JPH07256002A - Exhaust gas treatment apparatus - Google Patents

Exhaust gas treatment apparatus

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JPH07256002A
JPH07256002A JP6055840A JP5584094A JPH07256002A JP H07256002 A JPH07256002 A JP H07256002A JP 6055840 A JP6055840 A JP 6055840A JP 5584094 A JP5584094 A JP 5584094A JP H07256002 A JPH07256002 A JP H07256002A
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JP
Japan
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exhaust gas
fins
fin
pipe
gas
Prior art date
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JP6055840A
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Japanese (ja)
Inventor
Takayuki Kodama
孝行 児玉
Kiyoshi Yoshikawa
清 吉川
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Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Publication date
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  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

PURPOSE:To adjust the position of a fin to be attached by fixing a fin position- adjusting fixture on the fin, and attaching the fin on a radiator pipe with the fixture detachably. CONSTITUTION:An exhaust gas inflow pipe 7 is inserted into a trap main body 2 from the outside of an upper support lid 4, and a radiator pipe 8 is extended to the bottom of the trap main body 2 by inserting it from the outside of the lid 4 through the middle of the main body 2. More than one fin 9 with protrusions is installed on the outer wall of the radiator pipe 8. The intervals of the fins 9 are adjusted to become narrower from the gas inflow side of the upper part of the main body 2 to the lower part. The fins 9 are attached on the radiator pipe 8 detachably. In this way, the contact area of exhaust gas is enlarged to increase efficiently the fixing amount of unreacted gas.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置等に使
用される排ガス処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exhaust gas treatment device used in semiconductor manufacturing equipment and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、半導体製造装置においては、
半導体ウェーハ等を製造するために有害な反応ガスを用
いることが多い。例えばシランの排ガスが流出するポリ
シンコンCVD(化学的気相)法などでは、排ガス中の
シラン濃度を1%以下に抑えることが安全上必要とな
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, in semiconductor manufacturing equipment,
A harmful reaction gas is often used for manufacturing semiconductor wafers and the like. For example, in a polycincon CVD (chemical vapor phase) method in which silane exhaust gas flows out, it is necessary for safety to keep the silane concentration in the exhaust gas at 1% or less.

【0003】このような観点から、この種の半導体製造
装置では、排ガスをコールドトラップに流入させて、有
害な未反応成分を除去することが多い。
From this point of view, in this type of semiconductor manufacturing apparatus, exhaust gas is often introduced into a cold trap to remove harmful unreacted components.

【0004】図4は、従来のコールドトラップの構造を
示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing the structure of a conventional cold trap.

【0005】このコールドトラップの胴体101内に
は、トラップ本体102が胴体101から所定の空隙1
03を隔てて上部支持蓋104に固定されている。この
空隙103には、上部支持蓋104の流入口105よ
り、トラップ本体102を冷却するための窒素ガス等の
冷却用ガスが流入され、この冷却用ガスは上部支持蓋1
04の流出口106より外部へ流出される。
Inside the body 101 of this cold trap, a trap body 102 is provided with a predetermined space 1 from the body 101.
It is fixed to the upper support lid 104 with 03 interposed therebetween. A cooling gas such as nitrogen gas for cooling the trap body 102 flows into the gap 103 from the inlet 105 of the upper support lid 104, and the cooling gas is supplied to the upper support lid 1
It is discharged to the outside from the outflow port 106 of 04.

【0006】また、上部支持蓋104の外側からは排ガ
ス流入パイプ107がトラップ本体102内に連通さ
れ、さらに排ガス流出パイプ108が、上部支持蓋10
4の外側からトラップ本体102内の中央より貫通して
その底面まで延設されている。その排ガス流出パイプ1
08の外壁には、複数のフィン109が一定間隔で溶接
されている。
An exhaust gas inflow pipe 107 is connected to the inside of the trap body 102 from the outside of the upper support cover 104, and an exhaust gas outflow pipe 108 is connected to the upper support cover 10.
4 extends from the outside of the trap body 102 through the center of the trap body 102 to the bottom surface thereof. The exhaust gas outflow pipe 1
A plurality of fins 109 are welded to the outer wall of 08 at regular intervals.

【0007】上記のコールドトラップによれば、トラッ
プ本体102の外壁面が冷却用ガスによって冷却される
結果、フィン109も冷却されることになる。このよう
に低温に冷却されたフィン109の表面に、排ガス流入
パイプ107から排ガス流出パイプ108へ向けて流れ
る排ガスが接触すると、フィン109表面に排ガス中の
未反応成分が固体として凝縮固着される。このようにし
て、コールドトラップは、排ガス中の未反応成分を捕集
除去することができる。
According to the above cold trap, the fin 109 is also cooled as a result of cooling the outer wall surface of the trap body 102 by the cooling gas. When the exhaust gas flowing from the exhaust gas inflow pipe 107 toward the exhaust gas outflow pipe 108 comes into contact with the surface of the fin 109 cooled to such a low temperature, unreacted components in the exhaust gas are condensed and fixed on the surface of the fin 109 as a solid. In this way, the cold trap can collect and remove unreacted components in the exhaust gas.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のコールドトラップでは、各フィン109が排ガス流
出パイプ108の外壁に一定間隔に設けられているた
め、未処理の排ガスが最初にガス流入口付近のフィン1
09に接触して未反応成分が次第に除去されながら排出
される過程で、各フィン109に固着する未反応成分の
割合が、排ガス流出パイプ108のガス流出口付近より
も排ガス流入パイプ107のガス流入口付近で高くな
る。そのため、排ガスの流通が妨げられる恐れがあっ
た。
However, in the above-mentioned conventional cold trap, since the fins 109 are provided on the outer wall of the exhaust gas outflow pipe 108 at regular intervals, the untreated exhaust gas first flows near the gas inlet. Fin 1
In the process in which unreacted components are gradually removed and discharged while contacting 09, the ratio of unreacted components fixed to each fin 109 is higher than that in the vicinity of the gas outlet of the exhaust gas outlet pipe 108. It gets higher near the entrance. Therefore, there is a risk that the flow of exhaust gas may be hindered.

【0009】また、上記コールドトラップでは、単にフ
ィン109を一定間隔で排ガス流出パイプ108に溶接
しただけであって、排ガス中の未反応成分の除去を効率
的に促進するという観点からは、未だ十分満足のいくも
のではなかった。
Further, in the cold trap, the fins 109 are simply welded to the exhaust gas outflow pipe 108 at regular intervals, which is still insufficient from the viewpoint of efficiently promoting the removal of unreacted components in the exhaust gas. It was not satisfactory.

【0010】このような点から、従来のコールドトラッ
プでは、劣化が早く進み、寿命が短いという問題があっ
た。
From such a point, the conventional cold trap has a problem that the deterioration progresses rapidly and the life is short.

【0011】本発明は、上述の如き従来の問題点を解決
するためになされたもので、その目的は、排ガスの良好
な流通を確保することが可能な排ガス処理装置を提供す
ることである。またその他の目的は、排ガス中の未反応
成分の除去を促進させることができる排ガス処理装置を
提供することである。
The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to provide an exhaust gas treatment apparatus capable of ensuring good circulation of exhaust gas. Another object is to provide an exhaust gas treatment device that can promote removal of unreacted components in exhaust gas.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の特徴は、排ガスが流通する放熱パイプと、
該放熱パイプの外壁に固定された複数のフィンとを有す
るガス処理本体を備え、前記ガス処理本体を冷却して該
ガス処理本体に導入された排ガス中の所定成分を前記フ
ィンに固着させる排ガス処理装置において、前記各フィ
ンにフィン位置調整用の取付け金具をそれぞれ固定し、
その各フィンを前記取付け金具により前記放熱パイプに
着脱自在に取り付けたことにある。
In order to achieve the above object, a feature of the present invention is that a heat radiation pipe through which exhaust gas flows,
Exhaust gas treatment comprising: a gas treatment body having a plurality of fins fixed to the outer wall of the heat dissipation pipe; cooling the gas treatment body to fix a predetermined component in the exhaust gas introduced into the gas treatment body to the fins. In the device, mounting fins for fixing the fin position are fixed to the respective fins,
The fins are detachably attached to the heat radiating pipe by the attachment fittings.

【0013】また、好ましくは、前記放熱パイプに取り
付けられた前記各フィンの間隔は、ガス流入側を広く、
ガス流出側を狭くなるようにする。
Further, preferably, the fins attached to the heat radiation pipe have a wide space on the gas inflow side,
Make the gas outlet side narrow.

【0014】好ましくは、前記各フィンに複数の突起物
を設置する。
Preferably, a plurality of protrusions are installed on each fin.

【0015】[0015]

【作用】上述の如き構成によれば、各フィンを取付け金
具により放熱パイプに取り付ける際に、その取り付け位
置を自在に調整することができる。例えば放熱パイプに
取り付けられる各フィンの間隔を、ガス流入側が広く、
ガス流出側が狭くなるようにすることにより、ガス流入
側でより広く排ガス流路が確保され、前述した未反応成
分の固着による排ガス流通阻害を防ぐことができる。
According to the above construction, when each fin is attached to the heat radiating pipe by the attachment fitting, its attachment position can be freely adjusted. For example, the space between the fins attached to the heat dissipation pipe is wide on the gas inflow side,
By narrowing the gas outflow side, a wider exhaust gas flow path is secured on the gas inflow side, and it is possible to prevent the above-mentioned obstruction of exhaust gas flow due to fixation of unreacted components.

【0016】また、各フィンに複数の突起物を設置する
ことにより、排ガス接触面積が増大し、効率的に未反応
ガスの固着量を増大させることができる。
By installing a plurality of protrusions on each fin, the exhaust gas contact area is increased, and the amount of unreacted gas fixed can be efficiently increased.

【0017】[0017]

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図1は、本発明を実施した排ガス処理装置であ
るコールドトラップの構造を示す断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of a cold trap which is an exhaust gas treating apparatus embodying the present invention.

【0018】このコールドトラップは円筒形の胴体1を
有し、その胴体1内には、円筒状のトラップ本体(ガス
処理本体)2が胴体1の内側の壁面及び底面から所定の
空隙3を隔てて上部支持蓋4に固定されている。胴体1
とトラップ本体2との間に形成される空隙3には、上部
支持蓋4の端部に開口された流入口5より、トラップ本
体2を冷却するための窒素ガス等の冷却用ガスが流入さ
れ、そして、この冷却用ガスは上部支持蓋4に開口され
た流出口6より外部へ流出される。
This cold trap has a cylindrical body 1. Inside the body 1, a cylindrical trap body (gas treatment body) 2 separates a predetermined gap 3 from the inner wall surface and bottom surface of the body 1. And is fixed to the upper support lid 4. Body 1
A cooling gas, such as nitrogen gas, for cooling the trap body 2 flows into the gap 3 formed between the trap body 2 and the trap body 2 through the inflow port 5 opened at the end of the upper support lid 4. Then, the cooling gas is discharged to the outside through the outlet 6 formed in the upper support lid 4.

【0019】また、上部支持蓋4の外側からは排ガス流
入パイプ7がトラップ本体2内に連通され、さらに排ガ
ス流出パイプ(放熱パイプ)8が、上部支持蓋4の外側
からトラップ本体2内の中央より貫通してその底面まで
延設されている。加えて、トラップ本体2内に貫設され
た前記排ガス流出パイプ8の外壁には、突起物9aが設
けられた複数のフィン9が取り付けられている。この排
ガス流出パイプ8に取り付けられた各フィン9の間隔
は、トラップ本体2上部のガス流入側(排ガス流入パイ
プ7の先端側)が広く、トラップ本体2下部のガス流出
側(排ガス流出パイプ8の先端側)が狭くなるようにな
っている。
Further, an exhaust gas inflow pipe 7 is communicated with the inside of the trap body 2 from the outside of the upper support lid 4, and an exhaust gas outflow pipe (heat dissipation pipe) 8 is further provided from the outside of the upper support lid 4 in the center of the trap body 2. It further penetrates and extends to the bottom surface. In addition, a plurality of fins 9 provided with protrusions 9a are attached to the outer wall of the exhaust gas outflow pipe 8 penetrating the trap body 2. The space between the fins 9 attached to the exhaust gas outflow pipe 8 is wide on the gas inflow side of the upper part of the trap body 2 (the tip side of the exhaust gas inflow pipe 7) and on the gas outflow side of the lower part of the trap body 2 (of the exhaust gas outflow pipe 8). The tip side) becomes narrower.

【0020】図2は前記フィン9の平面図であり、同図
に示すように、各フィン9は、排ガスの流路となる切欠
部9bが形成された円形を成している。この径は、前記
トラップ本体2の円筒形状に対応しており、各フィン9
の中央部には前記排ガス流出パイプ8が挿入される挿入
孔9cが穿設され、各フィン9の周端がトラップ本体2
の内壁面に密着されるようになっている。
FIG. 2 is a plan view of the fins 9. As shown in FIG. 2, each fin 9 has a circular shape with a cutout 9b serving as a flow path for exhaust gas. This diameter corresponds to the cylindrical shape of the trap body 2, and each fin 9
An insertion hole 9c into which the exhaust gas outflow pipe 8 is inserted is bored in the center of the trap main body 2 and the peripheral end of each fin 9 is formed in
It is designed to be closely attached to the inner wall surface of the.

【0021】さらに、フィン9上面の端部には、所定の
間隔を置いて4個の前記突起物9aが突設され、さら
に、フィン9の中央部の挿入孔9cの孔径と等しい内径
を有するフィン位置調整用の取付け金具9dが、前記挿
入孔9cに合わせてフィン9の中央部に立設されてい
る。この取付け金具9dの突片にはボルト孔が設けら
れ、このボルト孔に挿着されるボルト9eを締め付ける
ことにより、当該各フィン9が排ガス流出パイプ8に固
定される。
Further, four protrusions 9a are provided at predetermined intervals at the end of the upper surface of the fin 9, and have an inner diameter equal to the diameter of the insertion hole 9c at the center of the fin 9. A fitting 9d for adjusting the fin position is provided upright in the center of the fin 9 in alignment with the insertion hole 9c. A bolt hole is provided in the projecting piece of the mounting member 9d, and each fin 9 is fixed to the exhaust gas outflow pipe 8 by tightening a bolt 9e inserted into the bolt hole.

【0022】このように、本実施例によれば、各フィン
9を取付け金具9dにより排ガス流出パイプ8に着脱自
在に取り付けることができるようにし、各フィンの間隔
がガス流入側を広く、ガス流出側を狭くなるようにした
ので、ガス流入側でより広く排ガス流路が確保され、従
来装置のような未反応成分の固着による排ガス流通阻害
を防ぐことができる。
As described above, according to this embodiment, the fins 9 can be detachably attached to the exhaust gas outflow pipe 8 by the attachment fittings 9d, and the distance between the fins is wide on the gas inflow side and the gas outflow side is large. Since the side is made narrower, a wider exhaust gas flow path is secured on the gas inflow side, and it is possible to prevent the exhaust gas flow obstruction due to the sticking of unreacted components as in the conventional device.

【0023】また、各フィン9に複数の突起物9aを設
置したので、排ガスの接触面積が増大し、効率的に未反
応ガスの固着量を増大させることができる。
Further, since a plurality of protrusions 9a are provided on each fin 9, the contact area of the exhaust gas is increased, and the amount of unreacted gas fixed can be efficiently increased.

【0024】図3は、本発明の排ガス処理装置の適用例
を示す図であり、減圧CVD装置における排気システム
の構成を表すものである。
FIG. 3 is a diagram showing an example of application of the exhaust gas treating apparatus of the present invention, showing the structure of an exhaust system in a low pressure CVD apparatus.

【0025】CVD反応器21では、コントローラ22
によりガス供給量制御、温度制御及びシーケンス制御等
が行われて、シリコンウェーハに対してCVD処理を行
う。そして、その排ガスは、排ガス流入パイプ23を経
由して上記実施例のコールドトラップと同一構成のコー
ルドトラップ24に流入され、このコールドトラップ2
4において未反応ガスが除去されて、排ガス流出パイプ
へ流出される。
In the CVD reactor 21, the controller 22
The gas supply amount control, the temperature control, the sequence control, and the like are performed by the above, and the CVD process is performed on the silicon wafer. Then, the exhaust gas flows into the cold trap 24 having the same structure as the cold trap of the above-described embodiment via the exhaust gas inflow pipe 23, and the cold trap 2
At 4, the unreacted gas is removed and discharged to the exhaust gas outflow pipe.

【0026】その後は、排ガス流出パイプに介在するメ
インバルブ25あるいはバイパスパイプ26に介在する
サブバルブ27を通過して、前記CVD反応器21側を
減圧状態にするメカニカルブースタ28とロータリーポ
ンプ29を経由して排出される。なお、ロータリーポン
プ29には、該ロータリーポンプ29の劣化を防止する
ためのオイルフィルタ30が取り付けられている。
After that, it passes through a main valve 25 provided in the exhaust gas outflow pipe or a sub valve 27 provided in the bypass pipe 26, and a mechanical booster 28 and a rotary pump 29 for reducing the pressure of the CVD reactor 21 side. Is discharged. An oil filter 30 for preventing deterioration of the rotary pump 29 is attached to the rotary pump 29.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、各フィンにフィン位置調整用の取付け金具をそれぞ
れ固定し、その各フィンを前記取付け金具により放熱パ
イプに着脱自在に取り付けたので、各フィンの取り付け
位置を自在に調整することができる。
As described above in detail, according to the present invention, the fin-position adjusting fittings are fixed to the respective fins, and the fins are detachably attached to the heat radiating pipe by the fittings. The mounting position of each fin can be freely adjusted.

【0028】例えば放熱パイプに取り付けられる各フィ
ンの間隔を、ガス流入側が広く、ガス流出側が狭くなる
ようにすることにより、排ガス中の未反応成分の固着に
よる排ガスの流通阻害を緩和することができる。
For example, the fins attached to the radiating pipe are arranged such that the gas inflow side is wide and the gas outflow side is narrow, whereby the obstruction of the exhaust gas flow due to the fixation of unreacted components in the exhaust gas can be alleviated. .

【0029】また、各フィンに複数の突起物を設置する
ことにより、排ガス接触面積が増大し、効率的に未反応
ガスの固着量を増大させることができる。
By providing a plurality of protrusions on each fin, the exhaust gas contact area is increased, and the amount of unreacted gas fixed can be efficiently increased.

【0030】これにより、コールドトラップの交換寿命
を延長することが可能となる。
This makes it possible to extend the replacement life of the cold trap.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を実施した排ガス処理装置であるコール
ドトラップの構造を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of a cold trap which is an exhaust gas treating apparatus embodying the present invention.

【図2】図1のフィン9の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the fin 9 shown in FIG.

【図3】本発明の排ガス処理装置の適用例を示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing an application example of the exhaust gas treatment apparatus of the present invention.

【図4】従来のコールドトラップの構造を示す断面図で
ある。
FIG. 4 is a sectional view showing a structure of a conventional cold trap.

【符号の説明】 1 胴体 2 トラップ本体 3 空隙 4 上部支持蓋 7 排ガス流入パイプ 8 排ガス流出パイプ 9 フィン 9a 突起物[Explanation of reference numerals] 1 body 2 trap body 3 void 4 upper support lid 7 exhaust gas inflow pipe 8 exhaust gas outflow pipe 9 fins 9a protrusions

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 排ガスが流通する放熱パイプと、該放熱
パイプの外壁に固定された複数のフィンとを有するガス
処理本体を備え、前記ガス処理本体を冷却して該ガス処
理本体に流入される排ガス中の所定成分を前記フィンに
固着させる排ガス処理装置において、 前記各フィンにフィン位置調整用の取付け金具をそれぞ
れ固定し、 その各フィンを前記取付け金具により前記放熱パイプに
着脱自在に取り付けたことを特徴とする排ガス処理装
置。
1. A gas treatment main body having a heat radiation pipe through which exhaust gas flows and a plurality of fins fixed to an outer wall of the heat radiation pipe, the gas treatment main body being cooled and introduced into the gas treatment main body. In an exhaust gas treatment device for adhering a predetermined component in exhaust gas to the fins, mounting fins for adjusting the fin position are fixed to the fins, and the fins are detachably attached to the radiating pipe by the mounting brackets. An exhaust gas treatment device characterized by:
【請求項2】 前記放熱パイプに取り付けられた前記各
フィンの間隔は、ガス流入側を広く、ガス流出側を狭く
したことを特徴とする請求項1記載の排ガス処理装置。
2. The exhaust gas treating apparatus according to claim 1, wherein the fins attached to the heat radiating pipe are widened on the gas inflow side and narrowed on the gas outflow side.
【請求項3】 前記各フィンに複数の突起物を設置した
ことを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の
排ガス処理装置。
3. The exhaust gas treating apparatus according to claim 1, wherein a plurality of protrusions are provided on each of the fins.
JP6055840A 1994-03-25 1994-03-25 Exhaust gas treatment apparatus Pending JPH07256002A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007318100A (en) * 2006-04-24 2007-12-06 Mitsubishi Cable Ind Ltd Exhaust system

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007318100A (en) * 2006-04-24 2007-12-06 Mitsubishi Cable Ind Ltd Exhaust system
US8915775B2 (en) 2006-04-24 2014-12-23 Mitsubishi Cable Industries, Ltd. Exhaust system

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