JPH07267676A - Glass flux having low thermal expansion - Google Patents

Glass flux having low thermal expansion

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JPH07267676A
JPH07267676A JP8406094A JP8406094A JPH07267676A JP H07267676 A JPH07267676 A JP H07267676A JP 8406094 A JP8406094 A JP 8406094A JP 8406094 A JP8406094 A JP 8406094A JP H07267676 A JPH07267676 A JP H07267676A
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glass
thermal expansion
glass flux
flux
weight
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    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
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Abstract

PURPOSE:To provide glass flux having low thermal expansion, having low yield point and low thermal expansion and capable of applying deep color to ceramic products. CONSTITUTION:Glass raw materials are mixed so as to contain 1-10wt.% of Li2O, 5-35wt.% of Al2O3, 20-65wt.% of SiO2, 20-60wt.% of PbO and l-10wt.% of B2O3 and the mixture is melted, cooled and solidified and then, pulverized. The glass raw material contains preferably an solubilizing agent such as an alkali metal oxide or alkaline earth metal. The glass raw material contains preferably a crystallizing agent such as TiO2, ZrO2 or SnO2. A coloring raw material such as pigment or paint for ceramics is preferably added to the glass flux.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は,低い屈伏点を有し,熱
膨張の小さい低熱膨張性ガラスフラックスに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a low thermal expansion glass flux having a low yield point and a small thermal expansion.

【0002】[0002]

【従来技術】ガラスフラックスは,例えばセラミック製
品と共に焼成することにより溶融し,セラミック製品の
表面に溶着して,その表面に光沢を与えるものである。
ガラスフラックスを着色原料と共に用いた場合には,セ
ラミック製品に絵付けをすることができる。着色原料と
しては,従来,主に,酸化鉄,酸化コバルト,酸化マン
ガン,酸化クロム,酸化チタン等よりなる陶磁器用顔料
が用いられていた。
2. Description of the Related Art Glass flux, for example, is melted by firing with a ceramic product and is fused to the surface of the ceramic product to give a gloss to the surface.
Ceramic products can be painted when glass flux is used with coloring materials. As a coloring raw material, conventionally, a pigment for ceramics mainly made of iron oxide, cobalt oxide, manganese oxide, chromium oxide, titanium oxide, etc. has been used.

【0003】[0003]

【解決しようとする課題】しかしながら,上記ガラスフ
ラックスは,熱膨張が大きい。そのため,セラミック製
品が低熱膨張性である場合には,その表面にクラックが
発生するおそれがある。また,陶磁器用顔料の多くは,
熱膨張が大きい。そのため,上記ガラスフラックスを上
記顔料と共に,セラミック製品の絵付け用として用いた
場合には,焼成の際に,ガラスフラックスと顔料との熱
膨張差により,セラミック製品の表面にクラックが発生
し,顔料が剥離したりして,強度劣化を生じていた。
[Problems to be Solved] However, the glass flux has a large thermal expansion. Therefore, when the ceramic product has low thermal expansion, cracks may occur on the surface of the ceramic product. Also, most of the pigments for ceramics
Large thermal expansion. Therefore, when the above glass flux is used together with the above pigment for painting a ceramic product, a crack is generated on the surface of the ceramic product due to a difference in thermal expansion between the glass flux and the pigment during firing, and Peeled off, resulting in deterioration of strength.

【0004】そこで,従来,陶磁器に絵付装飾を施すこ
とができる低熱膨張のガラスフラックスが提案されてい
る(特公平5─40707号公報)。しかし,このガラ
スフラックスは,ガラスの屈伏点が630〜700℃と
若干高いため,配合可能な顔料の量が少なく,薄い色彩
を施すことしかできなかった。本発明はかかる従来の問
題点に鑑み,低熱膨張で,かつ低い屈伏点を有し,セラ
ミック製品に濃い彩色を施すことができる,低熱膨張性
ガラスフラックスを提供しようとするものである。
Therefore, conventionally, a glass flux having a low thermal expansion capable of decorating ceramics with a painting has been proposed (Japanese Patent Publication No. 5-40707). However, since this glass flux has a slightly high glass deformation point of 630 to 700 ° C., the amount of pigment that can be blended is small and only a light color can be applied. In view of such conventional problems, the present invention is to provide a low thermal expansion glass flux which has a low thermal expansion and a low yield point and which can give a deep coloring to a ceramic product.

【0005】[0005]

【課題の解決手段】本発明は,Li2 O 1〜10
重量% Al2 3 5〜35重量% SiO2 20〜65重量% PbO 20〜60重量% B2 3 1〜10重量% 上記の組成となるようにガラス原料を混合し,溶融し,
冷却後固化後,微粉砕してなることを特徴とする低熱膨
張性ガラスフラックスにある。
The present invention is directed to Li 2 O 1-10.
Mixing the glass raw material for a weight% Al 2 O 3 5 to 35 wt% SiO 2 20 to 65 wt% PbO 20 to 60 wt% B 2 O 3 1 to 10% by weight above composition, melted,
A low-thermal-expansion glass flux is characterized by being finely pulverized after cooling and solidifying.

【0006】本発明において,Li2 Oは,ガラスフラ
ックスの溶融を助け,更に,低熱膨張性結晶であるβ─
ユークリプタイト結晶やβ─スポジューメン結晶等を生
成させる。Li2 Oの量の下限は1重量%,その上限は
10重量%である。1重量%未満の場合には,上記低熱
膨張性結晶の生成が少なく,ガラスフラックスが低熱膨
張とはならない。一方,10重量%を超える場合には,
ガラスフラックスの熱膨張が過度に大きくなる。また,
更に,好ましくは,上記と同様の理由により,下限が
5.0重量%,上限が7.0重量%である。
In the present invention, Li 2 O assists in melting the glass flux and, in addition, β − which is a low thermal expansion crystal.
It produces eucryptite crystals and β-spodumene crystals. The lower limit of the amount of Li 2 O is 1% by weight and the upper limit thereof is 10% by weight. When it is less than 1% by weight, the above-mentioned low thermal expansion crystals are less likely to be produced and the glass flux does not have low thermal expansion. On the other hand, if it exceeds 10% by weight,
The thermal expansion of the glass flux becomes excessively large. Also,
Further, preferably, the lower limit is 5.0% by weight and the upper limit is 7.0% by weight for the same reason as above.

【0007】Al2 3 は,Li2 Oと同様に,ガラス
フラックスに,β−ユークリプタイト結晶やβ−スポジ
ューメン結晶等の低熱膨張性結晶を生成させる。Al2
3 の量の下限は5重量%,その上限は35重量%であ
る。5重量%未満の場合には,上記低熱膨張性結晶の生
成が不十分となり,ガラスフラックスが低熱膨張性とな
らない。一方,35重量%を超える場合には,ガラスフ
ラックスの融点が過度に高くなるおそれがある。また,
鉛長石結晶の析出が多くなり,ガラスフラックスの熱膨
張が大きくなる。また,更に,好ましくは,上記と同様
の理由により,下限が15.0重量%,上限が20.0
重量%である。
Like Li 2 O, Al 2 O 3 causes glass flux to form low thermal expansion crystals such as β-eucryptite crystals and β-spodumene crystals. Al 2
The lower limit of the amount of O 3 is 5% by weight, and the upper limit thereof is 35% by weight. When it is less than 5% by weight, the above-mentioned low thermal expansion crystal is insufficiently produced, and the glass flux does not have low thermal expansion. On the other hand, if it exceeds 35% by weight, the melting point of the glass flux may be excessively high. Also,
The precipitation of feldspar crystals increases, and the thermal expansion of the glass flux increases. Further, preferably, for the same reason as above, the lower limit is 15.0% by weight and the upper limit is 20.0%.
% By weight.

【0008】SiO2 は,ガラスフラックスをガラス化
し,その結晶骨格構造を網目状に形成する酸化物であ
る。SiO2 の量の下限は20重量%,その上限は65
重量%である。20重量%未満の場合には,ガラスフラ
ックスのガラス化が不十分であり,また,その熱膨張が
大きくなる。一方,65重量%を超える場合には,ガラ
スフラックスの融点が高くなる。また,更に好ましく
は,上記と同様の理由により,下限が30.0重量%,
上限が40.0重量%である。
SiO 2 is an oxide that vitrifies glass flux and forms its crystal skeleton structure in a mesh form. The lower limit of the amount of SiO 2 is 20% by weight, and the upper limit is 65.
% By weight. When it is less than 20% by weight, vitrification of the glass flux is insufficient and the thermal expansion thereof becomes large. On the other hand, when it exceeds 65% by weight, the melting point of the glass flux becomes high. More preferably, for the same reason as above, the lower limit is 30.0% by weight,
The upper limit is 40.0% by weight.

【0009】PbOは,ガラスフラックスをガラス化
し,上記の網目状の結晶構造を切断する,いわゆる網目
修飾酸化物である。特に,PbOは,ガラスフラックス
の融点を低下させるものである。PbOの量の下限は2
0重量%,その上限は60重量%である。20重量%未
満の場合には,ガラスフラックスの融点が高くなる。一
方,60重量%を超える場合には,ガラスフラックスの
熱膨張が大きくなる。また,更に,好ましくは,上記と
同様の理由により,下限が30重量%,上限が50重量
%である。
PbO is a so-called network modifying oxide which vitrifies glass flux and cuts the above-mentioned network crystal structure. Particularly, PbO lowers the melting point of the glass flux. The lower limit of the amount of PbO is 2
0% by weight and the upper limit is 60% by weight. If it is less than 20% by weight, the melting point of the glass flux becomes high. On the other hand, when it exceeds 60% by weight, the thermal expansion of the glass flux becomes large. Further, more preferably, the lower limit is 30% by weight and the upper limit is 50% by weight for the same reason as above.

【0010】B2 3 は,PbOと同様に融点を下げる
効果がある。特に,Al2 3 の量が多い場合には,鉛
長石結晶の析出を抑制する効果がある。B2 3 の量の
下限は1重量%,その上限は10重量%である。1重量
%未満の場合には,鉛長石結晶の析出が多く,ガラスフ
ラックスの熱膨張が大きくなる。一方,10重量%を超
える場合には,PbOと同様に,熱膨張が大きくなる。
また,更に好ましくは,上記と同様の理由により,下限
が2.5重量%,上限が5.0重量%である。
B 2 O 3 has an effect of lowering the melting point like PbO. In particular, when the amount of Al 2 O 3 is large, it has the effect of suppressing the precipitation of lead feldspar crystals. The lower limit of the amount of B 2 O 3 is 1% by weight and the upper limit thereof is 10% by weight. If it is less than 1% by weight, the precipitation of lead feldspar crystals is large and the thermal expansion of the glass flux is large. On the other hand, when it exceeds 10% by weight, the thermal expansion becomes large like PbO.
Further, more preferably, the lower limit is 2.5% by weight and the upper limit is 5.0% by weight for the same reason as above.

【0011】本発明において,上記ガラス原料は,アル
カリ金属酸化物,アルカリ土類金属酸化物,ZnO等の
溶化剤を含んでいることが好ましい。これにより,ガラ
スフラックスの溶融が促進する。また,上記ガラス原料
は,TiO2 ,ZrO2 ,SnO2 ,WO3 ,Nb2
5 ,P2 5 等の結晶化剤を含有することが好ましい。
これにより,ガラスフラックスに,β─ユークリプタイ
ト結晶,β─スポジューメン結晶等の低熱膨張性結晶の
生成が促進される。
In the present invention, the glass raw material preferably contains a solubilizer such as an alkali metal oxide, an alkaline earth metal oxide, or ZnO. This promotes melting of the glass flux. Further, the above glass raw materials are TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , WO 3 , and Nb 2 O.
It is preferable to include a crystallization agent such as 5 , P 2 O 5 or the like.
This promotes the formation of low thermal expansion crystals such as β-eucryptite crystals and β-spodumene crystals in the glass flux.

【0012】また,上記ガラスフラックスには,陶磁器
用顔料,絵具,有機金属等の着色原料を添加することが
好ましい。これにより,陶磁器,陶器,磁器,結晶化ガ
ラス等のセラミック製品に,様々な色彩模様を絵付けす
ることができる。この場合,ガラスフラックスは,セラ
ミック製品の表面に塗布し,焼成することにより,ガラ
ス原料がセラミック製品の表面に溶着して着色原料を固
定する役目を果たす。
Further, it is preferable to add coloring materials such as pigments for ceramics, paints and organic metals to the glass flux. This makes it possible to paint various color patterns on ceramic products such as ceramics, ceramics, porcelain, and crystallized glass. In this case, the glass flux is applied to the surface of the ceramic product and fired, so that the glass raw material is fused to the surface of the ceramic product to fix the coloring raw material.

【0013】この着色原料の添加量は,ガラス原料10
0重量部に対し,その下限が1重量部,その上限が20
重量部であることが好ましい。1重量部未満の場合に
は,セラミック製品の表面の着色が薄く,不鮮明となる
おそれがある。一方,20重量部を超える場合には,着
色原料がセラミック製品から剥離するおそれがある。
The amount of the coloring raw material added is 10
0 parts by weight has a lower limit of 1 part by weight and an upper limit of 20 parts by weight.
It is preferably part by weight. If the amount is less than 1 part by weight, the coloring of the surface of the ceramic product may be light and unclear. On the other hand, if it exceeds 20 parts by weight, the coloring raw material may be separated from the ceramic product.

【0014】上記ガラスフラックスは,1〜10μmの
粒径に微粉砕されていることが好ましい。1μm未満の
場合には,粉体のかさが多くなり,取り扱いが困難とな
るおそれがある。一方,10μmを超える場合には,粒
が大きいため,スクリーン印刷に使用しにくくなり,ま
た顔料との混合が不均一となるおそれがある。
The glass flux is preferably finely pulverized to have a particle size of 1 to 10 μm. If it is less than 1 μm, the bulkiness of the powder may increase and the handling may become difficult. On the other hand, when it exceeds 10 μm, it is difficult to use it for screen printing because of the large size of the particles, and the mixture with the pigment may be non-uniform.

【0015】[0015]

【作用及び効果】本発明の低熱膨張性ガラスフラックス
は,上記の組成からなるガラス原料を含む。そのため,
ガラスフラックスには,β─ユークリプタイト結晶,β
─スポジューメン結晶といった低熱膨張性結晶が析出す
る。それ故,これらの結晶により,ガラスフラックスの
熱膨張係数が0.8〜2.5×10-6/℃となり,熱膨
張の低減化を図ることができる。
FUNCTION AND EFFECT The low thermal expansion glass flux of the present invention contains the glass raw material having the above composition. for that reason,
For glass flux, β-eucryptite crystals, β
─ Low thermal expansion crystals such as spodumene crystals are precipitated. Therefore, due to these crystals, the thermal expansion coefficient of the glass flux becomes 0.8 to 2.5 × 10 −6 / ° C., and the thermal expansion can be reduced.

【0016】それ故,低熱膨張性のセラミック製品の表
面に,本発明のガラスフラックスを塗布し,焼成した場
合にも,ガラスフラックスがセラミック製品の表面に強
く固着する。それ故,ガラスフラックスは,剥離,クラ
ックの発生もなく,強度の高いものとなる。
Therefore, even when the glass flux of the present invention is applied to the surface of a low thermal expansion ceramic product and fired, the glass flux strongly adheres to the surface of the ceramic product. Therefore, the glass flux has high strength without peeling or cracking.

【0017】また,ガラス原料は上記の組成からなる。
そのため,ガラス原料のガラス転移点が390〜550
℃と非常に低く,また,屈伏点も440〜650℃と低
い。そのため,低熱膨張性の陶磁器用顔料を多量に添加
することができる。それ故,ガラスフラックスは,従来
になく濃紺な色彩を呈することができる。かかる濃紺な
ガラスフラックスを用いることによりセラミック製品に
色の濃い色彩を施すことができる。
The glass raw material has the above composition.
Therefore, the glass transition point of the glass raw material is 390 to 550.
℃ is very low, and the yield point is also low at 440 to 650 ℃. Therefore, a large amount of low thermal expansion pigment for ceramics can be added. Therefore, glass flux can have a dark blue color that has never been seen before. By using such a dark blue glass flux, it is possible to give the ceramic product a dark color.

【0018】本発明のガラスフラックスは,例えば,厨
房器具,食器等に使用される,耐熱ガラス製,超耐熱結
晶化ガラス製,或いは低熱膨張製セラミック製の装飾絵
具用ガラスとして用いることができる。また,上記ガラ
スフラックスは,特に,低熱膨張で,かつ低融点である
ため,低熱膨張部材の接着材,及び低熱膨張部材上に形
成した導体や抵抗体等の保護用ガラスとしても用いるこ
とができる。以上のごとく,本発明によれば,低熱膨張
で,かつ低い屈伏点を有し,セラミック製品に濃い色彩
を施すことができる,低熱膨張性ガラスフラックスを提
供することができる。
The glass flux of the present invention can be used as a glass for decorative paint, which is used for kitchen appliances, tableware, etc., made of heat resistant glass, super heat resistant crystallized glass, or low thermal expansion ceramic. In addition, since the above glass flux has a low thermal expansion and a low melting point, it can be used also as an adhesive for a low thermal expansion member and as a protective glass for a conductor or a resistor formed on the low thermal expansion member. . As described above, according to the present invention, it is possible to provide a low thermal expansion glass flux which has a low thermal expansion and a low yield point and which can give a dark color to a ceramic product.

【0019】[0019]

【実施例】【Example】

実施例1 本発明の実施例にかかる低熱膨張性ガラスフラックス
は,ガラス原料を溶融し,冷却固化後,微粉砕したもの
である。ガラス原料は,5.0重量%のLi2 Oと,1
5.0重量%のAl2 3 と,35.0重量%のSiO
2 と,40.0重量%のPbOと,5.0重量%のB2
3 とよりなり,これらの各粉末を混合したものであ
る。
Example 1 A low thermal expansion glass flux according to an example of the present invention is obtained by melting a glass raw material, cooling and solidifying it, and then pulverizing it. The glass raw material is 5.0% by weight of Li 2 O and 1
5.0 wt% Al 2 O 3 and 35.0 wt% SiO
2 , 40.0 wt% PbO, 5.0 wt% B 2
It is composed of O 3 and is a mixture of these powders.

【0020】上記ガラスフラックスを製造するに当たっ
ては,まず,上記組成となるように混合されたガラス原
料を1300〜1450℃で焼成し,溶融化する。次い
で,このガラス原料を水中に流し入れて急冷し,固化す
る。次に,この固形物をボールミルにより微粉砕する。
これにより,平均粒径約3μmのガラスフラックスを得
る。
In producing the above glass flux, first, the glass raw materials mixed so as to have the above composition are fired at 1300 to 1450 ° C. to be melted. Next, this glass raw material is poured into water, rapidly cooled and solidified. Next, this solid material is finely pulverized by a ball mill.
As a result, a glass flux having an average particle size of about 3 μm is obtained.

【0021】該ガラスフラックスの熱膨張係数は,40
℃から300℃の範囲で1.57×10-6/℃であっ
た。また,ガラスフラックスには,低熱膨張性結晶であ
るβ─ユークリプタイト結晶が析出していた。また,ガ
ラスフラックスのガラス転移点は390℃であり,その
屈伏点は440℃であった。
The coefficient of thermal expansion of the glass flux is 40
It was 1.57 × 10 −6 / ° C. in the range of ° C. to 300 ° C. In addition, β-eucryptite crystals, which are low thermal expansion crystals, were precipitated in the glass flux. The glass transition point of the glass flux was 390 ° C, and the yield point was 440 ° C.

【0022】次に,上記ガラスフラックスを用いてセラ
ミック製品の表面に色彩を施した。即ち,上記ガラスフ
ラックス90重量部を,陶磁器用顔料10重量部及び有
機バインダー(アクリル系)60重量部と練り合わせ,
ペースト状にする。このペーストを,スクリーン印刷に
より,セラミック製品の表面に印刷し,840℃で焼成
する。これにより,セラミック製品の表面に濃い色彩が
付与された。また,ガラスフラックスは,クラックの発
生もなく,また剥離することもなく,セラミック製品の
表面に強固に固着した。
Next, the surface of the ceramic product was colored using the above glass flux. That is, 90 parts by weight of the above glass flux was kneaded with 10 parts by weight of pigment for ceramics and 60 parts by weight of organic binder (acrylic),
Make a paste. The paste is printed on the surface of the ceramic product by screen printing and fired at 840 ° C. As a result, a dark color was given to the surface of the ceramic product. Moreover, the glass flux was firmly fixed to the surface of the ceramic product without cracks or peeling.

【0023】実施例2 本例においては,ガラスフラックスの熱膨張係数及び析
出結晶相を測定した。測定に際し,表1に示す種々の組
成となるように混合されたガラス原料を用いてガラスフ
ラックスを作製し,それぞれ試料C1,2〜9とした。
これらのガラスフラックス100重量部を,有機バイン
ダー(アクリル系)60重量部と混合し,これをセラミ
ック製品の表面に印刷し,840℃で焼成した。次に,
セラミック製品の表面のガラスフラックスの熱膨張係数
及び析出結晶相を測定した。その結果を表1に示した。
Example 2 In this example, the coefficient of thermal expansion of glass flux and the precipitated crystalline phase were measured. At the time of measurement, glass fluxes were prepared by using glass raw materials mixed so as to have various compositions shown in Table 1, and made into samples C1 to C9, respectively.
100 parts by weight of these glass fluxes were mixed with 60 parts by weight of an organic binder (acrylic), printed on the surface of a ceramic product, and fired at 840 ° C. next,
The thermal expansion coefficient and the precipitated crystalline phase of the glass flux on the surface of the ceramic product were measured. The results are shown in Table 1.

【0024】同表より知られるように,試料2〜試料9
のガラスフラックスは熱膨張係数が1.14〜4.96
×10-6/℃と低く,試料C1では10.47×10-6
/℃と著しく高かった。また,5.0重量%Li2 O─
40重量%PbO─5重量%B2 3 を一定量とし,そ
の残りの50重量%をAl2 3 ,SiO2 とした場合
において,Al2 3 が無い場合(試料C1)ではα─
石英結晶が,5〜10重量%のAl2 3 を含む場合
(試料2,3)ではβ─スポジューメン結晶が,15〜
30重量%のAl2 3 を含む場合(試料4〜6)では
β─ユークリプタイト結晶が析出した。
As is known from the table, Sample 2 to Sample 9
Glass flux has a coefficient of thermal expansion of 1.14 to 4.96.
It was as low as × 10 -6 / ° C and 10.47 × 10 -6 for sample C1.
/ ° C, which was extremely high. In addition, 5.0 wt% Li 2 O-
When 40 wt% PbO-5 wt% B 2 O 3 is a constant amount and the remaining 50 wt% is Al 2 O 3 and SiO 2 , α 2 is obtained in the absence of Al 2 O 3 (Sample C1).
When the quartz crystal contains 5 to 10% by weight of Al 2 O 3 (Samples 2 and 3), the β-spodumene crystal is
When 30 wt% of Al 2 O 3 was included (Samples 4 to 6), β-eucryptite crystals were precipitated.

【0025】また,2.5重量%Li2 O─40重量%
PbO─5重量%B2 3 を一定量とし,Al2 3
びSiO2 の量を変えた場合には,Al2 3 が20〜
30重量%の場合(試料8,9)に鉛長石結晶が析出し
た。β−スポジューメン結晶,β−ユークリプタイト結
晶は低熱膨張性結晶である。一方,α−石英結晶は,5
73℃でβ−石英結晶に相転移して,その際に,かなり
の体積膨張を生じる結晶である。また,鉛長石結晶は,
熱膨張が大きい結晶である。
2.5 wt% Li 2 O-40 wt%
When the amount of PbO-5 wt% B 2 O 3 is fixed and the amounts of Al 2 O 3 and SiO 2 are changed, the amount of Al 2 O 3 is 20 to 20%.
Lead feldspar crystals were precipitated in the case of 30% by weight (Samples 8 and 9). β-spodumene crystals and β-eucryptite crystals are low thermal expansion crystals. On the other hand, α-quartz crystal has 5
It is a crystal that undergoes a phase transition to a β-quartz crystal at 73 ° C. and undergoes a considerable volume expansion at that time. In addition, the lead feldspar crystal is
It is a crystal with a large thermal expansion.

【0026】この中,βーユークリプタイト結晶が析出
する場合(試料4〜9)には,ガラス原料の熱膨張が特
に低かった。特に,15重量%Al2 3 ─35重量%
SiO2 の場合(試料4)には,熱膨張係数も低かっ
た。次に,ガラス原料のガラス転移点は,390〜54
8℃の範囲内の低い値であった。
Among these, when β-eucryptite crystals were precipitated (Samples 4 to 9), the thermal expansion of the glass raw material was particularly low. In particular, 15 wt% Al 2 O 3 -35 wt%
In the case of SiO 2 (Sample 4), the coefficient of thermal expansion was also low. Next, the glass transition point of the glass raw material is 390 to 54
It was a low value within the range of 8 ° C.

【0027】特に,試料4のガラスフラックスは,ガラ
ス転移点が390℃,熱膨張係数が1.57×10-6
℃と,いずれも低い値を示した。以上のことから,本発
明のガラスフラックス(試料2〜9)は,低熱膨張性
で,かつ低融点であることがわかる。
In particular, the glass flux of sample 4 has a glass transition point of 390 ° C. and a thermal expansion coefficient of 1.57 × 10 −6 /
Both showed low values at ℃. From the above, it is understood that the glass flux (Samples 2 to 9) of the present invention has low thermal expansion and low melting point.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 Li2 O 1〜10重量% Al2 3 5〜35重量% SiO2 20〜65重量% PbO 20〜60重量% B2 3 1〜10重量% 上記の組成となるようにガラス原料を混合し,溶融し,
冷却後固化後,微粉砕してなることを特徴とする低熱膨
張性ガラスフラックス。
1. Li 2 O 1-10 wt% Al 2 O 3 5-35 wt% SiO 2 20-65 wt% PbO 20-60 wt% B 2 O 3 1-10 wt% Glass raw materials are mixed and melted,
A low-thermal-expansion glass flux characterized by being finely ground after cooling and solidifying.
【請求項2】 請求項1において,上記ガラス原料は,
アルカリ金属酸化物,アルカリ土類金属酸化物,ZnO
のグループから選ばれた1種又は2種以上の溶化剤を含
むことを特徴とする低熱膨張性ガラスフラックス。
2. The glass raw material according to claim 1,
Alkali metal oxides, alkaline earth metal oxides, ZnO
A low-thermal-expansion glass flux comprising one or more solubilizers selected from the group of 1.
【請求項3】 請求項1,又は2において,上記ガラス
原料は,TiO2 ,ZrO2 ,SnO2 ,WO3 ,Nb
2 5 ,P2 5 のグループから選ばれた1種又は2種
以上の結晶化剤を含むことを特徴とする低熱膨張性ガラ
スフラックス。
3. The glass material according to claim 1, wherein the glass raw material is TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , WO 3 , Nb.
A low-thermal-expansion glass flux containing one or more crystallization agents selected from the group of 2 O 5 and P 2 O 5 .
【請求項4】 請求項1,2,又は3において,上記ガ
ラスフラックスには,陶磁器用顔料,絵具,有機金属の
グループから選ばれた1種又は2種以上の着色原料が添
加されていることを特徴とする低熱膨張性ガラスフラッ
クス。
4. The glass flux according to claim 1, wherein one or more coloring materials selected from the group consisting of pigments for ceramics, paints and organic metals are added to the glass flux. A low thermal expansion glass flux characterized by.
【請求項5】 請求項1乃至3,又は4において,上記
ガラスフラックスは,β−スポジューメン結晶,又はβ
−ユークリプタイト結晶の少なくとも1種を含有するこ
とを特徴とする低熱膨張性ガラスフラックス。
5. The glass flux according to claim 1, wherein the glass flux is β-spodumene crystal or β-spodumene crystal.
A low thermal expansion glass flux containing at least one eucryptite crystal.
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