
Post cure at 180 ° C. for 5 hours,
A cured molded product was obtained. Tables 1 and 2 show the compounding formulation, the physical properties of the obtained resin composition, and the physical properties of the cured moldings thereof.

【0028】比較例1〜2 キレート化剤を用いない以外は実施例1〜6と同様の方
法により硬化成形物を得た。配合処方および硬化成形物
の物性を表1および表2に示す。
Comparative Examples 1 and 2 Cured molded articles were obtained in the same manner as in Examples 1 to 6 except that the chelating agent was not used. The compounding recipe and the physical properties of the cured molded product are shown in Tables 1 and 2.

【0029】[0029]

【表1】 [Table 1]

【0030】[0030]

【表2】 [Table 2]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】引抜き強度測定用フレームの平面図である。FIG. 1 is a plan view of a pull-out strength measuring frame.

【符号の説明】 1:樹脂硬化成形物を形成させる場所(斜線部) 2:引き抜き片 3、4:引き抜き操作を行うための把持部[Explanation of reference numerals] 1: Place where the resin-cured molded product is formed (hatched portion) 2: Drawing piece 3, 4: Grasping part for performing drawing operation

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(A)分子中に2個以上のエポキシ基を有
するエポキシ樹脂、(B)エポキシ樹脂硬化剤、および
(C)銅および42アロイとキレート化可能な添加剤を
含有してなることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
1. A composition comprising (A) an epoxy resin having two or more epoxy groups in a molecule, (B) an epoxy resin curing agent, and (C) an additive capable of chelating copper and 42 alloy. A thermosetting resin composition comprising:
【請求項2】銅および42アロイとキレート化可能な添
加剤(C)がアントラニル酸、アミノフェノール、没食
子酸または没食子酸エステル化物、マロン酸およびリン
ゴ酸の中から選ばれる1種または2種以上の化合物であ
る、請求項1記載の熱硬化性樹脂組成物。
2. An additive (C) capable of chelating copper and 42 alloys is one or more selected from anthranilic acid, aminophenol, gallic acid or ester of gallic acid, malonic acid and malic acid. The thermosetting resin composition according to claim 1, which is a compound of 1.
【請求項3】エポキシ樹脂(A)が、フェノール類とア
ルデヒド類の縮合により得られるノボラック型エポキシ
樹脂である、請求項1または2記載の熱硬化性樹脂組成
物。
3. The thermosetting resin composition according to claim 1, wherein the epoxy resin (A) is a novolac type epoxy resin obtained by condensation of phenols and aldehydes.
【請求項4】更に、(D)充填剤を含有してなる請求項
1、2または3記載の熱硬化性樹脂組成物。
4. The thermosetting resin composition according to claim 1, further comprising (D) a filler.
【請求項5】請求項1、2、3または4記載の熱硬化性
樹脂組成物により成形封止されていることを特徴とする
電子部品。
5. An electronic component, which is molded and sealed with the thermosetting resin composition according to claim 1, 2, 3 or 4.
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