JPH07302435A - Reflection type diffraction grating for trisecting beam and optical pickup formed by using the same - Google Patents

Reflection type diffraction grating for trisecting beam and optical pickup formed by using the same

Info

Publication number
JPH07302435A
JPH07302435A JP6094726A JP9472694A JPH07302435A JP H07302435 A JPH07302435 A JP H07302435A JP 6094726 A JP6094726 A JP 6094726A JP 9472694 A JP9472694 A JP 9472694A JP H07302435 A JPH07302435 A JP H07302435A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diffraction grating
grating
beams
dividing
light source
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6094726A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3172360B2 (en
Inventor
Kazushi Mori
和思 森
Atsushi Tajiri
敦志 田尻
Keiichi Yoshitoshi
慶一 吉年
Takao Yamaguchi
隆夫 山口
Tatsuhiko Niina
達彦 新名
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP09472694A priority Critical patent/JP3172360B2/en
Publication of JPH07302435A publication Critical patent/JPH07302435A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3172360B2 publication Critical patent/JP3172360B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To form a reflection type diffraction grating for trisecting a beam by condensing the trisected and diffracted beams at symmetrical spot intervals to a small spot in the case of arranging the reflection type diffraction grating for trisecting the beam with a inclination with a light source. CONSTITUTION:This reflection type diffraction grating 11 for trisecting the beam is used by inclining the diffraction grating with the optical axis of the diverging laser beam source and eventually the incident angle of the laser beam varies in the inclination direction on the grating surface. The diffraction grating described above has the effect of diffracting the beam in this inclination direction. The period of the grating is so modulated that the period of the grating is longer on the grating surface 11a as the incident angle of the laser beam is larger within at least the effective aperture. The + or -1st order virtual light sources formed by the trisected diffraction effect are so formed as to be symmetrical with the zero order virtual light source as a center and to be narrow in the width of the light intensity distribution.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、発散レーザ光源の光軸
に対して傾斜させて用いられるビーム3分割用反射型回
折格子およびこれを用いた光ピックアップに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflective diffraction grating for dividing a beam into three beams, which is used by being inclined with respect to the optical axis of a divergent laser light source, and an optical pickup using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ピックアップのトラッキングサーボの
方法の一つとして3ビーム法が知られているが、この3
ビーム法を用いる場合には、信号光が再び回折格子に入
射して損失が生じるという透過型のビーム3分割用回折
格子の欠点を回避するために、反射型のビーム3分割用
回折格子が用いられている。反射型の回折格子は、基板
表面にエッチングで凹凸を形成してAl或いはCrとA
uとを蒸着する等の製法により作製される。
2. Description of the Related Art A three-beam method is known as one of tracking servo methods for an optical pickup.
When the beam method is used, in order to avoid the defect of the transmission type beam division grating for division of three beams that the signal light is incident on the diffraction grating again, a reflection type beam division grating for division of three beams is used. Has been. The reflection type diffraction grating is formed by etching the surface of the substrate to form irregularities, and
It is manufactured by a manufacturing method such as vapor deposition of u and the like.

【0003】図9は、ビーム3分割用反射型回折格子を
用いた光ピックアップを示す縦断側面図である。図中の
1は、n+ 型Si等からなる導電性半導体材料または銅
等の導電性金属からなる良熱伝導性基板である。良熱伝
導性基板1には、第1平面部1a、45°傾斜面部1
b、及び第2平面部1cが形成されている。第1平面部
1a上には、光量調整用PINフォトダイオード部を有
するサブマウント2を介して半導体レーザチップ4が設
けられている。45°傾斜面部1bには、ビーム3分割
用反射型回折格子6が設けられている。そして、第2平
面部1cには、信号検出用6分割PINフォトダイオー
ド5がマウントされている。
FIG. 9 is a vertical sectional side view showing an optical pickup using a reflection type diffraction grating for dividing the beam into three parts. Reference numeral 1 in the figure denotes a good thermal conductive substrate made of a conductive semiconductor material such as n + type Si or a conductive metal such as copper. The good thermal conductive substrate 1 includes a first flat surface portion 1a and a 45 ° inclined surface portion 1
b and the 2nd plane part 1c are formed. A semiconductor laser chip 4 is provided on the first flat surface portion 1a via a submount 2 having a light quantity adjusting PIN photodiode portion. A reflective diffraction grating 6 for dividing the beam into three is provided on the 45 ° inclined surface portion 1b. A 6-divided PIN photodiode 5 for signal detection is mounted on the second plane portion 1c.

【0004】また、これら素子配置面の上方側には、図
示しない支持手段にてホログラム素子7が配置され、さ
らにその上方には、図示しないアクチュエータに取り付
けられた集光用レンズ8が配置されている。半導体レー
ザチップ4から出射された光はビーム3分割用反射型回
折格子6によって反射される際、回折作用により3本の
ビームに分割される。そして、これら3本のビームは、
ホログラム素子7を透過(0次回折)したのち、集光レ
ンズ8により光ディスク9の信号記録面上に集光され
る。
A hologram element 7 is arranged by a supporting means (not shown) above the element arrangement surface, and a condenser lens 8 attached to an actuator (not shown) is arranged above the hologram element 7. There is. When the light emitted from the semiconductor laser chip 4 is reflected by the reflection type diffraction grating 6 for dividing the beam into three, it is divided into three beams by the diffractive action. And these three beams are
After passing through the hologram element 7 (zero-order diffraction), it is focused on the signal recording surface of the optical disc 9 by the focusing lens 8.

【0005】ピット信号(HF信号)、トラッキングエ
ラー信号、及びフォーカシングエラー信号が乗った3本
のビームの反射光は、再び集光レンズ8を通過したの
ち、ホログラム素子7によって1次回折(或いは−1次
回折)し、信号検出用PINフォトダイオード5に入射
される。なお、フォーカシングエラー信号は、ホログラ
ム素子7が回折光に非点収差を持たせる機能を有してい
るため、4分割PINフォトダイオードを用いて非点収
差法により検出することができる。
The reflected light of the three beams carrying the pit signal (HF signal), the tracking error signal, and the focusing error signal passes through the condenser lens 8 again, and is then diffracted by the hologram element 7 in the first order (or −). The light is incident on the PIN photodiode 5 for signal detection. The focusing error signal can be detected by the astigmatism method using a 4-division PIN photodiode because the hologram element 7 has a function of giving diffracted light astigmatism.

【0006】このようなビーム3分割用反射型回折格子
6を用いた光ピックアップにおいては、ホログラム素子
7を除いて各素子をほぼ同一面上に配置することがで
き、半導体レーザ4、フォトダイオード5等のワイヤボ
ンディングの引き出し等の作製が容易であり、低コスト
化が図れる。
In the optical pickup using the reflection type diffraction grating 6 for dividing the beam into three beams, the respective elements except the hologram element 7 can be arranged on substantially the same plane, and the semiconductor laser 4 and the photodiode 5 can be arranged. It is easy to produce wire bonding and other wire bonding, and the cost can be reduced.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体レー
ザ光の集光スポット形状は、半導体レーザ出射面での近
視野像の形状を反映し楕円形状になり、ピット信号検出
のS/N比を考慮すると、3ビーム分割は、半導体レー
ザ素子接合面に垂直方向(図9においては紙面内で回
折:図10参照)に行う必要がある。
By the way, the focused spot shape of the semiconductor laser light becomes an elliptical shape reflecting the shape of the near-field image on the emitting surface of the semiconductor laser, and the S / N ratio of pit signal detection is taken into consideration. Then, it is necessary to perform the three-beam splitting in the direction perpendicular to the bonding surface of the semiconductor laser element (diffraction within the plane of FIG. 9: see FIG. 10).

【0008】図10は、半導体レーザ4から出射された
光ビームが、45°傾けて配置されたビーム3分割用反
射型回折格子6によって3分割回折されて反射される様
子を示すとともに、仮想光源が回折格子面を基準にして
半導体レーザ4と対称な位置に形成される様子を示した
説明図である。図中、32aが0次仮想光源、32bが
+1次仮想光源、32cが−1次仮想光源である。ま
た、図中のXは、ビーム3分割用反射型回折格子6の傾
斜方向であってレーザ光入射角が大きくなる方向を示し
ている。Oは、原点(光軸に一致する点)を示してい
る。x′は、仮想光源についての上記方向Xに対応する
方向での距離(0を原点とする)を示し、dは仮想光源
のx′上の位置を示している。
FIG. 10 shows a state in which a light beam emitted from the semiconductor laser 4 is diffracted in three divisions by a reflection type diffraction grating 6 for dividing the beam into three portions and is reflected by a virtual light source. FIG. 6 is an explanatory diagram showing a state where is formed at a position symmetrical to the semiconductor laser 4 with respect to the diffraction grating surface. In the figure, 32a is a 0th-order virtual light source, 32b is a + 1st-order virtual light source, and 32c is a -1st-order virtual light source. In addition, X in the figure indicates the direction in which the reflection diffraction grating 6 for dividing the beam into three beams is inclined and the laser light incident angle is increased. O indicates the origin (point that coincides with the optical axis). x'represents the distance (with 0 as the origin) in the direction corresponding to the above-mentioned direction X with respect to the virtual light source, and d represents the position of the virtual light source on x '.

【0009】上記従来のビーム3分割用反射型回折格子
6は、図11に示すように、格子ピッチ(Λ0 )が図中
X方向に全て等しくされた等周期回折格子から成る。そ
の±1次回折光の仮想発光点の光強度分布を計算する
と、図12に示すように、かなり広がった分布になる。
即ち、1点にはならず、回折限界の小さいスポットに集
光させることができない。なお、図12の110μmの
位置は、光ディスク上では20μm位置に対応する(2
0μm×レンズ倍率5.5=110μm)。
As shown in FIG. 11, the conventional reflection type diffraction grating 6 for dividing the beam into three beams is composed of an equal period diffraction grating in which the grating pitches (Λ 0 ) are all equal in the X direction in the figure. When the light intensity distribution of the virtual light emitting points of the ± first-order diffracted light is calculated, the distribution is considerably wide as shown in FIG.
That is, it is not a single point and cannot be focused on a spot with a small diffraction limit. The 110 μm position in FIG. 12 corresponds to the 20 μm position on the optical disc (2
0 μm × lens magnification 5.5 = 110 μm).

【0010】また、図10に示しているように、半導体
レーザ光軸23を中心として回折格子の上側と下側での
入射角が非対称となるため、+1次仮想光源32bと−
1次仮想光源32cのスポット間隔も非対称となる。従
って、このようなビームを用いてトラッキングエラー信
号を検出する場合には、信号の振幅が小さくなったり、
光ディスクが傾斜したときに、信号にオフセットが生じ
たりするという欠点を有していた。
Further, as shown in FIG. 10, since the incident angles on the upper side and the lower side of the diffraction grating are asymmetrical with the semiconductor laser optical axis 23 as the center, the + 1st-order virtual light source 32b and −
The spot spacing of the primary virtual light source 32c is also asymmetric. Therefore, when the tracking error signal is detected using such a beam, the signal amplitude becomes small,
When the optical disk is tilted, there is a drawback that an offset occurs in the signal.

【0011】本発明は、上記の事情に鑑み、ビーム3分
割用反射型回折格子を光源に対して傾けて配置する場合
に、3分割回折されたビームのスポット間隔を対称に且
つ小スポットに集光させることのできるビーム3分割用
反射型回折格子およびこれを用いた光ピックアップを提
供することを目的とする。
In view of the above-mentioned circumstances, the present invention provides that when the reflection diffraction grating for dividing the beam into three beams is tilted with respect to the light source, the spot intervals of the beams diffracted into three beams are symmetrically gathered into small spots. An object of the present invention is to provide a reflective diffraction grating for splitting a beam into three beams and an optical pickup using the same.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】このため、第1の構成
は、入射ビームを反射すると共に分割するビーム3分割
用反射型回折格子において、3分割されたビームが形成
する集光スポットが一直線上に等間隔で且つその各スポ
ットが小さくなるようにした回折格子形状を有する。ま
た、第2の構成は、上記入射ビームが非平行ビームであ
る。
Therefore, in the first configuration, in the reflection type diffraction grating for dividing the beam into three beams that reflects and splits the incident beam, the converging spot formed by the three-divided beam is on a straight line. It has a diffraction grating shape at equal intervals so that each spot becomes smaller. In the second configuration, the incident beam is a non-parallel beam.

【0013】第3の構成のビーム3分割用反射型回折格
子は、発散レーザ光源の光軸に対して傾斜させて用いら
れ、格子面上でのレーザ発光点からの距離またはレーザ
光入射角が傾斜方向で異なることになるビーム3分割用
反射型回折格子において、その傾斜方向に回折する作用
を有し、3分割回折作用により形成される±1次仮想光
源の位置が、0次仮想光源を中心に対称で且つ±1次仮
想光源の光強度分布の幅が狭くなるように格子の周期変
調がなされていることを特徴とする。
The reflection diffraction grating for dividing the beam into three beams of the third structure is used while being inclined with respect to the optical axis of the diverging laser light source, and the distance from the laser emission point on the grating surface or the laser light incident angle is used. In the reflective diffraction grating for dividing the beam into three beams, which is different in the tilt direction, the beam has a function of diffracting in the tilt direction, and the position of the ± first-order virtual light source formed by the three-way diffraction function is the zero-order virtual light source. It is characterized in that the grating is periodically modulated so as to be symmetrical about the center and to narrow the width of the light intensity distribution of the ± first-order virtual light sources.

【0014】第4の構成のビーム3分割用反射型回折格
子は、発散レーザ光源の光軸に対して傾斜させて用いら
れ、格子面上でのレーザ発光点からの距離またはレーザ
光入射角が傾斜方向で異なることになるビーム3分割用
反射型回折格子において、その傾斜方向に回折する作用
を有し、少なくとも有効な開口内で、前記レーザ発光点
からの距離が大きくなる程またはレーザ光入射角が大き
くなる程その格子面上での格子周期が長くなるように格
子の周期変調がなされていることを特徴とする。
The reflection type diffraction grating for dividing the beam into three beams of the fourth structure is used by being inclined with respect to the optical axis of the divergent laser light source, and the distance from the laser emission point on the grating surface or the laser light incident angle is used. In the reflection type diffraction grating for dividing the beam into three beams, which has different tilt directions, it has a function of diffracting in the tilt direction, and as the distance from the laser emission point increases or the laser light enters, at least within the effective aperture. It is characterized in that the grating is periodically modulated so that the larger the angle, the longer the grating period on the grating surface.

【0015】第5の構成のビーム3分割用反射型回折格
子は、上記第3又は第4の構成において、発散レーザ光
源の光軸が交わる付近の格子周期が略一定若しくは他の
部分よりも変化が緩やかになっていてもよい。
The reflection type diffraction grating for dividing the beam into three beams according to the fifth configuration has the grating period near the intersection of the optical axes of the diverging laser light sources being substantially constant or changing from the other portions in the third or fourth configuration. May be loose.

【0016】第6乃至第10の構成のビーム3分割用反
射型回折格子は、格子周期Λ(x)が所定の式により変
調されている。
In the reflection type diffraction grating for dividing the beam into three beams having the sixth to tenth configurations, the grating period Λ (x) is modulated by a predetermined formula.

【0017】第11の構成の光ピックアップは、上記第
1乃至第10の構成のいずれかのビーム3分割用反射型
回折格子を備えたことを特徴とする。
An eleventh structure of an optical pickup is characterized by including the beam-dividing reflective diffraction grating of any one of the first to tenth structures.

【0018】[0018]

【作用】第1又は第2の構成によれば、3分割されたビ
ームが形成するスポットが一直線上に等間隔で且つその
各スポットが小さくなる。
According to the first or second structure, the spots formed by the three-divided beam are arranged at equal intervals on a straight line and the respective spots are small.

【0019】第3乃至第10の構成によれば、格子面上
でのレーザ光入射角が傾斜方向で異なる場合でも、3分
割回折されたビームのスポット間隔を対称に且つ小スポ
ットに集光させることができる。
According to the third to tenth configurations, even if the laser beam incident angle on the grating surface is different in the tilt direction, the spot intervals of the beams diffracted in three parts are symmetrically condensed into small spots. be able to.

【0020】第5、第9、第10の構成のビーム3分割
用反射型回折格子によれば、原点付近の周期変化が緩や
かになっているので、上記作用に加え、回折格子の取付
位置の多少のずれを許容することが可能であり、光ピッ
クアップの組み立て容易化が図れる。
According to the reflection type diffraction grating for dividing the beam into three beams of the fifth, ninth and tenth configurations, the periodical change near the origin is gradual. Therefore, in addition to the above operation, the mounting position of the diffraction grating It is possible to allow some deviation, which facilitates the assembly of the optical pickup.

【0021】第11の構成の光ピックアップによれば、
トラッキングエラー信号の振幅を大きくすることがで
き、更に、光ディスクが傾斜したときでも信号にオフセ
ットが生じたりするのを回避できるので、トラッキング
サーボの信頼性を向上させることができる。
According to the optical pickup having the eleventh structure,
Since the amplitude of the tracking error signal can be increased and the offset of the signal can be avoided even when the optical disc is tilted, the reliability of the tracking servo can be improved.

【0022】[0022]

【実施例】【Example】

(実施例1)以下、本発明のビーム3分割用反射型回折
格子をその実施例を示す図1乃至図3に基づいて説明す
る。なお、その製法や半導体レーザの光軸に対して傾斜
させて用いられる点は従来と変わらない。即ち、本発明
のビーム3分割用反射型回折格子は、従来例で示した図
10のごとく配置される。以下の説明では必要に応じて
この図10を適宜参照する。
(Embodiment 1) A reflective diffraction grating for dividing a beam into three beams according to the present invention will be described below with reference to FIGS. It should be noted that the manufacturing method and the point of using the semiconductor laser inclined with respect to the optical axis of the semiconductor laser are the same as in the conventional case. That is, the reflection diffraction grating for dividing the beam into three beams according to the present invention is arranged as shown in FIG. In the following description, FIG. 10 will be referred to as necessary.

【0023】図1は、本実施例のビーム3分割用反射型
回折格子11を示す縦断側面図である。図中の方向X、
及び原点(光軸に一致する点)Oは、図10で示された
方向X及び原点Oに一致する。
FIG. 1 is a vertical sectional side view showing a reflective diffraction grating 11 for dividing a beam into three parts according to this embodiment. Direction X in the figure,
And the origin (point that coincides with the optical axis) O coincides with the direction X and the origin O shown in FIG.

【0024】上記のビーム3分割用反射型回折格子11
は、3分割回折作用により形成される±1次仮想光源3
1b,31cが、0次仮想光源31aを中心に対称で且
つ光強度分布の幅が狭くなるように格子の周期変調がな
されている。具体的には、原点Oを通るX方向上におい
て、レーザ光入射角が大きくなる程(別言すれば、レー
ザ発光点からの距離が遠い位置になる程)その格子面
(回折格子の凹凸が形成されている面)11a上での格
子周期Λ(x)が長くなるように格子の周期変調がなさ
れている。但し、xは格子面上のX方向の位置座標を示
す。
The above-mentioned reflective diffraction grating 11 for dividing the beam into three parts.
Is a ± first-order virtual light source 3 formed by three-division diffraction action
Periodic modulation of the gratings is performed so that 1b and 31c are symmetrical about the 0th virtual light source 31a and the width of the light intensity distribution is narrowed. Specifically, in the X direction passing through the origin O, the larger the incident angle of the laser light is (in other words, the farther the distance from the laser emission point is), the lattice surface (the unevenness of the diffraction grating is Periodic modulation of the grating is performed so that the grating period Λ (x) on the formed surface) 11a becomes long. However, x indicates the position coordinate in the X direction on the lattice plane.

【0025】格子周期Λ(x)は、以下の式1により決
定している。
The lattice period Λ (x) is determined by the following equation 1.

【0026】[0026]

【数1】 Λ(x)=(1/2)〔λ/h1(x) +λ/h2(x) 〕 ただし、 h1(x) =sin(tan -1((d-x)/(l+x))-π/4)+sin(tan -1
(x/(l+x))+π/4) h2(x) =sin(tan -1(-x/(l+x))- π/4)+sin(tan
-1((d+x)/(l+x))+π/4) λ:レーザ光の波長 l:レーザ発光点と原点Oとの距離 d:±1次回折光仮想光源のx′方向上での位置
Λ (x) = (1/2) [λ / h 1 (x) + λ / h 2 (x)] where h 1 (x) = sin (tan -1 ((dx) / (l + x))-π / 4) + sin (tan -1
(x / (l + x)) + π / 4) h 2 (x) = sin (tan -1 (-x / (l + x))-π / 4) + sin (tan
-1 ((d + x) / (l + x)) + π / 4) λ: Laser light wavelength l: Distance between laser emission point and origin O d: ± 1st order diffracted light On the x'direction of the virtual light source Position in

【0027】図2は、上記の式1において、λ=0.7
9μm、 l=2000μm、d=110μmとした場合
の格子周期Λ(x)の変化を示したグラフである。この
図では、レーザ光入射角(格子面法線とのなす角度)が
大きくなる側、別言すれば、レーザ光源からの距離が遠
い位置になる側はプラス側として表記され、その逆の側
はマイナス側として表記している。また、図中の点線
は、従来のビーム3分割用反射型回折格子の格子周期を
示している。以下の実施例においても同様である。
FIG. 2 shows that in the above equation 1, λ = 0.7.
9 is a graph showing changes in the grating period Λ (x) when 9 μm, l = 2000 μm, and d = 110 μm. In this figure, the side where the laser light incident angle (the angle formed by the normal to the lattice plane) is large, in other words, the side where the distance from the laser light source is far is described as the plus side, and the opposite side. Is shown as a minus side. The dotted line in the figure indicates the grating period of the conventional reflective diffraction grating for dividing the beam into three parts. The same applies to the following examples.

【0028】なお、図2のグラフにおける格子面上位置
のマイナス側で一部、グラフの傾きが逆転する部分があ
るが、この部分は回折格子の有効な開口内から外れるこ
とになる部分である。以下の実施例においても同様であ
る。
It should be noted that there is a portion where the inclination of the graph is reversed on the minus side of the position on the grating surface in the graph of FIG. 2, but this part is a part which is out of the effective aperture of the diffraction grating. . The same applies to the following examples.

【0029】図3は、上記のごとく周期変調された格子
面11aを有する場合の±1次回折光の仮想発光点の光
強度分布を示すグラフである。±1次仮想光源が0次仮
想光源を中心に対称で且つ光強度分布の幅が狭くなって
おり、図12に示した従来のビーム3分割用反射型回折
格子に比べてかなり改善されている。
FIG. 3 is a graph showing the light intensity distribution of the virtual light emitting points of the ± 1st order diffracted light in the case where the grating surface 11a which is periodically modulated as described above is provided. The ± first-order virtual light sources are symmetrical with respect to the zero-order virtual light source and the width of the light intensity distribution is narrowed, which is considerably improved as compared with the conventional reflective diffraction grating for dividing the beam into three beams shown in FIG. .

【0030】(実施例2)以下、本発明の他の実施例を
図4に基づいて説明する。
(Embodiment 2) Another embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

【0031】本実施例のビーム3分割用反射型回折格子
は、実施例1の式1を2次関数で近似した以下に示す式
2によって格子周期を変調している。
In the reflective diffraction grating for dividing the beam into three beams according to the present embodiment, the grating period is modulated by the following expression 2 which is obtained by approximating the expression 1 of the embodiment 1 by a quadratic function.

【0032】[0032]

【数2】Λ(x)=a(x−b)2 +c ただし、a,b,cは定数[Formula 2] Λ (x) = a (x−b) 2 + c where a, b, and c are constants.

【0033】図4は、上記の式2において、a=1.3
95×10-5、b=−720、c=12.75とした場
合の格子周期Λ(x)の変化を示したグラフである。図
2に示した結果とほぼ同様の結果を得ることができる。
FIG. 4 shows that in the above equation 2, a = 1.3.
9 is a graph showing changes in the lattice period Λ (x) when 95 × 10 −5 , b = −720, and c = 12.75. It is possible to obtain almost the same result as the result shown in FIG.

【0034】(実施例3)以下、本発明の他の実施例を
図5に基づいて説明する。
(Embodiment 3) Another embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

【0035】本実施例のビーム3分割用反射型回折格子
は、波動光学的手法を用い、以下に示す式3によって格
子周期を変調している。
The reflection type diffraction grating for dividing the beam into three beams according to the present embodiment modulates the grating period by the following equation 3 using a wave optical technique.

【0036】[0036]

【数3】Λ(x)=λh3 (x)/h4 (x) ただし、 h3 (x)=[{(x-x0)2+y0 2 }{(x-x1)2+y1 2 }]1/2 4 (x)=(x-x0)〔(x-x1)2+y1 21/2 -(x-x1)〔(x-x
0)2+y0 21/2 x0=-y0 =-l/21/2 x1=(-l+d)/21/2 y1=(-l-d)/21/2 あるいは、 x1=(-l-d)/21/2 y1=(-l+d)/21/2 なお、λ, l, d, x は、実施例1と同様に定義され
る。
## EQU3 ## Λ (x) = λh 3 (x) / h 4 (x) where h 3 (x) = [{(xx 0 ) 2 + y 0 2 } {(xx 1 ) 2 + y 1 2 }] 1/2 h 4 (x) = (xx 0) [(xx 1) 2 + y 1 2 ] 1/2 - (xx 1) [(xx
0 ) 2 + y 0 2 ] 1/2 x 0 = -y 0 = -l / 2 1/2 x 1 = (-l + d) / 2 1/2 y 1 = (-ld) / 2 1 / 2 or x 1 = (-ld) / 2 1/2 y 1 = (-l + d) / 2 1/2 Note that λ, l, d and x are defined as in the first embodiment.

【0037】図5は、上記の式3において、λ=0.7
9μm、 l=2000μm、d=110μmとした場合
の格子周期Λ(x)の変化を示したグラフであり、この
場合も、原点Oを通るX方向上において、レーザ光入射
角が大きくなる程その格子面11a上での格子周期Λ
(x)が長くなる。なお、この波動光学的手法により得
られた格子周期を有するビーム3分割用反射型回折格子
11は、これら実施例を通じて最もよい結果を得ること
ができた。
FIG. 5 shows that in the above expression 3, λ = 0.7.
9 is a graph showing changes in the grating period Λ (x) when 9 μm, l = 2000 μm, and d = 110 μm. In this case as well, the larger the incident angle of laser light is in the X direction passing through the origin O, Lattice period Λ on the lattice surface 11a
(X) becomes longer. The reflection type diffraction grating 11 for dividing the beam into three beams having the grating period obtained by the wave optics method could obtain the best results through these examples.

【0038】(実施例4)以下、本発明の他の実施例を
図6を用いて説明する。
(Embodiment 4) Another embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

【0039】本実施例では、図6に示すように、格子周
期Λ(x)の変化を直線近似させている。同図は、傾き
を0.016とした場合である。この直線近似の場合、
仮想光源のスポット幅はやや広がるものの、格子面の設
計が容易であるという利点を有する。
In this embodiment, as shown in FIG. 6, the change of the grating period Λ (x) is approximated by a straight line. The figure shows the case where the inclination is 0.016. For this linear approximation,
Although the spot width of the virtual light source is slightly widened, it has an advantage that the lattice plane can be easily designed.

【0040】(実施例5)以下、本発明の他の実施例を
図7を用いて説明する。
(Embodiment 5) Another embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

【0041】本実施例のビーム3分割用反射型回折格子
は、当該格子配置の位置精度を緩和し得るようになって
いる。即ち、実施例1乃至4では、回折格子の取付位置
がx方向にずれると、仮想光源の間隔が設計値からずれ
るという欠点を有するが、本実施例によれば、原点O付
近の周期変化が緩やかになっているので、回折格子の取
付位置の多少のずれを許容することが可能であり、光ピ
ックアップの組み立て容易化が図れる。
The reflection type diffraction grating for dividing the beam into three beams according to the present embodiment can relax the positional accuracy of the grating arrangement. That is, in Examples 1 to 4, there is a defect that the distance between the virtual light sources deviates from the design value when the mounting position of the diffraction grating deviates in the x direction. However, according to this Example, the periodic change near the origin O Since it is gradual, it is possible to allow a slight shift in the mounting position of the diffraction grating, which facilitates the assembly of the optical pickup.

【0042】本実施例では、格子周期Λ(x)は、4次
関数である以下の式4により与えている。
In this embodiment, the lattice period Λ (x) is given by the following equation 4 which is a quartic function.

【0043】[0043]

【数4】Λ(x)=a1 3 (b1 x−c1 )+f1 ただし、a1 ,b1 ,c1 ,f1 は定数Λ (x) = a 1 x 3 (b 1 x−c 1 ) + f 1 where a 1 , b 1 , c 1 and f 1 are constants.

【0044】図6は、上記の式4において、a1 =2.
871×10-11 、b1 =3、c1=−2880、f1
=20.23とした場合の格子周期Λ(x)の変化を示
したグラフである。図から明らかなように、原点O付近
での周期変化が略一定になっている。
FIG. 6 shows that a 1 = 2.
871 × 10 −11 , b 1 = 3, c 1 = −2880, f 1
5 is a graph showing a change in lattice period Λ (x) when = 20.23. As is clear from the figure, the periodic change near the origin O is substantially constant.

【0045】(実施例6)以下、本発明の他の実施例を
図8を用いて説明する。
(Embodiment 6) Another embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

【0046】本実施例のビーム3分割用反射型回折格子
は、実施例5と同様、格子配置の位置精度を緩和し得る
ものである。そして、格子周期Λ(x)は、以下の式5
により与えている。
The reflection type diffraction grating for dividing the beam into three beams according to the present embodiment can relax the positional accuracy of the grating arrangement, as in the fifth embodiment. Then, the lattice period Λ (x) is expressed by the following equation 5
Is given by.

【0047】[0047]

【数5】x≦0の領域で、 Λ(x)=a2 cos(xπ/b2 )+c2 x>0の領域で、 Λ(x)=f2 1.5 +g2 ただし、a2 ,b2 ,c2 ,f2 ,g2 は定数In the region of x ≦ 0, Λ (x) = a 2 cos (xπ / b 2 ) + c 2 In the region of x> 0, Λ (x) = f 2 x 1.5 + g 2 where a 2 , b 2 , c 2 , f 2 and g 2 are constants

【0048】図8は、上記の式5において、a2 =3.
858、b2 =720、c2 =16.37、f2 =1.
230×10-10 、g2 =20.23とした場合の格子
周期Λ(x)の変化を示したグラフである。図から明ら
かなように、原点O付近での周期変化が略一定になって
いる。
FIG. 8 shows that a 2 = 3.
858, b 2 = 720, c 2 = 16.37, f 2 = 1.
6 is a graph showing changes in the grating period Λ (x) when 230 × 10 −10 and g 2 = 20.23. As is clear from the figure, the periodic change near the origin O is substantially constant.

【0049】なお、以上の説明で示された式1〜5は例
示であり、他の関数によって格子周期を表現するように
してもよい。勿論、これらとともに示した変数或いは定
数として他の数値を用いてもよいものである。
The expressions 1 to 5 shown in the above description are examples, and the lattice period may be expressed by another function. Of course, other numerical values may be used as the variables or constants shown with these.

【0050】(実施例7)次に、光ピックアップについ
て説明する。本発明の光ピックアップは、以上に説明し
たビーム3分割用反射型回折格子11を備えて成る。勿
論、このビーム3分割用反射型回折格子11は、発散レ
ーザ光源の光軸に対して傾斜させて用いられる。即ち、
本発明のビーム3分割用反射型回折格子は、従来例で示
した図9のごとく配置されるものであり、他の構成も、
図9と同様に構成できる。
(Embodiment 7) Next, an optical pickup will be described. The optical pickup of the present invention comprises the reflection type diffraction grating 11 for dividing the beam into three beams as described above. Of course, the beam-divided reflection type diffraction grating 11 is used while being inclined with respect to the optical axis of the diverging laser light source. That is,
The reflection type diffraction grating for dividing the beam into three beams according to the present invention is arranged as shown in FIG. 9 showing the conventional example, and other configurations are also as follows.
It can be configured similarly to FIG.

【0051】かかる光ピックアップによれば、トラッキ
ングエラー信号の振幅を大きくすることができ、更に、
光ディスクが傾斜したときでも信号にオフセットが生じ
たりするのを回避できるので、トラッキングサーボの信
頼性を向上させることができる。
According to such an optical pickup, the amplitude of the tracking error signal can be increased, and further,
Even when the optical disc is tilted, it is possible to avoid the occurrence of an offset in the signal, so that it is possible to improve the reliability of the tracking servo.

【0052】なお、以上の実施例では、原点Oを通る格
子面上での光入射点とレーザ発光点の距離の変化に対し
てのみ周期を変調し、X方向と直交する方向では周期が
変化しない(即ち、平行な直線状の格子パターン)とし
たが、原点Oを通らないX方向でのレーザ発光点と格子
面上の光入射点との距離の変化をも加味し、X方向と直
交する方向の各位置で格子周期が異なるよう(即ち、曲
線状の格子パターン)にしてもよいものである。
In the above embodiment, the cycle is modulated only with respect to the change in the distance between the light incident point and the laser emission point on the lattice plane passing through the origin O, and the cycle changes in the direction orthogonal to the X direction. Although not (that is, parallel linear grid pattern), the change in the distance between the laser emission point in the X direction that does not pass through the origin O and the light incident point on the grid surface is taken into consideration, and is orthogonal to the X direction. The lattice period may be different at each position in the direction (that is, a curved lattice pattern).

【0053】また、以上の実施例に限らず、入射ビーム
を反射すると共に分割するビーム3分割用反射型回折格
子において、3分割されたビームが形成するスポットが
一直線上に等間隔で且つその各スポットが小さくなるよ
うにした回折格子形状を有するように構成してもよく、
また、この構成において上記入射ビームが非平行ビーム
であってもよいものである。
Further, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, but in the reflection type diffraction grating for dividing the beam into three beams which reflects and splits the incident beam, the spots formed by the three-divided beam are arranged on a straight line at equal intervals. It may be configured to have a diffraction grating shape with a small spot,
Further, in this configuration, the incident beam may be a non-parallel beam.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上のように、本発明のビーム3分割用
反射型回折格子によれば、3分割されたビームが形成す
るスポットが一直線上に等間隔で且つその各スポットが
小さくなり、また、3分割回折されたビームのスポット
間隔を対称に且つ小スポットに集光させることができ、
また、原点付近の周期変化が緩やかにする構成では、回
折格子の取付位置の多少のずれを許容することが可能で
あるため、光ピックアップの組み立て容易化が図れる。
また、本発明の光ピックアップによれば、トラッキング
エラー信号の振幅は大きくなり、更に、光ディスクが傾
斜したときでも信号にオフセットが生じたりするのを回
避できるので、トラッキングサーボの信頼性を向上させ
ることができるという効果を奏する。
As described above, according to the reflection type diffraction grating for splitting a beam into three beams according to the present invention, the spots formed by the beam split into three beams are arranged at equal intervals on a straight line, and the respective spots become smaller. The spot spacing of the beam diffracted in three divisions can be focused symmetrically and into a small spot,
Further, in the configuration in which the periodical change near the origin is gradual, it is possible to allow a slight shift in the mounting position of the diffraction grating, so that the assembly of the optical pickup can be facilitated.
Further, according to the optical pickup of the present invention, the amplitude of the tracking error signal becomes large, and further, it is possible to avoid the occurrence of offset in the signal even when the optical disc is tilted, so that the reliability of the tracking servo is improved. There is an effect that can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のビーム3分割用反射型回折格子の縦断
側面図である。
FIG. 1 is a vertical sectional side view of a reflective diffraction grating for dividing a beam into three beams according to the present invention.

【図2】本発明のビーム3分割用反射型回折格子の格子
周期を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing a grating period of a reflection type diffraction grating for dividing a beam into three beams according to the present invention.

【図3】図2の格子周期を有するビーム3分割用反射型
回折格子による仮想光源位置に対する光強度分布を示す
グラフである。
FIG. 3 is a graph showing a light intensity distribution with respect to a virtual light source position by a beam-dividing reflective diffraction grating having the grating period of FIG.

【図4】本発明の他の実施例のビーム3分割用反射型回
折格子の格子周期を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing a grating period of a reflective diffraction grating for dividing a beam into three beams according to another embodiment of the present invention.

【図5】本発明の他の実施例のビーム3分割用反射型回
折格子の格子周期を示すグラフである。
FIG. 5 is a graph showing a grating period of a reflective diffraction grating for dividing a beam into three beams according to another embodiment of the present invention.

【図6】本発明の他の実施例のビーム3分割用反射型回
折格子の格子周期を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing a grating period of a reflective diffraction grating for dividing a beam into three beams according to another embodiment of the present invention.

【図7】本発明の他の実施例のビーム3分割用反射型回
折格子の格子周期を示すグラフである。
FIG. 7 is a graph showing a grating period of a reflective diffraction grating for dividing a beam into three beams according to another embodiment of the present invention.

【図8】本発明の他の実施例のビーム3分割用反射型回
折格子の格子周期を示すグラフである。
FIG. 8 is a graph showing a grating period of a reflective diffraction grating for dividing a beam into three beams according to another embodiment of the present invention.

【図9】光ピックアップの模式的断面図である。FIG. 9 is a schematic sectional view of an optical pickup.

【図10】半導体レーザから出射された光ビームが、4
5°傾けて配置されたビーム3分割用反射型回折格子に
よって3分割回折されて反射される様子を示すととも
に、仮想光源が回折格子面を基準にして半導体レーザ4
と対称な位置に形成される様子を示した説明図である。
FIG. 10 shows that the light beam emitted from the semiconductor laser is 4
The semiconductor laser 4 shows a state in which a virtual light source is diffracted and reflected by the reflection type diffraction grating for dividing the beam into three beams, which is arranged at an angle of 5 °, and the virtual light source is based on the diffraction grating surface.
FIG. 6 is an explanatory view showing a state of being formed at a position symmetrical with.

【図11】従来のビーム3分割用反射型回折格子を示す
縦断側面図である。
FIG. 11 is a vertical sectional side view showing a conventional reflective diffraction grating for dividing a beam into three parts.

【図12】従来のビーム3分割用反射型回折格子による
仮想光源位置に対する光強度分布を示すグラフである。
FIG. 12 is a graph showing a light intensity distribution with respect to a virtual light source position by a conventional reflective diffraction grating for dividing a beam into three parts.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 良熱伝導性基板 4 半導体レーザチップ 5 信号検出用PINフォトダイオード 7 ホログラム素子 8 集光用レンズ 9 光ディスク9 11 ビーム3分割用反射型回折格子 11a格子面 1 Good Thermal Conductivity Substrate 4 Semiconductor Laser Chip 5 Signal Detection PIN Photodiode 7 Hologram Element 8 Condensing Lens 9 Optical Disc 9 11 Reflective Diffraction Grating for Beam 3 Division 11a Lattice Surface

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山口 隆夫 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 (72)発明者 新名 達彦 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Takao Yamaguchi 2-5-5 Keihan Hondori, Moriguchi City, Osaka Prefecture Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Tatsuhiko Shinmei 2-chome, Keihan Hondori, Moriguchi City, Osaka Prefecture No. 5-5 Sanyo Electric Co., Ltd.

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 入射ビームを反射すると共に分割するビ
ーム3分割用反射型回折格子において、3分割されたビ
ームが形成する集光スポットが一直線上に等間隔で且つ
その各スポットが小さくなるようにした回折格子形状を
有することを特徴とするビーム3分割用反射型回折格
子。
1. A reflective diffraction grating for splitting a beam into three beams, which reflects and splits an incident beam, so that condensed spots formed by the three-split beam are arranged at equal intervals on a straight line and each spot becomes small. A reflective diffraction grating for dividing the beam into three beams, which has the above-mentioned diffraction grating shape.
【請求項2】 上記入射ビームが非平行ビームであるこ
とを特徴とする請求項1に記載のビーム3分割用反射型
回折格子。
2. The reflection diffraction grating for splitting a beam into three beams according to claim 1, wherein the incident beam is a non-parallel beam.
【請求項3】 発散レーザ光源の光軸に対して傾斜させ
て用いられ、格子面上でのレーザ発光点からの距離また
はレーザ光入射角が傾斜方向で異なることになるビーム
3分割用反射型回折格子において、その傾斜方向に回折
する作用を有し、3分割回折作用により形成される±1
次仮想光源の位置が、0次仮想光源を中心に対称で且つ
±1次仮想光源の光強度分布の幅が狭くなるように格子
の周期変調がなされていることを特徴とするビーム3分
割用反射型回折格子。
3. A reflection type for dividing into three beams, which is used by being inclined with respect to the optical axis of a divergent laser light source, and the distance from the laser emission point on the grating surface or the laser light incident angle is different in the inclination direction. In the diffraction grating, it has a function of diffracting in its tilt direction, and is formed by a three-division diffraction function ± 1
The beam is divided into three parts, wherein the position of the secondary virtual light source is symmetrical about the zeroth virtual light source, and the periodic modulation of the grating is performed so that the width of the light intensity distribution of the ± primary virtual light sources is narrowed. Reflective diffraction grating.
【請求項4】 発散レーザ光源の光軸に対して傾斜させ
て用いられ、格子面上でのレーザ発光点からの距離また
はレーザ光入射角が傾斜方向で異なることになるビーム
3分割用反射型回折格子において、その傾斜方向に回折
する作用を有し、少なくとも有効な開口内で、前記レー
ザ発光点からの距離が大きくなる程またはレーザ光入射
角が大きくなる程その格子面上での格子周期が長くなる
ように格子の周期変調がなされていることを特徴とする
ビーム3分割用反射型回折格子。
4. A reflection type for dividing into three beams, which is used while being inclined with respect to the optical axis of a divergent laser light source, and the distance from the laser emission point on the grating surface or the laser light incident angle is different in the inclination direction. In the diffraction grating, it has a function of diffracting in its tilt direction, and at least within the effective aperture, the larger the distance from the laser emission point or the larger the laser light incident angle, the grating period on the grating surface. A reflection type diffraction grating for dividing a beam into three beams, characterized in that the period of the grating is modulated so as to be longer.
【請求項5】 発散レーザ光源の光軸が交わる付近の格
子周期が略一定若しくは他の部分よりも変化が緩やかに
なっていることを特徴とする請求項3又は請求項4に記
載のビーム3分割用反射型回折格子。
5. The beam 3 according to claim 3, wherein the grating period in the vicinity of the intersection of the optical axes of the diverging laser light source is substantially constant or the change is gentler than in other portions. Reflective diffraction grating for division.
【請求項6】 格子周期Λ(x)が、 Λ(x)=(1/2)〔λ/h1(x) +λ/h2(x) 〕 ただし、 h1(x) =sin(tan -1((d-x)/(l+x))-π/4)+sin(tan -1
(x/(l+x))+π/4) h2(x) =sin(tan -1(-x/(l+x))- π/4)+sin(tan
-1((d+x)/(l+x))+π/4) x:レーザ発光点とその光軸が格子面に交わる点Oから
の格子面上での傾斜方向上の距離 λ:レーザ光の波長 l:レーザ発光点とその光軸が格子面に交わる点Oとの
距離 d:±1次回折光仮想光源の0次回折光仮想光源からの
距離 のように変調されていることを特徴とする請求項3又は
4に記載のビーム3分割用反射型回折格子。
6. The lattice period Λ (x) is Λ (x) = (1/2) [λ / h 1 (x) + λ / h 2 (x)], where h 1 (x) = sin (tan -1 ((dx) / (l + x))-π / 4) + sin (tan -1
(x / (l + x)) + π / 4) h 2 (x) = sin (tan -1 (-x / (l + x))-π / 4) + sin (tan
-1 ((d + x) / (l + x)) + π / 4) x: Distance in the tilt direction on the lattice plane from the point O where the laser emission point and its optical axis intersect the lattice plane λ: Wavelength of laser light l: Distance between laser emission point and point O where its optical axis intersects the lattice plane d: ± 1st-order diffracted light Virtual light source is modulated like 0th-order diffracted light virtual light source The reflective diffraction grating for dividing the beam into three beams according to claim 3 or 4.
【請求項7】 格子周期Λ(x)が、 Λ(x)=a(x−b)2 +c ただし、 a,b,cは定数、xはレーザ光の光軸が格子面に交わ
る点からの格子面上での傾斜方向上の距離のように変調
されていることを特徴とする請求項3又は4に記載のビ
ーム3分割用反射型回折格子。
7. The grating period Λ (x) is Λ (x) = a (x−b) 2 + c, where a, b, and c are constants, and x is a point from which the optical axis of the laser light intersects the lattice plane. 5. The reflection type diffraction grating for dividing the beam into three parts according to claim 3 or 4, wherein the reflection type diffraction grating is modulated like a distance in a tilt direction on the grating surface.
【請求項8】 格子周期Λ(x)が、 Λ(x)=λh3 (x)/h4 (x) ただし、 h3 (x)=[{(x-x0)2+y0 2 }{(x-x1)2+y1 2 }]1/2 4 (x)=(x-x0)〔(x-x1)2+y1 21/2 -(x-x1)〔(x-x
0)2+y0 21/2 x0=-y0 =-l/21/2 x1=(-l+d)/21/2 y1=(-l-d)/21/2 あるいは、 x1=(-l-d)/21/2 y1=(-l+d)/21/2 x:レーザ発光点とその光軸が格子面に交わる点Oから
の格子面上での傾斜方向上の距離 λ:レーザ光の波長 l:レーザ発光点とその光軸が格子面に交わる点Oとの
距離 d:±1次回折光仮想光源の0次回折光仮想光源からの
距離 のように変調されていることを特徴とする請求項3又は
4に記載のビーム3分割用反射型回折格子。
8. The lattice period Λ (x) is Λ (x) = λh 3 (x) / h 4 (x) where h 3 (x) = [{(xx 0 ) 2 + y 0 2 } { (xx 1) 2 + y 1 2}] 1/2 h 4 (x) = (xx 0) [(xx 1) 2 + y 1 2 ] 1/2 - (xx 1) [(xx
0 ) 2 + y 0 2 ] 1/2 x 0 = -y 0 = -l / 2 1/2 x 1 = (-l + d) / 2 1/2 y 1 = (-ld) / 2 1 / 2 or x 1 = (-ld) / 2 1/2 y 1 = (-l + d) / 2 1/2 x: On the lattice plane from the point O where the laser emission point and its optical axis intersect the lattice plane In the tilt direction at λ: wavelength of laser light l: distance between laser emission point and point O where its optical axis intersects the lattice plane d: ± first-order diffracted light virtual light source distance from zero-order diffracted light virtual light source 5. The beam-divided reflection type diffraction grating according to claim 3, wherein the reflection diffraction grating is modulated as follows.
【請求項9】 格子周期Λ(x)が、 Λ(x)=a1 3 (b1 x−c1 )+f1 ただし、 a1 ,b1 ,c1 ,f1 は定数、xはレーザ光の光軸が
格子面に交わる点からの格子面上での傾斜方向上の距離
のように変調されていることを特徴とする請求項5に記
載のビーム3分割用反射型回折格子。
9. The lattice period Λ (x) is Λ (x) = a 1 x 3 (b 1 x−c 1 ) + f 1 where a 1 , b 1 , c 1 , f 1 are constants and x is 6. The reflection diffraction grating for beam splitting according to claim 5, wherein the optical axis of the laser light is modulated like a distance in a tilt direction on the grating surface from a point where the optical axis intersects the grating surface.
【請求項10】 格子周期Λ(x)がx≦0の領域で、 Λ(x)=a2 cos(xπ/b2 )+c2 x>0の領域で、 Λ(x)=f2 1.5 +g2 ただし、 a2 ,b2 ,c2 ,f2 ,g2 は定数、xはレーザ光の
光軸が格子面に交わる点からの格子面上での傾斜方向上
の距離のように変調されていることを特徴とする請求項
5に記載のビーム3分割用反射型回折格子。
10. A region where the lattice period Λ (x) is x ≦ 0, and a region where Λ (x) = a 2 cos (xπ / b 2 ) + c 2 x> 0. Λ (x) = f 2 x 1.5 + g 2 where a 2 , b 2 , c 2 , f 2 and g 2 are constants, and x is the distance in the tilt direction on the lattice plane from the point where the optical axis of the laser beam intersects the lattice plane. The reflective diffraction grating for dividing the beam into three beams according to claim 5, wherein the reflective diffraction grating is modulated.
【請求項11】 請求項1乃至請求項10のいずれかの
ビーム3分割用反射型回折格子を備えたことを特徴とす
る光ピックアップ。
11. An optical pickup comprising the reflective diffraction grating for splitting a beam into three beams according to claim 1. Description:
JP09472694A 1994-05-09 1994-05-09 Reflection grating for beam splitting and optical pickup using the same Expired - Fee Related JP3172360B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP09472694A JP3172360B2 (en) 1994-05-09 1994-05-09 Reflection grating for beam splitting and optical pickup using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP09472694A JP3172360B2 (en) 1994-05-09 1994-05-09 Reflection grating for beam splitting and optical pickup using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07302435A true JPH07302435A (en) 1995-11-14
JP3172360B2 JP3172360B2 (en) 2001-06-04

Family

ID=14118125

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP09472694A Expired - Fee Related JP3172360B2 (en) 1994-05-09 1994-05-09 Reflection grating for beam splitting and optical pickup using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3172360B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6487015B2 (en) 1998-09-28 2002-11-26 Sharp Kabushiki Kaisha Diffraction grating having multiple gratings with different cycles for generating multiple beams and optical pickup using such diffraction grating
US6501601B1 (en) 1999-04-28 2002-12-31 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical device with diffraction grating having plural grating regions
JP2016090571A (en) * 2014-11-10 2016-05-23 ジック アーゲー Photoelectric sensor

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6487015B2 (en) 1998-09-28 2002-11-26 Sharp Kabushiki Kaisha Diffraction grating having multiple gratings with different cycles for generating multiple beams and optical pickup using such diffraction grating
US6501601B1 (en) 1999-04-28 2002-12-31 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical device with diffraction grating having plural grating regions
US6728035B2 (en) 1999-04-28 2004-04-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical device with diffraction grating having plural grating regions
JP2016090571A (en) * 2014-11-10 2016-05-23 ジック アーゲー Photoelectric sensor

Also Published As

Publication number Publication date
JP3172360B2 (en) 2001-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5473471A (en) Complex lens with diffraction grating
KR930002166B1 (en) Optical diffaction grating element and optical pick-up device and optical scan device
EP0305169A2 (en) Optical pickup apparatus and optical grating assembly therefor
EP0582958B1 (en) A semiconductor laser device, an optical device and a method of producing the same
JP4316235B2 (en) Optical element, optical semiconductor device, and optical information processing apparatus using them
JP2672620B2 (en) Optical head device and assembling method thereof
JPH06195727A (en) Optical scanner
US5648946A (en) Optical pick-up apparatus with holographic optical element to diffract both forward and return light beams
KR100326688B1 (en) Gwangju scanning device and radiation detector
JPH07302435A (en) Reflection type diffraction grating for trisecting beam and optical pickup formed by using the same
JPH05135402A (en) Optical scanning head
JP2594445B2 (en) Hologram optical head
JP4285955B2 (en) Hologram optical element, misregistration detection device, and optical recording medium driving device
US5473470A (en) Polarization detector
JP3558843B2 (en) Optical pickup
US6212149B1 (en) Modified light-receiving element in an optical pickup for reading optical discs
JPS6267737A (en) Optical information reproducing device
KR950001073B1 (en) Using hologram device optical pick-up apparauts
JP2002288856A (en) Optical pickup
JPH10320810A (en) Semiconductor laser device and optical pickup device
JP3462988B2 (en) Diffraction grating and optical pickup for generating multiple beams
JPH10213777A (en) Beam shaping device
KR20050088124A (en) Optical pickup apparatus
JP3107892B2 (en) Optical head
KR100297527B1 (en) Optical pickup

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090323

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090323

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100323

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110323

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees