JPH07258586A - Cationic electrodeposition coating composition - Google Patents

Cationic electrodeposition coating composition

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JPH07258586A
JPH07258586A JP6073818A JP7381894A JPH07258586A JP H07258586 A JPH07258586 A JP H07258586A JP 6073818 A JP6073818 A JP 6073818A JP 7381894 A JP7381894 A JP 7381894A JP H07258586 A JPH07258586 A JP H07258586A
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electrodeposition coating
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光夫 山田
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Abstract

PURPOSE:To provide a cationic electrodeposition coating composition to which both low-temperature curability and high corrosion resistance are imparted without using any lead compound. CONSTITUTION:The composition contains a base resin containing cationic groups, a blocked isocyanate curing agent and a deblocking catalyst for the blocked isocyanate curing agent. The deblocking catalyst contains at least one metal compound selected from the group consisting of an organotin compound, organic acid salts of cobalt, nickel and zinc and a diketone metal complex.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電着塗料組成物、特
に、カチオン電着塗料組成物に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an electrodeposition coating composition, and more particularly to a cationic electrodeposition coating composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】カチオン電着塗料組成物は、一般に、カ
チオン性基を含む基体樹脂と、ブロックイソシアネート
系硬化剤と、ブロックイソシアネート系硬化剤の解離触
媒とを含んでいる。ここで、解離触媒は、ブロックイソ
シアネート系硬化剤のブロック部を解離させてイソシア
ネート基の再生を促進するための成分である。
BACKGROUND OF THE INVENTION Cationic electrodeposition coating compositions generally contain a base resin containing a cationic group, a blocked isocyanate curing agent, and a dissociation catalyst for the blocked isocyanate curing agent. Here, the dissociation catalyst is a component for dissociating the block portion of the blocked isocyanate-based curing agent and promoting regeneration of the isocyanate group.

【0003】ところで、この種のカチオン電着塗料組成
物は、主として自動車の車体や部品のプライマー用に用
いられており、高耐食性の塗膜が形成可能な塗膜形成能
が求められている。このような塗膜形成能を実現するた
めに、一般的なカチオン電着塗料組成物は、防錆顔料と
しての塩基性鉛顔料を更に含んでいる。ところが、鉛系
の顔料は、環境汚染を防止する観点から使用が回避され
つつある。このため、カチオン電着塗料組成物に関して
は、鉛系化合物を用いずに鉛系化合物を用いた場合と同
等の耐食性を実現可能な塗膜形成能が求められている。
By the way, this kind of cationic electrodeposition coating composition is mainly used as a primer for automobile bodies and parts, and is required to have a coating film forming ability capable of forming a coating film having high corrosion resistance. In order to realize such coating film forming ability, a general cationic electrodeposition coating composition further contains a basic lead pigment as a rust preventive pigment. However, lead-based pigments are being avoided from the viewpoint of preventing environmental pollution. Therefore, the cationic electrodeposition coating composition is required to have a coating film forming ability capable of achieving the same corrosion resistance as that obtained when a lead-based compound is used instead of a lead-based compound.

【0004】一方、カチオン電着塗料組成物に関して
は、低温硬化性も要求されている。これは、電着塗装時
の浴温を低く設定することにより、電着塗装時にかかる
エネルギーコストの低減を図るためである。
On the other hand, the cationic electrodeposition coating composition is also required to have low-temperature curability. This is to reduce the energy cost required for electrodeposition coating by setting the bath temperature at the time of electrodeposition coating low.

【0005】上述の要求を同時に実現するためのカチオ
ン電着塗料組成物として、ポリアミドを変性剤とした特
定のエポキシ−ポリアミン系樹脂と、ブロックイソシア
ネート系硬化剤と、ベンゾエート系有機錫化合物と、ビ
スマス系化合物またはジルコニウム系化合物とを含むも
のが提案されている(特開平5−311099号)。
As a cationic electrodeposition coating composition for simultaneously fulfilling the above requirements, a specific epoxy-polyamine resin containing polyamide as a modifier, a blocked isocyanate curing agent, a benzoate organic tin compound, and bismuth. A compound containing a base compound or a zirconium compound has been proposed (JP-A-5-311099).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】前記従来のカチオン電
着塗料組成物は、鉛系化合物を含んでいないにもかかわ
らず、耐食性の良好な塗膜が形成でき、また低温硬化性
も良好であるが、ビスマス系化合物やジルコニウム系化
合物等の高価な材料を用いる必要があるので、コスト高
である。また、ビスマス系化合物やジルコニウム系化合
物は、それぞれ単独では塗料中に均一に混ざりにくいの
で、カチオン電着塗料の取扱い性を損なう。
The above-mentioned conventional cationic electrodeposition coating composition is capable of forming a coating film having good corrosion resistance and good low-temperature curability even though it does not contain a lead compound. However, since it is necessary to use an expensive material such as a bismuth compound or a zirconium compound, the cost is high. Further, since the bismuth-based compound and the zirconium-based compound are difficult to mix uniformly in the paint by themselves, they impair the handleability of the cationic electrodeposition paint.

【0007】本発明の目的は、鉛系化合物を用いずに、
低温硬化性と高耐食性とを同時にかつ安価に実現するこ
とにある。
An object of the present invention is to use lead-free compounds,
It is to realize low temperature curability and high corrosion resistance at the same time and at low cost.

【0008】本発明のカチオン電着塗料組成物は、カチ
オン性基を含む基体樹脂と、ブロックイソシアネート系
硬化剤と、ブロックイソシアネート系硬化剤の解離触媒
とを含んでいる。ここで、解離触媒は、有機錫化合物
と、コバルト,ニッケルまたは亜鉛の有機酸塩およびジ
ケトン金属錯体からなる群から選ばれた少なくとも1種
の金属化合物とを含んでいる。
The cationic electrodeposition coating composition of the present invention contains a base resin containing a cationic group, a blocked isocyanate curing agent, and a dissociation catalyst for the blocked isocyanate curing agent. Here, the dissociation catalyst contains an organotin compound and at least one metal compound selected from the group consisting of cobalt, nickel or zinc organic acid salts and diketone metal complexes.

【0009】ここで、有機錫化合物は、例えば下記の一
般式(1)および(2)で示される有機錫化合物群から
選ばれた少なくとも1種の有機錫化合物である。また、
有機酸塩は、例えば下記の一般式(3)で示される有機
酸金属塩である。
Here, the organic tin compound is, for example, at least one organic tin compound selected from the group of organic tin compounds represented by the following general formulas (1) and (2). Also,
The organic acid salt is, for example, an organic acid metal salt represented by the following general formula (3).

【0010】[0010]

【化4】 [Chemical 4]

【0011】[0011]

【化5】 [Chemical 5]

【0012】一般式(1)および(2)中、R1 および
3 は、それぞれ炭素数が1〜12個のアルキル基また
はアリール基である。R2 は、水素原子、または炭素数
が1〜21個のアルキル基,アルケニル基,アラルキル
基,シクロアルキル基,アルコキシアルキル基またはア
リール基である。XおよびYは、OCOR2 、OH、ハ
ロゲン、O1/2またはS1/2である。Zは、O、S
または2価のカルボン酸残基である。pは、0または1
の整数である。
In the general formulas (1) and (2), R 1 and R 3 are each an alkyl group or an aryl group having 1 to 12 carbon atoms. R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, cycloalkyl group, alkoxyalkyl group or aryl group having 1 to 21 carbon atoms. X and Y are OCOR 2 , OH, halogen, O1 / 2 or S1 / 2. Z is O, S
Alternatively, it is a divalent carboxylic acid residue. p is 0 or 1
Is an integer.

【0013】[0013]

【化6】 [Chemical 6]

【0014】一般式(3)中、R4 は、水素原子、また
は炭素数が1〜21個のアルキル基,アルケニル基,ア
ラルキル基,シクロアルキル基,アルコキシアルキル基
またはアリール基である。Mは、コバルト、ニッケルま
たは亜鉛である。qは、0または1の整数である。 *******
In the general formula (3), R 4 is a hydrogen atom, or an alkyl group having 1 to 21 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxyalkyl group or an aryl group. M is cobalt, nickel or zinc. q is an integer of 0 or 1. ********

【0015】基体樹脂 本発明で用いられる基体樹脂は、カチオン電着塗料用に
通常利用されるものであればよく、特に限定されない。
カチオン電着塗料用の具体的な基体樹脂としては、例え
ばアミノ基含有モノマーを共重合またはグラフト重合し
たもの、エポキシ基含有ポリマーにアミンを付加したも
の、エポキシ基含有ポリマーをオニウム塩化したもの、
ジカルボン酸とポリアミンとの反応生成物、マレイン化
ポリマーにアミンを付加したもの、イソシアネート含有
ポリマーにアミンを付加したもの等が挙げられる。
Base Resin The base resin used in the present invention is not particularly limited as long as it is usually used for cationic electrodeposition coating.
Specific base resins for cationic electrodeposition coatings include, for example, those obtained by copolymerizing or graft-polymerizing an amino group-containing monomer, those obtained by adding an amine to an epoxy group-containing polymer, and those obtained by onium chloride of an epoxy group-containing polymer,
Examples thereof include a reaction product of a dicarboxylic acid and a polyamine, a maleated polymer to which an amine has been added, and an isocyanate-containing polymer to which an amine has been added.

【0016】本発明で用いられる基体樹脂として好まし
いものは、アミノ基含有樹脂である。具体的には、1級
または2級の水酸基と、1級、2級または3級のアミノ
基とを含む、アミノ価が30〜150でありかつ平均分
子量が200〜20,000のアミノ−エポキシ樹脂、
アミノ−ポリ(メタ)アクリレート樹脂、およびアミノ
−ポリウレタン樹脂である。なお、この種の基体樹脂に
含まれる水酸基およびアミノ基は、それぞれ1種類でも
よいし、2種類以上でもよい。なお、アミノ価が30未
満の場合は、安定なエマルションを得にくくなる。逆
に、150を越えると、クーロン効率や再溶解性等のE
D作業性に問題が生じるおそれがある。なお、アミノ価
のより好ましい範囲は、45〜120である。
Preferred as the base resin used in the present invention are amino group-containing resins. Specifically, an amino-epoxy having a primary or secondary hydroxyl group and a primary, secondary or tertiary amino group and having an amino value of 30 to 150 and an average molecular weight of 200 to 20,000. resin,
Amino-poly (meth) acrylate resins and amino-polyurethane resins. The number of hydroxyl groups and the number of amino groups contained in this type of base resin may be one or two or more. When the amino value is less than 30, it becomes difficult to obtain a stable emulsion. On the other hand, if it exceeds 150, E
D Workability may be a problem. A more preferable range of amino value is 45 to 120.

【0017】本発明で用いられる基体樹脂として最も好
ましいものは、分子内にオキサゾリドン環を含む変性エ
ポキシ樹脂である。この変性エポキシ樹脂は、ジイソシ
アネート化合物を反応させたビスウレタン化合物あるい
は他の活性水素化合物を反応させたヘテロウレタン化合
物と、エポキシ樹脂とを脱アルコール反応させることに
より得ることができる。このようなオキサゾリドン環を
含む基体樹脂を用いれば、加熱減量に起因する塗膜のや
せが起こりにくくなる。
The most preferable base resin used in the present invention is a modified epoxy resin containing an oxazolidone ring in the molecule. The modified epoxy resin can be obtained by dealcoholizing a bisurethane compound reacted with a diisocyanate compound or a heterourethane compound reacted with another active hydrogen compound with an epoxy resin. When such a base resin containing an oxazolidone ring is used, it becomes difficult for the coating film to become thin due to the heat loss.

【0018】硬化剤 本発明で用いられるブロックイソシアネート系硬化剤
は、一般的なブロックイソシアネート系硬化剤、即ち、
ポリイソシアネート化合物に含まれるイソシアネート基
にブロック化剤を付加したものである。なお、硬化剤
は、通常3つ以上の官能基を有しているため、本発明で
用いられるブロックイソシアネート系硬化剤に含まれる
ブロックイソシアネート基の個数も3つ以上が好まし
い。
Curing Agent The blocked isocyanate curing agent used in the present invention is a general blocked isocyanate curing agent, that is,
A blocking agent is added to the isocyanate group contained in the polyisocyanate compound. Since the curing agent usually has three or more functional groups, the number of blocked isocyanate groups contained in the blocked isocyanate curing agent used in the present invention is also preferably three or more.

【0019】上述のポリイソシアネート化合物として
は、トリメチレンジイソシアネート,トリメチルヘキサ
メチレンジイソシアネート,テトラメチレンジイソシア
ネート,ヘキサメチレンジイソシアネート等のアルキレ
ンジイソシアネート、ビス(イソシアネートメチル)シ
クロヘキサン,シクロペンタンジイソシアネート,シク
ロヘキサンジイソシアネート,イソホロンジイソシアネ
ート等のシクロアルキレン系ジイソシアネート、トリレ
ンジイソシアネート,フェニレンジイソシアネート,ジ
フェニルメタンジイソシアネート,ジフェニルエーテル
ジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、キシリ
レンジイソシアネート,ジイソシアネートジエチルベン
ゼン等の芳香脂肪族ジイソシアネート、トリフェニルメ
タントリイソシアネート,トリイソシアネートベンゼ
ン,トリイソシアネートトルエン等のトリイソシアネー
ト、ジフェニルジメチルメタンテトライソシアネート等
のテトライソシアネート、トリレンジイソシアネートの
2量体または3量体等の重合ポリイソシアネート、上記
各種ポリイソシアネート化合物にエチレングリコール,
プロピレングリコール,ジエチレングリコール,トリメ
チロールプロパン,水添ビスフェノールA,ヘキサント
リオール,グリセリン,ペンタエリスリトール,ヒマシ
油,トリエタノールアミン等の低分子活性水素含有有機
化合物を反応させて得られる末端イソシアネート含有化
合物等が挙げられる。
Examples of the above-mentioned polyisocyanate compound include alkylene diisocyanates such as trimethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, cyclopentane diisocyanate, cyclohexane diisocyanate and isophorone diisocyanate. Aromatic diisocyanates such as cycloalkylene-based diisocyanates, tolylene diisocyanates, phenylene diisocyanates, diphenylmethane diisocyanates, diphenyl ether diisocyanates, xylylene diisocyanates, diisocyanates Aromatic aliphatic diisocyanates such as diethylbenzene, triphenylmethane triisocyanates , Tri isocyanatobenzene, triisocyanate such as triisocyanate toluene, tetraisocyanates, polymerization polyisocyanates such as dimers or trimers of tolylene diisocyanate, ethylene glycol to the various polyisocyanate compounds such as diphenyl dimethyl methane tetra isocyanates,
Examples thereof include terminal isocyanate-containing compounds obtained by reacting low molecular weight active hydrogen-containing organic compounds such as propylene glycol, diethylene glycol, trimethylolpropane, hydrogenated bisphenol A, hexanetriol, glycerin, pentaerythritol, castor oil, and triethanolamine. To be

【0020】一方、ブロック化剤としては、フェノール
類、ラクタム類、アルコール類、アミノアルコール、ア
ミン類或いはイミド類、マロン酸ジエチル,アセト酢酸
メチル,アセト酢酸エチル等の活性メチレン含有化合
物、オキシム類、メルカプタン類、酸アミド類、イミダ
ゾール類、尿素類、カルバミン酸塩類、亜硫酸塩類等が
挙げられる。
On the other hand, as the blocking agent, phenols, lactams, alcohols, amino alcohols, amines or imides, active methylene-containing compounds such as diethyl malonate, methyl acetoacetate and ethyl acetoacetate, oximes, Examples thereof include mercaptans, acid amides, imidazoles, ureas, carbamates and sulfites.

【0021】ここで、フェノール類としては、フェノー
ル、クレゾール、キシレノール、t−ブチルフェノー
ル、p−ノニルフェノール、p−tert−オクチルフ
ェノール、ヒドロキシ安息香酸等が例示できる。ラクタ
ム類としては、ε−カプロラクタム、γ−ブチロラクタ
ム、δ─バレロラクタム、β─プロピオラクタム等が例
示できる。
Examples of the phenols include phenol, cresol, xylenol, t-butylphenol, p-nonylphenol, p-tert-octylphenol, hydroxybenzoic acid and the like. Examples of lactams include ε-caprolactam, γ-butyrolactam, δ-valerolactam, β-propiolactam and the like.

【0022】アルコール類としては、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノー
ル、アミルアルコール、ヘキシルアルコール、2−エチ
ルヘキサノール、ヘプチルアルコール、オクチルアルコ
ール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチル
エーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、
エチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリ
コールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチル
エーテル、プロピレングリコールモノヘキシルエーテ
ル、プロピレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエ
ーテル等が例示できる。
The alcohols include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, amyl alcohol, hexyl alcohol, 2-ethylhexanol, heptyl alcohol, octyl alcohol, cyclohexanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether. Ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether,
Ethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monohexyl ether, propylene glycol Examples include mono-2-ethylhexyl ether and the like.

【0023】アミノアルコールとしては、ジメチルエタ
ノールアミン、ジメチルプロパノールアミン、ジメチル
イソプロパノールアミン、ジメチルブタノールアミン、
ジエチルエタノールアミン、2─〔2─(ジメチルアミ
ノ)エトキシ〕エタノール、2─(2─〔2─(ジメチ
ルアミノ)エトキシ〕エトキシ)エタノール、1─〔2
─(ジメチルアミノ)エトキシ〕─2─プロパノール、
1─(1─〔1─(ジメチルアミノ)─2─プロポキ
シ〕─2─プロポキシ)─2─プロパノール等が例示で
きる。アミン類或いはイミド類としては、ジフェニルア
ミン、キシリジン、カルバゾール、ジブチルアミン、コ
ハク酸イミド、フタル酸イミド等が例示できる。オキシ
ム類としては、ホルムアミドキシム、アセトキシム、ア
セトアルドキシム、シクロヘキサンオキシム、メチルエ
チルケトキシム、ジアセチルモノオキシム、ベンゾフェ
ノンオキシム等が例示できる。
Examples of amino alcohols include dimethylethanolamine, dimethylpropanolamine, dimethylisopropanolamine, dimethylbutanolamine,
Diethyl ethanolamine, 2- [2- (dimethylamino) ethoxy] ethanol, 2- (2- [2- (dimethylamino) ethoxy] ethoxy) ethanol, 1- [2
-(Dimethylamino) ethoxy] -2-propanol,
Examples include 1- (1- [1- (dimethylamino) -2-propoxy] -2-propoxy) -2-propanol and the like. Examples of amines or imides include diphenylamine, xylidine, carbazole, dibutylamine, succinimide, phthalimide and the like. Examples of the oximes include formamidoxime, acetoxime, acetaldoxime, cyclohexaneoxime, methylethylketoxime, diacetylmonooxime, and benzophenone oxime.

【0024】次に、本発明で用いられるブロックイソシ
アネート系硬化剤として好ましいものを列挙して具体的
に説明する。
Next, preferred examples of the blocked isocyanate-based curing agent used in the present invention are listed and specifically described.

【0025】〔芳香族イソシアヌレート環を含むブロッ
クイソシアネート系硬化剤I〕この種の硬化剤を用いる
と、耐食性や平滑性等の一般的塗膜特性を損なうことな
く加熱減量を抑制することができる。ここで、芳香族イ
ソシアヌレート環とは、一般には3分子の芳香族イソシ
アネートの重合により形成される環状構造をいう。具体
的には、下記の構造式(4)で示される環状構造をい
う。
[Blocked Isocyanate Hardener I Containing Aromatic Isocyanurate Ring] By using this kind of hardener, it is possible to suppress loss on heating without impairing general coating film characteristics such as corrosion resistance and smoothness. . Here, the aromatic isocyanurate ring generally means a cyclic structure formed by polymerization of three molecules of aromatic isocyanate. Specifically, it refers to a cyclic structure represented by the following structural formula (4).

【0026】[0026]

【化7】 [Chemical 7]

【0027】なお、式中、−A−は、芳香族炭化水素に
由来する残基である。1つのブロックイソシアネート系
硬化剤分子中に含まれる芳香族イソシアヌレート環の個
数は、1〜5個が好ましく、より好ましくは2または3
個である。芳香族イソシアヌレート環の個数が6個以上
の場合は、硬化剤の粘度が高くなるので、電着塗料組成
物の塗布作業性を低下させるおそれがある。
In the formula, -A- is a residue derived from aromatic hydrocarbon. The number of aromatic isocyanurate rings contained in one blocked isocyanate-based curing agent molecule is preferably 1 to 5, and more preferably 2 or 3.
It is an individual. When the number of aromatic isocyanurate rings is 6 or more, the viscosity of the curing agent becomes high, which may reduce the workability of the electrodeposition coating composition.

【0028】このような芳香族イソシアヌレート環を含
むブロックイソシアネート系硬化剤において、ブロック
イソシアネート基のうちの少なくとも1つは、イソシア
ネート基が活性水素化合物としてのグリコールエーテル
によりブロックされたものが好ましい。勿論、ブロック
イソシアネート基の全てがグリコールエーテルによりブ
ロックされたイソシアネート基であってもよい。ここ
で、上述のグリコールエーテルとして好ましいものは、
例えば下記の一般式(5)で示されるものである。
In such a blocked isocyanate curing agent containing an aromatic isocyanurate ring, it is preferable that at least one of the blocked isocyanate groups has an isocyanate group blocked with a glycol ether as an active hydrogen compound. Of course, all of the blocked isocyanate groups may be isocyanate groups blocked with glycol ether. Here, the above-mentioned glycol ether is preferably
For example, it is represented by the following general formula (5).

【0029】[0029]

【化8】 [Chemical 8]

【0030】式中、Raは炭素数が4〜12個(好まし
くは6〜8個)のアルキル基、Rbは水素原子またはメ
チル基、nは1〜4の整数である。ここで、Raの炭素
数が4個未満の場合は、塗膜の平滑性を損なうおそれが
ある。逆に、Raの炭素数が12個を超える場合は、硬
化反応性の低下や加熱減量の増加が起こるおそれがあ
る。
In the formula, Ra is an alkyl group having 4 to 12 carbon atoms (preferably 6 to 8 carbon atoms), Rb is a hydrogen atom or a methyl group, and n is an integer of 1 to 4. Here, when the carbon number of Ra is less than 4, the smoothness of the coating film may be impaired. On the contrary, when the carbon number of Ra exceeds 12, there is a possibility that the curing reactivity may decrease and the heating loss may increase.

【0031】上述のグリコールエーテルの具体例として
は、エチレングリコール系化合物およびプロピレングリ
コール系化合物が挙げられる。エチレングリコール系化
合物としては、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレ
ングリコールモノ─2─エチルヘキシルエーテル、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノ─2─エチルヘキシルエーテル等が例示できる。
Specific examples of the above glycol ether include ethylene glycol compounds and propylene glycol compounds. Examples of the ethylene glycol compound include ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, and diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether.

【0032】一方、プロピレングリコール系化合物とし
ては、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノヘキシルエーテル、プロピレング
リコールモノ─2─エチルヘキシルエーテル、ジプロピ
レングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコール
モノ─2─エチルヘキシルエーテル等が例示できる。
On the other hand, as the propylene glycol-based compound, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monohexyl ether, propylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monohexyl ether, dipropylene glycol mono- 2-Ethylhexyl ether can be exemplified.

【0033】上述のエチレングリコール系化合物および
プロピレングリコール系化合物の具体例のうち、特に好
ましいものは、エチレングリコールモノ─2─エチルヘ
キシルエーテル、ジエチレングリコールモノ─2─エチ
ルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノ─2─
エチルヘキシルエーテル、およびジプロピレングリコー
ルモノ─2─エチルヘキシルエーテルである。
Among the specific examples of the above-mentioned ethylene glycol type compound and propylene glycol type compound, particularly preferable ones are ethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether and propylene glycol mono-2-.
Ethylhexyl ether and dipropylene glycol mono-2-ethylhexyl ether.

【0034】なお、イソシアネート基をブロックするた
めのグリコールエーテルとしては、前記一般式(5)で
示されるグリコールエーテルの外に、前記一般式(5)
におけるRa、Rbおよびnがそれぞれ炭素数1〜3個
のアルキル基、水素原子またはメチル基、1〜4の整数
であるものが用いられてもよい。このようなグリコール
エーテルの具体例としては、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテルが挙げられる。
As the glycol ether for blocking the isocyanate group, in addition to the glycol ether represented by the above general formula (5), the above general formula (5)
Ra, Rb and n in may be an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a hydrogen atom or a methyl group, and an integer of 1 to 4 respectively. Specific examples of such glycol ether include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, and diethylene glycol monoethyl ether.

【0035】なお、上述のグリコールエーテルは、加熱
減量の抑制や、硬化剤そのもののガラス転移温度(後
述)を考慮して、炭素数が6〜15となるようRa、R
bおよびnが設定されたものが最も好ましい。
The above-mentioned glycol ether has Ra and R so as to have a carbon number of 6 to 15 in consideration of suppression of heat loss and the glass transition temperature (described later) of the curing agent itself.
Most preferably, b and n are set.

【0036】上述のブロックイソシアネート基のうち、
グリコールエーテルによりブロックされたイソシアネー
ト基以外のものは、グリコールエーテルを除く、上述の
一般的なブロック化剤を用いてブロックされたイソシア
ネート基である。
Of the above-mentioned blocked isocyanate groups,
Except for the glycol ether-blocked isocyanate groups, the above-mentioned general blocking agents other than glycol ethers are blocked isocyanate groups.

【0037】芳香族イソシアヌレート環を含む上述の硬
化剤は、ブロックイソシアネート基部分が下記の条件を
満たす構造のものが特に好ましい。 全ブロックイソシアネート基のうちの少なくとも20
当量%が、上述の一般式(5)で示されるグリコールエ
ーテルによりブロックされたイソシアネート基であるも
の。なお、この当量%が20当量%未満の場合は、塗膜
の平滑性を低下させるおそれがある。 の条件に加え、上述の一般式(5)で示されるグリ
コールエーテルによりブロックされたもの以外のブロッ
クイソシアネート基が、一般式RcOH(Rcは、水酸
基を含んでいてもよい、炭素数が1〜10の炭化水素
基)で示されるアルコール、一般式Rd(OCH2 CH
Re)mOH(Rdは炭素数が1〜3のアルキル基、R
eは水素原子またはメチル基、mは1〜4の整数)で示
されるグリコールエーテル、活性メチレン化合物、オキ
シム化合物、アミノアルコール、イミダゾールおよびラ
クタムからなる群から選ばれた少なくとも1種の活性水
素化合物によりブロックされたイソシアネート基である
こと。
The above-mentioned curing agent containing an aromatic isocyanurate ring is particularly preferably one having a structure in which the blocked isocyanate group portion satisfies the following conditions. At least 20 of all blocked isocyanate groups
Equivalent% is an isocyanate group blocked by the glycol ether represented by the above general formula (5). If this equivalent% is less than 20 equivalent%, the smoothness of the coating film may be deteriorated. In addition to the above conditions, blocked isocyanate groups other than those blocked by the glycol ether represented by the general formula (5) have the general formula RcOH (Rc may contain a hydroxyl group, and have 1 to 10 carbon atoms). An hydrocarbon represented by the formula: Rd (OCH 2 CH
Re) mOH (Rd is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, Rd
e is a hydrogen atom or a methyl group, m is an integer of 1 to 4) and at least one active hydrogen compound selected from the group consisting of glycol ethers, active methylene compounds, oxime compounds, amino alcohols, imidazoles and lactams It must be a blocked isocyanate group.

【0038】イソシアヌレート環含有硬化剤のガラス転
移温度は、40℃以下が好ましい。ガラス転移温度が4
0℃を超えると、加熱時のフロー性が低下し、塗膜の平
滑性が低下するおそれがある。なお、このガラス転移温
度は、イソシアネート基をブロックするために用いられ
る、上述のブロック化剤の種類と分量とに左右されるの
で、これらを適宜調整することにより達成され得る。ガ
ラス転移温度の決定は、示差熱分析装置によるモデル化
合物の測定結果から求められる検量線から類推すること
によることもできるが、最終的には硬化物を直接測定す
ることにより決定するのが好ましい。
The glass transition temperature of the isocyanurate ring-containing curing agent is preferably 40 ° C. or lower. Glass transition temperature is 4
If it exceeds 0 ° C, the flowability at the time of heating may deteriorate, and the smoothness of the coating film may deteriorate. The glass transition temperature depends on the type and amount of the blocking agent used for blocking the isocyanate group, and can be achieved by appropriately adjusting these. The glass transition temperature can be determined by analogy with a calibration curve obtained from the measurement result of the model compound by a differential thermal analyzer, but it is preferably finally determined by directly measuring the cured product.

【0039】イソシアヌレート環含有硬化剤において、
各ブロックイソシアネート基のブロック部分の重量の合
計が当該硬化剤を構成する化合物の分子量に占める割合
は、10〜55%が好ましい。ここで、ブロック部分と
は、イソシアネート基をブロックしているブロック化剤
に由来する部分、言い換えると、ブロック前のブロック
化剤から活性水素を除いたものに相当する部分をいう。
この割合が10%未満の場合は、塗膜の平滑性が損なわ
れるおそれがある。逆に、55%を超える場合は、加熱
減量の抑制効果が得られ難い。
In the isocyanurate ring-containing curing agent,
The ratio of the total weight of the blocked portions of each blocked isocyanate group to the molecular weight of the compound constituting the curing agent is preferably 10 to 55%. Here, the blocking portion means a portion derived from a blocking agent that blocks an isocyanate group, in other words, a portion corresponding to a blocking agent obtained by removing active hydrogen from the blocking agent before blocking.
If this ratio is less than 10%, the smoothness of the coating film may be impaired. On the other hand, if it exceeds 55%, it is difficult to obtain the effect of suppressing the heating loss.

【0040】次に、上述のイソシアヌレート環含有硬化
剤の一例を示す。この硬化剤は、構造式で示すと下記の
一般式(6)で表される。
Next, an example of the above-mentioned isocyanurate ring-containing curing agent will be shown. This curing agent is represented by the following general formula (6) when represented by a structural formula.

【0041】[0041]

【化9】 [Chemical 9]

【0042】式中、A1 〜A11のそれぞれは、In the formula, each of A 1 to A 11 is

【0043】[0043]

【化10】 [Chemical 10]

【0044】からなる群から選ばれた芳香族ジイソシア
ネート化合物由来の構造部分である。なお、A1 〜A11
は、全てが同一であってもよいし、互いに異なっていて
もよい。また、R5 〜R11は、それぞれブロック化剤か
ら活性水素を除いた残基であり、少なくとも1つは上述
のグリコールエーテルから活性水素を除いたものの残基
である。さらに、f、g、hおよびiは、それぞれ0ま
たは1である。
It is a structural portion derived from an aromatic diisocyanate compound selected from the group consisting of: In addition, A 1 to A 11
May all be the same or different from each other. R 5 to R 11 are each a residue obtained by removing active hydrogen from the blocking agent, and at least one is a residue obtained by removing active hydrogen from the above glycol ether. Further, f, g, h and i are 0 or 1 respectively.

【0045】イソシアヌレート環含有硬化剤は、一般
に、芳香族ジイソシアネート化合物の3量化により得ら
れたポリイソシアネート化合物をブロック化剤によりブ
ロックすると得られる。芳香族イソシアネート化合物と
しては、例えば、トリレンジイソシアネートやフェニレ
ンジイソシアネート等が挙げられる。
The isocyanurate ring-containing curing agent is generally obtained by blocking a polyisocyanate compound obtained by trimerizing an aromatic diisocyanate compound with a blocking agent. Examples of the aromatic isocyanate compound include tolylene diisocyanate and phenylene diisocyanate.

【0046】この製造方法で用いられるポリイソシアネ
ート化合物としては、例えば、下記の一般式(7)で示
されるものが挙げられる。
Examples of the polyisocyanate compound used in this production method include those represented by the following general formula (7).

【0047】[0047]

【化11】 [Chemical 11]

【0048】式中、lは0〜4、好ましくは1〜2であ
る。上記ポリイソシアネート化合物は、モノマー成分、
即ち3量化せずに残留している残留モノマー成分とし
て、トリレンジイソシアネートやフェニレンジイソシア
ネート等の芳香族イソシアネート化合物を含んでいても
よい。但し、ポリイソシアネート化合物に占めるこの種
の残留モノマーの割合が50重量%を越える場合は、目
的とする硬化剤が得られない場合がある。
In the formula, l is 0 to 4, preferably 1 to 2. The polyisocyanate compound is a monomer component,
That is, an aromatic isocyanate compound such as tolylene diisocyanate or phenylene diisocyanate may be contained as the residual monomer component that remains without trimerization. However, if the proportion of this type of residual monomer in the polyisocyanate compound exceeds 50% by weight, the desired curing agent may not be obtained.

【0049】上述のポリイソシアネート化合物をブロッ
クする場合は、上述のポリイソシアネート化合物に対し
てブロック化剤を反応させる。ここで、2種類以上のブ
ロック化剤を反応させる場合は、2種類以上のブロック
化剤を一度にポリイソシアネート化合物に加えて反応さ
せてもよいし、ブロック化剤毎にポリイソシアネート化
合物に加えて反応させてもよい。但し、反応性が異なる
2種類以上のブロック化剤を用いる場合は、反応性が高
いブロック化剤の方を反応性が低い方のブロック化剤よ
りも先にポリイソシアネート化合物に対して反応させる
のが好ましい。なお、硬化剤の好ましいガラス転移温
度、およびブロック部の好ましい割合は、ブロック化剤
の種類および量をそれぞれ選択または調整することによ
り達成し得る。
When the above polyisocyanate compound is blocked, a blocking agent is reacted with the above polyisocyanate compound. Here, when 2 or more types of blocking agents are made to react, you may add 2 or more types of blocking agents to a polyisocyanate compound at once, and may make it react, and to add to a polyisocyanate compound for every blocking agent. You may make it react. However, when using two or more types of blocking agents having different reactivities, the blocking agent having higher reactivity is reacted with the polyisocyanate compound before the blocking agent having lower reactivity is used. Is preferred. The preferred glass transition temperature of the curing agent and the preferred proportion of the blocking portion can be achieved by selecting or adjusting the type and amount of the blocking agent, respectively.

【0050】〔イソシアヌレート環と、芳香族イソシア
ネート基および脂肪族イソシアネート基の双方のブロッ
クイソシアネート基とを含むブロックイソシアネート系
硬化剤II〕この種の硬化剤を用いると、上述の硬化剤
Iの場合と同様に、耐食性や平滑性等の一般的塗膜特性
を損なうことなく加熱減量を抑制することができる。
[Blocked Isocyanate Curing Agent II Containing Isocyanurate Ring and Blocked Isocyanate Group of Both Aromatic Isocyanate Group and Aliphatic Isocyanate Group] When a curing agent of this kind is used, in the case of the above-mentioned curing agent I, Similarly, the loss on heating can be suppressed without impairing general coating film characteristics such as corrosion resistance and smoothness.

【0051】この硬化剤は、イソシアヌレート環と、ブ
ロックされた複数のイソシアネート基とを有する化合物
からなり、かつ複数のイソシアネート基には、芳香族イ
ソシアネート基および脂肪族イソシアネート基の両方が
含まれている。ここで、芳香族イソシアネート基とは、
芳香環に直接結合したイソシアネート基をいい、脂肪族
イソシアネート基とは、脂肪族炭化水素鎖に結合したイ
ソシアネート基をいう。
This curing agent is composed of a compound having an isocyanurate ring and a plurality of blocked isocyanate groups, and the plurality of isocyanate groups contains both an aromatic isocyanate group and an aliphatic isocyanate group. There is. Here, the aromatic isocyanate group,
An isocyanate group directly bonded to an aromatic ring is referred to. An aliphatic isocyanate group is an isocyanate group bonded to an aliphatic hydrocarbon chain.

【0052】この硬化剤に含まれるイソシアヌレート環
は、芳香族イソシアヌレート環または脂肪族イソシアヌ
レート環のいずれでもよい。ここで、芳香族イソシアヌ
レート環は、硬化剤Iでの説明の通りである。また、脂
肪族イソシアヌレート環とは、一般には3分子の脂肪族
イソシアネート化合物の重合により形成される環状構造
をいう。
The isocyanurate ring contained in this curing agent may be either an aromatic isocyanurate ring or an aliphatic isocyanurate ring. Here, the aromatic isocyanurate ring is as described in the curing agent I. The aliphatic isocyanurate ring generally means a cyclic structure formed by polymerization of 3 molecules of an aliphatic isocyanate compound.

【0053】この硬化剤に含まれる複数のブロックイソ
シアネート基におけるブロック化剤由来の部分は、特に
限定されない。一般に、ブロックイソシアネート基は、
ブロック化剤の種類によって解離温度が異なってくる。
解離しやすいブロック化剤によりブロックされていれ
ば、低温での硬化が可能であるが、貯蔵安定性に劣る可
能性がある。一方、解離しにくいブロック化剤でブロッ
クされていれば、貯蔵安定性は優れているが、低温での
硬化性に劣る可能性がある。解離しやすいブロック化剤
としては、オキシム類、活性メチレン含有化合物および
フェノール類などが挙げられ、解離しにくいブロック化
剤としては、アルコール類、ラクタム類およびアミノア
ルコールなどが挙げられる。
The part derived from the blocking agent in the plurality of blocked isocyanate groups contained in this curing agent is not particularly limited. Generally, blocked isocyanate groups are
The dissociation temperature varies depending on the type of blocking agent.
If it is blocked by a blocking agent that easily dissociates, it can be cured at a low temperature, but it may have poor storage stability. On the other hand, if blocked with a blocking agent that does not easily dissociate, the storage stability is excellent, but the curability at low temperatures may be poor. Examples of the blocking agent that easily dissociates include oximes, active methylene-containing compounds and phenols, and examples of the blocking agent that hardly dissociate include alcohols, lactams and amino alcohols.

【0054】一般に、芳香族イソシアネート基は脂肪族
イソシアネート基よりも反応性が高い。従って、上記の
低温硬化性と貯蔵安定性の両立を考慮すると、芳香族イ
ソシアネート基は、アルコール類、ラクタム類およびア
ミノアルコールからなる群から選ばれたブロック化剤で
ブロックされていることが好ましい。一方、脂肪族イソ
シアネート基は、オキシム類、活性メチレン含有化合物
およびフェノール類からなる群から選ばれたブロック化
剤でブロックされていることが好ましい。
Generally, aromatic isocyanate groups are more reactive than aliphatic isocyanate groups. Therefore, in consideration of the compatibility between the low temperature curability and the storage stability, the aromatic isocyanate group is preferably blocked with a blocking agent selected from the group consisting of alcohols, lactams and amino alcohols. On the other hand, the aliphatic isocyanate group is preferably blocked with a blocking agent selected from the group consisting of oximes, active methylene-containing compounds and phenols.

【0055】この種の硬化剤IIは、イソシアヌレート
環と、芳香族および脂肪族双方のイソシアネート基とを
含むポリイソシアネート化合物を準備し、このポリイソ
シアネート化合物にブロック化剤を反応させる一般的な
方法によって製造することができる。上述のポリイソシ
アネート化合物は、一般的な有機合成により目的物を合
成する他に、市販品の購入により得ることができる。市
販品としては、ヘキサメチレンジイソシアネートとトリ
レンジイソシアネートの複合イソシアヌレート化合物で
ある、ローヌ・プーラン社製のトロネート−XTHTが
挙げられる。
This kind of curing agent II is a general method in which a polyisocyanate compound containing an isocyanurate ring and both aromatic and aliphatic isocyanate groups is prepared and the polyisocyanate compound is reacted with a blocking agent. Can be manufactured by. The above-mentioned polyisocyanate compound can be obtained by synthesizing a target product by general organic synthesis or by purchasing a commercial product. Examples of commercially available products include Tronate-XTHT manufactured by Rhone-Poulin, which is a complex isocyanurate compound of hexamethylene diisocyanate and tolylene diisocyanate.

【0056】なお、芳香族イソシアネート基が、アルコ
ール類、ラクタム類およびアミノアルコールからなる群
から選ばれたブロック化剤でブロックされており、か
つ、脂肪族イソシアネート基が、オキシム類、活性メチ
レン含有化合物およびフェノール類からなる群から選ば
れたブロック化剤でブロックされている場合には、ま
ず、アルコール類、ラクタム類およびアミノアルコール
からなる群から選ばれた少なくとも1つのブロック化剤
(ブロック化剤X)をポリイソシアネート化合物に対し
て反応させ、次に、オキシム類、活性メチレン含有化合
物およびフェノール類からなる群から選ばれた少なくと
も1つのブロック化剤(ブロック化剤Y)を反応させる
のが好ましい。このような製造工程を経れば、ブロック
化剤Xが先ず芳香族イソシアネート基をブロックし、続
いて、ブロック化剤Yが脂肪族イソシアネート基をブロ
ックする工程を経て硬化剤が得られると考えられる。
The aromatic isocyanate group is blocked with a blocking agent selected from the group consisting of alcohols, lactams and amino alcohols, and the aliphatic isocyanate group is oxime-containing, active methylene-containing compound. And when blocked with a blocking agent selected from the group consisting of phenols, first, at least one blocking agent selected from the group consisting of alcohols, lactams and amino alcohols (blocking agent X ) Is reacted with a polyisocyanate compound, and then at least one blocking agent (blocking agent Y) selected from the group consisting of oximes, active methylene-containing compounds and phenols is preferably reacted. It is considered that after such a manufacturing process, the blocking agent X first blocks the aromatic isocyanate group, and then the blocking agent Y blocks the aliphatic isocyanate group to obtain the curing agent. .

【0057】ブロック化剤Xは、前記ポリイソシアネー
ト化合物中の芳香族イソシアネート基に対して1〜1.
1当量用いることが好ましい。一方、ブロック化剤Y
は、前記のポリイソシアネート化合物中の脂肪族イソシ
アネート基に対して1〜1.1当量用いることが好まし
い。上記の範囲に設定した場合には、低温硬化性と貯蔵
安定性の両立が図れる。上述の製造工程を経て得られた
硬化剤は、例えば、下記の一般式(8)で表わすことが
できる。
The blocking agent X is 1 to 1 with respect to the aromatic isocyanate group in the polyisocyanate compound.
It is preferable to use 1 equivalent. On the other hand, blocking agent Y
Is preferably used in an amount of 1 to 1.1 equivalents based on the aliphatic isocyanate group in the polyisocyanate compound. When the above range is set, both low temperature curability and storage stability can be achieved. The curing agent obtained through the above manufacturing process can be represented by, for example, the following general formula (8).

【0058】[0058]

【化12】 [Chemical 12]

【0059】なお、式中、R12は、アルコール類、ラク
タム類およびアミノアルコールからなる群から選ばれた
少なくとも1つのブロック化剤から活性水素を除いた残
基である。R13は、オキシム類、活性メチレン含有化合
物およびフェノール類からなる群から選ばれた少なくと
も1つのブロック化剤から活性水素を除いた残基であ
る。nは、0〜4を示す。
In the formula, R 12 is a residue obtained by removing active hydrogen from at least one blocking agent selected from the group consisting of alcohols, lactams and amino alcohols. R 13 is a residue obtained by removing active hydrogen from at least one blocking agent selected from the group consisting of oximes, active methylene-containing compounds and phenols. n shows 0-4.

【0060】〔ガラス転移温度が異なる2種類のブロッ
クイソシアネート化合物を含む硬化剤III〕この種の
硬化剤を利用すれば、電着浴温変化が膜厚に与える影響
を小さくすることができる。この硬化剤は、2種類のブ
ロックイソシアネート化合物、即ち、ブロックイソシア
ネート化合物Aとブロックイソシアネート化合物Bとを
含んでいる。ブロックイソシアネート化合物AおよびB
は、以下の関係を満たすものであれば特に限定されな
い。
[Curing Agent III Containing Two Types of Block Isocyanate Compounds Having Different Glass Transition Temperatures] By using this type of curing agent, it is possible to reduce the influence of a change in electrodeposition bath temperature on the film thickness. This curing agent contains two types of blocked isocyanate compounds, namely, blocked isocyanate compound A and blocked isocyanate compound B. Blocked isocyanate compounds A and B
Is not particularly limited as long as it satisfies the following relationship.

【0061】2種類のブロックイソシアネート化合物A
およびBは、ガラス転移温度が互いに異なっている必要
がある。また、ブロックイソシアネート化合物Aとして
は、ブロックイソシアネート化合物Bに比べてガラス転
移温度が高いものが用いられる。ブロックイソシアネー
ト化合物Aとブロックイソシアネート化合物Bとのガラ
ス転移温度の差は、少なくとも25℃、好ましくは25
〜60℃である。ガラス転移温度の差が25℃未満の場
合には、電着塗装による塗膜の膜厚が電着浴温変化の影
響を受けやすい。ガラス転移温度の差が60℃を越える
場合には、硬化剤としての機能が十分に発揮されないお
それがある。なお、ここで言うガラス転移温度は、示差
熱分析装置により実測した値である。
Two kinds of blocked isocyanate compound A
And B must have different glass transition temperatures. As the blocked isocyanate compound A, one having a glass transition temperature higher than that of the blocked isocyanate compound B is used. The difference in glass transition temperature between the blocked isocyanate compound A and the blocked isocyanate compound B is at least 25 ° C., preferably 25
~ 60 ° C. When the difference in glass transition temperature is less than 25 ° C., the film thickness of the coating film by electrodeposition coating is easily affected by the change in electrodeposition bath temperature. If the difference in glass transition temperature exceeds 60 ° C., the function as a curing agent may not be sufficiently exhibited. The glass transition temperature mentioned here is a value measured by a differential thermal analyzer.

【0062】各ブロックイソシアネート化合物のガラス
転移温度は、ブロックイソシアネート化合物Aについて
は10〜40℃、ブロックイソシアネート化合物Bにつ
いては−20〜0℃が好ましい。これらの範囲外では、
電着塗膜の一般的物性に悪影響を及ぼすおそれがある。
The glass transition temperature of each blocked isocyanate compound is preferably 10 to 40 ° C. for the blocked isocyanate compound A and −20 to 0 ° C. for the blocked isocyanate compound B. Outside these ranges,
It may adversely affect the general physical properties of the electrodeposition coating film.

【0063】また、ブロックイソシアネート化合物Aと
ブロックイソシアネート化合物Bとの溶解性パラメータ
ーの差は0.1〜3.0が好ましく、さらに好ましくは
0.6〜1.5である。この範囲外の場合には、電着塗
装時の浴温変化が膜厚に与える影響が大きくなる。な
お、両ブロックイソシアネート化合物間では溶解性パラ
メーターの大小は問わない。すなわち、ブロックイソシ
アネート化合物Aの溶解性パラメーターは、ブロックイ
ソシアネート化合物Bの溶解性パラメーターに比べて大
きくてもよいし、小さくてもよい。
The difference in solubility parameter between the blocked isocyanate compound A and the blocked isocyanate compound B is preferably 0.1 to 3.0, more preferably 0.6 to 1.5. Outside this range, the change in bath temperature during electrodeposition coating has a large effect on the film thickness. The solubility parameter between the two blocked isocyanate compounds does not matter. That is, the solubility parameter of the blocked isocyanate compound A may be larger or smaller than that of the blocked isocyanate compound B.

【0064】各ブロックイソシアネート化合物の溶解性
パラメーターは、特に限定されない。ただし、ブロック
イソシアネート化合物Aについては9.5〜11.5が
好ましく、ブロックイソシアネート化合物Bについては
11.6〜13.5が好ましい。なお、溶解性パラメー
ター(SP)は、Journal of Applie
d Polymer Science,12,2359
(1968)に示された、K.W.SUHおよびJ.
M.CORBETTによる下記の式(1)により決定さ
れる。
The solubility parameter of each blocked isocyanate compound is not particularly limited. However, the blocked isocyanate compound A is preferably 9.5 to 11.5, and the blocked isocyanate compound B is preferably 11.6 to 13.5. In addition, the solubility parameter (SP) is the Journal of Applies.
d Polymer Science, 12, 2359
(1968), K. W. SUH and J.
M. It is determined by the following formula (1) according to CORBETT.

【0065】[0065]

【数1】 [Equation 1]

【0066】式中、Vmlは低SP溶剤の濁点での容積、
Vmhは高SP溶剤の濁点での容積、δmlは低SP溶剤の
溶解度パラメーター、δmhは高SP溶剤の溶解性パラメ
ーターである。
In the formula, Vml is the volume of the low SP solvent at the cloud point,
Vmh is the cloud volume of the high SP solvent, δml is the solubility parameter of the low SP solvent, and δmh is the solubility parameter of the high SP solvent.

【0067】上述のブロックイソシアネート化合物Aお
よびBとしては、一般的なポリイソシアネート化合物を
一般的なブロック化剤でブロックしたものであれば種々
のものが利用できる。ポリイソシアネート化合物として
は、芳香族ポリイソシアネート化合物と脂肪族ポリイソ
シアネート化合物のいずれもが用いられ得る。よって、
ブロックイソシアネート化合物AおよびBの組合せとし
ては、例えば以下の4通りが考えられる。
As the blocked isocyanate compounds A and B, various compounds can be used as long as they are prepared by blocking a general polyisocyanate compound with a general blocking agent. As the polyisocyanate compound, both an aromatic polyisocyanate compound and an aliphatic polyisocyanate compound can be used. Therefore,
As the combination of the blocked isocyanate compounds A and B, for example, the following four combinations are possible.

【0068】 1.A:芳香族ブロックイソシアネート化合物 B:脂肪族ブロックイソシアネート化合物 2.A:芳香族ブロックイソシアネート化合物 B:芳香族ブロックイソシアネート化合物 3.A:脂肪族ブロックイソシアネート化合物 B:脂肪族ブロックイソシアネート化合物 4.A:脂肪族ブロックイソシアネート化合物 B:芳香族ブロックイソシアネート化合物 上述の組合せの中では、設計の自由度の観点から1.の
組合せが好ましい。
1. A: Aromatic blocked isocyanate compound B: Aliphatic blocked isocyanate compound 2. A: Aromatic blocked isocyanate compound B: Aromatic blocked isocyanate compound 3. A: Aliphatic blocked isocyanate compound B: Aliphatic blocked isocyanate compound 4. A: Aliphatic Block Isocyanate Compound B: Aromatic Block Isocyanate Compound Among the above combinations, from the viewpoint of design flexibility, 1. Is preferred.

【0069】上述のブロックイソシアネート化合物Aと
ブロックイソシアネート化合物Bとの混合比は、重量比
(A/B)で15/85〜40/60が好ましい。この
範囲を外れる場合には、塗膜の膜厚が電着浴温変化によ
る影響を受けやすくなる。
The mixing ratio of the blocked isocyanate compound A to the blocked isocyanate compound B is preferably 15/85 to 40/60 in terms of weight ratio (A / B). If it is out of this range, the film thickness of the coating film tends to be affected by the change in the temperature of the electrodeposition bath.

【0070】なお、加熱減量の抑制を考慮すると、ブロ
ックイソシアネート化合物Aおよびブロックイソシアネ
ート化合物Bの一方又は双方は、上述の硬化剤Iおよび
IIと同様にイソシアヌレート環を含んでいることが好
ましい。上述の硬化剤IIIは、上述のブロックイソシ
アネート化合物AとBとを、任意の方法で混合すると得
られる。
In consideration of suppression of heat loss, it is preferable that one or both of the blocked isocyanate compound A and the blocked isocyanate compound B contain an isocyanurate ring as in the above curing agents I and II. The above-mentioned curing agent III is obtained by mixing the above-mentioned blocked isocyanate compounds A and B by any method.

【0071】解離触媒 本発明の組成物で用いられる解離触媒は、有機錫化合物
と、コバルト,ニッケルまたは亜鉛の有機酸塩およびジ
ケトン金属錯体からなる群から選ばれた少なくとも1種
の金属化合物とを含んでいる。
[0071]Dissociation catalyst  The dissociation catalyst used in the composition of the present invention is an organotin compound.
And cobalt, nickel or zinc organic acid salts and di-
At least one selected from the group consisting of ketone metal complexes
And metal compounds of.

【0072】〔有機錫化合物について〕本発明で用いら
れる有機錫化合物は、例えば下記の一般式(1)および
(2)で示される有機錫化合物群から選ばれた少なくと
も1種である。
[Regarding Organic Tin Compound] The organic tin compound used in the present invention is, for example, at least one selected from the group of organic tin compounds represented by the following general formulas (1) and (2).

【0073】[0073]

【化13】 [Chemical 13]

【0074】[0074]

【化14】 [Chemical 14]

【0075】一般式(1)および(2)において、R1
およびR3 は、それぞれ炭素数が1〜12個のアルキル
基またはアリール基である。具体的には、メチル基、ブ
チル基、オクチル基、ラウリル基、フェニル基が例示で
きる。このうち、特にブチル基およびオクチル基が好ま
しい。
In the general formulas (1) and (2), R 1
And R 3 are each an alkyl group or an aryl group having 1 to 12 carbon atoms. Specific examples include a methyl group, a butyl group, an octyl group, a lauryl group, and a phenyl group. Of these, a butyl group and an octyl group are particularly preferable.

【0076】R2 は、水素原子、または炭素数が1〜2
1個のアルキル基,アルケニル基,アラルキル基,シク
ロアルキル基,アルコキシアルキル基またはアリール基
である。具体的には、オクチル酸や2−エチルヘキシル
酸の残基が例示できる。
R 2 is a hydrogen atom or has 1 to 2 carbon atoms.
It is one alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, cycloalkyl group, alkoxyalkyl group or aryl group. Specific examples thereof include residues of octylic acid and 2-ethylhexyl acid.

【0077】XおよびYは、OCOR2 、OH、ハロゲ
ン、O1/2またはS1/2である。ここで、OCOR
2 は、上述のR2 基を有する炭素数が2〜22個のカル
ボン酸残基である。具体的には、ギ酸、酢酸、カプロン
酸、オクチル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチ
ン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ネオペンタン酸、ネオ
ヘプタン酸、ネオデカン酸、アクリル酸、クロトン酸、
イソクロトン酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、エルカ
酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、フェニル酢
酸、フェニル酪酸、フェニルプロピオン酸、シクロペン
タンカルボン酸、アセト酢酸、安息香酸、メトキシ安息
香酸、tert−ブチル安息香酸、ヒドロキシ安息香酸
等が例示できる。このうち、特に酢酸、オクチル酸、ラ
ウリン酸および安息香酸が好ましい。また、ハロゲンと
しては、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素およびアスタチン
が挙げられるが、このうち特に塩素が好ましい。
X and Y are OCOR 2 , OH, halogen, O1 / 2 or S1 / 2. Where OCOR
2 is a carboxylic acid residue having 2 to 22 carbon atoms, which has the above-described R 2 group. Specifically, formic acid, acetic acid, caproic acid, octylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid, neopentanoic acid, neoheptanoic acid, neodecanoic acid, acrylic acid, crotonic acid,
Isocrotonic acid, undecylenic acid, oleic acid, erucic acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, phenylacetic acid, phenylbutyric acid, phenylpropionic acid, cyclopentanecarboxylic acid, acetoacetic acid, benzoic acid, methoxybenzoic acid, tert-butylbenzoic acid Examples thereof include acid and hydroxybenzoic acid. Of these, acetic acid, octylic acid, lauric acid and benzoic acid are particularly preferable. Further, examples of the halogen include chlorine, bromine, fluorine, iodine and astatine, and among these, chlorine is particularly preferable.

【0078】Zは、O(酸素原子)、S(硫黄原子)ま
たは2価のカルボン酸残基である。ここで、2価のカル
ボン酸残基としては、アジピン酸,マレイン酸,フタル
酸等の2価の脂肪族カルボン酸または芳香族カルボン酸
の残基、チオジプロピオン酸等の含硫黄2価脂肪族カル
ボン酸の残基が挙げられる。pは、0または1の整数で
ある。
Z is O (oxygen atom), S (sulfur atom) or a divalent carboxylic acid residue. Here, the divalent carboxylic acid residue is a residue of a divalent aliphatic carboxylic acid or aromatic carboxylic acid such as adipic acid, maleic acid or phthalic acid, or a sulfur-containing divalent fatty acid such as thiodipropionic acid. Residues of group carboxylic acids are mentioned. p is an integer of 0 or 1.

【0079】前記一般式(1)および(2)で示される
有機錫化合物の具体例としては、モノメチル錫トリギ酸
塩、モノメチル錫トリ酢酸塩、モノメチル錫トリオクチ
ル酸塩、モノメチル錫トリラウリン酸塩、モノメチル錫
トリステアリン酸塩、モノメチル錫トリアクリル酸塩、
モノメチル錫トリクロトン酸塩、モノメチル錫トリオレ
イン酸塩、モノメチル錫トリエルカ酸塩、モノメチル錫
ソルビン酸塩、モノメチル錫トリリノール酸塩、モノメ
チル錫トリスフェニル酢酸塩、モノメチル錫トリスフェ
ニルプロピオン酸塩、モノメチル錫トリスアセト酢酸
塩、モノメチル錫トリ安息香酸塩、モノブチル錫トリ酢
酸塩、モノブチル錫トリカプロン酸塩、モノブチル錫ト
リオクチル酸塩、モノブチル錫トリラウリン酸塩、モノ
ブチル錫トリミリスチン酸塩、モノブチル錫トリパルミ
チン酸塩、モノブチル錫トリステアリン酸塩、モノブチ
ル錫トリベヘン酸塩、モノブチル錫トリアクリル酸塩、
モノブチル錫トリクロトン酸塩、モノブチル錫トリイソ
クロトン酸塩、モノブチル錫トリウンデシレン酸塩、モ
ノブチル錫トリオレイン酸塩、モノブチル錫トリエルカ
酸塩、モノブチル錫トリソルビン酸塩、モノブチル錫ト
リリノール酸塩、モノブチル錫トリリノレン酸塩、モノ
ブチル錫トリスフェニル酢酸塩、モノブチル錫トリスフ
ェニル酪酸塩、モノブチル錫トリスフェニルプロピオン
酸塩、モノブチル錫トリスシクロペンタンカルボン酸
塩、モノブチル錫トリスアセト酢酸塩、モノブチル錫ト
リ安息香酸塩、モノブチル錫トリスメトキシ安息香酸
塩、モノオクチル錫トリ酢酸塩、モノオクチル錫トリオ
クチル酸塩、モノオクチル錫トリラウリン酸塩、モノオ
クチル錫トリステアリン酸塩、モノオクチル錫トリベヘ
ン酸塩、モノオクチル錫トリアクリル酸塩、モノオクチ
ル錫トリオレイン酸塩、モノオクチル錫トリエルカ酸
塩、モノオクチル錫トリソルビン酸塩、モノオクチル錫
トリリノール酸塩、モノオクチル錫トリスフェニル酢酸
塩、モノオクチル錫トリスフェニルプロピオン酸塩、モ
ノオクチル錫トリスアセト酢酸塩、モノオクチル錫トリ
安息香酸塩、モノラウリル錫トリ酢酸塩、モノラウリル
錫トリオクチル酸塩、モノラウリル錫トリラウリン酸
塩、モノラウリル錫トリステアリン酸塩、モノラウリル
錫トリアクリル酸塩、モノラウリル錫トリオレイン酸
塩、モノラウリル錫トリスフェニル酪酸塩、モノラウリ
ル錫トリ安息香酸塩、モノフェニル錫トリ酢酸塩、モノ
フェニル錫トリオクチル酸塩、モノフェニル錫トリラウ
リン酸塩、モノフェニル錫トリクロトン酸塩、モノフェ
ニル錫トリオレイン酸塩、モノフェニル錫トリスフェニ
ル酢酸塩、モノフェニル錫トリスフェニルプロピオン酸
塩、モノフェニル錫トリ安息香酸塩、モノメチル錫ジ酢
酸塩・モノハイドロオキサイド、モノメチル錫モノ酢酸
塩・ジハイドロオキサイド、モノメチル錫ジカプロン酸
塩・モノハイドロオキサイド、モノメチル錫ジオクチル
酸塩・モノハイドロオキサイド、モノメチル錫ジラウリ
ン酸塩・モノハイドロオキサイド、モノメチル錫ジ安息
香酸塩・モノハイドロオキサイド、モノブチル錫ジ酢酸
塩・モノハイドロオキサイド、モノブチル錫モノ酢酸塩
・ジハイドロオキサイド、モノブチル錫ジオクチル酸塩
・モノハイドロオキサイド、モノブチル錫モノオクチル
酸塩・ジハイドロオキサイド、モノブチル錫ジラウリン
酸塩・モノハイドロオキサイド、モノブチル錫モノラウ
リン酸塩・ジハイドロオキサイド、モノブチル錫ジアク
リル酸塩・モノハイドロオキサイド、モノブチル錫モノ
オレイン酸塩・ジハイドロオキサイド、モノブチル錫ビ
スフェニル酢酸塩・モノハイドロオキサイド、モノブチ
ル錫ジ安息香酸塩・モノハイドロオキサイド、モノブチ
ル錫モノ安息香酸塩・ジハイドロオキサイド、モノオク
チル錫ジ酢酸塩・モノハイドロオキサイド、モノオクチ
ル錫モノ酢酸塩・ジハイドロオキサイド、モノオクチル
錫ジオクチル酸塩・モノハイドロオキサイド、モノオク
チル錫ジオクチル酸塩・モノハイドロオキサイド、モノ
オクチル錫モノオクチル酸塩・ジハイドロオキサイド、
モノオクチル錫ジラウリン酸塩・モノハイドロオキサイ
ド、モノオクチル錫モノラウリン酸塩・ジハイドロオキ
サイド、モノオクチル錫ジクロトン酸塩・モノハイドロ
オキサイド、モノオクチル錫ジエルカ酸塩・モノハイド
ロオキサイド、モノオクチル錫ジリノレン酸塩・モノハ
イドロオキサイド、モノオクチル錫ビスフェニル酪酸塩
・モノハイドロオキサイド、モノオクチル錫ビスシクロ
ペンタンカルボン酸塩・モノハイドロオキサイド、モノ
オクチル錫ジ安息香酸・モノハイドロオキサイド、モノ
オクチル錫モノ安息香酸塩・ジハイドロオキサイド、モ
ノオクチル錫ビスメトキシ安息香酸塩・モノハイドロオ
キサイド、モノラウリル錫ジギ酸塩・モノハイドロオキ
サイド、モノラウリル錫ジ酢酸塩・モノハイドロオキサ
イド、モノラウリル錫モノラウリン酸塩・ジハイドロオ
キサイド、モノラウリル錫ジミリスチン酸塩・モノハイ
ドロオキサイド、モノラウリル酸ジパルミチン酸塩・モ
ノハイドロオキサイド、モノラウリル錫モノステアリン
酸塩・ジハイドロオキサイド、モノラウリル錫ジベヘン
酸塩・モノハイドロオキサイド、モノラウリル錫ジイソ
クロトン酸塩・モノハイドロオキサイド、モノラウリル
錫ジウンデシレン酸塩・モノハイドロオキサイド、モノ
ラウリル錫ジソルビン酸塩・モノハイドロオキサイド、
モノラウリル錫ジリノール酸塩・モノハイドロオキサイ
ド、モノラウリル錫モノフェニルプロピオン酸塩・ジハ
イドロオキサイド、モノラウリル錫ビスアセト酢酸塩・
モノハイドロオキサイド、モノラウリル錫ジ安息香酸塩
・モノハイドロオキサイド、モノラウリル錫モノメトキ
シ安息香酸塩・ジハイドロオキサイド、モノフェニル錫
モノ酢酸塩・ジハイドロオキサイド、モノフェニル錫ジ
オクチル酸塩・モノハイドロオキサイド、モノフェニル
錫ジラウリン酸塩・モノハイドロオキサイド、モノフェ
ニル錫ジオレイン酸塩・モノハイドロオキサイド、モノ
フェニル錫モノアセト酢酸塩・ジハイドロオキサイド、
モノフェニル錫ジ安息香酸塩・モノハイドロオキサイ
ド、モノメチル錫ジ酢酸塩・モノクロライド、モノメチ
ル錫モノ酢酸塩・ジクロライド、モノメチル錫ジオクチ
ル酸塩・モノクロライド、モノメチル錫モノオクチル酸
塩・ジクロライド、モノメチル錫ジラウリン酸塩・モノ
クロライド、モノメチル錫ジアクリル酸塩・モノクロラ
イド、モノメチル錫ジオレイン酸塩・モノクロライド、
モノメチル錫ビスフェニルプロピオン酸塩・モノクロラ
イ、モノメチル錫ジ安息香酸塩・モノクロライド、モノ
ブチル錫ジ酢酸塩・モノクロライド、モノブチル錫モノ
酢酸塩・ジクロライド、モノブチル錫モノカプロン酸塩
・ジクロライド、モノブチル錫ジオクチル酸塩・モノク
ロライド、モノブチル錫モノオクチル酸塩・ジクロライ
ド、モノブチル錫ジラウリン酸塩・モノクロライド、モ
ノブチル錫モノラウリン酸塩・ジクロライド、モノブチ
ル錫モノベヘン酸塩・ジクロライド、モノブチル錫モノ
クロトン酸塩・ジクロライド、モノブチル錫ジエルカ酸
塩・モノクロライド、モノブチル錫ビスフェニル酢酸塩
・モノクロライド、モノブチル錫ビスアセト酢酸塩・モ
ノクロライド、モノブチル錫モノ安息香酸・ジクロライ
ド、モノブチル錫モノメトキシ安息香酸塩・ジクロライ
ド、モノオクチル錫ジ酢酸塩・モノクロライド、モノオ
クチル錫モノ酢酸塩・ジクロライド、モノオクチル錫ジ
オクチル酸塩・モノクロライド、モノオクチル錫モノオ
クチル酸塩・ジクロライド、モノオクチル錫ジラウリン
酸塩・モノクロライド、モノオクチル錫モノラウリン酸
塩・ジクロライド、モノオクチル錫ジステアリン酸塩・
モノクロライド、モノオクチル錫ジランデシレン酸塩・
モノクロライド、モノオクチル錫ジオレイン酸塩・モノ
クロライド、モノオクチル錫ビスアセト酢酸塩・モノク
ロライド、モノオクチル錫ジ安息香酸塩・モノクロライ
ド、モノオクチル錫モノ安息香酸塩・ジクロライド、モ
ノラウリル錫モノ酢酸塩・ジクロライド、モノラウリル
錫モノオクチル酸塩・ジクロライド、モノラウリル錫ジ
ラウリン酸塩・モノクロライド、モノラウリル錫ジミリ
スチン酸塩・モノクロライド、モノラウリル錫ジイソク
ロトン酸塩・モノクロライド、モノラウリル錫モノフェ
ニル酪酸塩・ジクロライド、モノラウリル錫ジ安息香酸
塩・モノクロライド、モノラウリル錫モノ安息香酸塩・
ジクロライド、モノフェニル錫ジギ酸塩・モノクロライ
ド、モノフェニル錫モノ酢酸塩・ジクロライド、モノフ
ェニル錫ジオクチル酸塩・モノクロライド、モノフェニ
ル錫ジラウリン酸塩・モノクロライド、モノフェニル錫
ジパルミチン酸塩・モノクロライド、モノフェニル錫ジ
ソルビン酸塩・モノクロライド、モノフェニル錫ビスア
セト酢酸塩・モノクロライド、モノフェニル錫モノメト
キシ安息香酸塩・ジクロライド、モノメチル錫ジ酢酸塩
・オキサイド(1/2)、モノメチル錫モノ酢酸塩・オ
キサイド、モノメチル錫ジカプロン酸塩・オキサイド
(1/2)、モノメチル錫ジオクチル酸塩・オキサイド
(1/2)、モノメチル錫ジラウリン酸塩・オキサイド
(1/2)、モノメチル錫ジベヘン酸塩・オキサイド
(1/2)、モノメチル錫ジアクリル酸塩・オキサイド
(1/2)、モノメチル錫ビスアセト酢酸塩・オキサイ
ド(1/2)、モノメチル錫ジ安息香酸塩・オキサイド
(1/2)、モノメチル錫ジ酢酸塩・オキサイド(1/
2)、モノブチル錫ジ酢酸塩・オキサイド(1/2)、
モノブチル錫モノ酢酸塩・オキサイド、モノブチル錫ジ
オクチル酸塩・オキサイド(1/2)、モノブチル錫モ
ノオクチル酸塩・オキサイド、モノブチル錫ジラウリン
酸塩・オキサイド(1/2)、モノブチル錫モノラウリ
ン酸塩・オキサイド、モノブチル錫ジステアリン酸塩・
オキサイド、モノブチル錫ジクロトン酸塩・オキサイド
(1/2)、モノブチル錫ビスフェニル酢酸塩・オキサ
イド(1/2)、モノブチル錫ジ安息香酸塩・オキサイ
ド、モノブチル錫モノ安息香酸塩・オキサイド、モノブ
チル錫ビスメトキシ安息香酸塩・オキサイド(1/
2)、モノオクチル錫ジ酢酸塩・オキサイド(1/
2)、モノオクチル錫モノ酢酸塩・オキサイド、モノオ
クチル錫ジオクチル酸塩・オキサイド(1/2)、モノ
オクチル錫モノオクチル酸塩・オキサイド、モノオクチ
ル錫ジラウリン酸塩・オキサイド(1/2)、モノオク
チル錫ジラウリン酸塩・オキサイド(1/2)、モノオ
クチル錫モノラウリン酸塩・オキサイド、モノオクチル
錫ジミリスチン酸塩・オキサイド(1/2)、モノオク
チル錫ジクロトン酸塩・オキサイド(1/2)、モノオ
クチル錫ビスフェニル酪酸塩・オキサイド(1/2)、
モノオクチル錫ジ安息香酸塩・オキサイド(1/2)、
モノオクチル錫モノ安息香酸塩・オキサイド、モノオク
チル錫ビスメトキシ安息香酸塩・オキサイド(1/
2)、モノラウリル錫ジ酢酸塩・オキサイド(1/
2)、モノラウリル錫ジカプロン酸塩・オキサイド(1
/2)、モノラウリル錫ジオクチル酸塩・オキサイド
(1/2)、モノラウリル錫モノラウリン酸塩・オキサ
イド、モノラウリル錫ジパルミチン酸塩・オキサイド
(1/2)、モノラウリル錫ジイソクロトン酸塩・オキ
サイド(1/2)、モノラウリル錫ジ安息香酸塩・オキ
サイド(1/2)、モノメチル錫ジ酢酸塩・サルファイ
ド(1/2)、モノメチル錫ジオクチル酸塩・サルファ
イド(1/2)、モノメチル錫ジラウリン酸塩・サルフ
ァイド(1/2)、モノメチル錫ジラウリン酸塩・サル
ファイド(1/2)、モノメチル錫ジ安息香酸塩・サル
ファイド(1/2)、モノブチル錫ジ酢酸塩・サルファ
イド(1/2)、モノブチル錫モノ酢酸塩・サルファイ
ド、モノブチル錫ジオクチル酸塩・サルファイド(1/
2)、モノブチル錫モノオクチル酸塩・サルファイド、
モノブチル錫ジラウリン酸塩・サルファイド(1/
2)、モノブチル錫モノラウリン酸塩・サルファイド、
モノブチル錫ジ安息香酸塩・サルファイド(1/2)、
モノブチル錫モノ安息香酸塩・サルファイド、モノオク
チル錫ジ酢酸塩・サルファイド(1/2)、モノオクチ
ル錫モノ酢酸塩・サルファイド、モノオクチル錫ジオク
チル酸塩・サルファイド(1/2)、モノオクチル錫モ
ノオクチル酸塩・サルファイド、モノオクチル錫ジラウ
リン酸塩・サルファイド(1/2)、モノオクチル錫モ
ノラウリン酸塩・サルファイド、モノオクチル錫ジ安息
香酸塩・サルファイド(1/2)、モノオクチル錫モノ
安息香酸塩・サルファイド、モノメチル錫モノ酢酸塩・
モノハイドロオキサイド・モノクロライド、モノブチル
錫モノオクチル酸塩・モノハイドロオキサイド・オキサ
イド(1/2)、モノオクチル錫モノラウリン酸塩・モ
ノハイドロオキサイド・サルファイド(1/2)、モノ
ラウリル錫モノ安息香酸塩・モノクロライド・ハイドロ
オキサイド、モノフェニル錫モノオクチル酸塩・モノク
ロライド・サルファイド(1/2)、モノフェニル錫モ
ノラウリン酸塩・オキサイド(1/2)・サルファイ
ド、ジメチル錫ジギ酸塩・ジメチル錫ジ酢酸塩、ジメチ
ル錫ジオクチル酸塩、ジメチル錫ジステアリン酸塩、ジ
メチル錫ジネオペンタン酸塩、ジメチル錫ジアクリル酸
塩、ジメチル錫ビスフェニル酢酸塩、ジメチル錫ビスア
セト酢酸塩、ジメチル錫ビスメトキシ安息香酸塩、ジブ
チル錫ジ酢酸塩、ジブチル錫ジオクチル酸塩、ジブチル
錫ジラウリン酸塩、ジブチル錫ジベヘン酸塩、ジブチル
錫ジネオデカン酸塩、ジブチル錫ジクロトン酸塩、ジブ
チル錫ビスフェニル酪酸塩、ジブチル錫ビスアセト酢酸
塩、ジブチル錫ジ安息香酸塩、ジブチル錫ビスターシャ
リーブチル安息香酸塩、ジオクチル錫ジ酢酸塩、ジオク
チル錫ジオクチル酸塩、ジオクチル錫ジラウリン酸塩、
ジオクチル錫ジミリスチン酸塩、ジオクチル錫ジネオヘ
プタン酸塩、ジオクチル錫ジイソクロトン酸塩、ジオク
チル錫ジオクチル酸塩、ジオクチル錫ジ安息香酸塩、ジ
オクチル錫ビスヒドロキシ安息香酸塩、ジラウリル錫ジ
酢酸塩、ジラウリル錫ジカプロン酸塩、ジラウリル錫ジ
オクチル酸塩、ジラウリル錫ジパルミチン酸塩、ジラウ
リル錫ジステアリン酸塩、ジラウリル錫ジイソクロトン
酸塩、ジラウリル錫ジエルカ酸塩、ジラウリル錫ジ安息
香酸塩、ジフェニル錫ジギ酸塩、ジフェニル錫ジラウリ
ン酸塩、ジフェニル錫ジウンデシレン酸塩、ジフェニル
錫ジリノレン酸塩、ジフェニル錫ジシクロペンタンカル
ボン酸塩、ジフェニル錫ビスメトキシ安息香酸塩、ビス
(ジメチル錫モノ酢酸塩)オキサイド、ビス(ジメチル
錫モノオクチル酸塩)オキサイド、ビス(ジメチル錫モ
ノラウリン酸塩)オキサイド、ビス(ジメチル錫モノア
クリル酸塩)オキサイド、ビス(ジメチル錫モノフェニ
ル酢酸塩)オキサイド、ビス(ジメチル錫モノシクロペ
ンタンカルボン酸塩)オキサイド、ビス(ジメチル錫モ
ノアセト酢酸塩)オキサイド、ビス(ジメチル錫モノ安
息香酸塩)オキサイド、ビス(ジブチル錫モノ酢酸塩)
オキサイド、ビス(ジブチル錫モノカプロン酸塩)オキ
サイド、ビス(ジブチル錫モノオクチル酸塩)オキサイ
ド、ビス(ジブチル錫モノラウリン酸塩)オキサイド、
ビス(ジブチル錫モノミリスチン酸塩)オキサオド、ビ
ス(ジブチル錫モノパルミチン酸塩)オキサイド、ビス
(ジブチル錫モノステアリン酸塩)オキサイド、ビス
(ジブチル錫モノネオデカン酸塩)オキサイド、ビス
(ジブチル錫モノオレイン酸塩)オキサイド、ビス(ジ
ブチル錫モノフェニル酪酸塩)オキサイド、ビス(ジブ
チル錫モノ安息香酸塩)オキサイド、ビス(ジブチル錫
モノターシャリーブチル安息香酸塩)オキサイド、ビス
(ジオクチル錫モノギ酸塩)オキサイド、ビス(ジオク
チル錫モノ酢酸塩)オキサイド、ビス(ジオクチル錫モ
ノオクチル酸塩)オキサイド、ビス(ジオクチル錫モノ
ラウリン酸塩)オキサイド、ビス(ジオクチル錫モノス
テアリン酸塩)オキサイド、ビス(ジオクチル錫モノネ
オデカン酸塩)オキサイド、ビス(ジオクチル錫モノク
ロトン酸塩)オキサイド、ビス(ジオクチル錫モノリノ
ール酸塩)オキサイド、ビス(ジオクチル錫モノフェニ
ルプロピオン酸塩)オキサイド、ビス(ジオクチル錫モ
ノ安息香酸塩)オキサイド、ビス(ジオクチル錫モノメ
トキシ安息香酸塩)オキサイド、ビス(ジオクチル錫モ
ノヒドロキシ安息香酸塩)オキサイド、ビス(ジラウリ
ル錫モノカプロン酸塩)オキサイド、ビス(ジラウリル
錫モノオクチル酸塩)オキサイド、ビス(ジラウリル錫
モノラウリン酸塩)オキサイド、ビス(ジラウリル錫モ
ノイソクロトン酸塩)オキサイド、ビス(ジラウリル錫
モノリノレン酸塩)オキサイド、ビス(ジラウリル錫モ
ノ安息香酸塩)オキサイド、ビス(ジフェニル錫モノラ
ウリン酸塩)オキサイド、ビス(ジフェニル錫モノウン
デシレン酸塩)オキサイド、ビス(ジフェニル錫モノエ
ルカ酸塩)オキサイド、ビス(ジフェニル錫モノソルビ
ン酸塩)オキサイド、ビス(ジフェニル錫モノメトキシ
安息香酸塩)オキサイド、ビス(ジメチル錫モノギ酸
塩)サルファイド、ビス(ジメチル錫モノ酢酸塩)サル
ファイド、ビス(ジメチル錫モノオクチル酸塩)サルフ
ァイド、ビス(ジメチル錫モノラウリン酸塩)サルファ
イド、ビス(ジブチル錫モノアクリル酸塩)サルファイ
ド、ビス(ジメチル錫モノオレイン酸塩)サルファイ
ド、ビス(ジメチル錫モノフェニル酢酸塩)サルファイ
ド、ビス(ジメチル錫モノシクロペンタンカルボン酸
塩)サルファイド、ビス(ジメチル錫モノ安息香酸塩)
サルファイド、、ビス(ジブチル錫モノ酢酸塩)サルフ
ァイド、ビス(ジブチル錫モノカプロン酸塩)サルファ
イド、ビス(ジブチル錫モノオクチル酸塩)サルファイ
ド、ビス(ジブチル錫モノラウリン酸塩)サルファイ
ド、ビス(ジブチル錫モノミリスチン酸塩)サルファイ
ド、ビス(ジブチル錫モノパルミチン酸塩)サルファイ
ド、ビス(ジブチル錫モノステアリン酸塩)サルファイ
ド、ビス(ジブチル錫モノベヘン酸塩)サルファイド、
ビス(ジブチル錫モノクロトン酸塩)サルファイド、ビ
ス(ジブチル錫モノイソクロトン酸塩)サルファイド、
ビス(ジブチル錫モノウンデシレン酸塩)サルファイ
ド、ビス(ジブチル錫モノエルカ酸塩)サルファイド、
ビス(ジブチル錫モノソルビン酸塩)サルファイド、ビ
ス(ジブチル錫モノフェニル酪酸塩)サルファイド、ビ
ス(ジブチル錫モノ安息香酸塩)サルファイド、ビス
(ジオクチル錫モノ酢酸塩)サルファイド、ビス(ジオ
クチル錫モノオクチル酸塩)サルファイド、ビス(ジオ
クチル錫モノラウリン酸塩)サルファイド、ビス(ジオ
クチル錫モノリノール酸塩)サルファイド、ビス(ジオ
クチル錫モノリノレン酸塩)サルファイド、ビス(ジオ
クチル錫モノフェニルプロピオン酸塩)サルファイド、
ビス(ジオクチル錫モノアセト酢酸塩)サルファイド、
ビス(ジオクチル錫モノ安息香酸塩)サルファイド、ビ
ス(ジオクチル錫モノメトキシ安息香酸塩)サルファイ
ド、ビス(ジラウリル錫モノ酢酸塩)サルファイド、ビ
ス(ジラウリル錫モノオクチル酸塩)サルファイド、ビ
ス(ジラウリル錫モノラウリン酸塩)サルファイド、ビ
ス(ジラウリル錫モノ安息香酸塩)サルファイド、ビス
(ジフェニル錫モノ酢酸塩)サルファイド、ビス(ジフ
ェニル錫モノオクチル酸塩)サルファイド、ビス(ジフ
ェニル錫モノラウリン酸塩)サルファイド、ビス(ジオ
クチル錫モノ安息香酸塩)サルファイド、ビス(ジメチ
ル錫モノギ酸塩)アジピン酸塩、ビス(ジメチル錫モノ
酢酸塩)アジピン酸塩、ビス(ジメチル錫モノオクチル
酸塩)アジピン酸塩、ビス(ジメチル錫モノラウリン酸
塩)アジピン酸塩、ビス(ジメチル錫モノアクリル酸
塩)アジピン酸塩、ビス(ジメチル錫モノオレイン酸
塩)アジピン酸塩、ビス(ジメチル錫モノフェニル酢酸
塩)アジピン酸塩、ビス(ジメチル錫モノ安息香酸塩)
アジピン酸塩、ビス(ジブチル錫モノ酢酸塩)アジピン
酸塩、ビス(ジブチル錫モノカプロン酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジブチル錫モノオクチル酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジブチル錫モノラウリン酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジブチル錫モノステアリン酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジブチル錫モノアクリル酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジブチル錫モノオレイン酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジブチル錫モノリノール酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジブチル錫モノフェニル酢酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジブチル錫モノ安息香酸塩)アジピン酸塩、
ビス(ジオクチル錫モノ酢酸塩)アジピン酸塩、ビス
(ジオクチル錫モノカプロン酸塩)アジピン酸塩、ビス
(ジオクチル錫モノオクチル酸塩)アジピン酸塩、ビス
(ジオクチル錫モノラウリン酸塩)アジピン酸塩、ビス
(ジオクチル錫モノベヘン酸塩)アジピン酸塩、ビス
(ジオクチル錫モノクロトン酸塩)アジピン酸塩、ビス
(ジオクチル錫モノイソクロトン酸塩)アジピン酸塩、
ビス(ジオクチル錫モノフェニル酪酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジオクチル錫モノ安息香酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジオクチル錫モノメトキシ安息香酸塩)アジ
ピン酸塩、ビス(ジラウリル錫モノ酢酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジラウリル錫モノオクチル酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジラウリル錫モノラウリン酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジラウリル錫モノミリスチン酸塩)アジピン
酸塩、ビス(ジラウリル錫モノパルミチン酸塩)アジピ
ン酸塩、ビス(ジラウリル錫モノベヘン酸塩)アジピン
酸塩、ビス(ジラウリル錫モノアクリル酸塩)アジピン
酸塩、ビス(ジラウリル錫モノオレイン酸塩)アジピン
酸塩、ビス(ジラウリル錫モノエルカ酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジラウリル錫モノフェニル酢酸塩)アジピン
酸塩、ビス(ジラウリル錫モノアセト酢酸塩)アジピン
酸塩、ビス(ジラウリル錫モノ安息香酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジラウリル錫モノオクチル酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジフェニル錫モノラウリン酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジフェニル錫モノ安息香酸塩)アジピン酸
塩、ビス(ジメチル錫モノ酢酸塩)マレイン酸塩、ビス
(ジメチル錫モノオクチル酸塩)マレイン酸塩、ビス
(ジメチル錫モノラウリン酸塩)マレイン酸塩、ビス
(ジメチル錫モノステアリン酸塩)マレイン酸塩、ビス
(ジメチル錫モノウンデシレン酸塩)マレイン酸塩、ビ
ス(ジメチル錫モノエルカ酸塩)マレイン酸塩、ビス
(ジメチル錫モノソルビン酸塩)マレイン酸塩、ビス
(ジメチル錫モノリノレン酸塩)マレイン酸塩、ビス
(ジメチル錫モノフェニルプロピオン酸塩)マレイン酸
塩、ビス(ジメチル錫モノアセト酢酸塩)マレイン酸
塩、ビス(ジメチル錫モノ安息香酸塩)マレイン酸塩、
ビス(ジブチル錫モノギ酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジ
ブチル錫モノ酢酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジブチル錫
モノオクチル酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジブチル錫モ
ノラウリン酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジブチル錫モノ
ラウリン酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジブチル錫モノベ
ヘン酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジブチル錫モノアクリ
ル酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジブチル錫モノオレイン
酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジブチル錫モノフェニル酢
酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジブチル錫モノアセト酢酸
塩)マレイン酸塩、ビス(ジブチル錫モノ安息香酸塩)
マレイン酸塩、ビス(ジブチル錫モノメトキシ安息香酸
塩)マレイン酸塩、ビス(ジオクチル錫モノ酢酸塩)マ
レイン酸塩、ビス(ジオクチル錫モノカプロン酸塩)マ
レイン酸塩、ビス(ジオクチル錫モノオクチル酸塩)マ
レイン酸塩、ビス(ジオクチル錫モノラウリン酸塩)マ
レイン酸塩、ビス(ジオクチル錫モノミリスチン酸塩)
マレイン酸塩、ビス(ジオクチル錫モノパルミチン酸
塩)マレイン酸塩、ビス(ジオクチル錫モノクロトン酸
塩)マレイン酸塩、ビス(ジオクチル錫モノイソクロト
ン酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジオクチル錫モノリノレ
ン酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジオクチル錫モノフェニ
ル酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジオクチル錫モノシクロ
ペンタンジカルボン酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジオク
チル錫モノ安息香酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジオクチ
ル錫モノメトキシ安息香酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジ
オクチル錫モノメトキシ安息香酸塩)マレイン酸塩、ビ
ス(ジラウリル錫モノ酢酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジ
ラウリル錫モノオクチル酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジ
ラウリル錫モノラウリン酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジ
ラウリル錫モノリノール酸塩)マレイン酸塩、ビス(ジ
ラウリル錫モノフェニルプロピオン酸塩)マレイン酸
塩、ビス(ジラウリル錫モノ安息香酸塩)マレイン酸
塩、ビス(ジオクチル錫モノメトキシ安息香酸塩)マレ
イン酸塩、ビス(ジフェニル錫モノ酢酸塩)マレイン酸
塩、ビス(ジフェニル錫モノオクチル酸塩)マレイン酸
塩、ビス(ジフェニル錫モノラウリン酸塩)マレイン酸
塩、ビス(ジフェニル錫モノソルビン酸塩)マレイン酸
塩、ビス(ジフェニル錫モノ安息香酸塩)マレイン酸
塩、ビス(ジフェニル錫モノメトキシ安息香酸塩)マレ
イン酸塩、ビス(ジメチル錫モノギ酸塩)フタル酸塩、
ビス(ジメチル錫モノ酢酸塩)フタル酸塩、ビス(ジメ
チル錫モノオクチル酸塩)フタル酸塩、ビス(ジメチル
錫モノラウリン酸塩)フタル酸塩、ビス(ジメチル錫モ
ノステアリン酸塩)フタル酸塩、ビス(ジメチル錫モノ
ウンデシレン酸塩)フタル酸塩、ビス(ジメチル錫モノ
安息香酸塩)フタル酸塩、ビス(ジメチル錫モノメトキ
シ安息香酸塩)フタル酸塩、ビス(ジブチル錫モノ酢酸
塩)フタル酸塩、ビス(ジブチル錫モノカプロン酸塩)
フタル酸塩、ビス(ジブチル錫モノオクチル酸塩)フタ
ル酸塩、ビス(ジブチル錫モノラウリン酸塩)フタル酸
塩、ビス(ジブチル錫モノアクリル酸塩)フタル酸塩、
ビス(ジブチル錫モノオレイン酸塩)フタル酸塩、ビス
(ジブチル錫モノフェニル酸塩)フタル酸塩、ビス(ジ
ブチル錫モノ安息香酸塩)フタル酸塩、ビス(ジオクチ
ル錫モノ酢酸塩)フタル酸塩、ビス(ジオクチル錫モノ
オクチル酸塩)フタル酸塩、ビス(ジオクチル錫モノラ
ウリル酸塩)フタル酸塩、ビス(ジオクチル錫モノミリ
スチン酸塩)フタル酸塩、ビス(ジオクチル錫モノソル
ビン酸塩)フタル酸塩、ビス(ジオクチル錫モノフェニ
ルプロピオン酸塩)フタル酸塩、ビス(ジオクチル錫モ
ノアセト酢酸塩)フタル酸塩、ビス(ジオクチル錫モノ
安息香酸塩)フタル酸塩、ビス(ジオクチル錫モノメト
キシ安息香酸塩)フタル酸塩、ビス(ジラウリル錫モノ
酢酸塩)フタル酸塩、ビス(ジラウリル錫モノオクチル
酸塩)フタル酸塩、ビス(ジラウリル錫モノラウリン酸
塩)フタル酸塩、ビス(ジラウリル錫モノ安息香酸塩)
フタル酸塩、ビス(ジフェニル錫モノ酢酸塩)フタル酸
塩、ビス(ジフェニル錫モノオクチル酸塩)フタル酸
塩、ビス(ジフェニル錫モノラウリン酸塩)フタル酸
塩、ビス(ジフェニル錫モノ安息香酸塩)フタル酸塩、
ビス(ジメチル錫モノギ酸塩)チオジプロピオン酸塩、
ビス(ジメチル錫モノ酢酸塩)チオジプロピオン酸塩、
ビス(ジメチル錫モノオクチル酸塩)チオジプロピオン
酸塩、ビス(ジメチル錫モノラウリン酸塩)チオジプロ
ピオン酸塩、ビス(ジメチル錫モノクロトン酸塩)チオ
ジプロピオン酸塩、ビス(ジメチル錫モノフェニルプロ
ピオン酸塩)チオジプロピオン酸塩、ビス(ジメチル錫
モノシクロペンタンカルボン酸塩)チオジプロピオン酸
塩、ビス(ジメチル錫モノアセト酢酸塩)チオジプロピ
オン酸塩、ビス(ジメチル錫モノ安息香酸塩)チオジプ
ロピオン酸塩、ビス(ジブチル錫モノ酢酸塩)チオジプ
ロピオン酸塩、ビス(ジブチル錫モノカプロン酸塩)チ
オジプロピオン酸塩、ビス(ジブチル錫モノオクチル酸
塩)チオジプロピオン酸塩、ビス(ジブチル錫モノラウ
リン酸塩)チオジプロピオン酸塩、ビス(ジブチル錫モ
ノパルミチン酸塩)チオジプロピオン酸塩、ビス(ジブ
チル錫モノイソクロトン酸塩)チオジプロピオン酸塩、
ビス(ジブチル錫モノフェニル酪酸塩)チオジプロピオ
ン酸塩、ビス(ジブチル錫モノ安息香酸塩)チオジプロ
ピオン酸塩、ビス(ジオクチル錫モノ酢酸塩)チオジプ
ロピオン酸塩、ビス(ジオクチル錫モノオクチル酸塩)
チオジプロピオン酸塩、ビス(ジオクチル錫モノラウリ
ン酸塩)チオジプロピオン酸塩、ビス(ジオクチル錫モ
ノエルカ酸塩)チオジプロピオン酸塩、ビス(ジオクチ
ル錫モノアセト酢酸塩)チオジプロピオン酸塩、ビス
(ジオクチル錫モノ安息香酸塩)チオジプロピオン酸
塩、ビス(ジオクチル錫モノメトキシ安息香酸塩)チオ
ジプロピオン酸塩、ビス(ジラウリル錫モノ酢酸塩)チ
オジプロピオン酸塩、ビス(ジラウリル錫モノオクチル
酸塩)チオジプロピオン酸塩、ビス(ジラウリル錫モノ
ラウリン酸塩)チオジプロピオン酸塩、ビス(ジラウリ
ル錫モノリノール酸塩)チオジプロピオン酸塩、ビス
(ジラウリル錫モノフェニル酢酸塩)チオジプロピオン
酸塩、ビス(ジラウリル錫モノ安息香酸塩)チオジプロ
ピオン酸塩、ビス(ジラウリル錫モノ酢酸塩)チオジプ
ロピオン酸塩、ビス(ジフェニル錫モノオクチル酸塩)
チオジプロピオン酸塩、ビス(ジフェニル錫モノラウリ
ン酸塩)チオジプロピオン酸塩、ビス(ジフェニル錫モ
ノリノレン酸塩)チオジプロピオン酸塩、ビス(ジフェ
ニル錫モノ安息香酸塩)チオジプロピオン酸塩等が挙げ
られる。
Formulas represented by the above general formulas (1) and (2)
Specific examples of the organic tin compound include monomethyl tin triformic acid.
Salt, monomethyltin triacetate, monomethyltin trioctyl
Phosphate, monomethyltin trilaurate, monomethyltin
Tristearate, monomethyltin triacrylate,
Monomethyltin tricrotonate, monomethyltin triole
Inoate, monomethyltin trierucate, monomethyltin
Sorbate, monomethyltin trilinoleate, monomer
Chill tin trisphenyl acetate, monomethyl tin trisphe
Nylpropionate, monomethyltin trisacetoacetic acid
Salt, monomethyltin tribenzoate, monobutyltin trivine
Acid salt, monobutyltin tricaproate, monobutyltin salt
Lyoctylate, monobutyltin trilaurate, mono
Butyltin trimyristate, monobutyltin tripalmi
Titanate, monobutyltin tristearate, monobutyrate
Rutin tribehenate, monobutyltin triacrylate,
Monobutyltin tricrotonate, Monobutyltin triiso
Crotonate, monobutyltin triundecylenate, molybdenum
Nobutyltin trioleate, Monobutyltin trierca
Acid salt, monobutyltin trisorbate, monobutyltin salt
Linolenate, monobutyltin trilinolenate, mono
Butyltin trisphenylacetate, monobutyltin trisulfate
Phenyl butyrate, monobutyltin trisphenylpropion
Acid salt, monobutyltin triscyclopentanecarboxylic acid
Salt, monobutyltin trisacetoacetate, monobutyltin
Libenzoate, monobutyltin trismethoxybenzoic acid
Salt, monooctyl tin triacetate, monooctyl tin trio
Cutylate, monooctyltin trilaurate, monoo
Octyl tin tristearate, monooctyl tin tribehe
Phosphate, monooctyltin triacrylate, monooctyl
Rutin trioleate, monooctyltin trierucate
Salt, monooctyltin trisorbate, monooctyltin
Trilinoleate, monooctyltin trisphenylacetic acid
Salt, monooctyltin trisphenylpropionate, molybdenum
Nooctyltin trisacetoacetate, Monooctyltin triacetate
Benzoate, monolauryl tin triacetate, monolauryl
Tin trioctylate, monolauryl tin trilaurate
Salt, monolauryl tin tristearate, monolauryl
Tin triacrylate, monolauryl tin trioleate
Salt, monolauryltin trisphenylbutyrate, monolauri
Rutin tribenzoate, monophenyl tin triacetate, mono
Phenyltin trioctylate, monophenyltin trilaurate
Phosphate, monophenyltin tricrotonate, monophe
Nyl tin trioleate, monophenyl tin trispheny
Acetate, monophenyltin trisphenylpropionic acid
Salt, monophenyltin tribenzoate, monomethyltin divine
Acid salt / monohydroxide, monomethyltin monoacetic acid
Salt / dihydroxide, monomethyltin dicaproic acid
Salt / monohydroxide, monomethyltin dioctyl
Acid salt / monohydroxide, monomethyltin dilaurate
Phosphate / monohydroxide, monomethyltin dibenzoate
Perfume salt / monohydroxide, monobutyltin diacetate
Salt / monohydroxide, monobutyltin monoacetate
・ Dihydrooxide, monobutyltin dioctylate
・ Monohydroxide, monobutyltin monooctyl
Acid salt / dihydroxide, monobutyltin dilaurine
Acid salt / monohydroxide, monobutyltin monolaurate
Phosphate / dihydroxide, monobutyltin diac
Phosphate / monohydroxide, monobutyltin mono
Oleate / dihydroxide, monobutyltin vinyl
Sphenylacetate / monohydroxide, monobutyrate
Rutin dibenzoate / monohydroxide, monobutyrate
Rutin monobenzoate / dihydrooxide, monooctane
Chilltin diacetate / monohydroxide, monooctyl
Rutin monoacetate / dihydroxide, monooctyl
Tin dioctylate / monohydroxide, monooctane
Cyltin dioctylate / monohydroxide, mono
Octyltin monooctylate / dihydrooxide,
Monooctyltin dilaurate / monohydroxai
De, monooctyltin monolaurate / dihydrooxy
Side, monooctyltin dicrotonate / monohydro
Oxide, monooctyltin dierucate monohydrate
Rooxide, monooctyltin dilinolenate / monoha
Idrooxide, monooctyltin bisphenyl butyrate
・ Monohydroxide, monooctyltin biscyclo
Pentanecarboxylate / monohydroxide, mono
Octyl tin dibenzoate / monohydroxide, mono
Octyl tin monobenzoate / dihydrooxide, moth
Nooctyltin bismethoxybenzoate / monohydroo
Cide, monolauryl tin diformate, monohydro oki
Side, monolauryl tin diacetate / monohydroxa
Id, monolauryl tin monolaurate / dihydro
Quiside, monolauryl tin dimyristate / mono high
Drooxide, monolauric acid dipalmitate
Nohydrox oxide, monolauryl tin monostearin
Acid salt / dihydroxide, monolauryl tin dibehen
Acid salt / monohydroxide, monolauryl tin diiso
Crotonate / monohydroxide, monolauryl
Tin diundecylenate / monohydroxide, mono
Lauryl tin disorbate / monohydroxide,
Monolauryl tin dilinoleate / monohydroxai
De, monolauryl tin monophenyl propionate, diha
Idrooxide, monolauryl tin bisacetoacetate
Monohydroxide, monolauryl tin dibenzoate
・ Monohydroxide, monolauryl tin monomethoxide
Cibenzoate / dihydroxide, monophenyltin
Monoacetate / dihydroxide, monophenyltin di
Octylate / monohydroxide, monophenyl
Tin dilaurate / monohydroxide, monofe
Nyltin dioleate / monohydroxide, mono
Phenyltin monoacetoacetate / dihydrooxide,
Monophenyltin dibenzoate / monohydroxai
De, monomethyltin diacetate / monochloride, monomethyi
Rutin monoacetate / dichloride, monomethyltin dioctyl
Phosphate / monochloride, monomethyltin monooctylic acid
Salt / dichloride, monomethyltin dilaurate / mono
Chloride, Monomethyltin diacrylate, Monochrome
Id, monomethyltin dioleate / monochloride,
Monomethyltin bisphenylpropionate monochlora
B, monomethyltin dibenzoate / monochloride, mono
Butyltin diacetate / monochloride, monobutyltin mono
Acetate / dichloride, monobutyltin monocaproate
・ Dichloride, monobutyltin dioctylate ・ Monoc
Loride, monobutyltin monooctylate / dichlorate
, Monobutyltin dilaurate / monochloride,
Nobutyltin monolaurate dichloride, monobutyrate
Rutin monobehenate / dichloride, monobutyltin mono
Crotonate / dichloride, monobutyltin dierucic acid
Salt / monochloride, monobutyltin bisphenylacetate
・ Monolide, monobutyltin bisacetoacetate
Nochloride, monobutyltin monobenzoic acid / dichlore
De, monobutyltin monomethoxybenzoate / dichlorate
De, monooctyltin diacetate / monochloride, monoo
Octyl tin monoacetate / dichloride, monooctyl tin di
Octylate monochloride, monooctyl tin monoo
Cutylate / dichloride, monooctyltin dilaurin
Acid chloride / monochloride, monooctyltin monolauric acid
Salt, dichloride, monooctyl tin distearate
Monochloride, monooctyltin dilanedecylenate ・
Monochloride, monooctyltin dioleate mono
Chloride, monooctyltin bisacetoacetate / monoc
Loride, monooctyl tin dibenzoate, monochlori
De, monooctyl tin monobenzoate / dichloride, molybdenum
Nolauryl tin monoacetate / dichloride, monolauryl
Tin monooctylate dichloride, monolauryl tin di
Laurate / monochloride, monolauryl tin dimilli
Statin salt / monochloride, monolauryl tin diisoc
Rotonate monochloride, monolauryl tin monophe
Nyl butyrate / dichloride, monolauryl tin dibenzoate
Salt / monochloride, monolauryl tin monobenzoate
Dichloride, monophenyltin diformate, Monochrome
De, monophenyl tin monoacetate / dichloride, monof
Phenyl tin dioctylate monochloride, monophenyl
Rutin dilaurate monochloride, monophenyl tin
Dipalmitate / monochloride, monophenyltin di
Sorbate monochloride, monophenyl tin bis-a
Cetoacetate / monochloride, monophenyltin monometh
Xybenzoate dichloride, monomethyltin diacetate
・ Oxide (1/2), monomethyltin monoacetate
Cide, monomethyltin dicaproate / oxide
(1/2), monomethyltin dioctylate oxide
(1/2), monomethyltin dilaurate / oxide
(1/2), monomethyltin dibehenate / oxide
(1/2), monomethyltin diacrylate / oxide
(1/2), monomethyltin bisacetoacetate / Oxai
(1/2), monomethyltin dibenzoate / oxide
(1/2), monomethyltin diacetate / oxide (1 /
2), monobutyltin diacetate / oxide (1/2),
Monobutyltin monoacetate / oxide, monobutyltin di
Octylate / oxide (1/2), monobutyltin molybdenum
Noctylate oxide, monobutyltin dilaurine
Acid salt / oxide (1/2), monobutyltin monolauri
Phosphate / oxide, monobutyltin distearate /
Oxide, monobutyltin dicrotonate / oxide
(1/2), monobutyltin bisphenylacetate / oxa
Id (1/2), Monobutyltin dibenzoate / Oxai
Dode, monobutyltin monobenzoate / oxide, monobu
Chilltin bismethoxybenzoate oxide (1 /
2), monooctyltin diacetate / oxide (1 /
2), monooctyltin monoacetate / oxide, monoo
Octyl tin dioctylate oxide (1/2), mono
Octyl tin monooctylate / oxide, monooctyl
Rutin dilaurate oxide (1/2), monooctane
Chill tin dilaurate / oxide (1/2), Monoo
Octyl tin monolaurate / oxide, monooctyl
Tin dimyristate / oxide (1/2), monooctane
Chilltin dicrotonate / oxide (1/2), Monoo
Octyl tin bisphenyl butyrate / oxide (1/2),
Monooctyltin dibenzoate / oxide (1/2),
Monooctyltin monobenzoate / oxide, monooctyl
Chilltin bismethoxybenzoate oxide (1 /
2), monolauryl tin diacetate / oxide (1 /
2), monolauryl tin dicaproate oxide (1
/ 2), monolauryl tin dioctylate oxide
(1/2), monolauryl tin monolaurate / oxa
Id, monolauryl tin dipalmitate / oxide
(1/2), monolauryl tin diisocrotonate / Oki
Side (1/2), monolauryl tin dibenzoate / Oki
Side (1/2), monomethyltin diacetate / Sulfie
(1/2), monomethyltin dioctylate / sulfa
Id (1/2), monomethyltin dilaurate / sulf
(1/2), monomethyltin dilaurate / monkey
Fido (1/2), monomethyltin dibenzoate / monkey
Fide (1/2), monobutyltin diacetate / sulfa
Id (1/2), monobutyltin monoacetate / Sulfie
, Monobutyltin dioctylate / sulfide (1 /
2), monobutyltin monooctylate sulfide,
Monobutyltin dilaurate / sulfide (1 /
2), monobutyltin monolaurate / sulfide,
Monobutyltin dibenzoate / sulfide (1/2),
Monobutyltin monobenzoate / sulfide, monooctane
Chill tin diacetate / sulfide (1/2), monooctyl
Rutin monoacetate / sulfide, monooctyltin dioc
Citrate / sulfide (1/2), monooctyl tin molybdenum
Nooctyl acid salt / Sulfide, Monooctyl tin dilaur
Phosphate / sulfide (1/2), monooctyl tin molybdenum
Nolaurate / sulfide, monooctyltin dibenzoate
Aromatic salt / sulfide (1/2), monooctyl tin mono
Benzoate / Sulfide, Monomethyltin monoacetate /
Monohydroxide monochloride, monobutyl
Tin monooctylate / monohydroxide / oxa
Id (1/2), monooctyltin monolaurate, molybdenum
No Hydroxide Sulfide (1/2), Mono
Lauryl tin monobenzoate / monochloride / hydro
Oxide, monophenyltin monooctylate / monoc
Loride sulfide (1/2), monophenyl tin molybdenum
Nolaurate, oxide (1/2), sulfite
De, dimethyltin diformate / dimethyltin diacetate, dimethy
Rutin dioctylate, dimethyltin distearate, ditin
Methyltin dineopentanate, dimethyltin diacrylic acid
Salt, dimethyltin bisphenylacetate, dimethyltin bis-a
Cetoacetate, dimethyltin bismethoxybenzoate, dib
Cyltin diacetate, dibutyltin dioctylate, dibutyl
Tin dilaurate, dibutyl tin dibehenate, dibutyl
Tin dineodecanoate, dibutyltin dicrotonate, dibu
Chilltin bisphenyl butyrate, dibutyltin bisacetoacetic acid
Salt, dibutyltin dibenzoate, dibutyltin bister compound
Libutyl benzoate, dioctyl tin diacetate, dioc
Chill tin dioctylate, dioctyl tin dilaurate,
Dioctyl tin dimyristate, dioctyl tin dineoate
Butanoate, dioctyltin diisocrotonate, dioctane
Chill tin dioctylate, dioctyl tin dibenzoate, di
Octyl tin bishydroxybenzoate, dilauryl tin di
Acetate, dilauryl tin dicaproate, dilauryl tin di
Octylate, dilauryltin dipalmitate, dilaurate
Ryl tin distearate, dilauryl tin diisocroton
Acid salt, dilauryltin dierucate, dilauryltin dibenzoate
Perfume salt, diphenyltin diformate, diphenyltin dilauri
Phosphate, diphenyltin diundecylenate, diphenyl
Tin dilinolenate, diphenyl tin dicyclopentanecar
Bonate, diphenyltin bismethoxybenzoate, bis
(Dimethyltin monoacetate) oxide, bis (dimethyl)
Tin monooctylate) oxide, bis (dimethyltin molybdate)
Nolaurate oxide, bis (dimethyltin monoa)
(Crylate) oxide, bis (dimethyltin monophenyl)
Acetate, bis (dimethyltin monocyclope)
(Tantan carboxylate) oxide, bis (dimethyltin molybdate)
Noacetoacetic acid salt) oxide, bis (dimethyltinmonoacetate)
Benzoate) oxide, bis (dibutyltin monoacetate)
Oxide, bis (dibutyltin monocaproate) oki
Side, bis (dibutyltin monooctylate) oxai
Bis (dibutyltin monolaurate) oxide,
Bis (dibutyltin monomyristate) oxade, bi
Sus (dibutyltin monopalmitate) oxide, bis
(Dibutyltin monostearate) oxide, bis
(Dibutyltin mononeodecanoate) oxide, bis
(Dibutyltin monooleate) Oxide, Bis (di)
Butyltin monophenyl butyrate) oxide, bis (dib)
Chilltin monobenzoate) oxide, bis (dibutyltin)
Mono-tert-butyl benzoate) oxide, bis
(Dioctyltin monoformate) oxide, bis (dioctyl)
Cyltin monoacetate) oxide, bis (dioctyltin molybdenum)
Nooctylate oxide, bis (dioctyltin mono)
Laurate oxide, bis (dioctyltin monos)
Thearate oxide, bis (dioctyltin monone)
Odecanoate oxide, bis (dioctyl tin monoc)
Rotonate oxide, bis (dioctyltin monolino)
Oxalate) oxide, bis (dioctyltin monophenyl)
Rupropionate) oxide, bis (dioctyltin molybdenum)
Benzoate) oxide, bis (dioctyltin) monomer
Toxybenzoate oxide, bis (dioctyltin molybdenum)
Nohydroxybenzoate) oxide, bis (dilauri)
Rutin monocaproate) oxide, bis (dilauryl)
Tin monooctylate) oxide, bis (dilauryl tin)
Monolaurate oxide, bis (dilauryltin molybdate)
Noisocrotonate oxide, bis (dilauryl tin)
Monolinolenic acid salt) oxide, bis (dilauryltin molybdenum)
Benzoate oxide, bis (diphenyltin monolayer)
Urate oxide, bis (diphenyltin monoun)
Decylenate) oxide, bis (diphenyltinmonoe)
Lukaate oxide, bis (diphenyltin monosorbi)
Acid salt) oxide, bis (diphenyltin monomethoxy)
Benzoate oxide, bis (dimethyltin monoformic acid)
Salt) sulfide, bis (dimethyltin monoacetate) monkey
Fido, bis (dimethyltin monooctylate) sulf
Guide, bis (dimethyltin monolaurate) sulfa
Id, bis (dibutyltin monoacrylate) sulphide
De, bis (dimethyltin monooleate) sulphide
De, bis (dimethyltin monophenylacetate) sulphide
De, bis (dimethyltin monocyclopentanecarboxylic acid
Salt) Sulfide, bis (dimethyltin monobenzoate)
Sulfide, bis (dibutyltin monoacetate) sulf
Aid, bis (dibutyltin monocaproate) sulfa
Id, bis (dibutyltin monooctylate) sulphide
De, bis (dibutyltin monolaurate) sulphide
De, bis (dibutyltin monomyristate) sulphide
De, bis (dibutyltin monopalmitate) sulphide
De, bis (dibutyltin monostearate) sulphide
Bis (dibutyltin monobehenate) sulfide,
Bis (dibutyltin monotonate) sulfide, Bi
Su (dibutyltin monoisocrotonate) sulfide,
Bis (dibutyltin monoundecylenate) sulphide
Bis (dibutyltin monoerucate) sulfide,
Bis (dibutyltin monosorbate) sulfide, Bi
Su (dibutyltin monophenylbutyrate) sulfide, Bi
Sus (dibutyltin monobenzoate) sulfide, bis
(Dioctyltin monoacetate) sulfide, bis (geo
Octyltin monooctylate sulfide, bis (geo)
Cutyltin monolaurate sulfide, bis (geo)
Cutyltin monolinoleate) sulfide, bis (geo)
Octyl tin monolinolenate) sulfide, bis (geo)
Octyltin monophenylpropionate) sulfide,
Bis (dioctyltin monoacetoacetate) sulfide,
Bis (dioctyl tin monobenzoate) sulfide, Bi
Su (dioctyltin monomethoxybenzoate) sulphide
De, bis (dilauryl tin monoacetate) sulfide, bi
Su (dilauryl tin monooctylate) sulfide, Bi
Su (dilauryl tin monolaurate) sulfide, Bi
Su (dilauryl tin monobenzoate) sulfide, bis
(Diphenyltin monoacetate) sulfide, bis (diph
Phenyltin monooctylate) sulfide, bis (diff
Phenyl tin monolaurate sulfide, bis (geo)
Cutyltin monobenzoate) sulfide, bis (dimethy)
Rutin monoformate adipate, bis (dimethyltin mono)
Acetate) adipate, bis (dimethyltin monooctyl)
Acid salt) adipate, bis (dimethyltin monolauric acid)
Salt) adipate, bis (dimethyltin monoacrylic acid)
Salt) adipate, bis (dimethyltin monooleate)
Salt) adipate, bis (dimethyltin monophenylacetic acid)
Salt) adipate, bis (dimethyltin monobenzoate)
Adipate, bis (dibutyltin monoacetate) adipate
Acid salt, bis (dibutyltin monocaproate) adipic acid
Salt, bis (dibutyltin monooctylate) adipic acid
Salt, bis (dibutyltin monolaurate) adipic acid
Salt, bis (dibutyltin monostearate) adipic acid
Salt, bis (dibutyltin monoacrylate) adipic acid
Salt, bis (dibutyltin monooleate) adipic acid
Salt, bis (dibutyltin monolinoleate) adipic acid
Salt, bis (dibutyltin monophenylacetate) adipic acid
Salt, bis (dibutyltin monobenzoate) adipate,
Bis (dioctyltin monoacetate) adipate, bis
(Dioctyltin monocaproate) adipate, bis
(Dioctyltin monooctylate) adipate, bis
(Dioctyltin monolaurate) adipate, bis
(Dioctyltin monobehenate) adipate, bis
(Dioctyltin monochlorotonate) adipate, bis
(Dioctyltin monoisocrotonate) adipate,
Bis (dioctyltin monophenylbutyrate) adipic acid
Salt, bis (dioctyltin monobenzoate) adipic acid
Salt, bis (dioctyltin monomethoxybenzoate) horse mackerel
Pinate, bis (dilauryltin monoacetate) adipic acid
Salt, bis (dilauryltin monooctylate) adipic acid
Salt, bis (dilauryltin monolaurate) adipic acid
Salt, bis (dilauryltin monomyristate) adipine
Acid salt, bis (dilauryltin monopalmitate) adip
Phosphate, bis (dilauryltin monobehenate) adipine
Acid salt, bis (dilauryltin monoacrylate) adipine
Acid salt, bis (dilauryltin monooleate) adipine
Acid salt, bis (dilauryltin monoerucate) adipic acid
Salt, bis (dilauryltin monophenylacetate) adipine
Acid salt, bis (dilauryltin monoacetoacetate) adipine
Acid salt, bis (dilauryltin monobenzoate) adipic acid
Salt, bis (dilauryltin monooctylate) adipic acid
Salt, bis (diphenyltin monolaurate) adipic acid
Salt, bis (diphenyltin monobenzoate) adipic acid
Salt, bis (dimethyltin monoacetate) maleate, bis
(Dimethyltin monooctylate) maleate, bis
(Dimethyltin monolaurate) maleate, bis
(Dimethyltin monostearate) Maleate, bis
(Dimethyltin monoundecylenate) Maleate, Bi
Su (dimethyltin monoerucate) maleate, bis
(Dimethyltin monosorbate) maleate, bis
(Dimethyltin monolinolenate) maleate, bis
(Dimethyltin monophenylpropionate) Maleic acid
Salt, bis (dimethyltin monoacetoacetate) maleic acid
Salt, bis (dimethyltin monobenzoate) maleate,
Bis (dibutyltin monoformate) maleate, bis (dibutyltin)
Butyltin monoacetate) maleate, bis (dibutyltin)
Monooctylate maleate, bis (dibutyltin molybdate)
Nolaurate maleate, bis (dibutyltin mono)
Laurate maleate, bis (dibutyltin monobe)
(Henate) Maleate, Bis (dibutyltin monoacrylate)
Phosphate) Maleate, Bis (dibutyltin monoolein)
Acid salt) maleate, bis (dibutyltin monophenyl vinegar)
Acid salt) maleate, bis (dibutyltin monoacetoacetic acid)
Salt) maleate, bis (dibutyltin monobenzoate)
Maleate, bis (dibutyltin monomethoxybenzoic acid)
Salt) maleate, bis (dioctyltin monoacetate)
Leanate, bis (dioctyltin monocaproate)
Leanate, bis (dioctyltin monooctylate)
Leanate, bis (dioctyltin monolaurate)
Leanate, bis (dioctyltin monomyristate)
Maleate, bis (dioctyltin monopalmitic acid)
Salt) Maleate, Bis (dioctyltin monochlorotonate)
Salt) maleate, bis (dioctyltin monoisocroto)
Acid salt) maleate, bis (dioctyltin monolinole)
Acid salt) maleate, bis (dioctyltin monopheni)
Phosphate) Maleate, Bis (dioctyltin monocyclo)
Pentane dicarboxylate) maleate, bis (dioctane)
Chill tin monobenzoate maleate, bis (dioctyl)
Rutin monomethoxybenzoate) maleate, bis (di)
Octyl tin monomethoxybenzoate) maleate, bi
Su (dilauryl tin monoacetate) maleate, bis (di
Lauryl tin monooctylate) maleate, bis (di)
Lauryl tin monolaurate) maleate, bis (di)
Lauryl tin monolinoleate) maleate, bis (di)
Lauryl tin monophenyl propionate) Maleic acid
Salt, bis (dilauryltin monobenzoate) maleic acid
Salt, bis (dioctyltin monomethoxybenzoate) male
Inoate, bis (diphenyltin monoacetate) maleic acid
Salt, bis (diphenyltin monooctylate) maleic acid
Salt, bis (diphenyltin monolaurate) maleic acid
Salt, bis (diphenyltin monosorbate) maleic acid
Salt, bis (diphenyltin monobenzoate) maleic acid
Salt, bis (diphenyltin monomethoxybenzoate) male
Inoate, bis (dimethyltin monoformate) phthalate,
Bis (dimethyltin monoacetate) phthalate, bis (dim
Chilltin monooctylate) phthalate, bis (dimethyl)
Tin monolaurate phthalate, bis (dimethyltin molybdate)
Nostearate phthalate, bis (dimethyltin mono)
Undecylenate) phthalate, bis (dimethyltin mono)
Benzoate phthalate, bis (dimethyltin monomethoxide)
Cibenzoate phthalate, bis (dibutyltin monoacetic acid)
Salt) phthalate, bis (dibutyltin monocaproate)
Phthalate, bis (dibutyltin monooctylate) lid
Phosphate, bis (dibutyltin monolaurate) phthalate
Salt, bis (dibutyltin monoacrylate) phthalate,
Bis (dibutyltin monooleate) phthalate, bis
(Dibutyltin monophenylate) phthalate, bis (dibutyltin)
Butyltin monobenzoate phthalate, bis (dioctyl)
Rutin monoacetate) phthalate, bis (dioctyltin mono)
Octylate phthalate, bis (dioctyltin monora
Urilate) phthalate, bis (dioctyltin monomilli)
Stinto) phthalate, bis (dioctyltin monosol)
Phosphate, bis (dioctyltin monopheni)
Lupropionate) phthalate, bis (dioctyltin molybdenum)
Noacetoacetate) phthalate, bis (dioctyltin mono)
Benzoate phthalate, bis (dioctyltin monomethoate)
Xybenzoate phthalate, bis (dilauryltin mono)
Acetate) phthalate, bis (dilauryltin monooctyl)
Phthalate, bis (dilauryltin monolaurate)
Salt) phthalate, bis (dilauryl tin monobenzoate)
Phthalate, bis (diphenyltin monoacetate) phthalate
Salt, bis (diphenyltin monooctylate) phthalic acid
Salt, bis (diphenyltin monolaurate) phthalic acid
Salt, bis (diphenyltin monobenzoate) phthalate,
Bis (dimethyltin monoformate) thiodipropionate,
Bis (dimethyltin monoacetate) thiodipropionate,
Bis (dimethyltin monooctylate) thiodipropion
Acid salt, bis (dimethyltin monolaurate) thiodipro
Pionate, bis (dimethyltin monotonate) thio
Dipropionate, Bis (dimethyltin monophenylpro)
Thiodipropionate, bis (dimethyltin)
Monocyclopentanecarboxylate) Thiodipropionic acid
Salt, bis (dimethyltin monoacetoacetate) thiodipropy
Onate, bis (dimethyltin monobenzoate) thiodip
Ropionate, bis (dibutyltin monoacetate) thiodip
Ropionate, bis (dibutyltin monocaproate)
Odipropionate, bis (dibutyltin monooctyl acid)
Salt) thiodipropionate, bis (dibutyltin monolaurate)
Phosphate) thiodipropionate, bis (dibutyltin molybdenum)
Nopalmitate) thiodipropionate, bis (dib)
Tyltin monoisocrotonate) thiodipropionate,
Bis (dibutyltin monophenylbutyrate) thiodipropio
Phosphate, bis (dibutyltin monobenzoate) thiodipro
Pionate, bis (dioctyltin monoacetate) thiodip
Ropionate, bis (dioctyltin monooctylate)
Thiodipropionate, bis (dioctyltin monolaurate
Thiodipropionate, bis (dioctyltin molybdate)
Noerucate) Thiodipropionate, Bis (diocty)
Rutin monoacetoacetate) thiodipropionate, bis
(Dioctyltin monobenzoate) Thiodipropionic acid
Salt, bis (dioctyltin monomethoxybenzoate) thio
Dipropionate, Bis (dilauryltin monoacetate) Thi
Odipropionate, bis (dilauryltin monooctyl
Acid salt) thiodipropionate, bis (dilauryltin mono)
Laurate) thiodipropionate, bis (dilauri)
Rutin monolinoleate) thiodipropionate, bis
(Dilauryltin monophenylacetate) Thiodipropion
Acid salt, bis (dilauryltin monobenzoate) thiodipro
Pionate, bis (dilauryltin monoacetate) thiodip
Ropionate, bis (diphenyltin monooctylate)
Thiodipropionate, bis (diphenyltin monolauri
Acid salt) thiodipropionate, bis (diphenyltin molybdate)
Nolinolenate) thiodipropionate, bis (dife
Nyltin monobenzoate) thiodipropionate, etc.
To be

【0080】上記例示のうち好ましいものは、モノブチ
ル錫トリ酢酸塩、モノブチル錫トリオクチル酸塩、モノ
ブチル錫トリラウリン酸塩、モノブチル錫トリ安息香酸
塩、モノオクチル錫トリ酢酸塩、モノオクチル錫トリオ
クチル酸塩、モノオクチル錫トリラウリン酸塩、モノオ
クチル錫トリ安息香酸塩、モノブチル錫ジ酢酸塩・モノ
ハイドロオキサイド、モノブチル錫モノ酢酸塩・ジハイ
ドロオキサイド、モノブチル錫ジオクチル酸塩・モノハ
イドロオキサイド、モノブチル錫モノオクチル酸塩・ジ
ハイドロオキサイド、モノブチル錫ジラウリン酸塩・モ
ノハイドロオキサイド、モノブチル錫モノラウリン酸塩
・ジハイドロオキサイド、モノブチル錫ジ安息香酸塩・
モノハイドロオキサイド、モノブチル錫モノ安息香酸塩
・ジハイドロオキサイド、モノオクチル錫ジ酢酸塩・モ
ノハイドロオキサイド、モノオクチル錫モノ酢酸塩・ジ
ハイドロオキサイド、モノオクチル錫ジオクチル酸塩・
モノハイドロオキサイド、モノオクチル錫ジラウリン酸
塩・モノハイドロオキサイド、モノオクチル錫モノラウ
リン酸塩・ジハイドロオキサイド、モノオクチル錫ジ安
息香酸・モノハイドロオキサイド、モノオクチル錫モノ
安息香酸塩・ジハイドロオキサイド、モノブチル錫ジ酢
酸塩・モノクロライド、モノブチル錫モノ酢酸塩・ジク
ロライド、モノブチル錫ジオクチル酸塩・モノクロライ
ド、モノブチル錫モノオクチル酸塩・ジクロライド、モ
ノブチル錫ジラウリン酸塩・モノクロライド、モノブチ
ル錫モノラウリン酸塩・ジクロライド、モノブチル錫ジ
安息香酸塩・モノクロライド、モノブチル錫モノ安息香
酸・ジクロライド、モノオクチル錫ジ酢酸塩・モノクロ
ライド、モノオクチル錫モノ酢酸塩・ジクロライド、モ
ノオクチル錫ジオクチル酸塩・モノクロライド、モノオ
クチル錫ジラウリン酸塩・モノクロライド、モノオクチ
ル錫モノラウリン酸塩・ジクロライド、モノオクチル錫
ジ安息香酸塩・モノクロライド、モノオクチル錫モノ安
息香酸塩・ジクロライド、モノブチル錫ジ酢酸塩・オキ
サイド(1/2)、モノブチル錫モノ酢酸塩・オキサイ
ド、モノブチル錫ジオクチル酸塩・オキサイド(1/
2)、モノブチル錫モノオクチル酸塩・オキサイド、モ
ノブチル錫ジラウリン酸塩・オキサイド(1/2)、モ
ノブチル錫モノラウリン酸塩・オキサイド、モノブチル
錫ジ安息香酸塩・オキサイド(1/2)、モノブチル錫
モノ安息香酸塩・オキサイド、モノオクチル錫ジ酢酸塩
・オキサイド(1/2)、モノオクチル錫モノ酢酸塩・
オキサイド、モノオクチル錫ジオクチル酸塩・オキサイ
ド(1/2)、モノオクチル錫モノオクチル酸塩・オキ
サイド、モノオクチル錫ジラウリン酸塩・オキサイド
(1/2)、モノオクチル錫モノラウリン酸塩・オキサ
イド、モノオクチル錫ジ安息香酸塩・オキサイド(1/
2)、モノオクチル錫モノ安息香酸塩・オキサイド、モ
ノブチル錫ジ酢酸塩・サルファイド(1/2)、モノブ
チル錫モノ酢酸塩・サルファイド、モノブチル錫ジオク
チル酸塩・サルファイド(1/2)、モノブチル錫モノ
オクチル酸塩・サルファイド、モノブチル錫ジラウリン
酸塩・サルファイド(1/2)、モノブチル錫モノラウ
リン酸塩・サルファイド、モノブチル錫ジ安息香酸塩・
サルファイド(1/2)、モノブチル錫モノ安息香酸塩
・サルファイド、モノオクチル錫ジ酢酸塩・サルファイ
ド(1/2)、モノオクチル錫モノ酢酸塩・サルファイ
ド、モノオクチル錫ジオクチル酸塩・サルファイド(1
/2)、モノオクチル錫モノオクチル酸塩・サルファイ
ド、モノオクチル錫ジラウリン酸塩・サルファイド(1
/2)、モノオクチル錫モノラウリン酸塩・サルファイ
ド、モノオクチル錫ジ安息香酸塩・サルファイド(1/
2)、モノオクチル錫モノ安息香酸塩・サルファイド、
ジブチル錫ジ酢酸塩、ジブチル錫ジオクチル酸塩、ジブ
チル錫ジラウリン酸塩、ジブチル錫ジ安息香酸塩、ジオ
クチル錫ジ酢酸塩、ジオクチル錫ジオクチル酸塩、ジオ
クチル錫ジラウリン酸塩、ジオクチル錫ジ安息香酸塩、
ビス(ジブチル錫モノ酢酸塩)オキサイド、ビス(ジブ
チル錫モノオクチル酸塩)オキサイド、ビス(ジブチル
錫モノラウリン酸塩)オキサイド、ビス(ジブチル錫モ
ノ安息香酸塩)オキサイド、ビス(ジオクチル錫モノ酢
酸塩)オキサイド、ビス(ジオクチル錫モノオクチル酸
塩)オキサイド、ビス(ジオクチル錫モノラウリン酸
塩)オキサイド、ビス(ジオクチル錫モノ安息香酸塩)
オキサイド、ビス(ジブチル錫モノ酢酸塩)サルファイ
ド、ビス(ジブチル錫モノオクチル酸塩)サルファイ
ド、ビス(ジブチル錫モノラウリン酸塩)サルファイ
ド、ビス(ジブチル錫モノ安息香酸塩)サルファイド、
ビス(ジオクチル錫モノ酢酸塩)サルファイド、ビス
(ジオクチル錫モノオクチル酸塩)サルファイド、ビス
(ジオクチル錫モノラウリン酸塩)サルファイド、ビス
(ジオクチル錫モノ安息香酸塩)サルファイドである。
Among the above examples, preferred are monobutyltin triacetate, monobutyltin trioctylate, monobutyltin trilaurate, monobutyltin tribenzoate, monooctyltin triacetate, monooctyltin trioctylate, Monooctyltin trilaurate, monooctyltin tribenzoate, monobutyltin diacetate / monohydroxide, monobutyltin monoacetate / dihydrooxide, monobutyltin dioctylate / monohydrooxide, monobutyltin monooctylate Salt / dihydrooxide, monobutyltin dilaurate / monohydroxide, monobutyltin monolaurate / dihydrooxide, monobutyltin dibenzoate /
Monohydroxide, monobutyltin monobenzoate / dihydrooxide, monooctyltin diacetate / monohydroxide, monooctyltin monoacetate / dihydrooxide, monooctyltin dioctylate
Monohydroxide, monooctyltin dilaurate / monohydroxide, monooctyltin monolaurate / dihydrooxide, monooctyltin dibenzoate / monohydroxide, monooctyltin monobenzoate / dihydrooxide, monobutyl Tin diacetate / monochloride, monobutyltin monoacetate / dichloride, monobutyltin dioctylate / monochloride, monobutyltin monooctylate / dichloride, monobutyltin dilaurate / monochloride, monobutyltin monolaurate / dichloride , Monobutyltin dibenzoate monochloride, monobutyltin monobenzoic acid dichloride, monooctyltin diacetate monochloride, monooctyltin monoacetate dichloride, monooctyltin geode Tylate / monochloride, monooctyltin dilaurate / monochloride, monooctyltin monolaurate / dichloride, monooctyltin dibenzoate / monochloride, monooctyltin monobenzoate / dichloride, monobutyltin dichloride Acetate / oxide (1/2), monobutyltin monoacetate / oxide, monobutyltin dioctylate / oxide (1 /
2), monobutyltin monooctylate / oxide, monobutyltin dilaurate / oxide (1/2), monobutyltin monolaurate / oxide, monobutyltin dibenzoate / oxide (1/2), monobutyltin mono Benzoate / oxide, monooctyltin diacetate / oxide (1/2), monooctyltin monoacetate /
Oxide, monooctyltin dioctylate / oxide (1/2), monooctyltin monooctylate / oxide, monooctyltin dilaurate / oxide (1/2), monooctyltin monolaurate / oxide, mono Octyl tin dibenzoate oxide (1 /
2), monooctyltin monobenzoate / oxide, monobutyltin diacetate / sulfide (1/2), monobutyltin monoacetate / sulfide, monobutyltin dioctylate / sulfide (1/2), monobutyltin mono Octylate / Sulfide, Monobutyltin dilaurate / Sulfide (1/2), Monobutyltin monolaurate / Sulfide, Monobutyltin dibenzoate /
Sulfide (1/2), monobutyltin monobenzoate / sulfide, monooctyltin diacetate / sulfide (1/2), monooctyltin monoacetate / sulfide, monooctyltin dioctylate / sulfide (1)
/ 2), monooctyltin monooctylate sulfide, monooctyltin dilaurate sulfide (1
/ 2), monooctyltin monolaurate sulfide, monooctyltin dibenzoate sulfide (1 /
2), monooctyltin monobenzoate / sulfide,
Dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctylate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin dibenzoate, dioctyltin diacetate, dioctyltin dioctylate, dioctyltin dilaurate, dioctyltin dibenzoate,
Bis (dibutyltin monoacetate) oxide, bis (dibutyltin monooctylate) oxide, bis (dibutyltin monolaurate) oxide, bis (dibutyltin monobenzoate) oxide, bis (dioctyltin monoacetate) Oxide, bis (dioctyltin monooctylate) oxide, bis (dioctyltin monolaurate) oxide, bis (dioctyltin monobenzoate)
Oxide, bis (dibutyltin monoacetate) sulfide, bis (dibutyltin monooctylate) sulfide, bis (dibutyltin monolaurate) sulfide, bis (dibutyltin monobenzoate) sulfide,
These are bis (dioctyltin monoacetate) sulfide, bis (dioctyltin monooctylate) sulfide, bis (dioctyltin monolaurate) sulfide, and bis (dioctyltin monobenzoate) sulfide.

【0081】特に好ましいものとしては、ビス(ジブチ
ル錫モノ酢酸塩)オキサイド、ビス(ジブチル錫モノオ
クチル酸塩)オキサイド、ビス(ジブチル錫モノラウリ
ン酸塩)オキサイド、ビス(ジブチル錫モノ安息香酸
塩)オキサイド、ビス(ジオクチル錫モノ酢酸塩)オキ
サイド、ビス(ジオクチル錫モノオクチル酸塩)オキサ
イド、ビス(ジオクチル錫モノラウリン酸塩)オキサイ
ド、ビス(ジオクチル錫モノ安息香酸塩)オキサイドが
挙げられる。上述の有機錫化合物は、2種類以上が併用
されてもよい。
Particularly preferred are bis (dibutyltin monoacetate) oxide, bis (dibutyltin monooctylate) oxide, bis (dibutyltin monolaurate) oxide, bis (dibutyltin monobenzoate) oxide. , Bis (dioctyltin monoacetate) oxide, bis (dioctyltin monooctylate) oxide, bis (dioctyltin monolaurate) oxide, and bis (dioctyltin monobenzoate) oxide. Two or more kinds of the above-mentioned organotin compounds may be used in combination.

【0082】〔有機酸塩について〕本発明で用いられる
有機酸塩は、例えば下記の一般式(3)で示される有機
酸金属塩である。
[Regarding Organic Acid Salt] The organic acid salt used in the present invention is, for example, an organic acid metal salt represented by the following general formula (3).

【0083】[0083]

【化15】 [Chemical 15]

【0084】一般式(3)において、R4 は、上述の一
般式(1)および(2)中のR2と同義である。また、
Mは、コバルト、ニッケルまたは亜鉛を示している。こ
のうち、安価な亜鉛が特に好ましい。さらに、qは、0
または1の整数である。
In the general formula (3), R 4 has the same meaning as R 2 in the general formulas (1) and (2). Also,
M represents cobalt, nickel or zinc. Of these, inexpensive zinc is particularly preferable. Furthermore, q is 0
Alternatively, it is an integer of 1.

【0085】このような一般式(3)で示される有機錫
化合物の具体例としては、コバルトジギ酸塩、コバルト
ジ酢酸塩、コバルトジカプロン酸塩、コバルトジオクチ
ル酸塩、コバルトジラウリン酸塩、コバルトジミリスチ
ン酸塩、コバルトジパルミチン酸塩、コバルトジステア
リン酸塩、コバルトジベヘン酸塩、コバルトジネオペン
タン酸塩、コバルトジアクリル酸塩、コバルトジクロト
ン酸塩、コバルトジイソクロトン酸塩、コバルトジウン
デシレン酸塩、コバルトジオレイン酸塩、コバルトジエ
ルカ酸塩、コバルトジソルビン酸塩、コバルトジリノー
ル酸塩、コバルトジリノレン酸塩、コバルトビスフェニ
ル酢酸塩、コバルトビスフェニル酪酸塩、コバルトビス
フェニルプロピオン酸塩、コバルトビスシクロペンタン
カルボン酸塩、コバルトビスアセト酢酸塩、コバルトジ
安息香酸塩、コバルトビスメトキシ安息香酸塩、コバル
トビスターシャリーブチル安息香酸塩、ニッケルジギ酸
塩、ニッケルジ酢酸塩、ニッケルジカプロン酸塩、ニッ
ケルジオクチル酸塩、ニッケルジラウリン酸塩、ニッケ
ルジミリスチン酸塩、ニッケルジパルミチン酸塩、ニッ
ケルジステアリン酸塩、ニッケルジベヘン酸塩、ニッケ
ルジネオヘプタン酸塩、ニッケルジアクリル酸塩、ニッ
ケルジクロトン酸塩、ニッケルジイソクロトン酸塩、ニ
ッケルジウンデシレン酸塩、ニッケルジオレイン酸塩、
ニッケルジエルカ酸塩、ニッケルジソルビン酸塩、ニッ
ケルジリノール酸塩、ニッケルジリノレン酸塩、ニッケ
ルビスフェニル酢酸塩、ニッケルビスフェニル酪酸塩、
ニッケルビスフェニルプロピオン酸塩、ニッケルビスシ
クロペンタンカルボン酸塩、ニッケルビスアセト酢酸
塩、ニッケルジ安息香酸塩、ニッケルビスメトキシ安息
香酸塩、ニッケルビスヒドロキシ安息香酸塩、亜鉛ジギ
酸塩、亜鉛ジ酢酸塩、亜鉛ジカプロン酸塩、亜鉛ジオク
チル酸塩、亜鉛ジラウリン酸塩、亜鉛ジミリスチン酸
塩、亜鉛ジパルミチン酸塩、亜鉛ジステアリン酸塩、亜
鉛ジベヘン酸塩、亜鉛ジネオデカン酸塩、亜鉛ジアクリ
ル酸塩、亜鉛ジクロトン酸塩、亜鉛ジイソクロトン酸
塩、亜鉛ジウンデシレン酸塩、亜鉛ジオレイン酸塩、亜
鉛ジエルカ酸塩、亜鉛ジソルビン酸塩、亜鉛ジリノール
酸塩、亜鉛ジリノレン酸塩、亜鉛ビスフエニル酢酸塩、
亜鉛ビスフェニル酪酸塩、亜鉛ビスフェニルプロピオン
酸塩、亜鉛ビスシクロペンタンカルボン酸塩、亜鉛ビス
アセト酢酸塩、亜鉛ジ安息香酸塩、亜鉛ビスメトキシ安
息香酸塩、亜鉛ビスターシャリーブチル安息香酸塩、亜
鉛ビスヒドロキシ安息香酸塩、ビス(コバルトモノギ酸
塩)オキサイド、ビス(コバルトモノ酢酸塩)オキサイ
ド、ビス(コバルトモノオクチル酸塩)オキサイド、ビ
ス(コバルトモノラウリン酸塩)オキサイド、ビス(コ
バルトモノミリスチン酸塩)オキサイド、ビス(コバル
トモノベヘン酸塩)オキサイド、ビス(コバルトモノア
クリル酸塩)オキサイド、ビス(コバルトモノクロトン
酸塩)オキサイド、ビス(コバルトモノウンデシレン酸
塩)オキサイド、ビス(コバルトモノオレイン酸塩)オ
キサイド、ビス(コバルトモノソルビン酸塩)オキサイ
ド、ビス(コバルトモノフェニル酢酸塩)オキサイド、
ビス(コバルトモノフェニルプロピオン酸塩)オキサイ
ド、ビス(コバルトモノシクロペンタンカルボン酸塩)
オキサイド、ビス(コバルトモノアセト酢酸塩)オキサ
イド、ビス(コバルトモノ安息香酸塩)オキサイド、ビ
ス(コバルトモノメトキシ安息香酸塩)オキサイド、ビ
ス(ニッケルモノ酢酸塩)オキサイド、ビス(ニッケル
モノカプロン酸塩)オキサイド、ビス(ニッケルモノオ
クチル酸塩)オキサイド、ビス(ニッケルモノラウリン
酸塩)オキサイド、ビス(ニッケルモノパルミチン酸
塩)オキサイド、ビス(ニッケルモノステアリン酸塩)
オキサイド、ビス(ニッケルモノアクリル酸塩)オキサ
イド、ビス(ニッケルモノイソクロトン酸塩)オキサイ
ド、ビス(ニッケルモノオレイン酸塩)オキサイド、ビ
ス(ニッケルモノエルカ酸塩)オキサイド、ビス(ニッ
ケルモノリノール酸塩)オキサイド、ビス(ニッケルモ
ノリノレン酸塩)オキサイド、ビス(ニッケルモノフェ
ニル酪酸塩)オキサイド、ビス(ニッケルモノアセト酢
酸塩)オキサイド、ビス(ニッケルモノ安息香酸塩)オ
キサイド、ビス(ニッケルモノメトキシ安息香酸塩)オ
キサイド、ビス(亜鉛モノギ酸塩)オキサイド、ビス
(亜鉛モノ酢酸塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノカプロ
ン酸塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノオクチル酸塩)オ
キサイド、ビス(亜鉛モノラウリン酸塩)オキサイド、
ビス(亜鉛モノミリスチン酸塩)オキサイド、ビス(亜
鉛モノパルミチン酸塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノス
テアリン酸塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノベヘン酸
塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノネオデカン酸塩)オキ
サイド、ビス(亜鉛モノアクリル酸塩)オキサイド、ビ
ス(亜鉛モノクロトン酸塩)オキサイド、ビス(亜鉛モ
ノイソクロトン酸塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノウン
デシレン酸塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノオレイン酸
塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノエルカ酸塩)オキサイ
ド、ビス(亜鉛モノソルビン酸塩)オキサイド、ビス
(亜鉛モノリノール酸塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノ
リノレン酸塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノフェニル酢
酸塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノフェニル酪酸塩)オ
キサイド、ビス(亜鉛モノフェニルプロピオン酸塩塩)
オキサイド、ビス(亜鉛モノシクロペンタンカルボン酸
塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノアセト酢酸塩)オキサ
イド、ビス(亜鉛モノ安息香酸塩)オキサイド、ビス
(亜鉛モノメトキシ安息香酸塩)オキサイド、ビス(亜
鉛モノターシャリーブチル安息香酸塩)オキサイド等が
挙げられる。
Specific examples of the organotin compound represented by the general formula (3) include cobalt diformate, cobalt diacetate, cobalt dicaproate, cobalt dioctylate, cobalt dilaurate and cobalt dichloride. Myristic acid salt, cobalt dipalmitic acid salt, cobalt distearic acid salt, cobalt dibehenic acid salt, cobalt dineopentanic acid salt, cobalt diacrylic acid salt, cobalt dicrotonic acid salt, cobalt diisocrotonic acid salt, cobalt diundecylene Acid salt, cobalt dioleate, cobalt dierucate, cobalt disorbate, cobalt dilinoleate, cobalt dilinolenate, cobalt bisphenyl acetate, cobalt bisphenyl butyrate, cobalt bisphenyl propionate Salt, cobalt biscyclopentanecarboxylate, co Ruthobisacetoacetate, cobalt dibenzoate, cobalt bismethoxybenzoate, cobalt bis-tert-butyl benzoate, nickel diformate, nickel diacetate, nickel dicaproate, nickel dioctylate, nickel dilaurate, nickel Dimyristate, nickel dipalmitate, nickel distearate, nickel dibehenate, nickel dineoheptanate, nickel diacrylate, nickel dicrotonate, nickel diisocrotonate, nickel di Undecylenate, nickel dioleate,
Nickel dierucate, nickel disorbate, nickel dilinoleate, nickel dilinolenate, nickel bisphenyl acetate, nickel bisphenyl butyrate,
Nickel bisphenyl propionate, nickel biscyclopentanecarboxylate, nickel bisacetoacetate, nickel dibenzoate, nickel bismethoxybenzoate, nickel bishydroxybenzoate, zinc diformate, zinc diacetate, Zinc dicaproate, zinc dioctylate, zinc dilaurate, zinc dimyristate, zinc dipalmitate, zinc distearate, zinc dibehenate, zinc dineodecanoate, zinc diacrylate, zinc dicrotonate Salt, zinc diisocrotonate, zinc diundecylenate, zinc dioleate, zinc dierucate, zinc disorbate, zinc dilinoleate, zinc dilinolenate, zinc bisphenylacetate,
Zinc bisphenyl butyrate, Zinc bisphenylpropionate, Zinc biscyclopentanecarboxylate, Zinc bisacetoacetate, Zinc dibenzoate, Zinc bismethoxybenzoate, Zinc bis-tert-butylbenzoate, Zinc bishydroxybenzoate Acid salt, bis (cobalt monoformate) oxide, bis (cobalt monoacetate) oxide, bis (cobalt monooctylate) oxide, bis (cobalt monolaurate) oxide, bis (cobalt monomyristate) oxide, Bis (cobalt monobehenate) oxide, bis (cobalt monoacrylate) oxide, bis (cobalt monotonate) oxide, bis (cobalt monoundecylenate) oxide, bis (cobalt monooleate) oxide, Screw( Baltic mono sorbate) oxide, bis (cobalt monophenyl acetate) oxide,
Bis (cobalt monophenylpropionate) oxide, bis (cobalt monocyclopentanecarboxylate)
Oxide, bis (cobalt monoacetoacetate) oxide, bis (cobalt monobenzoate) oxide, bis (cobalt monomethoxybenzoate) oxide, bis (nickel monoacetate) oxide, bis (nickel monocaproate) Oxide, bis (nickel monooctylate) oxide, bis (nickel monolaurate) oxide, bis (nickel monopalmitate) oxide, bis (nickel monostearate)
Oxide, bis (nickel monoacrylate) oxide, bis (nickel monoisocrotonate) oxide, bis (nickel monooleate) oxide, bis (nickel monoerucate) oxide, bis (nickel monolinoleate) ) Oxide, bis (nickel monolinolenate) oxide, bis (nickel monophenyl butyrate) oxide, bis (nickel monoacetoacetate) oxide, bis (nickel monobenzoate) oxide, bis (nickel monomethoxybenzoic acid) Salt) oxide, bis (zinc monoformate) oxide, bis (zinc monoacetate) oxide, bis (zinc monocaproate) oxide, bis (zinc monooctylate) oxide, bis (zinc monolaurate) oxide,
Bis (zinc monomyristate) oxide, bis (zinc monopalmitate) oxide, bis (zinc monostearate) oxide, bis (zinc monobehenate) oxide, bis (zinc mononeodecanoate) oxide, bis (Zinc monoacrylate) oxide, bis (zinc monotonate) oxide, bis (zinc monoisocrotonate) oxide, bis (zinc monoundecylenate) oxide, bis (zinc monooleate) oxide, Bis (zinc monoerucate) oxide, bis (zinc monosorbate) oxide, bis (zinc monolinoleate) oxide, bis (zinc monolinolenate) oxide, bis (zinc monophenylacetate) oxide, bis (Zinc monophenyl butyrate) Oxide, bis (zinc Roh phenylpropionic Sanshioshio)
Oxide, bis (zinc monocyclopentanecarboxylate) oxide, bis (zinc monoacetoacetate) oxide, bis (zinc monobenzoate) oxide, bis (zinc monomethoxybenzoate) oxide, bis (zinc monotertiary) Butylbenzoate) oxide and the like.

【0086】上記例示のうち、好ましいものとしては、
コバルトジギ酸塩、コバルトジオクチル酸塩、コバルト
ジラウリン酸塩、コバルトジ安息香酸塩、ニッケルジ酢
酸塩、ニッケルジオクチル酸塩、ニッケルジラウリン酸
塩、ニッケルジ安息香酸塩、亜鉛ジ酢酸塩、亜鉛ジオク
チル酸塩、亜鉛ジラウリン酸塩、亜鉛ジ安息香酸塩、ビ
ス(コバルトモノ酢酸塩)オキサイド、ビス(コバルト
モノオクチル酸塩)オキサイド、ビス(コバルトモノラ
ウリン酸塩)オキサイド、ビス(コバルトモノ安息香酸
塩)オキサイド、ビス(ニッケルモノ酢酸塩)オキサイ
ド、ビス(ニッケルモノオクチル酸塩)オキサイド、ビ
ス(ニッケルモノラウリン酸塩)オキサイド、ビス(ニ
ッケルモノ安息香酸塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノ酢
酸塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノオクチル酸塩)オキ
サイド、ビス(亜鉛モノラウリン酸塩)オキサイド、ビ
ス(亜鉛モノ安息香酸塩)オキサイドが挙げられる。
Of the above examples, the preferable one is
Cobalt diformate, cobalt dioctylate, cobalt dilaurate, cobalt dibenzoate, nickel diacetate, nickel dioctylate, nickel dilaurate, nickel dibenzoate, zinc diacetate, zinc dioctylate, Zinc dilaurate, zinc dibenzoate, bis (cobalt monoacetate) oxide, bis (cobalt monooctylate) oxide, bis (cobalt monolaurate) oxide, bis (cobalt monobenzoate) oxide, bis (Nickel monoacetate) oxide, bis (nickel monooctylate) oxide, bis (nickel monolaurate) oxide, bis (nickel monobenzoate) oxide, bis (zinc monoacetate) oxide, bis (zinc mono) Octylate) oxide, bis (sub) Monolaurin salt) oxide, bis (zinc mono benzoate) oxide.

【0087】特に好ましいものとしては、ビス(コバル
トモノ酢酸塩)オキサイド、ビス(コバルトモノオクチ
ル酸塩)オキサイド、ビス(コバルトモノラウリン酸
塩)オキサイド、ビス(コバルト安息香酸塩)オキサイ
ド、ビス(ニッケルモノ酢酸塩)オキサイド、ビス(ニ
ッケルモノオクチル酸塩)オキサイド、ビス(ニッケル
モノラウリン酸塩)オキサイド、ビス(ニッケルモノ安
息香酸塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノ酢酸塩)オキサ
イド、ビス(亜鉛モノオクチル酸塩)オキサイド、ビス
(亜鉛モノラウリン酸塩)オキサイド、ビス(亜鉛モノ
安息香酸塩)オキサイドが挙げられる。
Particularly preferred are bis (cobalt monoacetate) oxide, bis (cobalt monooctylate) oxide, bis (cobalt monolaurate) oxide, bis (cobalt benzoate) oxide and bis (nickel mono). Acetate) oxide, bis (nickel monooctylate) oxide, bis (nickel monolaurate) oxide, bis (nickel monobenzoate) oxide, bis (zinc monoacetate) oxide, bis (zinc monooctylate) ) Oxide, bis (zinc monolaurate) oxide, and bis (zinc monobenzoate) oxide.

【0088】〔ジケトン金属錯体について〕本発明で用
いられるジケトン金属錯体は、分子中にカルボニル基を
2個有するジケトンと、コバルト、ニッケルまたは亜鉛
とから構成される錯化合物である。
[Diketone Metal Complex] The diketone metal complex used in the present invention is a complex compound composed of a diketone having two carbonyl groups in the molecule and cobalt, nickel or zinc.

【0089】上述のジケトンは、特に限定されるもので
はないが、例えば下記の一般式(9)で示されるβ−ジ
ケトンが挙げられる。
The above-mentioned diketone is not particularly limited, and examples thereof include β-diketones represented by the following general formula (9).

【0090】[0090]

【化16】 [Chemical 16]

【0091】式中、R14は、水素原子、アルキル基、ア
リール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、
15CO−またはR16CO−を示す。R15およびR
16は、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、シ
クロアルキル基、アルコキシアリール基、アルキルアリ
ール基、アリールアルキル基を示している。なお、R15
とR16は、互いに同一でもよいし、互いに異なるもので
もよい。また、R15およびR16は、両者間で環状構造を
形成していてもよい。
In the formula, R 14 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkylaryl group, an arylalkyl group,
R 15 CO- or an R 16 CO-. R 15 and R
16 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a cycloalkyl group, an alkoxyaryl group, an alkylaryl group, and an arylalkyl group, respectively. In addition, R 15
And R 16 may be the same as or different from each other. Further, R 15 and R 16 may form a cyclic structure between them.

【0092】前記アルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、セカンダリーブチル基、ターシャリーブチル
基、アシル基、ネオペンチル基、イソアミル基、ヘキシ
ル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソ
オクチル基、2−エチルヘキシル基、デシル基、イソデ
シル基、ラウリル基、トリデシル基、炭素数が12〜1
5の混合アルキル基、ステアリル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロドデ
シル基、4−メチルシクロヘキシル基等が例示できる。
Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, secondary butyl group, tertiary butyl group, acyl group, neopentyl group, isoamyl group, hexyl group and isohexyl group. , Heptyl group, octyl group, isooctyl group, 2-ethylhexyl group, decyl group, isodecyl group, lauryl group, tridecyl group, carbon number 12 to 1
Examples thereof include a mixed alkyl group of 5, a stearyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclooctyl group, a cyclododecyl group, and a 4-methylcyclohexyl group.

【0093】前記アリール基としては、フェニル基やナ
フチル基が例示できる。前記シクロアルキル基として
は、シクロオクチル基やアルコキシアリール基等が挙げ
られる。前記アルコキシアリール基としては、メトキシ
フェニル基,プロポキシフェニル基およびブトキシフェ
ニル基等が挙げられる。
Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the cycloalkyl group include a cyclooctyl group and an alkoxyaryl group. Examples of the alkoxyaryl group include a methoxyphenyl group, a propoxyphenyl group and a butoxyphenyl group.

【0094】前記アリールアルキル基としては、例え
ば、ベンジル基、β−フェニルエチル基、γ−フェニル
プロピル基、β−フェニルプロピル基が例示できる。前
記アルキルアリール基としては、トリル基、キシリル
基、エチルフェニル基、ブチルフェニル基、第3ブチル
フェニル基、オクチルフェニル基、イソオクチルフェニ
ル基、第3オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、ジ
ノニルフェニル基、2,4−ジ第3ブチルフェニル基等
が挙げられる。
Examples of the arylalkyl group include benzyl group, β-phenylethyl group, γ-phenylpropyl group and β-phenylpropyl group. Examples of the alkylaryl group include a tolyl group, a xylyl group, an ethylphenyl group, a butylphenyl group, a tert-butylphenyl group, an octylphenyl group, an isooctylphenyl group, a third octylphenyl group, a nonylphenyl group and a dinonylphenyl group. , 2,4-di-tert-butylphenyl group and the like.

【0095】上述のβ−ジケトンの具体例としては、デ
ヒドロ酢酸、デヒドロプロピオニル酢酸、デヒドロベン
ゾイル酢酸、シクロヘキサン−1,3−ジオン、ジメド
ン、2,2’−メチレンビスシクロヘキサン−1,3−
ジオン、2−ベンジルシクロヘキサン−1,3−ジオ
ン、アセチルテトラロン、パルミトイルテトラロン、ス
テアロイルテトラロン、ベンゾイルテトラロン、2−ア
セチルシクロヘキサノン、2−ベンゾイルシクロヘキサ
ノン、2−アセチル−シクロヘキサン−1,3−ジオ
ン、ベンゾイル−p−クロルベンゾイルメタン、ビス
(4−メチルベンゾイル)メタン、ビス(2−ヒドロキ
シベンゾイル)メタン、ベンゾイルアセチルメタン、ト
リベンゾイルメタン、ジアセチルベンゾイルメタン、ス
テアロイルベンゾイルメタン、パルミトイル・ベンゾイ
ルメタン、ラウロイル・ベンゾイルメタン、ジベンゾイ
ルメタン、4−メトキシベンゾイル・ベンゾイルメタ
ン、ビス(4−メトキシベンゾイル)メタン、ビス(4
−クロルベンゾイル)メタン、ビス(3,4−メチレン
ジオキシベンゾイル)メタン、ベンゾイル・アセチル・
オクチルメタン、ベンゾイル・アセチル・フェニルメタ
ン、ステアロイル・4−メトキシベンゾイルメタン、ビ
ス(4−第3ブチルベンゾイル)メタン、ベンゾイル・
アセチル・エチルメタン、ベンゾイル・トリフルオル・
アセチルメタン、ジアセチルメタン、ブタノイル・アセ
チルメタン、ヘプタノイル・アセチルメタン、トリアセ
チルメタン、ジステアロイルメタン、ステアロイル・ア
セチルメタン、パルミトイル・アセチルメタン、ラウロ
イル・アセチルメタン、ベンゾイル・ホルミルメタン、
アセチル・ホルミル・メチルメタン、ベンゾイル・フェ
ニルアセチルメタン、ビス(シクロヘキサノイル)メタ
ン、ビス(シクロヘキサノイル)メタン、ジピバロイル
メタンが挙げられる。
Specific examples of the above β-diketone include dehydroacetic acid, dehydropropionyl acetic acid, dehydrobenzoyl acetic acid, cyclohexane-1,3-dione, dimedone, 2,2'-methylenebiscyclohexane-1,3-.
Dione, 2-benzylcyclohexane-1,3-dione, acetyltetralone, palmitoyltetralone, stearoyltetralone, benzoyltetralone, 2-acetylcyclohexanone, 2-benzoylcyclohexanone, 2-acetyl-cyclohexane-1,3-dione , Benzoyl-p-chlorobenzoylmethane, bis (4-methylbenzoyl) methane, bis (2-hydroxybenzoyl) methane, benzoylacetylmethane, tribenzoylmethane, diacetylbenzoylmethane, stearoylbenzoylmethane, palmitoylbenzoylmethane, lauroyl. Benzoylmethane, dibenzoylmethane, 4-methoxybenzoylbenzoylmethane, bis (4-methoxybenzoyl) methane, bis (4
-Chlorobenzoyl) methane, bis (3,4-methylenedioxybenzoyl) methane, benzoyl acetyl
Octyl methane, benzoyl acetyl phenyl methane, stearoyl 4-methoxy benzoyl methane, bis (4-tertiary butyl benzoyl) methane, benzoyl
Acetyl ethyl methane, benzoyl trifluor
Acetyl methane, diacetyl methane, butanoyl acetyl methane, heptanoyl acetyl methane, triacetyl methane, distearoyl methane, stearoyl acetyl methane, palmitoyl acetyl methane, lauroyl acetyl methane, benzoyl formyl methane,
Acetyl formyl methyl methane, benzoyl phenyl acetyl methane, bis (cyclohexanoyl) methane, bis (cyclohexanoyl) methane, dipivaloyl methane is mentioned.

【0096】本発明で用いられる、上述のジケトンによ
るジケトン化合物の具体例としては、コバルトステアロ
イル・ベンゾイルメタン、コバルトベンゾイルメタン、
コバルトジアセチルメタン、コバルトブタノイル・アセ
チルメタン、ニッケルステアロイル・ベンゾイルメタ
ン、ニッケルジベンゾイルメタン、ニッケルジアセチル
メタン、ニッケルブタノイル・アセチルメタン、亜鉛ス
テアロイル・ベンソイルメタン、亜鉛ジベンゾイルメタ
ン、亜鉛ジアセチルメタン、亜鉛ブタノイル・アセチル
メタンが挙げられる。
Specific examples of the diketone compound of the above-mentioned diketone used in the present invention include cobalt stearoyl benzoyl methane, cobalt benzoyl methane,
Cobalt diacetyl methane, cobalt butanoyl acetyl methane, nickel stearoyl benzoyl methane, nickel dibenzoyl methane, nickel diacetyl methane, nickel butanoyl acetyl methane, zinc stearoyl benzoyl methane, zinc dibenzoyl methane, zinc diacetyl methane, zinc Butanoyl acetyl methane is mentioned.

【0097】本発明で用いられる解離触媒は、例えば上
述の一般式(1)または(2)で示される有機錫化合物
群から選ばれた少なくとも1種の有機錫化合物(a)
と、上述の一般式(3)で示される有機酸金属塩および
ジケトン金属錯体からなる群から選ばれた少なくとも1
種の金属化合物(b)とを含んでいる。即ち、解離触媒
は、有機錫化合物(a)と金属化合物(b)とを併用し
ている。
The dissociation catalyst used in the present invention is, for example, at least one organotin compound (a) selected from the organotin compound group represented by the above general formula (1) or (2).
And at least one selected from the group consisting of the organic acid metal salt represented by the above general formula (3) and the diketone metal complex.
And a seed metal compound (b). That is, the dissociation catalyst uses the organotin compound (a) and the metal compound (b) together.

【0098】ここで、有機錫化合物(a)と金属化合物
(b)との配合割合(a:b)は、重量比で9:1〜
1:9が好ましい。配合割合がこの範囲外の場合は、本
発明の組成物の低温硬化性が低下するおそれがある。配
合割合は、有機錫化合物(a)の添加量を金属化合物
(b)の添加量に比べて少なく設定するのがより好まし
い。この場合、低温での触媒効果が高まり、また塗膜の
平滑性をはじめとする塗膜外観が向上する。このような
観点から、有機錫化合物(a)と金属化合物(b)との
最も好ましい配合割合(a:b)は、1:1〜2:8で
ある。
Here, the blending ratio (a: b) of the organotin compound (a) and the metal compound (b) is 9: 1 by weight.
1: 9 is preferable. If the blending ratio is outside this range, the low temperature curability of the composition of the present invention may be reduced. It is more preferable to set the blending ratio so that the addition amount of the organotin compound (a) is smaller than the addition amount of the metal compound (b). In this case, the catalytic effect at low temperature is enhanced, and the coating film appearance including smoothness of the coating film is improved. From such a viewpoint, the most preferable mixing ratio (a: b) of the organotin compound (a) and the metal compound (b) is 1: 1 to 2: 8.

【0099】混合割合 本発明のカチオン電着塗料組成物は、上述の基体樹脂を
50重量部以上、好ましくは60重量部以上含んでい
る。基体樹脂の割合が50重量部未満の場合は、目的と
する耐食性が得られにくい。一方、組成物に含まれる基
体樹脂の割合の上限は、90重量部、好ましくは80重
量部である。90重量部を越えると、充分な硬化塗膜が
得られない場合がある。
Mixing ratio The cationic electrodeposition coating composition of the present invention contains the above-mentioned base resin in an amount of 50 parts by weight or more, preferably 60 parts by weight or more. When the ratio of the base resin is less than 50 parts by weight, it is difficult to obtain the desired corrosion resistance. On the other hand, the upper limit of the ratio of the base resin contained in the composition is 90 parts by weight, preferably 80 parts by weight. If it exceeds 90 parts by weight, a sufficient cured coating film may not be obtained in some cases.

【0100】また、ブロックイソシアネート系硬化剤の
割合は、10重量部以上、好ましくは20重量部以上で
ある。割合が10重量部未満の場合は、充分な硬化塗膜
が得られない場合がある。一方、ブロックイソシアネー
ト系硬化剤の割合の上限は、50重量部以下、好ましく
は40重量部以下である。50重量部を越えると、目的
とする耐食性が得られにくい。
The proportion of the blocked isocyanate curing agent is 10 parts by weight or more, preferably 20 parts by weight or more. If the proportion is less than 10 parts by weight, a sufficient cured coating film may not be obtained. On the other hand, the upper limit of the proportion of the blocked isocyanate curing agent is 50 parts by weight or less, preferably 40 parts by weight or less. If it exceeds 50 parts by weight, the desired corrosion resistance is difficult to obtain.

【0101】さらに、解離触媒の割合は、基体樹脂の固
形分の0.01重量%以上、好ましくは0.5重量%以
上である。割合が0.01重量%未満の場合は、目的と
する低温硬化性と高耐食性とが同時に達成できない場合
がある。一方、解離触媒の割合の上限は、基体樹脂の固
形分の5.0重量%以下、好ましくは3重量%以下であ
る。5.0重量%を越えると、電着塗膜にワキやピンホ
ールが発生し易くなり、塗膜の平滑性が損なわれるおそ
れがある。
Further, the proportion of the dissociation catalyst is 0.01% by weight or more, preferably 0.5% by weight or more of the solid content of the base resin. If the proportion is less than 0.01% by weight, the desired low temperature curability and high corrosion resistance may not be achieved at the same time. On the other hand, the upper limit of the proportion of the dissociation catalyst is 5.0% by weight or less, preferably 3% by weight or less, of the solid content of the base resin. If it exceeds 5.0% by weight, cracks and pinholes are likely to occur in the electrodeposition coating film, which may impair the smoothness of the coating film.

【0102】本発明の組成物は、上術の必須成分の他
に、必要に応じて顔料、顔料分散用樹脂および溶剤を含
んでいても良い。顔料、顔料分散用樹脂および溶剤とし
ては、カチオン電着塗料用としての一般的なものが利用
できる。
The composition of the present invention may contain a pigment, a resin for dispersing the pigment and a solvent, if necessary, in addition to the essential components of the above technique. As the pigment, the pigment-dispersing resin, and the solvent, those commonly used for cationic electrodeposition coatings can be used.

【0103】本発明の組成物は、上述の必須成分および
必要に応じて他の成分を均一に混合すると得られる。な
お、本発明で用いられる解離触媒は、分散樹脂等を利用
しなくても基体樹脂中に均一に分散し得る。したがっ
て、本発明の組成物は、調整が容易である。
The composition of the present invention is obtained by uniformly mixing the above-mentioned essential components and, if necessary, other components. The dissociation catalyst used in the present invention can be uniformly dispersed in the base resin without using a dispersing resin or the like. Therefore, the composition of the present invention is easy to prepare.

【0104】[0104]

【実施例】製造例1(基体樹脂の製造) 還流冷却器、温度計、撹拌機および滴下ロートを取り付
けた三つ口フラスコを用意した。このフラスコ中に、
2,4−トリレンジイソシアネートと2,6−トリレン
ジイソシアネートとを8:2の割合で混合したもの54
重量部、メチルイソブチルケトン136重量部、および
ジブチルチンジラウレート0.5重量部を加えて撹拌
し、これに更にメタノール11重量部を滴下ロートから
30分かけて滴下した。フラスコ内の温度を60℃に維
持して30分間反応させ、その後、エチレングリコール
モノ−2−エチルヘキシルエーテル54重量部を滴下ロ
ートから更に1時間かけて滴下した。温度を60〜65
℃に保ちながら反応を継続し、赤外線吸収スペクトルで
イソシアネート基の吸収スペクトルが消失した時点で反
応を終了した。
EXAMPLES Production Example 1 (Production of base resin) A three-necked flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, a stirrer and a dropping funnel was prepared. In this flask,
A mixture of 2,4-tolylene diisocyanate and 2,6-tolylene diisocyanate in a ratio of 8: 2 54
Parts by weight, 136 parts by weight of methyl isobutyl ketone, and 0.5 parts by weight of dibutyltin dilaurate were added and stirred, and then 11 parts by weight of methanol was further added dropwise from the dropping funnel over 30 minutes. The temperature in the flask was maintained at 60 ° C. to react for 30 minutes, and then 54 parts by weight of ethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether was added dropwise from the dropping funnel over 1 hour. 60 to 65
The reaction was continued while maintaining the temperature at 0 ° C., and the reaction was terminated when the absorption spectrum of the isocyanate group disappeared in the infrared absorption spectrum.

【0105】次に、ビスフェノールFとエピクロルヒド
リンとからそれぞれ合成した、エポキシ当量が475の
エポキシ樹脂285重量部とエポキシ当量が950のエ
ポキシ樹脂380重量部とをフラスコに加えて均一に混
合した。そして、フラスコを120℃に加温してベンジ
ルジメチルアミン0.62重量部を加え、副生するメタ
ノールをデカンターを用いて留去しながら反応させた。
これにより、エポキシ当量が1120のオキサゾリドン
環含有エポキシ樹脂を得た。
Next, 285 parts by weight of an epoxy resin having an epoxy equivalent of 475 and 380 parts by weight of an epoxy resin having an epoxy equivalent of 950, which were respectively synthesized from bisphenol F and epichlorohydrin, were added to the flask and uniformly mixed. Then, the flask was heated to 120 ° C., 0.62 parts by weight of benzyldimethylamine was added, and the reaction was carried out while distilling off by-produced methanol using a decanter.
As a result, an oxazolidone ring-containing epoxy resin having an epoxy equivalent of 1120 was obtained.

【0106】次に、フラスコを冷却し、これにジエタノ
ールアミン29重量部、N−メチルエタノールアミン2
2重量部、およびアミノエタノールアミンのケチミン化
物(79%メチルイソブチルケトン溶液)33重量部を
加えて110℃で2時間反応させた。反応後、メチルイ
ソブチルケトンにより不揮発分が80%になるまで希釈
し、基体樹脂を得た。
Next, the flask was cooled, to which 29 parts by weight of diethanolamine and 2 parts of N-methylethanolamine 2 were added.
2 parts by weight and 33 parts by weight of a ketiminized product of aminoethanolamine (79% methyl isobutyl ketone solution) were added and reacted at 110 ° C. for 2 hours. After the reaction, the base resin was obtained by diluting with methyl isobutyl ketone until the nonvolatile content became 80%.

【0107】製造例2(ブロックイソシアネート系硬化剤の製造) 還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた三つ口フ
ラスコを用意した。このフラスコに、三量体ヘキサメチ
レンジイソシアネートとメチルエチルケトオキシムとを
加え、三量体ヘキサメチレンジイソシアネートをメチル
エチルケトオキシムによりブロックした。得られたブロ
ックイソシアネートを、メチルイソブチルケトンとブタ
ノールとを95:5での割合で含む混合溶媒で処理し、
固形分が95%のブロックイソシアネート系硬化剤を得
た。
Production Example 2 (Production of Blocked Isocyanate Curing Agent) A three-necked flask equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer was prepared. Trimer hexamethylene diisocyanate and methyl ethyl ketoxime were added to the flask and the trimer hexamethylene diisocyanate was blocked with methyl ethyl ketoxime. The obtained blocked isocyanate is treated with a mixed solvent containing methyl isobutyl ketone and butanol in a ratio of 95: 5,
A blocked isocyanate curing agent having a solid content of 95% was obtained.

【0108】製造例3(顔料分散ペーストの製造) 顔料分散樹脂(日本ペイント株式会社製の3級スルホニ
ウム塩含有変性エポキシ樹脂:塩基量75meq/10
0g、固形分60重量%)120.0重量部にカーボン
ブラック4.0重量部、カオリン26.0重量部、二酸
化チタン140.0重量部およびリンモリブデン酸アル
ミニウム30.0重量部を加え、サンドミルを用いて粉
砕・分散した。これにイオン交換水33.3重量部を加
えて不揮発分が60%になるよう調整した。
Production Example 3 (Production of Pigment Dispersion Paste) Pigment dispersion resin (modified epoxy resin containing tertiary sulfonium salt manufactured by Nippon Paint Co., Ltd .: base amount 75 meq / 10)
0 g, solid content 60% by weight) 120.0 parts by weight, 4.0 parts by weight of carbon black, 26.0 parts by weight of kaolin, 140.0 parts by weight of titanium dioxide and 30.0 parts by weight of aluminum phosphomolybdate are added to a sand mill. Was pulverized and dispersed. 33.3 parts by weight of ion-exchanged water was added thereto to adjust the nonvolatile content to 60%.

【0109】実施例1〜10および比較例1〜4 製造例1で得られた基体樹脂140重量部(固形分換
算)、製造例2で得られたブロックイソシアネート系硬
化剤60重量部(固形分換算)、表1に示す解離触媒お
よび酢酸3.15重量部を混合し、塗料分散体を得た。
これに撹拌しながら脱イオン水を加え、不揮発分が30
%になるよう調整した。この塗料分散体に、製造例3で
得られた顔料分散ペースト115重量部(不揮発分60
%)、脱イオン水783重量部、2−エチルヘキシルセ
ロソルブ10重量部、および表面制御材料を加え、不揮
発分が20%のカチオン電着塗料を得た。
Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 140 140 parts by weight of the base resin obtained in Production Example 1 (as solid content), 60 parts by weight of the blocked isocyanate curing agent obtained in Production Example 2 (solid content) (Converted), the dissociation catalyst shown in Table 1 and 3.15 parts by weight of acetic acid were mixed to obtain a coating dispersion.
Deionized water was added to this with stirring, and the nonvolatile content was 30
Adjusted to be%. 115 parts by weight of the pigment dispersion paste (nonvolatile matter 60) obtained in Production Example 3 was added to this paint dispersion.
%), 783 parts by weight of deionized water, 10 parts by weight of 2-ethylhexyl cellosolve, and a surface control material were added to obtain a cationic electrodeposition coating composition having a nonvolatile content of 20%.

【0110】[0110]

【表1】 [Table 1]

【0111】試験 冷間圧延未処理鋼板を陰極にして、乾燥膜圧が20μm
になるよう実施例1〜10および比較例1〜4で得られ
た電着塗料をそれぞれ電着塗装した。その後、表2に示
す焼き付け条件で塗膜を硬化させた。得られた塗膜につ
いて、硬化性、耐食性、耐衝撃性、平面平滑性を調べ
た。結果を表2に示す。なお、試験方法は、次の通りで
ある。
Test Using cold rolled untreated steel plate as a cathode, the dry film pressure was 20 μm.
The electrodeposition paints obtained in Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 4 were respectively electrodeposited so that Then, the coating film was cured under the baking conditions shown in Table 2. The obtained coating film was examined for curability, corrosion resistance, impact resistance, and plane smoothness. The results are shown in Table 2. The test method is as follows.

【0112】(硬化性)メチルイソブチルケトンに浸し
たガーゼで塗膜を50回擦り、塗膜の表面状態により硬
化性を判定した。評価の基準は下記の通りである。 ○:塗膜に傷が付かない。 △:塗膜に少し傷がつく。 ×:塗膜の傷が著しい。
(Curability) The coating film was rubbed 50 times with gauze dipped in methyl isobutyl ketone, and the curing property was judged by the surface condition of the coating film. The evaluation criteria are as follows. ◯: The coating film is not scratched. Δ: The coating film is slightly scratched. X: The coating film is significantly scratched.

【0113】(耐食性)素地に達するカットをナイフを
用いて塗膜に入れ、55℃の5%食塩水を用いて塩水浸
漬試験を実施した。塗膜のハクリとブリスターの発生状
況を下記の基準で評価した。ハクリ カット部からの片側最大ハクリ幅(mm)を調べた。 ○:3mm未満。 △:3mm以上6mm未満。 ×:6mm以上。ブリスター 15cm×7cmの範囲でブリスター数を調べた。 ○:極めて少ない。 △:少ない。 ×:多数。
(Corrosion resistance) A cut reaching the substrate was put into a coating film using a knife, and a salt water immersion test was conducted using 5% saline at 55 ° C. The occurrence of peeling and blister of the coating film was evaluated according to the following criteria. It was examined peeling one side maximum peel width from the cut portion (mm). ◯: less than 3 mm. Δ: 3 mm or more and less than 6 mm. X: 6 mm or more. The blister number was examined in the range of 15 cm × 7 cm blister. ○: Very few. Δ: Little. X: Many.

【0114】(耐衝撃性)JIS−K5400のデュポ
ン式(1/2φ、500g)を実施し、ワレ、ハガレ等
が生じない高さ(cm)を調べた。 (平面平滑性)塗膜の外観(うねりの程度)を目視評価
した。 ○:良好。 △:やや不良。
(Impact resistance) The DuPont type (1 / 2φ, 500 g) of JIS-K5400 was carried out, and the height (cm) at which cracking or peeling did not occur was examined. (Plane smoothness) The appearance (degree of waviness) of the coating film was visually evaluated. ◯: Good. Δ: Slightly defective.

【0115】[0115]

【表2】 [Table 2]

【0116】[0116]

【発明の効果】本発明のカチオン電着塗料組成物は、上
述の解離触媒を用いているので、低温硬化性と塗膜の耐
食性の改善を同時にかつ安価に達成できる。
Since the cationic electrodeposition coating composition of the present invention uses the above-mentioned dissociation catalyst, the low temperature curability and the corrosion resistance of the coating film can be simultaneously achieved at low cost.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】カチオン性基を含む基体樹脂と、 ブロックイソシアネート系硬化剤と、 前記ブロックイソシアネート系硬化剤の解離触媒とを含
み、 前記解離触媒は、有機錫化合物と、コバルト,ニッケル
または亜鉛の有機酸塩およびジケトン金属錯体からなる
群から選ばれた少なくとも1種の金属化合物とを含んで
いる、カチオン電着塗料組成物。
1. A base resin containing a cationic group, a blocked isocyanate curing agent, and a dissociation catalyst for the blocked isocyanate curing agent, wherein the dissociation catalyst comprises an organotin compound and cobalt, nickel or zinc. A cationic electrodeposition coating composition containing at least one metal compound selected from the group consisting of organic acid salts and diketone metal complexes.
【請求項2】前記有機錫化合物は、下記の一般式(1)
および(2)で示される有機錫化合物群から選ばれた少
なくとも1種の有機錫化合物である、請求項1に記載の
カチオン電着塗料組成物。 【化1】 【化2】 (一般式(1)および(2)中、 R1 およびR3 :それぞれ炭素数が1〜12個のアルキ
ル基またはアリール基 R2 :水素原子、または炭素数が1〜21個のアルキル
基,アルケニル基,アラルキル基,シクロアルキル基,
アルコキシアルキル基またはアリール基 XおよびY:OCOR2 、OH、ハロゲン、O1/2ま
たはS1/2 Z:O、Sまたは2価のカルボン酸残基 p:0または1の整数 である。)
2. The organotin compound has the following general formula (1):
The cationic electrodeposition coating composition according to claim 1, which is at least one kind of organic tin compound selected from the group of organic tin compounds represented by (2) and (2). [Chemical 1] [Chemical 2] (In the general formulas (1) and (2), R 1 and R 3 : an alkyl group or an aryl group each having 1 to 12 carbon atoms R 2 : a hydrogen atom, or an alkyl group having 1 to 21 carbon atoms, Alkenyl group, aralkyl group, cycloalkyl group,
Alkoxyalkyl group or aryl group X and Y: OCOR 2 , OH, halogen, O1 / 2 or S1 / 2 Z: O, S or divalent carboxylic acid residue p: an integer of 0 or 1. )
【請求項3】前記有機酸塩は、下記の一般式(3)で示
される有機酸金属塩である、請求項1または2に記載の
カチオン電着塗料組成物。 【化3】 (一般式(3)中、 R4 :水素原子、または炭素数が1〜21個のアルキル
基,アルケニル基,アラルキル基,シクロアルキル基,
アルコキシアルキル基またはアリール基 M:コバルト、ニッケルまたは亜鉛 q:0または1の整数 である。)
3. The cationic electrodeposition coating composition according to claim 1, wherein the organic acid salt is an organic acid metal salt represented by the following general formula (3). [Chemical 3] (In the general formula (3), R 4 is a hydrogen atom, or an alkyl group having 1 to 21 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, a cycloalkyl group,
Alkoxyalkyl group or aryl group M: cobalt, nickel or zinc q: an integer of 0 or 1. )
【請求項4】前記基体樹脂は、アミノ基含有樹脂であ
る、請求項1、2または3に記載のカチオン電着塗料組
成物。
4. The cationic electrodeposition coating composition according to claim 1, 2 or 3, wherein the base resin is an amino group-containing resin.
【請求項5】前記基体樹脂は、オキサゾリドン環含有エ
ポキシ樹脂である、請求項1、2、3または4に記載の
カチオン電着塗料組成物。
5. The cationic electrodeposition coating composition according to claim 1, wherein the base resin is an oxazolidone ring-containing epoxy resin.
【請求項6】前記ブロックイソシアネート系硬化剤は、
イソシアヌレート環を含んでいる、請求項1、2、3、
4または5に記載のカチオン電着塗料組成物。
6. The blocked isocyanate curing agent is
4. An isocyanurate ring, comprising: 1, 2, 3,
The cationic electrodeposition coating composition according to 4 or 5.
【請求項7】前記ブロックイソシアネート系硬化剤は、
グリコールエーテルによりブロックされたイソシアネー
ト基を含んでいる、請求項6に記載のカチオン電着塗料
組成物。
7. The blocked isocyanate curing agent is
The cationic electrodeposition coating composition according to claim 6, which contains an isocyanate group blocked by a glycol ether.
【請求項8】前記ブロックイソシアネート系硬化剤は、
ブロックされた脂肪族イソシアネート基およびブロック
された芳香族イソシアネート基の双方を含んでいる、請
求項6に記載のカチオン電着塗料組成物。
8. The blocked isocyanate curing agent comprises:
The cationic electrodeposition coating composition according to claim 6, comprising both a blocked aliphatic isocyanate group and a blocked aromatic isocyanate group.
【請求項9】前記ブロックイソシアネート系硬化剤は、
ガラス転移温度が異なる2種類のブロックイソシアネー
ト系硬化剤の混合物である、請求項1、2、3、4また
は5に記載のカチオン電着塗料組成物。
9. The blocked isocyanate curing agent is
The cationic electrodeposition coating composition according to claim 1, which is a mixture of two types of blocked isocyanate curing agents having different glass transition temperatures.
【請求項10】前記解離触媒は、前記有機錫化合物
(a)と前記金属化合物(b)とをa:b=9:1〜
1:9の重量比で含んでいる、請求項1、2、3、4、
5、6、7、8または9に記載のカチオン電着塗料組成
物。
10. The dissociation catalyst comprises a: b = 9: 1 to the organotin compound (a) and the metal compound (b).
A weight ratio of 1: 9 is included, Claims 1, 2, 3, 4,
The cationic electrodeposition coating composition according to 5, 6, 7, 8 or 9.
【請求項11】前記解離触媒は、前記有機錫化合物
(a)よりも前記金属化合物(b)を多量に含んでい
る、請求項1、2、3、4、5、6、7、8または9に
記載のカチオン電着塗料組成物。
11. The dissociation catalyst contains a larger amount of the metal compound (b) than the organotin compound (a), as described in any one of claims 1 to 3. 9. The cationic electrodeposition coating composition according to item 9.
【請求項12】前記基体樹脂および前記ブロックイソシ
アネート系硬化剤をそれぞれ90〜50重量部および1
0〜50重量部含み、かつ前記解離触媒を前記基体樹脂
の固形分の0.01〜5.0重量%含む、請求項1、
2、3、4、5、6、7、8、9、10または11に記
載のカチオン電着塗料組成物。
12. The base resin and the blocked isocyanate curing agent are contained in an amount of 90 to 50 parts by weight and 1 respectively.
0 to 50 parts by weight, and 0.01 to 5.0% by weight of the solid content of the base resin in the dissociation catalyst.
The cationic electrodeposition coating composition according to 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 or 11.
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