JPH07296757A - Scanning electron microscope, and similar device thereto - Google Patents

Scanning electron microscope, and similar device thereto

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Publication number
JPH07296757A
JPH07296757A JP6084325A JP8432594A JPH07296757A JP H07296757 A JPH07296757 A JP H07296757A JP 6084325 A JP6084325 A JP 6084325A JP 8432594 A JP8432594 A JP 8432594A JP H07296757 A JPH07296757 A JP H07296757A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
stage
sample stage
electron beam
signal
Prior art date
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Pending
Application number
JP6084325A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroko Iwabuchi
裕子 岩淵
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP6084325A priority Critical patent/JPH07296757A/en
Publication of JPH07296757A publication Critical patent/JPH07296757A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To perform image observation and analysis in a precise position regardless of kind of sample or sample inclination. CONSTITUTION:When the distance between the surface of a sample 11 and an objective lens 7 is set, the current of an exciting coil 6 is set according to the signal of an optical system control part 13. At this time, whether the surface of the sample 11 is conformed to the position of a preset focusing point (focal point) or not is judged from the signal obtained by a secondary signal detector 9 by a focusing point detecting part 16. When it is not conformed, the signal is transmitted to a sample stage driving part 18 through a sample stage control part 17, and a sample stage 10 is vertically moved. According to this method, the sample stage 10 can be set in a position where the sample surface is conformed to the focusing point.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子銃から放出された
一次電子線を試料上に照射して得られる二次信号に基づ
いて走査像を得る走査電子顕微鏡およびその類似装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a scanning electron microscope which obtains a scanning image based on a secondary signal obtained by irradiating a sample with a primary electron beam emitted from an electron gun, and a similar device.

【0002】[0002]

【従来の技術】特公平3−66777号公報に記載されている
ような方法によれば、試料ステージの垂直方向の移動と
対物レンズの励磁電流を連動させるために、最初のステ
ージの位置を記憶させておく必要がある。また試料の厚
みにはばらつきがあるため、ステージ位置を移動させな
くても観察位置を移動させる度にフォーカス合わせを行
うことになる。つまり観察位置を変える度にその位置と
対物レンズの励磁電流値を記憶させることが必要とな
る。これは試料表面の高さの違いに対してだけでなく、
ステージの水平方向の移動に対しても考慮が成されてい
ない。また記載によれば最初にフォーカス合わせを行
い、その後記憶させるという手順をふまなくてはならな
いので操作性が煩雑である。
2. Description of the Related Art According to the method disclosed in Japanese Examined Patent Publication No. 3-66777, the position of the first stage is memorized in order to link the vertical movement of the sample stage and the exciting current of the objective lens. I need to keep it. Further, since the thickness of the sample varies, the focus adjustment is performed each time the observation position is moved without moving the stage position. That is, each time the observation position is changed, it is necessary to store the position and the exciting current value of the objective lens. This is not only due to the difference in height of the sample surface,
No consideration has been given to the horizontal movement of the stage. Further, according to the description, the procedure of first performing focus adjustment and then memorizing is required, so that operability is complicated.

【0003】従来の装置では、試料の垂直方向の位置検
出用信号により垂直方向の位置制御を行っていた。しか
し、この従来の技術では、試料の厚みのばらつきや試料
高さの設定誤差に対する考慮が成されておらず、試料表
面(観察面)の正確な位置設定が困難であった。
In the conventional apparatus, the vertical position control is performed by the vertical position detection signal of the sample. However, in this conventional technique, it is difficult to accurately set the position of the sample surface (observation surface) because the variation in the sample thickness and the setting error of the sample height are not taken into consideration.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、試
料の厚みのばらつきや試料高さの設定誤差があると予め
設定された垂直方向の位置に正しく試料表面を設定でき
ない。例えばX線分析を行う場合、試料と対物レンズの
距離が既に決められているため、試料表面(分析点)の
垂直方向の位置ずれは分析感度の低下を招いていた。
In the above-mentioned prior art, the sample surface cannot be correctly set at a preset vertical position if there is variation in sample thickness or sample height setting error. For example, when performing X-ray analysis, since the distance between the sample and the objective lens has already been determined, the positional deviation of the sample surface (analysis point) in the vertical direction causes a decrease in analysis sensitivity.

【0005】本発明の目的は、試料の厚みのばらつきや
試料高さの設定誤差があっても予め設定した位置に試料
表面を正確に合わせることにある。
An object of the present invention is to accurately align the sample surface with a preset position even if there are variations in sample thickness and sample height setting errors.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明では図1に示すよ
うに電子銃1と、該電子銃から放出された一次電子線2
を細く絞って試料上に照射するための集束コイル5,励
磁コイル6及び対物レンズ7と、該一次電子線を試料上
で二次元的に走査するための偏向器8a及び8bと、一
次電子線の照射によって試料から発生する二次信号を検
出するための二次信号検出器9と、試料を対物レンズに
対して水平および垂直方向に移動できる試料ステージ1
0を具備した電子線装置において、ステージの垂直方向
の位置を電気的に制御する手段と、一次電子線を試料上
で走査したときに得られる二次電子または反射電子信号
から一次電子線の集束点(フォーカス点)と試料表面と
が一致したか否かを検出するフォーカス検出手段を設
け、該フォーカス検出手段で得られた信号により、予め
設定された集束点(フォーカス点)と試料表面が一致す
るように試料ステージの垂直方向の位置を制御すること
に特徴がある。
In the present invention, as shown in FIG. 1, an electron gun 1 and a primary electron beam 2 emitted from the electron gun 1 are used.
Focusing coil 5, exciting coil 6 and objective lens 7 for irradiating the sample with a narrowed beam, deflectors 8a and 8b for two-dimensionally scanning the primary electron beam on the sample, and primary electron beam Secondary signal detector 9 for detecting the secondary signal generated from the sample by the irradiation of the sample, and the sample stage 1 capable of moving the sample in the horizontal and vertical directions with respect to the objective lens.
In an electron beam apparatus equipped with 0, means for electrically controlling the vertical position of the stage and focusing of the primary electron beam from secondary electron or backscattered electron signals obtained when the primary electron beam is scanned on the sample. A focus detection unit that detects whether or not the point (focus point) and the sample surface match is provided, and the preset focusing point (focus point) and the sample surface match by the signal obtained by the focus detection unit. The vertical position of the sample stage is controlled as described above.

【0007】[0007]

【作用】上記した構成によれば、試料表面と対物レンズ
との距離を設定すると予め設定された集束点(フォーカ
ス点)と試料表面とが一致するように、試料ステージの
垂直方向の位置がフォーカス検出手段からの信号によっ
て電気的に制御され、正確な試料表面位置が設定される
ことになる。これによって試料の種類、また試料傾斜角
度に関係なく正確な試料位置が設定されることになり、
正確な位置での像観察,分析が可能になる。
According to the above-described structure, when the distance between the sample surface and the objective lens is set, the vertical position of the sample stage is focused so that the preset focus point (focus point) and the sample surface coincide with each other. An accurate sample surface position is set by being electrically controlled by the signal from the detection means. This will set an accurate sample position regardless of the sample type and sample tilt angle.
This enables image observation and analysis at accurate positions.

【0008】[0008]

【実施例】図1により本発明の一実施例を説明する。そ
の流れを図2のフローチャートとして操作例を以下に示
す。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. An example of the operation is shown below as a flowchart of FIG.

【0009】電子銃1から放出された一次電子線2は集
束コイル5及び対物レンズ7により細く絞られて試料上
に照射され、偏向器8a及び8bで試料上で二次元的に
走査される。一次電子線の照射によって試料から発生す
る二次信号は二次信号検出器9により検出される。試料
は試料ステージ10により対物レンズに対して水平及び
垂直方向に移動できる。試料11の表面と対物レンズ7
との距離を制御部12により設定すると、光学系制御部
13から供給される信号により励磁電流制御部14にお
いて励磁コイル6の電流値が設定される。二次信号検出
器9より検出された信号は二次信号検出部15を介して
集束点検出部16に供給される。ここで二次信号検出器
9によって得られた信号により試料11の表面が光学系
制御部13および励磁電流制御部14によって設定され
た集束点と一致しているか否かを集束点検出部16によ
って検出する。検出された信号は集束点検出部16より
試料ステージ駆動制御部17を介して試料ステージ駆動
部18に供給され、試料ステージ10の垂直方向の移動
が行われる。このときの移動信号は該試料ステージ駆動
制御部17及び試料ステージ駆動部18より試料ステー
ジ位置検出部19を介して集束点検出部16に供給され
る。この場合集束点と一致したことが検出されると、検
出信号が試料ステージ駆動制御部17を介して試料ステ
ージ駆動部18に供給されステージ位置が設定される。
また、集束点と一致したことが未検出であると、未検出
信号が試料ステージ駆動制御部17を介して試料ステー
ジ駆動部18に供給され試料ステージ10の垂直方向の
移動が行われる。このときの移動信号は試料ステージ位
置検出部19を介して集束点検出部16に供給される。
試料ステージ10の移動中も常に前記方法により集束点
と試料表面とが一致したか否か検出が行われ、一致した
ことが検出されると、検出信号が試料ステージ駆動制御
部17を介して試料ステージ駆動部18に供給されステ
ージ位置が設定される。
The primary electron beam 2 emitted from the electron gun 1 is narrowed down by the focusing coil 5 and the objective lens 7 to irradiate the sample, and two-dimensionally scanned on the sample by the deflectors 8a and 8b. The secondary signal generated from the sample by the irradiation of the primary electron beam is detected by the secondary signal detector 9. The sample can be moved horizontally and vertically with respect to the objective lens by the sample stage 10. Surface of sample 11 and objective lens 7
When the distance between and is set by the control unit 12, the exciting current control unit 14 sets the current value of the exciting coil 6 by a signal supplied from the optical system control unit 13. The signal detected by the secondary signal detector 9 is supplied to the focusing point detector 16 via the secondary signal detector 15. Here, the focus point detection unit 16 determines whether or not the surface of the sample 11 matches the focus point set by the optical system control unit 13 and the excitation current control unit 14 based on the signal obtained by the secondary signal detector 9. To detect. The detected signal is supplied from the focus point detection unit 16 to the sample stage drive unit 18 via the sample stage drive control unit 17, and the sample stage 10 is moved in the vertical direction. The movement signal at this time is supplied from the sample stage drive control section 17 and the sample stage drive section 18 to the focusing point detection section 16 via the sample stage position detection section 19. In this case, when it is detected that it coincides with the focus point, a detection signal is supplied to the sample stage drive unit 18 via the sample stage drive control unit 17, and the stage position is set.
Further, if it is not detected that it coincides with the focus point, an undetected signal is supplied to the sample stage drive unit 18 via the sample stage drive control unit 17, and the sample stage 10 is moved in the vertical direction. The movement signal at this time is supplied to the focus point detection unit 16 via the sample stage position detection unit 19.
While the sample stage 10 is moving, it is always detected by the above method whether or not the focusing point and the sample surface are coincident with each other. When the coincidence is detected, a detection signal is transmitted via the sample stage drive controller 17 to the sample. It is supplied to the stage drive unit 18 and the stage position is set.

【0010】上記した一連の動作は、ステージ制御の前
に予め試料表面の垂直方向の位置を集束点検出手段で検
出し、その後試料表面位置と設定値とのずれ分だけステ
ージを制御することでも同様の効果が得られる。
The above-described series of operations may be performed by detecting the vertical position of the sample surface in advance by the focusing point detecting means before controlling the stage, and then controlling the stage by the amount of deviation between the sample surface position and the set value. The same effect can be obtained.

【0011】上記方法で試料ステージ10を傾斜させた
場合の一例を図3に示す。
An example in which the sample stage 10 is tilted by the above method is shown in FIG.

【0012】制御部12により傾斜角度を設定すると、
その信号が傾斜角度制御部20を介して傾斜駆動部21
に供給され、試料ステージ10が傾斜する。この傾斜信
号は傾斜角度検出部22を介して試料ステージ位置検出
部19に供給される。この信号が制御部12を介して試
料ステージ制御部17に供給され試料ステージ10の垂
直方向の制御範囲が制御される。
When the tilt angle is set by the control unit 12,
The signal is transmitted to the tilt drive unit 21 via the tilt angle control unit 20.
And the sample stage 10 is tilted. This tilt signal is supplied to the sample stage position detector 19 via the tilt angle detector 22. This signal is supplied to the sample stage controller 17 via the controller 12 to control the vertical control range of the sample stage 10.

【0013】上記方法を応用した走査透過形電子顕微鏡
の一例を図4に示す。
An example of a scanning transmission electron microscope to which the above method is applied is shown in FIG.

【0014】上記同様に試料11の表面位置を設定し、
光学系制御部13から供給される信号により励磁電流制
御部14において励磁コイル6の電流値が設定される。
二次信号検出器9より検出された信号は二次信号検出部
15を介して集束点検出部16に供給される。また弾性
散乱電子検出器23より検出された信号は弾性散乱電子
検出部24を介して、さらにS/N比の向上された信号
を得るため信号処理部25へ供給され、透過電子及び非
弾性散乱電子検出器26より検出された信号は透過電子
及び非弾性散乱電子検出部27を介して信号処理部25
へ供給され、信号処理部25で処理された信号は集束点
検出部16に供給される。なお弾性散乱電子検出部24
及び透過電子及び非弾性散乱電子検出部27の信号は信
号処理部25を通さずに、直接励磁電流制御部14及び
集束点検出部16に供給されてもよい。ここで前記手段
によって得られた信号により試料11の表面が光学系制
御部13及び励磁電流制御部14によって設定された集
束点と一致しているか否かを集束点検出部16によって
検出する。検出された信号は集束点検出部16より試料
ステージ駆動制御部17を介して試料ステージ駆動部1
8に供給され、試料ステージ10の垂直方向の移動が行
われる。このときの移動信号は試料ステージ駆動制御部
17及び試料ステージ駆動部18より試料ステージ位置
検出器19を介して集束点検出部16に供給される。こ
の場合、集束点と一致したことが検出されると、検出信
号が試料ステージ駆動制御部17を介して試料ステージ
駆動部18に供給されステージ位置が設定される。ま
た、集束点と一致したことが未検出であると、未検出信
号が試料ステージ駆動制御部17を介して試料ステージ
駆動部18に供給され試料ステージ10の垂直方向の移
動が行われる。このときの移動信号は試料ステージ位置
検出部19を介して集束点検出部16に供給される。試
料ステージ10の移動中も常に前記方法により集束点と
試料表面とが一致したか否か検出が行われ、一致したこ
とが検出されると、検出信号が試料ステージ駆動制御部
17を介して試料ステージ駆動部18に供給されステー
ジ位置が設定される。
Similarly to the above, the surface position of the sample 11 is set,
The current value of the exciting coil 6 is set in the exciting current controller 14 by the signal supplied from the optical system controller 13.
The signal detected by the secondary signal detector 9 is supplied to the focusing point detector 16 via the secondary signal detector 15. Further, the signal detected by the elastic scattered electron detector 23 is supplied to the signal processing unit 25 via the elastic scattered electron detecting unit 24 to obtain a signal having a further improved S / N ratio, and transmitted electrons and inelastic scattering are obtained. The signal detected by the electron detector 26 is transmitted through the transmitted electron and inelastically scattered electron detector 27, and then the signal processor 25.
The signal, which is supplied to the signal processing unit 25 and processed by the signal processing unit 25, is supplied to the focus point detection unit 16. The elastic scattered electron detector 24
The signals of the transmitted electron and inelastically scattered electron detection unit 27 may be directly supplied to the excitation current control unit 14 and the focus point detection unit 16 without passing through the signal processing unit 25. Here, the focus point detection unit 16 detects whether or not the surface of the sample 11 coincides with the focus points set by the optical system control unit 13 and the excitation current control unit 14 based on the signal obtained by the means. The detected signal is transmitted from the focusing point detection unit 16 via the sample stage drive control unit 17 to the sample stage drive unit 1.
8 and the sample stage 10 is moved in the vertical direction. The movement signal at this time is supplied from the sample stage drive control unit 17 and the sample stage drive unit 18 to the focusing point detection unit 16 via the sample stage position detector 19. In this case, when it is detected that the focal point coincides with the focus point, a detection signal is supplied to the sample stage drive unit 18 via the sample stage drive control unit 17 to set the stage position. Further, if it is not detected that it coincides with the focus point, an undetected signal is supplied to the sample stage drive unit 18 via the sample stage drive control unit 17, and the sample stage 10 is moved in the vertical direction. The movement signal at this time is supplied to the focus point detection unit 16 via the sample stage position detection unit 19. Even during the movement of the sample stage 10, it is always detected by the above method whether or not the focusing point and the sample surface are coincident with each other. When the coincidence is detected, a detection signal is transmitted via the sample stage drive controller 17 It is supplied to the stage drive unit 18 and the stage position is set.

【0015】図5に試料ステージの垂直方向の駆動部の
一例を示す。
FIG. 5 shows an example of a vertical drive unit for the sample stage.

【0016】試料ステージ10は前述の方法によって試
料ステージ駆動部18を移動させることによって設定さ
れる。試料ステージ駆動部18の駆動源にはモータ,油
圧,磁気的なものが使用できる。また手動操作によって
も駆動してもよいとする。
The sample stage 10 is set by moving the sample stage drive unit 18 by the method described above. A motor, hydraulic pressure, or magnetic one can be used as a drive source of the sample stage drive unit 18. It may also be driven by manual operation.

【0017】図6,図7に試料ステージの垂直方向の駆
動機構の一例を示す。
6 and 7 show an example of a drive mechanism in the vertical direction of the sample stage.

【0018】駆動部を試料ステージ駆動部18と試料ス
テージ微動駆動部32の二段階調整を行う手段を設け、
試料ステージ10を前述の方法によって設定するもので
ある。これは試料ステージ駆動部18で大まかに設定
し、次に試料ステージ微動駆動部32によって微小領域
内の調整を行う。
The drive unit is provided with means for performing two-stage adjustment of the sample stage drive unit 18 and the sample stage fine movement drive unit 32.
The sample stage 10 is set by the method described above. This is roughly set by the sample stage drive unit 18, and then the sample stage fine movement drive unit 32 adjusts the inside of the minute area.

【0019】図6に試料ステージ駆動部18の内部に試
料ステージ微動駆動部32を設けたものを示す。これは
上記説明により二段階に分けたことで、微調整が容易に
できることに特徴がある。
FIG. 6 shows the sample stage drive unit 18 in which the sample stage fine movement drive unit 32 is provided. This is characterized in that fine adjustment can be easily performed by dividing it into two stages according to the above description.

【0020】図7に試料ステージ駆動部18の上部に試
料ステージ微動駆動部32を設けたものを示す。これは
試料ホルダー31を移動させることに特徴があり、試料
ステージ10を移動させるよりも小さい力で済む。
FIG. 7 shows the sample stage drive unit 18 provided with the sample stage fine movement drive unit 32 above the sample stage drive unit 18. This is characterized by moving the sample holder 31, and requires less force than moving the sample stage 10.

【0021】[0021]

【発明の効果】上記した如く、本発明によれば、光学系
の制御信号をリアルタイムで取り入れながら、予め設定
された試料位置を設定するために励磁電流の設定を行う
と共に、試料ステージの垂直方向の移動に伴って、得ら
れる二次信号から集束点と試料表面とが一致したか否か
を判断し、一致していれば試料ステージはその位置で設
定され、一致していなければ一致するようにステージ移
動が行われ、予め設定された距離に設定されるというも
のである。これによって操作者は試料表面と対物レンズ
の距離設定を行うだけでよく、試料ステージを垂直方向
に移動させる度に行っていたフォーカス合わせの作業が
不要となる。そして、試料の厚みや試料高さの設定誤差
に関係なく、常に試料表面を予め設定された垂直方向の
位置に設定することが可能となり、X線分析などの試料
と対物レンズの距離が既に決められている場合など、試
料表面(分析点)の垂直方向の位置ずれがなくなるた
め、分析感度が高くなる。
As described above, according to the present invention, while the control signal of the optical system is taken in real time, the exciting current is set in order to set the preset sample position, and the vertical direction of the sample stage is set. Along with the movement of the sample, it is judged from the obtained secondary signal whether or not the focus point and the sample surface match.If they match, the sample stage is set at that position, and if they do not match The stage is moved to, and the distance is set to a preset distance. As a result, the operator only needs to set the distance between the sample surface and the objective lens, and the focusing work that has been performed every time the sample stage is moved in the vertical direction becomes unnecessary. The sample surface can always be set at a preset vertical position regardless of the setting error of the sample thickness or sample height, and the distance between the sample and the objective lens such as X-ray analysis has already been determined. In this case, the sample surface (analysis point) is not displaced in the vertical direction, so that the analysis sensitivity is increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の走査電子顕微鏡の照射レンズ系と対物
レンズ系と試料ステージと制御部を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing an irradiation lens system, an objective lens system, a sample stage, and a control unit of a scanning electron microscope of the present invention.

【図2】本発明の走査電子顕微鏡の照射レンズ系と対物
レンズ系と試料ステージと制御系のフローチャートであ
る。
FIG. 2 is a flowchart of an irradiation lens system, an objective lens system, a sample stage, and a control system of the scanning electron microscope of the present invention.

【図3】本発明の走査電子顕微鏡の照射レンズ系と対物
レンズ系と試料ステージと制御部を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing an irradiation lens system, an objective lens system, a sample stage, and a control unit of the scanning electron microscope of the present invention.

【図4】本発明の走査透過電子顕微鏡の照射レンズ系と
対物レンズ系と試料ステージと制御部を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an irradiation lens system, an objective lens system, a sample stage, and a control unit of the scanning transmission electron microscope of the present invention.

【図5】本発明の試料ステージ駆動部を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a sample stage drive unit of the present invention.

【図6】本発明の試料ステージ駆動部を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a sample stage drive unit of the present invention.

【図7】本発明の試料ステージ駆動部を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a sample stage drive unit of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…電子銃、2…電子線、3…引出し電極、4…加速電
極、5…集束コイル、6…励磁コイル、7…対物レン
ズ、8a,8b…偏向器、9…二次信号検出器、10…
試料ステージ、11…試料、12…制御部、13…光学
系制御部、14…励磁電流制御部、15…二次信号検出
部、16…焦束点検出部、17…試料ステージ駆動制御
部、18…試料ステージ駆動部、19…試料ステージ位
置検出部、20…傾斜角度制御部、21…傾斜駆動部、
22…傾斜角度検出部、23…弾性散乱電子信号検出
器、24…弾性散乱電子信号検出部、25…信号諸処理
部、26…透過及び非弾性散乱電子信号検出器、27…
透過及び非弾性散乱電子信号検出部、28…弾性電子、
29…透過及び非弾性散乱電子、30…試料室、31…
試料ホルダー、32…試料ステージ微動駆動部。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electron gun, 2 ... Electron beam, 3 ... Extraction electrode, 4 ... Accelerating electrode, 5 ... Focusing coil, 6 ... Excitation coil, 7 ... Objective lens, 8a, 8b ... Deflector, 9 ... Secondary signal detector, 10 ...
Sample stage, 11 ... Sample, 12 ... Control unit, 13 ... Optical system control unit, 14 ... Excitation current control unit, 15 ... Secondary signal detection unit, 16 ... Focus point detection unit, 17 ... Sample stage drive control unit, 18 ... Sample stage drive unit, 19 ... Sample stage position detection unit, 20 ... Inclination angle control unit, 21 ... Inclination drive unit,
22 ... Inclination angle detector, 23 ... Elastic scattered electron signal detector, 24 ... Elastic scattered electron signal detector, 25 ... Signal processing unit, 26 ... Transmission and inelastic scattered electron signal detector, 27 ...
Transmitted and inelastically scattered electron signal detectors, 28 ... Elastic electrons,
29 ... Transmission and inelastically scattered electrons, 30 ... Sample chamber, 31 ...
Sample holder, 32 ... Sample stage fine movement drive unit.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】電子銃と、該電子銃から放出された一次電
子線を細く絞って試料上に照射するための電子レンズ
と、該一次電子線を試料上で二次元的に走査するための
偏向器と、一次電子線の照射によって試料から発生する
二次信号を検出するための二次信号検出器と、試料を対
物レンズに対して水平および垂直方向に移動できる試料
ステージを具備した電子線装置において、ステージの垂
直方向の位置を電気的に制御する手段と、一次電子線を
試料上で走査したときに得られる二次電子または反射電
子信号から一次電子線の集束点(フォーカス点)と試料
表面とが一致したか否かを検出する手段を設け、予め設
定された集束点と試料表面とが一致するようにステージ
の垂直方向の位置を制御し、それらを制御する手段を具
備したことを特徴とする走査電子顕微鏡およびその類似
装置。
1. An electron gun, an electron lens for narrowing a primary electron beam emitted from the electron gun and irradiating the primary electron beam onto a sample, and a two-dimensional scanning of the primary electron beam on the sample. An electron beam equipped with a deflector, a secondary signal detector for detecting a secondary signal generated from the sample by irradiation with the primary electron beam, and a sample stage capable of moving the sample horizontally and vertically with respect to the objective lens. In the device, means for electrically controlling the vertical position of the stage, and a focusing point (focus point) of the primary electron beam from secondary electron or backscattered electron signals obtained when the primary electron beam is scanned on the sample. A means for detecting whether or not the sample surface coincides is provided, and a means for controlling the vertical position of the stage so that the preset focusing point and the sample surface coincide and controlling them are provided. Featuring That the scanning electron microscope and the like apparatus.
【請求項2】前記試料ステージの垂直方向の制御は、試
料ステージ制御前の垂直方向位置を予め一次電子線の集
束点(フォーカス点)検出手段により得られた対物レン
ズの励磁電流値から検出し、検出した垂直方向の位置と
設定位置とのずれ分だけ試料ステージを移動させるべく
行うことを特徴とする請求項1記載の走査電子顕微鏡お
よびその類似装置。
2. The vertical control of the sample stage is performed by detecting the vertical position before control of the sample stage from the exciting current value of the objective lens obtained by the focus point (focus point) detecting means of the primary electron beam in advance. The scanning electron microscope according to claim 1, wherein the scanning stage is moved to move the sample stage by an amount corresponding to the deviation between the detected vertical position and the set position.
【請求項3】試料ステージを傾斜させた場合に、傾斜角
度を信号として検出する手段を設けステージの垂直方向
の位置の制御範囲を前記傾斜角度に基づいて制御する請
求項1又は2記載の走査電子顕微鏡およびその類似装
置。
3. The scanning according to claim 1, wherein when the sample stage is tilted, a means for detecting the tilt angle as a signal is provided to control the control range of the vertical position of the stage based on the tilt angle. Electron microscopes and similar devices.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106030753A (en) * 2014-03-28 2016-10-12 株式会社日立高新技术 Sample holder for charged particle beam device, and charged particle beam device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN106030753A (en) * 2014-03-28 2016-10-12 株式会社日立高新技术 Sample holder for charged particle beam device, and charged particle beam device

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