JPH07271019A - Positive photosensitive planographic printing plate - Google Patents

Positive photosensitive planographic printing plate

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Publication number
JPH07271019A
JPH07271019A JP8372394A JP8372394A JPH07271019A JP H07271019 A JPH07271019 A JP H07271019A JP 8372394 A JP8372394 A JP 8372394A JP 8372394 A JP8372394 A JP 8372394A JP H07271019 A JPH07271019 A JP H07271019A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
absorbing pigment
compound
printing plate
positive photosensitive
positive
Prior art date
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Pending
Application number
JP8372394A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Noguchi
一雄 野口
Iku Fukumuro
郁 福室
Shinichi Matsubara
真一 松原
Mitsuru Sasaki
充 佐々木
Daisuke Kanazawa
大輔 金澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp, Konica Minolta Inc filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP8372394A priority Critical patent/JPH07271019A/en
Publication of JPH07271019A publication Critical patent/JPH07271019A/en
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Abstract

PURPOSE:To improve adhesion property between a grained surface and a photosensitive layer, printing durability and reproducibility for min. dots, to obtain accurate reproducibility for the tone, and to suppress production of film edges by roughening and anodically oxidizing the surface of an aluminum plate, coloring the surface, and applying a specified positive photosensitive compsn. thereon. CONSTITUTION:The surface of an aluminum plate is roughened and anodically oxidized, and then colored with a soln. containing a UV-absorbing pigment having the max. absorption wavelength in 340 to 450nm region so that the absorption in the max. absorption wavelength is increased by >0.01. Then a positive photosensitive compsn. layer containing o-quinone diazide compd. is formed on the surface. It is preferable that the UV-absorbing pigment has the max. absorption wavelength in a shorter wavelength region (which does not give bad influences on a visualized image by exposed). Further, it is preferable that the UV-absorbing pigment is insoluble with the solvent used to form the positive photosensitive resin layer containing o-quinone diazide. by coating.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ポジ型感光性平版印刷
版に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a positive-working photosensitive lithographic printing plate.

【0002】[0002]

【発明の背景】感光性平版印刷版は、親水性支持体上に
感光層を設けたもので、例えば、ポジ型感光性平版印刷
版においては、親水性支持体上に、紫外線等の活性光線
による露光により可溶化するインク受容性感光層が形成
されている。
BACKGROUND OF THE INVENTION A photosensitive lithographic printing plate is one in which a photosensitive layer is provided on a hydrophilic support. For example, in a positive type photosensitive lithographic printing plate, an actinic ray such as ultraviolet rays is provided on the hydrophilic support. An ink-receptive photosensitive layer that is solubilized by exposure to is formed.

【0003】通常、ポジ型感光性平版印刷版の感光層に
は、感光成分としてo−キノンジアジド化合物が用いら
れている。また、通常、皮膜強度とアルカリ可溶性とを
高めるための成分としてアルカリ可溶性樹脂が併用され
る。
Usually, an o-quinonediazide compound is used as a photosensitive component in the photosensitive layer of a positive type photosensitive lithographic printing plate. In addition, an alkali-soluble resin is usually used in combination as a component for increasing the film strength and alkali-solubility.

【0004】上記o−キノンジアジド化合物としては、
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸
エステル化合物及び1,2−ナフトキノン−2−ジアジ
ド−4−スルホン酸エステル化合物が有用なものとして
一般に用いられており、特に、ピロガロールとアルデヒ
ド類またはケトン類との重縮合樹脂等とのエステル化合
物が好ましく使われている。
As the above-mentioned o-quinonediazide compound,
1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid ester compounds and 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid ester compounds are generally used as useful compounds, and particularly, pyrogallol and aldehydes. Alternatively, an ester compound with a polycondensation resin with a ketone or the like is preferably used.

【0005】このようなポジ型感光性平版印刷版は、感
光層に画像露光を施し、次いで現像すると、露光部のイ
ンク受容性である感光層は除去されて親水性支持体の表
面が露出する一方、露光されない部分のインク受容性で
ある感光層は支持体に残留してインキ受容層を形成す
る。平版印刷においては、上記露光部が親水性で、露光
されない部分が親油性であるという性質の差が利用され
る。
In such a positive-working photosensitive lithographic printing plate, when the photosensitive layer is imagewise exposed and then developed, the ink-receptive photosensitive layer in the exposed area is removed and the surface of the hydrophilic support is exposed. On the other hand, the non-exposed portion of the photosensitive layer which is ink-receptive remains on the support to form an ink-receptive layer. In lithographic printing, the difference in the property that the exposed portion is hydrophilic and the unexposed portion is lipophilic is used.

【0006】感光層への画像露光は、ポジ原稿フィルム
をポジ型感光性平版印刷版上に密着させて紫外線を照射
することによって行われているが、粗面化し、陽極酸化
処理されたアルミニウム支持体のように光をよく散乱す
る支持体では、露光した時、特に長時間露光した時に支
持体からの反射によってハレーションを起こし、小点再
現性が著しく悪くなってしまい、忠実な調子再現性が得
られないという問題があった。
Image exposure of the photosensitive layer is carried out by bringing a positive original film into close contact with a positive type photosensitive lithographic printing plate and irradiating it with ultraviolet rays, but it is roughened and anodized on an aluminum support. A support that scatters light well like a body causes halation due to reflection from the support when exposed, especially when exposed for a long time, and reproducibility of small dots remarkably deteriorates. There was a problem that I could not get it.

【0007】忠実な調子再現性を有し、最小網点の再現
がよく、しかも、フィルムエッジ跡を発生しにくくする
ために、陽極酸化処理をしたアルミニウム板の表面を染
色し、340〜450nmの範囲における光吸収極大波
長において、反射濃度DSを、染色しない場合よりも
0.08〜0.4高くすることが特公平5−70813
号公報に開示されているが、効果をより十分に奏させる
ために、染料の付着量を増加し、反射光学濃度DSを高
くすると、露光可視画性、アルミニウム板の表面に形成
されている砂目と感光層との接着性が低下し、検版性と
耐刷力の点で問題がある。また、該公報には、アルミニ
ウム板表面の染色に一塩基酸型酸性染料を使用した場合
には、残色が低減し、画像コントラストが高く、消去作
業性が非常に優れるということも記載されているが、こ
の場合でも、染料の付着量を増加し、反射光学濃度DS
を高くすると、アルミニウム板の表面に形成されている
砂目と感光層との接着性の点に問題が残り、また、残膜
が生じ印刷地汚れが発生する。
[0007] In order to have faithful tone reproducibility, good reproduction of minimum halftone dots, and to prevent film edge marks from occurring easily, the surface of an anodized aluminum plate is dyed to obtain 340 to 450 nm. At the maximum wavelength of light absorption in the range, the reflection density DS is set to be 0.08 to 0.4 higher than that in the case without dyeing.
However, when the amount of dye adhering is increased and the reflection optical density DS is increased in order to bring out the effect more sufficiently, the exposure visibility and the sand formed on the surface of the aluminum plate are disclosed. Adhesion between the eyes and the photosensitive layer is reduced, and there are problems in plate inspection and printing durability. In addition, the publication also states that when a monobasic acid dye is used for dyeing the surface of an aluminum plate, residual color is reduced, image contrast is high, and erasing workability is very excellent. However, even in this case, the deposition amount of the dye is increased and the reflection optical density DS
When the value is increased, a problem remains in the adhesiveness between the grain formed on the surface of the aluminum plate and the photosensitive layer, and a residual film is generated to cause stains on the printing ground.

【0008】また、特公昭59−26479号公報、特
開昭57−118238号公報に開示された技術も感度
低下をもたらすという問題があった。
Further, the techniques disclosed in Japanese Patent Publication No. 59-26479 and Japanese Patent Laid-Open No. 57-118238 also have a problem that sensitivity is lowered.

【0009】そこで、本発明者等が検討したところ、紫
外線吸収染料の替わりに紫外線吸収顔料、特に感光液塗
布溶剤に不溶な紫外線吸収顔料を用いて、粗面化し、次
いで陽極酸化処理をしたアルミニウム板表面を着色する
ことで、砂目上での紫外線吸収機能の配向率を高め、低
濃度(低吸収率)でも最小網点の再現に効果があるため
に露光可視画性に悪影響を及ぼさないようにすることが
でき、また、染料の付着量を増加し、反射光学濃度DS
を高くすると、アルミニウム板の表面に形成されている
砂目と感光層との接着性が低下しくる問題も解決でき、
良好な最小網点の再現性と接着性を得ることができるこ
とを発見した。また、紫外線吸収顔料にアルカリ水溶液
可溶性あるいはアルカリ水溶液膨潤性の化合物を併用す
ると、残色や地汚れが低減し、画像コントラストが高
く、消去作業性が優れているポジ型感光性平版印刷版が
得られることを見出した。
Then, the inventors of the present invention have studied and found that instead of the ultraviolet absorbing dye, an ultraviolet absorbing pigment, particularly an ultraviolet absorbing pigment which is insoluble in the solvent for coating the photosensitive liquid, is used for roughening and then anodizing treatment of aluminum. By coloring the surface of the plate, the orientation rate of the UV absorption function on the grain is increased, and even at low concentration (low absorption rate), it is effective for reproducing the minimum halftone dot, so it does not adversely affect the visibility of exposure. It is also possible to increase the amount of dye deposited and increase the reflection optical density DS.
When the value is increased, the problem that the adhesiveness between the grain formed on the surface of the aluminum plate and the photosensitive layer is lowered can be solved,
It has been found that good minimum dot reproducibility and adhesion can be obtained. Further, when a UV-absorbing pigment is used in combination with an alkaline aqueous solution-soluble or alkaline aqueous solution-swelling compound, residual color and background stain are reduced, image contrast is high, and a positive photosensitive lithographic printing plate excellent in erasing workability is obtained. I found that

【0010】[0010]

【発明の目的】従って、本発明の第1の目的は、アルミ
ニウム板の表面に形成されている砂目と感光層との接着
性が優れ、優れた耐刷力を有し、忠実な調子再現性を有
し、最小網点の再現性がよく、感度低下がないためフィ
ルムエッジ跡が発生しにくいポジ型感光性平版印刷版を
提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, the first object of the present invention is to provide excellent adhesion between the grain formed on the surface of an aluminum plate and the photosensitive layer, to have excellent printing durability, and to reproduce faithful tones. Another object of the present invention is to provide a positive-working photosensitive lithographic printing plate which has good properties, good reproducibility of minimum halftone dots, and is less susceptible to film edge marks because of no deterioration in sensitivity.

【0011】本発明の第2の目的は、支持体の着色を低
濃度に抑えることができ、優れた露光可視画性が得ら
れ、検版性が良好なポジ型感光性平版印刷版を提供する
ことにある。
A second object of the present invention is to provide a positive-working photosensitive lithographic printing plate which can suppress the coloring of the support at a low concentration, can obtain an excellent visible image property of exposure, and has a good plate inspection property. To do.

【0012】本発明の第3の目的は、紫外線吸収顔料と
アルカリ水溶液可溶性あるいはアルカリ水溶液膨潤性の
化合物を併用することにより、残色が低減し、画像コン
トラストが高く、消去作業性が非常に優れ、また、顔料
残膜をインキのタックで版上から除去することができ、
残膜による地汚れが印刷物上に発生しないポジ型感光性
平版印刷版を提供することにある。
A third object of the present invention is to use an ultraviolet absorbing pigment in combination with an alkali aqueous solution-soluble or alkali aqueous solution swelling compound to reduce residual color, increase image contrast and provide excellent erasing workability. , In addition, the residual pigment film can be removed from the plate with ink tack,
An object of the present invention is to provide a positive photosensitive lithographic printing plate in which background stains due to a residual film do not occur on a printed matter.

【0013】[0013]

【発明の構成】本発明の上記目的は、 (1)粗面化し、次いで陽極酸化処理後したアルミニウ
ム板表面を、340〜450nmの範囲に光吸収極大波
長を有する紫外線吸収顔料を含有する溶液により、光吸
収極大波長における光吸収率が0.01以上高くなるよ
うに着色した後、o−キノンジアジド化合物を含有する
ポジ型感光性組成物層を塗設してなることを特徴とする
ポジ型感光性平版印刷版。 (2)紫外線吸収顔料が、o−キノンジアジド化合物を
含有するポジ型感光性組成物層の塗設に用いた溶媒に不
溶な化合物であることを特徴とする上記(1)記載のポ
ジ型感光性平版印刷版。 (3)アルミニウム板表面の着色に、紫外線吸収顔料と
アルカリ水溶液可溶性あるいはアルカリ水溶液膨潤性の
化合物を使用することを特徴とする上記(1)または
(2)記載のポジ型感光性平版印刷版。によって達成す
ることができる。
The above objects of the present invention are: (1) The surface of an aluminum plate which has been roughened and then anodized is treated with a solution containing an ultraviolet absorbing pigment having a maximum light absorption wavelength in the range of 340 to 450 nm. A positive photosensitive composition comprising a positive photosensitive composition layer containing an o-quinonediazide compound after being colored so that the light absorptance at the wavelength of maximum light absorption is 0.01 or higher. Sex lithographic printing plate. (2) The positive photosensitive material according to the above (1), wherein the ultraviolet absorbing pigment is a compound insoluble in the solvent used for coating the positive photosensitive composition layer containing the o-quinonediazide compound. Planographic printing plate. (3) The positive photosensitive lithographic printing plate as described in (1) or (2) above, wherein an ultraviolet absorbing pigment and an alkali aqueous solution-soluble or alkali aqueous solution swelling compound are used for coloring the surface of the aluminum plate. Can be achieved by

【0014】以下、本発明を詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.

【0015】先ず、本発明の340〜450nmの範囲
に光吸収極大波長を有する紫外線吸収顔料について説明
する。
First, the ultraviolet absorbing pigment having a maximum light absorption wavelength in the range of 340 to 450 nm of the present invention will be described.

【0016】紫外線吸収顔料は、光吸収極大波長が34
0〜450nmにあるものであればどのようなものであ
ってもよいが、光吸収極大波長がより短波長側(露光可
視画に悪影響がない)にあるものが好ましい。また、紫
外線吸収顔料は、o−キノンジアジド化合物を含有する
ポジ型感光性組成物層の塗設に用いた溶媒に不溶な化合
物であることが好ましい。
The ultraviolet absorption pigment has a maximum light absorption wavelength of 34
Although any wavelength may be used as long as it is in the range of 0 to 450 nm, it is preferable that the maximum wavelength of light absorption is on the shorter wavelength side (which does not adversely affect the exposed visible image). Further, the ultraviolet absorbing pigment is preferably a compound insoluble in the solvent used for coating the positive photosensitive composition layer containing the o-quinonediazide compound.

【0017】本発明に用いることができる紫外線吸収顔
料の代表的なものとしては、有機系顔料として、β−ナ
フトール系モノアゾ顔料、ナフトールAS系モノアゾ
(ジスアゾ)顔料、アセトアニリド系モノアゾ顔料、ア
セトアニリド系ジスアゾ顔料、ピラゾロン系モノアゾ顔
料、ジスアゾ顔料、縮合系アゾ顔料等を挙げることがで
き、また、無機顔料として、黄鉛、チタンエロー、カド
ミウムエロー、亜鉛華等を挙げることができる。
Typical examples of the ultraviolet absorbing pigment that can be used in the present invention include β-naphthol monoazo pigments, naphthol AS monoazo (disazo) pigments, acetanilide monoazo pigments and acetanilide disazo as organic pigments. Examples thereof include pigments, pyrazolone-based monoazo pigments, disazo pigments, condensed azo pigments, and the like, and examples of inorganic pigments include yellow lead, titanium yellow, cadmium yellow, zinc white, and the like.

【0018】上記の紫外線吸収顔料の中でも、特に、ベ
ンジジンエロー(アセトアニリド系モノアゾ有機顔
料)、チタンエロー(無機顔料)が好ましい。
Among the above ultraviolet absorbing pigments, benzidine yellow (acetanilide type monoazo organic pigment) and titanium yellow (inorganic pigment) are particularly preferable.

【0019】紫外線吸収顔料の平均粒径は特に限定され
るものではないが、平均粒径0.5μm以下のものが好
ましい。
The average particle size of the ultraviolet absorbing pigment is not particularly limited, but an average particle size of 0.5 μm or less is preferable.

【0020】本発明において、紫外線吸収顔料は、単独
で用いることができ、また、2種以上を組み合わせて使
用することもできる。
In the present invention, the ultraviolet absorbing pigment may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0021】アルミニウム板表面を着色するのに用いる
紫外線吸収顔料を含有する溶液は、紫外線吸収顔料を、
例えば、水、有機溶媒(例えば、メチルエチルケトン、
メタノール)等の溶媒に分散させることにより得ること
ができる。
The solution containing the ultraviolet absorbing pigment used for coloring the surface of the aluminum plate contains the ultraviolet absorbing pigment,
For example, water, an organic solvent (for example, methyl ethyl ketone,
It can be obtained by dispersing in a solvent such as methanol).

【0022】紫外線吸収顔料を含有する溶液のpHはp
H2.5〜8.0の範囲にあることが好ましい。
The pH of the solution containing the ultraviolet absorbing pigment is p
It is preferably in the range of H2.5 to 8.0.

【0023】また、紫外線吸収顔料の付量としは0.5
g/m2以下が好ましい。また、340〜450nmの
光吸収率でいえば、着色しない場合よりも0.02〜
0.5高くなるように着色するのが好ましい。
The coating amount of the ultraviolet absorbing pigment is 0.5.
It is preferably g / m 2 or less. In addition, in terms of light absorptance of 340 to 450 nm, it is 0.02 as compared with the case of not coloring.
It is preferable to color it so that it becomes 0.5 higher.

【0024】紫外線吸収顔料と併用するアルカリ水溶液
可溶性あるいはアルカリ水溶液膨潤性の化合物とは、p
H8.0〜pH13のアルカリ水溶液に溶解あるいはp
H8.0〜pH13のアルカリ水溶液中で膨潤する化合
物であり、例えば、特開平4−328748号公報に記
載のノボラック系樹脂、ビニル系樹脂、ポリーマーラテ
ックス類、水溶性高分子であるアルカリ可溶性デンプ
ン、ゼラチン、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボ
キシメチルセルロース等、特開平5−17333号公報
に記載のサイクロデキストリン等の包接化合物を挙げる
ことができる。また、ノボラック系樹脂またはビニル系
重合樹脂としては、後記するノボラック系樹脂、ビニル
系樹脂を挙げることができる。
The compound soluble in alkaline aqueous solution or swellable in alkaline aqueous solution used in combination with the ultraviolet absorbing pigment is p
Dissolved in alkaline solution of H8.0-pH13 or p
A compound that swells in an alkaline aqueous solution having a pH of 8.0 to 13 and is, for example, a novolac resin, a vinyl resin, a polymer latex described in JP-A-4-328748, an alkali-soluble starch that is a water-soluble polymer. , Gelatin, hydroxypropyl cellulose, carboxymethyl cellulose and the like, and inclusion compounds such as cyclodextrin described in JP-A-5-17333. Examples of the novolac resin or vinyl polymer resin include the novolac resin and vinyl resin described later.

【0025】ビニル系樹脂としては、ポリビニルアルコ
ール、カルボキシビニルポリマー等が好ましい。
As the vinyl resin, polyvinyl alcohol, carboxyvinyl polymer and the like are preferable.

【0026】本発明に用いる紫外線吸収顔料と併用する
アルカリ水溶液可溶性あるいはアルカリ水溶液膨潤性の
化合物としては、特に、ヒドロキシプロピルセルロース
が好ましい。
Hydroxypropyl cellulose is particularly preferable as the alkali aqueous solution-soluble or alkali aqueous solution swellable compound used in combination with the ultraviolet absorbing pigment used in the present invention.

【0027】本発明において、アルカリ水溶液可溶性あ
るいはアルカリ水溶液膨潤性の化合物は、単独で用いる
ことができ、また、2種以上を組み合わせて使用するこ
ともできる。
In the present invention, the compounds which are soluble in the alkaline aqueous solution or swellable in the alkaline aqueous solution may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0028】アルカリ水溶液可溶性あるいはアルカリ水
溶液膨潤性の化合物は、アルミニウム板表面の着色に用
いる紫外線吸収顔料を含有する溶液中に0.01%〜5
0重量%含有させるのが好ましい。
The compound soluble in the alkali aqueous solution or swellable in the alkali aqueous solution is 0.01% to 5% in the solution containing the ultraviolet absorbing pigment used for coloring the surface of the aluminum plate.
It is preferable to contain 0% by weight.

【0029】紫外線吸収顔料を含有する溶液の塗布に
は、従来公知の塗布方法、例えば、デイップ方式、ロー
ルコール方式、バーコード方式を用いることができる。
For coating the solution containing the ultraviolet absorbing pigment, a conventionally known coating method such as a dip method, a roll call method or a bar code method can be used.

【0030】次に、本発明のポジ型感光性組成物層に用
いられるo−キノンジアジド化合物について説明する。
Next, the o-quinonediazide compound used in the positive photosensitive composition layer of the present invention will be described.

【0031】オルトキノンジアジド化合物とは、分子中
にオルトキノンジアジド基を有する化合物であって、本
発明で使用することができるオルトキノンジアジド化合
物は特に限定されるものではなく、例えば、o−ナフト
キノンジアジド化合物、例えば、o−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸とフェノール類及びアルデヒド又はケト
ンとの重縮合樹脂とのエステル化合物等が挙げられる。
The orthoquinonediazide compound is a compound having an orthoquinonediazide group in the molecule, and the orthoquinonediazide compound that can be used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include o-naphthoquinonediazide compounds, Examples thereof include ester compounds of a polycondensation resin of o-naphthoquinonediazide sulfonic acid with phenols and aldehydes or ketones.

【0032】上記フェノール類及びアルデヒドまたはケ
トンとの重縮合樹脂におけるフェノール類としては、例
えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、
p−クレゾール、3,5−キシレノール、カルバクロー
ル、チモール等の一価フェノール、カテコール、レゾル
シン、ヒドロキノン等の二価フェノール、ピロガロー
ル、フロログルシン等の三価フェノール等が挙げられ
る。アルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、
ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデ
ヒド、フルフラール等が挙げられる。これらのうちで好
ましいものはホルムアルデヒド及びベンズアルデヒドで
ある。ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチ
ルケトン等が挙げられる。
Examples of the phenols in the polycondensation resin with the above-mentioned phenols and aldehydes or ketones include phenol, o-cresol, m-cresol,
Examples include monohydric phenols such as p-cresol, 3,5-xylenol, carvacrol, thymol, dihydric phenols such as catechol, resorcin, and hydroquinone, and trihydric phenols such as pyrogallol and phloroglucin. Examples of the aldehyde include formaldehyde,
Examples thereof include benzaldehyde, acetaldehyde, crotonaldehyde, furfural and the like. Of these, preferred are formaldehyde and benzaldehyde. Examples of ketones include acetone and methyl ethyl ketone.

【0033】フェノール類及びアルデヒドまたはケトン
との重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。
Specific examples of polycondensation resins with phenols and aldehydes or ketones include phenol-formaldehyde resin, m-cresol-formaldehyde resin, m- and p-mixed cresol-formaldehyde resin, resorcin-benzaldehyde resin, Examples include pyrogallol / acetone resin.

【0034】前記o−ナフトキノンジアジド化合物にお
いて、フェノール類のOH基に対するo−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸の縮合率(OH基1個に対する反応
率)は、15%〜80%が好ましく、より好ましくは2
0%〜45%である。
In the o-naphthoquinonediazide compound, the condensation rate of o-naphthoquinonediazide sulfonic acid with respect to the OH groups of phenols (reaction rate with respect to one OH group) is preferably 15% to 80%, more preferably 2%.
It is 0% to 45%.

【0035】更に本発明に用いられるオルトキノンジア
ジド化合物としては、特開昭58−43451号公報に
記載の以下の化合物も挙げることができる。即ち、例え
ば、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、
1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどの
公知の1,2−キノンジアジド化合物、更に具体的に
は、ジェイ・コサール(J.Kosar)著「ライト−
センシティブ・システムズ」(Light−Sensi
tive Systems)第339〜352頁(19
65年)、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ(Joh
n Willey & Sons)社(ニューヨーク)
やダブリュー・エス・ディ・フォレスト(W.S.De
Forest)著「フォトレジスト」(Photor
esist)第50巻(1975年)、マックローヒル
(McGraw Hill)社(ニューヨーク)に記載
されている1,2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホ
ン酸フェニルエステル、1,2,1′,2′−ジ−(ベ
ンゾキノンジアジド−4−スルホニル)−ジヒドロキシ
ビフェニル、1,2−ベンゾキノンジアジド−4−(N
−エチル−N−β−ナフチル)−スルホンアミド、1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸シクロヘキ
シルエステル、1−(1,2−ナフトキノンジアジド−
5−スルホニル)−3,5−ジメチルピラゾール、1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−4′−ヒ
ドロキシジフェニル−4′−アゾ−β−ナフトールエス
テル、N,N−ジ−(1,2−ナフトキノンジアジド−
5−スルホニル)−アニリン、2′−(1,2−ナフト
キノンジアジド−5−スルホニルオキシ)−1−ヒドロ
キシ−アントラキノン、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸−2,4−ジヒドロキシベンゾフェノ
ンエステル、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホン酸−2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンエ
ステル、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン
酸クロリド2モルと4,4′−ジアミノベンゾフェノン
1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5
−スルホン酸クロリド2モルと4,4′−ジヒドロキシ
−1,1′−ジフェニルスルホン酸1モルとの縮合物、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリ
ド1モルとプルプロガリン1モルとの縮合物、1,2−
ナフトキノンジアジド−5−(N−ジヒドロアビエチ
ル)−スルホンアミドなどの1,2−キノンジアジド化
合物を例示することができる。また、特公昭37−19
53号、同37−3627号、同37−13109号、
同40−26126号、同40−3801号、同45−
5604号、同45−27345号、同51−1301
3号、特開昭48−96575号、同48−63802
号、同48−63803号各公報に記載された1,2−
キノンジアジド化合物も挙げることができる。
Further, as the orthoquinonediazide compound used in the present invention, the following compounds described in JP-A-58-43451 can also be mentioned. That is, for example, 1,2-benzoquinone diazide sulfonic acid ester, 1,2-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester, 1,2-benzoquinone diazide sulfonic acid amide,
Known 1,2-quinonediazide compounds such as 1,2-naphthoquinonediazide sulfonic acid amide, and more specifically, J. Kosar's "Light-
Sensitive Systems "(Light-Sensi
three Systems, pages 339-352 (19)
1965, John Willie and Sons (Joh
n Willey & Sons (New York)
And W S D Forest (WS De
Forest) "Photoresist" (Photor)
Esist) Volume 50 (1975), 1,2-benzoquinonediazide-4-sulfonic acid phenyl ester, 1,2,1 ', 2'-di-, described in McGraw Hill, Inc. (New York). (Benzoquinonediazide-4-sulfonyl) -dihydroxybiphenyl, 1,2-benzoquinonediazide-4- (N
-Ethyl-N-β-naphthyl) -sulfonamide, 1,
2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid cyclohexyl ester, 1- (1,2-naphthoquinonediazide-
5-sulfonyl) -3,5-dimethylpyrazole, 1,
2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid-4'-hydroxydiphenyl-4'-azo-β-naphthol ester, N, N-di- (1,2-naphthoquinonediazide-
5-sulfonyl) -aniline, 2 '-(1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonyloxy) -1-hydroxy-anthraquinone, 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid-2,4-dihydroxybenzophenone ester, 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid-2,3,4-trihydroxybenzophenone ester, condensation of 2 mol of 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid chloride and 1 mol of 4,4'-diaminobenzophenone 1,2-naphthoquinonediazide-5
A condensate of 2 mol of sulfonic acid chloride and 1 mol of 4,4'-dihydroxy-1,1'-diphenylsulfonic acid,
1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid chloride 1 mol condensate with purpurogallin 1 mol, 1,2-
A 1,2-quinonediazide compound such as naphthoquinonediazide-5- (N-dihydroabietyl) -sulfonamide can be exemplified. In addition, Japanese Examined Japanese Patent Publication 37-19
No. 53, No. 37-3627, No. 37-13109,
40-26126, 40-4001, 45-
No. 5604, No. 45-27345, No. 51-1301
3, JP-A-48-96575 and 48-63802.
No. 1,2-described in each publication of the same No. 48-63803
A quinonediazide compound can also be mentioned.

【0036】上記オルトキノンジアジド化合物のうち、
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。
Of the above orthoquinonediazide compounds,
An o-quinone diazide ester compound obtained by reacting 1,2-benzoquinone diazide sulfonyl chloride or 1,2-naphthoquinone diazide sulfonyl chloride with pyrogallol-acetone condensation resin or 2,3,4-trihydroxybenzophenone is particularly preferable.

【0037】本発明において、オルトキノンジアジド化
合物は、上記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種
以上を組合せて用いてもよい。
In the present invention, as the orthoquinonediazide compound, the above compounds may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0038】オルトキノンジアジド化合物の感光性組成
物中に占める割合は、5〜60重量%が好ましく、特に
好ましいのは、10〜50重量%である。
The content of the orthoquinonediazide compound in the photosensitive composition is preferably 5 to 60% by weight, and particularly preferably 10 to 50% by weight.

【0039】本発明の感光層を形成する感光性組成物に
は、さらに、皮膜強度、アルカリ可溶性を高めるために
アルカリ可溶性樹脂を添加することが好ましい。
To the photosensitive composition forming the photosensitive layer of the present invention, it is preferable to further add an alkali-soluble resin in order to enhance film strength and alkali solubility.

【0040】本発明で使用することができるアルカリ可
溶性樹脂は特に限定されるものではなく、例えば、ノボ
ラック樹脂、フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体、特開昭55−57841号公報に記載されている多
価フェノールとアルデヒド又はケトンとの縮合樹脂等を
挙げることができる。
The alkali-soluble resin that can be used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include novolac resins, vinyl polymers having a phenolic hydroxyl group, and those described in JP-A-55-57841. Examples thereof include condensation resins of polyphenols with aldehydes or ketones.

【0041】本発明で使用することができるノボラック
樹脂としては、例えば、フェノール・ホルムアルデヒド
樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、特開昭55
−57841号公報に記載されているようなフェノール
・クレゾール・ホルムアルデヒド共重合体樹脂、特開昭
55−127553号公報に記載されているようなp−
置換フェノールとフェノールもしくはクレゾールとホル
ムアルデヒドとの共重合体樹脂等が挙げられる。
Examples of the novolak resin which can be used in the present invention include phenol / formaldehyde resin, cresol / formaldehyde resin, JP-A-55.
-57841, a phenol-cresol-formaldehyde copolymer resin, as described in JP-A-55-127553.
Copolymer resins of substituted phenol and phenol or cresol and formaldehyde can be used.

【0042】ノボラック樹脂の分子量(ポリスチレン標
準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×10
2〜7.50×103、重量平均分子量Mwが1.00×
103〜3.00×104、より好ましくはMnが5.0
0×102〜4.00×103、Mwが3.00×103
〜2.00×104である。
The molecular weight (polystyrene standard) of the novolac resin is preferably 3.00 × 10 in terms of number average molecular weight Mn.
2 to 7.50 × 10 3 , weight average molecular weight Mw of 1.00 ×
10 3 to 3.00 × 10 4 , more preferably Mn of 5.0
0 × 10 2 to 4.00 × 10 3 , Mw of 3.00 × 10 3.
˜2.00 × 10 4 .

【0043】上記ノボラック樹脂は単独で用いてもよい
し、2種以上を組合せて用いてもよい。
The above novolak resins may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0044】ノボラック樹脂は感光性組成物中に5〜9
5重量%含有させるのが好ましい。
The novolac resin is contained in the photosensitive composition in an amount of 5 to 9
It is preferable to contain 5% by weight.

【0045】また、フェノール性水酸基を有するビニル
系重合体とは、該フェノール性水酸基を有する単位を分
子構造中に有する重合体であり、下記一般式[I]〜一
般式[V]で表される構造単位を少なくとも1つ含む重
合体が好ましい。
The vinyl polymer having a phenolic hydroxyl group is a polymer having a unit having the phenolic hydroxyl group in its molecular structure and is represented by the following general formula [I] to general formula [V]. Polymers containing at least one structural unit are preferred.

【0046】[0046]

【化1】 [Chemical 1]

【0047】一般式[I]〜一般式[V]において、R
1およびR2は、それぞれ水素原子、アルキル基又はカル
ボキシル基を表わし、好ましくは水素原子である。R3
は、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、好
ましくは水素原子又はメチル基、エチル基等のアルキル
基である。R4は、水素原子、アルキル基、アリール基
又はアラルキル基を表し、好ましくは水素原子である。
Aは、窒素原子又は酸素原子と芳香族炭素原子とを連結
する、置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、
mは、0〜10の整数を表し、Bは、置換基を有してい
てもよいフェニレン基又は置換基を有していてもよいナ
フチレン基を表す。
In the general formulas [I] to [V], R
1 and R 2 each represent a hydrogen atom, an alkyl group or a carboxyl group, preferably a hydrogen atom. R 3
Represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group. R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and preferably a hydrogen atom.
A represents an alkylene group, which connects a nitrogen atom or an oxygen atom and an aromatic carbon atom, and may have a substituent,
m represents an integer of 0 to 10, and B represents a phenylene group which may have a substituent or a naphthylene group which may have a substituent.

【0048】本発明に用いる上記フェノール性水酸基を
有するビニル系重合体は、前記一般式[I]〜一般式
[V]で表される構造単位を有する共重合体型の構造を
有するものが好ましく、共重合させる単量体としては、
例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のエチレン系不飽和オフィレン類、
例えば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルス
チレン、p−クロロスチレン等のスチレン類、例えば、
アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸類、例えば、
イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等の不飽和脂
肪族ジカルボン酸類、例えば、アクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、アクリル酸イ
ソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸−2−クロ
ロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロアクリル酸
メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、エ
タクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン
酸のエステル類、例えば、アクリロニトリル、メタアク
リロニトリル等のニトリル類、例えば、アクリルアミド
等のアミド類、例えば、アクリルアニリド、p−クロロ
アクリルアニリド、m−ニトロアクリルアニリド、m−
メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、例えば、酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸ビニル、酢
酸ビニル等のビニルエステル類、例えば、メチルビニル
エーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエ
ーテル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエ
ーテル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、ビニリ
デンシアナイド、例えば、1−メチル−1−メトキシエ
チレン、1,1−ジメトキシエチレン、1,2−ジメト
キシエチレン、1,1−ジメトキシカルボニルエチレ
ン、1−メチル−1−ニトロエチレン等のエチレン誘導
体類、例えば、N−ビニルピロール、N−ビニルカルバ
ゾール、N−ビニルインドール、N−ビニルピロリデ
ン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル系単量体があ
る。これらの単量体は、不飽和二重結合が開裂した構造
で高分子化合物中に存在する。
The vinyl polymer having a phenolic hydroxyl group used in the present invention preferably has a copolymer type structure having the structural units represented by the above general formulas [I] to [V], As the monomer to be copolymerized,
For example, ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, isoprene and other ethylenically unsaturated offylenes,
For example, styrenes such as styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, and p-chlorostyrene, for example,
Acrylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid, for example,
Itaconic acid, maleic acid, unsaturated aliphatic dicarboxylic acids such as maleic anhydride, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylate n-butyl, isobutyl acrylate, dodecyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, Phenyl acrylate, α-methyl chloroacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, esters of α-methylene aliphatic monocarboxylic acid such as ethyl ethacrylate, for example, acrylonitrile, nitriles such as methacrylonitrile, for example, acrylamide. Amides such as, for example, acrylanilide, p-chloroacrylanilide, m-nitroacrylanilide, m-
Anilides such as methoxyacrylanilide, for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate, vinyl esters such as vinyl acetate, for example, methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, vinyl ethers such as β-chloroethyl vinyl ether, Vinyl chloride, vinylidene chloride, vinylidene cyanide, for example, 1-methyl-1-methoxyethylene, 1,1-dimethoxyethylene, 1,2-dimethoxyethylene, 1,1-dimethoxycarbonylethylene, 1-methyl-1-nitro Ethylene derivatives such as ethylene, for example, N-vinyl-based monomers such as N-vinylpyrrole, N-vinylcarbazole, N-vinylindole, N-vinylpyrrolidene and N-vinylpyrrolidone. These monomers are present in the polymer compound in a structure in which the unsaturated double bond is cleaved.

【0049】上記の単量体のうち脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。
Among the above-mentioned monomers, aliphatic monocarboxylic acid esters and nitriles exhibit excellent performance for the purpose of the present invention and are preferable.

【0050】これらの単量体は、本発明に用いられる重
合体中にブロックまたはランダムのいずれかの状態で結
合していてもよい。
These monomers may be bonded to the polymer used in the present invention in either a block or random state.

【0051】フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体は感光性組成物中に0.5〜70重量%含有させるの
が好ましい。
The vinyl polymer having a phenolic hydroxyl group is preferably contained in the photosensitive composition in an amount of 0.5 to 70% by weight.

【0052】フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体は、上記重合体を単独で用いてもよいし、又2種以上
を組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物等と組
合せて用いることもできる。
As the vinyl polymer having a phenolic hydroxyl group, the above polymers may be used alone or in combination of two or more kinds. It can also be used in combination with other polymer compounds.

【0053】本発明のo−キノンジアジド化合物を含有
するポジ型感光性組成物層は、o−キノンジアジド化合
物を含有するポジ型感光性組成物を溶媒に溶解又は分散
した塗布液を、支持体に塗布し、乾燥することにより形
成される。
The positive type photosensitive composition layer containing the o-quinonediazide compound of the present invention is coated on a support with a coating solution prepared by dissolving or dispersing the positive type photosensitive composition containing the o-quinonediazide compound in a solvent. And then dried.

【0054】感光性組成物を溶解する際に使用し得る溶
媒としては、例えば、メチルセロソルブ、メチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブ
アセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエ
ーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
モノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、ギ
酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プ
ロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、
酪酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジアセトン
アルコール、アセチルアセトン、γ−ブチロラクトン等
が挙げられる。これらの溶媒は、単独であるいは2種以
上を混合して使用することができる。
Examples of the solvent that can be used for dissolving the photosensitive composition include, for example, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl. Ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol methyl ethyl ether, ethyl formate, propylic acid formate , Butyl formate, amyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, methyl butyrate,
Examples thereof include ethyl butyrate, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, dioxane, acetone, methylethylketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, diacetone alcohol, acetylacetone, and γ-butyrolactone. These solvents may be used alone or in admixture of two or more.

【0055】感光性組成物を塗布する際に用いる塗布方
法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイ
ヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、スプ
レー塗布、エアースプレー塗布、静電エアースプレー塗
布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等の方
法が用いられる。この際塗布量は用途により異なるが、
例えば、固形分として0.05〜5.0g/m2の塗布
量が好ましい。
The coating method used for coating the photosensitive composition is a conventionally known method, for example, spin coating, wire bar coating, dip coating, air knife coating, spray coating, air spray coating, electrostatic air spray. Methods such as coating, roll coating, blade coating and curtain coating are used. At this time, the coating amount depends on the application,
For example, a coating amount of 0.05 to 5.0 g / m 2 is preferable as the solid content.

【0056】本発明のo−キノンジアジド化合物を含有
する感光性組成物には、露光可視画性を高めるために露
光により可視画像を形成させる可視画剤を添加すること
ができる。
To the photosensitive composition containing the o-quinonediazide compound of the present invention, a visible image forming agent capable of forming a visible image upon exposure can be added in order to enhance the exposure visible imageability.

【0057】可視画剤は、露光により酸もしくは遊離基
を生成する化合物と該生成された酸もしくは遊離基と相
互作用することによってその色調を変える有機染料より
成るもので、露光により酸もしくは遊離基を生成する化
合物としては、例えば、特開昭50−36209号公報
に記載のo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハ
ロゲニド、特開昭53−36223号公報に記載のトリ
ハロメチル−2−ピロンやトリハロメチル−トリアジ
ン、特開昭55−6244号公報に記載のo−ナフトキ
ノンジアジド−4−スルホン酸クロライドと電子吸引性
置換基を有するフェノール類またはアニリンとのエステ
ル化合物またはアミド化合物、特開昭55−77742
号公報、特開昭57−148784号公報等に記載のハ
ロメチルビニルオキサジアゾール化合物及びジアゾニウ
ム塩等を挙げることができ、また、有機染料としては、
例えば、ビクトリアピュアーブルーBOH(保土ヶ谷化
学(株)製)、パテントピュアーブルー(住友三国化学
(株)製)、オイルブルー#603(オリエント化学工
業(株)製)、スーダンブルーII(BASF製)、クリ
スタルバイオレット、マラカイトグリーン、フクシン、
メチルバイオレット、エチルバイオレット、メチルオレ
ンジ、ブリリアントグリーン、コンゴーレッド、エオシ
ン、ローダミン66等を挙げることができる。
The visible agent is composed of a compound which forms an acid or a free radical upon exposure to light and an organic dye which changes its color tone by interacting with the generated acid or a free radical. Examples of the compound that produces the compound include, for example, o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide described in JP-A-50-36209, trihalomethyl-2-pyrone and trihalogen described in JP-A-53-36223. Methyl-triazine, ester compound or amide compound of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid chloride described in JP-A-55-6244 and a phenol or aniline having an electron-withdrawing substituent, JP-A-55- 77742
Examples thereof include halomethylvinyloxadiazole compounds and diazonium salts described in JP-A No. 57-148784 and the like, and as the organic dye,
For example, Victoria Pure Blue BOH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.), Patent Pure Blue (Sumitomo Mikuni Chemical Co., Ltd.), Oil Blue # 603 (Orient Chemical Co., Ltd.), Sudan Blue II (BASF), Crystal violet, malachite green, fuchsin,
Methyl violet, ethyl violet, methyl orange, brilliant green, congo red, eosin, rhodamine 66 and the like can be mentioned.

【0058】また、特開昭55−32070号公報や特
開昭60−88942号公報に記載の可視画剤は本発明
に好ましく用いることができる。
The visible image agents described in JP-A-55-3207 and JP-A-60-88942 can be preferably used in the present invention.

【0059】また、本発明のo−キノンジアジド化合物
を含有する感光性組成物には、上記の素材の他、必要に
応じて可塑剤、界面活性剤、有機酸、酸無水物などを添
加することができる。
To the photosensitive composition containing the o-quinonediazide compound of the present invention, a plasticizer, a surfactant, an organic acid, an acid anhydride, etc. may be added, if necessary, in addition to the above materials. You can

【0060】さらに、本発明のo−キノンジアジド化合
物を含有する感光性組成物には、該感光性組成物の感脂
性を向上するために、例えば、p−tert−ブチルフ
ェノールホルムアルデヒド樹脂、p−n−オクチルフェ
ノールホルムアルデヒド樹脂あるいはこれらの樹脂がo
−キノンジアジド化合物で部分的にエステル化されてい
る樹脂などを添加することもできる。
Further, the photosensitive composition containing the o-quinonediazide compound of the present invention may contain, for example, p-tert-butylphenol formaldehyde resin, pn-, in order to improve the oil sensitivity of the photosensitive composition. Octylphenol formaldehyde resin or these resins
A resin partially esterified with a quinonediazide compound may be added.

【0061】なお、本発明のo−キノンジアジド化合物
を含有する感光性組成物層には、光吸収極大波長が34
0〜450nmの近傍にある色素は使用しない方が好ま
しい。
The photosensitive composition layer containing the o-quinonediazide compound of the present invention has a maximum light absorption wavelength of 34.
It is preferable not to use a dye near 0 to 450 nm.

【0062】次に、本発明の感光性平版印刷版に用いら
れる支持体について説明する。
Next, the support used in the photosensitive lithographic printing plate of the present invention will be described.

【0063】支持体は、通常の印刷機にセットできるた
わみ性を有し、印刷時に加わる荷重に耐えるものが好ま
しく、例えば、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、ク
ロム、鉄、銅、ニッケル等の金属板、これらの金属の合
金板、クロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム及び
鉄等がメッキまたは蒸着によって被覆されている金属板
を用いることができる。これらのうち支持体として好ま
しいものは、アルミニウムまたはその合金を用いたもの
である。
The support preferably has flexibility so that it can be set in an ordinary printing machine and can withstand a load applied during printing. For example, a metal plate of aluminum, magnesium, zinc, chromium, iron, copper, nickel or the like, An alloy plate of these metals, or a metal plate coated with chromium, zinc, copper, nickel, aluminum, iron or the like by plating or vapor deposition can be used. Of these, the support is preferably one using aluminum or its alloy.

【0064】アルミニウム合金としては種々のものが使
用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、
クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル等の金属とアル
ミニウムとの合金が挙げられる。
Various kinds of aluminum alloys can be used, for example, silicon, copper, manganese, magnesium,
Examples include alloys of metals such as chromium, zinc, lead, bismuth, and nickel with aluminum.

【0065】アルミニウムまたはその合金等で形成され
た支持体は、通常、砂目立て処理に先立って支持体表面
に付着している圧延油等の油脂成分を除去するために脱
脂処理が行われる。脱脂処理としては、トリクレン、シ
ンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロンとトリエタ
ノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理
等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等の
アルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛
性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いた場合、上記脱脂
処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去するこ
とができる。
The support made of aluminum or its alloy or the like is usually subjected to a degreasing treatment prior to the graining treatment in order to remove oil and fat components such as rolling oil adhering to the surface of the support. As the degreasing treatment, degreasing treatment using a solvent such as trichlene and thinner, emulsion degreasing treatment using an emulsion of kesilon and triethanol, and the like are used. In addition, an alkaline aqueous solution such as caustic soda can be used for the degreasing treatment. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, it is possible to remove stains and oxide films which cannot be removed only by the above degreasing treatment.

【0066】本発明の砂目立て処理(粗面化処理)は、
機械的に表面を粗面化するいわゆる機械的粗面化法、化
学的に表面を選択溶解させ粗面化するいわゆる化学的粗
面化法、電気化学的に表面を粗面化するいわゆる電気化
学的粗面化法等公知の方法を用いて行うことができる。
The graining treatment (roughening treatment) of the present invention is
So-called mechanical surface-roughening method for mechanically roughening the surface, so-called chemical surface-roughening method for chemically selective surface melting to roughen the surface, so-called electrochemical surface-roughening for the surface electrochemically It can be performed using a known method such as a surface roughening method.

【0067】機械的粗面化法には、例えば、ボール研
磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨等の方法があ
り、また、電気化学的粗面化法には、例えば、塩酸、硝
酸等を含む電解液中で交流あるいは直流によって電解処
理する方法がある。
Mechanical graining methods include, for example, ball polishing, brush polishing, blast polishing, buff polishing, etc., and electrochemical graining methods include hydrochloric acid, nitric acid, etc. There is a method of electrolytically treating with an alternating current or a direct current in an electrolytic solution containing the same.

【0068】本発明の砂目立て処理は、この内のいずれ
か1つの方法であるいは2つ以上の方法を併用して行う
ことができるが、本発明においては、残膜が少なくなる
ので電気化学的粗面化法により砂目立て処理をすること
が好ましい。
The graining treatment of the present invention can be carried out by any one of these methods or by using two or more methods in combination, but in the present invention, since the residual film is reduced, electrochemical treatment is carried out. It is preferable to perform graining treatment by a roughening method.

【0069】砂目立て処理をして得られた支持体の表面
には、スマットが生成するので、このスマットを除去す
るために、適宜水洗あるいはアルカリエッチング等の処
理を行うことが一般に好ましい。このような処理として
は、例えば、特公昭48−28123号公報に記載され
ているアルカリエッチング法や特開昭53−12739
号公報に記載されている硫酸デスマット法等の処理方法
等が挙げられる。
Since smut is formed on the surface of the support obtained by the graining treatment, it is generally preferable to appropriately perform washing with water or alkali etching in order to remove the smut. Examples of such a treatment include the alkali etching method described in Japanese Patent Publication No. 48-28123 and JP-A No. 53-12739.
Examples thereof include a treatment method such as a sulfuric acid desmutting method described in Japanese Patent Publication No. 1994-242242.

【0070】上記の如く処理された支持体は、次に、陽
極酸化処理が施される。陽極酸化処理により耐摩耗性、
耐薬品性、保水性を向上させることができる。陽極酸化
処理には公知の方法を用いることができ、例えば、硫酸
および/または燐酸等を10〜50%の濃度で含む水溶
液を電解液として、電流密度1〜10A/dm2で電解
する方法が好ましく用いられるが、他に米国特許第1,
412,768号明細書に記載されている硫酸中で高電
流密度で電解する方法や、米国特許第3,511,66
1号明細書に記載されている燐酸を用いて電解する方法
等を用いることもできる。
The support treated as described above is then anodized. Wear resistance due to anodizing treatment,
The chemical resistance and water retention can be improved. A known method can be used for the anodizing treatment. For example, a method of electrolyzing with an aqueous solution containing sulfuric acid and / or phosphoric acid or the like at a concentration of 10 to 50% at a current density of 1 to 10 A / dm 2 is used. It is preferably used, but is not limited to US Pat.
No. 4,511,66, and a method of electrolyzing in sulfuric acid at a high current density described in US Pat. No. 3,511,66.
It is also possible to use the method of electrolyzing with phosphoric acid described in No. 1 specification.

【0071】陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ
封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処
理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロ
ム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理等公知の方法を用いて
行うことができる。
The anodized support may be sealed if necessary. These sealing treatments can be performed by using known methods such as hot water treatment, boiling water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, and nitrite treatment.

【0072】支持体にはさらに、親水性層を設けること
が好ましい。親水性層の形成には、米国特許第3,18
1,461号明細書に記載のアルカリ金属珪酸塩、米国
特許第1,860,426号明細書に記載の親水性セル
ロース、特開昭60−149491号公報、特開昭63
−165183号公報に記載のアミノ酸およびその塩、
特開昭60−232998号公報に記載の水酸基を有す
るアミン類およびその塩、特開昭62−19494号公
報に記載の燐酸塩、特開昭59−101651号公報に
記載のスルホ基を有するモノマー単位を含む高分子化合
物等を用いることができる。
It is preferable that the support is further provided with a hydrophilic layer. For the formation of the hydrophilic layer, US Pat.
Alkali metal silicates described in US Pat. No. 1,461, hydrophilic celluloses described in US Pat. No. 1,860,426, JP-A-60-149491 and JP-A-63.
-165183 gazette amino acid and its salt,
Hydroxyl group-containing amines and salts thereof described in JP-A-60-232998, phosphates described in JP-A-62-19494, and monomers having a sulfo group described in JP-A-59-101651. A polymer compound containing a unit can be used.

【0073】本発明のポジ型感光性平版印刷版は、通常
の方法で露光、現像処理することにより製版することが
できる。例えば、線画像、網点画像などを有する透明原
画を感光面に密着して露光し、次いでこれを適当な現像
液を用いて非画像部の感光性層を除去することによりレ
リーフ像が得られる。
The positive-working photosensitive lithographic printing plate of the present invention can be made into a plate by exposing and developing it in a usual manner. For example, a transparent original image having a line image, a halftone dot image, etc. is brought into close contact with the photosensitive surface for exposure, and then the photosensitive layer in the non-image area is removed using an appropriate developing solution to obtain a relief image. .

【0074】露光に好適な光源としては、水銀灯、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、
カーボンアーク灯などが挙げられる。また、現像に使用
される現像液としては、アルカリ水溶液が好ましく、例
えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム等のアルカリ金属
珪酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、第三リン
酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の水溶液のようなアルカリ水溶液を
用いることができる。このときのアルカリ水溶液の濃度
は、感光性組成物及びアルカリの種類により異なるが、
概して0.1〜10重量%の範囲が適当である。また、
アルカリ水溶液には必要に応じ界面活性剤やアルコール
等のような有機溶媒を加えることもできる。
Suitable light sources for exposure include mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, chemical lamps,
Examples include carbon arc lamps. The developer used for development is preferably an aqueous alkali solution, and examples thereof include alkali metal silicates such as sodium silicate and potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium triphosphate, and dibasic sodium phosphate. An aqueous alkaline solution such as an aqueous solution of sodium carbonate, potassium carbonate or the like can be used. The concentration of the alkaline aqueous solution at this time varies depending on the type of the photosensitive composition and the alkali,
Generally, a range of 0.1 to 10% by weight is suitable. Also,
If necessary, an organic solvent such as a surfactant or alcohol may be added to the alkaline aqueous solution.

【0075】[0075]

【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0076】実施例1 [支持体の作製]厚さ0.24mmのアルミニウム板
(材質1050、調質H16)を、60℃に保たれた5
重量%の水酸化ナトリウム水溶液中で1分間脱脂処理を
行った後、1リットル中に0.5モルの塩酸を有する水
溶液中において、温度25℃、電流密度60A/d
2、処理時間30秒の条件で電解エッチング処理を行
った。次いで,5重量%水酸化ナトリウム水溶液中で6
0℃、10秒間のデスマット処理を施した後、20重量
%硫酸溶液中で、温度20℃、電流密度3A/dm2
処理時間1分間の条件で陽極酸化処理を行い、更に、8
0℃の熱水で20秒間熱水封孔処理を行い、支持体1を
作製した。
Example 1 [Preparation of support] An aluminum plate (material 1050, temper H16) having a thickness of 0.24 mm was kept at 60 ° C. for 5 minutes.
After degreasing treatment in an aqueous solution of sodium hydroxide of 1 wt% for 1 minute, in an aqueous solution containing 0.5 mol of hydrochloric acid in 1 liter, the temperature was 25 ° C. and the current density was 60 A / d.
The electrolytic etching treatment was performed under the conditions of m 2 and a treatment time of 30 seconds. Then, 6% in 5% by weight sodium hydroxide aqueous solution
After performing desmutting treatment at 0 ° C. for 10 seconds, in a 20 wt% sulfuric acid solution, the temperature was 20 ° C., the current density was 3 A / dm 2 ,
Anodizing treatment is performed under the condition that the treatment time is 1 minute.
A hot water sealing treatment was performed with hot water at 0 ° C. for 20 seconds to prepare a support 1.

【0077】支持体1に、分散機によって分散させるこ
とにより作製した表1に記載の組成を有する塗布液をワ
イヤーバーを用い、表1に記載の塗布量で塗布し、90
℃で2分間乾燥し支持体2〜6を作製した。
A coating liquid having a composition shown in Table 1 prepared by dispersing it on a support 1 was applied with a wire bar at a coating amount shown in Table 1, and 90
Supports 2 to 6 were produced by drying at 2 ° C. for 2 minutes.

【0078】得られた支持体の光吸収極大波長(ピーク
max)及び塗布液を塗布したことによる波長400n
mにおける光吸収率増加(ΔAbs)は表1に示す通り
であった。
The maximum light absorption wavelength (peak max) of the obtained support and the wavelength of 400 n obtained by applying the coating solution
The increase in light absorptance (ΔAbs) at m was as shown in Table 1.

【0079】光吸収極大波長及び光吸収率の測定には、
分光光度計U−3210(株式会社日立製作所製)を用
いた。
To measure the maximum wavelength of light absorption and the light absorption rate,
A spectrophotometer U-3210 (manufactured by Hitachi Ltd.) was used.

【0080】[0080]

【表1】 [感光性組成物塗布液の塗布]上記で得られた支持体1
〜6に、下記の感光性組成物塗布液をワイヤーバーを用
いて塗布し、90℃で1分間乾燥し、感光性平版印刷版
試料1〜6を作製した。このとき、感光性組成物の塗布
量は、乾燥重量として2.0g/m2となるようにし
た。
[Table 1] [Application of Photosensitive Composition Coating Liquid] Support 1 Obtained Above
The following photosensitive composition coating liquids were applied to Nos. 6 to 6 using a wire bar and dried at 90 ° C. for 1 minute to prepare photosensitive planographic printing plate samples 1 to 6. At this time, the coating amount of the photosensitive composition was set to be 2.0 g / m 2 as a dry weight.

【0081】 〈感光性組成物塗布液〉 ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比が10 /54/36でMwが40000) 6.7 g o−ナフトキノンジアジド化合物(ピロガロールアセトン樹脂Mw3000とo −ナフトキノンジアジド−5−スルフォニルクロリドの縮合物:エステル化率3 0%) 1.5g ポリエチレングリコール#2000 0.2 g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−s−トリ アジン 0.15g FC−430(住友3M(株)製) 0.03g cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸 0.2 g メチルセロソルブ 100ミリリットル 感光性平版印刷版試料1〜6に、感度測定用ステップタ
ブレット(イーストマン・コダック(株)製No.2、
濃度差0.15ずつで21段階グレースケール)とブル
ナー小点(網点面積0.5〜5%で小点の再現性をみ
る。)原稿を密着して、2kwメタルハライドランプを
光源として90cmの距離から20秒間露光した。次に
露光された感光性平版印刷版をSDR−1(コニカ
(株)製)現像液を水で6倍に希釈した現像液で27℃
にて20秒間現像した。
<Photosensitive Composition Coating Liquid> Novolac resin (phenol / m-cresol / p-cresol molar ratio is 10/54/36 and Mw is 40,000) 6.7 g o-naphthoquinonediazide compound (pyrogallolacetone resin Condensate of Mw3000 and o-naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride: esterification rate 30%) 1.5 g Polyethylene glycol # 2000 0.2 g Victoria Pure Blue BOH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.08 g 2, 4-bis (trichloromethyl) -6- (p-methoxystyryl) -s-triazine 0.15 g FC-430 (Sumitomo 3M Ltd.) 0.03 g cis-1,2-cyclohexanedicarboxylic acid 0.2 g Methyl cellosolve 100 ml Photosensitive lithographic printing plate samples 1 to 6, Step tablet for sensitivity measurement (Eastman Kodak Co., Ltd. No. 2,
21 steps of gray scale with a density difference of 0.15 each and Brunner small dots (check the reproducibility of small dots at halftone dot area 0.5 to 5%). It was exposed from a distance for 20 seconds. Next, the exposed photosensitive lithographic printing plate was treated with a developer obtained by diluting SDR-1 (manufactured by Konica Corp.) developer 6 times with water at 27 ° C.
And developed for 20 seconds.

【0082】〈感度の評価〉得られたグレースケール現
象画像の完全にクリアーになるグレースケール段数を求
め、該段数により感度の評価を行った。段数が大きい
程、感度が高いことを示す。
<Evaluation of Sensitivity> The number of gray scale steps that completely clear the obtained gray scale phenomenon image was determined, and the sensitivity was evaluated by the number of steps. The larger the number of stages, the higher the sensitivity.

【0083】〈小点再現の評価〉得られた平版印刷版の
版上のブルナー小点を25倍の倍率のルーペを使用し
て、完全再現網点面積を目視で観察した。
<Evaluation of reproduction of small dots> The Brunner small dots on the plate of the obtained lithographic printing plate were visually observed for the completely reproduced halftone dot area using a magnifying glass having a magnification of 25 times.

【0084】〈耐刷力の評価〉得られた平版印刷版を印
刷機(ハイデル社製 GTO)、コート紙印刷インキ
(東洋インキ製造(株)製ハイプラスM紅)及び湿し水
(SEU−3;2.5%、コニカ(株)製)を使用して
印刷を行い、印刷物の画像部のベタ部に着肉不良が現れ
るか、非画像都にインキが着肉するまで印刷を続け、そ
の時の印刷枚数を数えた。
<Evaluation of printing durability> The obtained lithographic printing plate was printed with a printing machine (GTO manufactured by Heidel Co.), a coated paper printing ink (High Plus M red manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.) and a fountain solution (SEU- 3; 2.5%, using Konica Corp.) to print, and continue to print until the solid part of the image part of the printed matter appears defective in ink, or ink is inked in the non-image area, The number of prints at that time was counted.

【0085】〈残色の評価〉得られたグレースケール現
象画像の完全にクリアーになっている部分を観察し、残
色を目視で評価した。
<Evaluation of residual color> The completely clear portion of the obtained gray scale phenomenon image was observed and the residual color was visually evaluated.

【0086】〈露光可視画性の評価〉上記感度測定用ス
テップタブレットを密着して露光した感光性平版印刷版
を上記現像条件で現像した時に、クリアー段数4段が得
られる露光条件で露光された感光性平版印刷版の露光部
と未露光部の感光層の光学濃度差(ΔD)をPDA65
ビジュアルフィルター(コニカ株式会社製)を用いて測
定した。
<Evaluation of Visibility of Exposure Visibility> When the photosensitive lithographic printing plate exposed by closely contacting the step tablet for sensitivity measurement was developed under the above-mentioned developing conditions, it was exposed under the exposure condition where 4 clear steps were obtained. The difference in optical density (ΔD) between the exposed layer and the unexposed portion of the photosensitive lithographic printing plate was measured using PDA65.
It measured using the visual filter (made by Konica Corporation).

【0087】結果を表2に示す。The results are shown in Table 2.

【0088】[0088]

【表2】 [Table 2]

【0089】[0089]

【発明の効果】本発明のポジ型感光性平版印刷版は、ア
ルミニウム板の表面に形成されている砂目と感光層との
接着性が優れ、優れた耐刷力を有し、忠実な調子再現性
を有し、最小網点の再現がよく、感度低下がないためフ
ィルムエッジ跡が発生しにくく、支持体の着色を低濃度
に抑えることができ、優れた露光可視画性が得られ、検
版性が良好である。更に、紫外線吸収顔料とアルカリ水
溶液可溶性あるいはアルカリ水溶液膨潤性の化合物を併
用することにより、残色が低減し、画像コントラストが
高く、消去作業性が非常に優れ、また、顔料残膜はイン
キのタックで版上から除去することができるので残膜に
よる地汚れは印刷物上には発生しない。
The positive-working photosensitive lithographic printing plate of the present invention has excellent adhesion between the photosensitive layer and the grain formed on the surface of the aluminum plate, has excellent printing durability, and has a faithful tone. It has reproducibility, good reproduction of minimum halftone dots, film edge marks are less likely to occur because sensitivity is not reduced, and it is possible to suppress the coloring of the support to a low density, and obtain excellent exposure visibility. Good plate inspection. Furthermore, by using a UV-absorbing pigment in combination with an alkali aqueous solution-soluble or alkali aqueous solution swelling compound, the residual color is reduced, the image contrast is high, and the erasing workability is very excellent. Since it can be removed from the plate with, the background film does not cause background stain.

フロントページの続き (72)発明者 松原 真一 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 佐々木 充 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 金澤 大輔 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内Front page continued (72) Inventor Shinichi Matsubara 1 Sakura-cho, Hino-shi, Tokyo Konica stock company (72) Inventor Mitsuru Sasaki 1000 Kamoshida-cho, Midori-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Sanryo Kasei Co., Ltd. (72) ) Inventor Daisuke Kanazawa 1000 Kamoshida-cho, Midori-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Sanryo Kasei Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 粗面化し、次いで陽極酸化処理後したア
ルミニウム板表面を、340〜450nmの範囲に光吸
収極大波長を有する紫外線吸収顔料を含有する溶液によ
り、光吸収極大波長における光吸収率が0.01以上高
くなるように着色した後、o−キノンジアジド化合物を
含有するポジ型感光性組成物層を塗設してなることを特
徴とするポジ型感光性平版印刷版。
1. The surface of an aluminum plate that has been roughened and then anodized is treated with a solution containing an ultraviolet absorbing pigment having a maximum light absorption wavelength in the range of 340 to 450 nm so that the light absorption coefficient at the maximum light absorption wavelength is increased. A positive-working photosensitive lithographic printing plate comprising a positive-working photosensitive composition layer containing an o-quinonediazide compound, which has been colored to a level of 0.01 or more.
【請求項2】 紫外線吸収顔料が、o−キノンジアジド
化合物を含有するポジ型感光性組成物層の塗設に用いた
溶媒に不溶な化合物であることを特徴とする請求項1記
載のポジ型感光性平版印刷版。
2. The positive photosensitive material according to claim 1, wherein the ultraviolet absorbing pigment is a compound which is insoluble in the solvent used for coating the positive photosensitive composition layer containing the o-quinonediazide compound. Sex lithographic printing plate.
【請求項3】 アルミニウム板表面の着色に、紫外線吸
収顔料とアルカリ水溶液可溶性あるいはアルカリ水溶液
膨潤性の化合物を使用することを特徴とする請求項1ま
たは2記載のポジ型感光性平版印刷版。
3. The positive photosensitive lithographic printing plate as claimed in claim 1, wherein an ultraviolet absorbing pigment and an alkali aqueous solution-soluble or alkali aqueous solution swelling compound are used for coloring the surface of the aluminum plate.
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