JPH07296733A - Measurement method for focus state of electron beam and adjustment method for image display device - Google Patents

Measurement method for focus state of electron beam and adjustment method for image display device

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JPH07296733A
JPH07296733A JP8676094A JP8676094A JPH07296733A JP H07296733 A JPH07296733 A JP H07296733A JP 8676094 A JP8676094 A JP 8676094A JP 8676094 A JP8676094 A JP 8676094A JP H07296733 A JPH07296733 A JP H07296733A
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JP
Japan
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electron beam
image display
display device
focus
deflection
Prior art date
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Application number
JP8676094A
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Japanese (ja)
Inventor
Toru Kawaguchi
透 川口
Junpei Hashiguchi
淳平 橋口
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Testing, Inspecting, Measuring Of Stereoscopic Televisions And Televisions (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide an adjustment method for accurately performing adjustment of focus, which has been indirectly performed conventionally by the image display device having stripe R, G and B phosphors, by directly finding out the density function of an electron beam. CONSTITUTION:One beam emission region is subjected to beam scanning by changing deflecting voltage so that emission quantities in two points under conditions of deflecting voltage (a) when the emission quantity reaches the peak or the beam center comes to the center of a phosphor 1, and a deflecting voltage (b) when the beam center found by deflecting voltage difference between the peaks comes on the phosphor boundary are measured. Respective emission quantities are in areas of the shaped portion 3 in a graph so that parameters of a beam density function on respective phosphors are found thereby. Unevenness of the parameters is uniformalized in the emission area so that the image display device can be adjusted in the optimum focus state.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、テレビジョン受像機、
コンピュータディスプレイなどの画像表示装置として用
いる平板型陰極線管のフォーカス状態等の調整方法に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a television receiver,
The present invention relates to a method of adjusting a focus state and the like of a flat panel cathode ray tube used as an image display device such as a computer display.

【0002】[0002]

【従来の技術】 本出願人は既に特開平1
−130453号公報に記載されている平板型陰極線管
を提案している。図6に示した平板型陰極線管の内部電
極構成図は上記公報に記載されたものである。
2. Description of the Related Art The present applicant has already filed Japanese Patent Application Laid-Open No.
The flat-plate cathode ray tube described in Japanese Patent Laid-Open No. 130453 is proposed. The internal electrode configuration diagram of the flat panel cathode ray tube shown in FIG. 6 is described in the above publication.

【0003】この陰極線管は、電子ビーム放出源として
線状カソード51、それに対向して画像表示面と反対側に
置いた背面電極52、一方画像表示面側に、線状カソード
51をはさんで順次置いた平板状の電子ビーム取り出し電
極53、電子ビーム変調電極54、垂直集束電極55、水平集
束電極56、水平偏向電極57a、57b、垂直偏向電極58a、5
8b、および蛍光体を塗布したスクリーン59により構成し
ており、これらを偏平な真空ガラス容器(フェースプレ
ート61と背面板62がその一部を成す)内に納めている。
This cathode ray tube comprises a linear cathode 51 as an electron beam emission source, a back electrode 52 facing the linear cathode 51 on the side opposite to the image display surface, and a linear cathode on the image display surface side.
Electron beam extraction electrode 53, electron beam modulation electrode 54, vertical focusing electrode 55, horizontal focusing electrode 56, horizontal deflecting electrodes 57a and 57b, and vertical deflecting electrodes 58a and 5 which are placed in order with 51 sandwiched therebetween.
8b and a screen 59 coated with phosphor, which are housed in a flat vacuum glass container (a face plate 61 and a back plate 62 form a part thereof).

【0004】線状カソード51は水平方向に張架してお
り、かかる線状カソードを適宜間隔を置いて垂直方向に
複数本(説明ではL本とし、図6では4本のみ示す)配
置している。
The linear cathodes 51 are stretched horizontally, and a plurality of such linear cathodes are arranged at appropriate intervals in the vertical direction (L in the description, only four are shown in FIG. 6). There is.

【0005】線状カソード51から引き出されたシート状
の電子ビームは、電子ビーム引出し電極53の貫通孔を通
過してM本の細いビームに分割され、ビーム変調電極54
へ向かう。ビーム変調電極54は水平方向にM本に分割し
てあり、上記の分割された各々の電子ビームの通過量
を、独立に同時に制御できる構成にしてある(図6では
9本のみ示している)。
The sheet-shaped electron beam extracted from the linear cathode 51 passes through the through hole of the electron beam extraction electrode 53 and is divided into M thin beams, and the beam modulation electrode 54
Head to. The beam modulating electrode 54 is horizontally divided into M pieces, and the passing amount of each of the divided electron beams can be independently and simultaneously controlled (only nine pieces are shown in FIG. 6). .

【0006】垂直集束電極55と水平集束電極56は、それ
ぞれビームを垂直方向あるいは水平方向に集束する役目
をする。
The vertical focusing electrode 55 and the horizontal focusing electrode 56 serve to focus the beam vertically or horizontally, respectively.

【0007】水平偏向電極は、水平方向に分割された電
子ビームの各々を、水平方向の両側から2本の電極57
a、57bで挟み込むように形成しており、対になった電極
57a、57b間に与える電位差によってビームを水平方向に
偏向する。
The horizontal deflection electrode is provided with two electrodes 57 from the both sides in the horizontal direction for each of the electron beams divided in the horizontal direction.
A pair of electrodes formed so as to be sandwiched between a and 57b
The beam is deflected in the horizontal direction by the potential difference applied between 57a and 57b.

【0008】垂直偏向電極は、走査線1ライン分の全ビ
ームを垂直方向の両側から対になった2本の電極58a、5
8bで挟み込むように形成し、2本の電極間に与える電位
差によってビームを垂直方向に偏向する。
The vertical deflection electrodes are two electrodes 58a and 5a which form a pair of all beams for one scanning line from both sides in the vertical direction.
It is formed so as to be sandwiched by 8b, and the beam is deflected in the vertical direction by the potential difference applied between the two electrodes.

【0009】かかる集束、変調、および偏向がなされた
各電子ビームを、スクリーン59に印加した高電圧によっ
て加速し、スクリーン59上の蛍光体に射突させ発光させ
る。蛍光体ストライプは、電子ビーム変調電極54の各1
つの貫通孔に対して、一例としてRGBの2対(2トリ
プレット)が対応するようにしている。
The focused, modulated, and deflected electron beams are accelerated by the high voltage applied to the screen 59 and impinge on the phosphor on the screen 59 to emit light. Each phosphor stripe has one electron beam modulation electrode 54.
For example, two pairs of RGB (two triplets) correspond to one through hole.

【0010】次に、本従来例におけるビーム偏向電位の
与え方について、NTSC方式で表示走査線本数480
本の場合を例にとって図7に波形を示して述べておく。
水平偏向は、図に示す階段状の偏向波形h1,h2によっ
て行ない、偏向幅をRGBの2トリプレット分とすれ
ば、偏向波形h1,h2は水平同期信号H.Dに同期し
て、H/6周期毎に電圧が上昇あるいは下降する階段状
波形である。従って、電子ビームはH/6期間ずつR,
G,Bの各蛍光体上に静止する。
Next, regarding the method of applying the beam deflection potential in this conventional example, the number of display scanning lines is 480 in the NTSC system.
Taking the case of a book as an example, a waveform is shown in FIG. 7 for description.
The horizontal deflection is performed by the staircase-shaped deflection waveforms h1 and h2 shown in the figure. If the deflection width is two triplets of RGB, the deflection waveforms h1 and h2 are synchronized with the horizontal synchronizing signal H.D to generate H / 6. It is a step-like waveform in which the voltage rises or falls every cycle. Therefore, the electron beam is R / 6 for each H / 6 period.
It stands still on each of the G and B phosphors.

【0011】一方垂直方向の偏向は、階段状の偏向波形
v1,v2によって行う。各カソードからビームを引き出
す期間は各々(240/L)Hであり、各ビームを垂直方向に
(240/L)段偏向し(図ではL=40で240/40=6段偏向と
している)、画面全体では1垂直走査期間(1フィール
ド)に合計240段の偏向によって240本のラスタを描く。
次のフィールドでは、前のフィールドで描いたラスタの
間にビームがランディングするよう、垂直偏向波形の電
圧値をシフトして、インタレース走査を行なう。
On the other hand, the vertical deflection is performed by using the stepwise deflection waveforms v1 and v2. The period for extracting the beam from each cathode is (240 / L) H, and each beam is drawn in the vertical direction.
(240 / L) -stage deflection (L = 40 in the figure is assumed to be 240/40 = 6-stage deflection), and 240 rasters are drawn by total 240 stages in one vertical scanning period (1 field) on the entire screen. .
In the next field, the voltage value of the vertical deflection waveform is shifted so that the beam will land during the raster drawn in the previous field, and interlaced scanning is performed.

【0012】以上のように水平偏向および垂直偏向を行
い、1本の電子ビームが発光させる垂直12個、水平6個
のスポットで1画像表示区分10を形成し、この画像表示
区分をスクリーン9上に規則正しく並べることにより、
1枚の表示画像を得る。
The horizontal deflection and the vertical deflection are performed as described above, and one image display section 10 is formed by 12 vertical and 6 horizontal spots which are emitted by one electron beam, and this image display section is displayed on the screen 9. By arranging regularly,
Obtain one display image.

【0013】上記の画像表示装置では、1ビーム発光領
域内でビームを水平方向に偏向したときに、ビームのフ
ォーカス径(φH)が可能な限り均一であることが望ま
しい。フォーカス径の変化特性は、水平偏向電極を駆動
する偏向中点電圧VHC(水平フォーカス電圧)をパラメ
ータとして、図5に示すようになるのが一般的である。
従って、VHC2 の状態に近づくように、水平フォーカス
電圧を調整する。この調整を自動的に行う手段が考案さ
れ、特願平04−311749号として出願されてい
る。
In the above image display device, it is desirable that the focus diameter (φH) of the beam be as uniform as possible when the beam is deflected in the horizontal direction within the one-beam emission region. The change characteristic of the focus diameter is generally as shown in FIG. 5 with the deflection middle point voltage VHC (horizontal focus voltage) for driving the horizontal deflection electrode as a parameter.
Therefore, the horizontal focus voltage is adjusted so as to approach the state of VHC2. A means for automatically performing this adjustment was devised, and is filed as Japanese Patent Application No. 04-311749.

【0014】この方法によれば、水平偏向電極電圧を連
続的に変化させながら発光量を検出することにより、ビ
ームの水平偏向量に対する発光量の変化を求め、その極
大値または極小値、あるいは極大値または極小値の半値
幅をビーム集束状態を示す情報として、これを複数の水
平フォーカス電圧において測定することにより、フォー
カス状態が最適となるような電圧を設定できるというも
のである。
According to this method, the change in the light emission amount with respect to the horizontal deflection amount of the beam is obtained by detecting the light emission amount while continuously changing the horizontal deflection electrode voltage, and the maximum value, the minimum value, or the maximum value thereof is obtained. It is possible to set the voltage that optimizes the focus state by measuring the value or the half value width of the minimum value as the information indicating the beam focusing state at a plurality of horizontal focus voltages.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】上記のように従来例で
は、ビームの水平偏向量に対する発光量の変化を求め、
その極大値または極小値、あるいは極大値または極小値
の半値幅を、ビームの集束状態を示す情報として採用し
ていた。
As described above, in the conventional example, the change of the light emission amount with respect to the horizontal deflection amount of the beam is obtained,
The maximum value or the minimum value, or the half-value width of the maximum value or the minimum value is adopted as the information indicating the focused state of the beam.

【0016】しかしながら、発光量は蛍光体に当たるビ
ームの総和に比例するため、蛍光体幅が広い場合には、
フォーカス状態の変化に比べて発光量の変化が小さく、
測定誤差や画像表示装置上の各点のばらつきに対して、
正確にフォーカス状態の変化を得ることは困難であっ
た。
However, since the amount of emitted light is proportional to the sum of the beams that strike the phosphor, when the width of the phosphor is wide,
The change in the light emission amount is smaller than the change in the focus state,
For measurement error and variation of each point on the image display device,
It was difficult to accurately obtain the change in the focus state.

【0017】本発明は上記のような課題を鑑み、フォー
カス状態の変化を正確に検出することの出来る測定方
法、およびその情報に基づき画像表示装置を調整する方
法を提供するものである。
In view of the above problems, the present invention provides a measuring method capable of accurately detecting a change in focus state, and a method of adjusting an image display device based on the information.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明の電子ビームフォーカス状態測定方法は、ビ
ームの集束状態の検出において、前記偏向手段を用いて
電子ビームの中心が前記発光手段の分離形成された各区
分の中心に当たるような偏向状態と、ビームの中心が各
区分の境界上に当たるような偏向状態に設定し、それぞ
れ発光手段上の発光量を光検出手段で検出して、検出さ
れた発光量の比を用いて発光手段上の位置に対する電子
ビームの密度関数を算出することによって、フォーカス
状態を定量的に測定できるものである。
In order to solve the above problems, the electron beam focus state measuring method of the present invention uses the deflecting means to detect the focus state of the beam so that the center of the electron beam is the light emitting means. The deflection state of hitting the center of each section formed separately, and the deflection state such that the center of the beam hits the boundary of each section, the amount of light emitted from each light emitting means is detected by the light detecting means, The focus state can be quantitatively measured by calculating the density function of the electron beam with respect to the position on the light emitting means using the ratio of the detected light emission amounts.

【0019】また本発明の画像表示装置の調整方法は、
水平フォーカス電圧を複数段階設定し、請求項1記載の
電子ビームフォーカス状態の測定方法を用いてフォーカ
ス状態を測定して、最適なフォーカス状態を与えるよう
な水平フォーカス電圧を求めて、画像表示装置を自動的
に調整するものである。
Further, the adjusting method of the image display device of the present invention is
The horizontal focus voltage is set in a plurality of steps, the focus state is measured by using the electron beam focus state measuring method according to claim 1, and a horizontal focus voltage that gives an optimum focus state is obtained to determine the image display device. It adjusts automatically.

【0020】[0020]

【作用】本発明では上記の手段によって、発光手段上の
位置に対する電子ビームの密度関数そのものを求めるこ
とができるため、蛍光体の幅に関わらず、電子ビームの
集束状態について正確な情報を得ることができ、また測
定誤差や画像表示装置上の各点のばらつきに対して、正
確にフォーカス状態の変化を得ることができる。
In the present invention, since the density function of the electron beam itself with respect to the position on the light emitting means can be obtained by the above means, accurate information on the focused state of the electron beam can be obtained regardless of the width of the phosphor. In addition, it is possible to accurately obtain a change in the focus state due to a measurement error or a variation in each point on the image display device.

【0021】[0021]

【実施例】【Example】

(実施例1)本発明の電子ビームのフォーカス状態測定
方法の一実施例について、図面を参照しながら説明す
る。まず図1において、発光している蛍光体と電子ビー
ムの関係を示す。
(Embodiment 1) An embodiment of the electron beam focus state measuring method of the present invention will be described with reference to the drawings. First, FIG. 1 shows the relationship between the phosphor that is emitting light and the electron beam.

【0022】電子ビームの密度分布は、通常、図1に示
すような正規分布曲線となる。任意の偏向位置における
電子ビームのフォーカス状態は、この正規分布の標準偏
差を求めることにより評価できる。ここではフォーカス
径を、この標準偏差の値として考える。もちろんこの標
準偏差より容易に算出される、ピーク値に対する50%点
等をフォーカス径と定義してもかまわない。このときの
発光量は、図1の斜線部で示すように、電子ビームが蛍
光体に当たる範囲のビーム密度の総和、いいかえると、
電子ビームの密度分布曲線を、蛍光体の幅に渡って積分
したものに相当する。
The electron beam density distribution normally has a normal distribution curve as shown in FIG. The focus state of the electron beam at an arbitrary deflection position can be evaluated by obtaining the standard deviation of this normal distribution. Here, the focus diameter is considered as the value of this standard deviation. Of course, the focus diameter may be defined as the 50% point with respect to the peak value, which is easily calculated from this standard deviation. The amount of light emitted at this time is the sum of the beam densities in the range where the electron beam strikes the phosphor, as shown by the shaded area in FIG.
It corresponds to the density distribution curve of the electron beam integrated over the width of the phosphor.

【0023】一方、図2は、画面上の任意の点におい
て、蛍光面を拡大した図である。蛍光体はR,G,B各
色が周期的に同一ピッチで形成されているものとする。
通常の画像表示では、ビームがR1からB2までの範囲
(1ビーム発光領域)を6ステップで走査して発光させ
る。各蛍光体位置におけるフォーカス径を求めるには、
まずビームを上記の6ステップの偏向間隔より遥かに細
かいステップ(連続的であってもよい)で移動させ、そ
のときのR,G,B蛍光体の発光を検出する。検出手段
はビデオカメラ(カラー、モノクロ両方可能)や、フォ
トダイオードなどが適している。
On the other hand, FIG. 2 is an enlarged view of the fluorescent screen at an arbitrary point on the screen. It is assumed that the phosphor has R, G, and B colors periodically formed at the same pitch.
In a normal image display, the beam is scanned in a range from R1 to B2 (one-beam emission region) in six steps to emit light. To find the focus diameter at each phosphor position,
First, the beam is moved in steps (which may be continuous) much smaller than the above-described deflection interval of 6 steps, and the emission of the R, G, B phosphors at that time is detected. A video camera (both color and monochrome possible), a photodiode, etc. are suitable as the detection means.

【0024】ビームの移動手段としては、水平偏向電極
に与える偏向電圧を変化させればよく、例えばディジタ
ルデータをD/A変換して偏向波形h1、h2を作成して
いるとすれば、そのデータを外部から強制的に書き換え
ればよい。
As means for moving the beam, it is sufficient to change the deflection voltage applied to the horizontal deflection electrode. For example, if the deflection waveforms h1 and h2 are created by D / A converting digital data, that data is used. Can be forcibly rewritten from outside.

【0025】この方法によってビームを移動させたと
き、ビームは蛍光体B→R1→G1→…→B2→Rと移動
し、図2の下方に示した発光出力波形が得られたと仮定
する。R,G,Bそれぞれ分けて示しているが、これは
カラーカメラで撮像した場合の各色の出力信号を例とし
ている。横軸が偏向電圧、縦軸が発光出力である。
When the beam is moved by this method, it is assumed that the beam moves in the order of phosphor B → R1 → G1 → ... → B2 → R, and the emission output waveform shown in the lower part of FIG. 2 is obtained. Although shown separately for R, G, and B, this is an example of output signals of each color when picked up by a color camera. The horizontal axis represents the deflection voltage and the vertical axis represents the light emission output.

【0026】この結果からまず、ピークとなる偏向電
圧、すなわちビームが蛍光体の中央にランディングした
ときの偏向電圧が、各色2点ずつ求められる(図2a、
a'点)。次に、実際の蛍光体間のピッチ及び蛍光体の幅
が既知であるので、ビームの中心が蛍光体とブラックス
トライプの境界上に来るような偏向電圧が求められる
(図2b、b'、c、c'点)。これらの点における蛍光体と
電子ビームの関係を、図3に示す。
From this result, first, the deflection voltage at the peak, that is, the deflection voltage when the beam is landed on the center of the phosphor, is obtained for each of two points for each color (FIG. 2a,
a '). Next, since the actual pitch between the phosphors and the width of the phosphors are known, the deflection voltage is determined so that the center of the beam is on the boundary between the phosphors and the black stripes (FIGS. 2b, b ′, c). , C '). The relationship between the phosphor and the electron beam at these points is shown in FIG.

【0027】図3において蛍光体の幅を2wとして、ビ
ームの中心を横軸方向の原点とすると、ビームが蛍光体
の中央にランディングした場合の輝度は、ビームの密度
関数を―wから+wまで積分したものに等しい(図3
(a)斜線部)。一方ビームが蛍光体とブラックストライ
プの境界上にランディングしたときの輝度は、ビームの
密度関数を0から+2wまで積分したものに等しい(図
3(b)斜線部)。既に測定されているそれぞれの輝度を
Lmax、Lhfとして、これらの比R=Lhf/Lmaxを計算
すると、
In FIG. 3, assuming that the width of the phosphor is 2w and the center of the beam is the origin of the horizontal axis, the brightness when the beam is landed at the center of the phosphor is from -w to + w of the beam density function. Equal to the integrated one (Fig. 3
(a) The shaded area). On the other hand, the brightness when the beam lands on the boundary between the phosphor and the black stripe is equal to the integral of the density function of the beam from 0 to + 2w (hatched portion in FIG. 3 (b)). When the respective luminances already measured are Lmax and Lhf, and the ratio R = Lhf / Lmax of these is calculated,

【0028】[0028]

【数1】 [Equation 1]

【0029】に示す式より、ビームの密度関数の標準偏
差、すなわちフォーカス径を求めることができる。
The standard deviation of the density function of the beam, that is, the focus diameter can be obtained from the equation shown in FIG.

【0030】これらの一連の計算は、計算機等を用いて
完全に自動化できることは説明するまでもない。
It goes without saying that these series of calculations can be completely automated using a computer or the like.

【0031】以上に示す測定方法により、フォーカス状
態の変化を正確に検出することが出来る。
By the measuring method described above, it is possible to accurately detect the change in the focus state.

【0032】(実施例2)次に本発明の他の実施例につ
いて述べる。
(Embodiment 2) Next, another embodiment of the present invention will be described.

【0033】画像表示装置を最適なフォーカス状態に調
整するためには、図2における各蛍光体R1〜B2にお
けるフォーカス径が、可能な限り均一であることが望ま
しい。従って画面上任意の位置において、R1〜B2にお
けるフォーカス径をφHR1〜φHB2とすると、フォーカ
スの評価式の定義の例として、
In order to adjust the image display device to the optimum focus state, it is desirable that the focus diameters of the phosphors R1 and B2 in FIG. 2 are as uniform as possible. Therefore, assuming that the focus diameters at R1 to B2 are φH R1 to φH B2 at any position on the screen, as an example of the definition of the focus evaluation formula,

【0034】[0034]

【数2】 [Equation 2]

【0035】が最小の時フォーカス状態が最適とするこ
とができる。もちろんこの計算式に限るものではない。
When is minimum, the focus state can be optimum. Of course, it is not limited to this calculation formula.

【0036】この評価式により算出された評価値は、フ
ォーカス電圧の設定を変化させれば、それに従って変化
する。フォーカス電圧に対する評価値の変化の一例を図
6に示す。これによれば、評価値はフォーカス電圧に対
して、二次曲線の形で求められる。従って最低3点のフ
ォーカス電圧において測定を行い評価値を求めれば、極
小値を与えるフォーカス電圧が算出できるので、画像表
示装置を最適なフォーカス状態に調整することができ
る。
The evaluation value calculated by this evaluation formula changes according to the setting of the focus voltage. FIG. 6 shows an example of changes in the evaluation value with respect to the focus voltage. According to this, the evaluation value is obtained in the form of a quadratic curve with respect to the focus voltage. Therefore, the focus voltage giving the minimum value can be calculated by measuring at least three focus voltages and obtaining the evaluation value, so that the image display device can be adjusted to the optimum focus state.

【0037】画面全体に渡って最適なフォーカス状態を
得るためには、上記の測定を画面上複数点において行
い、各点において得られた評価値を平均して用いればよ
い。
In order to obtain the optimum focus state over the entire screen, the above measurement may be performed at a plurality of points on the screen, and the evaluation values obtained at each point may be averaged and used.

【0038】なお実施例1同様に、これら一連の調整操
作が、計算機等を用いて完全に自動で実施できることは
言うまでもない。
Needless to say, like the first embodiment, the series of adjustment operations can be carried out completely automatically using a computer or the like.

【0039】またこれらの調整作業において、前述の特
願平04−311749号に記述された、ランディング
ピッチの調整作業を同時に行えることを明記しておく。
In addition, in these adjustment operations, it is specified that the landing pitch adjustment operations described in Japanese Patent Application No. 04-311749 can be performed at the same time.

【0040】更に同特願平04−311749号に記述
されているように、偏向電圧に対する発光量を求める際
に、時間軸に対して順次偏向電圧を変化させても、垂直
方向の走査1ステップ毎に偏向電圧を変化させても、調
整を実行できる。
Further, as described in Japanese Patent Application No. 04-311749, even if the deflection voltage is sequentially changed with respect to the time axis when obtaining the light emission amount with respect to the deflection voltage, one step in the vertical scanning is performed. The adjustment can be executed even if the deflection voltage is changed every time.

【0041】[0041]

【発明の効果】本発明を実施することにより、蛍光体幅
の大小に関わらずフォーカス状態の変化を検出でき、画
像表示装置のフォーカス状態を高い精度で調整すること
ができ、効率的な画像表示装置の生産が可能になる。
By implementing the present invention, a change in the focus state can be detected regardless of the width of the phosphor, and the focus state of the image display device can be adjusted with high accuracy, resulting in efficient image display. Enables production of equipment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a),(b) 本発明の一実施例における蛍
光体と電子ビームの関係を示す図
1A and 1B are views showing the relationship between a phosphor and an electron beam in an embodiment of the present invention.

【図2】(a),(b),(c),(d) 同実施例に
おける蛍光面の拡大図およびその発光量を示す特性図
2 (a), (b), (c), (d) an enlarged view of a phosphor screen and a characteristic diagram showing the amount of emitted light in the same embodiment.

【図3】(a),(b) 同実施例におけるフォーカス
径を求める為の偏向状態を示す図
3A and 3B are diagrams showing a deflection state for obtaining a focus diameter in the same embodiment.

【図4】同実施例におけるフォーカス電圧対評価値の特
性を示す図
FIG. 4 is a diagram showing a characteristic of a focus voltage vs. an evaluation value in the example.

【図5】偏向電圧に対するフォーカス径φHの特性を示
す図
FIG. 5 is a diagram showing a characteristic of a focus diameter φH with respect to a deflection voltage.

【図6】画像表示装置の電極構造を示す分解斜視図FIG. 6 is an exploded perspective view showing an electrode structure of the image display device.

【図7】(a)〜(j) 従来の画像表示装置における
各電極の駆動波形を示す図
7A to 7J are diagrams showing drive waveforms of each electrode in a conventional image display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 蛍光体 2 ブラックストライプ 3 斜線部 1 Phosphor 2 Black stripe 3 Diagonal area

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の電子ビームを生成する手段と、電
子ビームの偏向手段と、電子ビームの集束手段と、電子
ビームが射突することによって発光する複数の区分に分
離形成された発光手段とを備えた画像表示装置におい
て、前記偏向手段を用いて前記電子ビームの中心が前記
発光手段の分離形成された各区分の中心に当たるような
偏向状態と、前記電子ビームの中心が各区分の境界上に
当たるような偏向状態とを設定し、両者の状態における
発光手段上の発光量を光検出手段でそれぞれ検出し、検
出された発光量の比を用いて前記発光手段上の位置に対
する電子ビームの密度関数を算出して集束状態を測定す
ることを特徴とする電子ビームのフォーカス状態の測定
方法。
1. A means for generating a plurality of electron beams, a means for deflecting an electron beam, a means for focusing an electron beam, and a light emitting means which is separately formed into a plurality of sections which emit light when the electron beam strikes. In an image display device including: a deflection state in which the center of the electron beam hits the center of each of the separately formed sections of the light emitting means using the deflecting means, and the center of the electron beam is on the boundary of each section. And a deflection state corresponding to the above, the light emission amount on the light emitting means in each of these states is detected by the light detecting means, and the density of the electron beam with respect to the position on the light emitting means is used by using the ratio of the detected light emission amounts. A method of measuring a focus state of an electron beam, which comprises calculating a function to measure a focus state.
【請求項2】 電子ビームの集束手段駆動電圧または電
流を複数段階設定し、電子ビームのフォーカス状態の測
定して、最適なフォーカス状態を与える前記電子ビーム
の集束手段駆動電圧または集束手段駆動電流を求めるこ
とを特徴とする画像表示装置の調整方法。
2. An electron beam focusing means driving voltage or current is set in a plurality of steps, the focusing state of the electron beam is measured, and a focusing means driving voltage or focusing means driving current of the electron beam that gives an optimum focusing state is set. A method for adjusting an image display device, which is characterized by:
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