JPH07288457A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH07288457A
JPH07288457A JP7038218A JP3821895A JPH07288457A JP H07288457 A JPH07288457 A JP H07288457A JP 7038218 A JP7038218 A JP 7038218A JP 3821895 A JP3821895 A JP 3821895A JP H07288457 A JPH07288457 A JP H07288457A
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隆 大沢
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Abstract

PURPOSE:To provide a semiconductor integrated circuit device which can fast select even a large number of data. CONSTITUTION:This semiconductor integrated circuit device is provided with a data selection circuit 100 which is connected to a 1st power terminal VDD, a precharge circuit 200 which is connected to a 2nd power terminal GND and recieves a precharge signal, and a wiring 1 which is connected to a common connection point X between both circuits 100 and 200. The circuit 100 includes at least the 1st and 2nd data transfer circuits 102-1 and 102-2. Thus a 1st input data signal A and a 1st selection signal Ba are inputted to the circuit 102-1, and a 2nd input data signal B and a 2nd selection signal Bb are inputted to the circuit 102-2 respectively.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体集積回路装置
に係わり、特に複数本の信号線を一つの信号線に纏め
る、半導体集積回路装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and more particularly to a semiconductor integrated circuit device in which a plurality of signal lines are combined into one signal line.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、複数本の信号線を一つの信号線に
纏める、半導体集積回路装置として、マルチプレクサが
ある。マルチプレクサは、複数本の信号線から、一つの
信号線を選び、この選ばれた信号線と上記一つの信号線
とを電気的に接続する。
2. Description of the Related Art At present, there is a multiplexer as a semiconductor integrated circuit device that combines a plurality of signal lines into one signal line. The multiplexer selects one signal line from a plurality of signal lines and electrically connects the selected signal line and the one signal line.

【0003】CMOS型のトランジスタ回路からなるマ
ルチプレクサとしては、図37に示されるようなトラン
スファ・ゲート型か、あるいは図38に示されるような
クロックト・インバータ型が考えられていた。何れの場
合も、選択信号a,Ba、b,Bb、c,Bc、d,B
d(先頭の符号“B”は反転信号を示す)のうち、高レ
ベルに対するデータが選択されて、出力端子である共通
ノードXに伝達される。なお、参照符号A〜Dに示され
る信号はそれぞれ入力データ信号であり、参照符号Qに
示される信号Qは、出力データ信号である。
As a multiplexer comprising a CMOS type transistor circuit, a transfer gate type as shown in FIG. 37 or a clocked inverter type as shown in FIG. 38 has been considered. In any case, the selection signals a, Ba, b, Bb, c, Bc, d, B
The data for the high level is selected from d (the leading code “B” indicates an inverted signal) and is transmitted to the common node X which is an output terminal. The signals indicated by reference symbols A to D are input data signals, and the signal Q indicated by reference symbol Q is an output data signal.

【0004】しかし、図37、図38に示すマルチプレ
クサでは、選択されるデータの数が多いとき、ジャンク
ション容量やゲート容量など、共通ノードXにつく寄生
容量が大きくなり、入力されたデータを選択して出力す
る、というデータ選択動作の高速化が損なわれる可能性
があった。
However, in the multiplexers shown in FIGS. 37 and 38, when the number of selected data is large, the parasitic capacitance attached to the common node X such as the junction capacitance and the gate capacitance becomes large, and the input data is selected. There is a possibility that the speedup of the data selection operation of outputting the data as a result may be impaired.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、選
択されるデータの数が多いときでも、高速な選択動作が
可能である、半導体集積回路装置を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device capable of high speed selection operation even when a large number of data are selected.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の第1の態様に係る半導体集積回路装置で
は、第1の電源端子に接続されたデータ選択回路と、第
2の電源端子に接続された、プリチャージ信号が入力さ
れるプリチャージ回路と、前記データ選択回路と前記プ
リチャージ回路との共通ノードに接続された配線とを持
つ。そして、前記データ選択回路は、少なくとも2つ
の、第1、第2のデータ伝達回路を含み、第1の入力デ
ータ信号および第1の選択信号を、前記第1のデータ伝
達回路に入力し、第2の入力データ信号および第2の選
択信号を、前記第2のデータ伝達回路に入力したことを
特徴としている。
To achieve the above object, in a semiconductor integrated circuit device according to a first aspect of the present invention, a data selection circuit connected to a first power supply terminal and a second power supply. It has a precharge circuit connected to a terminal to which a precharge signal is input, and a wiring connected to a common node of the data selection circuit and the precharge circuit. The data selection circuit includes at least two first and second data transmission circuits, and inputs a first input data signal and a first selection signal to the first data transmission circuit, Two input data signals and a second selection signal are input to the second data transmission circuit.

【0007】また、この発明の第2の態様に係る半導体
集積回路装置では、前記共通ノードに、この共通ノード
の電位を、所定の電位に固定する電位固定回路を接続し
たことを特徴としている。
The semiconductor integrated circuit device according to the second aspect of the present invention is characterized in that the common node is connected to a potential fixing circuit for fixing the potential of the common node to a predetermined potential.

【0008】また、この発明の第3の態様に係る半導体
集積回路装置では、半導体記憶装置のデータマルチプレ
クス回路に、上記第1の態様、あるいは上記第2の態様
に係る半導体集積回路装置を用いたことを特徴としてい
る。
Further, in the semiconductor integrated circuit device according to the third aspect of the present invention, the semiconductor integrated circuit device according to the first aspect or the second aspect is used for a data multiplex circuit of a semiconductor memory device. It is characterized by having been.

【0009】また、この発明の第4の態様に係る半導体
集積回路装置では、半導体記憶装置のデータマルチプレ
クス回路に、上記第1の態様、あるいは上記第2の態様
に係る半導体集積回路装置を用いるとともに、選択信号
で入力データ信号を選ぶノーマルモードに加え、選択信
号で全ての入力データ信号を選ぶテストモードを追加し
たことを特徴としている。
Further, in the semiconductor integrated circuit device according to the fourth aspect of the present invention, the semiconductor integrated circuit device according to the first aspect or the second aspect is used for the data multiplex circuit of the semiconductor memory device. At the same time, in addition to the normal mode in which the input data signal is selected by the selection signal, a test mode in which all the input data signals are selected by the selection signal is added.

【0010】[0010]

【作用】上記第1の態様に係る構成を持つ半導体集積回
路装置であると、共通ノードに付加される寄生容量、特
にジャンクション容量が、第1のデータ伝達回路と共通
ノードとの接続点と、第2のデータ伝達回路と共通ノー
ドとの接続点と、プリチャージ回路と共通ノードとの接
続点だけとなる。よって、共通ノードに付加される寄生
容量は小さくなり、上記半導体集積回路装置は、高速な
動作をする。
In the semiconductor integrated circuit device having the structure according to the first aspect, the parasitic capacitance added to the common node, particularly the junction capacitance, is the same as the connection point between the first data transmission circuit and the common node. Only the connection point between the second data transfer circuit and the common node and the connection point between the precharge circuit and the common node. Therefore, the parasitic capacitance added to the common node is reduced, and the semiconductor integrated circuit device operates at high speed.

【0011】上記第2の態様に係る構成を持つ半導体集
積回路装置であると、上記目的が達成されるとともに、
半導体集積回路装置は、ノイズによる誤動作が、さらに
抑制される。共通ノードの電位は、プリチャージ回路を
遮断してから、データ伝達回路を導通させるまでの一時
期、フローティングとなる。この共通ノードに、電位固
定回路を接続することで、共通ノードの電位がフローテ
ィングとなる上記一時期、共通ノードの電位を所定の電
位に固定できる。よって、ノイズによる誤動作が抑制さ
れる。
With the semiconductor integrated circuit device having the configuration according to the second aspect, the above-mentioned object can be achieved, and
In the semiconductor integrated circuit device, malfunction due to noise is further suppressed. The potential of the common node becomes floating for a period of time after the precharge circuit is cut off and the data transmission circuit is turned on. By connecting a potential fixing circuit to this common node, the potential of the common node can be fixed to a predetermined potential during the above-mentioned period when the potential of the common node becomes floating. Therefore, malfunction due to noise is suppressed.

【0012】上記第3の態様に係る構成を持つ半導体集
積回路装置であると、データマルチプレクス回路の寄生
容量が小さくなる。よって、半導体記憶装置は、高速な
動作をする。
In the semiconductor integrated circuit device having the configuration according to the third aspect, the parasitic capacitance of the data multiplex circuit becomes small. Therefore, the semiconductor memory device operates at high speed.

【0013】上記第4の態様に係る構成を持つ半導体集
積回路装置であると、テスト回路が簡略化される。上記
第1の態様、あるいは上記第2の態様に係る半導体集積
回路装置では、全ての入力データ信号を共通ノードに同
時に伝えることで、論理和演算が可能である。この論理
和演算機能を使って、データの正/誤を判断する。即ち
データマルチプレクス回路が、テスト回路の論理和演算
回路として使え、結果、テスト回路が簡略化される。
The semiconductor integrated circuit device having the configuration according to the fourth aspect simplifies the test circuit. In the semiconductor integrated circuit device according to the first aspect or the second aspect, the OR operation can be performed by simultaneously transmitting all the input data signals to the common node. This logical sum operation function is used to determine whether the data is correct or incorrect. That is, the data multiplex circuit can be used as a logical sum operation circuit of the test circuit, and as a result, the test circuit is simplified.

【0014】[0014]

【実施例】以下、この発明を実施例により説明する。こ
の説明に際し、全ての図面において、同一の部分には同
一の参照符号を付し、重複する説明は避けることにす
る。図1は、この発明の第1の実施例に係る半導体集積
回路装置のブロック図、図2は、この発明の第1の実施
例に係る半導体集積回路装置の回路図である。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples. In this description, the same parts are denoted by the same reference numerals in all the drawings, and duplicated description will be avoided. 1 is a block diagram of a semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention.

【0015】図1に示すように、この実施例に係る集積
回路装置は、高電位電源端子VDDと接地端子GNDと
の間に直列に接続された、データ選択回路100とプリ
チャージ回路200とを含む。回路100と回路200
との間には、配線1が配置されている。この配線1は、
回路100と回路200との共通ノードXに接続されて
いる。共通ノードXは、この実施例に係る集積回路装置
の出力端子である。出力端子(共通ノードX)からは、
出力データ信号BQが出力される。なお、出力信号BQ
の先頭の符号“B”は、入力データ信号のレベルが反転
されて出力されていることを示す。また、この明細書で
は、先頭の符号“B”は、上記のように、入力信号のレ
ベルが反転されて出力されること、あるいは信号自体が
負論理であること、のいずれかを指す、と定義する。ま
た、図面では、先頭の符号“B”は、符号“−”(バ
ー)で表すことにする。
As shown in FIG. 1, the integrated circuit device according to this embodiment includes a data selection circuit 100 and a precharge circuit 200, which are connected in series between a high potential power supply terminal VDD and a ground terminal GND. Including. Circuit 100 and circuit 200
The wiring 1 is arranged between the and. This wiring 1
It is connected to the common node X of the circuit 100 and the circuit 200. The common node X is an output terminal of the integrated circuit device according to this embodiment. From the output terminal (common node X),
The output data signal BQ is output. The output signal BQ
The sign "B" at the beginning of the symbol indicates that the level of the input data signal is inverted and output. Further, in this specification, the code "B" at the head indicates that the level of the input signal is inverted and output, or that the signal itself is negative logic, as described above. Define. Further, in the drawings, the leading code “B” is represented by the code “−” (bar).

【0016】図2に示すように、データ選択回路100
は、複数のPMOS直列回路102を含む。複数のPM
OS直列回路102は、端子VDDと共通ノードXとの
間に、並列に接続される。PMOS直列回路102は、
互いに直列接続された2個のPチャネル型MOSFET
(以下PMOSと称す)2とPMOS3とを含む。端子
VDDに接続されたPMOS2は、入力データ信号を受
けるためのトランジスタで、共通ノードXに接続された
PMOS3は、データ選択信号を受けるためのトランジ
スタである。
As shown in FIG. 2, the data selection circuit 100.
Includes a plurality of PMOS series circuits 102. Multiple PM
The OS series circuit 102 is connected in parallel between the terminal VDD and the common node X. The PMOS series circuit 102 is
Two P-channel MOSFETs connected in series with each other
2 (hereinafter referred to as PMOS) and PMOS 3 are included. The PMOS 2 connected to the terminal VDD is a transistor for receiving an input data signal, and the PMOS 3 connected to the common node X is a transistor for receiving a data selection signal.

【0017】この実施例に係る集積回路装置では、PM
OS直列回路102が、4セット(102-1〜102-
4)設けられている。PMOS直列回路102-1は、P
MOS2-1とPMOS3-1とを含み、他のPMOS直列
回路102-2、102-3および102-4はそれぞれ、P
MOS2-2と3-2、PMOS2-3と3-3、PMOS2-4
と3-4とを含んでいる。PMOS2-1〜2-4のゲートに
はそれぞれ、入力データ信号A〜Dが供給される。PM
OS2-1〜2-4は、データ信号A〜Dの電位が低レベル
となったときに導通する。一方、PMOS3-1〜3-4の
ゲートにはそれぞれ、選択信号Ba〜Bdが供給され
る。PMOS3-1〜3-4は、選択信号Ba〜Bdの電位
が低レベルとなったときに導通する。
In the integrated circuit device according to this embodiment, PM
The OS series circuit 102 includes four sets (102-1 to 102-
4) It is provided. The PMOS series circuit 102-1 has P
The other PMOS series circuits 102-2, 102-3 and 102-4 each including PMOS 2-1 and PMOS 3-1 are P
MOS2-2 and 3-2, PMOS2-3 and 3-3, PMOS2-4
And 3-4 are included. Input data signals A to D are supplied to the gates of the PMOSes 2-1 to 2-4, respectively. PM
The OSs 2-1 to 2-4 become conductive when the potentials of the data signals A to D become low level. On the other hand, the selection signals Ba to Bd are supplied to the gates of the PMOSs 3-1 to 3-4, respectively. The PMOSs 3-1 to 3-4 become conductive when the potentials of the selection signals Ba to Bd become low level.

【0018】プリチャージ回路200は、端子GNDと
共通ノードXとの間に直列に接続された1個のNチャネ
ル型MOSFET(以下NMOSと称す)4を含む。N
MOS4は、プリチャージ信号を受けるためのトランジ
スタであり、NMOS4のゲートには、プリチャージ信
号PRCHが供給される。
The precharge circuit 200 includes one N-channel MOSFET (hereinafter referred to as NMOS) 4 connected in series between the terminal GND and the common node X. N
The MOS4 is a transistor for receiving the precharge signal, and the gate of the NMOS4 is supplied with the precharge signal PRCH.

【0019】NMOS4が持つ重要な機能のうち、一つ
の機能は、プリチャージ信号に応答して、出力信号BQ
の電位のレベルの初期状態を設定することである。他の
機能は、プリチャージ信号に応答して、図1および図2
に示す集積回路装置自体の、活性/非活性を、制御する
ことである。
One of the important functions of the NMOS 4 is the output signal BQ in response to the precharge signal.
Is to set the initial state of the potential level of. Another function is in response to the precharge signal in FIGS.
Is to control activation / deactivation of the integrated circuit device itself shown in FIG.

【0020】NMOS4は、信号PRCHが高レベルで
ある期間、導通し、共通ノードXを接地電位にチャージ
する。このとき、出力信号BQの電位のレベルの初期状
態は、接地電位である。同時に、共通ノードXが接地電
位にチャージされるので、集積回路装置自体は、非活性
となる。即ち、たとえデータ信号およびデータ選択信号
が、データ選択回路100に入力されたとしても、共通
ノードXの電位は、接地電位から、実質的に変わらな
い。
The NMOS 4 conducts while the signal PRCH is at the high level, and charges the common node X to the ground potential. At this time, the initial state of the potential level of the output signal BQ is the ground potential. At the same time, since the common node X is charged to the ground potential, the integrated circuit device itself becomes inactive. That is, even if the data signal and the data selection signal are input to the data selection circuit 100, the potential of the common node X does not substantially change from the ground potential.

【0021】一方、NMOS4は、信号PRCHが低レ
ベルである期間、遮断する。このとき、図1に示す集積
回路装置自体は活性となり、PMOS直列回路100か
ら出力された電流によって、共通ノードXは、所定の電
位にチャージされる。
On the other hand, the NMOS 4 turns off during the period when the signal PRCH is at the low level. At this time, the integrated circuit device itself shown in FIG. 1 is activated, and the common node X is charged to a predetermined potential by the current output from the PMOS series circuit 100.

【0022】次に、図1および図2に示す集積回路装置
の、基本的な動作について説明する。図3は、この発明
の第1の実施例に係る集積回路装置の動作を示す動作波
形図である。
Next, the basic operation of the integrated circuit device shown in FIGS. 1 and 2 will be described. FIG. 3 is an operation waveform diagram showing an operation of the integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention.

【0023】図1および図2に示す集積回路装置では、
選択信号Ba,Bb,Bc,Bdのうち、低レベルにあ
るものに対応するデータ信号A,B,C,Dが、共通ノ
ードXに伝達される。つまり、プリチャージ信号PRC
Hを、はじめ高レベルとし、共通ノードXを低レベル
(接地電位)に固定しておく(T1)。その後、プリチ
ャージ信号PRCHを、低レベルに落とし(T2)、共
通ノードXをフローティングローレベルにする(T
3)。次に、選択信号Ba、Bb、Bc、Bdのうち、
一つだけ低レベルとする。仮に信号Baとする(T
4)。このとき、データ信号Aが高レベルから低レベル
に遷移するか否かで、共通ノードXが高レベルにチャー
ジされるか、低レベル(この実施例ではフローティング
低レベル)のままとされるかが、決められる。図3で
は、データ信号Aが高レベルから低レベルに遷移する
(T5)。よって、共通ノードXが高レベルに充電され
る(T6)。
In the integrated circuit device shown in FIGS. 1 and 2,
The data signals A, B, C, D corresponding to the low level ones of the selection signals Ba, Bb, Bc, Bd are transmitted to the common node X. That is, the precharge signal PRC
First, H is set to a high level, and the common node X is fixed to a low level (ground potential) (T1). After that, the precharge signal PRCH is lowered to the low level (T2), and the common node X is set to the floating low level (T2).
3). Next, of the selection signals Ba, Bb, Bc, Bd,
Only one is low level. Suppose that the signal is Ba (T
4). At this time, it is determined whether the common node X is charged to a high level or remains at a low level (a floating low level in this embodiment) depending on whether the data signal A transits from a high level to a low level. Can be decided. In FIG. 3, the data signal A transits from the high level to the low level (T5). Therefore, the common node X is charged to a high level (T6).

【0024】図1および図2に示す集積回路装置のデー
タ信号A〜Dのプリチャージレベルは、高レベルである
(高レベルプリチャージ型)。高レベルプリチャージ型
の集積回路装置では、入力データ信号の電位レベルが低
レベルに遷移するかしないかで、入力データ信号が共通
ノードXに伝えられる。
The precharge level of the data signals A to D of the integrated circuit device shown in FIGS. 1 and 2 is a high level (high level precharge type). In the high level precharge type integrated circuit device, the input data signal is transmitted to the common node X depending on whether or not the potential level of the input data signal transits to the low level.

【0025】また、一つのデータ信号を出力した後、他
のデータ信号を出力するときには、まず、選択信号Ba
を高レベルにする(T11)。この後、プリチャージ信
号PRCHを高レベルとし(T12)、共通ノードXを
低レベル(接地電位)にチャージする(T13)。この
操作により、集積回路装置は、アクティブ期間から、プ
リチャージ期間に復帰する。この後、上記の動作を、他
の選択信号Bb、Bc、Bdについて行えば、データ信
号B、C、Dを、共通ノードXに伝えることができる。
When outputting one data signal and then another data signal, first, the selection signal Ba is selected.
To a high level (T11). After that, the precharge signal PRCH is set to high level (T12), and the common node X is charged to low level (ground potential) (T13). By this operation, the integrated circuit device returns from the active period to the precharge period. After that, if the above operation is performed for the other selection signals Bb, Bc, Bd, the data signals B, C, D can be transmitted to the common node X.

【0026】以上のように、この発明の第1の実施例に
係る集積回路装置は、例えばマルチプレクサとして機能
できる。複数のデータ信号線から、一つのデータ信号線
だけを選び、この選ばれたデータ信号線を、一つの配線
1に電気的に接続できるためである。
As described above, the integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention can function as a multiplexer, for example. This is because only one data signal line can be selected from the plurality of data signal lines and the selected data signal line can be electrically connected to one wiring 1.

【0027】図4は、図1および図2に示す集積回路装
置の、共通ノードXにつく寄生容量を示す図である。同
様に、図5は、図37に示すマルチプレクサの、共通ノ
ードXにつく寄生容量を示す図、図8は、図38に示す
マルチプレクサの、共通ノードXにつく寄生容量を示す
図である。
FIG. 4 is a diagram showing parasitic capacitance on the common node X of the integrated circuit device shown in FIGS. 1 and 2. Similarly, FIG. 5 is a diagram showing parasitic capacitance on the common node X of the multiplexer shown in FIG. 37, and FIG. 8 is a diagram showing parasitic capacitance on the common node X of the multiplexer shown in FIG. 38.

【0028】図4に示すように、図1および図2に示す
集積回路装置の、共通ノードXにつく寄生容量、特にP
Nジャンクション容量PN−Jは、選択信号Ba、B
b、Bc、Bdがゲートに入力されている、PMOS3
-1〜3-4のドレインのジャンクション容量が4つ、プリ
チャージ信号PRCHがゲートに入力されている、NM
OS4のドレインのジャンクション容量が1つの、合計
5つだけである。
As shown in FIG. 4, the parasitic capacitance attached to the common node X of the integrated circuit device shown in FIGS.
The N junction capacitance PN-J is used for selecting signals Ba and B.
PMOS3 in which b, Bc, and Bd are input to the gate
-1 to 3-4 has four drain junction capacitors and the precharge signal PRCH is input to the gate, NM
There is only one drain junction capacitance of OS4, a total of five.

【0029】これに対し、図5に示すように、図37に
示すマルチプレクサの、共通ノードXにつくPNジャン
クション容量PN−Jは、CMOS型トランスファ・ゲ
ート回路のPMOSのドレインのジャンクション容量が
4つ、NMOSのドレインのジャンクション容量が4つ
の、合計8つである。
On the other hand, as shown in FIG. 5, in the multiplexer shown in FIG. 37, the PN junction capacitance PN-J attached to the common node X has four junction capacitances of the drain of the PMOS of the CMOS type transfer gate circuit. , There are four NMOS drain capacitances, for a total of eight.

【0030】また、図6に示すように、図38に示すマ
ルチプレクサの、共通ノードXにつくPNジャンクショ
ン容量PN−Jは、CMOS型クロックト・インバータ
回路のPMOSのドレインのジャンクション容量が4
つ、NMOSのドレインのジャンクション容量が4つ
の、合計8つである。
Further, as shown in FIG. 6, the PN junction capacitance PN-J of the multiplexer shown in FIG. 38 at the common node X has a junction capacitance of the drain of the PMOS of the CMOS type clocked inverter circuit of 4
There are four NMOS junction drain capacitances, for a total of eight.

【0031】したがって、図1および図2に示す集積回
路装置は、マルチプレクサとしてして機能できながら
も、図37並びに図38に示したマルチプレクサに比べ
て、寄生容量が大幅に低減され、高速に動作する。
Therefore, although the integrated circuit device shown in FIGS. 1 and 2 can function as a multiplexer, parasitic capacitance is significantly reduced and operates at high speed as compared with the multiplexers shown in FIGS. 37 and 38. To do.

【0032】さらに、データ信号A,B,C,Dが高レ
ベル(プリチャージ状態)から、低レベルへ変化するた
めに、これらの信号が電源電圧VDDから、PMOSの
しきい値電圧Vthの絶対値だけ下がれば、PMOS2
(2-1〜2-4)が導通してデータ信号が共通ノードXに
伝達される。このために、非常に高速に、データ信号
A,B,C,Dを共通ノードXに伝えることができる。
Further, since the data signals A, B, C, D change from the high level (precharge state) to the low level, these signals are changed from the power supply voltage VDD to the absolute value of the PMOS threshold voltage Vth. If the value drops, PMOS2
(2-1 to 2-4) become conductive and the data signal is transmitted to the common node X. Therefore, the data signals A, B, C, D can be transmitted to the common node X at a very high speed.

【0033】これらの利点から、図1および図2に示す
集積回路装置は、図37に示したマルチプレクサ、図3
8に示したマルチプレクサのいずれよりも、高速に動作
する。
Due to these advantages, the integrated circuit device shown in FIGS. 1 and 2 has the multiplexer shown in FIG.
It operates faster than any of the multiplexers shown in FIG.

【0034】基本的な構成と動作は、以上に述べた如く
である。次に、この発明の第2の実施例について説明す
る。この第2の実施例は、この発明の具体的な応用例で
あり、この発明に係る集積回路装置を、ダイナミック型
RAM(DRAM)のデータマルチプレクス回路に応用
したものである。
The basic structure and operation are as described above. Next, a second embodiment of the present invention will be described. The second embodiment is a specific application example of the present invention, in which the integrated circuit device according to the present invention is applied to a data multiplex circuit of a dynamic RAM (DRAM).

【0035】図7は、この発明の第2の実施例に係るD
RAMの概略的なブロック図、図8は、図7に示す16
メガビットセルアレーの一つをより詳細に示したブロッ
ク図、図9は、図8に示す256キロビットセルアレー
の一つをより詳細に示したブロック図、図10は、図9
に示すDQバッファの一つをより詳細に示した回路図で
ある。
FIG. 7 shows a D according to the second embodiment of the present invention.
A schematic block diagram of the RAM, FIG.
9 is a block diagram showing one of the megabit cell arrays in more detail, FIG. 9 is a block diagram showing one of the 256 kilobit cell arrays shown in FIG. 8 in more detail, and FIG.
3 is a circuit diagram showing in more detail one of the DQ buffers shown in FIG.

【0036】図7に示すDRAMは、64メガビットD
RAMである。図7に示すように64メガビットDRA
Mは、4個の16メガビットセルアレーA、B、C、D
を含む。
The DRAM shown in FIG. 7 is a 64-megabit D
RAM. 64 megabit DRA as shown in FIG.
M is four 16-megabit cell arrays A, B, C, D
including.

【0037】さらに図8に示すように、各16メガビッ
トセルアレーの中心には、ローデコーダが配置されてい
る。ローデコーダには、13対のローアドレスA0R〜
A12R、BA0R〜BA12Rが入力される。16メ
ガビットセルアレーの一端には、カラムデコーダが配置
されている。カラムデコーダには、8対のカラムアドレ
スA0C〜A7C、BA0C〜BA7Cが入力される。
16メガビットセルアレーは、さらに64個の256キ
ロビットセルアレーを含む。
Further, as shown in FIG. 8, a row decoder is arranged at the center of each 16-megabit cell array. The row decoder has 13 pairs of row addresses A0R to
A12R and BA0R to BA12R are input. A column decoder is arranged at one end of the 16-megabit cell array. Eight pairs of column addresses A0C to A7C and BA0C to BA7C are input to the column decoder.
The 16 megabit cell array further includes 64 256 kilobit cell arrays.

【0038】図9に示すように、256キロビットセル
アレー(ARY)の両側には、ビット線対プリチャージ
回路(PC)、センスアンプ(SA)およびDQゲート
(DQG)が配置されている。ビット線対プリチャージ
回路(PC)は、ビット線対間(ビット線対は、ビット
線BLと反転ビット線BBLとを含む。)の電位差をイ
コライズし、ビット線対をプリチャージする。ビット線
対がプリチャージされた後、メモリセル(CELL)か
らデータ信号が読み出される。このとき、ビット線対間
に、僅かな電位差が発生する。センスアンプ(SA)
は、この僅かな電位差を増幅する。DQゲート(DQ
G)は、センスアンプ(SA)で増幅されたデータ信号
を、信号CSLに基いて、データ線対(DQ線対は、D
Q線DQと反転DQ線BDQとを含む。)に伝達する。
信号CSLは、メモリセルアレーのカラムを選択するた
めの信号であり、カラムデコーダから出力される。この
実施例に係るDRAMでは、データ線対を、一個の25
6Kセルアレー(ARY)の両側に4対ずつ配置してい
る。
As shown in FIG. 9, a bit line pair precharge circuit (PC), a sense amplifier (SA) and a DQ gate (DQG) are arranged on both sides of the 256 kilobit cell array (ARY). The bit line pair precharge circuit (PC) equalizes the potential difference between the bit line pair (the bit line pair includes the bit line BL and the inverted bit line BBL) to precharge the bit line pair. After the bit line pair is precharged, the data signal is read from the memory cell (CELL). At this time, a slight potential difference occurs between the bit line pair. Sense amplifier (SA)
Amplifies this slight potential difference. DQ gate (DQ
G) uses the data signal amplified by the sense amplifier (SA) as the data line pair (DQ line pair is D
It includes a Q line DQ and an inverted DQ line BDQ. ).
The signal CSL is a signal for selecting a column of the memory cell array and is output from the column decoder. In the DRAM according to this embodiment, one data line pair has 25
Four pairs are arranged on both sides of the 6K cell array (ARY).

【0039】この実施例に係るDRAMは、ノーマルリ
ード動作時、センスアンプ(SA)で増幅されたデータ
信号を、図9に示す4個のDQバッファ(DQB)に入
力する。DQバッファ(DQB)に入力されたデータ信
号は、DQバッファ(DQB)で、さらに増幅される。
DQバッファ(DQB)で、さらに増幅されたデータ信
号は、リードライトデータ線対(リードライトデータ線
対は、リードライトデータ線RWDと反転リードライト
データ線BRWDとを含む。)に入力される。
The DRAM according to this embodiment inputs the data signal amplified by the sense amplifier (SA) to the four DQ buffers (DQB) shown in FIG. 9 during the normal read operation. The data signal input to the DQ buffer (DQB) is further amplified by the DQ buffer (DQB).
The data signal further amplified by the DQ buffer (DQB) is input to the read / write data line pair (the read / write data line pair includes the read / write data line RWD and the inverted read / write data line BRWD).

【0040】図10に示すように、DQバッファ(DQ
B)は、DQ線対(DQ、BDQ)間の電位差をイコラ
イズするDQ線イコライザ300と、データ信号を、D
Q線対から内部DQ線対(DQI、BDQI)に伝達す
る伝達ゲート302と、内部DQ線対間の電位差をイコ
ライズする内部DQ線イコライザ304と、内部DQ線
対間の電位差を増幅するセンスアンプ306と、内部D
Q線対のデータを、リードライトデータ線対(RWD、
BRWD)に出力するRWD線対ドライビング回路30
8とを含む。
As shown in FIG. 10, the DQ buffer (DQ
B) is a DQ line equalizer 300 for equalizing the potential difference between the DQ line pair (DQ, BDQ) and a data signal
A transmission gate 302 for transmitting from the Q line pair to the internal DQ line pair (DQI, BDQI), an internal DQ line equalizer 304 for equalizing the potential difference between the internal DQ line pairs, and a sense amplifier for amplifying the potential difference between the internal DQ line pairs. 306 and the internal D
The data of the Q line pair is read / write data line pair (RWD,
RWD line-to-driving circuit 30 for outputting to BRWD)
8 and.

【0041】また、リードライトデータ線対間の電位差
をイコライズするRWD線イコライザ310が、リード
ライトデータ線RWDと反転リードライトデータ線BR
WDとの間に接続されている。
Further, the RWD line equalizer 310 for equalizing the potential difference between the read / write data line pair includes the read / write data line RWD and the inverted read / write data line BR.
It is connected to WD.

【0042】DQ線イコライザ300は、高電位電源端
子VDDとDQ線との間に直列に接続されたPMOS3
21と、電源端子VDDとBDQ線との間に直列に接続
されたPMOS322と、DQ線とBDQ線との間に直
列に接続されたPMOS323とを含む。PMOSs3
21、322、323のゲートはそれぞれ、DQ線イコ
ライズ信号CEQが供給される配線に接続されている。
The DQ line equalizer 300 has a PMOS 3 connected in series between the high potential power supply terminal VDD and the DQ line.
21, a PMOS 322 connected in series between the power supply terminal VDD and the BDQ line, and a PMOS 323 connected in series between the DQ line and the BDQ line. PMOSs3
The gates of 21, 322 and 323 are connected to the wirings to which the DQ line equalize signal CEQ is supplied.

【0043】伝達ゲート302は、DQ線とDQI線と
の間に直列に接続されたPMOS324と、BDQ線と
BDQI線との間に直列に接続されたPMOS325と
を含む。PMOSs324、325のゲートはそれぞ
れ、反転ラッチ信号BLATCHの反転信号LATCH
が供給される配線に接続されている。
The transmission gate 302 includes a PMOS 324 connected in series between the DQ line and the DQI line, and a PMOS 325 connected in series between the BDQ line and the BDQI line. The gates of the PMOSs 324 and 325 are respectively the inversion signal LATCH of the inversion latch signal BLATCH.
Are connected to the supplied wiring.

【0044】内部DQ線イコライザ304は、電源端子
VDDとDQI線との間に直列に接続されたPMOS3
26と、電源端子VDDとBDQI線との間に直列に接
続されたPMOS327と、DQI線とBDQI線との
間に直列に接続されたPMOS328とを含む。PMO
Ss326、327、328のゲートはそれぞれ、DQ
線イコライズ信号CEQが供給される配線に接続されて
いる。
The internal DQ line equalizer 304 has a PMOS 3 connected in series between the power supply terminal VDD and the DQI line.
26, a PMOS 327 connected in series between the power supply terminal VDD and the BDQI line, and a PMOS 328 connected in series between the DQI line and the BDQI line. PMO
The gates of Ss326, 327, and 328 are DQ, respectively.
It is connected to the wiring to which the line equalize signal CEQ is supplied.

【0045】センスアンプ306は、電源端子VDDと
DQI線との間に直列に接続されたPMOS329と、
電源端子VDDとBDQI線との間に直列に接続された
PMOS330と、反転ラッチ信号BLATCHが供給
される配線とDQI線との間に直列に接続されたNMO
S331と、反転ラッチ信号BLATCHが供給される
配線とBDQI線との間に直列に接続されたNMOS3
32とを含む。PMOS329のゲートはBDQI線に
接続されている。PMOS330のゲートはDQI線に
接続されている。NMOS331のゲートはBDQI線
に接続されている。NMOS332のゲートはDQI線
に接続されている。
The sense amplifier 306 includes a PMOS 329 connected in series between the power supply terminal VDD and the DQI line,
The PMOS 330 connected in series between the power supply terminal VDD and the BDQI line, and the NMO connected in series between the line to which the inverted latch signal BLATCH is supplied and the DQI line.
The NMOS 3 connected in series between S331 and the line to which the inverted latch signal BLATCH is supplied and the BDQI line.
32 and 32. The gate of the PMOS 329 is connected to the BDQI line. The gate of the PMOS 330 is connected to the DQI line. The gate of the NMOS 331 is connected to the BDQI line. The gate of the NMOS 332 is connected to the DQI line.

【0046】RWD線対ドライビング回路308は、D
QI線に接続された入力端子を持つ2入力のNORゲー
ト333と、BDQI線に接続された入力端子を持つ2
入力のNORゲート334と、NORゲート333の出
力端子と低電位電源端子GNDとの間に直列に接続され
たNMOS335と、NORゲート334の出力端子と
電源端子GNDとの間に直列に接続されたNMOS33
6と、RWD線と電源端子GNDとの間に直列に接続さ
れたNMOS337と、BRWD線と電源端子GNDと
の間に直列に接続されたNMOS338とを含む。NO
Rゲート333、334それぞれの他方の入力端子は、
NANDゲート339の出力端子に接続されている。ブ
ロックセレクションのためのアドレス信号群ADDRE
SSは、NANDゲート339の複数の入力端子に入力
される。NMOSs335、338のゲートはそれぞ
れ、NORゲート334の出力端子に接続されている。
NMOSs336、337のゲートはそれぞれ、NOR
ゲート333の出力端子に接続されている。
The RWD line pair driving circuit 308 is
Two-input NOR gate 333 having an input terminal connected to the QI line and two having an input terminal connected to the BDQI line
An input NOR gate 334, an NMOS 335 connected in series between the output terminal of the NOR gate 333 and the low potential power supply terminal GND, and a series connection between the output terminal of the NOR gate 334 and the power supply terminal GND. NMOS 33
6, an NMOS 337 connected in series between the RWD line and the power supply terminal GND, and an NMOS 338 connected in series between the BRWD line and the power supply terminal GND. NO
The other input terminal of each of the R gates 333 and 334 is
It is connected to the output terminal of the NAND gate 339. Address signal group ADDRE for block selection
SS is input to a plurality of input terminals of the NAND gate 339. The gates of the NMOSs 335 and 338 are connected to the output terminal of the NOR gate 334, respectively.
The gates of the NMOSs 336 and 337 are NOR
It is connected to the output terminal of the gate 333.

【0047】RWD線イコライザ310は、電源端子V
DDとRWD線との間に直列に接続されたPMOS34
0と、電源端子VDDとBRWD線との間に直列に接続
されたPMOS341と、RWD線とBRWD線との間
に直列に接続されたPMOS342とを含む。PMOS
s340、341、342のゲートはそれぞれ、RWD
線反転イコライズ信号BRWDEQLが供給される配線
に接続されている。
The RWD line equalizer 310 has a power supply terminal V
PMOS 34 connected in series between the DD and RWD lines
0, a PMOS 341 connected in series between the power supply terminal VDD and the BRWD line, and a PMOS 342 connected in series between the RWD line and the BRWD line. PMOS
The gates of s340, 341, and 342 are RWD, respectively.
The line inversion equalize signal BRWDEQL is connected to the line to which it is supplied.

【0048】図11は、図10に示すDQバッファの動
作を示す動作波形図である。図11に示すように、DQ
線イコライズ信号CEQ、およびRWD線反転イコライ
ズ信号BRWDEQLがそれぞれ、高レベルのとき、D
Q線イコライザ300、内部DQ線イコライザ304、
RWD線イコライザ310はオフしている。また、反転
ラッチ信号BLATCHが、低レベルのとき、伝達ゲー
ト302はオフしている。
FIG. 11 is an operation waveform diagram showing an operation of the DQ buffer shown in FIG. As shown in FIG. 11, DQ
When the line equalize signal CEQ and the RWD line inversion equalize signal BRWDEQL are both at high level, D
Q line equalizer 300, internal DQ line equalizer 304,
The RWD line equalizer 310 is off. When the inverted latch signal BLATCH is low level, the transmission gate 302 is off.

【0049】この状態から、DQ線イコライズ信号CE
Q、およびRWD線反転イコライズ信号BRWDEQL
をそれぞれ低レベル、反転ラッチ信号BLATCHを高
レベルにすると、DQ線イコライザ300、内部DQ線
イコライザ304、RWD線イコライザ310および伝
達ゲート302はそれぞれオンする。これらの回路がオ
ンされると、DQ線対間の電位差、およびRWD線対間
の電位差がそれぞれ、高レベルにイコライズされる(高
レベルプリチャージ)。この後、DQ線イコライズ信号
CEQおよびRWD線反転イコライズ信号BRWDEQ
Lをそれぞれ高レベルとすると、DQ線イコライザ30
0、内部DQ線イコライザ304、RWD線イコライザ
310は、再びオフする。データ信号は、伝達ゲート3
02を介して、DQ線対から内部DQ線対に伝達され
る。内部DQ線対に伝達されたデータ信号は、RWD線
対ドライビング回路308のNORゲート333、33
4に入力される。NORゲート333、334が、NA
NDゲート339の出力信号によって、活性状態となっ
ていると、内部DQ線対に伝達されたデータ信号のレベ
ルに応じて、NMOS337、338のいずれかがオン
する。例えばNMOS338がオンすると、BRWD線
の電荷が、NMOS338を介して電源端子GNDに向
かって放電され、BRWD線の電位は、高レベルから低
レベルとなる。このとき、RWD線の電位は、高レベル
のままである。このようにして、DQ線対から、RWD
線対へとデータ信号が伝えられる。
From this state, the DQ line equalize signal CE
Q and RWD line inversion equalize signal BRWDEQL
Is set to a low level and the inverted latch signal BLATCH is set to a high level, the DQ line equalizer 300, the internal DQ line equalizer 304, the RWD line equalizer 310, and the transmission gate 302 are turned on. When these circuits are turned on, the potential difference between the DQ line pair and the potential difference between the RWD line pair are equalized to high levels (high level precharge). After this, the DQ line equalize signal CEQ and the RWD line inverted equalize signal BRWDEQ
When L is set to a high level, the DQ line equalizer 30
0, the internal DQ line equalizer 304, and the RWD line equalizer 310 are turned off again. The data signal is transmitted to the transmission gate 3
It is transmitted from the DQ line pair to the internal DQ line pair via 02. The data signals transmitted to the internal DQ line pair are NOR gates 333 and 33 of the RWD line pair driving circuit 308.
4 is input. NOR gates 333 and 334 are NA
When activated by the output signal of the ND gate 339, one of the NMOSs 337 and 338 is turned on according to the level of the data signal transmitted to the internal DQ line pair. For example, when the NMOS 338 is turned on, the charge of the BRWD line is discharged toward the power supply terminal GND via the NMOS 338, and the potential of the BRWD line changes from high level to low level. At this time, the potential of the RWD line remains at the high level. In this way, from the DQ line pair, RWD
A data signal is transmitted to the line pair.

【0050】なお、NMOS337がオンしたときに
は、RWD線の電荷が放電されて、RWD線の電位は高
レベルから低レベルとなる。このとき、BRWD線の電
位は、高レベルのままである。
When the NMOS 337 is turned on, the charge on the RWD line is discharged, and the potential on the RWD line changes from high level to low level. At this time, the potential of the BRWD line remains at the high level.

【0051】この実施例に係るDRAMでは、ローデコ
ーダを挟んで配置されている2個の256Kセルアレー
(ARY)が同時に活性化され、図9に示すカラム選択
信号CSLにより両側4対ずつ、計8対のDQ線対にデ
ータが選択的に伝えられる。その後、8個のDQバッフ
ァ(DQB)でデータ信号が増幅されて、8対のRWD
線にデータ信号が伝わることになる。このようなリード
動作は、4個の16メガビットセルアレー全てにおいて
同時に平行して行われるので、結局チップ全体では8×
4=32ビットのデータがRWD線対を伝わってチップ
中央のリードマルチプレクサ&ライトマルチプレクサ
(マルチプレクス回路)に入力されることなる。上記マ
ルチプレクサで5対のアドレス(A7C〜A12C、B
A7C〜BA12C)によって1対のリードライトデー
タ線対RWDのデータが選択されてリードデータ線対R
Dに出力される。これが選択回路を経由して出力バッフ
ァーに入り、出力パッドDoutに向けて出力される。
図10に示すDQバッファは、リードライトデータ線対
のプリチャージレベルを“H”レベルにすることがで
き、DRAMのマルチプレクス回路に、図1および図2
などに示した集積回路装置を用いることを可能とする。
In the DRAM according to this embodiment, two 256K cell arrays (ARY) arranged with the row decoder sandwiched therebetween are activated at the same time, and a total of 8 pairs on both sides by the column selection signal CSL shown in FIG. Data is selectively transmitted to the pair of DQ line pairs. After that, the data signal is amplified by eight DQ buffers (DQB), and eight pairs of RWD
The data signal will be transmitted to the line. Since such a read operation is performed in parallel in all four 16-megabit cell arrays at the same time, the total chip size is 8 ×.
Data of 4 = 32 bits is transmitted to the read multiplexer & write multiplexer (multiplex circuit) in the center of the chip through the RWD line pair. With the above multiplexer, 5 pairs of addresses (A7C to A12C, B
A7C to BA12C) selects the data of the pair of read / write data line pairs RWD and reads the read data line pair R
It is output to D. This enters the output buffer via the selection circuit and is output to the output pad Dout.
The DQ buffer shown in FIG. 10 can set the precharge level of the read / write data line pair to the “H” level, and is used in the multiplex circuit of the DRAM as shown in FIGS.
It is possible to use the integrated circuit device shown in the above.

【0052】一方、ノーマルライト時は、上記の動作と
逆であり、チップの外から入力されたデータが、入力パ
ッドDinから、入力バッファに入力され、ライトデー
タ線対WD、BWDに出力される。そして、リードマル
チプレクサ&ライトマルチプレクサで5対のアドレス
(A7C〜A12C、BA7C〜BA12C)によって
1対のリードライトデータ線対RWDが選択されて、今
度は、書込用DQバッファ(図示せず)を通過して、D
Q線対、並びにDQゲートを通り、ビット線対に入力さ
れる。これによって、データが、メモリセルに書き込ま
れる。
On the other hand, at the time of normal write, the operation is reverse to the above, and the data input from the outside of the chip is input to the input buffer from the input pad Din and output to the write data line pair WD, BWD. . Then, the read multiplexer / write multiplexer selects one read / write data line pair RWD by five pairs of addresses (A7C to A12C, BA7C to BA12C), and this time, a write DQ buffer (not shown) is selected. Pass through, D
It is input to the bit line pair through the Q line pair and the DQ gate. Thereby, the data is written in the memory cell.

【0053】尚、テストリード時の動作については後述
する。次に、上記DRAMにおいて、この発明が適用さ
れているリードマルチプレクサ&ライトマルチプレクサ
について説明する。
The operation during the test read will be described later. Next, in the above DRAM, a read multiplexer & write multiplexer to which the present invention is applied will be described.

【0054】図12は図7に示すリードマルチプレクサ
&ライトマルチプレクサの概略的なブロック図である。
図12に示すように、リードマルチプレクサ&ライトマ
ルチプレクサは、マルチプレクス信号発生回路10と、
リードマルチプレクサ11と、ライトマルチプレクサ1
2とを含む。
FIG. 12 is a schematic block diagram of the read multiplexer & write multiplexer shown in FIG.
As shown in FIG. 12, the read multiplexer & write multiplexer includes a multiplex signal generation circuit 10,
Read multiplexer 11 and write multiplexer 1
Including 2 and.

【0055】発生回路10は、5対のカラムアドレス
(A8C〜A12C、BA8C〜BA12C)から、8
本のマルチプレクス信号BMUL1〜BMUL8、およ
び4本のマルチプレクス信号BMULA〜BMULD、
合計12本のマルチプレクス信号を発生させる。
The generating circuit 10 outputs 8 from 5 pairs of column addresses (A8C to A12C, BA8C to BA12C).
Multiplex signals BMUL1 to BMUL8 and four multiplex signals BMULA to BMULD,
A total of 12 multiplexed signals are generated.

【0056】リードマルチプレクサ11は、ノーマルリ
ード動作時およびテストリード動作時に使用される。ノ
ーマルリード動作時には、32対のリードライトデータ
線対(RWD1〜RWD32、BRWD1〜BRWD3
2)から、12本のマルチプレクス信号BMUL1〜B
MUL8、BMULA〜BMULDを用いて1対だけ選
び出し、この選ばれた1対を、1対のリードデータ線対
(RD、BRD)に電気的に接続する。
The read multiplexer 11 is used during normal read operation and test read operation. During a normal read operation, 32 pairs of read / write data line pairs (RWD1 to RWD32, BRWD1 to BRWD3
From 2), 12 multiplexed signals BMUL1-B
Only one pair is selected by using MUL8 and BMULA to BMULD, and the selected one pair is electrically connected to one read data line pair (RD, BRD).

【0057】また、テストリード動作時には、32対の
リードライトデータ線対(RWD1〜RWD32、BR
WD1〜BRWD32)を全て選んで、32対の全てを
1対のリードデータ線対(RD、BRD)に電気的に接
続する。かつ全てのリードライトデータ線対に流れる信
号の論理和をとる。
During the test read operation, 32 pairs of read / write data line pairs (RWD1 to RWD32, BR
WD1 to BRWD32) are all selected and all 32 pairs are electrically connected to one read data line pair (RD, BRD). And the logical sum of the signals flowing through all the read / write data line pairs is calculated.

【0058】一方、ライトマルチプレクサ12は、ノー
マルライト動作時およびテストライト動作時に使用され
る。ノーマルライト動作時には、32対のリードライト
データ線対(RWD1〜RWD32、BRWD1〜BR
WD32)から、12本のマルチプレクス信号MUL1
〜MUL8、BMULA〜BMULDに用いて1対だけ
選び出し、1対のライトデータ線対(WD、BWD)
を、上記選ばれたリードライトデータ線対に電気的に接
続する。
On the other hand, the write multiplexer 12 is used during the normal write operation and the test write operation. During the normal write operation, 32 pairs of read / write data line pairs (RWD1 to RWD32, BRWD1 to BR
12 multiplexed signals MUL1 from WD32)
-MUL8, BMULA-BMULD, select only one pair and write data line pair (WD, BWD)
Are electrically connected to the selected read / write data line pair.

【0059】また、テストライト動作時には、32対の
リードライトデータ線対(RWD1〜RWD32、BR
WD1〜BRWD32)を全て選んで、1対のライトデ
ータ線対(WD、BWD)を、32対の全てに電気的に
接続する。
In the test write operation, 32 pairs of read / write data line pairs (RWD1 to RWD32, BR) are used.
WD1 to BRWD32) are all selected, and one pair of write data line pairs (WD, BWD) is electrically connected to all 32 pairs.

【0060】次に、各部の構成を参照しながら、その動
作について説明する。図13は、マルチプレクス信号発
生回路の回路図である。図13に示すように、マルチプ
レクス信号発生回路10は、12個のマルチプレクス信
号発生用ゲート回路14-1〜14-12 を含む。12個の
ゲート回路のうち、ゲート回路14-1〜14-8の8個は
それぞれ、3対のカラムアドレスA8C〜A10C、B
A8C〜BA10Cから、8本のマルチプレクス信号B
MUL1〜BMUL8を発生させる。また、残りのゲー
ト回路14-9〜14-12 の4個は、2対のカラムアドレ
スA11C、A12C、BA11C、BA12Cから、
4本のマルチプレクス信号BMULA〜BMULDを発
生させる、これら12個のゲート回路14-1〜14-12
の構成は、いずれもほぼ同様である。そこで、ゲート回
路14-1〜14-12 の構成を、マルチプレクス信号BM
UL1を発生させるゲート回路14-1にのみ着目して説
明する。
Next, the operation will be described with reference to the configuration of each unit. FIG. 13 is a circuit diagram of the multiplex signal generation circuit. As shown in FIG. 13, the multiplex signal generation circuit 10 includes 12 multiplex signal generation gate circuits 14-1 to 14-12. Of the 12 gate circuits, the eight gate circuits 14-1 to 14-8 have three pairs of column addresses A8C to A10C and B, respectively.
8 multiplexed signals B from A8C to BA10C
MUL1 to BMUL8 are generated. Further, the remaining four gate circuits 14-9 to 14-12 have two pairs of column addresses A11C, A12C, BA11C and BA12C.
These twelve gate circuits 14-1 to 14-12 for generating four multiplexed signals BMULA to BMULD.
The configurations are substantially the same. Therefore, the configuration of the gate circuits 14-1 to 14-12 is changed to the multiplex signal BM.
Description will be given focusing only on the gate circuit 14-1 that generates UL1.

【0061】ゲート回路14-1は、カラムアドレスBA
8C、BA9C、BA10Cの3本を入力とするAND
ゲート15と、この出力を一方の入力とし、その出力を
マルチプレクス信号BMUL1とするNORゲート16
とを含む。
The gate circuit 14-1 has a column address BA.
AND with 3 inputs of 8C, BA9C, BA10C
A gate 15 and a NOR gate 16 which uses this output as one input and outputs the output as a multiplexed signal BMUL1.
Including and

【0062】また、NORゲート16の他方の入力には
テストモード信号TESTが入力されている。この信号
TESTは、ノーマルモード時に低レベルとなり、テス
トモード時に高レベルとなる。このために、ノーマルモ
ード時には、NORゲート16から、ANDゲート15
の出力が反転されて出力されるようになり、マルチプレ
クス信号BMUL1の出力レベルは、ANDゲート15
の出力レベルにより決定される。
The test mode signal TEST is input to the other input of the NOR gate 16. The signal TEST has a low level in the normal mode and has a high level in the test mode. Therefore, in the normal mode, the NOR gate 16 shifts to the AND gate 15
The output level of the multiplex signal BMUL1 is inverted by the AND gate 15
It is determined by the output level of.

【0063】一方、テストモード時には、NORゲート
16は、ANDゲート15の出力レベルに関わらず、常
にマルチプレクス信号BMUL1を低レベルとする。こ
のようにして生成された、12本のマルチプレクス信号
BMUL1〜BMUL8、BMULA〜BMULDは、
リードマルチプレクサ11、並びにライトマルチプレク
サ12にそれぞれ供給される。
On the other hand, in the test mode, the NOR gate 16 always sets the multiplex signal BMUL1 to the low level regardless of the output level of the AND gate 15. The 12 multiplexed signals BMUL1 to BMUL8 and BMULA to BMULD generated in this way are
It is supplied to the read multiplexer 11 and the write multiplexer 12, respectively.

【0064】図14は、リードマルチプレクサ11の内
部構成を概略的に示すブロック図である。図14に示す
ように、リードマルチプレクサ11は、第1マルチプレ
クス段400と、第2マルチプレクス段402とを含
む。
FIG. 14 is a block diagram schematically showing the internal structure of the read multiplexer 11. As shown in FIG. 14, the read multiplexer 11 includes a first multiplex stage 400 and a second multiplex stage 402.

【0065】第1マルチプレクス段400は、4個のマ
ルチプレクス回路17-1,17-2,17-3,17-4を含
む。マルチプレクス回路17-1は、マルチプレクス信号
BMUL1〜BMUL8に基いて、16メガビットセル
アレーAに接続された8対のリードライトデータ線対R
WD1〜RWD8を、1対の内部リード線対RDAにマ
ルチプレクスする。同様に、マルチプレクス回路17-2
は、マルチプレクス信号BMUL1〜BMUL8に基い
て、16メガビットセルアレーBに接続された8対のリ
ードライトデータ線対RWD9〜RWD16を、1対の
内部リード線対RDBにマルチプレクスする。同様に、
マルチプレクス回路17-3は、マルチプレクス信号BM
UL1〜BMUL8に基いて、16メガビットセルアレ
ーCに接続された8対のリードライトデータ線対RWD
17〜RWD24を、1対の内部リード線対RDCにマ
ルチプレクスする。同様に、マルチプレクス回路17-4
は、マルチプレクス信号BMUL1〜BMUL8に基い
て、16メガビットセルアレーDに接続された8対のリ
ードライトデータ線対RWD25〜RWD32を、1対
の内部リード線対RDDにマルチプレクスする。
The first multiplex stage 400 includes four multiplex circuits 17-1, 17-2, 17-3, 17-4. The multiplex circuit 17-1 includes eight pairs of read / write data line pairs R connected to the 16-megabit cell array A based on the multiplex signals BMUL1 to BMUL8.
WD1-RWD8 are multiplexed into a pair of internal lead pairs RDA. Similarly, the multiplex circuit 17-2
On the basis of the multiplex signals BMUL1 to BMUL8, multiplex eight pairs of read / write data line pairs RWD9 to RWD16 connected to the 16 megabit cell array B into one pair of internal read line pairs RDB. Similarly,
The multiplex circuit 17-3 uses the multiplex signal BM.
8 pairs of read / write data line pairs RWD connected to a 16 megabit cell array C based on UL1 to BMUL8
17-RWD 24 are multiplexed into a pair of internal lead pairs RDC. Similarly, the multiplex circuit 17-4
On the basis of the multiplex signals BMUL1 to BMUL8, multiplex eight pairs of read / write data line pairs RWD25 to RWD32 connected to the 16-megabit cell array D into one pair of internal read line pairs RDD.

【0066】第2マルチプレクス段402は、1個のマ
ルチプレクス回路18を含む。マルチプレクス回路18
は、マルチプレクス信号BMULA〜BMULDに基い
て、4対の内部リード線対RDA〜RDDを、1対のリ
ードデータ線対RDにマルチプレクスする。
The second multiplex stage 402 includes one multiplex circuit 18. Multiplex circuit 18
Multiplexes four pairs of internal lead lines RDA to RDD into one pair of read data line pairs RD based on the multiplex signals BMULA to BMULD.

【0067】図15は、第1マルチプレクス段400が
含む、マルチプレクス回路17-1の回路図である。な
お、第1マルチプレクス段400が含む、他のマルチプ
レクス回路17-2〜17-4はそれぞれ、マルチプレクス
回路17-1と入力されるリードライトデータ線対が異な
るだけで回路構成はほぼ同一である。よって、第1マル
チプレクス段400が含む、マルチプレクス回路の回路
構成は、マルチプレクス回路17-1のみに着目して説明
することにする。
FIG. 15 is a circuit diagram of the multiplex circuit 17-1 included in the first multiplex stage 400. The other multiplex circuits 17-2 to 17-4 included in the first multiplex stage 400 have substantially the same circuit configuration except that the read / write data line pair input to the multiplex circuit 17-1 is different. Is. Therefore, the circuit configuration of the multiplex circuit included in the first multiplex stage 400 will be described focusing only on the multiplex circuit 17-1.

【0068】マルチプレクス回路17-1は、リードライ
トデータ線RWD1〜RWD8の8本を、1本の内部リ
ードデータ線RDAに統合する正相信号用マルチプレク
ス回路19と、反転リードライトデータ線BRWD1〜
BRWD8の8本を、1本の反転内部リードデータ線R
DAに統合する反転信号用マルチプレクス回路20とを
含んでいる。
The multiplex circuit 17-1 includes a normal phase signal multiplex circuit 19 for integrating eight read / write data lines RWD1 to RWD8 into one internal read data line RDA, and an inverted read / write data line BRWD1. ~
Eight BRWD8 and one inverted internal read data line R
And a multiplex circuit 20 for inverted signals which is integrated with DA.

【0069】正相信号用マルチプレクス回路17は、図
1および図2に示した装置と同様の構成を有する。特に
異なる点は、データ信号伝達用PMOS群2(2-1〜2
-8)と出力選択用PMOS群3(3-1〜3-8)との直列
回路102が4本並列から8本並列になった点、データ
信号A〜Dがリードライトデータ信号RWD1〜RWD
8になった点、並びに選択信号Ba〜Bdがマルチプレ
クス信号BMUL1〜BMULになった点である。
The positive phase signal multiplex circuit 17 has the same structure as that of the apparatus shown in FIGS. Particularly, the difference is that the data signal transmission PMOS group 2 (2-1 to 2)
-8) and the output selection PMOS group 3 (3-1 to 3-8) are connected in series from four in parallel to eight in parallel, and the data signals A to D are read / write data signals RWD1 to RWD.
8 and the selection signals Ba to Bd become the multiplex signals BMUL1 to BMUL.

【0070】また、共通ノードX0 には、インバータ2
1の入力が接続され、このインバータ21が、出力信号
である内部リードデータ信号RDAを出力する。尚,図
15中、参照符号VDは集積回路内における高電位電源
(この実施例では電位VDD)を示し、参照符号VS
(この実施例では接地電位GND)は集積回路内におけ
る低電位電源を示している。
Further, the inverter 2 is connected to the common node X 0.
The input of 1 is connected, and the inverter 21 outputs the internal read data signal RDA which is an output signal. In FIG. 15, reference numeral VD indicates a high potential power source (potential VDD in this embodiment) in the integrated circuit, and reference numeral VS.
(Ground potential GND in this embodiment) indicates a low potential power supply in the integrated circuit.

【0071】反転信号用マルチプレクス回路20も、正
相信号用マルチプレクス回路19と同様の構成である。
ただし、逆相信号用であるから、リードライトデータ信
号RWD1〜RWD8が、反転リードライトデータ信号
BRWD1〜BRWD8になっている。
The inversion signal multiplex circuit 20 has the same structure as the positive phase signal multiplex circuit 19.
However, the read / write data signals RWD1 to RWD8 are the inverted read / write data signals BRWD1 to BRWD8 because they are for the reverse phase signals.

【0072】尚、逆相信号用マルチプレクス回路20の
回路素子においてはそれぞれ、データ信号伝達用PMO
S群には参照符号2´-1〜2´-8を、出力選択用PMO
S群には参照符号3´-1〜3´-8を、共通ノードBX0
をプリチャージするためのNMOSには参照符号4´
を、さらに共通ノードに入力を接続したインバータには
参照符号21´を付すことで、正相信号用マルチプレク
ス回路19の回路素子と対応させ、その説明は省略す
る。
In the circuit elements of the multiplex circuit 20 for the reverse phase signal, the PMO for transmitting the data signal is provided.
Reference numbers 2'-1 to 2'-8 are assigned to the S group and PMO for output selection
Reference numbers 3'-1 to 3'-8 are assigned to the S group and the common node BX 0
Reference numeral 4'is provided for the NMOS for precharging
Further, the reference numeral 21 ′ is attached to the inverter having the input connected to the common node to correspond to the circuit element of the positive-phase signal multiplex circuit 19, and the description thereof will be omitted.

【0073】図16は、第2マルチプレクス段402が
含む、マルチプレクス回路18の回路図である。マルチ
プレクス回路18は、マルチプレクス回路17-1〜17
-4と同様、正相信号用マルチプレクス回路22と、反転
信号用マルチプレクス回路23とを含んでいる。マルチ
プレクス回路22は、内部リードデータ線RDA〜RD
Dの4本を、1本のリードデータ線DAに統合する。マ
ルチプレクス回路23は、反転内部リードデータ線BR
DA〜BRDDの4本を、1本の反転内部リードデータ
線BRDに統合する。
FIG. 16 is a circuit diagram of the multiplex circuit 18 included in the second multiplex stage 402. The multiplex circuit 18 includes multiplex circuits 17-1 to 17-1.
Similarly to -4, it includes a multiplex circuit 22 for a positive phase signal and a multiplex circuit 23 for an inverted signal. The multiplex circuit 22 uses the internal read data lines RDA to RD.
Four of D are integrated into one read data line DA. The multiplex circuit 23 uses the inverted internal read data line BR.
Four of DA to BRDD are integrated into one inverted internal read data line BRD.

【0074】正相信号用マルチプレクス回路22は、図
1および図2に示した装置と同様の構成を有する。特に
異なる点は、データ信号伝達用PMOS群2(2-9〜2
-12)のそれぞれに、内部リードデータ信号RDA〜R
DDが供給される点、並びに出力選択用PMOS群3
(3-9〜3-12 )にマルチプレクス信号BMULA〜B
MULDが供給される点である。
The positive phase signal multiplex circuit 22 has the same structure as that of the apparatus shown in FIGS. Especially, the difference is that the data signal transmission PMOS group 2 (2-9 to 2
-12) to the internal read data signals RDA to R
Point to which DD is supplied, and output selection PMOS group 3
(3-9 to 3-12) multiplex signals BMULA to B
This is the point at which MULD is supplied.

【0075】また、共通ノードX1 には、インバータ2
4の入力が接続され、このインバータ24が、出力信号
であるリードデータ信号RDを出力する。反転信号用マ
ルチプレクス回路23も、正相信号用マルチプレクス回
路22と同様の構成である。ただし、逆相信号用である
ので、データ信号伝達用PMOS2-9〜2-12 のゲート
には、反転内部リードデータ信号BRDA〜BRDDが
供給される。
Further, the inverter 2 is connected to the common node X 1.
4 inputs are connected, and this inverter 24 outputs a read data signal RD which is an output signal. The inversion signal multiplex circuit 23 also has the same configuration as the in-phase signal multiplex circuit 22. However, since it is for the reverse phase signal, the inverted internal read data signals BRDA to BRDD are supplied to the gates of the data signal transmitting PMOSs 2-9 to 2-12.

【0076】尚、逆相信号用マルチプレクス回路23の
回路素子においてはそれぞれ、データ信号伝達用PMO
S群には参照符号2´-9〜2´-12 を、出力選択用PM
OS群には参照符号3´-9〜3´-12 を、共通ノードB
1 をプリチャージするためのNMOSには参照符号4
´を、さらに共通ノードに入力を接続したインバータに
は参照符号24´を付すことで、正相信号用マルチプレ
クス回路22の回路素子と対応させ、その説明は省略す
る。
In the circuit elements of the multiplex circuit 23 for the reverse phase signal, the PMO for transmitting the data signal is provided.
Reference numbers 2'-9 to 2'-12 are assigned to the S group and PM for output selection
Reference numbers 3'-9 to 3'-12 are assigned to the OS group and the common node B
Reference numeral 4 is provided for the NMOS for precharging X 1.
By adding reference numeral 24 'to the inverter having the input connected to the common node, reference numeral 24' is made to correspond to the circuit element of the positive-phase signal multiplex circuit 22, and the description thereof will be omitted.

【0077】上記リードマルチプレクサでは、マルチプ
レクス回路が複数段に分けられている。このようにマル
チプレクス回路を複数段に分けると、32対のリードラ
イトデータ線RWDを、一段のマルチプレクス回路で、
1対のリードデータ線対RDにまで選択するよりも、リ
ードデータ線対RDに付加される寄生容量を、さらに軽
減することができる。
In the read multiplexer, the multiplex circuit is divided into a plurality of stages. When the multiplex circuit is divided into a plurality of stages in this way, 32 pairs of read / write data lines RWD are formed by one stage of the multiplex circuit.
The parasitic capacitance added to the read data line pair RD can be further reduced as compared with the case of selecting even one read data line pair RD.

【0078】また、第1マルチプレクス段400が含
む、マルチプレクス回路17-1〜17-4の出力信号線、
即ち4対のリードデータ線対RDA〜RDDに1つず
つ、合計4個の出力バッファを設ける。そして、第2マ
ルチプレクス段402が含むマルチプレクス回路18を
非活性とし、1対のリードデータ線対と1個の出力バッ
ファとを接続するようにする。このように構成すれば、
×1ビット構成のDRAMに代わり、×4ビット構成の
DRAMを得ることができる。
The output signal lines of the multiplex circuits 17-1 to 17-4 included in the first multiplex stage 400,
That is, a total of four output buffers are provided, one for each of the four read data line pairs RDA to RDD. Then, the multiplex circuit 18 included in the second multiplex stage 402 is made inactive so that one pair of read data line pairs and one output buffer are connected. With this configuration,
A DRAM having a × 4 bit structure can be obtained in place of the DRAM having a × 1 bit structure.

【0079】このような、出力ビット数の変更を、DR
AMチップに付加された切換機能、あるいは配線パター
ンの変更などで行えば、1つのDRAMチップから、×
1ビット構成、×4ビット構成のいずれのDRAMをも
得ることができる。
Such a change in the number of output bits is changed to DR.
If the switching function added to the AM chip, or the wiring pattern is changed, from one DRAM chip,
It is possible to obtain a DRAM having either a 1-bit configuration or a x4-bit configuration.

【0080】このようなマルチプレクス回路を複数段に
分けた構成は、寄生容量を低減できること、×1ビット
構成および×4ビット構成のいずれかを選択できるDR
AMを簡単に得られることから、この発明にとって、好
適である。
The structure in which the multiplex circuit is divided into a plurality of stages can reduce the parasitic capacitance and can select either the × 1 bit structure or the × 4 bit structure.
This is suitable for the present invention because AM can be easily obtained.

【0081】図17は、出力ビット数を変更できるDR
AMのリードマルチプレクサのブロック図である。図1
7に示すように、第1マルチプレクス段400と第2マ
ルチプレクス段402とを互いに接続するリードデータ
線対RDA〜RDDには、スイッチ回路群450が設け
られている。スイッチ回路群450は、リードデータ線
対に1つずつ設けられたスイッチ回路451-1〜451
-4を含む。スイッチ回路451-1〜451-4は、リード
データ線対RDA〜RDDを、第2マルチプレクス段4
02、および出力バッファ群452のいずれか一方に切
り換えて接続する。この切り換えは、切り換え信号×4
の電位レベルに基いて行われる。出力バッファ群452
は、4対のリードデータ線対RDA〜RDDに対応し
た、4個の出力バッファ453-1〜453-4を含む。出
力バッファ453-1は、×1ビット構成のとき、および
×4ビット構成のときのいずれに状態でも使用される。
このため、スイッチ回路454を介して、リードデータ
線対RDおよびスイッチ回路451-1に接続されてい
る。スイッチ回路454も、スイッチ回路451-1〜4
51-4と同様な切り換えを行う。この切り換えも、切り
換え信号×4の電位レベルに基いて行われる。他の出力
バッファ453-2〜453-4は、×4ビット構成のとき
のみ、使用される。
FIG. 17 shows a DR in which the number of output bits can be changed.
It is a block diagram of a read multiplexer of AM. Figure 1
As shown in FIG. 7, a switch circuit group 450 is provided in the read data line pair RDA to RDD that connects the first multiplex stage 400 and the second multiplex stage 402 to each other. The switch circuit group 450 includes switch circuits 451-1 to 451 provided one for each read data line pair.
-4 is included. The switch circuits 451-1 to 451-4 connect the read data line pairs RDA to RDD to the second multiplex stage 4
02 and the output buffer group 452, and is connected. This switching is a switching signal x 4
It is performed based on the potential level of. Output buffer group 452
Includes four output buffers 453-1 to 453-4 corresponding to four read data line pairs RDA to RDD. Output buffer 453-1 is used in both the x1 bit configuration and the x4 bit configuration.
Therefore, it is connected to the read data line pair RD and the switch circuit 451-1 via the switch circuit 454. The switch circuit 454 is also the switch circuits 451-1 to 4-4.
The same switching as 51-4 is performed. This switching is also performed based on the potential level of the switching signal × 4. The other output buffers 453-2 to 453-4 are used only in the x4 bit configuration.

【0082】また、マルチプレクス信号BMULA〜B
MULD、およびプリチャージ信号PRCHは、信号非
活性化回路455を介して、第2マルチプレクス段40
2のマルチプレクス回路18に入力される。信号非活性
化回路455は、信号線に1つずつ設けられたORゲー
ト回路456-1〜456-4およびANDゲート回路45
6-5を含む。ORゲート回路456-1〜456-4の一方
の入力にはそれぞれ、信号BMULA〜BMULDが入
力され、他方の入力にはそれぞれ、切り換え信号B×4
が入力される。ANDゲート回路456-5の一方の入力
にはそれぞれ、信号PRCHが入力され、他方の入力に
はそれぞれ、切り換え信号×4が入力される。
Further, the multiplexed signals BMULA-B
MULD and the precharge signal PRCH are supplied to the second multiplex stage 40 via the signal deactivating circuit 455.
2 is input to the multiplex circuit 18. The signal deactivating circuit 455 includes OR gate circuits 456-1 to 456-4 and an AND gate circuit 45, which are provided one for each signal line.
Including 6-5. The signals BMULA to BMULD are input to one input of each of the OR gate circuits 456-1 to 456-4, and the switching signal B × 4 is input to each of the other inputs.
Is entered. The signal PRCH is input to one input of the AND gate circuit 456-5, and the switching signal x4 is input to each of the other inputs.

【0083】切り換え信号×4が高レベルのときには、
ORゲート回路456-1〜456-4およびANDゲート
回路456-5の出力はそれぞれ、信号BMULA〜BM
ULD、PRCHの電位レベルに応じて変化する。この
ため、マルチプレクス回路18は活性となる。
When the switching signal × 4 is at high level,
The outputs of the OR gate circuits 456-1 to 456-4 and the AND gate circuit 456-5 are signals BMULA to BM, respectively.
It changes according to the potential levels of ULD and PRCH. Therefore, the multiplex circuit 18 becomes active.

【0084】また、切り換え信号×4が低レベルのとき
には、ORゲート回路456-1〜456-4の出力は高レ
ベルに固定され、ANDゲート回路456-5の出力は低
レベルに固定される。このため、マルチプレクス回路1
8は非活性となる。
When the switching signal x4 is at the low level, the outputs of the OR gate circuits 456-1 to 456-4 are fixed at the high level and the output of the AND gate circuit 456-5 is fixed at the low level. Therefore, the multiplex circuit 1
8 is inactive.

【0085】図18は、図17に示すスイッチ回路の回
路図である。図18には、特にスイッチ回路451-1、
およびスイッチ回路454の回路図が示されている。図
18に示すように、スイッチ回路451-1は、4個のC
MOS型トランスファ・ゲート回路470-1〜470-4
を含む。切り換え信号×4は、ゲート回路470-1のP
MOSのゲート、ゲート回路470-2のPMOSのゲー
ト、ゲート回路470-3のNMOSのゲート、ゲート回
路470-4のNMOSのゲートにそれぞれ入力される。
また、反転切り換え信号B×4は、ゲート回路470-1
のNMOSのゲート、ゲート回路470-2のNMOSの
ゲート、ゲート回路470-3のPMOSのゲート、ゲー
ト回路470-4のPMOSのゲートにそれぞれ入力され
る。
FIG. 18 is a circuit diagram of the switch circuit shown in FIG. In FIG. 18, in particular, the switch circuit 451-1,
A circuit diagram of the switch circuit 454 is shown. As shown in FIG. 18, the switch circuit 451-1 includes four Cs.
MOS type transfer gate circuit 470-1 to 470-4
including. Switching signal x4 is P of the gate circuit 470-1.
The signals are input to the MOS gate, the PMOS gate of the gate circuit 470-2, the NMOS gate of the gate circuit 470-3, and the NMOS gate of the gate circuit 470-4, respectively.
Further, the inversion switching signal B × 4 is applied to the gate circuit 470-1.
To the gate of the NMOS, the gate of the gate of the gate circuit 470-2, the gate of the PMOS of the gate circuit 470-3, and the gate of the PMOS of the gate circuit 470-4.

【0086】このようなスイッチ回路451-1である
と、切り換え信号×4が高レベルのとき、ゲート回路4
70-3およびゲート回路470-4がオンし、ゲート回路
470-1およびゲート回路470-2がオフする。このた
め、リードデータ線RDAおよびBRDAは、マルチプ
レクス回路18に接続される。
With such a switch circuit 451-1, when the switching signal × 4 is at a high level, the gate circuit 4
70-3 and gate circuit 470-4 turn on, and gate circuit 470-1 and gate circuit 470-2 turn off. Therefore, the read data lines RDA and BRDA are connected to the multiplex circuit 18.

【0087】また、切り換え信号×4が低レベルのと
き、ゲート回路470-1およびゲート回路470-2がオ
ンし、ゲート回路470-3およびゲート回路470-4が
オフする。このため、リードデータ線RDAおよびBR
DAは、スイッチ回路454に接続される。
When the switching signal x4 is at the low level, the gate circuits 470-1 and 470-2 are turned on and the gate circuits 470-3 and 470-4 are turned off. Therefore, the read data lines RDA and BR
DA is connected to the switch circuit 454.

【0088】スイッチ回路454は、4個のCMOS型
トランスファ・ゲート回路471-1〜471-4を含む。
切り換え信号×4は、ゲート回路471-1のPMOSの
ゲート、ゲート回路471-2のPMOSのゲート、ゲー
ト回路471-3のNMOSのゲート、ゲート回路471
-4のNMOSのゲートにそれぞれ入力される。また、反
転切り換え信号B×4は、ゲート回路471-1のNMO
Sのゲート、ゲート回路471-2のNMOSのゲート、
ゲート回路471-3のPMOSのゲート、ゲート回路4
71-4のPMOSのゲートにそれぞれ入力される。
The switch circuit 454 includes four CMOS type transfer gate circuits 471-1 to 471-4.
The switching signal × 4 is obtained by using the PMOS gate of the gate circuit 471-1, the PMOS gate of the gate circuit 471-2, the NMOS gate of the gate circuit 471-3, and the gate circuit 471.
-4 is input to the NMOS gate. Further, the inverted switching signal B × 4 is the NMO of the gate circuit 471-1.
The gate of S, the gate of the NMOS of the gate circuit 471-2,
Gate of PMOS of gate circuit 471-3, gate circuit 4
71-4 are input to the PMOS gates, respectively.

【0089】このようなスイッチ回路454であると、
切り換え信号×4が高レベルのとき、ゲート回路471
-3およびゲート回路471-4がオンし、ゲート回路47
1-1およびゲート回路471-2がオフする。このため、
リードデータ線RDおよびBRDは、出力バッファ45
3-1に接続される。
With such a switch circuit 454,
When the switching signal × 4 is at high level, the gate circuit 471
-3 and the gate circuit 471-4 turn on, and the gate circuit 47
1-1 and the gate circuit 471-2 are turned off. For this reason,
The read data lines RD and BRD are connected to the output buffer 45.
It is connected to 3-1.

【0090】また、切り換え信号×4が低レベルのと
き、ゲート回路471-1およびゲート回路471-2がオ
ンし、ゲート回路471-3およびゲート回路471-4が
オフする。このため、スイッチ回路451-1を介したリ
ードデータ線RDAおよびBRDAが、出力バッファ4
53-1に接続される。
When the switching signal x4 is at the low level, the gate circuits 471-1 and 471-2 are turned on, and the gate circuits 471-3 and 471-4 are turned off. Therefore, the read data lines RDA and BRDA via the switch circuit 451-1 are connected to the output buffer 4
53-1 is connected.

【0091】他のスイッチ回路451-2〜451-4の回
路は、スイッチ回路451-1の回路とほぼ同様である。
異なる部分は、スイッチ454を介さずに、出力バッフ
ァ453-2〜453-4に直接に接続されることである。
したがって、スイッチ回路451-2〜451-4の回路の
図示は省略することにする。
The circuits of the other switch circuits 451-2 to 451-4 are almost the same as the circuit of the switch circuit 451-1.
The different part is that it is directly connected to the output buffers 453-2 to 453-4 without passing through the switch 454.
Therefore, the illustration of the circuits of the switch circuits 451-2 to 451-4 will be omitted.

【0092】以上、図17および図18に示したリード
マルチプレクサを有したDRAMであると、切り換え信
号×4を高レベルとすることによって、DRAMを×1
ビット構成にでき、反対に切り換え信号×4を低レベル
とすることによって、DRAMを×4ビット構成にでき
る。
As described above, in the DRAM having the read multiplexer shown in FIGS. 17 and 18, by setting the switching signal x4 to the high level, the DRAM becomes x1.
It is possible to have a bit configuration, and conversely, by setting the switching signal x4 to a low level, the DRAM can have a x4 bit configuration.

【0093】次に、リードマルチプレクサによる、ノー
マルリード動作について説明する。なお、この説明は、
DRAMが×1ビット構成であるときを例として行う。
図19および図20はそれぞれ、リードマルチプレクサ
11の動作を示す動作波形図である。
Next, the normal read operation by the read multiplexer will be described. In addition, this explanation is
A case where the DRAM has a × 1 bit configuration will be taken as an example.
19 and 20 are operation waveform diagrams showing the operation of the read multiplexer 11, respectively.

【0094】図19に示すように、当初、リードライト
データ線対RWD1〜RWD8は全て高(H)レベルな
っている。リードライトデータ線対RWD1〜RWD8
の全てが、図10に示したDQバッファにて、予め、高
電位VCCに充電されているからである。また、リード
マルチプレクサ11をプリチャージしておくプリチャー
ジ信号PRCHは高レベルとなっている。また、マルチ
プレクス信号BMUL1〜BMUL8は、マルチプレク
ス信号BMUL2のみ低(L)レベル、他は全て高レベ
ルとなっている。
As shown in FIG. 19, the read / write data line pairs RWD1 to RWD8 are initially at the high (H) level. Read / write data line pairs RWD1 to RWD8
This is because all of them are previously charged to the high potential VCC by the DQ buffer shown in FIG. Further, the precharge signal PRCH for precharging the read multiplexer 11 is at high level. In the multiplex signals BMUL1 to BMUL8, only the multiplex signal BMUL2 has a low (L) level, and the other signals have a high level.

【0095】このような状態から、プリチャージ信号P
RCHを高レベルから、低レベルへと移行させる。これ
で、リードマルチプレクサ11が活性となる。続いて、
リードライトデータ線対RWD1〜RWD8にメモリセ
ルからのデータを読み出す。すると、線対のうちのいず
れか一方のみ、その電位が低レベルに落ちる。例えば図
19では、リードライトデータ線対RWD1は高レベル
のままで、その反転リードライトデータ線対BRWD1
のみ低レベルに落ちる。また、リードライトデータ線対
RWD2においては、その電位が低レベルに落ちるが、
その反転リードライトデータ線対BRWD2は高レベル
のままである。
From such a state, the precharge signal P
Transition RCH from high to low. This activates the read multiplexer 11. continue,
Data from the memory cell is read to the read / write data line pairs RWD1 to RWD8. Then, the potential of only one of the line pairs drops to a low level. For example, in FIG. 19, the read / write data line pair RWD1 remains at the high level, and its inverted read / write data line pair BRWD1.
Only falls to a low level. In the read / write data line pair RWD2, the potential drops to a low level,
The inverted read / write data line pair BRWD2 remains at the high level.

【0096】このようにリードライトデータ線対RWD
に電位差が出ることで、データ信号が、リードライトデ
ータ線対RWDまで読み出されたことになる。データ信
号が、リードライトデータ線対RWDまで読み出される
と、リードマルチプレクサ11のうち、第1マルチプレ
クス段400のマルチプレクス回路17-1〜17-4にデ
ータ信号が入力される。ここで、リードライトデータ線
対RWD1、RWD2の2対のみに着目して説明する
と、図15に示すマルチプレクス回路17-1のPMOS
2-1は、データ信号RWD1が高レベルであるから遮断
し、反対にPMOS2´-1は、データ信号BRWD1が
低レベルであるから導通する。また、PMOS2-2は、
データ信号RWD2が低レベルであるから導通し、反対
にPMOS2´-2は、データ信号BRWD1が高レベル
であるから遮断する。また、マルチプレクス回路17-1
には、第1マルチプレクス段用のマルチプレクス信号B
MUL1〜BMUL8が入力されている。ここで、マル
チプレクス信号BMUL1、BMUL2のみに着目して
説明すると、PMOS3-1および3´-1は信号BMUL
1が高レベルであるから遮断し、反対にPMOS3-2お
よび3´-2は信号BRWD2が低レベルであるから導通
する。よって、8対のリードライトデータ線対RWDの
うち、RWD2の1対のみが選ばれ、この1対が、内部
リードデータ線対RDAに電気的に接続されることにな
る。
As described above, the read / write data line pair RWD
When the potential difference appears in the data signal, the data signal is read to the read / write data line pair RWD. When the data signal is read to the read / write data line pair RWD, the data signal is input to the multiplex circuits 17-1 to 17-4 of the first multiplex stage 400 of the read multiplexer 11. Now, focusing on only two pairs of read / write data line pairs RWD1 and RWD2, the PMOS of the multiplex circuit 17-1 shown in FIG. 15 will be described.
2-1 cuts off the data signal RWD1 because it is at a high level, while PMOS 2'-1 turns on because the data signal BRWD1 is at a low level. Also, the PMOS 2-2 is
Since the data signal RWD2 is at the low level, it conducts, and on the contrary, the PMOS 2'-2 shuts off because the data signal BRWD1 is at the high level. Also, the multiplex circuit 17-1
Contains the multiplex signal B for the first multiplex stage.
MUL1 to BMUL8 are input. Here, focusing on only the multiplex signals BMUL1 and BMUL2, the description will be given with the PMOS 3-1 and 3'-1 as the signal BMUL.
Since 1 is high level, it shuts off, and on the contrary, PMOS 3-2 and 3'-2 are conductive because the signal BRWD2 is low level. Therefore, only one pair of RWD2 is selected from the eight pairs of read / write data line pairs RWD, and this one pair is electrically connected to the internal read data line pair RDA.

【0097】リードライトデータ線対RWD2のデータ
は、共通ノードX0 、BX0 のいずれを充電するかで、
内部リードデータ線対RDAに伝えられる。図19に示
す場合であると、リードライトデータ線RWD2が低レ
ベル、反転リードライトデータ線BRWD2が高レベル
であるから、共通ノードX0 が高レベルに充電され、共
通ノードBX0 は低レベルのままである。これら共通ノ
ードX0 、BX0 の電位はインバータ21、21´にそ
れぞれ入力される。インバータ21のみ、出力信号の電
位を反転させるから、図20に示すように、内部リード
データ線RDAのみが低レベルに落ち、反転内部リード
データ線BRDAの電位は高レベルのままである。
The data of the read / write data line pair RWD2 depends on whether the common node X 0 or BX 0 is charged.
It is transmitted to the internal read data line pair RDA. In the case shown in FIG. 19, since the read / write data line RWD2 is at a low level and the inverted read / write data line BRWD2 is at a high level, the common node X 0 is charged to a high level and the common node BX 0 is at a low level. There is. The potentials of these common nodes X 0 and BX 0 are input to the inverters 21 and 21 ', respectively. Since only the inverter 21 inverts the potential of the output signal, only the internal read data line RDA falls to the low level and the potential of the inverted internal read data line BRDA remains at the high level, as shown in FIG.

【0098】このような動作が、他の3個のマルチプレ
クス回路17-2〜17-4でもパラレルに行われ、内部リ
ードデータ線対RDA〜RDDにそれぞれ電位差が出
る。これで、データ信号が、内部リードデータ線対RD
A〜RDDまで読み出されたことになる。
Such an operation is also performed in parallel in the other three multiplexing circuits 17-2 to 17-4, and a potential difference appears between the internal read data line pairs RDA to RDD. Then, the data signal is transferred to the internal read data line pair RD.
This means that A to RDD have been read.

【0099】データ信号が、内部リードデータ線対RD
A〜RDDまで読み出されると、リードマルチプレクサ
11のうち、第2マルチプレクス段402のマルチプレ
クス回路18にデータが入力される。また、マルチプレ
クス回路18には第2マルチプレクス段用のマルチプレ
クス信号BMULA〜BMULDが入力されている。図
20に示すように、マルチプレクス信号BMULA〜B
MULDのうち、信号BMULAのみが低レベルで、他
は全て高レベルである。即ち、図16に示すPMOS3
-9および3´-9がそれぞれ導通し、他の出力選択用PM
OS群3は全て遮断している。よって、4対の内部リー
ドデータ線対のうち、RDAの1対のみが選ばれ、この
1対が、リードデータ線対RDに電気的に接続されるこ
とになる。
The data signal is the internal read data line pair RD.
When A to RDD are read, the data is input to the multiplex circuit 18 of the second multiplex stage 402 of the read multiplexer 11. In addition, the multiplex signals BMULA to BMULD for the second multiplex stage are input to the multiplex circuit 18. As shown in FIG. 20, multiplex signals BMULA-BMU
Of the MULD, only the signal BMULA has a low level, and the other signals have a high level. That is, the PMOS3 shown in FIG.
-9 and 3'-9 are conducting respectively, other output selection PM
All OS groups 3 are shut off. Therefore, only one pair of RDA is selected from the four pairs of internal read data lines, and this one pair is electrically connected to the read data line pair RD.

【0100】内部リードデータ線対RDAのデータは、
共通ノードX1 、BX1 のいずれを充電するかで、リー
ドデータ線対RDに伝えられる。図20に示す場合であ
ると、内部リードデータ線RDAが低レベル、反転内部
リードデータ線BRDAが高レベルであるから、共通ノ
ードX1 が高レベルに充電され、共通ノードBX1 は低
レベルのままである。これら共通ノードX1 、BX1
電位はインバータ24、24´にそれぞれ入力される。
インバータ24のみ、出力信号の電位を反転させるか
ら、図20に示すように、リードデータ線RDのみが低
レベルに落ち、他方のリードデータ線BRDの電位は高
レベルのままである。
The data of the internal read data line pair RDA is
It is transmitted to the read data line pair RD depending on which one of the common nodes X 1 and BX 1 is charged. In the case shown in FIG. 20, since the internal read data line RDA is at the low level and the inverted internal read data line BRDA is at the high level, the common node X 1 is charged to the high level and the common node BX 1 is at the low level. There is. The potentials of these common nodes X 1 and BX 1 are input to the inverters 24 and 24 ′, respectively.
Since only the inverter 24 inverts the potential of the output signal, only the read data line RD falls to the low level and the other read data line BRD remains at the high level as shown in FIG.

【0101】このようにして、リードデータ線対RDに
電位差が出ることで、データ信号がリードデータ線対R
Dまで読み出される。リードデータ線対RDまで読み出
されたデータ信号は、出力バッファに入力される。
In this way, the potential difference appears on the read data line pair RD, so that the data signal is transmitted to the read data line pair R.
Read up to D. The data signal read to the read data line pair RD is input to the output buffer.

【0102】なお、DRAMが×4ビット構成であると
きには、第2マルチプレクス段402が動作せず、内部
リードデータ線対RDA〜RDDまで読み出された信号
が、第1マルチプレクス段400から直接に出力バッフ
ァに入力される。
When the DRAM has a × 4 bit structure, the second multiplex stage 402 does not operate, and the signals read from the internal read data line pair RDA to RDD are directly output from the first multiplex stage 400. Input to the output buffer.

【0103】次に、テスト回路について説明する。ま
ず、図7に示すように、テスト回路(T.C)は、リー
ドマルチプレクサ&ライトマルチプレクサと出力バッフ
ァとの間に配置されている。さらにテスト回路(T.
C)と出力バッファとの間には選択回路(S.C)が配
置されている。選択回路(S.C)は、ノーマルリード
動作時にはリードデータ線RDおよび反転リードデータ
線BRDそれぞれを直接に出力バッファの入力に電気的
に接続させる。一方、テストリード動作時にはリードデ
ータ線RDおよび反転リードデータ線BRDそれぞれ
を、テスト回路(T.C)に入力し、テスト回路(T.
C)でのテスト結果を示す出力結果を、出力バッファの
入力に電気的に接続させる。
Next, the test circuit will be described. First, as shown in FIG. 7, the test circuit (TC) is arranged between the read multiplexer & write multiplexer and the output buffer. Furthermore, a test circuit (T.
A selection circuit (SC) is arranged between C) and the output buffer. The selection circuit (SC) electrically connects the read data line RD and the inverted read data line BRD directly to the input of the output buffer during the normal read operation. On the other hand, during the test read operation, the read data line RD and the inverted read data line BRD are input to the test circuit (TC), and the test circuit (T.C.
The output result showing the test result in C) is electrically connected to the input of the output buffer.

【0104】図21は、図7に示すテスト回路の回路図
である。図21に示すように、テスト回路(T.C)
は、リードデータ線RD、反転リードデータ線BRDが
それぞれ入力される二入力型のNANDゲート25と、
リードデータ線RD、反転リードデータ線BRDがそれ
ぞれ入力される二入力型のNORゲート26と、NAN
Dゲート25の出力、並びにNORゲート26の出力が
それぞれ入力されるXOR(エクスクルーシブオア)ゲ
ート27とを含む。
FIG. 21 is a circuit diagram of the test circuit shown in FIG. As shown in FIG. 21, a test circuit (TC)
Is a two-input NAND gate 25 to which the read data line RD and the inverted read data line BRD are input,
A two-input NOR gate 26 to which the read data line RD and the inverted read data line BRD are respectively input, and a NAN.
It includes an XOR (exclusive OR) gate 27 to which the output of the D gate 25 and the output of the NOR gate 26 are respectively input.

【0105】XORゲート27の出力はテストリードデ
ータ線TRDに接続されているとともに、インバータ2
8を介してから、反転テストリードデータ線BTRDに
接続されている。
The output of the XOR gate 27 is connected to the test read data line TRD and the inverter 2
After that, it is connected to the inverted test read data line BTRD.

【0106】図22は、図7に示す選択回路の回路図で
ある。図22に示すように、選択回路(S.C)は、リ
ードデータ線RDが入力に接続されるCMOS型のトラ
ンスファゲート29と、反転リードデータ線BRDが入
力に接続されるCMOS型のトランスファゲート29´
と、テストリードデータ線TRDが入力に接続されるC
MOS型のトランスファゲート30と、反転テストリー
ドデータ線BTRDが入力に接続されるCMOS型のト
ランスファゲート30´とを含む。
FIG. 22 is a circuit diagram of the selection circuit shown in FIG. 22, the selection circuit (SC) includes a CMOS type transfer gate 29 to which the read data line RD is connected to the input and a CMOS type transfer gate to which the inverted read data line BRD is connected to the input. 29 '
And the test read data line TRD is connected to the input C
It includes a MOS type transfer gate 30 and a CMOS type transfer gate 30 'to which the inverted test read data line BTRD is connected to the input.

【0107】トランスファゲート29のPMOSゲー
ト、トランスファゲート29´のPMOSゲートにはそ
れぞれテスト信号TESTが入力され、トランスファゲ
ート29のNMOSゲート、トランスファゲート29´
のNMOSゲートにはそれぞれ反転テスト信号BTES
Tが入力される。また、トランスファゲート30のPM
OSゲート、トランスファゲート30´のPMOSゲー
トにはそれぞれ反転テスト信号BTESTが入力され、
トランスファゲート30のNMOSゲート、トランスフ
ァゲート30´のNMOSゲートにはそれぞれテスト信
号TESTが入力される。トランスファゲート29およ
び29´は、ノーマル動作時、即ちテスト信号TEST
が低レベルの時のみ導通する。また、トランスファゲー
ト30および30´は、テスト動作時、即ちテスト信号
TESTが高レベルの時のみ導通する。よって、選択回
路は、ノーマル動作時、リードデータ線対RDを、出力
線対OUTに電気的に接続し、一方、テスト動作時、テ
ストリードデータ線対TRDを、出力線対OUTに電気
的に接続する。
The test signal TEST is input to the PMOS gate of the transfer gate 29 and the PMOS gate of the transfer gate 29 ', and the NMOS gate and the transfer gate 29' of the transfer gate 29 are input.
Inversion test signal BTES is applied to the NMOS gate of
T is input. In addition, PM of the transfer gate 30
The inverted test signal BTEST is input to the OS gate and the PMOS gate of the transfer gate 30 ',
The test signal TEST is input to the NMOS gate of the transfer gate 30 and the NMOS gate of the transfer gate 30 '. The transfer gates 29 and 29 'are in the normal operation, that is, the test signal TEST.
Is conductive only when is low level. Further, the transfer gates 30 and 30 'conduct only during a test operation, that is, when the test signal TEST is at a high level. Therefore, the selection circuit electrically connects the read data line pair RD to the output line pair OUT during the normal operation, while electrically connecting the test read data line pair TRD to the output line pair OUT during the test operation. Connecting.

【0108】次に、テストモードの時の動作について説
明する。テストリード時、32本のリードライトデータ
線対RWD全てにデータ信号を、同時に読み出す(以
下、32ビットのデータ信号という)。この後、32ビ
ットのデータ信号は、第1マルチプレクス段400のマ
ルチプレクス回路17-1〜17-4に入力され、ここで第
1回目の論理和演算が為され、さらに論理和演算が為さ
れたデータ信号は、第2マルチプレクス段402のマル
チプレクス回路18で論理和演算に入力され、ここで第
2回目の論理和演算が為される。これは、図13に示し
たように、テストモード時、TEST信号を高レベルと
し、12本のマルチプレクス信号BMUL1〜BMUL
8、BMULA〜BMULDの全てを、低レベル(全選
択状態)とするためである。第2回目の論理和演算が為
されたデータ信号は、リードデータ線対RDに読み出さ
れる。
Next, the operation in the test mode will be described. At the time of test read, data signals are simultaneously read out from all 32 read / write data line pairs RWD (hereinafter, referred to as 32-bit data signal). Thereafter, the 32-bit data signal is input to the multiplex circuits 17-1 to 17-4 of the first multiplex stage 400, where the first OR operation is performed and further OR operation is performed. The obtained data signal is input to the logical sum operation in the multiplex circuit 18 of the second multiplex stage 402, and the second logical sum operation is performed here. As shown in FIG. 13, in the test mode, the TEST signal is set to a high level and 12 multiplexed signals BMUL1 to BMUL are set.
This is because all of 8 and BMULA to BMULD are set to a low level (full selection state). The data signal subjected to the second OR operation is read out to the read data line pair RD.

【0109】テストリード時では、同じデータを複数の
メモリセルに書き込む。そして、これらの複数のメモリ
セルから、同時にデータを読み出す。このため、メモリ
セルから読み出された、32ビットのデータ信号は、全
て同一であることが正しい。
At the time of test read, the same data is written in a plurality of memory cells. Then, the data is read from the plurality of memory cells at the same time. Therefore, it is correct that the 32-bit data signals read from the memory cells are all the same.

【0110】メモリセルから読み出された32ビットの
データ信号の全てにエラーが無ければ、リードデータ線
RDの電位および反転リードデータ線BRDの電位は、
一方が高レベル、他方が低レベルに、必ずなる。
If all 32-bit data signals read from the memory cells have no error, the potential of the read data line RD and the potential of the inverted read data line BRD are
One will always be high and the other will be low.

【0111】この現象を簡単に説明する。図23は、図
15に示すマルチプレクス回路17-1の動作状態を、模
式的に示した図である。図15では、8ビットのデータ
信号が示されているので、図23には、8ビットのデー
タ信号が示されていることになる。8ビットのデータ信
号が全て同一であれば、図23に示すように、PMOS
2-1〜2-8は全てオフしたとき、PMOS2´-1〜2´
-8は全てオンする。この現象は、他のマルチプレクス回
路17-2〜17-4でも、同様に起こる。このため、内部
リードデータ線RDA〜RDDの電位は全て高レベルと
なり、反転内部リードデータ線BRDA〜BRDDの電
位は全て低レベルとなる。これは、マルチプレクス回路
18の入力データ信号が全て同一となることを示す。よ
って、リードデータ線RDの電位および反転リードデー
タ線BRDの電位は、一方が高レベル、他方が低レベル
となる。
This phenomenon will be briefly described. FIG. 23 is a diagram schematically showing an operating state of the multiplex circuit 17-1 shown in FIG. Since the 8-bit data signal is shown in FIG. 15, the 8-bit data signal is shown in FIG. If all the 8-bit data signals are the same, as shown in FIG.
When all 2-1 to 2-8 are turned off, PMOS 2'-1 to 2 '
-8 turns on all. This phenomenon similarly occurs in the other multiplex circuits 17-2 to 17-4. Therefore, the potentials of the internal read data lines RDA to RDD are all at the high level, and the potentials of the inverted internal read data lines BRDA to BRDD are all at the low level. This indicates that the input data signals of the multiplex circuit 18 are all the same. Therefore, one of the potential of the read data line RD and the potential of the inverted read data line BRD is high level and the other is low level.

【0112】このような論理和演算が為された後のデー
タ信号を、図21に示すテスト回路(T.C)に入力す
ると、NANDゲート25は高レベルの信号を出力し、
NORゲート26は低レベルの信号を出力する。したが
って、XORゲート27には、高レベルの信号と、低レ
ベルの信号とが入力され、XORゲート27は、高レベ
ルの信号を出力する。よって、テストリードデータ線T
RDの電位は高レベル、反転テストリードデータ線BT
RDの電位は低レベルとなる。これで、テストされた後
のデータ信号が、テストリードデータ線対TRDに読み
出されたことになる。テストされた後のデータ信号は、
選択回路(S.C)を介して出力バッファに入力され
る。この後、出力バッファの出力に接続された、図示せ
ぬ出力パッドからは、例えば“H”のデータが出力され
る。
When the data signal after such an OR operation is input to the test circuit (TC) shown in FIG. 21, the NAND gate 25 outputs a high level signal,
The NOR gate 26 outputs a low level signal. Therefore, a high level signal and a low level signal are input to the XOR gate 27, and the XOR gate 27 outputs a high level signal. Therefore, the test read data line T
RD potential is high level, inverted test read data line BT
The potential of RD becomes low level. This means that the tested data signal has been read to the test read data line pair TRD. The data signal after being tested is
It is input to the output buffer via the selection circuit (SC). Thereafter, for example, "H" data is output from the output pad (not shown) connected to the output of the output buffer.

【0113】一方、メモリセルから読み出された32ビ
ットのデータ信号に、1つでもエラーがあれば、リード
データ線RD、反転リードデータ線BRDは共に、低レ
ベルになってしまう。
On the other hand, if there is at least one error in the 32-bit data signal read from the memory cell, both the read data line RD and the inverted read data line BRD will be at the low level.

【0114】この現象を簡単に説明する。図24は、図
23と同様、図15に示すマルチプレクス回路17-1の
動作状態を、模式的に示した図である。8ビットのデー
タ信号のうち、1つがエラーし、PMOS2-4のみがオ
ンしたとする。すると、ここに電流が流れ、共通ノード
0 が高レベルにチャージされる。このため、内部リー
ドデータ線RDAの電位は低レベルとなる。反転内部リ
ードデータ線BRDAは、当然低レベルである。これ
は、マルチプレクス回路18の入力データ信号RDA〜
RDD、BRDA〜BRDDの一つがエラーすることを
示す。マルチプレクス回路18の、エラーした入力デー
タ信号が入力されたPMOSは、図24に示すPMOS
2-4と同様にオンする。よって、リードデータ線RDの
電位および反転リードデータ線BRDの電位は、共に低
レベルとなる。
This phenomenon will be briefly described. FIG. 24 is a diagram schematically showing the operating state of the multiplex circuit 17-1 shown in FIG. 15, similar to FIG. It is assumed that one of the 8-bit data signals has an error and only the PMOS 2-4 is turned on. Then, a current flows here, and the common node X 0 is charged to a high level. Therefore, the potential of the internal read data line RDA becomes low level. The inverted internal read data line BRDA is naturally at the low level. This is the input data signal RDA ~ of the multiplex circuit 18.
One of RDD and BRDA to BRDD indicates an error. The PMOS of the multiplex circuit 18 to which the error input data signal is input is the PMOS shown in FIG.
It turns on like 2-4. Therefore, the potential of the read data line RD and the potential of the inverted read data line BRD both become low level.

【0115】このような論理和演算された後のデータ信
号を、図21に示すテスト回路(T.C)に入力する
と、NANDゲート25は高レベルの信号を出力する
が、NORゲート26が低レベルに代わり、高レベルの
信号を出力するようになる。このため、XORゲート2
7には、高レベルの信号と、高レベルの信号とが入力さ
れるようになり、XORゲート27は、低レベルの信号
を出力する。よって、テストリードデータ線TRDの電
位は上記と逆に低レベル、反転テストリードデータ線B
TRDも上記と逆に高レベルとなる。したがって、図示
せぬ出力パッドからは、今度は上記と逆に、例えば
“L”のデータが出力される。
When the data signal after the logical sum operation is input to the test circuit (TC) shown in FIG. 21, the NAND gate 25 outputs a high level signal, but the NOR gate 26 outputs a low level signal. Instead of the level, a high level signal is output. Therefore, the XOR gate 2
A high-level signal and a high-level signal are input to 7, and the XOR gate 27 outputs a low-level signal. Therefore, the potential of the test read data line TRD is low level contrary to the above, and the inverted test read data line B
Contrary to the above, TRD also becomes high level. Therefore, for example, "L" data is output from the output pad (not shown), contrary to the above.

【0116】このように、この発明に係る集積回路装置
では、マルチプレクス信号の全てを選択状態とし、かつ
入力データ信号を全て入力すれば、入力データ信号の論
理和演算ができる。この論理和演算の機能を使って、D
RAMのテスト回路を作れば、テスト回路を簡略化する
ことができる。
As described above, in the integrated circuit device according to the present invention, if all of the multiplexed signals are selected and all the input data signals are input, the logical sum operation of the input data signals can be performed. Using the function of this logical sum operation, D
If a test circuit for RAM is made, the test circuit can be simplified.

【0117】次に、ライトマルチプレクサについて説明
する。図25は、図12に示すライトマルチプレクサの
ブロック図である。図25に示すように、ライトマルチ
プレクサ12は、32対のリードライトデータ線に、1
つずつ設けられたリードライトデータ線対選択回路31
を含む。この実施例に係るDRAMでは、32対のリー
ドライトデータ線対RWD1〜RWD32を持つので、
選択回路31の数は、選択回路31-1〜31-32 の、合
計32器である。
Next, the write multiplexer will be described. FIG. 25 is a block diagram of the write multiplexer shown in FIG. As shown in FIG. 25, the write multiplexer 12 outputs 1 to 32 pairs of read / write data lines.
Read / write data line pair selection circuit 31 provided one by one
including. Since the DRAM according to this embodiment has 32 pairs of read / write data line pairs RWD1 to RWD32,
The total number of the selection circuits 31 is 32, which is the selection circuits 31-1 to 31-32.

【0118】32器の選択回路31はそれぞれ、リード
ライトデータ線対をドライビングする、リードライトデ
ータ線対ドライビング回路35(35-1〜35-32 )
と、32器のドライビング回路35-1〜35-32 の一つ
を、マルチプレクス信号BMUL1〜BMUL8、BM
ULA〜BMULDに基いて、選択して活性化させるド
ライビング回路活性化回路(A.C)32(32-1〜3
2-32 )とを含む。選択回路32-1〜32-32 は、ドラ
イビング回路35-1〜35-32 に1つずつ設けられてい
る。
The 32 selection circuits 31 drive the read / write data line pairs, respectively, and the read / write data line pair driving circuits 35 (35-1 to 35-32).
And one of the 32 driving circuits 35-1 to 35-32 are connected to multiplex signals BMUL1 to BMUL8 and BM.
Driving circuit activating circuit (AC) 32 (32-1 to 3-3) for selecting and activating based on ULA to BMULD
2-32) and. The selection circuits 32-1 to 32-32 are provided one by one in the driving circuits 35-1 to 35-32.

【0119】32器のドライビング回路35はそれぞ
れ、入力端をライトデータ線WDに接続し、出力端をリ
ードライトデータ線RWDに接続したインバータ36
(36-1〜36-32 )と、入力端を反転ライトデータ線
BWDに接続し、出力端を反転リードライトデータ線B
RWDに接続したインバータ37(37-1〜37-32 )
とを含む。インバータ36は、活性化回路(A.C)3
2の出力信号φと、その反転信号Bφとが入力されたと
きのみ、リードライトデータ線RWDに信号を出力す
る。インバータ37も同様に、活性化回路(A.C)3
2の出力信号φと、その反転信号Bφとが入力されたと
きのみ、反転リードライトデータ線BRWDに信号を出
力する。
Each of the 32 driving circuits 35 has an inverter 36 whose input end is connected to the write data line WD and whose output end is connected to the read / write data line RWD.
(36-1 to 36-32), the input end is connected to the inverted write data line BWD, and the output end is inverted read / write data line BWD.
Inverter 37 (37-1 to 37-32) connected to RWD
Including and The inverter 36 includes an activation circuit (AC) 3
The signal is output to the read / write data line RWD only when the output signal φ of 2 and its inverted signal Bφ are input. Similarly, the inverter 37 also has an activation circuit (AC) 3
The signal is output to the inverted read / write data line BRWD only when the output signal φ of 2 and its inverted signal Bφ are input.

【0120】図26は、図25に示す選択回路の回路図
である。図26には、特に選択回路31-1が示されてい
る。図26に示すように、活性化回路32-1は、三入力
型のORゲート33と、二入力型のNANDゲート34
とを含む。ORゲート33には、マルチプレクス信号B
MUL1、BMULA、および書き込みタイミング信号
WRTがそれぞれ入力される。NANDゲート34に
は、ORゲート33の出力、および反転テスト信号BT
ESTがそれぞれ入力される。NANDゲート34は、
活性化回路32-1の出力信号φを出力する。
FIG. 26 is a circuit diagram of the selection circuit shown in FIG. FIG. 26 particularly shows the selection circuit 31-1. As shown in FIG. 26, the activation circuit 32-1 includes a three-input type OR gate 33 and a two-input type NAND gate 34.
Including and The OR gate 33 supplies the multiplexed signal B
MUL1, BMULA, and the write timing signal WRT are input respectively. The NAND gate 34 has an output of the OR gate 33 and an inverted test signal BT.
Each EST is input. NAND gate 34 is
The output signal φ of the activation circuit 32-1 is output.

【0121】ノーマルモード時、反転テスト信号TES
Tが高レベルとなっている。このため、活性化回路32
-1からは、ORゲート33の出力信号が、NANDゲー
ト34の出力端から、電位レベルが反転されて出力され
る。即ち、活性化回路32-1の出力信号φの電位レベル
は、ORゲート33の出力の電位レベルにより決定され
る。
In the normal mode, the inverted test signal TES
T is at a high level. Therefore, the activation circuit 32
From -1, the output signal of the OR gate 33 is output from the output terminal of the NAND gate 34 with its potential level inverted. That is, the potential level of the output signal φ of the activation circuit 32-1 is determined by the potential level of the output of the OR gate 33.

【0122】一方、テストモード時、反転テスト信号T
ESTが低レベルとなる。このため、NANDゲート3
4は、ORゲート33の出力レベルに関わらず、その出
力を常に高レベルとする。即ちゲート回路32-1は、図
13に示した、マルチプレクス信号を出力するゲート回
路14-1〜14-12 と同様な機能を有している。
On the other hand, in the test mode, the inverted test signal T
EST goes low. Therefore, the NAND gate 3
4 always makes its output high level regardless of the output level of the OR gate 33. That is, the gate circuit 32-1 has the same function as the gate circuits 14-1 to 14-12 that output the multiplex signal shown in FIG.

【0123】他の活性化回路32-2〜32-32 も、入力
されるマルチプレクス信号が異なるだけで、ほぼ活性化
回路32-2〜32-32 と同様な回路である。次に、ライ
ト動作について説明する。
The other activation circuits 32-2 to 32-32 are similar to the activation circuits 32-2 to 32-32, except that the input multiplex signals are different. Next, the write operation will be described.

【0124】ノーマルライト時には、活性化回路32-1
〜32-32 のいずれか1つが、高レベルの電位を出力
し、ドライビング回路35-1〜35-32 のうちの1つを
活性化させる。これによって、1対のライトデータ線対
WDが、1対のリードライトデータ線対RWDに、電気
的に接続される。そして、チップの外部から入力された
データ信号は、この選ばれた1対のリードライトデータ
線対RWDに入力される。この後、入力されたデータ信
号は、書込用の、図示せぬDQバッファを介してデータ
線対DQに入力され、DQゲートを介してビット線対B
Lに入力される。このようにして、書込選択されていた
メモリセルにデータが書き込まれる。
At the time of normal write, the activation circuit 32-1
Any one of .about.32-32 outputs a high level electric potential to activate one of the driving circuits 35-1.about.35-32. As a result, the pair of write data line pairs WD is electrically connected to the pair of read / write data line pairs RWD. Then, the data signal input from the outside of the chip is input to the selected pair of read / write data line pair RWD. Thereafter, the input data signal is input to the data line pair DQ via a DQ buffer (not shown) for writing, and the bit line pair B via the DQ gate.
Input to L. In this way, the data is written in the memory cell selected for writing.

【0125】また、テストライト時には、活性化回路3
2-1〜32-32 が全て高レベルの電位を出力し、ドライ
ビング回路35-1〜35-32 の全てを活性化させる。こ
れによって、1対のライトデータ線対WDが、全てのリ
ードライトデータ線対RWDに、電気的に接続される。
そして、チップの外部から入力されたデータ信号が、全
てのリードライトデータ線対RWDに入力される。この
後、入力されたデータ信号は、書込用の、図示せぬDQ
バッファを介して32対のデータ線対DQに入力され、
DQゲートを介して32対のビット線対BLに入力され
る。このようにして、書込選択されていた全てのメモリ
セルに、同一のデータが同時に書き込まれる。
At the time of test write, the activation circuit 3
2-1 to 32-32 all output a high level potential, and activate all of the driving circuits 35-1 to 35-32. As a result, the pair of write data line pairs WD is electrically connected to all the read / write data line pairs RWD.
Then, the data signal input from the outside of the chip is input to all the read / write data line pairs RWD. Thereafter, the input data signal is used for writing, and is not shown in DQ.
It is input to 32 pairs of data line DQ via the buffer,
It is input to 32 pairs of bit lines BL via the DQ gate. In this way, the same data is simultaneously written in all the memory cells selected for writing.

【0126】次に、この発明の第3の実施例に係る64
メガビットDRAMについて説明する。図27は、この
発明の第3の実施例に係るDRAMの概略的なブロック
図、図28は、図27に示す16メガビットセルアレー
の一つをより詳細に示したブロック図である。
Next, 64 according to the third embodiment of the present invention
The megabit DRAM will be described. 27 is a schematic block diagram of a DRAM according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 28 is a block diagram showing in more detail one of the 16-megabit cell arrays shown in FIG.

【0127】第3の実施例に係るDRAMは、基本的に
第1の実施例に係るDRAMと同じである。異なる点
は、第3の実施例に係るDRAMでは、5対のカラムア
ドレス(A8C〜A12C、BA8C〜BA12C)を
セルアレー、およびDQバッファに入力し、さらにテス
ト信号TESTをDQバッファに入力するようにしたこ
とである。この場合、例えば4本のカラムアドレスA1
1C、A12C、BA11C、BA12Cを用いて、4
グループのリードライトデータ線対グループRWD1〜
RWD8、RWD9〜RWD16、RWD17〜RWD
24、RWD25〜RWD32のうち、1グループを選
ぶ。残りの6本のカラムアドレスA8C〜A10C、B
A8C〜BA10Cを用いて、8対のリードライトデー
タ線対RWDのうち、1対を選ぶ。
The DRAM according to the third embodiment is basically the same as the DRAM according to the first embodiment. The difference is that in the DRAM according to the third embodiment, five pairs of column addresses (A8C to A12C, BA8C to BA12C) are input to the cell array and the DQ buffer, and the test signal TEST is input to the DQ buffer. That is what I did. In this case, for example, four column addresses A1
4 using 1C, A12C, BA11C, BA12C
Group read / write data line pair group RWD1
RWD8, RWD9 to RWD16, RWD17 to RWD
24, RWD25 to RWD32, one group is selected. Remaining 6 column addresses A8C to A10C, B
Using A8C to BA10C, one pair is selected from the eight pairs of read / write data line pairs RWD.

【0128】このようなリードライトデータ線対の選択
を行うことによって、第3の実施例に係るDRAMで
は、リード時、32個のDQバッファのうち、1個のD
Qバッファのみが動作し、残りの31個のDQバッファ
は動作しないようにできる。選ばれた1個のDQバッフ
ァに接続されたリードライトデータ線RWDと、反転リ
ードライトデータ線BRWDとの間には、メモリセルか
ら読み出されたデータ信号に応じ、電位差が発生する。
これに対し、選ばれなかった31個のDQバッファに接
続されたリードライトデータ線RWD、および反転リー
ドライトデータ線BRWDは共に、高レベルを保つ。
By thus selecting the read / write data line pair, in the DRAM according to the third embodiment, one D of 32 DQ buffers is read at the time of reading.
Only the Q buffer can be operated and the remaining 31 DQ buffers can be disabled. A potential difference occurs between the read / write data line RWD connected to the selected one DQ buffer and the inverted read / write data line BRWD according to the data signal read from the memory cell.
On the other hand, both the read / write data line RWD and the inverted read / write data line BRWD connected to the 31 DQ buffers not selected maintain the high level.

【0129】このように、セルアレー、およびDQバッ
ファにカラムアドレスを入力し、32対のリードライト
データ線対RWDから1対のリードライトデータ線対R
WDを選ぶことにより、マルチプレクス回路に、マルチ
プレクス信号BMULを入力せずにすむ。
In this manner, the column address is input to the cell array and the DQ buffer, and the 32 pairs of read / write data line pairs RWD to 1 pair of read / write data line pairs R.
By selecting WD, it is not necessary to input the multiplex signal BMUL to the multiplex circuit.

【0130】図29は、第3の実施例に係るDRAMが
具備する第1マルチプレクス段のマルチプレクス回路の
回路図、図30は、第3の実施例に係るDRAMが具備
する第2マルチプレクス段のマルチプレクス回路の回路
図である。
FIG. 29 is a circuit diagram of the multiplex circuit of the first multiplex stage included in the DRAM according to the third embodiment, and FIG. 30 is the second multiplex included in the DRAM according to the third embodiment. It is a circuit diagram of a multiplex circuit of a stage.

【0131】図29および図30に示すように、マルチ
プレクス回路は、リードライトデータ線RWDが入力さ
れるPMOS2(あるいはPMOS2´)のみを含んで
いる。これらのPMOS2は、電源端子VSと共通ノー
ドX0 (あるいは共通ノードX1 )との間に並列に接続
されている。
As shown in FIGS. 29 and 30, the multiplex circuit includes only the PMOS2 (or PMOS2 ') to which the read / write data line RWD is input. These PMOSs 2 are connected in parallel between the power supply terminal VS and the common node X 0 (or the common node X 1 ).

【0132】この構成であると、マルチプレクス回路の
規模を小さくでき、データ信号を選択するスピードも高
速になる。第3の実施例に係るDRAMでは、テストモ
ード時の論理和演算も、第2の実施例と同様に可能であ
る。つまりテストモード時には、DQバッファを32個
同時に動作させることで、32対のリードライトデータ
線RWD全てにデータが出すことができる。よって、論
理和演算が可能である。
With this structure, the scale of the multiplex circuit can be reduced, and the speed of selecting the data signal can be increased. In the DRAM according to the third embodiment, the logical sum operation in the test mode can be performed as in the second embodiment. That is, in the test mode, by operating 32 DQ buffers at the same time, data can be output to all 32 pairs of read / write data lines RWD. Therefore, the logical sum operation is possible.

【0133】第3の実施例に係るDRAMのライト時の
動作は、第2の実施例と変わりはなく、また、ライトマ
ルチプレクサ12の構成は変わらない。上記第2、第3
の実施例に係るDRAMからは、次のような効果を得る
ことができる。
The write operation of the DRAM according to the third embodiment is the same as that of the second embodiment, and the configuration of the write multiplexer 12 is the same. The second and third
The following effects can be obtained from the DRAM according to the embodiment.

【0134】まず、第1の実施例と同様に、データ信号
伝達用PMOS群2をオン、オフさせるだけで、マルチ
プレクス回路と同様の動作をする集積回路装置を得るこ
とができる。この集積回路装置では、共通ノードX0
1 ,BX0 、BX1 などに付く寄生容量を低減でき、
データ信号を、リードライトデータ線対RWDからリー
ドデータ線対RDへ、高速に伝えることができる。
First, similarly to the first embodiment, an integrated circuit device which operates similarly to a multiplex circuit can be obtained by simply turning on / off the data signal transmitting PMOS group 2. In this integrated circuit device, the common node X 0 ,
It is possible to reduce the parasitic capacitance attached to X 1 , BX 0 , BX 1, etc.
The data signal can be transmitted from the read / write data line pair RWD to the read data line pair RD at high speed.

【0135】また、上記高速なデータ信号の伝達は、リ
ードライトデータ線対RWDのプリチャージレベルを、
高電位VCCとすることで、より加速することができ
る。これは、次のような観点からである。リードライト
データ線対RWDは一般的にセルアレーに沿った配置さ
れた、非常に長い信号線である。しかも、リードライト
データ線対RWDには、データ読み出しを行うDQバッ
ファのトランジスタに接続されているので、ジャンクシ
ョン容量も付加されている。このため、リードライトデ
ータ線対RWDは、非常に大きな寄生容量を持つ。した
がって、リードライトデータ線対RWDの電位の変化
は、非常に緩やかである。このため、図37、図38に
示すマルチプレクサでは、データ信号を、リードライト
データ線対RWDからリードデータ線対RDへ、高速に
伝えることが困難である。
The high-speed transmission of the data signal is performed by changing the precharge level of the read / write data line pair RWD to
It can be accelerated further by setting it to the high potential VCC. This is from the following viewpoint. The read / write data line pair RWD is a very long signal line which is generally arranged along the cell array. Moreover, since the read / write data line pair RWD is connected to the transistor of the DQ buffer for reading data, a junction capacitance is also added. Therefore, the read / write data line pair RWD has a very large parasitic capacitance. Therefore, the change in the potential of the read / write data line pair RWD is very gradual. Therefore, in the multiplexers shown in FIGS. 37 and 38, it is difficult to transmit the data signal from the read / write data line pair RWD to the read data line pair RD at high speed.

【0136】これに対し、この発明に係る集積回路装置
では、データ信号伝達用PMOS群2は、そのゲート電
位が、VCC−|Vthp(VthpはPMOS2のし
きい値電圧)|だけ下がれば、導通する。このため、デ
ータ信号の入力から、共通ノードXの充電を開始するま
での時間を短縮することができる。よって、データ信号
がリードライトデータ線対RWDに入力されてから、共
通ノードX0 、X1 ,BX0 、BX1 の充電を完了する
までの時間を短縮できる。
On the other hand, in the integrated circuit device according to the present invention, the data signal transmitting PMOS group 2 becomes conductive if the gate potential thereof is lowered by VCC- | Vthp (Vthp is the threshold voltage of PMOS 2) |. To do. Therefore, the time from the input of the data signal to the start of charging the common node X can be shortened. Therefore, the time from the input of the data signal to the read / write data line pair RWD to the completion of the charging of the common nodes X 0 , X 1 , BX 0 , BX 1 can be shortened.

【0137】また、この発明に係る集積回路装置では、
論理和演算機能を持つ。論理和演算機能は、例えばテス
トモード時に有用である。DRAMには、テストモード
時、並列読み出しによるテスト時間短縮モードが搭載さ
れている。
In the integrated circuit device according to the present invention,
Has a logical sum operation function. The OR operation function is useful in the test mode, for example. The DRAM is equipped with a test time reduction mode by parallel reading in the test mode.

【0138】この発明に係る集積回路装置では、各セル
アレーに対応する32ビットを同時にテストする。テス
トライト時には、同一データをこれら32ビットにそれ
ぞれ書き込む。その後、それらのデータを全て並列に読
み出してきて、それらが一致していれば“1”を出力
し、一致していなければ“0”を出力する。これによっ
て、テスト時間を、通常、1ビットずつ行う方式に比べ
て1/32に短縮できる。
In the integrated circuit device according to the present invention, 32 bits corresponding to each cell array are simultaneously tested. At the time of test write, the same data is written in each of these 32 bits. After that, all the data are read in parallel, and if they match, "1" is output, and if they do not match, "0" is output. As a result, the test time can be shortened to 1/32 as compared with the method in which one bit is usually used.

【0139】テストリード時には、マルチプレクス信号
BMUL1〜BMUL8、BMULA〜BMULDを全
て低レベルにする。このとき、リードライトデータ線対
RWDに読み出されたデータ信号の全てを、リードデー
タ線対RDに伝えられる。しかも、リードデータ線対R
Dの出力は、ワイヤードオアのように、リードライトデ
ータ線対RWDに読み出されたデータ信号の全てが論理
和演算された結果である。つまり、32ビットのデータ
が全て一致していれば、その一致したデータが、リード
データ線対RDに通常動作モードと同じように伝わる
し、もしも、エラーが発生してデータが一致していなけ
れば、リードデータ線対RDの電位は高レベルに遷移す
る。このように、リードデータ線対RDの電位は、エラ
ーがあったときと、エラーがなかったときとで互いに異
なるため、エラーがあったときと、エラーがなかったと
きとで、データ信号を区別して、出力回路に伝達するこ
とができる。
At the time of test read, all of the multiplex signals BMUL1 to BMUL8 and BMULA to BMULD are set to low level. At this time, all the data signals read on the read / write data line pair RWD are transmitted to the read data line pair RD. Moreover, the read data line pair R
The output of D is the result of the logical sum operation of all the data signals read to the read / write data line pair RWD, like the wired OR. That is, if all the 32-bit data match, the matched data is transmitted to the read data line pair RD as in the normal operation mode. If an error occurs and the data do not match. , The potential of the read data line pair RD transits to the high level. In this way, the potential of the read data line pair RD is different between when there is an error and when there is no error. Separately, it can be transmitted to the output circuit.

【0140】このように、第2、第3の実施例に係るD
RAMでは、ノーマル動作モード時に、高速にデータを
選択できる能力があるのみならず、テスト動作モード時
に、回路を変更することなく、選択信号の入力方法を変
更するだけで、簡単に対応できる。
As described above, D according to the second and third embodiments
The RAM not only has the ability to select data at high speed in the normal operation mode, but also can easily cope with the change in the selection signal input method in the test operation mode without changing the circuit.

【0141】また、図29および図30に示したマルチ
プレクス回路は、図31に示す集積回路装置を応用した
ものである。図31は、この発明の第4の実施例に係る
半導体集積回路装置の回路図である。
The multiplex circuit shown in FIGS. 29 and 30 is an application of the integrated circuit device shown in FIG. FIG. 31 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit device according to the fourth embodiment of the present invention.

【0142】図31に示すように、データ選択回路10
0は、複数のデータ伝達回路500-1〜500-4を含
む。複数のデータ伝達回路500は、端子VDDと共通
ノードXとの間に、並列に接続される。複数のデータ伝
達回路500は、入力データ信号A〜Dと、選択信号B
a〜Bdとが入力される選択回路501と、選択回路5
01の出力が入力されるPMOS2とを含む。
As shown in FIG. 31, the data selection circuit 10
0 includes a plurality of data transmission circuits 500-1 to 500-4. The plurality of data transmission circuits 500 are connected in parallel between the terminal VDD and the common node X. The plurality of data transfer circuits 500 includes input data signals A to D and a selection signal B.
Selection circuit 501 to which a to Bd are input, and selection circuit 5
And the PMOS2 to which the output of 01 is input.

【0143】図32は、図31に示す選択回路の回路図
である。図32には、特に選択回路501-1が示されて
いる。他の選択回路501-2〜501-3は、選択回路5
01-1と同様の回路を持つ。
FIG. 32 is a circuit diagram of the selection circuit shown in FIG. In particular, FIG. 32 shows the selection circuit 501-1. The other selection circuits 501-2 to 501-3 are the selection circuit 5
It has the same circuit as 01-1.

【0144】図32に示すように、選択回路501-1
は、入力データ信号Aと、選択信号Baとが入力される
NORゲート502と、NORゲート502の出力に入
力を接続したインバータ503とを含む。インバータ5
03が出力する信号は、選択回路501-1の出力信号で
ある。NORゲート502は、選択信号Baの電位が低
レベルであるとき、その出力信号の電位レベルを、入力
データ信号Aの電位レベルに応じて変化させる。また、
NORゲート502は、選択信号Baの電位が高レベル
であるとき、その出力信号の電位レベルを、入力データ
信号Aの電位レベルにかかわらず、低レベルに固定す
る。したがって、図31に示す集積回路装置は、選択信
号Ba〜Bdの電位が低レベルであるとき、入力データ
信号A〜Dを、PMOS2のゲートへ伝えるので、図1
および図2に示す集積回路装置と同様な動作を行える。
As shown in FIG. 32, the selection circuit 501-1.
Includes an NOR gate 502 to which the input data signal A and the selection signal Ba are input, and an inverter 503 whose input is connected to the output of the NOR gate 502. Inverter 5
The signal output by 03 is the output signal of the selection circuit 501-1. The NOR gate 502 changes the potential level of its output signal according to the potential level of the input data signal A when the potential of the selection signal Ba is at a low level. Also,
NOR gate 502 fixes the potential level of its output signal to a low level regardless of the potential level of input data signal A when the potential of selection signal Ba is at a high level. Therefore, the integrated circuit device shown in FIG. 31 transmits the input data signals A to D to the gate of the PMOS 2 when the potentials of the selection signals Ba to Bd are at the low level.
And the same operation as the integrated circuit device shown in FIG. 2 can be performed.

【0145】次に、この発明の第5の実施例に係る半導
体集積回路装置について説明する。図33は、この発明
の第5の実施例に係る半導体集積回路装置の回路図であ
る。
Next explained is a semiconductor integrated circuit device according to the fifth embodiment of the invention. FIG. 33 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit device according to the fifth embodiment of the present invention.

【0146】図33に示す第5の実施例に係る装置で
は、基本的に第1の実施例に係る装置と、構成並びにそ
の動作原理は同一だが、共通ノードXに小さなラッチ回
路600を付加した点が異なっている。
The device according to the fifth embodiment shown in FIG. 33 has basically the same configuration and operation principle as the device according to the first embodiment, but a small latch circuit 600 is added to the common node X. The points are different.

【0147】共通ノードXは、プリチャージ信号PRC
Hが切れてプリチャージ用のNMOS4が遮断すると、
フローティングローレベルとなる。小さなラッチ回路6
00は、共通ノードXがフローティングローレベルとな
る期間、ノイズ等によって共通ノードXの電位が変動し
ないように、電位を低レベル(この実施例では接地電位
とする)に固定するものである。
The common node X has a precharge signal PRC.
When H is cut off and the NMOS 4 for precharge is cut off,
Floating low level. Small latch circuit 6
00 fixes the potential to a low level (ground potential in this embodiment) so that the potential of the common node X does not fluctuate due to noise or the like while the common node X is at a floating low level.

【0148】この発明に係る集積回路装置では、データ
信号A、B、C、Dの中で選択された信号が高レベルで
あった場合、データ信号伝達後も共通ノードXを低レベ
ルを長い期間、保つ必要がある。このため、上記小さな
ラッチ回路600を共通ノードXに接続することは、動
作の安定化、並びにデータの誤読み出しなどの誤動作防
止の観点からも有用である。
In the integrated circuit device according to the present invention, when the signal selected among the data signals A, B, C and D is at the high level, the common node X is kept at the low level for a long period even after the data signal is transmitted. , Need to keep. Therefore, connecting the small latch circuit 600 to the common node X is useful from the viewpoint of stabilizing the operation and preventing malfunctions such as erroneous reading of data.

【0149】また、小さなラッチ回路という意味は、ラ
ッチ回路600の出力電位レベルが、速やかに反転され
るような、弱いラッチ回路のことである。即ち、PMO
S群2、PMOS群3がそれぞれ導通することで共通ノ
ードXの電位が上がりだしたら、速やかにこの上昇を検
知して、その出力電位レベルを反転させることである。
The small latch circuit means a weak latch circuit in which the output potential level of the latch circuit 600 is rapidly inverted. That is, PMO
When the potential of the common node X starts to rise due to the conduction of the S group 2 and the PMOS group 3, respectively, this rise is promptly detected and its output potential level is inverted.

【0150】上記共通ノードXの電位を固定するラッチ
回路600を、上記弱いラッチ回路とすることで、デー
タが共通ノードXに供給されると、すぐに出力電位レベ
ルを反転できるので、高速なデータ伝達が損なわれなく
なる。
By using the weak latch circuit as the latch circuit 600 for fixing the potential of the common node X, when the data is supplied to the common node X, the output potential level can be immediately inverted, so that high-speed data can be obtained. Communication is not impaired.

【0151】図33に示すラッチ回路600は、図29
に示す共通ノードX0 、共通ノードBX0 、図30に示
す共通ノードX1 、共通ノードBX1 、および図31に
示す共通ノードXに接続することもできる。
The latch circuit 600 shown in FIG. 33 has the configuration shown in FIG.
The common node X 0 and common node BX 0 shown in FIG. 30, the common node X 1 and common node BX 1 shown in FIG. 30, and the common node X shown in FIG.

【0152】次に、この発明の第6の実施例に係る半導
体集積回路装置について説明する。図34は、この発明
の第6の実施例に係る半導体集積回路装置の回路図であ
る。
Next explained is a semiconductor integrated circuit device according to the sixth embodiment of the invention. 34 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit device according to a sixth embodiment of the present invention.

【0153】図34に示す第6の実施例に係る集積回路
装置は、図1および図2に示す集積回路装置のMOSF
ETの導電型を、全て反転させたものである。尚、デー
タ信号伝達用NMOS群には参照符号2N-9〜2N-12
を、出力選択用PMOS群には参照符号3P-9〜3P-1
2 を、共通ノードBX1 をプリチャージするためのPM
OSには参照符号4Pを付すことで、図1および図2に
示す集積回路装置と対応させ、その説明は省略する。
The integrated circuit device according to the sixth embodiment shown in FIG. 34 is a MOSF of the integrated circuit device shown in FIGS.
The conductivity type of ET is all inverted. Reference numerals 2N-9 to 2N-12 are used for the data signal transmission NMOS group.
, And reference symbols 3P-9 to 3P-1 for the output selection PMOS group.
PM for precharging 2 to common node BX 1
A reference numeral 4P is attached to the OS to make it correspond to the integrated circuit device shown in FIGS. 1 and 2, and the description thereof will be omitted.

【0154】この第6の実施例に係る装置の動作原理
や、その装置の利点は、第1の実施例と同様である。図
35は、第6の実施例に係る装置の動作を示す動作波形
図である。
The operation principle of the device according to the sixth embodiment and the advantage of the device are the same as those of the first embodiment. FIG. 35 is an operation waveform diagram showing an operation of the device according to the sixth embodiment.

【0155】次に、この発明の第7の実施例に係る半導
体集積回路装置について説明する。図36は、この発明
の第7の実施例に係る半導体集積回路装置の回路図であ
る。
Next explained is a semiconductor integrated circuit device according to the seventh embodiment of the invention. FIG. 36 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit device according to the seventh embodiment of the present invention.

【0156】図36に示す第7の実施例に係る装置は、
図34に示す装置の共通ノードXに、図33に示した小
さいラッチ回路600を付加したものである。この第7
実施例に係る装置の動作原理や、その装置の利点は、第
1の実施例と同様であり、かつ図33に示した第5の実
施例に係る装置で得られた、動作の安定化、並びに誤動
作防止という効果が得ることができる。
The apparatus according to the seventh embodiment shown in FIG. 36 is
The small latch circuit 600 shown in FIG. 33 is added to the common node X of the device shown in FIG. This 7th
The operation principle of the device according to the embodiment and the advantage of the device are the same as those of the first embodiment, and the stabilization of the operation obtained by the device according to the fifth embodiment shown in FIG. 33, In addition, the effect of preventing malfunction can be obtained.

【0157】上記各実施例により説明したこの発明であ
ると、複数のデータを選択して、次段へ伝達するのに、
寄生容量の影響を軽減でき、また、伝達閾値を低く設定
できるために、高速な伝達が可能になる。特に、選択さ
れるデータの数が増えれば増えるほど、その効果が高ま
る。
According to the present invention described in the above embodiments, a plurality of data are selected and transmitted to the next stage.
Since the influence of the parasitic capacitance can be reduced and the transmission threshold can be set low, high-speed transmission becomes possible. In particular, as the number of selected data increases, the effect increases.

【0158】また、DRAMなどのテスト動作モードに
おいては、ノーマル動作モードの選択回路を何等変更す
ることなく、複数読みだしデータの一致、不一致を判定
できるために、コンパクトなテストモード回路で、かつ
ノーマル動作とテスト動作との動作でアクセスタイムに
差がない、理想的なテスト回路が実現できる効果もあ
る。
In a test operation mode such as DRAM, it is possible to judge whether a plurality of pieces of read data match or do not match without changing the normal operation mode selection circuit. There is also an effect that an ideal test circuit in which there is no difference in access time between operation and test operation can be realized.

【0159】[0159]

【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
選択されるデータ数が多いときでも、高速な選択動作が
可能である、半導体集積回路装置を提供することができ
る。
As described above, according to the present invention,
It is possible to provide a semiconductor integrated circuit device capable of performing a high-speed selection operation even when the number of selected data is large.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1はこの発明の第1の実施例に係る半導体集
積回路装置のブロック図。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図2はこの発明の第1の実施例に係る半導体集
積回路装置の回路図。
FIG. 2 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention.

【図3】図3はこの発明の第1の実施例に係る半導体集
積回路装置の動作波形図。
FIG. 3 is an operation waveform diagram of the semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention.

【図4】図4はこの発明の第1の実施例に係る半導体集
積回路装置の寄生容量を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing a parasitic capacitance of the semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention.

【図5】図5は従来のマルチプレクサの寄生容量を示す
図。
FIG. 5 is a diagram showing a parasitic capacitance of a conventional multiplexer.

【図6】図6は従来の他のマルチプレクサの寄生容量を
示す図。
FIG. 6 is a diagram showing a parasitic capacitance of another conventional multiplexer.

【図7】図7はこの発明の第2の実施例に係るDRAM
のブロック図。
FIG. 7 is a DRAM according to a second embodiment of the present invention.
Block diagram of.

【図8】図8は図7に示す16メガビットセルアレーの
ブロック図。
8 is a block diagram of the 16-megabit cell array shown in FIG.

【図9】図9は図8に示す256キロビットセルアレー
のブロック図。
9 is a block diagram of the 256 kilobit cell array shown in FIG.

【図10】図10は図9に示すDQバッファの回路図。10 is a circuit diagram of the DQ buffer shown in FIG.

【図11】図11は図10に示すDQバッファの動作波
形図。
11 is an operation waveform diagram of the DQ buffer shown in FIG.

【図12】図12は図7に示すリードマルチプレクサ&
ライトマルチプレクサのブロック図。
FIG. 12 is a read multiplexer & shown in FIG.
Block diagram of a write multiplexer.

【図13】図13は図12に示すマルチプレクス信号発
生回路の回路図。
13 is a circuit diagram of the multiplex signal generation circuit shown in FIG.

【図14】図14は図12に示すリードマルチプレクサ
のブロック図。
14 is a block diagram of the read multiplexer shown in FIG.

【図15】図15は図14に示す第1マルチプレクス段
のマルチプレクス回路の回路図。
15 is a circuit diagram of the multiplex circuit of the first multiplex stage shown in FIG.

【図16】図16は図14に示す第2マルチプレクス段
のマルチプレクス回路の回路図。
16 is a circuit diagram of the multiplex circuit of the second multiplex stage shown in FIG.

【図17】図17は出力ビット数を変更できるDRAM
のリードマルチプレクサのブロック図。
FIG. 17 is a DRAM in which the number of output bits can be changed.
Block diagram of a read multiplexer of FIG.

【図18】図18は図17に示すスイッチ回路の回路
図。
18 is a circuit diagram of the switch circuit shown in FIG.

【図19】図19は図14に示すリードマルチプレクサ
の動作波形図。
19 is an operation waveform diagram of the read multiplexer shown in FIG.

【図20】図20は図14に示すリードマルチプレクサ
の動作波形図。
20 is an operation waveform diagram of the read multiplexer shown in FIG.

【図21】図21は図7に示すテスト回路の回路図。FIG. 21 is a circuit diagram of the test circuit shown in FIG. 7.

【図22】図22は図7に示す選択回路の回路図。22 is a circuit diagram of the selection circuit shown in FIG. 7. FIG.

【図23】図23は図15に示すマルチプレクス回路の
動作状態を示す図。
23 is a diagram showing an operating state of the multiplex circuit shown in FIG.

【図24】図24は図15に示すマルチプレクス回路の
他の動作状態を示す図。
FIG. 24 is a diagram showing another operation state of the multiplex circuit shown in FIG. 15.

【図25】図25は図12に示すライトマルチプレクサ
のブロック図。
FIG. 25 is a block diagram of the write multiplexer shown in FIG. 12.

【図26】図26は図25に示す選択回路の回路図。26 is a circuit diagram of the selection circuit shown in FIG. 25.

【図27】図27はこの発明の第3の実施例に係るDR
AMのブロック図。
FIG. 27 is a DR according to a third embodiment of the present invention.
Block diagram of AM.

【図28】図28は図27に示す16メガビットセルア
レーのブロック図。
28 is a block diagram of the 16-megabit cell array shown in FIG. 27.

【図29】図29はこの発明の第3の実施例に係るDR
AMが具備する第1マルチプレクス段のマルチプレクス
回路の回路図。
FIG. 29 is a DR according to a third embodiment of the present invention.
The circuit diagram of the multiplex circuit of the first multiplex stage included in the AM.

【図30】図30はこの発明の第3の実施例に係るDR
AMが具備する第2マルチプレクス段のマルチプレクス
回路の回路図。
FIG. 30 is a DR according to a third embodiment of the present invention.
The circuit diagram of the multiplex circuit of the 2nd multiplex stage with which AM is equipped.

【図31】図31はこの発明の第4の実施例に係る半導
体集積回路装置の回路図。
FIG. 31 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図32】図32は図31に示す選択回路の回路図。32 is a circuit diagram of the selection circuit shown in FIG. 31. FIG.

【図33】図33はこの発明の第5の実施例に係る半導
体集積回路装置の回路図。
FIG. 33 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図34】図34はこの発明の第6の実施例に係る半導
体集積回路装置の回路図。
FIG. 34 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図35】図35はこの発明の第6の実施例に係る半導
体集積回路装置の動作波形図。
FIG. 35 is an operation waveform diagram of the semiconductor integrated circuit device according to the sixth embodiment of the present invention.

【図36】図36はこの発明の第7の実施例に係る半導
体集積回路装置の回路図。
FIG. 36 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit device according to a seventh embodiment of the present invention.

【図37】図37は従来のマルチプレクサの回路図。FIG. 37 is a circuit diagram of a conventional multiplexer.

【図38】図38は従来の他のマルチプレクサの回路
図。
FIG. 38 is a circuit diagram of another conventional multiplexer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…配線、2-1〜2-14 ,2´-1〜2´-14 …データ伝
達用Pチャネル型MOSFET、3-1〜3-14 ,3´-1
〜3´-14 …出力選択用Pチャネル型MOSFET、
4,4´…プリチャージ用Nチャネル型MOSFET、
10…マルチプレクス信号発生回路、11…リードマル
チプレクサ、12…ライトマルチプレクサ、14-1〜1
4-12 …マルチプレクス信号発生用ゲート回路、17-1
〜17-4…マルチプレクス回路、18…マルチプレクス
回路、19…正相信号用マルチプレクス回路、20…反
転信号用マルチプレクス回路、21,21´…出力用イ
ンバータ、22…正相信号用マルチプレクス回路、23
…反転信号用マルチプレクス回路、24,24´…出力
用インバータ、25…NANDゲート、26…NORゲ
ート、27…エクスクルーシブORゲート、28…イン
バータ、29,29´…CMOS型のトランスファゲー
ト、30,30´…CMOS型のトランスファゲート、
31-1〜31-32 …リードライトデータ線対選択回路、
32-1〜32-32 …ドライビング回路活性化回路、35
-1〜35-32 …リードライトデータ線対ドライビング回
路、100,100´…データ選択回路、102-1〜1
02-12,102´-1〜102´-12 …データ伝達回
路、200,200´…プリチャージ回路、300…D
Q線イコライザ、302…伝達ゲート、304…内部D
Q線イコライザ、306…センスアンプ、308…RW
D線対ドライビング回路、310…RWD線イコライ
ザ、400…第1マルチプレクス段、402…第2マル
チプレクス段、450…スイッチ回路群、452…出力
バッファ群、454…スイッチ回路、455…信号非活
性化回路、500-1〜500-4…データ伝達回路、50
1-1〜501-4…選択回路、600…ラッチ回路。
1 ... Wiring, 2-1 to 2-14, 2'-1 to 2'-14 ... P channel type MOSFET for data transmission, 3-1 to 3-14, 3'-1
~ 3'-14 ... P-channel MOSFET for output selection,
4, 4 '... N-channel type MOSFET for precharge,
10 ... Multiplex signal generating circuit, 11 ... Read multiplexer, 12 ... Write multiplexer, 14-1 to 1
4-12 ... Gate circuit for generating multiplex signal, 17-1
... 17-4 ... Multiplex circuit, 18 ... Multiplex circuit, 19 ... Multiplex circuit for positive phase signal, 20 ... Multiplex circuit for inverted signal, 21, 21 '... Inverter for output, 22 ... Multiple for normal phase signal Plex circuit, 23
... Multiplex circuit for inverted signal, 24, 24 '... Inverter for output, 25 ... NAND gate, 26 ... NOR gate, 27 ... Exclusive OR gate, 28 ... Inverter, 29, 29' ... CMOS type transfer gate, 30, 30 '... CMOS type transfer gate,
31-1 to 31-32 ... Read / write data line pair selection circuit,
32-1 to 32-32 ... Driving circuit activation circuit, 35
-1 to 35-32 ... Read / write data line pair driving circuit, 100, 100 '... Data selection circuit, 102-1 to 1
02-12, 102'-1 to 102'-12 ... Data transmission circuit, 200, 200 '... Precharge circuit, 300 ... D
Q-line equalizer, 302 ... Transmission gate, 304 ... Internal D
Q-line equalizer, 306 ... Sense amplifier, 308 ... RW
D line pair driving circuit, 310 ... RWD line equalizer, 400 ... First multiplex stage, 402 ... Second multiplex stage, 450 ... Switch circuit group, 452 ... Output buffer group, 454 ... Switch circuit, 455 ... Signal inactive Circuit, 500-1 to 500-4 ... Data transmission circuit, 50
1-1 to 501-4 ... Selection circuit, 600 ... Latch circuit.

Claims (24)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1、第2の電源端子と、 前記第1の電源端子に接続された、第1の入力データ信
号および第1の選択信号が入力される第1のデータ伝達
回路、並びに第2の入力データ信号および第2の選択信
号が入力される第2のデータ伝達回路を少なくとも含む
データ選択回路と、 前記第2の電源端子に接続された、プリチャージ信号が
入力されるプリチャージ回路と、 前記データ選択回路と前記プリチャージ回路との共通ノ
ードに接続された配線とを具備することを特徴とする半
導体集積回路装置。
1. A first and a second power supply terminal, a first data transmission circuit connected to the first power supply terminal, for receiving a first input data signal and a first selection signal, and A data selection circuit including at least a second data transmission circuit to which a second input data signal and a second selection signal are input; and a precharge connected to the second power supply terminal and to which a precharge signal is input. A semiconductor integrated circuit device comprising: a circuit; and a wiring connected to a common node of the data selection circuit and the precharge circuit.
【請求項2】 前記第1のデータ伝達回路は、前記第1
の入力データ信号をゲートに受ける第1の絶縁ゲ−ト型
FETと、前記第1の選択信号をゲートに受け、前記第
1の絶縁ゲ−ト型FETと直列に接続される第2の絶縁
ゲ−ト型FETとを含み、 前記第2のデータ伝達回路は、前記第2の入力データ信
号をゲートに受ける第3の絶縁ゲ−ト型FETと、前記
第2の選択信号をゲートに受け、前記第3の絶縁ゲ−ト
型FETと直列に接続される第4の絶縁ゲ−ト型FET
とを含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体集積
回路装置。
2. The first data transfer circuit is the first data transfer circuit.
First insulation gate type FET which receives the input data signal of the gate at the gate, and a second insulation gate type FET which receives the first selection signal at the gate and is connected in series with the first insulation gate type FET. A second gate for receiving the second input data signal at the gate of the second data transmission circuit, and a gate for receiving the second selection signal. A fourth insulation gate type FET connected in series with the third insulation gate type FET
The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, comprising:
【請求項3】 前記第1のデータ伝達回路は、前記第1
の入力データ信号および前記第1の選択信号が入力され
る第1の選択用ゲート回路と、この第1の選択用ゲート
回路の出力をゲートに受ける第1の絶縁ゲ−ト型FET
とを含み、 前記第2のデータ伝達回路は、前記第2の入力データ信
号および前記第2の選択信号が入力される第2の選択用
ゲート回路と、この第2の選択用ゲート回路の出力をゲ
ートに受ける第2の絶縁ゲ−ト型FETとを含むことを
特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。
3. The first data transfer circuit comprises:
First selection gate circuit to which the input data signal and the first selection signal are input, and a first insulation gate type FET whose gate receives an output of the first selection gate circuit.
And a second selection gate circuit to which the second input data signal and the second selection signal are input, and an output of the second selection gate circuit. 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising a second insulating gate type FET which receives the gate at the gate.
【請求項4】 前記第1の選択用ゲート回路は、前記第
1の選択信号に基いて、前記第1の入力データ信号を第
1の絶縁ゲ−ト型FETのゲートに伝え、 前記第2の選択用ゲート回路は、前記第1の選択信号に
基いて、前記第2の入力データ信号を第2の絶縁ゲ−ト
型FETのゲートに伝えることを特徴とする請求項3に
記載の半導体集積回路装置。
4. The first selection gate circuit transmits the first input data signal to a gate of a first insulation gate type FET based on the first selection signal, and the second selection gate circuit further comprises: 4. The semiconductor device according to claim 3, wherein the selection gate circuit transmits the second input data signal to the gate of the second insulation gate type FET based on the first selection signal. Integrated circuit device.
【請求項5】 前記第1、第2のデータ伝達回路は、前
記第1、第2の選択信号に基いて、前記第1、第2の入
力データ信号を、前記共通ノードに伝えることを特徴と
する請求項1に記載の半導体集積回路装置。
5. The first and second data transfer circuits transfer the first and second input data signals to the common node based on the first and second selection signals. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1.
【請求項6】 前記第1、第2のデータ伝達回路は、前
記第1、第2の選択信号に基いて、前記第1、第2の入
力データ信号を、前記共通ノードに伝えることを特徴と
する請求項2に記載の半導体集積回路装置。
6. The first and second data transfer circuits transfer the first and second input data signals to the common node based on the first and second selection signals. The semiconductor integrated circuit device according to claim 2.
【請求項7】 前記第1、第2の絶縁ゲート型FET
は、ゲートに伝えられた前記第1、第2の入力データ信
号を、前記共通ノードに伝えることを特徴とする請求項
4に記載の半導体集積回路装置。
7. The first and second insulated gate FETs
5. The semiconductor integrated circuit device according to claim 4, wherein the first and second input data signals transmitted to the gate are transmitted to the common node.
【請求項8】 前記第1のデータ伝達回路に、前記第1
の選択信号の電位を第1のレベルとして入力し、前記第
2のデータ伝達回路に、第2の選択信号の電位を前記第
1のレベルと異なる第2のレベルとして入力し、前記第
1、第2の入力データ信号のいずれか一方のデータ信号
を前記共通ノードに伝えることを特徴とする請求項5に
記載の半導体集積回路装置。
8. The first data transmission circuit is provided with the first
The potential of the selection signal is input as a first level, and the potential of the second selection signal is input to the second data transmission circuit as a second level different from the first level. 6. The semiconductor integrated circuit device according to claim 5, wherein one of the second input data signals is transmitted to the common node.
【請求項9】 前記第1、第2のデータ伝達回路に、前
記第1、第2の選択信号の電位を同一レベルとして入力
し、前記第1、第2の入力データ信号の論理和を前記共
通ノードに伝えることを特徴とする請求項5および請求
項8いずれかに記載の半導体集積回路装置。
9. The first and second data transfer circuits are input with the potentials of the first and second selection signals as the same level, and the logical sum of the first and second input data signals is input to the first and second data transfer circuits. 9. The semiconductor integrated circuit device according to claim 5, wherein the signal is transmitted to a common node.
【請求項10】 前記第1、第2の入力データ信号を、
前記共通ノードに伝えた後、前記プリチャージ回路によ
り、前記共通ノードをプリチャージすることを特徴とす
る請求項5、請求項8および請求項9いずれか一項に記
載の半導体集積回路装置。
10. The first and second input data signals,
10. The semiconductor integrated circuit device according to claim 5, wherein the common node is precharged by the precharge circuit after being transmitted to the common node.
【請求項11】 前記第1のデータ伝達回路に、前記第
1の選択信号の電位を第1のレベルとして入力し、前記
第2のデータ伝達回路に、第2の選択信号の電位を前記
第1のレベルと異なる第2のレベルとして入力し、前記
第1、第2の入力データ信号のいずれか一方のデータ信
号を前記共通ノードに伝えることを特徴とする請求項6
に記載の半導体集積回路装置。
11. The potential of the first selection signal is input to the first data transmission circuit as a first level, and the potential of the second selection signal is input to the second data transmission circuit. 7. The second level different from the first level is inputted, and either one of the first and second input data signals is transmitted to the common node.
The semiconductor integrated circuit device according to 1.
【請求項12】 前記第1、第2のデータ伝達回路に、
前記第1、第2の選択信号の電位を同一レベルとして入
力し、前記第1、第2の入力データ信号の論理和を前記
共通ノードに伝えることを特徴とする請求項6および請
求項11いずれかに記載の半導体集積回路装置。
12. The first and second data transfer circuits,
The potentials of the first and second selection signals are input as the same level, and the logical sum of the first and second input data signals is transmitted to the common node. 7. A semiconductor integrated circuit device according to item 1.
【請求項13】 前記第1、第2の入力データ信号を、
前記共通ノードに伝えた後、前記プリチャージ回路によ
り、前記共通ノードをプリチャージすることを特徴とす
る請求項6、請求項11および請求項12いずれか一項
に記載の半導体集積回路装置。
13. The first and second input data signals,
13. The semiconductor integrated circuit device according to claim 6, wherein the common node is precharged by the precharge circuit after being transmitted to the common node.
【請求項14】 前記第1の絶縁ゲ−ト型FET、前記
第2の絶縁ゲ−ト型FET、前記第3の絶縁ゲ−ト型F
ET、前記第4の絶縁ゲ−ト型FETはそれぞれ、Pチ
ャネル型であることを特徴とする請求項2、請求項6、
請求項11、請求項12および請求項13いずれか一項
に記載の半導体集積回路装置。
14. The first insulation gate type FET, the second insulation gate type FET, and the third insulation gate type F.
7. The ET and the fourth insulating gate type FET are P-channel type FETs, respectively.
The semiconductor integrated circuit device according to claim 11, claim 12, or claim 13.
【請求項15】 前記第1の選択用ゲート回路に、前記
第1の選択信号の電位を第1のレベルとして入力し、前
記第2の選択用ゲート回路に、第2の選択信号の電位を
前記第1のレベルと異なる第2のレベルとして入力し、
前記第1、第2の入力データ信号のいずれか一方のデー
タ信号を、前記共通ノードに伝えることを特徴とする請
求項7に記載の半導体集積回路装置。
15. The potential of the first selection signal is input to the first selection gate circuit as a first level, and the potential of the second selection signal is input to the second selection gate circuit. Input as a second level different from the first level,
8. The semiconductor integrated circuit device according to claim 7, wherein one of the first and second input data signals is transmitted to the common node.
【請求項16】 前記第1、第2の選択用ゲート回路
に、前記第1、第2の選択信号の電位を同一レベルとし
て入力し、前記第1、第2の入力データ信号の論理和を
前記共通ノードに伝えることを特徴とする請求項7およ
び請求項15いずれかに記載の半導体集積回路装置。
16. The first and second selection gate circuits are inputted with the potentials of the first and second selection signals as the same level, and a logical sum of the first and second input data signals is obtained. 16. The semiconductor integrated circuit device according to claim 7, wherein the semiconductor integrated circuit device is transmitted to the common node.
【請求項17】 前記第1、第2の入力データ信号を、
前記共通ノードに伝えた後、前記プリチャージ回路によ
り、前記共通ノードをプリチャージすることを特徴とす
る請求項7、請求項15および請求項16いずれか一項
に記載の半導体集積回路装置。
17. The first and second input data signals,
17. The semiconductor integrated circuit device according to claim 7, wherein the common node is precharged by the precharge circuit after being transmitted to the common node.
【請求項18】 前記第1の絶縁ゲ−ト型FET、前記
第2の絶縁ゲ−ト型FETはそれぞれ、Pチャネル型で
あることを特徴とする請求項3、請求項4、請求項7、
請求項15、請求項16および請求項17いずれか一項
に記載の半導体集積回路装置。
18. The method according to claim 3, wherein each of the first insulation gate type FET and the second insulation gate type FET is a P-channel type. ,
The semiconductor integrated circuit device according to any one of claims 15, 16 and 17.
【請求項19】 前記共通ノ−ドに接続された、この共
通ノ−ドの電位を、所定の電位に固定する電位固定回路
をさらに具備することを特徴とする請求項1乃至請求項
18いずれか一項に記載の半導体集積回路装置。
19. The method according to claim 1, further comprising a potential fixing circuit connected to the common node for fixing the potential of the common node to a predetermined potential. 2. A semiconductor integrated circuit device according to item 1.
【請求項20】 前記電位固定回路は、ラッチ回路であ
ることを特徴とする請求項19に記載の半導体集積回路
装置。
20. The semiconductor integrated circuit device according to claim 19, wherein the potential fixing circuit is a latch circuit.
【請求項21】 入力バッファと、 出力バッファと、 複数のダイナミック型メモリセルを含むメモリセルアレ
イと、 前記出力バッファに接続されたリード用マルチプレクサ
および前記入力バッファに接続されたライト用マルチプ
レクサとを含むマルチプレクサと、 前記メモリセルアレイと前記マルチプレクサとを電気的
に接続する複数のリードライトデータ線と、 前記メモリセルアレイと前記マルチプレクサとを電気的
に接続する前記リードライトデータ線と対をなす複数の
反転リードライトデータ線と、 複数のマルチプレクス信号を発生するマルチプレクス信
号生回路とを具備することを特徴とする半導体集積回路
装置。
21. A multiplexer including an input buffer, an output buffer, a memory cell array including a plurality of dynamic memory cells, a read multiplexer connected to the output buffer, and a write multiplexer connected to the input buffer. A plurality of read / write data lines electrically connecting the memory cell array and the multiplexer, and a plurality of inversion read / write pairs of the read / write data line electrically connecting the memory cell array and the multiplexer. A semiconductor integrated circuit device comprising: a data line and a multiplex signal generating circuit for generating a plurality of multiplex signals.
【請求項22】 前記リード用マルチプレクサは、第1
のマルチプレクス回路と、第2のマルチプレクス回路と
を含み、 前記第1のマルチプレクス回路は、 第1の電源端子に接続された、第1のリードライトデー
タ線の入力データ信号および第1のマルチプレクス信号
が入力される第1のデータ伝達回路、並びに第2のリー
ドライトデータ線の入力データ信号および第2のマルチ
プレクス信号が入力される第2のデータ伝達回路を少な
くとも含む第1のデータ選択回路と、第2の電源端子に
接続された、プリチャージ信号が入力される第1のプリ
チャージ回路と、前記第1のデータ選択回路と前記第1
のプリチャージ回路との共通ノードに接続された第1の
配線とを含み、 前記第2のマルチプレクス回路は、 前記第1の電源端子に接続された第1の反転リードライ
トデータ線の入力データ信号および前記第1のマルチプ
レクス信号が入力される第3のデータ伝達回路、並びに
第2の反転リードライトデータ線の入力データ信号およ
び前記第2のマルチプレクス信号が入力される第4のデ
ータ伝達回路を少なくとも含む第2のデータ選択回路
と、前記第2の電源端子に接続された、前記プリチャー
ジ信号が入力される第2のプリチャージ回路と、前記第
2のデータ選択回路と前記第2のプリチャージ回路との
共通ノードに接続された第2の配線とを含むことを特徴
とする請求項21に記載の半導体集積回路装置。
22. The read multiplexer comprises a first multiplexer.
A multiplex circuit and a second multiplex circuit, wherein the first multiplex circuit is connected to a first power supply terminal, and receives an input data signal of a first read / write data line and a first read / write data line. First data including at least a first data transmission circuit to which a multiplex signal is input, and a second data transmission circuit to which an input data signal of a second read / write data line and a second multiplex signal are input A selection circuit, a first precharge circuit connected to a second power supply terminal, to which a precharge signal is input, the first data selection circuit, and the first
And a first wire connected to a common node with the precharge circuit of the first multiplex circuit, wherein the second multiplex circuit includes input data of a first inverted read / write data line connected to the first power supply terminal. Third data transfer circuit to which a signal and the first multiplex signal are input, and fourth data transfer to which the input data signal of the second inverted read / write data line and the second multiplex signal are input A second data selection circuit including at least a circuit, a second precharge circuit connected to the second power supply terminal and to which the precharge signal is input, the second data selection circuit, and the second 22. The semiconductor integrated circuit device according to claim 21, further comprising a second wiring connected to a common node with the precharge circuit of FIG.
【請求項23】 入力バッファと、 出力バッファと、 複数のダイナミック型メモリセルを含むメモリセルアレ
イと、 前記出力バッファに接続されたリード用マルチプレクサ
および前記入力バッファに接続されたライト用マルチプ
レクサとを含むマルチプレクサと、 前記メモリセルアレイと前記マルチプレクサとを電気的
に接続する複数のリードライトデータ線と、 前記メモリセルアレイと前記マルチプレクサとを電気的
に接続する前記リードライトデータ線と対をなす複数の
反転リードライトデータ線と、 複数のマルチプレクス信号を発生するマルチプレクス信
号生回路と、 出力バッファとリード用マルチプレクサとを接続する配
線に接続されたテスト回路とを具備することを特徴とす
る半導体集積回路装置。
23. A multiplexer including an input buffer, an output buffer, a memory cell array including a plurality of dynamic memory cells, a read multiplexer connected to the output buffer, and a write multiplexer connected to the input buffer. A plurality of read / write data lines electrically connecting the memory cell array and the multiplexer, and a plurality of inversion read / write pairs of the read / write data line electrically connecting the memory cell array and the multiplexer. A semiconductor integrated circuit device comprising: a data line, a multiplex signal generation circuit for generating a plurality of multiplex signals, and a test circuit connected to a wiring connecting an output buffer and a read multiplexer.
【請求項24】 前記リード用マルチプレクサは、第1
のマルチプレクス回路と、第2のマルチプレクス回路と
を含み、 前記第1のマルチプレクス回路は、 第1の電源端子に接続された、第1のリードライトデー
タ線の入力データ信号および第1のマルチプレクス信号
が入力される第1のデータ伝達回路、並びに第2のリー
ドライトデータ線の入力データ信号および第2のマルチ
プレクス信号が入力される第2のデータ伝達回路を少な
くとも含む第1のデータ選択回路と、第2の電源端子に
接続された、プリチャージ信号が入力される第1のプリ
チャージ回路と、前記第1のデータ選択回路と前記第1
のプリチャージ回路との共通ノードに接続された第1の
配線とを含み、 前記第2のマルチプレクス回路は、 前記第1の電源端子に接続された第1の反転リードライ
トデータ線の入力データ信号および前記第1のマルチプ
レクス信号が入力される第3のデータ伝達回路、並びに
第2の反転リードライトデータ線の入力データ信号およ
び前記第2のマルチプレクス信号が入力される第4のデ
ータ伝達回路を少なくとも含む第2のデータ選択回路
と、前記第2の電源端子に接続された、前記プリチャー
ジ信号が入力される第2のプリチャージ回路と、前記第
2のデータ選択回路と前記第2のプリチャージ回路との
共通ノードに接続された第2の配線とを含むことを特徴
とする請求項23に記載の半導体集積回路装置。
24. The read multiplexer comprises a first multiplexer.
A multiplex circuit and a second multiplex circuit, wherein the first multiplex circuit is connected to a first power supply terminal, and receives an input data signal of a first read / write data line and a first read / write data line. First data including at least a first data transmission circuit to which a multiplex signal is input, and a second data transmission circuit to which an input data signal of a second read / write data line and a second multiplex signal are input A selection circuit, a first precharge circuit connected to a second power supply terminal, to which a precharge signal is input, the first data selection circuit, and the first
And a first wire connected to a common node with the precharge circuit of the first multiplex circuit, wherein the second multiplex circuit includes input data of a first inverted read / write data line connected to the first power supply terminal. Third data transfer circuit to which a signal and the first multiplex signal are input, and fourth data transfer to which the input data signal of the second inverted read / write data line and the second multiplex signal are input A second data selection circuit including at least a circuit, a second precharge circuit connected to the second power supply terminal and to which the precharge signal is input, the second data selection circuit, and the second 24. The semiconductor integrated circuit device according to claim 23, further comprising: a second wiring connected to a common node with the precharge circuit.
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