JPH07263198A - 加速器及び真空排気装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明の第１の目的は、放射光の利用効率が高
く、小型で安価な加速器を提供することにある。本発明
の第２の目的は、超高真空まで排気できる小型の真空排
気装置を提供することにある。 【構成】真空チェンバ１０３は、電子ビームの周回軌道
１０６を覆うビーム室１と、ビームからの放射光を通過
させるスロット２と、真空排気ポンプを設置するポンプ
室３と、ポンプ室３とビーム室１を連通するポンピング
スロット４とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は加速器に係り、特に放射
光を出射して利用するのに好適な加速器及びこれに用い
る真空排気装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の超高真空を必要とする加速器とし
ては、例えば、SPring−8 PROJECT,PART I, FACILITY D
ESIGN 1990 [DRAFT], February 1991, P2−103, JAERI
−RIKEN SPring−8 Project Teamに記載の放射光用電子
蓄積リングがある。本従来例では、真空チェンバが、ビ
ームの通るビーム室と、分布型イオンポンプ（Distribu
ted Ion Pump、以下、ＤＩＰポンプと呼ぶ）を設置する
ＤＩＰ室と、非蒸発型ゲッターポンプ（Non Evaporable
Getter Pump、以下、ＮＥＧポンプと呼ぶ）を設置する
ＮＥＧ室とから構成され、ＤＩＰポンプとＮＥＧポンプ
は別々の室に設置されている。ビーム室の真空排気は、
ＮＥＧポンプのゲッター作用による気体分子の吸着、及
びＤＩＰポンプによる不活性ガスの吸着で行われる。

【０００３】電子ビームはビーム室のほぼ中心軌道を通
過し、放射光を軌道の接線方向に放出する。接線方向に
放出された放射光は、ポンピングスロットを通って、一
部はＮＥＧ室を通って、リング外に導かれる構造となっ
ている。

【０００４】他に、電子蓄積リングや電子シンクロトロ
ンの偏向部の電子軌道の内側に、イオンポンプ等の組込
みポンプを配置した従来技術として、特開昭62−133700
号，特開昭63−269500号，特開平1−120800号、及び特
開平4−363900号公報に記載のものがある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記第１の従来技術で
は、放射光がＮＥＧポンプや他の構成部品に当ってこれ
を溶かしたり、ガスを放出して真空度を低下させたり、
放射光の出射効率（利用効率）が低下するなどの問題が
ある。これらを避けるためには、ＮＥＧ室をNEGポンプ
の数倍の大きさにしたり、ＮＥＧポンプ自身をＮＥＧ室
より十分小さくする必要がある。

【０００６】しかし、ＮＥＧ室をＮＥＧポンプの数倍の
大きさにすると、ＮＥＧ室が大きくなり、加速器の蓄積
リングそのものが大型化してしまう。また、ＮＥＧポン
プをＮＥＧ室より十分小さくすると、真空排気能力が低
下して超高真空の達成が困難となる。更に、このような
真空チェンバはほとんど押出によって作るため、複雑な
形状の寸法精度を出すことが極めて困難で、押出の歩止
まりが非常に悪い。

【０００７】また、第２乃至第５の従来技術では、組込
みポンプを小型にして電子蓄積リング又は電子シンクロ
トロン自体を小型にすると、組込みポンプの排気能力が
不足して、十分な超高真空を得ることができない場合が
ある。この場合は、周回する電子ビームが残留ガスとの
衝突で失われてしまうので、取り出せる放射光の量が減
り、ひいては放射光の利用効率の低下をまねく。

【０００８】本発明の第１の目的は、放射光の利用効率
が高く、小型で安価な加速器を提供することにある。

【０００９】本発明の第２の目的は、超高真空まで排気
できる小型の真空排気装置を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るための第１の手段は、荷電粒子ビームを周回させて放
射光を取り出す加速器において、ビーム周回軌道の内側
の偏向磁場が存在する領域にイオンポンプ及びゲッター
ポンプを一体化して構成した真空排気装置を設け、ビー
ム周回軌道の外側に放射光取出口を設けた加速器とした
ものである。

【００１１】また、第１の目的を達成するための第２の
手段は、真空チェンバ内で荷電粒子ビームを周回させて
放射光を取り出す加速器において、前記真空チェンバ
は、ビーム周回軌道を覆うビーム室と、ビーム周回軌道
の外側に位置し該ビーム室から前記放射光を取り出す放
射光取出室と、ビーム周回軌道の内側に位置し前記ビー
ム室の真空排気を行う真空排気装置を内蔵する真空排気
室とで構成され、前記真空排気装置はイオンポンプ及び
ゲッターポンプを一体化して構成され、偏向磁場の存在
する領域に設置される加速器としたものである。

【００１２】また、第２の目的を達成するための第３の
手段は、アノードと、該アノードの上側及び下側に設け
た上部カソード及び下部カソードとを有するイオンポン
プを備え、前記上部カソードの上側又は前記下部カソー
ドの下側のうち少なくとも一方に、ジュール加熱で表面
を活性化してガスを吸着するストリップを設けて、ゲッ
ターポンプを構成した真空排気装置としたものである。

【００１３】また、第２の目的を達成するための第４の
手段は、アノードと、該アノードの上側及び下側に設け
た上部カソード及び下部カソードとを有するイオンポン
プを備え、前記上部カソード又は前記下部カソードのう
ち少なくとも一方を、ジュール加熱で表面を活性化して
ガスを吸着するストリップとして用いて、ゲッターポン
プを構成した真空排気装置としたものである。

【００１４】また、第２の目的を達成するための第５の
手段は、アノードと、該アノードの上側及び下側に設け
た上部カソード及び下部カソードとを有するイオンポン
プを備え、前記アノードの側面に、ジュール加熱で表面
を活性化してガスを吸着するストリップを設けて、ゲッ
ターポンプを構成した真空排気装置としたものである。

【００１５】

【作用】第１及び第２の手段によれば、真空排気装置を
ビーム周回軌道の内側に配置することにより、加速器本
体を構成する真空チェンバの外形を小型にできると共
に、真空チェンバの構造が簡単になるので、製作コスト
も低減できる。また、真空排気装置が放射光の取り出し
の邪魔になることがないため、ビーム周回軌道の外側の
位置に必要な数の放射光取出口を設置できるので、放射
光の利用効率を高めることができる。更に、偏向磁場の
影響により、イオンポンプで残留ガスをイオン化する電
子の飛行距離を十分長く取ることができるため、イオン
ポンプとゲッターポンプを一体で小型に構成しても、両
方のポンプの吸着能力を効果的に利用できる。従って、
真空排気装置を小型にして真空チェンバを小型化しても
十分な超高真空を得ることができるので、残留ガスによ
るビーム損失を低減し、放射光の利用効率を向上するこ
とができる。

【００１６】また、第３乃至第５の手段によれば、超高
真空用に用いることができるイオンポンプとゲッターポ
ンプとを一体型でコンパクトに構成でき、ゲッターポン
プで吸着しない不活性ガスもイオンポンプで確実に吸着
できるので、小型の真空排気装置でも超高真空まで排気
することができる。

【００１７】

【実施例】以下、本発明の第１の実施例を図１〜図４を
用いて説明する。図１は放射光を取り出して工業用又は
物理実験用に利用する加速器に本発明を適用した第１の
実施例を示す図、図２は図１のＡ−Ａ矢視図、図３は図
２のＢ−Ｂ矢視図、図４は図３のＣ−Ｃ矢視図である。
本加速器は、電子を中程度のエネルギーまで加速して出
射するライナック２００と、ライナック２００から出射
された電子ビームを最終エネルギーまで加速するシンク
ロトロン２０１と、シンクロトロン２０１から出射され
たビームを蓄積する蓄積リング２０２とで構成される。

【００１８】蓄積リング２０２は、ビーム軌道を補正す
る４極電磁石１０１，ビームを偏向する偏向電磁石１０
２，ビームの周回軌道１０６を覆い、内部が真空排気さ
れる真空チェンバ１０３，真空チェンバ１０３内を超高
真空に排気する真空排気ポンプ１０４などで構成され
る。

【００１９】図２に図１のＡ−Ａ矢視図を示す。真空チ
ェンバ１０３は、電子ビームの周回軌道１０６（ビーム
は図２の紙面を上面から下面に周回する）を覆うビーム
室１と，ビームからの放射光を通過させるスロット２
と，真空排気ポンプを設置するポンプ室３と，ポンプ室
３とビーム室１を連通するポンピングスロット４とを備
える。ビーム室１の周囲には温水ベーキングのための温
水チャンネル５が設けてある。

【００２０】偏向電磁石１０２は、真空チェンバ１０３
を上下から挟むように配置される断面がコの字型のコア
１０２ａと、コア１０２ａの対向した磁極に巻かれたコ
イル１０２ｂとで構成され、磁極間に発生する偏向磁場
がビーム室１及びポンプ室３を上下方向（垂直方向）に
貫くようにしている。

【００２１】ポンプ室３はビーム室１の内側、即ちビー
ムの周回軌道１０６の内側に位置し、スロット２から取
り出す放射光の通路を妨害しないようにしている。この
ように、真空チェンバ１０３の内側にポンプ室３を配置
することにより、蓄積リング２０２の外形を小型にでき
る。また、真空排気ポンプが放射光の取り出しの邪魔に
なることがないため、ビーム周回軌道の外側の位置に必
要な数の放射光取出口を設置できるので、放射光の利用
効率を向上することができる。

【００２２】また、偏向電磁石１０２の発生する偏向磁
場がビーム室１及びポンプ室３を上下方向に貫くように
配置しているので、ビームの偏向を確実に行うと共に、
ポンプ室３に設置するＤＩＰポンプ部（分布型イオンポ
ンプ部）６での真空排気能力を効果的に高めている。即
ち、偏向磁場の影響により、イオンポンプで残留ガスを
イオン化する電子の飛行距離を十分長く取ることができ
るので、真空排気ポンプを小型にしても真空チェンバ内
を十分な超高真空まで排気することができる。ポンプ室
３に設置する真空ポンプは、ＤＩＰポンプ部６とＮＥＧ
ポンプ部（非蒸発型ゲッターポンプ部）７で構成され
る。ＤＩＰポンプ部６は、高電圧を印加する５枚の板状
のアノード８と、アノード８を上下から挟むように配置
した２枚のカソード９と、ＤＩＰポンプ間を周回方向に
連結する連結部１０とからなる。カソード９から放出さ
れた電子は、カソード９とアノード８の間の電界（ＤＩ
Ｐ電界）で加速され、ポンプ室３内に存在するガスをイ
オン化する。こうしてイオン化されたガスは、ＤＩＰ電
界でカソード９の方に加速され、カソード９の表面に直
接吸着したり、カソード９の表面をスパッタして新たに
現れた面に吸着したりする。このようにして、ＤＩＰポ
ンプによる真空排気が行われる。カソード９としては、
チタン材などを用いることができる。

【００２３】アノード８には直径１５mm程度の穴２２が
開いており、５〜１０ｋＶの高電圧を印加できるように
なっている。中央のアノード板１１が上下にある他のア
ノード板１２より厚くなっており、このアノード板１１
でアノード全体を支える構造となっている。アノード板
の支持は、セラミックス製ブッシュ１３やブッシュ１３
に汚れが付着するのを防ぐ保護キャップ１４で行われ
る。

【００２４】ＤＩＰポンプの各ユニット間を連結する連
結部１０は、真空チェンバ１０３が曲がっているため、
真空チェンバ１０３に沿って挿入できるようにバネ構造
となっているカソード接続板１４ａと、アノード接続板
１５及び連結ピン１６からなる。これにより４個のユニ
ットを連結して一式分のＤＩＰポンプ部が構成される。

【００２５】ＮＥＧポンプ部７は、ＤＩＰポンプのカソ
ード９上に設置したベースプレート１７と、ガスを吸着
するＮＥＧストリップ１８と、ＮＥＧストリップ１８を
支持するサポート１９等で構成される。サポート１９と
ベースプレート１７は、アルミナセラミックス製の絶縁
板２０により絶縁されている。ＮＥＧストリップ１８の
両端はフィードスルー２１に接続され、ＮＥＧストリッ
プ１８に通電可能な構造となっている。

【００２６】フィードスルー２１を介してＮＥＧストリ
ップ１８に通電することによってジュール加熱で表面を
活性化し、ガスをＮＥＧストリップ１８の表面に吸着し
て、ポンプ室３内の真空排気を行う。尚、ＮＥＧストリ
ップ１８はポンプ室３の曲率によっては、ＤＩＰポンプ
のようにユニット単位に分割して構成してもよい。

【００２７】このように、ＤＩＰポンプとＮＥＧポンプ
を一体化した真空排気ポンプを構成することにより、Ｎ
ＥＧポンプで吸着しない不活性ガスもＤＩＰポンプで確
実に吸着できるので、小型でも超高真空まで排気するこ
とができる。従って、残留ガスによるビーム損失を低減
し、放射光の利用効率を向上することができる。

【００２８】実際に用いる真空排気装置は、図１１に示
すようにＤＩＰポンプとＮＥＧポンプを一体化した真空
排気ポンプと、偏向電磁石のコア２９（３０はコイル）
で上下を挟まれ、真空排気ポンプを収納する真空容器３
６と、フィードスルー２１を介してＤＩＰポンプのアノ
ード８に高電圧を供給するＤＩＰポンプ電源３４と、フ
ィードスルー２１を介してＮＥＧポンプのストリップに
電流を供給するＮＥＧポンプ電源３３とから構成され
る。

【００２９】次に、真空排気ポンプによる真空排気手順
について説明する。まず、蓄積リング２０２の偏向電磁
石１０２が配置されていない位置に接続したロータリー
ポンプおよびターボ分子ポンプ（図示せず）を用いて真
空チェンバ１０３内を１０^-7Ｔorr 台まで粗引きする。
次に、ＮＥＧストリップ１８に通電して約４５０℃にス
トリップを加熱する。この状態を１時間程度保持するこ
とによってストリップが活性化され、超高真空の排気を
行う。但し、不活性ガスはＮＥＧストリップに吸着され
ないので、ＤＩＰポンプに約５ｋＶの高電圧を印加して
不活性ガスを電離させ、カソードにガスを吸着させる。
このようにして１０^-10Ｔorr台の超高真空が得られる。

【００３０】次に、本実施例における真空チェンバ１０
３の構造について、図９及び図１０を用いて説明する。
図９は真空チェンバ１０３のビーム周回方向に垂直な断
面図、図１０は図９のＤ−Ｄ矢視図である。蓄積リング
２０２を構成する真空チェンバ１０３のポンプ室３とビ
ーム室１は、周回方向に連続したスリット２６で連通さ
れており、その両端部２８は中心部材２７を固定するた
め真空チェンバ１０３に溶接止めされている。

【００３１】このように周回方向に連続したスリット２
６を設けることにより、ビーム室１内をポンプ室３に設
置した真空ポンプで超高真空まで排気することができ
る。また、このようなスリット形状にしても、真空チェ
ンバ１０３の幅（図９の横方向の長さ）が短いために、
大気との圧力差によるチェンバ中心のへこみも問題ない
程度に小さくできるので、強度的にも十分な真空チェン
バとすることができる。更に、スリット状の連通口を採
用できるため、ビーム室１，スロット２及びポンプ室３
が一体で、押出しにより真空チェンバ１０３を製作可能
となるので、製作が非常に簡単になり、ひいては真空チ
ェンバのコスト低減につながる。

【００３２】また、真空チェンバの構造が単純になるた
め、押出によって作る真空チェンバの寸法精度が得易
い。例えば、従来では１５ｍ押し出しても中心の３ｍの
部分しか精度内に入らなかったものが、ほぼ全長に渡っ
て精度内に入り、歩止りが飛躍的に向上する。この結
果、真空チェンバの製作コストを低減でき、真空チェン
バを安価にすることができる。

【００３３】また、押出時にポンピングスロットを形成
することができるので、従来のように、後でパンチング
や切削による穴加工をする必要がなくなる。更に、真空
チェンバの断面形状が単純になった分だけ端面加工が楽
になり、工数を低減できる。ＮＥＧポンプについても、
放射光との干渉を考える必要がないので、構造を単純化
することができる。

【００３４】尚、上記実施例では蓄積リングにＤＩＰポ
ンプ及びＮＥＧポンプの一体型真空ポンプを設けた例に
ついて説明したが、この一体型真空ポンプをシンクロト
ロンにも用いて加速器を更に小型にすることも可能であ
る。

【００３５】次に、図５を用いて本発明を真空排気装置
に適用した第２の実施例を説明する。真空チェンバ及び
ＤＩＰポンプ部の構造は第１の実施例と同一であるの
で、ここでは説明を省略する。本実施例の真空ポンプ
は、ＤＩＰポンプ部６の上側及び下側の両方にＮＥＧポ
ンプ部を設置して構成される。即ち、ＤＩＰポンプ部６
の上部カソード９の上側と、下部カソード９の下側に絶
縁板２０を介してＮＥＧストリップ１８が接続されてい
る。ここで、ＮＥＧストリップ１８もＤＩＰポンプ部６
と同じようにユニット単位で構成され、各ユニットのＮ
ＥＧストリップ１８は、導線により電気的に接続され
る。

【００３６】本実施例はこのような構成を備えることに
より、上部と下部の両方に設けたＮＥＧストリップ１８
で残留ガスを吸着できるので、第１の実施例の真空ポン
プによりも真空排気能力を向上することができる。

【００３７】次に、図６を用いて本発明を真空排気装置
に適用した第３の実施例を説明する。真空チェンバ及び
ＤＩＰポンプ部６のアノードの構造は第１の実施例と同
一である。本実施例では、ＤＩＰポンプ部６の下部カソ
ードをＮＥＧポンプ部のNEGストリップで構成する。即
ち、図６の２３はカソード兼ストリップである。カソー
ド兼ストリップ２３は、絶縁板２０を下側に設置して真
空チェンバと電気的に絶縁している。

【００３８】本実施例はこのような構成を備えることに
より、第１の実施例の真空ポンプにおけるＮＥＧストリ
ップを省くことができるので、第１の実施例よりも構造
が簡単で小型の真空ポンプを構成することができる。

【００３９】次に、図７を用いて本発明を真空排気装置
に適用した第４の実施例を説明する。真空チェンバの構
造は第１の実施例と同一である。本実施例では、ＤＩＰ
ポンプ部のアノード及びカソードをＮＥＧポンプ部のＮ
ＥＧストリップで構成する。即ち、図７の２３はカソー
ド兼ストリップ、２４はアノード兼ストリップである。
但し、中央のアノード板１１はアノード全体を支えるた
めにＳＵＳ板とする。各ユニット間は、アノード及びカ
ソードそれぞれ独立に導線により電気的に接続される。

【００４０】本実施例も第３の実施例と同様に、第１の
実施例の真空ポンプにおけるＮＥＧストリップを省くこ
とができるので、第１の実施例よりも構造が簡単で小型
の真空ポンプを構成することができる。また、中央のア
ノード板１１を除いて全てがストリップとして作用する
ので、真空排気能力を向上することもできる。

【００４１】次に、図８を用いて本発明を真空排気装置
に適用した第５の実施例を説明する。真空チェンバ及び
ＤＩＰポンプ部の構造は第１の実施例と同一である。本
実施例では、ＤＩＰポンプ部の側面にＮＥＧストリップ
２５を配置している。ＮＥＧストリップ２５は絶縁板２
０を介してカソード９に設置されており、各ユニット間
は導線により電気的に接続される。

【００４２】本実施例はＮＥＧストリップ２５の電位を
適切に設定することにより、ＮＥＧストリップ２５をＤ
ＩＰポンプ部のカソードとしても機能させることができ
るので、第１の実施例の真空ポンプよりも真空排気能力
を向上することができる。尚、本実施例ではＮＥＧスト
リップ２５をアノード板１１及び１２と垂直に配置して
いるが、例えば、ＮＥＧストリップ２５をアノード板１
１の側面に平行に配置してもよく、その向きには特に制
限はない。

【００４３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
真空排気装置をビーム周回軌道の内側に配置することに
よって真空チェンバの外形を小型にできるので、小型で
安価な加速器とすることができる。また、真空排気装置
が放射光の取り出しの邪魔にならないので、放射光の利
用効率を高めることができる。更に、偏向磁場の作用を
利用してイオンポンプとゲッターポンプの吸着能力を効
果的に発揮できるため、真空排気装置を小型にしても真
空チェンバ内を十分な超高真空に排気できるので、残留
ガスによるビーム損失を低減し放射光の利用効率を向上
することができる。

【００４４】また、本発明によれば、イオンポンプとゲ
ッターポンプとを一体型でコンパクトに構成し、ゲッタ
ーポンプで吸着しない不活性ガスもイオンポンプで確実
に吸着できるので、小型の真空排気装置でも超高真空ま
で排気することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】放射光を取り出して工業用又は物理実験用に利
用する加速器に本発明を適用した第１の実施例を示す
図。

【図２】図１のＡ−Ａ矢視図。

【図３】図２のＢ−Ｂ矢視図。

【図４】図３のＣ−Ｃ矢視図。

【図５】本発明を真空排気装置に適用した第２の実施例
を示す図。

【図６】本発明を真空排気装置に適用した第３の実施例
を示す図。

【図７】本発明を真空排気装置に適用した第４の実施例
を示す図。

【図８】本発明を真空排気装置に適用した第５の実施例
を示す図。

【図９】真空チェンバのビーム周回方向に垂直な断面
図。

【図１０】図９のＤ−Ｄ矢視図。

【図１１】第１の実施例の真空排気装置の説明図。

【符号の説明】

１…ビーム室、２…スロット、３…ポンプ室、４…ポン
ピングスロット、６…ＤＩＰポンプ部、７…ＮＥＧポン
プ部、８…アノード、９…カソード、１０…連結部、１
１，１２…アノード板、１３…セラミックスブッシュ、
１４…保護キャップ、１４ａ…カソード接続板、１６…
連結ピン、１７…ベースプレート、１８，２５…ＮＥＧ
ストリップ、１８ａ…導線、１９…サポート、２０…絶
縁板、２１…フィードスルー、２２…アノード穴、２３
…カソード兼ストリップ、２４…アノード兼ストリッ
プ、２６…スリット、１０１…４極電磁石、１０２…偏
向電磁石、１０３…真空チェンバ、１０４…真空排気ポ
ンプ、１０６…ビーム周回軌道、２００…ライナック、
２０１…シンクロトロン、２０２…蓄積リング。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 啓之 茨城県日立市幸町三丁目１番１号 株式会 社日立製作所日立工場内 (72)発明者 鈴木 洋三 茨城県日立市幸町三丁目１番１号 株式会 社日立製作所日立工場内 (72)発明者 小針 利明 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社日 立製作所機械研究所内 (72)発明者 松本 学 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社日 立製作所機械研究所内

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】荷電粒子ビームを周回させて放射光を取り
   出す加速器において、 ビーム周回軌道の内側の偏向磁場が存在する領域にイオ
   ンポンプ及びゲッターポンプを一体化して構成した真空
   排気装置を設け、 ビーム周回軌道の外側に放射光取出口を設けたことを特
   徴とする加速器。
2. 【請求項２】荷電粒子ビームを周回させて放射光を取り
   出す加速器において、 前記ビームを偏向する２極磁場を発生する磁場発生手段
   と、 前記２極磁場が存在する領域のうち、ビーム周回軌道の
   内側の領域に設けたイオンポンプ及びゲッターポンプの
   一体化した真空排気装置と、 ビーム周回軌道の外側に設けた放射光取出口とを備えた
   ことを特徴とする加速器。
3. 【請求項３】請求項１又は２において、前記イオンポン
   プのアノードとカソード間の電場の方向が前記偏向磁場
   又は２極磁場の方向と概ね一致することを特徴とする加
   速器。
4. 【請求項４】真空チェンバ内で荷電粒子ビームを周回さ
   せて放射光を取り出す加速器において、 前記真空チェンバは、ビーム周回軌道を覆うビーム室
   と、ビーム周回軌道の外側に位置し該ビーム室から前記
   放射光を取り出す放射光取出室と、ビーム周回軌道の内
   側に位置し前記ビーム室の真空排気を行う真空排気装置
   を内蔵する真空排気室とで構成され、 前記真空排気装置はイオンポンプ及びゲッターポンプを
   一体化して構成され、偏向磁場の存在する領域に設置さ
   れることを特徴とする加速器。
5. 【請求項５】請求項４において、前記真空排気室と前記
   ビーム室との連通部は、ビーム周回軌道方向に細長いス
   リット状の形状を有することを特徴とする加速器。
6. 【請求項６】アノードと、該アノードの上側及び下側に
   設けた上部カソード及び下部カソードとを有するイオン
   ポンプを備え、 前記上部カソードの上側又は前記下部カソードの下側の
   うち少なくとも一方に、ジュール加熱で表面を活性化し
   てガスを吸着するストリップを設けて、ゲッターポンプ
   を構成したことを特徴とする真空排気装置。
7. 【請求項７】アノードと、該アノードの上側及び下側に
   設けた上部カソード及び下部カソードとを有するイオン
   ポンプを備え、 前記上部カソード又は前記下部カソードのうち少なくと
   も一方を、ジュール加熱で表面を活性化してガスを吸着
   するストリップとして用いて、ゲッターポンプを構成し
   たことを特徴とする真空排気装置。
8. 【請求項８】請求項７において、更に前記アノードを前
   記ストリップで構成したことを特徴とする真空排気装
   置。
9. 【請求項９】アノードと、該アノードの上側及び下側に
   設けた上部カソード及び下部カソードとを有するイオン
   ポンプを備え、 前記アノードの側面に、ジュール加熱で表面を活性化し
   てガスを吸着するストリップを設けて、ゲッターポンプ
   を構成したことを特徴とする真空排気装置。
10. 【請求項１０】請求項９において、前記ストリップは前
    記アノードを囲むように設けられたことを特徴とする真
    空排気装置。
11. 【請求項１１】請求項６乃至１０の何れかに記載の真空
    排気装置と、前記イオンポンプのアノードに高電圧を供
    給する第１の電源と、前記ゲッターポンプのストリップ
    に電流を供給する第２の電源とを備えることを特徴とす
    る真空排気装置。
12. 【請求項１２】荷電粒子ビームを周回させて放射光を取
    り出す加速器において、 ビーム周回軌道の内側の偏向磁場が存在する領域に、請
    求項６乃至１０の何れかに記載の真空排気装置を設け、 ビーム周回軌道の外側に放射光取出口を設けたことを特
    徴とする加速器。