JPH072857A - Production of carbapenem derivative and its intermediate - Google Patents

Production of carbapenem derivative and its intermediate

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JPH072857A
JPH072857A JP6022575A JP2257594A JPH072857A JP H072857 A JPH072857 A JP H072857A JP 6022575 A JP6022575 A JP 6022575A JP 2257594 A JP2257594 A JP 2257594A JP H072857 A JPH072857 A JP H072857A
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JP
Japan
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ester
salt
alkyl
formula
ethyl
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Application number
JP6022575A
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Japanese (ja)
Inventor
Masayoshi Murata
正好 村田
Chiyoshi Kasahara
千義 笠原
Hideo Tsutsumi
秀雄 津々美
Yoshihiro Murakami
佳裕 村上
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain a new compound (salt), composed of a 1- phosphorandiylmethyl-3-thiocarbonylalkyl-2-oxoazetidine derivative and useful as an intermediate, etc., for producing carbapenem derivatives having antimicrobial action. CONSTITUTION:A 1-acyl-3-(alkylthio)thiocarbonylalkyl-2-oxoazeditine compound (salt) expressed by formula I [R<1> is (protected)carboxy; R<2> is (protected)hydroxy(lower)alkyl; R<3> is H or lower alkyl; R<4> is organic group] is reacted with a compound expressed by formula II [R<5> to R<7> are lower alkyl, lower alkoxy, (substituted)aryl, etc.] [e.g. diethoxy(methyl)phosphine] to afford the objective 2-oxoazeditine derivative expressed by formula III. Furthermore, the compound expressed by formula III is subjected to cyclizing reaction to provide this carbapenem derivative, expressed by formula IV and having high antimicrobial activity.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の目的】本発明の目的は、カルバペネム誘導体ま
たはその塩の工業的製造法、その重要中間体およびその
塩ならびに該中間体の製造法を提供することである。
OBJECT OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an industrial process for producing a carbapenem derivative or a salt thereof, an important intermediate thereof and a salt thereof, and a process for producing the intermediate.

【0002】[0002]

【発明の構成】本発明の製造法によって製造される目的
カルバペネム誘導体は下記の一般式(I)で表わすこと
ができる。
The object carbapenem derivative produced by the production method of the present invention can be represented by the following general formula (I).

【化14】 [式中、R1 はカルボキシまたは保護されたカルボキ
シ、R2 はヒドロキシ(低級)アルキルまたは保護され
たヒドロキシ(低級)アルキル、R3 は水素または低級
アルキル、R4 は有機基をそれぞれ表わす]目的化合物
(I)および後述の中間体において、不斉炭素原子によ
る光学異性体などの立体異性体が1対以上存在すること
もあるが、かかる異性体も本発明の範囲内に包含され
る。本発明によれば、目的化合物(I)またはその塩
は、次の諸プロセスにより製造できる。
[Chemical 14] [Wherein R 1 represents carboxy or protected carboxy, R 2 represents hydroxy (lower) alkyl or protected hydroxy (lower) alkyl, R 3 represents hydrogen or lower alkyl, and R 4 represents an organic group] In compound (I) and the intermediates described later, one or more pairs of stereoisomers such as optical isomers due to asymmetric carbon atoms may exist, and such isomers are also included in the scope of the present invention. According to the present invention, the object compound (I) or a salt thereof can be produced by the following processes.

【0003】プロセス1:Process 1:

【化15】 [Chemical 15]

【0004】プロセス2:Process 2:

【化16】 [Chemical 16]

【0005】プロセス3:Process 3:

【化17】 [Chemical 17]

【化18】 [上記式中、R1 、R2 、R3 およびR4 は各々上に定
義した通りであり、R4 aは有機基、R5 、R6 およびR
7 は各々低級アルキル、低級アルコキシ、1個以上の適
当な置換基を有していてもよいアリール、または式:
[Chemical 18] [Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each as defined above, R 4 a is an organic group, R 5 , R 6 and R 4
7 is each lower alkyl, lower alkoxy, aryl optionally having one or more suitable substituents, or a formula:

【化19】 (式中、R8 およびR9 は各々低級アルキル、または1
個以上の適当な置換基を有していてもよいアリールを表
わす)で示される基をそれぞれ表わす。ただし、(i)
4 とR4 aとは同一ではなく、(ii)R5、R6 およ
びR7 は同時に同一とはならないものとする]
[Chemical 19] (In the formula, R 8 and R 9 are each lower alkyl, or 1
Represents an aryl optionally having one or more suitable substituents). However, (i)
R 4 and R 4 a are not the same, and (ii) R 5 , R 6 and R 7 are not the same at the same time.]

【0006】目的化合物(I)の好適な塩は、慣用の無
毒性塩であって、これには、無機塩基塩、たとえばアル
カリ金属塩(たとえばナトリウム塩、カリウム塩な
ど)、アルカリ土類金属塩(たとえばカルシウム塩、マ
グネシウム塩など)、アンモニウム塩、有機塩基塩、た
とえば有機アミン塩(たとえばトリエチルアミン塩、ピ
リジン塩、ピコリン塩、エタノールアミン塩、トリエタ
ノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N,N’
−ジベンジルエチレンジアミン塩、ジベンジルアミン塩
など)などの、塩基との塩;無機酸付加塩(たとえば塩
酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩など)、有機酸
付加塩(たとえばギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸
塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベ
ンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩など)など
の酸との塩;塩基性または酸性アミノ酸(たとえばアル
ギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸など)との塩;
分子内第四級塩などが包含される。本明細書の上記およ
び後記の説明において、本発明がその範囲内に包含する
種々の定義の好適な例および具体例を、以下に詳細に説
明する。「低級」なる語は、とくに断わらない限り、炭
素原子数が1〜6であることを意味する。好適な「保護
されたカルボキシ」としては、エステル化されたカルボ
キシなどが挙げられる。
Suitable salts of the object compound (I) are conventional non-toxic salts, which include inorganic base salts such as alkali metal salts (eg sodium salt, potassium salt etc.), alkaline earth metal salts. (Eg calcium salt, magnesium salt etc.), ammonium salt, organic base salt, eg organic amine salt (eg triethylamine salt, pyridine salt, picoline salt, ethanolamine salt, triethanolamine salt, dicyclohexylamine salt, N, N ′).
A salt with a base such as a dibenzylethylenediamine salt, a dibenzylamine salt, etc .; an inorganic acid addition salt (eg, hydrochloride, hydrobromide salt, sulfate, phosphate etc.), an organic acid addition salt (eg, Salts with acids such as formate, acetate, trifluoroacetate, maleate, tartrate, methanesulfonate, benzenesulfonate, toluenesulfonate; basic or acidic amino acids (eg arginine, Salts with aspartic acid, glutamic acid, etc.);
Intramolecular quaternary salts and the like are included. In the above and subsequent description of the present specification, suitable examples and specific examples of various definitions included in the scope of the present invention will be described in detail below. The term "lower" means having 1 to 6 carbon atoms unless otherwise specified. Suitable "protected carboxy" includes esterified carboxy and the like.

【0007】エステル化されたカルボキシのエステル部
分の好適な例としては、低級アルキルエステル(たとえ
ばメチルエステル、エチルエステル、プロピルエステ
ル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イソブチ
ルエステル、t−ブチルエステル、ペンチルエステル、
ヘキシルエステルなど)、少なくとも1個の適当な置換
基を有する低級アルキルエステル、たとえば低級アルカ
ノイルオキシ(低級)アルキルエステル[たとえばアセ
トキシメチルエステル、プロピオニルオキシメチルエス
テル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオキシ
メチルエステル、ピバロイルオキシメチルエステル、ヘ
キサノイルオキシメチルエステル、1−(または2−)
アセトキシエチルエステル、1−(または2−または3
−)アセトキシプロピルエステル、1−(または2−ま
たは3−または4−)アセトキシブチルエステル、1−
(または2−)プロピオニルオキシエチルエステル、1
−(または2−)ブチリルオキシエチルエステル、1−
(または2−)イソブチリルオキシエチルエステル、1
−(または2−)ピバロイルオキシエチルエステル、1
−(または2−)ヘキサノイルオキシエチルエステル、
イソブチリルオキシメチルエステル、2−エチルブチリ
ルオキシメチルエステル、3,3−ジメチルブチリルオ
キシメチルエステル、1−(または2−)ペンタノイル
オキシエチルエステルなど]、低級アルカンスルホニル
(低級)アルキルエステル(たとえば2−メシルエチル
エステルなど)、モノ(またはジまたはトリ)ハロ(低
級)アルキルエステル(たとえば2−ヨードエチルエス
テル、2,2,2−トリクロロエチルエステルなど);
低級アルコキシカルボニルオキシ(低級)アルキルエス
テル[たとえばメトキシカルボニルオキシメチルエステ
ル、エトキシカルボニルオキシメチルエステル、プロポ
キシカルボニルオキシメチルエステル、t−ブトキシカ
ルボニルオキシメチルエステル、1−(または2−)メ
トキシカルボニルオキシエチルエステル、1−(または
2−)エトキシカルボニルオキシエチルエステル、1−
(または2−)イソプロポキシカルボニルオキシエチル
エステルなど]、フタリジリデン(低級)アルキルエス
テル、(5−低級アルキル−2−オキソ−1,3−ジオ
キソール−4−イル)(低級)アルキルエステル[たと
えば(5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソール
−4−イル)メチルエステル、(5−エチル−2−オキ
ソ−1,3−ジオキソール−4−イル)メチルエステ
ル、(5−プロピル−2−オキソ−1,3−ジオキソー
ル−4−イル)エチルエステルなど];低級アルケニル
エステル(たとえばビニルエステル、アリルエステルな
ど);低級アルキニルエステル(たとえばエチニルエス
テル、プロピニルエステルなど);ハロゲンまたは低級
アルコキシを有していてもよいモノまたはジまたはトリ
フェニル(低級)アルキルエステルなどの、少なくとも
1個の適当な置換基を有していてもよいアル(低級)ア
ルキルエステル(たとえばベンジルエステル、4−メト
キシベンジルエステル、4−ニトロベンジルエステル、
フェネチルエステル、トリチルエステル、ベンズヒドリ
ルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチルエステ
ル、3,4−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジルエステルな
ど);少なくとも1個の適当な置換基を有していてもよ
いアリールエステル(たとえばフェニルエステル、4−
クロロフェニルエステル、トリルエステル、t−ブチル
フェニルエステル、キシリルエステル、メシチルエステ
ル、クメニルエステルなど);フタリジルエステルなど
のものが挙げられる。
Preferred examples of esterified carboxy ester moieties include lower alkyl esters (eg, methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, t-butyl ester, pentyl ester,
Hexyl ester, etc.), lower alkyl ester having at least one suitable substituent, such as lower alkanoyloxy (lower) alkyl ester [eg, acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester, butyryloxymethyl ester, valeryloxymethyl ester, etc. , Pivaloyloxymethyl ester, hexanoyloxymethyl ester, 1- (or 2-)
Acetoxyethyl ester, 1- (or 2- or 3
-) Acetoxypropyl ester, 1- (or 2- or 3- or 4-) acetoxybutyl ester, 1-
(Or 2-) propionyloxyethyl ester, 1
-(Or 2-) butyryloxyethyl ester, 1-
(Or 2-) isobutyryloxyethyl ester, 1
-(Or 2-) pivaloyloxyethyl ester, 1
-(Or 2-) hexanoyloxyethyl ester,
Isobutyryloxymethyl ester, 2-ethylbutyryloxymethyl ester, 3,3-dimethylbutyryloxymethyl ester, 1- (or 2-) pentanoyloxyethyl ester, etc.], lower alkanesulfonyl (lower) alkyl ester (For example, 2-mesylethyl ester), mono (or di or tri) halo (lower) alkyl ester (for example, 2-iodoethyl ester, 2,2,2-trichloroethyl ester, etc.);
Lower alkoxycarbonyloxy (lower) alkyl ester [eg, methoxycarbonyloxymethyl ester, ethoxycarbonyloxymethyl ester, propoxycarbonyloxymethyl ester, t-butoxycarbonyloxymethyl ester, 1- (or 2-) methoxycarbonyloxyethyl ester, 1- (or 2-) ethoxycarbonyloxyethyl ester, 1-
(Or 2-) isopropoxycarbonyloxyethyl ester, etc.], phthalidylidene (lower) alkyl ester, (5-lower alkyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl) (lower) alkyl ester [eg (5 -Methyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl) methyl ester, (5-ethyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl) methyl ester, (5-propyl-2-oxo) -1,3-dioxol-4-yl) ethyl ester etc.]; lower alkenyl ester (eg vinyl ester, allyl ester etc.); lower alkynyl ester (eg ethynyl ester, propynyl ester etc.); having halogen or lower alkoxy May be mono or di or triphenyl (lower) Such Kill ester which may have at least one suitable substituent ar (lower) alkyl ester (e.g. benzyl ester, 4-methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester,
Phenethyl ester, trityl ester, benzhydryl ester, bis (methoxyphenyl) methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester, 4-hydroxy-3,5-di-t-butylbenzyl ester, etc.); at least one suitable Optionally substituted aryl ester (eg phenyl ester, 4-
Chlorophenyl ester, tolyl ester, t-butylphenyl ester, xylyl ester, mesityl ester, cumenyl ester, etc.); and phthalidyl ester.

【0008】このように定義される保護されたカルボキ
シのより好ましい例としては、C2〜C4 アルケニルオ
キシカルボニルおよびフェニル(またはニトロフェニ
ル)(C1 〜C4 )アルコキシカルボニルが挙げられ
る。好適な「低級アルキル」ならびに「ヒドロキシ(低
級)アルキル」および「保護されたヒドロキシ(低級)
アルキル」なる表現中の好適な「低級アルキル部分」と
しては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどの、直鎖状
または分枝鎖状のものが挙げられ、それらの中でもより
好ましい例は、C1 〜C4 アルキルである。「保護され
たヒドロキシ(低級)アルキル」なる表現中の好ましい
「保護されたヒドロキシ部分」としては、後記のイミノ
保護基の説明のところで述べるものや、モノまたはジま
たはトリフェニル(低級)アルキル(たとえばベンジ
ル、ベンズヒドリル、トリチルなど)などのアル(低
級)アルキル、トリ(低級)アルキルシリル(たとえば
トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジ
メチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、ジイソプロ
ピルメチルシリルなど)、トリアリールシリル(たとえ
ばトリフェニルシリルなど)、トリアル(低級)アルキ
ルシリル(たとえばトリベンジルシリルなど)などのト
リ置換シリルなどの、慣用のヒドロキシ保護基により保
護されたヒドロキシが挙げられる。好適な「有機基」と
しては、前記の低級アルキル、低級アルコキシ、モノ
(またはジまたはトリ)ハロ(低級)アルキル(たとえ
ばクロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、
ブロモメチル、クロロエチル、ジクロロエチル、トリク
ロロエチル、フルオロエチル、トリフルオロエチルな
ど)、
More preferred examples of the protected carboxy thus defined include C 2 -C 4 alkenyloxycarbonyl and phenyl (or nitrophenyl) (C 1 -C 4 ) alkoxycarbonyl. Suitable "lower alkyl" and "hydroxy (lower) alkyl" and "protected hydroxy (lower)"
Suitable "lower alkyl moiety" in the expression "alkyl" includes straight chain or branched chain such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t-butyl, pentyl, hexyl, Among them, more preferable examples are C 1 -C 4 alkyl. Preferred "protected hydroxy moieties" in the expression "protected hydroxy (lower) alkyl" include those mentioned below in the description of imino protecting groups, mono- or di- or triphenyl (lower) alkyl (for example, Benzyl, benzhydryl, trityl, etc.), tri (lower) alkyl, tri (lower) alkylsilyl (eg, trimethylsilyl, triethylsilyl, isopropyldimethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, diisopropylmethylsilyl, etc.), triarylsilyl (eg, trialkylsilyl). Included are hydroxy protected by conventional hydroxy protecting groups such as tri-substituted silyl such as phenylsilyl), trial (lower) alkylsilyl (eg tribenzylsilyl) and the like. Suitable “organic group” includes the above lower alkyl, lower alkoxy, mono (or di or tri) halo (lower) alkyl (for example, chloromethyl, dichloromethyl, trichloromethyl,
Bromomethyl, chloroethyl, dichloroethyl, trichloroethyl, fluoroethyl, trifluoroethyl, etc.),

【0009】低級アルケニル(たとえばビニル、1−プ
ロペニル、アリル、1−メチルアリル、1または2また
は3−ブテニル、1または2または3または4−ペンテ
ニル、1または2または3または4または5−ヘキセニ
ルなど)、低級アルキニル(たとえばエチニル、1−プ
ロピニル、プロパルギル、1−メチルプロパルギル、1
または2または3−ブチニル、1または2または3また
は4−ペンチニル、1または2または3または4または
5−ヘキシニルなど)、1個以上(好ましくは1〜3
個)の適当な置換基を有していてもよいアリール、フェ
ニル(低級)アルキル(たとえばベンジル、フェネチ
ル、フェニルプロピルなど)などのアル(低級)アルキ
ル、1個以上(好ましくは1〜3個)の適当な置換基を
有していてもよい複素環基などが挙げられる。好適な
「低級アルコキシ」としては、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ペンチルオキシ、
イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどの直鎖状また
は分枝鎖状のものが挙げられ、これらの中でもより好ま
しい例として、C1 〜C4 アルコキシが挙げられる。好
適な「アリール」としては、フェニル、ナフチルなどが
挙げられる。
Lower alkenyl (eg vinyl, 1-propenyl, allyl, 1-methylallyl, 1 or 2 or 3-butenyl, 1 or 2 or 3 or 4-pentenyl, 1 or 2 or 3 or 4 or 5-hexenyl, etc.) , Lower alkynyl (eg ethynyl, 1-propynyl, propargyl, 1-methylpropargyl, 1
Or 2 or 3-butynyl, 1 or 2 or 3 or 4-pentynyl, 1 or 2 or 3 or 4 or 5-hexynyl, etc.), one or more (preferably 1 to 3)
Optionally) an optionally substituted aryl, phenyl (lower) alkyl (eg, benzyl, phenethyl, phenylpropyl, etc.), etc., ar (lower) alkyl, 1 or more (preferably 1 to 3) And a heterocyclic group which may have a suitable substituent. Suitable "lower alkoxy" includes methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, isobutoxy, pentyloxy,
Examples thereof include linear or branched ones such as isopentyloxy and hexyloxy, and more preferable examples thereof include C 1 to C 4 alkoxy. Suitable "aryl" includes phenyl, naphthyl and the like.

【0010】「1個以上の適当な置換基を有していても
よいアリール」なる表現中の好適な「置換基」として
は、上に例示した低級アルキル、ハロゲン(たとえば塩
素、臭素、ヨウ素、フッ素)、ヒドロキシ、上に例示し
た保護されたヒドロキシ、低級アルケニル(たとえばビ
ニル、1−プロペニル、アリル、1−メチルアリル、1
または2または3−ブテニル、1または2または3また
は4−ペンテニル、1または2または3または4または
5−ヘキセニルなど)、低級アルキニル(たとえばエチ
ニル、1−プロピニル、プロパルギル、1−メチルプロ
パルギル、1または2または3−ブチニル、1または2
または3または4−ペンチニル、1または2または3ま
たは4または5−ヘキシニルなど)、上に例示した低級
アルコキシなどが挙げられる。好適な「複素環基」とし
ては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子などのヘテロ原子
を少なくとも1個含有する単環式または多環式飽和また
は不飽和複素環基が挙げられる。好ましい複素環基とし
ては、1〜4個の窒素原子を含有する3〜8員、より好
ましくは5または6員不飽和複素単環基、たとえばピロ
リル、ピロリニル、イミダゾリル、イミダゾリニル、ピ
ラゾリル、ピラゾリニル、ピリジル、ピリジルN−オキ
シド、ピリジニオ、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピ
リジル[たとえば1,2,3,6−テトラヒドロピリジ
ルなど]、ピリミジニル、ピリミジニオ、ピラジニル、
ピラジニオ、ピリダジニル、ピリダジニオ、トリアジニ
ル[たとえば1,3,5−トリアジニル、1,2,4−
トリアジニル、1,2,3−トリアジニル]、テトラヒ
ドロトリアジニル[たとえば1,2,5,6−テトラヒ
ドロ−1,2,4−トリアジニル、1,4,5,6−テ
トラヒドロ−1,2,4−トリアジニルなど]、トリア
ジニオ、トリアゾリル[たとえば1H−1,2,4−ト
リアゾリル、1H−1,2,3−トリアゾリル、2H−
1,2,3−トリアゾリルなど]、トリアゾリオ、テト
ラジニル、テトラジニオ、テトラゾリル[たとえば1H
−テトラゾリル、2H−テトラゾリルなど]、テトラゾ
リオなど;1〜4個の窒素原子を含有する3〜8員、よ
り好ましくは4〜6員飽和複素単環基、たとえばアゼチ
ジニル、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジ
ノ、ピペラジニルなど;
Suitable "substituents" in the expression "aryl optionally having one or more suitable substituents" include lower alkyl, halogen (eg chlorine, bromine, iodine, etc.) exemplified above. Fluorine), hydroxy, protected hydroxy as exemplified above, lower alkenyl (eg vinyl, 1-propenyl, allyl, 1-methylallyl, 1
Or 2 or 3-butenyl, 1 or 2 or 3 or 4-pentenyl, 1 or 2 or 3 or 4 or 5-hexenyl, etc.), lower alkynyl (eg ethynyl, 1-propynyl, propargyl, 1-methylpropargyl, 1 or 2 or 3-butynyl, 1 or 2
Or 3 or 4-pentynyl, 1 or 2 or 3 or 4 or 5-hexynyl, etc.), and the lower alkoxy and the like exemplified above. Suitable "heterocyclic group" includes monocyclic or polycyclic saturated or unsaturated heterocyclic group containing at least one hetero atom such as oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom and the like. Preferred heterocyclic groups are 3- to 8-membered, more preferably 5- or 6-membered unsaturated heteromonocyclic groups containing 1 to 4 nitrogen atoms, such as pyrrolyl, pyrrolinyl, imidazolyl, imidazolinyl, pyrazolyl, pyrazolinyl, pyridyl. , Pyridyl N-oxide, pyridinio, dihydropyridyl, tetrahydropyridyl [eg 1,2,3,6-tetrahydropyridyl etc.], pyrimidinyl, pyrimidinio, pyrazinyl,
Pyrazinio, pyridazinyl, pyridazinio, triazinyl [eg 1,3,5-triazinyl, 1,2,4-
Triazinyl, 1,2,3-triazinyl], tetrahydrotriazinyl [eg 1,2,5,6-tetrahydro-1,2,4-triazinyl, 1,4,5,6-tetrahydro-1,2,4 -Triazinyl, etc.], triazinio, triazolyl [eg 1H-1,2,4-triazolyl, 1H-1,2,3-triazolyl, 2H-
1,2,3-triazolyl, etc.], triazolio, tetrazinyl, tetrazinio, tetrazolyl [eg 1H
-Tetrazolyl, 2H-tetrazolyl and the like], tetrazlio and the like; 3- to 8-membered, more preferably 4- to 6-membered saturated heteromonocyclic group containing 1 to 4 nitrogen atoms, such as azetidinyl, pyrrolidinyl, imidazolidinyl, piperidino, piperazinyl Such;

【0011】1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子
とを含有する3〜8員、より好ましくは5または6員不
飽和複素単環基、たとえばチアゾリル、チアゾリオ、イ
ソチアゾリル、チアジアゾリル[たとえば1,2,3−
チアジアゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、1,
3,4−チアジアゾリル、1,2,5−チアジアゾリ
ル]、チアジアゾリオ、チアゾリニル、ジヒドロチアジ
ニルなど;などが挙げられる。「1個以上の適当な置換
基を有していてもよい複素環基」なる表現中の好適な置
換基としては、1個以上の適当な置換基を有していても
よい低級アルキル、低級アルケニル(たとえばビニル、
1−プロペニル、アリル、1−メチルアリル、1または
2または3−ブテニル、1または2または3または4−
ペンテニル、1または2または3または5−ヘキセニル
など)、低級アルキニル(たとえばエチニル、1−プロ
ピニル、プロパルギル、1−メチルプロパルギル、1ま
たは2または3−ブチニル、1または2または3または
4−ペンチニル、1または2または3または4または5
−ヘキシニルなど)、イミノ保護基、などが挙げられ
る。「1個以上の適当な置換基を有していてもよい低級
アルキル」なる表現中の好適な置換基としては、酸残基
などが挙げられる。好適な「酸残基」としては、アジ
ド、ハロゲン(たとえば塩素、臭素、フッ素、ヨウ素)
などの無機酸残基ならびにアシルオキシ(たとえばベン
ゼンスルホニルオキシ、トシルオキシ、メタンスルホニ
ルオキシ、アセトキシなど)などの有機酸残基が挙げら
れる。好適な「イミノ保護基」としては、カルボン酸、
炭酸、スルホン酸およびカルバミン酸から導かれるカル
バモイル、脂肪族アシル、芳香族アシル、複素環アシル
および芳香族基置換または複素環基置換脂肪族アシルが
挙げられる。
A 3- to 8-membered, more preferably 5- or 6-membered unsaturated heteromonocyclic group containing 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms, for example, thiazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, thiadiazolyl [ For example 1,2,3-
Thiadiazolyl, 1,2,4-thiadiazolyl, 1,
3,4-thiadiazolyl, 1,2,5-thiadiazolyl], thiadiazolio, thiazolinyl, dihydrothiazinyl and the like; and the like. Suitable substituents in the expression "heterocyclic group optionally having one or more suitable substituents" include lower alkyl optionally having one or more suitable substituents, lower Alkenyl (eg vinyl,
1-propenyl, allyl, 1-methylallyl, 1 or 2 or 3-butenyl, 1 or 2 or 3 or 4-
Pentenyl, 1 or 2 or 3 or 5-hexenyl, etc., lower alkynyl (eg ethynyl, 1-propynyl, propargyl, 1-methylpropargyl, 1 or 2 or 3-butynyl, 1 or 2 or 3 or 4-pentynyl, 1 Or 2 or 3 or 4 or 5
-Hexynyl, etc.), imino protecting groups, and the like. Suitable substituents in the expression "lower alkyl optionally having one or more suitable substituents" include acid residues and the like. Suitable "acid residue" includes azide, halogen (eg chlorine, bromine, fluorine, iodine).
And the like, as well as organic acid residues such as acyloxy (eg, benzenesulfonyloxy, tosyloxy, methanesulfonyloxy, acetoxy, etc.). Suitable "imino protecting group" is carboxylic acid,
Examples include carbamoyl derived from carbonic acid, sulfonic acid and carbamic acid, aliphatic acyl, aromatic acyl, heterocyclic acyl and aromatic group-substituted or heterocyclic group-substituted aliphatic acyl.

【0012】脂肪族アシルとしては、非環式または環式
で飽和または不飽和のもの、たとえば低級アルカノイル
(たとえばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイ
ル、ヘキサノイルなど)などのアルカノイル、低級アル
キルスルホニル(たとえばメシル、エチルスルホニル、
プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチル
スルホニル、イソブチルスルホニル、ペンチルスルホニ
ル、ヘキシルスルホニルなど)などのアルキルスルホニ
ル、カルバモイル、N−アルキルカルバモイル(たとえ
ばメチルカルバモイル、エチルカルバモイルなど)、低
級アルコキシカルボニル(たとえばメトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブト
キシカルボニル、t−ブトキシカルボニルなど)などの
アルコキシカルボニル、低級アルケニルオキシカルボニ
ル(たとえばビニルオキシカルボニル、アリルオキシカ
ルボニルなど)などのアルケニルオキシカルボニル、低
級アルケノイル(たとえばアクリロイル、メタクリロイ
ル、クロトノイルなど)などのアルケノイル、シクロ
(低級)アルカンカルボニル(たとえばシクロプロパン
カルボニル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサ
ンカルボニルなど)などのシクロアルカンカルボニルな
どが挙げられる。芳香族基置換脂肪族アシルとしては、
フェニル(低級)アルコキシカルボニル(たとえばベン
ジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニルな
ど)などのアル(低級)アルコキシカルボニルなどが挙
げられる。これらのアシル基は、さらに、ニトロなどの
1個以上の適当な置換基によって置換されていてもよ
く、かかる置換基を有する好ましいアシルとしては、ニ
トロアル(低級)アルコキシカルボニル(たとえばニト
ロベンジルオキシカルボニルなど)などが挙げられる。
The aliphatic acyl includes acyclic or cyclic saturated or unsaturated alkanoyl such as lower alkanoyl (eg, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, pivaloyl, hexanoyl, etc.). , Lower alkylsulfonyl (eg, mesyl, ethylsulfonyl,
Propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, butylsulfonyl, isobutylsulfonyl, pentylsulfonyl, hexylsulfonyl, etc., alkylsulfonyl, carbamoyl, N-alkylcarbamoyl (eg, methylcarbamoyl, ethylcarbamoyl, etc.), lower alkoxycarbonyl (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl). , Alkoxycarbonyl such as propoxycarbonyl, butoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, etc., alkenyloxycarbonyl such as lower alkenyloxycarbonyl (eg, vinyloxycarbonyl, allyloxycarbonyl, etc.), lower alkenoyl (eg, acryloyl, methacryloyl, crotonoyl, etc.) Such as alkenoyl, cyclo (lower) alkanecar Sulfonyl (e.g. cyclopropanecarbonyl, cyclopentanecarbonyl, cyclohexane carbonyl) and the like cycloalkanecarbonyl such. As an aromatic group-substituted aliphatic acyl,
Examples include alk (lower) alkoxycarbonyl such as phenyl (lower) alkoxycarbonyl (eg, benzyloxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl, etc.) and the like. These acyl groups may be further substituted with one or more appropriate substituents such as nitro, and preferable acyls having such a substituent include nitroar (lower) alkoxycarbonyl (eg nitrobenzyloxycarbonyl etc.). ) And the like.

【0013】目的化合物(I)の好ましい具体化例は、
次の通りである:R1 がカルボキシ、または保護された
カルボキシ[より好ましくはエステル化されたカルボキ
シ、とくに好ましくは低級アルケニルオキシカルボニ
ル]であり、R2 がヒドロキシ(低級)アルキル、また
は保護されたヒドロキシ(低級)アルキル[より好まし
くはトリ(低級)アルキルシリルオキシ(低級)アルキ
ル]であり、R3 が水素または低級アルキルであり、R
4 が低級アルキル、または1個以上(より好ましくは1
〜3個)の適当な置換基を有していてもよいアリール
[より好ましくは低級アルコキシを有していてもよいフ
ェニル]であるもの。プロセス1に用いる化合物(II
I)の好ましい具体化例は、次の通りである:R1 が低
級アルキル、R2 が低級アルコキシ、およびR3 が低級
アルコキシであるか;または、R1 がアリール(より好
ましくはフェニル)、R2 が低級アルコキシ、およびR
3 が低級アルコキシであるか;またはR1 がアリール
(より好ましくはフェニル)、R2 がアリール(より好
ましくはフェニル)、およびR3 が低級アルコキシであ
るもの。本発明の目的化合物(I)の製造法を、以下に
詳細に説明する。
Preferred embodiments of the object compound (I) are as follows:
Is as follows: R 1 is carboxy, or protected carboxy [more preferably esterified carboxy, particularly preferably lower alkenyloxycarbonyl], and R 2 is hydroxy (lower) alkyl, or protected Hydroxy (lower) alkyl [more preferably tri (lower) alkylsilyloxy (lower) alkyl], R 3 is hydrogen or lower alkyl, R 3
4 is lower alkyl, or 1 or more (more preferably 1
~ 3) aryl optionally having suitable substituents [more preferably phenyl optionally having lower alkoxy]. Compound used in Process 1 (II
Preferred embodiments of I) are as follows: R 1 is lower alkyl, R 2 is lower alkoxy, and R 3 is lower alkoxy; or R 1 is aryl (more preferably phenyl), R 2 is lower alkoxy, and R
3 is lower alkoxy; or R 1 is aryl (more preferably phenyl), R 2 is aryl (more preferably phenyl), and R 3 is lower alkoxy. The method for producing the object compound (I) of the present invention is described in detail below.

【0014】プロセス1 化合物(IV)またはその塩は、化合物(II)または
その塩を化合物(III)と反応させることにより製造
できる。反応は、通常、アセトン、ジオキサン、アセト
ニトリル、ヘキサン、クロロホルム、塩化メチレン、塩
化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、反応に悪影響を及ぼさない
その他の任意の有機溶媒など、慣用の溶媒中で実施す
る。反応温度はとくに限定されないが、通常は、室温な
いし加熱下で反応を実施する。
Process 1 Compound (IV) or a salt thereof can be prepared by reacting compound (II) or a salt thereof with compound (III). The reaction is usually acetone, dioxane, acetonitrile, hexane, chloroform, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N, N.
Carried out in a conventional solvent, such as dimethylformamide, dimethylsulfoxide, benzene, toluene, xylene, any other organic solvent which does not adversely influence the reaction. The reaction temperature is not particularly limited, but the reaction is usually performed at room temperature or under heating.

【0015】プロセス2 化合物(I)またはその塩は、化合物(IV)またはそ
の塩を環化反応に付すことにより製造できる。反応は、
通常、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロ
ホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフ
ラン、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、キシレン、
反応に悪影響を及ぼさないその他の任意の有機溶媒な
ど、慣用の溶媒中で実施する。反応温度はとくに限定さ
れないが、通常は、加温ないし加熱下に反応を実施す
る。
Process 2 Compound (I) or its salt can be prepared by subjecting compound (IV) or its salt to a cyclization reaction. The reaction is
Usually, acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, benzene, toluene, xylene,
It is carried out in a conventional solvent, such as any other organic solvent that does not adversely influence the reaction. The reaction temperature is not particularly limited, but usually the reaction is carried out under heating or heating.

【0016】プロセス3− 化合物(V)またはその塩は、化合物(I)またはその
塩を酸化反応に付すことにより製造できる。本酸化は、
常法により、たとえば、無機過酸またはその塩(たとえ
ば過ヨウ素酸、過硫酸、それらのナトリウム塩またはカ
リウム塩など)、有機過酸またはその塩(たとえば過安
息香酸、m−クロロ過安息香酸、過ギ酸、過酢酸、クロ
ロ過酢酸、トリフルオロ過酢酸、それらのナトリウム塩
またはカリウム塩など)、オゾン、過酸化水素、ペルオ
キソホウ酸塩(たとえばペルオキソホウ酸ナトリウムな
ど)、亜塩素酸塩(たとえば亜塩素酸ナトリウムな
ど)、亜臭素酸塩(たとえば亜臭素酸ナトリウムな
ど)、次亜塩素酸塩(たとえば次亜塩素ナトリウムな
ど)などの酸化剤を用いて、実施する。反応は、通常、
水、アルコール[たとえばメタノール、エタノールな
ど]、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロ
ホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフ
ラン、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、キシレン、
反応に悪影響を及ぼさないその他の任意の有機溶媒な
ど、慣用の溶媒中で実施する。反応温度はとくに限定さ
れず、通常、冷却ないし加熱下に反応を実施する。本酸
化は、触媒の存在下に実施してもよい。好適な触媒とし
ては、式:
Process 3-Compound (V) or a salt thereof can be prepared by subjecting compound (I) or a salt thereof to an oxidation reaction. The main oxidation is
By a conventional method, for example, an inorganic peracid or a salt thereof (for example, periodic acid, persulfuric acid, a sodium salt or potassium salt thereof, etc.), an organic peracid or a salt thereof (for example, perbenzoic acid, m-chloroperbenzoic acid, Performic acid, peracetic acid, chloroperacetic acid, trifluoroperacetic acid, their sodium or potassium salts, etc.), ozone, hydrogen peroxide, peroxoborates (eg sodium peroxoborate), chlorites (eg It is carried out using an oxidizing agent such as sodium chlorite, etc., bromate (eg, sodium bromate, etc.), hypochlorite (eg, sodium hypochlorite, etc.). The reaction is usually
Water, alcohol [eg methanol, ethanol, etc.], acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, benzene, toluene, xylene,
It is carried out in a conventional solvent, such as any other organic solvent that does not adversely influence the reaction. The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating. The main oxidation may be carried out in the presence of a catalyst. Suitable catalysts have the formula:

【化20】 (式中、R10、R11、R12、R13、R14およびR15は各
々水素または有機基、Aは低級アルキレン、Mは金属、
Xはハロゲンをそれぞれ表わす)の錯体などの錯体触媒
が挙げられる。好適なハロゲンとしては、塩素、臭素、
フッ素およびヨウ素が挙げられる。好適な「低級アルキ
レン」としては、メチレン、エチレン、トリメチレン、
テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレンなど
の、炭素原子数1〜6の直鎖状または分枝鎖状のものが
挙げられる。好適な有機基としては、上に例示したもの
を挙げることができる。好適な金属としては、マンガ
ン、クロムなどが挙げられる。
[Chemical 20] (In the formula, R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 and R 15 are each hydrogen or an organic group, A is a lower alkylene, M is a metal,
X is each a halogen) and a complex catalyst such as a complex. Suitable halogens include chlorine, bromine,
Fluorine and iodine are mentioned. Suitable "lower alkylene" includes methylene, ethylene, trimethylene,
Examples thereof include linear or branched ones having 1 to 6 carbon atoms such as tetramethylene, pentamethylene and hexamethylene. Suitable organic groups may include those exemplified above. Suitable metals include manganese, chromium and the like.

【0017】プロセス3− 化合物(Ia)またはその塩は、化合物(VI)または
その塩を化合物(V)またはその塩と反応させることに
より製造できる。反応は、通常、水、アルコール[たと
えばメタノール、エタノールなど]、アセトン、ジオキ
サン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、
塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,
N−ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジ
メチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、キシレン、
反応に悪影響を及ぼさないその他の任意の有機溶媒な
ど、慣用の溶媒中で実施する。反応温度はとくに限定さ
れず、通常、冷却ないし加熱下に反応を実施する。反応
は、通常、塩基の存在下に実施する。好適な塩基として
は、アルカリ金属水酸化物(たとえば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなど)、アルカリ土類金属水酸化物
(たとえば水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムな
ど)、アルカリ金属水素化物(たとえば水素化ナトリウ
ム、水素化カリウムなど)、アルカリ土類金属水素化物
(たとえば水素化カルシウムなど)、アルカリ金属アル
コキシド(たとえばナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウムt−ブトキシドなど)、アルカリ
金属炭酸塩(たとえば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムな
ど)、アルカリ土類金属炭酸塩(たとえば炭酸マグネシ
ウム、炭酸カルシウムなど)、アルカリ金属重炭酸塩
(たとえば重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなど)、
低級アルキルアルカリ金属(たとえばブチルリチウム、
t−ブチルリチウムなど)、アルカリ金属ジ(低級)ア
ルキルアミド(たとえばリチウムジメチルアミド、リチ
ウムジエチルアミド、リチウムジイソプロピルアミドな
ど)、ジ(低級)アルキルアミン(たとえばジメチルア
ミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチ
ルアミンなど)、トリ(低級)アルキルアミン(たとえ
ばトリメチルアミン、トリエチルアミン、N,N−ジイ
ソプロピル−N−エチルアミンなど)、ピリジン、ピコ
リン、ルチジン、N,N−ジ(低級)アルキルアミノピ
リジン(たとえばN,N−ジメチルアミノピリジンな
ど)、キノリン、N−低級アルキルモルホリン(たとえ
ばN−メチルモルホリンなど)、N,N−ジ(低級)ア
ルキルベンジルアミン(たとえばN,N−ジメチルベン
ジルアミンなど)などが挙げられる。この発明をより詳
細に説明するために、以下に実施例を示す。
Process 3-Compound (Ia) or a salt thereof can be prepared by reacting compound (VI) or a salt thereof with compound (V) or a salt thereof. The reaction is usually carried out with water, alcohol [eg methanol, ethanol, etc.], acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride,
Ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N,
N-dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, benzene, toluene, xylene,
It is carried out in a conventional solvent, such as any other organic solvent that does not adversely influence the reaction. The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating. The reaction is usually performed in the presence of a base. Suitable bases include alkali metal hydroxides (eg sodium hydroxide, potassium hydroxide etc.), alkaline earth metal hydroxides (eg magnesium hydroxide, calcium hydroxide etc.), alkali metal hydrides (eg hydrides). Sodium, potassium hydride etc.), alkaline earth metal hydrides (eg calcium hydride etc.), alkali metal alkoxides (eg sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide etc.), alkali metal carbonates (eg sodium carbonate). , Potassium carbonate, etc.), alkaline earth metal carbonates (eg magnesium carbonate, calcium carbonate etc.), alkali metal bicarbonates (eg sodium bicarbonate, potassium bicarbonate etc.),
Lower alkyl alkali metal (eg butyl lithium,
t-butyllithium etc.), alkali metal di (lower) alkylamides (eg lithium dimethylamide, lithium diethylamide, lithium diisopropylamide etc.), di (lower) alkylamines (eg dimethylamine, diethylamine, diisopropylamine, dibutylamine etc.) , Tri (lower) alkylamines (eg trimethylamine, triethylamine, N, N-diisopropyl-N-ethylamine etc.), pyridine, picoline, lutidine, N, N-di (lower) alkylaminopyridines (eg N, N-dimethylamino). Pyridine etc.), quinoline, N-lower alkylmorpholine (eg N-methylmorpholine etc.), N, N-di (lower) alkylbenzylamine (eg N, N-dimethylbenzylamine etc.) And the like. In order to describe the present invention in more detail, examples will be shown below.

【0018】実施例1 (3S,4S)−1−(アリルオキシオキサリル)−3
−[(1R)−1−(第三級ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル]−4−[(1R)−1−{(メチルチオ)
チオカルボニル}エチル]−2−オキソアゼチジン(2
30mg)のn−ヘキサン(5ml)溶液に、ジエトキ
シ(メチル)ホスフィン(500mg)を加え、混合物
を室温で1時間撹拌する。減圧下に溶媒を除去し、残留
物をシリカゲルを用いてのフラッシュクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:3、v/v)によ
り精製して、(3S,4S)−1−[1−(アリルオキ
シカルボニル)−1−{ジエトキシ(メチル)ホスホラ
ンジイル}メチル]−3−[(1R)−1−(第三級ブ
チルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−[(1R)
−1−{(メチルチオ)チオカルボニル}エチル]−2
−オキソアゼチジン(289mg)を黄色油状物として
得る。 IR (ニート) : 1765, 1745, 1405, 1370, 1250, 1185 c
m-1
Example 1 (3S, 4S) -1- (allyloxyoxalyl) -3
-[(1R) -1- (tertiarybutyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(1R) -1-{(methylthio)
Thiocarbonyl} ethyl] -2-oxoazetidine (2
To a solution of 30 mg) in n-hexane (5 ml) is added diethoxy (methyl) phosphine (500 mg) and the mixture is stirred at room temperature for 1 hour. The solvent was removed under reduced pressure and the residue was purified by flash chromatography on silica gel (ethyl acetate: n-hexane = 1: 3, v / v) to give (3S, 4S) -1- [1 -(Allyloxycarbonyl) -1- {diethoxy (methyl) phosphorandiyl} methyl] -3-[(1R) -1- (tertiarybutyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(1R)
-1-{(methylthio) thiocarbonyl} ethyl] -2
-Oxoazetidine (289 mg) is obtained as a yellow oil. IR (neat): 1765, 1745, 1405, 1370, 1250, 1185 c
m -1

【0019】実施例2 実施例1と同様にして、次の化合物を得る。 (1) (3S,4S)−1−[1−(アリルオキシカ
ルボニル)−1−{ジエトキシ(フェニル)ホスホラン
ジイル}メチル]−3−[(1R)−1−(第三級ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−[(1R)−
1−{(メチルチオ)チオカルボニル}エチル]−2−
オキソアゼチジン IR(ニート): 1750, 1740, 1660, 1625, 1435, 1370,
1250 cm-1 (2) (3S,4S)−1−[1−(アリルオキシカ
ルボニル)−1−{ジプロポキシ(エチル)ホスホラン
ジイル}メチル]−3−[(1R)−1−(第三級ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−[(1R)−
1−{(メチルチオ)チオカルボニル}エチル]−2−
オキソアゼチジン IR(ニート): 1750, 1740, 1625, 1450, 1250, 1000 c
m-1
Example 2 In the same manner as in Example 1, the following compound is obtained. (1) (3S, 4S) -1- [1- (allyloxycarbonyl) -1- {diethoxy (phenyl) phosphorandiyl} methyl] -3-[(1R) -1- (tertiary butyldimethylsilyl) Oxy) ethyl] -4-[(1R)-
1-{(methylthio) thiocarbonyl} ethyl] -2-
Oxoazetidine IR (neat): 1750, 1740, 1660, 1625, 1435, 1370,
1250 cm -1 (2) (3S, 4S) -1- [1- (allyloxycarbonyl) -1- {dipropoxy (ethyl) phosphorandiyl} methyl] -3-[(1R) -1- (third -Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(1R)-
1-{(methylthio) thiocarbonyl} ethyl] -2-
Oxoazetidine IR (neat): 1750, 1740, 1625, 1450, 1250, 1000 c
m -1

【0020】実施例3 (3S,4S)−1−(アリルオキシオキサリル)−3
−[(1R)−1−(第三級ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル]−4−[(1R)−1−{(メチルチオ)
チオカルボニル}エチル]−2−オキソアゼチジン(2
30mg)とジエトキシ(メチル)ホスフイン(1m
l)とのn−ヘキサン(10ml)中混合物を室温で1
時間撹拌する。減圧下に溶媒を除去して、(3S,4
S)−1−[1−(アリルオキシカルボニル)−1−
{ジエトキシ(メチル)ホスホランジイル}メチル]−
3−[(1R)−1−(第三級ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル]−4−[(1R)−1−{(メチルチ
オ)チオカルボニル}エチル]−2−オキソアゼチジン
を含有する残留物を得る。この残留物をキシレン(5m
l)に溶解させる。溶液を還流下に3時間加熱し、蒸発
により濃縮する。残留物をシリカゲルフラッシュクロマ
トグラフィー(ジエチルエーテル:n−ヘキサン=1:
2、v/v)により精製して、(4R,5S,6S)−
6−[(1R)−1−(第三級ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル]−4−メチル−3−メチルチオ−7−オ
キソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エ
ン−2−カルボン酸アリル(180mg)を得る。 NMR (CDCl3,δ) : 0.08 (6H,s), 0.88 (9H,s), 1.23 (3
H,d,J=6.7Hz), 1.27(3H,d,J=5.9Hz), 2.39 (3H,s), 3.1
9 (1H,dd,J=6.5Hz および 2.5Hz),3.25-3.40 (1H,m),
4.14 (1H,dd,J=9.2Hz および 2.5Hz), 4.16-4.29(1H,
m), 4.63-4.85 (2H,m), 5.20-5.49 (2H,m), 5.86-6.06
(1H,m) ジエトキシ(メチル)ホスフィンの代りにジエトキシ
(フェニル)ホスフィンを用いて、同じ化合物を得た。
Example 3 (3S, 4S) -1- (allyloxyoxalyl) -3
-[(1R) -1- (tertiarybutyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(1R) -1-{(methylthio)
Thiocarbonyl} ethyl] -2-oxoazetidine (2
30 mg) and diethoxy (methyl) phosphine (1 m
1) in n-hexane (10 ml) at room temperature.
Stir for hours. The solvent was removed under reduced pressure to give (3S, 4
S) -1- [1- (allyloxycarbonyl) -1-
{Diethoxy (methyl) phosphorandiyl} methyl]-
A residue containing 3-[(1R) -1- (tert-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(1R) -1-{(methylthio) thiocarbonyl} ethyl] -2-oxoazetidine is obtained. . This residue is xylene (5m
Dissolve in l). The solution is heated under reflux for 3 hours and concentrated by evaporation. The residue was subjected to silica gel flash chromatography (diethyl ether: n-hexane = 1: 1).
2, v / v) to obtain (4R, 5S, 6S)-
6-[(1R) -1- (tertiarybutyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-methyl-3-methylthio-7-oxo-1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-2 -Allyl carboxylate (180 mg) is obtained. NMR (CDCl 3 , δ): 0.08 (6H, s), 0.88 (9H, s), 1.23 (3
H, d, J = 6.7Hz), 1.27 (3H, d, J = 5.9Hz), 2.39 (3H, s), 3.1
9 (1H, dd, J = 6.5Hz and 2.5Hz), 3.25-3.40 (1H, m),
4.14 (1H, dd, J = 9.2Hz and 2.5Hz), 4.16-4.29 (1H,
m), 4.63-4.85 (2H, m), 5.20-5.49 (2H, m), 5.86-6.06
The same compound was obtained using diethoxy (phenyl) phosphine instead of (1H, m) diethoxy (methyl) phosphine.

【0021】実施例4 (3S,4S)−1−(アリルオキシオキサリル)−3
−[(1R)−1−(第三級ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル]−4−[(1R)−1−{(メチルチオ)
チオカルボニル}エチル]−2−オキソアゼチジン(1
15mg)とジプロポキシ(エチル)ホスフィン(45
1mg)とのn−ヘキサン(3ml)中混合物を室温で
4時間撹拌して、(3S,4S)−1−[1−(アリル
オキシカルボニル)−1−{ジプロポキシ(エチル)ホ
スホランジイル}メチル]−3−[(1R)−1−(第
三級ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−
[(1R)−1−{(メチルチオ)チオカルボニル}エ
チル]−2−オキソアゼチジンを含有する溶液を得る。
この溶液をキシレン(5ml)で希釈し、ディーン・ス
ターク装置を装着して還流下に3時間加熱する。溶媒を
減圧下に除去し、残留物をシリカゲルフラッシュクロマ
トグラフィー(ジエチルエーテル:n−ヘキサン=1:
2、v/v)により精製して、(4R,5S,6S)−
6−[(1R)−1−(第三級ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル]−4−メチル−3−メチルチオ−7−オ
キソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エ
ン−2−カルボン酸アリル(93mg)を得る。 NMR (CDCl3,δ) : 0.08 (6H,s), 0.88 (9H,s), 1.23 (3
H,d,J=6.7Hz), 1.27(3H,d,J=5.9Hz), 2.39 (3H,s), 3.1
9 (1H,dd,J=6.5Hz および 2.5Hz),3.25-3.40 (1H,m),
4.14 (1H,dd,J=9.2Hz および 2.5Hz), 4.16-4.29(1H,
m), 4.63-4.85 (2H,m), 5.20-5.49 (2H,m), 5.86-6.06
(1H,m)
Example 4 (3S, 4S) -1- (allyloxyoxalyl) -3
-[(1R) -1- (tertiarybutyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(1R) -1-{(methylthio)
Thiocarbonyl} ethyl] -2-oxoazetidine (1
15 mg) and dipropoxy (ethyl) phosphine (45
A mixture of 1 mg) in n-hexane (3 ml) was stirred at room temperature for 4 hours to give (3S, 4S) -1- [1- (allyloxycarbonyl) -1- {dipropoxy (ethyl) phosphorandiyl} methyl. ] -3-[(1R) -1- (tert-Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-
A solution containing [(1R) -1-{(methylthio) thiocarbonyl} ethyl] -2-oxoazetidine is obtained.
This solution is diluted with xylene (5 ml) and heated under reflux for 3 hours equipped with a Dean Stark apparatus. The solvent was removed under reduced pressure and the residue was subjected to silica gel flash chromatography (diethyl ether: n-hexane = 1: 1).
2, v / v) to obtain (4R, 5S, 6S)-
6-[(1R) -1- (tertiarybutyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-methyl-3-methylthio-7-oxo-1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-2 -Allyl carboxylate (93 mg) is obtained. NMR (CDCl 3 , δ): 0.08 (6H, s), 0.88 (9H, s), 1.23 (3
H, d, J = 6.7Hz), 1.27 (3H, d, J = 5.9Hz), 2.39 (3H, s), 3.1
9 (1H, dd, J = 6.5Hz and 2.5Hz), 3.25-3.40 (1H, m),
4.14 (1H, dd, J = 9.2Hz and 2.5Hz), 4.16-4.29 (1H,
m), 4.63-4.85 (2H, m), 5.20-5.49 (2H, m), 5.86-6.06
(1H, m)

【0022】実施例5 (3S,4S)−1−(アリルオキシオキサリル)−3
−[(1R)−1−(第三級ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル]−4−[(1R)−1−{(4−イソプロ
ポキシフェニルチオ)チオカルボニル}エチル]−2−
オキソアゼチジン(145mg)のn−ヘキサン(6m
l)溶液に、ジエトキシ(メチル)ホスフィン(500
mg)を加え、混合物を室温で2時間撹拌する。溶媒を
減圧下に除去して、粗製の(3S,4S)−1−[1−
(アリルオキシカルボニル)−1−{ジエトキシ(メチ
ル)ホスホランジイル}メチル]−3−[(1R)−1
−(第三級ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4
−[(1R)−1−{(4−イソプロポキシフェニルチ
オ)チオカルボニル}エチル]−2−オキソアゼチジン
(256mg)を黄色油状物として得る。 IR(ニート): 1740, 1625, 1490, 1365, 1250, 1025 c
m-1 この製品をキシレン(5ml)に溶解させ、溶液を還流
下に2時間加熱する。溶媒を減圧下に除去し、残留物を
シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー(ジエチルエ
ーテル:n−ヘキサン=1:2、v/v)により精製し
て、(4R,5S,6S)−6−[(1R)−1−(第
三級ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−3−(4
−イソプロポキシフェニルチオ)−4−メチル−7−オ
キソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エ
ン−2−カルボン酸アリル(115mg)を得る。 IR(ニート): 1780, 1710 cm-1 NMR (CDCl3,δ) : 0.05 (6H,s), 0.81 (9H,s), 0.89 (3
H,d,J=7Hz), 1.11(3H,d,J=6Hz), 1.30 (6H,d,J=6Hz),
2.76-2.93 (1H,m), 3.07 (1H,dd,J=6Hz および 3Hz),
4.03 (1H,dd,J=9Hz および 3Hz), 4.08-4.19 (1H,m),
4.45-4.58 (1H,m), 4.62-4.83 (2H,m), 5.17-5.47 (2H,
m), 5.84-6.03 (1H,m), 6.82 および 7.40 (各々 2H,d,
J=7Hz) FAB Ms : (M+1) 532.2
Example 5 (3S, 4S) -1- (allyloxyoxalyl) -3
-[(1R) -1- (tert-Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(1R) -1-{(4-isopropoxyphenylthio) thiocarbonyl} ethyl] -2-
Oxoazetidine (145 mg) in n-hexane (6 m
l) In the solution, diethoxy (methyl) phosphine (500
mg) and the mixture is stirred at room temperature for 2 hours. The solvent was removed under reduced pressure to give crude (3S, 4S) -1- [1-
(Allyloxycarbonyl) -1- {diethoxy (methyl) phosphorandiyl} methyl] -3-[(1R) -1
-(Tert-Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4
-[(1R) -1-{(4-isopropoxyphenylthio) thiocarbonyl} ethyl] -2-oxoazetidine (256 mg) is obtained as a yellow oil. IR (neat): 1740, 1625, 1490, 1365, 1250, 1025 c
m -1 This product is dissolved in xylene (5 ml) and the solution is heated under reflux for 2 hours. The solvent was removed under reduced pressure and the residue was purified by silica gel flash chromatography (diethyl ether: n-hexane = 1: 2, v / v) to give (4R, 5S, 6S) -6-[(1R). -1- (tert-Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -3- (4
-Allyl (isopropoxyphenylthio) -4-methyl-7-oxo-1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-2-carboxylate (115 mg) is obtained. IR (neat): 1780, 1710 cm -1 NMR (CDCl 3 ,, δ): 0.05 (6H, s), 0.81 (9H, s), 0.89 (3
H, d, J = 7Hz), 1.11 (3H, d, J = 6Hz), 1.30 (6H, d, J = 6Hz),
2.76-2.93 (1H, m), 3.07 (1H, dd, J = 6Hz and 3Hz),
4.03 (1H, dd, J = 9Hz and 3Hz), 4.08-4.19 (1H, m),
4.45-4.58 (1H, m), 4.62-4.83 (2H, m), 5.17-5.47 (2H,
m), 5.84-6.03 (1H, m), 6.82 and 7.40 (2H, d, respectively
J = 7Hz) FAB Ms: (M + 1) 532.2

【0023】実施例6 実施例1と同様にして、次の化合物を得る。(3S,4
S)−1−[1−(アリルオキシカルボニル)−1−
{ジフェニル(エトキシ)ホスホランジイル}メチル]
−3−[(1R)−1−(第三級ブチルジメチルシリル
オキシ)エチル]−4−[(1R)−1−{(メチルチ
オ)チオカルボニル}エチル]−2−オキソアゼチジン IR(ヌジョール): 1742, 1635 cm-1 FAB Ms : 674.5 (M+1)
Example 6 In the same manner as in Example 1, the following compound is obtained. (3S, 4
S) -1- [1- (allyloxycarbonyl) -1-
{Diphenyl (ethoxy) phosphorandiyl} methyl]
-3-[(1R) -1- (tert-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(1R) -1-{(methylthio) thiocarbonyl} ethyl] -2-oxoazetidine IR (nujol): 1742 , 1635 cm -1 FAB Ms: 674.5 (M + 1)

【0024】実施例7 (3S,4S)−1−(アリルオキシオキサリル)−3
−[(1R)−1−(第三級ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル]−4−[(1R)−1−{(メチルチオ)
チオカルボニル}エチル]−2−オキソアゼチジン(1
06mg)のn−ヘキサン(1.1ml)溶液に、ジフ
ェニル(エトキシ)ホスフィン(0.28ml)および
亜リン酸トリエチル(0.21ml)を加える。混合物
を50℃で9時間撹拌する。溶媒を減圧下に除去して、
(3S,4S)−1−[1−(アリルオキシカルボニ
ル)−1−{ジフェニル(エトキシ)ホスホランジイ
ル}メチル]−3−[(1R)−1−(第三級ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル]−4−[(1R)−1−
{(メチルチオ)チオカルボニル}エチル]−2−オキ
ソアゼチジンと(3S,4S)−1−[1−(アリルオ
キシカルボニル)−1−(トリエトキシホスホランジイ
ル)メチル]−3−[(1R)−1−(第三級ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル]−4−[(1R)−1−
{(メチルチオ)チオカルボニル}エチル]−2−オキ
ソアゼチジンとの混合物(HPLCによれば4.24:
1)を得る。この混合物をキシレン(2.1ml)に溶
解させ、溶液を還流下に8.5時間加熱する。溶媒を減
圧下に除去し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(10%酢酸エチル−n−ヘキサン)により精製
して、(4R,5S,6S)−6−[(1R)−1−
(第三級ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−
メチル−3−メチルチオ−7−オキソ−1−アザビシク
ロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸ア
リル(51mg)を得る。
Example 7 (3S, 4S) -1- (allyloxyoxalyl) -3
-[(1R) -1- (tertiarybutyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(1R) -1-{(methylthio)
Thiocarbonyl} ethyl] -2-oxoazetidine (1
To a solution of 06 mg) in n-hexane (1.1 ml) is added diphenyl (ethoxy) phosphine (0.28 ml) and triethyl phosphite (0.21 ml). The mixture is stirred at 50 ° C. for 9 hours. The solvent was removed under reduced pressure,
(3S, 4S) -1- [1- (allyloxycarbonyl) -1- {diphenyl (ethoxy) phosphorandiyl} methyl] -3-[(1R) -1- (tertiary butyldimethylsilyloxy) ethyl ] -4-[(1R) -1-
{(Methylthio) thiocarbonyl} ethyl] -2-oxoazetidine and (3S, 4S) -1- [1- (allyloxycarbonyl) -1- (triethoxyphosphorandiyl) methyl] -3-[(1R)- 1- (tertiary butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(1R) -1-
Mixture with {(methylthio) thiocarbonyl} ethyl] -2-oxoazetidine (4.24 according to HPLC:
1) is obtained. This mixture is dissolved in xylene (2.1 ml) and the solution is heated under reflux for 8.5 hours. The solvent was removed under reduced pressure and the residue was purified by silica gel column chromatography (10% ethyl acetate-n-hexane) to give (4R, 5S, 6S) -6-[(1R) -1-
(Tertiary butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-
Methyl-3-methylthio-7-oxo-1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-2-carboxylate allyl (51 mg) is obtained.

【0025】実施例8 (3S,4S)−1−[1−(アリルオキシカルボニ
ル)−1−{ジフェニル(エトキシ)ホスホランジイ
ル}メチル]−3−[(1R)−1−(第三級ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル]−4−[(1R)−1−
{(メチルチオ)チオカルボニル}エチル]−2−オキ
ソアゼチジン(270mg)をキシレン(5.4ml)
に溶解させ、溶液を還流下に9.5時間加熱する。溶媒
を減圧下に除去し、残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(10%酢酸エチル−n−ヘキサン)により
精製して、(4R,5S,6S)−6−[(1R)−1
−(第三級ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4
−メチル−3−メチルチオ−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
アリル(156mg)を得る。
Example 8 (3S, 4S) -1- [1- (allyloxycarbonyl) -1- {diphenyl (ethoxy) phosphorandiyl} methyl] -3-[(1R) -1- (tertiary Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(1R) -1-
{(Methylthio) thiocarbonyl} ethyl] -2-oxoazetidine (270 mg) was added to xylene (5.4 ml).
And heated under reflux for 9.5 hours. The solvent was removed under reduced pressure and the residue was purified by silica gel column chromatography (10% ethyl acetate-n-hexane) to give (4R, 5S, 6S) -6-[(1R) -1.
-(Tert-Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4
-Allyl 3-methyl-3-methylthio-7-oxo-1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-2-carboxylate (156 mg) is obtained.

【0026】実施例9 次亜塩素酸ナトリウム(1.9ml)、0.05Mリン
酸水素二ナトリウム(0.75ml)および4.2M炭
酸カリウム(1.5ml)からなる溶液に、氷冷下に、
(4R,5S,6S)−3−メチルチオ−6−[(1
R)−1−(第三級ブチルジメチルシリルオキシ)エチ
ル]−4−メチル−7−オキソ−1−アザビシクロ
[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリ
ル(309mg)とマンガン錯体*(10mg)とのジ
クロロメタン(5ml)溶液を加える。この2相混合物
を0℃で撹拌する。2時間後に、混合物をチオ硫酸ナト
リウム溶液中に注ぎ、ジクロロメタンで抽出し、抽出液
を食塩水で洗う。この溶液にモンモリロナイトK10
(3.0g)を加え、混合物を撹拌し、濾過する。溶液
を減圧下に濃縮して、(4R,5S,6S)−3−
((R)−メチルスルフィニル)−6−[(1R)−1
−(第三級ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4
−メチル−7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.
0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリル(以下R
−異性体と呼ぶ)と(4R,5S,6S)−3−
((S)−メチルスルフィニル)−6−[(1R)−1
−(第三級ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4
−メチル−7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.
0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリル(以下S
−異性体と呼ぶ)との混合物(8.4:1)を得る。R
−異性体は極性がより低い化合物であり、S−異性体は
極性の化合物である。R−異性体とS−異性体との混合
比は、HPLCおよびNMR分析によって求めた。 R−異性体 NMR (CDCl3,δ) : 0.08 (6H,s), 0.88 (9H,s), 1.25 (3
H,d,J=6.1Hz),1.38 (3H,d,J=7.2Hz), 2.86 (3H,s), 3.3
5 (1H,m), 3.65 (1H,m),4.23-4.31 (2H,m), 4.75 (2H,
d,J=5.4Hz), 5.27-5.52 (2H,m), 5.85-6.01(1H,m)* マンガン錯体
Example 9 A solution of sodium hypochlorite (1.9 ml), 0.05 M disodium hydrogen phosphate (0.75 ml) and 4.2 M potassium carbonate (1.5 ml) was cooled with ice. ,
(4R, 5S, 6S) -3-Methylthio-6-[(1
R) -1- (tert-Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-methyl-7-oxo-1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-2-carboxylate allyl (309 mg) Add a solution of manganese complex * (10 mg) in dichloromethane (5 ml). The biphasic mixture is stirred at 0 ° C. After 2 hours, the mixture is poured into sodium thiosulfate solution, extracted with dichloromethane and the extract washed with brine. Montmorillonite K10 was added to this solution.
(3.0 g) is added, the mixture is stirred and filtered. The solution was concentrated under reduced pressure to (4R, 5S, 6S) -3-
((R) -Methylsulfinyl) -6-[(1R) -1
-(Tert-Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4
-Methyl-7-oxo-1-azabicyclo [3.2.
0] allyl hept-2-ene-2-carboxylate (hereinafter R
-Called isomer) and (4R, 5S, 6S) -3-
((S) -Methylsulfinyl) -6-[(1R) -1
-(Tert-Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4
-Methyl-7-oxo-1-azabicyclo [3.2.
0] allyl hept-2-ene-2-carboxylate (hereinafter S
-Mixture with the isomer) is obtained (8.4: 1). R
-Isomer is a less polar compound and S-isomer is a polar compound. The mixing ratio of R-isomer and S-isomer was determined by HPLC and NMR analysis. R-isomer NMR (CDCl 3 , δ): 0.08 (6H, s), 0.88 (9H, s), 1.25 (3
H, d, J = 6.1Hz), 1.38 (3H, d, J = 7.2Hz), 2.86 (3H, s), 3.3
5 (1H, m), 3.65 (1H, m), 4.23-4.31 (2H, m), 4.75 (2H,
d, J = 5.4Hz), 5.27-5.52 (2H, m), 5.85-6.01 (1H, m) * Manganese complex

【化21】 [Chemical 21]

【0027】実施例10 実施例9で得たR−異性体とS−異性体との混合物(2
67mg)を2−プロパンチオールのジメチルアセトア
ミド溶液(3.5g)(0.357ミリモル/g)で溶
解させ、−20℃に冷却する。この溶液に、−20℃
で、トリエチルアミン(0.17ml)を加え、混合物
を0℃で3時間撹拌する。この混合物にトルエンおよび
水を加え、有機相を分離し、水および食塩水で洗い、乾
燥する。溶液を減圧下に濃縮し、残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=
1:9、v/v)により精製して、(4R,5S,6
S)−3−イソプロピルチオ−6−[(1R)−1−
(第三級ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−
メチル−7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]
ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アリル(153m
g)を得る。 IR(ヌジョール): 1770, 1700 cm-1 NMR (CDCl3,δ) : 0.08 (6H,s), 0.89 (9H,s), 1.22-1.
38 (12H,m), 3.20(1H,dd,J=6.1Hz および 2.6Hz), 3.24
-3.42 (2H,m), 4.12-4.29 (2H,m),4.63-4.85 (2H,m),
5.23 (1H,dd,J=10.5Hz および 1.0Hz), 5.44 (1H,dd,J=
17.2Hz および 1.2Hz), 5.86-6.06 (1H,m)
Example 10 A mixture of the R-isomer and the S-isomer obtained in Example 9 (2
67 mg) is dissolved in a solution of 2-propanethiol in dimethylacetamide (3.5 g) (0.357 mmol / g) and cooled to -20 ° C. To this solution, -20 ℃
At, triethylamine (0.17 ml) is added and the mixture is stirred at 0 ° C. for 3 hours. Toluene and water are added to this mixture, the organic phase is separated, washed with water and brine and dried. The solution was concentrated under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate: n-hexane =
1: 9, v / v) and purified (4R, 5S, 6
S) -3-Isopropylthio-6-[(1R) -1-
(Tertiary butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-
Methyl-7-oxo-1-azabicyclo [3.2.0]
Allyl hept-2-ene-2-carboxylate (153m
g) is obtained. IR (nujor): 1770, 1700 cm -1 NMR (CDCl 3 , δ): 0.08 (6H, s), 0.89 (9H, s), 1.22-1.
38 (12H, m), 3.20 (1H, dd, J = 6.1Hz and 2.6Hz), 3.24
-3.42 (2H, m), 4.12-4.29 (2H, m), 4.63-4.85 (2H, m),
5.23 (1H, dd, J = 10.5Hz and 1.0Hz), 5.44 (1H, dd, J =
17.2Hz and 1.2Hz), 5.86-6.06 (1H, m)

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // A61K 31/40 ADZ 9454−4C Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI technical display location // A61K 31/40 ADZ 9454-4C

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式: 【化1】 [式中、R1 はカルボキシまたは保護されたカルボキ
シ、 R2 はヒドロキシ(低級)アルキルまたは保護されたヒ
ドロキシ(低級)アルキル、 R3 は水素または低級アルキル、 R4 は有機基、 R5 、R6 およびR7 は各々低級アルキル、低級アルコ
キシ、1個以上の適当な置換基を有していてもよいアリ
ール、または、式: 【化2】 (式中、R8 およびR9 は各々低級アルキル、または1
個以上の適当な置換基を有していてもよいアリールを表
わす)で示される基をそれぞれ表わす。ただし、R5
6 およびR7 は同時に同一とはならないものとする]
で表わされる化合物またはその塩。
1. A general formula: [Wherein R 1 is carboxy or protected carboxy, R 2 is hydroxy (lower) alkyl or protected hydroxy (lower) alkyl, R 3 is hydrogen or lower alkyl, R 4 is an organic group, R 5 , R 5 6 and R 7 are each lower alkyl, lower alkoxy, aryl optionally having one or more suitable substituents, or a compound of the formula: (In the formula, R 8 and R 9 are each lower alkyl, or 1
Represents an aryl optionally having one or more suitable substituents). However, R 5 ,
R 6 and R 7 shall not be the same at the same time]
A compound represented by or a salt thereof.
【請求項2】 一般式: 【化3】 [式中、 R1 はカルボキシまたは保護されたカルボキシ、 R2 はヒドロキシ(低級)アルキルまたは保護されたヒ
ドロキシ(低級)アルキル、 R3 は水素または低級アルキル、 R4 は有機基、 R5 、R6 およびR7 は各々低級アルキル、低級アルコ
キシ、1個以上の適当な置換基を有していてもよいアリ
ール、または、式: 【化4】 (式中、R8 およびR9 は各々低級アルキル、または1
個以上の適当な置換基を有していてもよいアリールを表
わす)で示される基をそれぞれ表わす。ただし、R5
6 およびR7 は同時に同一とはならないものとする]
で表わされる化合物またはその塩を製造する方法であっ
て、一般式: 【化5】 [式中、R1 、R2 、R3 およびR4 は各々上に定義し
た通りである]で表わされる化合物またはその塩を一般
式: 【化6】 [式中、R5 、R6 およびR7 は各々上に定義した通り
である]の化合物と反応させることを特徴とする前記方
法。
2. A general formula: [Wherein R 1 is carboxy or protected carboxy, R 2 is hydroxy (lower) alkyl or protected hydroxy (lower) alkyl, R 3 is hydrogen or lower alkyl, R 4 is an organic group, R 5 , R 5 6 and R 7 are each lower alkyl, lower alkoxy, aryl optionally having one or more suitable substituents, or a compound of the formula: (In the formula, R 8 and R 9 are each lower alkyl, or 1
Represents an aryl optionally having one or more suitable substituents). However, R 5 ,
R 6 and R 7 shall not be the same at the same time]
A method for producing a compound represented by: or a salt thereof, comprising the general formula: [Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are as defined above] or a salt thereof is represented by the general formula: The above method characterized by reacting with a compound of the formula: wherein R 5 , R 6 and R 7 are each as defined above.
【請求項3】 一般式: 【化7】 [式中、 R1 はカルボキシまたは保護されたカルボキシ、 R2 はヒドロキシ(低級)アルキルまたは保護されたヒ
ドロキシ(低級)アルキル、 R3 は水素または低級アルキル、 R4 は有機基をそれぞれ表わす]で表わされるカルバペ
ネム誘導体またはその塩を製造する方法であって、
(1)一般式: 【化8】 [式中、R1 、R2 、R3 およびR4 は各々上に定義し
た通りであり、 R5 、R6 およびR7 は各々低級アルキル、低級アルコ
キシ、1個以上の適当な置換基を有していてもよいアリ
ール、または、式: 【化9】 (式中、R8 およびR9 は各々低級アルキル、または1
個以上の適当な置換基を有していてもよいアリールを表
わす)で示される基をそれぞれ表わす。ただし、R5
6 およびR7 は同時に同一とはならないものとする]
で表わされる化合物またはその塩を環化反応に付して、
一般式: 【化10】 [式中、R1 、R2 、R3 およびR4 は各々上に定義し
た通りである]で表わされる化合物またはその塩を得る
か、または(2)一般式: 【化11】 [式中、R1 、R2 、R3 およびR4 は各々上に定義し
た通りである]で表わされる化合物またはその塩を一般
式: 【化12】 [式中、R4 aは有機基を表わす。ただし、R4 とR4 a
は同一ではないものとする]で表わされる化合物または
その塩と反応させて、一般式: 【化13】 [式中、R1 、R2 、R3 およびR4 aは各々上に定義し
た通りである]で表わされる化合物またはその塩を得る
ことを特徴とする前記方法。
3. A general formula: [Wherein R 1 represents carboxy or protected carboxy, R 2 represents hydroxy (lower) alkyl or protected hydroxy (lower) alkyl, R 3 represents hydrogen or lower alkyl, and R 4 represents an organic group]. A method for producing the represented carbapenem derivative or a salt thereof, comprising:
(1) General formula: [Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each as defined above and R 5 , R 6 and R 7 are each a lower alkyl, a lower alkoxy and one or more suitable substituents. Aryl which may have or a formula: (In the formula, R 8 and R 9 are each lower alkyl, or 1
Represents an aryl optionally having one or more suitable substituents). However, R 5 ,
R 6 and R 7 shall not be the same at the same time]
By subjecting the compound represented by or a salt thereof to a cyclization reaction,
General formula: A compound represented by the formula: wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each as defined above, or a salt thereof, or (2) the general formula: [Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are as defined above] or a salt thereof is represented by the general formula: [In the formula, R 4 a represents an organic group. Provided that R 4 and R 4 a are not the same], and the compound represented by the general formula: The method as described above, wherein a compound represented by the formula: wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 a are as defined above or a salt thereof is obtained.
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