JPH07252686A - Method and device for surface treatment - Google Patents

Method and device for surface treatment

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Publication number
JPH07252686A
JPH07252686A JP4703294A JP4703294A JPH07252686A JP H07252686 A JPH07252686 A JP H07252686A JP 4703294 A JP4703294 A JP 4703294A JP 4703294 A JP4703294 A JP 4703294A JP H07252686 A JPH07252686 A JP H07252686A
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JP
Japan
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work
liquid
tank
treatment
plating solution
Prior art date
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Pending
Application number
JP4703294A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Watanabe
誠之 渡辺
Hirohiko Ikegaya
裕彦 池ヶ谷
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Yamaha Motor Co Ltd
Original Assignee
Yamaha Motor Co Ltd
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Publication date
Application filed by Yamaha Motor Co Ltd filed Critical Yamaha Motor Co Ltd
Priority to JP4703294A priority Critical patent/JPH07252686A/en
Publication of JPH07252686A publication Critical patent/JPH07252686A/en
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Abstract

PURPOSE:To simplify a prepn. operation by simplifying the structure of a device for subjecting the inside surface of a hollow work to a surface treatment, such as plating, while making it possible to execute this surface treatment at a high speed. CONSTITUTION:A treating vessel 10 is provided with a liquid inflow section 13 and a liquid outflow section 14. A plating liquid L forcibly fed by a pump 22 is admitted into a cylinder bore W11 of the work W1 from this liquid inflow section 13 in the state of immersing the work W1 into the treating liquid in this treating vessel 10. The plating liquid L past the cylinder bore W11 is discharged from the liquid outflow section 14.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、エンジンのシリンダブ
ロック等の中空状のワークの内面にめっき等の表面処理
を施す表面処理方法及び同装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface treatment method and apparatus for applying a surface treatment such as plating to the inner surface of a hollow work such as an engine cylinder block.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、ワークの被処理面にめっきを
施したり、その前工程として脱脂、エッチング、アルマ
イト等の処理を行なったりする表面処理の技術が種々知
られている。例えば、このような技術としてめっき液等
の処理液を貯留した浴槽にワークを漬浸させて、めっき
処理等を施すようにしたものが知られている。しかしこ
の方法では、めっき処理等を高速化することが困難であ
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, various surface treatment techniques have been known in which a surface to be treated of a workpiece is plated, and as a pre-process thereof, degreasing, etching, alumite and the like are performed. For example, as such a technique, there is known a technique in which a work is immersed in a bath in which a treatment liquid such as a plating liquid is stored to perform a plating treatment or the like. However, with this method, it is difficult to speed up the plating process and the like.

【0003】このため最近では、ワークの被処理面に対
して処理液を流動させながら表面処理を行なうことによ
り、表面処理の高速化を図る技術が考えられている。と
くにエンジンのシリンダブロック等の中空状のワークの
内面にめっき等を施す技術としては、例えば特開平5−
222589号公報に示されるようなものがある。すな
わち、この公報に示されたものは、ワークとしてのエン
ジンのシリンダブロックを支持する支持体に、めっき液
導入管及び円筒状の電極等を配備し、上記支持体上にシ
リンダブロックを設置してそのシリンダボア内に電極を
位置させるとともに、シリンダボア上に蓋体を被せてこ
の部分をシールし、この状態で、ポンプにより送給した
めっき液を上記めっき液導入管からシリンダボア内に送
り込むようにするとともに、上記エンジンシリンダと電
極とに通電するようにしている。
Therefore, recently, there has been considered a technique for increasing the speed of the surface treatment by performing the surface treatment while flowing the treatment liquid onto the surface to be treated of the work. Particularly, as a technique for plating the inner surface of a hollow work such as an engine cylinder block, for example, Japanese Patent Laid-Open No.
There is one such as shown in Japanese Patent No. 222589. That is, in the one disclosed in this publication, a plating solution introducing pipe, a cylindrical electrode, and the like are provided on a support that supports a cylinder block of an engine as a work, and the cylinder block is installed on the support. While positioning the electrode in the cylinder bore, covering the cylinder bore with a lid to seal this part, in this state, the plating solution sent by the pump is sent from the plating solution introduction pipe into the cylinder bore. The engine cylinder and the electrodes are energized.

【0004】この方法によると、上記シリンダボア内に
送り込まれためっき液がシリンダボア周面と電極との間
を流動し、シリンダボア上部及び電極内部の流路を経て
下方の流出部から流出する。このように被めっき面と電
極との間でめっき液を流動させることにより、電流密度
を高めて高速めっきを行なうことができる。
According to this method, the plating solution sent into the cylinder bore flows between the circumferential surface of the cylinder bore and the electrode, and flows out from the lower outlet through the upper portion of the cylinder bore and the flow path inside the electrode. By thus flowing the plating solution between the surface to be plated and the electrode, it is possible to increase the current density and perform high-speed plating.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、中空状のワ
ークの内面に高速でめっき等の表面処理を施すようにす
る場合に、上記の従来の方法によると、ワークに装着さ
れるシール用の部材や給電用の部材等の構造が複雑にな
るとともに、これらの部材をワークに装着する等の準備
作業が面倒なものになるという問題があった。
By the way, according to the above-mentioned conventional method, when the inner surface of the hollow work is subjected to surface treatment such as plating at high speed, the sealing member mounted on the work. There is a problem that the structure of the power supply member and the power supply member becomes complicated, and the preparation work such as mounting these members on the work becomes troublesome.

【0006】エンジンのシリンダブロックのシリンダボ
ア周面に高速めっきを施す場合を例にとって具体的に説
明すると、めっき処理にあたっては、シリンダボア内を
流通するめっき液が外部に漏れないようにシールする必
要があり、多気筒のシリンダブロックであれば各シリン
ダボアをそれぞれシールし、また2サイクルエンジンの
シリンダブロックのように排気ポートや掃気ポート等が
シリンダボアに連通する場合にこれらもシールする必要
がある。従って、シール装置などの構造が複雑になると
ともに、シール作業等が面倒なものとなり、これらの簡
略化が要望される。このほかに、ワークに通電するため
の給電用の部材の装着作業等の簡略化も要望される。
A specific description will be given by taking as an example the case where high speed plating is applied to the cylinder bore peripheral surface of an engine cylinder block. In the plating process, it is necessary to seal the plating solution flowing in the cylinder bore so as not to leak outside. In the case of a multi-cylinder cylinder block, it is necessary to seal each cylinder bore, and when an exhaust port, a scavenging port and the like communicate with the cylinder bore as in a cylinder block of a two-cycle engine, these must be sealed. Therefore, the structure of the sealing device and the like becomes complicated, and the sealing work becomes troublesome, and simplification of these is desired. In addition to this, simplification of mounting work of a power feeding member for energizing the work is also required.

【0007】本発明は、上記の事情に鑑み、めっき等の
表面処理を高速で行なうことができるようにしながら、
構造を簡略化し、準備作業を簡単にすることができる表
面処理方法及び同装置を提供することを目的とする。
In view of the above circumstances, the present invention allows surface treatment such as plating to be performed at high speed,
It is an object of the present invention to provide a surface treatment method and apparatus which can simplify the structure and simplify the preparation work.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
中空状のワークの内面に表面処理を施す表面処理方法で
あって、処理液を貯留する処理槽内にワークを設置し、
この処理槽内の処理液にワークを漬浸させるようにした
状態で、処理液送給用のポンプにより圧送した処理液
を、上記処理槽に設けた液流入部から上記ワークの中空
部に流入させ、ワークの中空部を流通した処理液を、上
記処理槽に設けた液流出部から流出させるようにしたも
のである。
The invention according to claim 1 is
A surface treatment method for performing a surface treatment on the inner surface of a hollow work, wherein the work is installed in a treatment tank that stores a treatment liquid,
With the work soaked in the treatment liquid in the treatment tank, the treatment liquid pressure-fed by the treatment liquid feeding pump flows into the hollow portion of the work from the liquid inflow portion provided in the treatment tank. Then, the processing liquid flowing through the hollow portion of the work is caused to flow out from the liquid outflow portion provided in the processing tank.

【0009】請求項2に係る発明は、請求項1記載の方
法において、処理液としてめっき液を用い、処理槽内に
設置されるワークの中空部内にめっき用電極を配置した
状態で、めっき液の流入、流出を行なわせるようにした
ものである。
According to a second aspect of the present invention, in the method according to the first aspect, the plating solution is used as the treatment solution, and the plating electrode is placed in the hollow portion of the workpiece installed in the treatment tank. It is designed to allow the inflow and outflow of.

【0010】請求項3に係る発明は、請求項2記載の方
法において、処理槽内にワークを設置した後に、処理槽
を密閉するようにしたものである。
According to a third aspect of the present invention, in the method according to the second aspect, the work tank is sealed after the work is installed in the treatment tank.

【0011】請求項4に係る発明は、請求項2記載の方
法において、液流出部からめっき液を強制的に吸い出す
ようにしたものである。
According to a fourth aspect of the present invention, in the method according to the second aspect, the plating solution is forcibly sucked out from the solution outflow portion.

【0012】請求項5に係る発明は、請求項1記載の方
法において、処理液として陽極酸化処理液を用い、処理
槽内に設置されるワークの筒状部分の内部に陽極酸化処
理用電極を配置した状態で、上記処理液をワークの中空
部に一端側から流入させ、他端側から処理槽内に流出さ
せるようにしたものである。
According to a fifth aspect of the present invention, in the method according to the first aspect, the anodizing treatment liquid is used as the treatment liquid, and the anodizing treatment electrode is provided inside the cylindrical portion of the workpiece installed in the treatment tank. In the arranged state, the processing liquid is made to flow into the hollow portion of the work from one end side and flow out into the processing tank from the other end side.

【0013】請求項6に係る発明は、中空状のワークの
内面にめっきを施す表面処理方法であって、液流入部を
有する処理装置本体上に上記ワークを設置し、ワークの
中空部内にめっき用電極を位置させるとともに、ワーク
への給電部と液流出部とを有する押え蓋をワークの上端
に押当てた状態で、めっき液送給用のポンプにより圧送
しためっき液を上記液流入部からワークの中空部に流入
させ、ワークの中空部を通過しためっき液を上記液流出
部から流出させるようにしたものである。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a surface treatment method for plating an inner surface of a hollow work, wherein the work is installed on a main body of a processing apparatus having a liquid inflow portion, and plating is performed in the hollow portion of the work. The electrode for use is positioned, and the pressing lid having the power supply part to the work and the liquid outflow part is pressed against the upper end of the work, and the plating solution pumped by the pump for feeding the plating solution is supplied from the solution inflow part. The plating solution is made to flow into the hollow part of the work and the plating solution passing through the hollow part of the work is allowed to flow out from the liquid outflow part.

【0014】請求項7に係る発明は、中空状のワークの
内面にめっきを施す表面処理装置であって、めっき液を
貯留する処理槽を備え、この処理槽に、ワークを処理槽
内の一定位置に支持するワーク設置部と、上記ワークの
中空部に挿入されるめっき用電極と、めっき液送給用の
ポンプに接続されて、上記処理槽内に設置されるワーク
の中空部にめっき液を導く液流入部と、このワークの中
空部を通っためっき液を流出させる液流出部とを設けた
ものである。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a surface treatment apparatus for performing plating on the inner surface of a hollow work, comprising a treatment tank for storing a plating solution, and the work is fixed in the treatment tank. A work installation part that supports the position, a plating electrode that is inserted into the hollow part of the work, and a plating solution that is connected to a pump for feeding the plating solution, and the plating solution is installed in the hollow part of the work that is installed in the treatment tank. And a liquid outflow part for outflowing the plating solution that has passed through the hollow part of the work.

【0015】請求項8に係る発明は、請求項7記載の装
置において、上記処理槽の上端に、この処理槽を密閉す
る蓋部材を開閉可能に設けたものである。
According to an eighth aspect of the present invention, in the apparatus according to the seventh aspect, a lid member for sealing the processing bath is provided at the upper end of the processing bath so as to be opened and closed.

【0016】請求項9に係る発明は、請求項8記載の装
置において、上記蓋部材に、ワークに対する給電部を装
備したものである。
According to a ninth aspect of the present invention, in the apparatus according to the eighth aspect, the lid member is equipped with a power feeding portion for the work.

【0017】請求項10に係る発明は、請求項7記載の
装置において、液流入部及び液流出部を処理槽内に設
け、液流入部に連なる通路をめっき液送給用のポンプの
吐出側に接続するとともに、液流出部に連なる通路を上
記ポンプの流入側に接続したものである。
According to a tenth aspect of the present invention, in the apparatus according to the seventh aspect, the liquid inflow portion and the liquid outflow portion are provided in the processing tank, and a passage communicating with the liquid inflow portion is provided on the discharge side of the plating liquid feeding pump. And a passage connected to the liquid outflow portion is connected to the inflow side of the pump.

【0018】請求項11に係る発明は、中空状のワーク
の内面に陽極酸化処理を施す表面処理装置であって、陽
極酸化処理液を貯留する処理槽を備え、この処理槽に、
ワークを処理槽内の一定位置に支持するワーク設置部
と、上記ワークの中空部に挿入される陽極酸化処理用電
極と、処理液送給用のポンプに接続されて、上記処理槽
内に設置されるワークの筒状部分に下方から上記処理液
を流入させる液流入部と、上記筒状部分を通った処理液
を上方から処理槽内に流出させる液流出部とを設けたも
のである。
The invention according to claim 11 is a surface treatment apparatus for anodizing an inner surface of a hollow work, comprising a treatment tank for storing an anodizing solution, and the treatment tank comprises
Installed in the processing tank, connected to a work setting part that supports the work at a fixed position in the processing tank, an anodizing electrode inserted in the hollow part of the work, and a pump for feeding the processing liquid. A liquid inflow portion for inflowing the processing liquid from below is provided in the tubular portion of the workpiece to be processed, and a liquid outflow portion for outflowing the processing liquid passing through the tubular portion from above into the processing tank.

【0019】請求項12に係る発明は、中空状のワーク
の内面にめっきを施す表面処理装置であって、上面部に
ワーク設置部を有する処理装置本体と、この処理装置本
体上に圧接されるワークの上端に当接する押え蓋とを備
え、上記処理装置本体に、上記ワークの中空部に挿入さ
れる電極と、めっき液送給用のポンプに接続されて、上
記ワークの中空部にめっき液を導く液流入部とを設け、
一方、上記蓋部材に、ワークの中空部を通っためっき液
を流出させる液流出部と、ワークーの給電部とを一体的
に設けたものである。
According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided a surface treatment apparatus for plating an inner surface of a hollow work, the treatment apparatus main body having a work setting portion on an upper surface thereof, and the treatment apparatus main body being pressed against the treatment apparatus main body. The processing apparatus main body is provided with a pressing lid that comes into contact with the upper end of the work, and the electrode inserted into the hollow portion of the work and the plating solution feeding pump are connected to the plating solution in the hollow portion of the work. And a liquid inflow part for guiding
On the other hand, the lid member is integrally provided with a liquid outflow part for outflowing the plating solution through the hollow part of the work and a power supply part of the work.

【0020】[0020]

【作用】上記請求項1記載の方法によれば、上記ポンプ
により圧送された処理液が上記液流入部からワークの中
空部に流入して、ワーク内を処理液が流動することによ
り、表面処理が高速化される。しかも、処理槽内のめっ
き液中にワークが漬浸された状態で上記処理が行なわれ
ることにより、ワークのシールが不要となる。
According to the method described in claim 1, the treatment liquid pumped by the pump flows into the hollow portion of the work from the liquid inflow portion, and the treatment liquid flows in the work, whereby the surface treatment is performed. Will be faster. Moreover, since the above-mentioned processing is performed in a state where the work is immersed in the plating solution in the processing tank, the work need not be sealed.

【0021】この方法をめっき処理に適用した請求項2
記載の方法及びこの方法を実施する請求項7記載の装置
によれば、ワークのシールが不要とされつつ、高速めっ
きが効果的に行なわれる。
A method according to claim 2, wherein this method is applied to a plating treatment.
According to the described method and the apparatus according to the seventh aspect for carrying out this method, high-speed plating is effectively performed without the need for sealing the work.

【0022】上記請求項3記載の方法及び請求項8記載
の装置によれば、処理槽が密閉されることにより、ワー
クのポート等をシールしない状態でも、ワークの中空部
内のめっき液の流動性が高められる。さらに請求項9記
載の装置によれば、給電部をワークに接続する作業が簡
略化される。
According to the method of the third aspect and the apparatus of the eighth aspect, the fluidity of the plating solution in the hollow portion of the work is closed by sealing the processing tank even when the port of the work is not sealed. Is increased. Further, according to the apparatus of claim 9, the work of connecting the power feeding portion to the work is simplified.

【0023】上記請求項4記載の方法及び請求項10記
載の装置によれば、液流出部からめっき液が強制的に吸
い出されることにより、ワークの中空部内のめっき液の
流動性が高められる。
According to the method of claim 4 and the device of claim 10, the fluidity of the plating solution in the hollow part of the work is enhanced by forcibly sucking the plating solution from the solution outflow part. .

【0024】上記請求項5記載の方法及び請求項11記
載の装置によれば、ワーク内を陽極酸化処理液が流動す
ることにより、陽極酸化処理が高速化され、しかも、処
理槽内の陽極酸化処理液中にワークが漬浸された状態で
上記処理が行なわれることにより、ワークのシールが不
要となる。
According to the method of the fifth aspect and the apparatus of the eleventh aspect, since the anodizing treatment liquid flows in the work, the anodizing treatment is sped up, and furthermore, the anodizing in the treatment tank is performed. By performing the above-mentioned processing in the state where the work is immersed in the processing liquid, the work need not be sealed.

【0025】上記請求項6記載の方法及び請求項12記
載の装置によれば、ワーク内をめっき液が流動すること
により、高速めっきが行なわれ、しかも、構造が合理化
され、ワークのシール及びワークに対する給電部の接続
等の準備作業が簡単になる。
According to the method of claim 6 and the apparatus of claim 12, high-speed plating is performed by flowing the plating solution in the work, and the structure is rationalized. This simplifies the preparation work such as connecting the power supply unit to the.

【0026】[0026]

【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0027】図1は、めっき処理システム全体の概略を
示している。このめっき処理システムにおいては、各種
前処理のための処理部A〜Dと、めっき処理部Eと、乾
燥部Fとが作業順序に対応する配列でめっき処理ライン
に沿って配設されている。具体的には、脱脂処理部A、
アルカリエッチング処理部B、混酸エッチング処理部
C、アルマイト処理部D、めっき処理部E及び乾燥部F
がこの順序に配設されている。上記各処理部A〜Eには
それぞれ、処理槽A1〜E1が設けられるとともに、処
理液回収並びに水洗用の適宜数の槽A2〜E2が付属し
ている。さらに、上記各処理部A〜Eに対し、その処理
槽に処理液もしくは原液を供給するタンク(図1では図
示せず)が配置されている。
FIG. 1 shows an outline of the entire plating processing system. In this plating system, processing sections A to D for various pretreatments, a plating processing section E, and a drying section F are arranged along the plating processing line in an array corresponding to the work order. Specifically, the degreasing processing unit A,
Alkali etching processing section B, mixed acid etching processing section C, alumite processing section D, plating processing section E and drying section F
Are arranged in this order. The processing sections A to E are respectively provided with processing tanks A1 to E1 and an appropriate number of tanks A2 to E2 for collecting the processing solution and washing with water. Further, a tank (not shown in FIG. 1) for supplying a processing solution or a stock solution to the processing tank is arranged for each of the processing sections A to E.

【0028】また、めっき処理ラインの始端側にはワー
ク投入部3が設けられ、めっき処理ラインの終端側には
ワーク搬出部4が設けられている。搬送ラインの上方に
は、ワークWを搬送ラインにわたって搬送するワーク搬
送手段5が装備されている。
A work input part 3 is provided on the start end side of the plating processing line, and a work unloading part 4 is provided on the end end side of the plating processing line. Work transfer means 5 for transferring the work W along the transfer line is provided above the transfer line.

【0029】図2は、上記のようなめっき処理システム
に適用される本発明の表面処理装置の第1の実施例を示
している。本実施例の装置は、めっき処理部Eに用いら
れ、中空状のワークの内面にめっきを施すものである。
この図に示す装置は、モータサイクル用2サイクルエン
ジンのシリンダブロックをワークW1とする場合に適用
される構造となっており、このワークW1は、上下両側
に開口するシリンダボアW11を有するとともに、この
シリンダボアW11に連通してシリンダブロック外側面
に開口する排気ポートW12及び掃気ポートW13を有
している。
FIG. 2 shows a first embodiment of the surface treatment apparatus of the present invention applied to the plating treatment system as described above. The apparatus according to the present embodiment is used in the plating processing section E and performs plating on the inner surface of a hollow work.
The apparatus shown in this figure has a structure applied when a cylinder block of a two-cycle engine for a motorcycle is used as a work W1, and this work W1 has cylinder bores W11 that are open on both upper and lower sides, and It has an exhaust port W12 and a scavenging port W13 which communicate with W11 and open to the outer surface of the cylinder block.

【0030】この図において、10は処理槽であり、図
1中のめっき処理部Eにおける処理槽E1に相当する。
この処理槽10は、ワークW1を収容することのできる
適度の大きさに形成され、かつ、めっき液Lを貯留し得
るようになっている。この処理槽10の底部には、上記
ワークW1を設置するワーク設置部11が設けられてい
る。
In this figure, 10 is a processing tank, which corresponds to the processing tank E1 in the plating processing section E in FIG.
The processing tank 10 is formed to have an appropriate size capable of accommodating the work W1 and can store the plating solution L therein. At the bottom of the processing tank 10, a work setting section 11 for setting the work W1 is provided.

【0031】上記ワーク設置部11の下方には、処理槽
10の底部に沿った横方向の通路からなる液流入部13
が形成されており、この液流入部13に連通する連通孔
13aがワーク設置部11の中央部に開口し、ワーク設
置部11上にワークW1が設置されたときに上記液流入
部13とワークW1のシリンダボアW11とが連通孔1
3aを介して連通するようになっている。上記液流入部
13は、液供給管21を介してめっき液送給用のポンプ
22に接続され、このポンプ22はめっき液貯蔵タンク
20に接続されている。上記液供給管21には、流量調
節用のバルブ23が介設されている。
Below the work setting section 11, a liquid inflow section 13 formed of a lateral passage along the bottom of the processing tank 10.
Is formed, a communication hole 13a communicating with the liquid inflow portion 13 is opened in the center of the work setting portion 11, and when the work W1 is installed on the work setting portion 11, the liquid inflow portion 13 and the work Communication hole 1 with cylinder bore W11 of W1
It is designed to communicate via 3a. The solution inflow part 13 is connected to a plating solution feed pump 22 via a solution supply pipe 21, and the pump 22 is connected to a plating solution storage tank 20. A valve 23 for adjusting the flow rate is provided in the liquid supply pipe 21.

【0032】また、上記処理槽10には電極12が取り
付けられている。この電極12は、筒状に形成され、上
記液流入部13及び連通孔13aを突き抜けてワーク設
置部11の上方に突出した状態で、下端部が処理槽10
の下部に固定されている。そして、ワーク設置部11上
にワークW1が設置されたときに、ワークW1のシリン
ダボアW11内に電極12が位置し、この状態で、電極
12の外周面とシリンダボアW11の周面との間の空間
部が上記液流入部13に連通するようになっている。上
記電極12の中空部の下端部には、処理槽10の下方に
開口する液流出部14が形成され、この液流出部14は
液回収管24に接続されており、この液回収管24の下
流端側はめっき液貯蔵タンク20に達している。
An electrode 12 is attached to the processing tank 10. The electrode 12 is formed in a tubular shape, and the lower end of the electrode 12 protrudes above the work setting part 11 through the liquid inflow part 13 and the communication hole 13 a, and the lower end part thereof is the processing tank 10.
It is fixed at the bottom of. Then, when the work W1 is installed on the work setting part 11, the electrode 12 is located in the cylinder bore W11 of the work W1, and in this state, the space between the outer peripheral surface of the electrode 12 and the peripheral surface of the cylinder bore W11. The part communicates with the liquid inflow part 13. At the lower end of the hollow portion of the electrode 12, a liquid outflow portion 14 that opens below the processing tank 10 is formed. The liquid outflow portion 14 is connected to a liquid recovery pipe 24. The downstream end reaches the plating solution storage tank 20.

【0033】上記処理槽10の上端部には、この処理槽
10を密閉するための蓋部材15が装備されている。こ
の蓋部材15は処理槽10に対して開閉可能とされ、例
えば、処理槽10を支持する支持フレーム10aに図外
のヒンジ等を介して取り付けられることにより、処理槽
10を蓋閉する状態と開放する状態とにわたって回動可
能とされている。この蓋部材15に対して蓋押えシリン
ダ16が装備され、この蓋押えシリンダ16は、蓋部材
15が蓋閉状態となったときに、枠体16aを介して蓋
部材15を上方から押圧することにより、処理槽10の
上端縁部に蓋部材15を密着させるようになっている。
A lid member 15 for sealing the processing bath 10 is provided at the upper end of the processing bath 10. The lid member 15 can be opened and closed with respect to the processing tank 10. For example, the lid member 15 is attached to a support frame 10a supporting the processing tank 10 via a hinge or the like (not shown) to close the processing tank 10. It is rotatable in the open state. A lid pressing cylinder 16 is provided for the lid member 15, and the lid pressing cylinder 16 pushes the lid member 15 from above via the frame body 16a when the lid member 15 is in the lid closed state. Thus, the lid member 15 is brought into close contact with the upper edge of the processing tank 10.

【0034】また、上記蓋部材15には、その上側に給
電シリンダ18が取付けられており、この給電シリンダ
18のロッド18aが蓋部材15を貫通してその下方に
突出し、このロッド18aの先端に導電体からなる板状
の給電部材17が取付けられている。そして、上記処理
槽10内にワークW1が設置され、かつ蓋部材15が処
理槽10を密閉する状態にされたときに、上記給電シリ
ンダ18が作動されることにより上記給電部材17がワ
ークW1の上端に圧接されるようになっている。なお、
上記給電シリンダ18のロッド18aが蓋部材15を貫
通する部分には、この部分をシールするシール押え板1
9が設けられている。
Further, a power feeding cylinder 18 is attached to the upper side of the lid member 15, and a rod 18a of the power feeding cylinder 18 penetrates through the lid member 15 and projects downward, and at the tip of the rod 18a. A plate-shaped power supply member 17 made of a conductor is attached. Then, when the work W1 is installed in the processing tank 10 and the lid member 15 is in a state of sealing the processing tank 10, the power feeding cylinder 18 is operated to cause the power feeding member 17 to move to the work W1. It is designed to be pressed against the upper end. In addition,
At the portion where the rod 18a of the power feeding cylinder 18 penetrates the lid member 15, the seal pressing plate 1 for sealing this portion is formed.
9 is provided.

【0035】上記給電部材17は、上記ロッド18a及
びシール押え板19を介し、通電回路における整流器2
5のマイナス側に接続され、一方、上記電極12は、整
流器25のプラス側に接続されている。
The power feeding member 17 is provided with the rectifier 2 in the energizing circuit via the rod 18a and the seal holding plate 19.
5 is connected to the negative side of the rectifier 25, while the electrode 12 is connected to the positive side of the rectifier 25.

【0036】この装置を用いた表面処理方法を、次に説
明する。
A surface treatment method using this apparatus will be described below.

【0037】めっき処理にあたっては、予め上記蓋部材
15が開かれた状態で、ワークW1が上方から上記処理
槽10内に搬入され、上記ワーク設置部11上に設置さ
れる。そして、蓋部材15が蓋閉状態とされるととも
に、上記蓋押えシリンダ16が作動されることにより、
処理槽10の上端部が密閉され、さらに、上記給電シリ
ンダ18が作動されることにより、給電部材17がワー
クWの上端に圧接する状態とされる。
In the plating process, the work W1 is loaded into the processing tank 10 from above with the lid member 15 opened in advance, and set on the work setting section 11. Then, the lid member 15 is closed and the lid pressing cylinder 16 is operated,
The upper end of the processing tank 10 is hermetically sealed, and the power supply cylinder 18 is operated to bring the power supply member 17 into pressure contact with the upper end of the work W.

【0038】このような状態とされてから、上記ポンプ
22が作動されることにより、めっき液Lがめっき液貯
蔵タンク20から液供給管21を通して液流入部13へ
送られ、さらにこのめっき液Lが上記連通孔13aを通
ってワークW1のシリンダボアW11内に流入する。
After the above state, the pump 22 is operated to send the plating solution L from the plating solution storage tank 20 to the solution inflow portion 13 through the solution supply pipe 21, and further the plating solution L. Flows into the cylinder bore W11 of the work W1 through the communication hole 13a.

【0039】この際、上記処理槽10は、予め空の状態
であってもよいし、ある程度めっき液Lが貯えられてい
てもよい。いずれにしても、処理槽10にめっき液Lが
充満する状態に至るまでは、シリンダボアW11内に流
入しためっき液Lの一部が図2中に破線矢印で示すよう
に排気ポートW12や掃気ポートW13から処理槽10
に流出するが、めっき液Lの供給が続けられることによ
って処理槽10内にめっき液Lが充満する状態に至る
と、各ポートW11,W12からのめっき液Lの流出が
生じなくなり、シリンダボアW11内に流入しためっき
液の全量が圧力の低い液流出部14へ流れる。
At this time, the processing tank 10 may be empty in advance, or the plating solution L may be stored to some extent. In any case, until the treatment tank 10 is filled with the plating solution L, part of the plating solution L that has flowed into the cylinder bore W11 is an exhaust port W12 or a scavenging port as shown by a dashed arrow in FIG. Treatment tank 10 from W13
However, when the plating solution L is filled in the processing tank 10 by continuing the supply of the plating solution L, the plating solution L does not flow out from the ports W11 and W12, and the inside of the cylinder bore W11 is stopped. The entire amount of the plating solution that has flowed into the tank flows into the solution outlet section 14 where the pressure is low.

【0040】つまり、蓋部材15で密閉された処理槽1
0にめっき液Lが充満して、このめっき液LにワークW
1が漬浸されている状態では、めっき液流入部13に送
り込まれためっき液Lが、図2中に実線矢印で示すよう
に、電極12の外周面とシリンダボアW11の周面との
間を通り、シリンダボアW11の上端付近で電極12の
内部へ流れ込み、電極12の下方の液流出部14から流
出する。そして、このようにめっき液Lが流動されつ
つ、上記電極12を陽極、ワークW1を陰極としてこれ
らに通電されることにより、高速めっきが行なわれる。
That is, the processing tank 1 sealed with the lid member 15
0 is filled with the plating solution L, and the plating solution L is filled with the work W.
In the state where 1 is soaked, the plating solution L fed into the plating solution inflow portion 13 is between the outer peripheral surface of the electrode 12 and the peripheral surface of the cylinder bore W11, as indicated by the solid line arrow in FIG. As such, it flows into the inside of the electrode 12 near the upper end of the cylinder bore W11 and flows out from the liquid outflow portion 14 below the electrode 12. Then, while the plating solution L is flowing as described above, the electrodes 12 are used as an anode and the work W1 is used as a cathode to energize them, thereby performing high-speed plating.

【0041】この方法によると、上記各ポートW12,
W13をシールする必要がなく、また、シリンダボアW
1の上端も完全なシールを行う必要はない。従って、シ
リンダボアW1及びポートW12,W13等をシールす
るためのシール装置及びそのシール作業が省略され、構
造及び準備作業が簡略化されるとともに、シール不良に
よるめっき液の飛散等トラブルを招くことがない。しか
も、各ポートW12,W13をシールした場合と同等
に、シリンダボアW11の周面と電極12との間のめっ
き液Lの流動が良好に行なわれ、効果的に高速めっきが
行なわれる。
According to this method, each port W12,
It is not necessary to seal W13, and the cylinder bore W
The upper end of 1 does not have to be completely sealed. Therefore, the sealing device for sealing the cylinder bore W1 and the ports W12, W13 and the like and the sealing work thereof are omitted, the structure and the preparatory work are simplified, and troubles such as splashing of the plating solution due to defective sealing are not caused. . Moreover, as in the case where the ports W12 and W13 are sealed, the plating solution L flows well between the peripheral surface of the cylinder bore W11 and the electrode 12, and high-speed plating is effectively performed.

【0042】図3は第1の実施例の変更例として、自動
車用の4サイクル多気筒直列型エンジンのシリンダブロ
ックをワークW2とする場合に適用される装置を示して
いる。
FIG. 3 shows, as a modification of the first embodiment, an apparatus applied when a cylinder block of a four-cycle multi-cylinder in-line engine for an automobile is used as a work W2.

【0043】この図に示す装置も、処理槽30を備え、
その底部のワーク設置部31の下方にめっき液流入部3
3が形成されるとともに、筒状の電極32が処理槽30
に取り付けられているが、電極32は上記ワークW2の
各シリンダボアW21に対応する配列で複数配設されて
いる。具体的には、ワークW2が4気筒のシリンダブロ
ックである場合に、その各シリンダボアW21に対応す
るように4個の電極32が所定間隔おきに配列されてお
り、各電極32の下端部は、導電体を介して互いに電気
的に接続された状態で、処理槽30に固定されている。
The apparatus shown in this figure also includes a processing tank 30,
The plating solution inflow part 3 is provided below the work setting part 31 at the bottom thereof.
3 is formed, and the cylindrical electrode 32 is disposed in the processing tank 30.
A plurality of electrodes 32 are arranged in an array corresponding to each cylinder bore W21 of the work W2. Specifically, when the work W2 is a cylinder block of four cylinders, four electrodes 32 are arranged at predetermined intervals so as to correspond to each cylinder bore W21, and the lower end of each electrode 32 is It is fixed to the processing bath 30 while being electrically connected to each other via a conductor.

【0044】上記液流入部33は、ワーク設置部31の
下方において、電極32の配設部分にわたって横方向に
延びている。また、ワークW2の各シリンダボアW21
に対応する位置にそれぞれ、上記液流入部33に連通し
てワーク設置部31に開口する連通孔33aが設けら
れ、上記各電極32が液流入部33及び各連通孔33a
を突き抜けてワーク設置部31の上方に突出することに
より、ワーク設置部31上にワークW2が設置されたと
きに、ワークW2の各シリンダボアW21が連通孔33
aを介して液流入部33に連通するとともに、各シリン
ダボアW21内にそれぞれ電極32が位置するようにな
っている。各電極32の中空部の下端には液流出部34
が形成されている。
The liquid inflow portion 33 extends laterally below the work setting portion 31 over the portion where the electrode 32 is disposed. Also, each cylinder bore W21 of the work W2
Communication holes 33a communicating with the liquid inflow portion 33 and opening to the work setting portion 31 are provided at the positions corresponding to, respectively, and the electrodes 32 are connected to the liquid inflow portion 33 and the communication holes 33a.
When the work W2 is installed on the work installation part 31, the cylinder bores W21 of the work W2 are connected to the communication holes 33 by penetrating through the holes and protruding above the work installation part 31.
The electrode 32 communicates with the liquid inflow portion 33 via a, and the electrode 32 is located in each cylinder bore W21. A liquid outflow portion 34 is provided at the lower end of the hollow portion of each electrode 32.
Are formed.

【0045】そして、図2の装置と同様に、液流入部3
3とめっき液貯蔵タンク20との間に液供給管21、ポ
ンプ22及びバルブ23が配設されるとともに、液流出
部34とめっき液貯蔵タンク20との間にめっき液排出
管24が配設されている。また、上記処理槽30の上端
部を密閉するための蓋部材35及び蓋押えシリンダ36
が設けられるとともに、蓋部材35に給電シリンダ3
8、給電部材37等が装備され、給電部材37及び電極
32が整流器25に接続されるようになっている点も図
2の装置と同様である。
Then, as in the apparatus of FIG. 2, the liquid inflow portion 3
3 and the plating solution storage tank 20 are provided with a solution supply pipe 21, a pump 22 and a valve 23, and a plating solution discharge pipe 24 is provided between the solution outflow portion 34 and the plating solution storage tank 20. Has been done. Further, a lid member 35 and a lid pressing cylinder 36 for sealing the upper end of the processing tank 30.
Is provided, and the power supply cylinder 3 is attached to the lid member 35.
8, the power supply member 37 and the like are provided, and the power supply member 37 and the electrode 32 are connected to the rectifier 25, which is also similar to the device of FIG.

【0046】図4は第1の実施例の別の変更例として、
V型エンジンのシリンダブロックをワークW3とする場
合に適用される装置を示している。
FIG. 4 shows another modification of the first embodiment.
The apparatus applied when the cylinder block of a V-type engine is used as the work W3 is shown.

【0047】この図に示す装置も、処理槽40を備え、
その底部のワーク設置部41の下方にめっき液流入部4
3が形成されているが、V形に一対のバンクを有するワ
ークW3が両バンクのヘッド側を下に向けた状態でワー
ク設置部41に設置され、この状態でワークW3の両バ
ンクの各シリンダボアW31がめっき液流入部43に連
通するように、ワーク設置部41及びめっき液流入部4
3が形成されている。
The apparatus shown in this figure also includes a processing tank 40,
The plating solution inflow part 4 is provided below the work setting part 41 at the bottom thereof.
3 is formed, the work W3 having a pair of V-shaped banks is installed in the work setting part 41 with the head side of both banks facing downward, and in this state, the cylinder bores of both banks of the work W3 are formed. The work setting part 41 and the plating solution inflow part 4 so that the W31 communicates with the plating solution inflow part 43.
3 is formed.

【0048】また、ワークW3の各シリンダボアW41
に対応する複数の電極42が配備され、具体的には電極
42が左右2列に配列され、ワーク設置部41にワーク
W3が設置されたときに電極42が下方からワークW3
の各シリンダボアW31に挿入されるようになってい
る。各電極42の中空部の下端には液流出部44が形成
されている。
Further, each cylinder bore W41 of the work W3
A plurality of electrodes 42 corresponding to the electrodes are arranged. Specifically, the electrodes 42 are arranged in two rows on the left and right.
Is inserted into each cylinder bore W31. A liquid outflow portion 44 is formed at the lower end of the hollow portion of each electrode 42.

【0049】そして、図2の装置と同様に、液流入部4
3とめっき液貯蔵タンク20との間に液供給管21、ポ
ンプ22及びバルブ23が配設されるとともに、液流出
部44とめっき液貯蔵タンク20との間にめっき液排出
管24が配設されている。また、上記処理槽30の上端
部を密閉するための蓋部材45及び蓋押えシリンダ46
が設けられるとともに、蓋部材45に給電シリンダ4
8、給電部材47等が装備され、給電部材47及び電極
42が整流器25に接続されるようになっている点も図
2の装置と同様である。
Then, as in the apparatus of FIG. 2, the liquid inflow portion 4
3 and the plating solution storage tank 20 are provided with a solution supply pipe 21, a pump 22 and a valve 23, and a plating solution discharge pipe 24 is provided between the solution outflow portion 44 and the plating solution storage tank 20. Has been done. Further, a lid member 45 and a lid pressing cylinder 46 for sealing the upper end of the processing tank 30.
Is provided, and the power supply cylinder 4 is attached to the lid member 45.
8, the power feeding member 47 and the like are provided, and the power feeding member 47 and the electrode 42 are connected to the rectifier 25, which is also similar to the device of FIG.

【0050】上記の図3に示す装置や図4に示す装置に
よる場合でも、ワークW2またはW3が処理槽30,4
0内に設置されるとともに、蓋部材35,45によって
処理槽30,40が密閉された状態で、上記ポンプ22
により送給されためっき液LがワークW2,W3のシリ
ンダボア内に送り込まれて、めっき液Lが流動されつ
つ、電極32,42とワークW2,W3とに通電される
ことにより、高速めっきが行なわれる。そして、ワーク
W2,W3のシリンダボアW21,W31を個々にシー
ルする必要がなく、シール装置及びシール作業が簡略化
される。
Even when the apparatus shown in FIG. 3 or the apparatus shown in FIG. 4 is used, the work W2 or W3 is treated in the processing tanks 30 and 4.
0, while the processing tanks 30 and 40 are sealed by the lid members 35 and 45, the pump 22
The plating solution L fed by means of is fed into the cylinder bores of the works W2, W3, and while the plating solution L is flowing, the electrodes 32, 42 and the works W2, W3 are energized to perform high-speed plating. Be done. Further, it is not necessary to individually seal the cylinder bores W21 and W31 of the works W2 and W3, and the sealing device and the sealing work are simplified.

【0051】次に、本発明の表面処理装置の第2の実施
例を、図5〜図7によって説明する。これらの図に示す
装置もめっき処理部に用いられ、ワークのシリンダボア
周面にめっきを施すものであって、処理槽内のめっき液
中にワークを漬浸させた状態でめっき液を流動させるよ
うになっているが、めっき液を流動させる手法として、
ワークのシリンダボアに下方からめっき液を送り込む一
方、上方から強制的にめっき液を吸い出すように構成さ
れている。
Next, a second embodiment of the surface treatment apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS. The equipment shown in these figures is also used in the plating process part to perform plating on the cylinder bore peripheral surface of the work, and to make the plating solution flow while the work is immersed in the plating solution in the processing tank. However, as a method of flowing the plating solution,
The plating solution is sent from below into the cylinder bore of the work, while the plating solution is forced out from above.

【0052】図5は、第2の実施例の一具体例として、
モータサイクル用2サイクルエンジンのシリンダブロッ
クをワークW1とする場合に適用される構造を示してい
る。この図に示す装置は、予め所定量のめっき液を貯留
した処理槽50を備えており、ワークW1がこの処理槽
50内のめっき液Lに漬浸された状態で、ワーク支持部
材(ワーク設置部)51に支持されて処理槽50内の所
定高さ位置に設置されるようになっている。また、この
処理槽50には、ワーク設置時にそのシリンダボアW1
1に突入する電極52が設けられるとともに、液流入部
53及び液流出部54が設けられている。
FIG. 5 shows a specific example of the second embodiment.
The structure applied when the cylinder block of the two-cycle engine for motorcycles is made into the work W1 is shown. The apparatus shown in this figure is equipped with a processing tank 50 in which a predetermined amount of plating solution is stored in advance. When the work W1 is immersed in the plating solution L in the processing tank 50, the work supporting member (work setting) is installed. Part 51 and is installed at a predetermined height position in the processing tank 50. Further, in the processing tank 50, when the work is installed, the cylinder bore W1
1 is provided with an electrode 52 that rushes in, and a liquid inflow portion 53 and a liquid outflow portion 54 are provided.

【0053】上記液流入部53は、処理槽50内の下部
に配置され、下流端部が上向き開口し、上流側がパイプ
56を介してめっき液送給用のポンプ55の吐出側に接
続されている。そして、処理槽内の所定高さ位置にワー
クが保持されたときに、上記液流入部53がワークW1
のシリンダボアW11の直下に位置し、シリンダボアW
11の下端開口部に対向してめっき液中に開口するよう
になっている。
The liquid inflow part 53 is arranged in the lower part of the processing tank 50, the downstream end is opened upward, and the upstream side is connected via a pipe 56 to the discharge side of a plating liquid feeding pump 55. There is. Then, when the work is held at a predetermined height position in the processing tank, the liquid inflow portion 53 causes the work W1 to move.
Located directly under the cylinder bore W11 of
The lower end of 11 is opened in the plating solution.

【0054】一方、上記液流出部54は、処理槽50内
の上部に配置され、上流端部が下向きに開口し、下流側
がパイプ57を介して上記ポンプ55の吸入側に接続さ
れている。そして、処理槽50内の所定高さ位置にワー
クW1が保持されたときに、上記液流出部54がワーク
W1のシリンダボアW11の直上に位置し、シリンダボ
アW11の上端開口部に対向してめっき液中に開口する
ようになっている。なお、上記液流出部54は、処理槽
に対するワークW1の搬入、搬出時には、ワークW1に
対応する位置から待避することができるようになってい
る。
On the other hand, the liquid outflow portion 54 is arranged in the upper part of the processing tank 50, the upstream end portion is opened downward, and the downstream side is connected to the suction side of the pump 55 through the pipe 57. Then, when the work W1 is held at a predetermined height position in the processing tank 50, the liquid outflow portion 54 is located immediately above the cylinder bore W11 of the work W1 and faces the upper end opening of the cylinder bore W11. It is designed to open inside. The liquid outflow portion 54 can be retracted from a position corresponding to the work W1 when the work W1 is carried in and out of the processing tank.

【0055】また、上記ワークW1は適宜の給電部材を
介して整流器のマイナス側に接続され、電極52は整流
器のプラス側に接続されるが、これらワーク及び電極に
対する通電部分については図示を省略している。
The work W1 is connected to the minus side of the rectifier via an appropriate power feeding member, and the electrode 52 is connected to the plus side of the rectifier. ing.

【0056】本実施例によると、ワークW1が処理槽5
0内のめっき液L中に漬浸された状態で、上記ポンプ5
5によって圧送されためっき液Lが液流入部53の下流
端側開口部からワークW1のシリンダボアW11内に送
り込まれるとともに、シリンダボアW11内を流通した
めっき液Lが上方へ流出する。そして、シリンダボアW
11から流出するめっき液Lは、上記液流出部54から
ポンプ55の吸入側へ強制的に吸入され、ポンプ55と
ワークW1との間でめっき液Lが循環する。
According to this embodiment, the work W1 is the processing tank 5
In the state of being immersed in the plating solution L in 0, the pump 5
The plating solution L pumped by 5 is sent into the cylinder bore W11 of the workpiece W1 through the downstream end opening of the solution inflow section 53, and the plating solution L flowing through the cylinder bore W11 flows out upward. And the cylinder bore W
The plating solution L flowing out of 11 is forcibly sucked into the suction side of the pump 55 from the solution outflow portion 54, and the plating solution L circulates between the pump 55 and the work W1.

【0057】このように、ワークW1のシリンダボアW
11に対して一方からめっき液Lが吸入されるとともに
他方からめっき液Lが強制的に吸い出されることによ
り、シリンダボアW11の開口部分がシールされていな
くても、シリンダボアW11内のめっき液の流動性が高
められる。従って、高速めっきが良好に行なわれるもの
でありながら、シリンダボアW11及びポートW12,
W13等をシールするためのシール装置及びそのシール
作業が省略され、構造及び作業が簡略化され、また、ワ
ークW1がめっき液L中に漬浸されていることにより、
めっき液の飛散が防止されることとなる。
In this way, the cylinder bore W of the work W1
11, the plating solution L is sucked from one side and the plating solution L is forcedly sucked from the other side, so that the plating solution flows in the cylinder bore W11 even if the opening portion of the cylinder bore W11 is not sealed. The nature is enhanced. Therefore, although the high speed plating is performed well, the cylinder bore W11 and the port W12,
A sealing device for sealing W13 and the like and its sealing work are omitted, the structure and the work are simplified, and the work W1 is immersed in the plating solution L,
Scattering of the plating solution will be prevented.

【0058】さらに本実施例の装置では、第1の実施例
と比べて電極52の形状が簡略化されるという利点があ
る。すなわち、第1の実施例の装置ではシリンダボア内
の流入しためっき液が電極の内部を通って流出部に流れ
るように電極を筒状に形成しているが、本実施例の装置
ではめっき液がシリンダボアに一端側から流入して他端
側へ流出するようになっているため、電極を筒状にする
必要がなく、電極の成形が容易になる。
Further, the device of this embodiment has an advantage that the shape of the electrode 52 is simplified as compared with the first embodiment. That is, in the apparatus of the first embodiment, the electrode is formed in a tubular shape so that the plating solution that has flowed into the cylinder bore flows through the inside of the electrode to the outflow portion. Since it is designed to flow into the cylinder bore from one end side and flow out to the other end side, it is not necessary to form the electrode into a tubular shape, and the electrode can be easily molded.

【0059】図6は第2の実施例の変形例として、自動
車用の4サイクル多気筒直列型エンジンのシリンダブロ
ックをワークW2とする場合に適用される構造を示して
いる。この図に示す装置も、処理槽60、電極62、液
流入部63、液流出部64、ポンプ65等を備え、上記
液流入部63及び液流出部64がパイプ66,67を介
してポンプ65に接続されている。そして、上記電極6
2が上記ワークW2の各シリンダボアW21に対応した
配列で複数配設されるとともに、液流入部63及び液流
出部64が上記各シリンダボアW21に対応する複数個
所に開口しているが、このようなワークW2に対応した
変更以外は、図5に示す装置と同様の構成となってい
る。
FIG. 6 shows, as a modification of the second embodiment, a structure applied when a cylinder block of a four-cycle multi-cylinder in-line engine for an automobile is used as a work W2. The apparatus shown in this figure also includes a processing tank 60, an electrode 62, a liquid inflow portion 63, a liquid outflow portion 64, a pump 65, etc., and the liquid inflow portion 63 and the liquid outflow portion 64 are pumped by a pump 65 via pipes 66, 67. It is connected to the. Then, the electrode 6
2 are arranged in an array corresponding to each cylinder bore W21 of the work W2, and the liquid inflow portion 63 and the liquid outflow portion 64 are open at a plurality of locations corresponding to each cylinder bore W21. Except for the change corresponding to the work W2, the device has the same configuration as the device shown in FIG.

【0060】図7は第2の実施例の別の変更例として、
V型エンジンのシリンダブロックをワークW3とする場
合に適用される構造を示している。この図に示す装置
も、処理槽70、電極72、液流入部73、液流出部7
4、ポンプ75等を備え、上記液流入部73及び液流出
部74がパイプ76,77を介してポンプ75に接続さ
れている。そして、上記電極72が上記ワークW3の両
バンクの各シリンダボアW31に対応するように2列に
配設されるとともに、液流入部73及び液流出部74が
上記両バンクの各シリンダボアW31に対応する位置に
それぞれ開口しているが、このようなワークW3に対応
した変更以外は、図5に示す装置と同様の構成となって
いる。
FIG. 7 shows another modification of the second embodiment.
The structure applied when the cylinder block of a V-type engine is used as the work W3 is shown. The apparatus shown in this figure also includes a processing tank 70, an electrode 72, a liquid inflow portion 73, and a liquid outflow portion 7.
4, a pump 75 and the like, and the liquid inflow portion 73 and the liquid outflow portion 74 are connected to the pump 75 via pipes 76 and 77. The electrodes 72 are arranged in two rows so as to correspond to the cylinder bores W31 of both banks of the work W3, and the liquid inflow portion 73 and the liquid outflow portion 74 correspond to the cylinder bores W31 of both banks. Although the openings are provided at the respective positions, the configuration is the same as that of the apparatus shown in FIG. 5, except for the change corresponding to the work W3.

【0061】図6、図7に示す装置による場合も、図5
に示す装置による場合と同様の方法でめっき処理が行な
われる。
Also in the case of the apparatus shown in FIGS. 6 and 7, FIG.
The plating process is performed in the same manner as in the case of the apparatus shown in FIG.

【0062】次に、本発明の表面処理装置の第3の実施
例を図8によって説明する。この実施例の装置は、第
1,第2の実施例のように処理槽内のめっき液にワーク
を漬浸させるものではなく、ワークの筒状部分の上端を
シールした状態で高速めっきを行なうものであるが、そ
のシール部分とワークに対する給電部及び電極の構造を
合理化することにより、装置の構造及びめっきのための
準備作業の簡略化を図っており、解決しようとする技術
的課題が第1,第2の実施例と共通するものである。
Next, a third embodiment of the surface treatment apparatus of the present invention will be described with reference to FIG. The apparatus of this embodiment does not immerse the work in the plating solution in the processing tank as in the first and second embodiments, but performs high-speed plating with the upper end of the cylindrical portion of the work sealed. However, the structure of the equipment and the preparation work for plating are simplified by rationalizing the structure of the power supply part and the electrode for the seal part and the work, and the technical problem to be solved is the first. This is common to the first and second embodiments.

【0063】この図に示すめっき装置は、めっき処理部
に設けられてワークW4を支持する処理装置本体80
と、この処理装置本体80上に設置されるワークW4の
上端に結合される押え蓋84とを備えている。
The plating apparatus shown in this figure is a processing apparatus main body 80 that is provided in the plating processing section and supports the work W4.
And a pressing lid 84 coupled to the upper end of the work W4 installed on the processing apparatus body 80.

【0064】上記処理装置本体80は、上面にワーク設
置部81を有し、このワーク設置部81上にワークW4
が設置されるようになっている。このワーク設置部W4
の下方に、横方向の通路からなる液流入部83が形成さ
れ、この液流入部83に連通する連通孔83aがワーク
設置部81に上方へ向けて開口している。上記ワークW
4は、例えば4サイクルエンジンのシリンダブロックで
あって、上下に開口するシリンダボアW41を有してお
り、このワークW4が上記ワーク設置部81上に設置さ
れたときに、上記液流入部83とワークW4のシリンダ
ボアW41とが上記連通孔83aを介して連通するよう
になっている。上記液流入部83は、流量調整用のバル
ブ23を有する液供給管21を介してめっき液送給用の
ポンプ22に接続され、このポンプ22はめっき液貯蔵
タンク20に接続されている。
The processing apparatus main body 80 has a work setting section 81 on the upper surface, and the work W4 is placed on the work setting section 81.
Is to be installed. This work setting part W4
A liquid inflow portion 83 formed of a lateral passage is formed below, and a communication hole 83a communicating with the liquid inflow portion 83 is opened upward in the work setting portion 81. Work W above
Reference numeral 4 denotes, for example, a cylinder block of a four-cycle engine, which has a cylinder bore W41 that opens up and down. When the work W4 is installed on the work installation section 81, the liquid inflow section 83 and the work The cylinder bore W41 of W4 communicates with the communication hole 83a. The liquid inflow portion 83 is connected to a pump 22 for feeding the plating solution via a liquid supply pipe 21 having a valve 23 for adjusting the flow rate, and the pump 22 is connected to the plating solution storage tank 20.

【0065】また、上記処理装置本体80には電極82
が取付けられている。この電極82は、棒状に形成さ
れ、上記液流入部83及び連通孔83aを突き抜けてワ
ーク設置部81の上方に突出した状態で、下端部が処理
装置本体80の下部に固定されており、ワーク設置部8
1上にワークW4が設置されたときにワークW4のシリ
ンダボアW41内に電極82が位置するようになってい
る。
Further, an electrode 82 is provided on the main body 80 of the processing apparatus.
Is installed. The electrode 82 is formed in a rod shape, and the lower end thereof is fixed to the lower portion of the processing apparatus main body 80 in a state of penetrating through the liquid inflow portion 83 and the communication hole 83a and protruding above the work setting portion 81. Installation section 8
When the work W4 is installed on the work 1, the electrode 82 is positioned in the cylinder bore W41 of the work W4.

【0066】一方、上記押え蓋84は、その下面側にワ
ークの上端に対する当接面を有し、上記ワーク設置部8
1上にワークW4が設置された状態においてこのワーク
W4上にセットされ、かつ、蓋押えシリンダ85によっ
て上方から押圧されることによりワークW4の上端に密
着し、シリンダボアW41の上端開口部の周辺をシール
するようになっている。
On the other hand, the pressing lid 84 has a contact surface on the lower surface side for the upper end of the work, and the work setting portion 8 is provided.
When the work W4 is installed on the work W1, the work W4 is set on the work W4 and is pressed from above by the lid pressing cylinder 85 so that the work W4 comes into close contact with the upper end of the work W4 and closes the periphery of the upper end opening of the cylinder bore W41. It is designed to be sealed.

【0067】この押え蓋84には、下方に開口する液流
出部86が形成されており、押え蓋84がワークW4上
にセットされた状態において、上記液流出部86とワー
クW4のシリンダボアW41とが連通するようになって
いる。上記押え蓋84の側部には、上記液流出部86に
連通する導出管87が連設されている。この導出管87
は、押え蓋84の側方において下方に屈曲し、その下端
部が、液回収管88の上端に嵌合するようになってい
る。液回収管88の下端はめっき液貯蔵タンク20に達
している。
A liquid outflow portion 86 opening downward is formed in the holding lid 84. When the holding lid 84 is set on the work W4, the liquid outflow portion 86 and the cylinder bore W41 of the work W4 are connected to each other. Are communicating with each other. A lead-out pipe 87, which communicates with the liquid outflow portion 86, is connected to a side portion of the pressing lid 84. This outlet pipe 87
Is bent downward on the side of the pressing lid 84, and the lower end portion thereof is fitted to the upper end of the liquid recovery pipe 88. The lower end of the liquid recovery pipe 88 reaches the plating liquid storage tank 20.

【0068】さらに上記押え蓋84には、ワークW4に
対する給電部89が一体に設けられている。この給電部
89は、導電性材料からなり、押え蓋84の上面から液
流出部86の側方部を経て押え蓋84の下面に至る範囲
に設けられている。そして、ワークW4上に押え蓋84
がセットされたときに、上記給電部89がワークW4の
上端に当接するようになっている。
Further, the pressing lid 84 is integrally provided with a power feeding portion 89 for the work W4. The power feeding portion 89 is made of a conductive material and is provided in a range from the upper surface of the pressing lid 84 to the lower surface of the pressing lid 84 via the side portion of the liquid outflow portion 86. Then, the pressing lid 84 is placed on the work W4.
When the is set, the power feeding portion 89 comes into contact with the upper end of the work W4.

【0069】上記給電部89は、通電回路における整流
器25のマイナス側に接続され、一方、上記電極82
は、整流器25のプラス側に接続されている。
The feeding part 89 is connected to the minus side of the rectifier 25 in the energizing circuit, while the electrode 82 is connected.
Is connected to the positive side of the rectifier 25.

【0070】この装置を用いためっき処理の方法として
は、上記のように処理装置本体80上にワークW4が設
置されるとともにその上に押え蓋84がセットされた状
態で、上記ポンプ25が作動されることにより、めっき
液Lがめっき液貯蔵タンク20から液供給管21、液流
入部83および連通孔83aを通ってシリンダボアW4
1内に送り込まれる。そして、シリンダボアW41内を
流通しためっき液LはワークWの上方の押え蓋84に形
成された液流出部86から導出管87を経て液回収管8
8に流出する。このようにめっき液Lが流動されつつ、
上記電極82を陽極、ワークW4を陰極としてこれらに
通電されることにより、めっき処理が高速で行なわれ
る。
As a plating method using this apparatus, the pump 25 is operated while the work W4 is installed on the processing apparatus main body 80 and the pressing lid 84 is set on the work W4 as described above. As a result, the plating solution L passes from the plating solution storage tank 20 to the cylinder bore W4 through the solution supply pipe 21, the solution inflow portion 83, and the communication hole 83a.
It is sent within 1. Then, the plating solution L that has flowed through the cylinder bore W41 passes from the solution outflow portion 86 formed on the holding lid 84 above the work W through the outlet tube 87 to the solution recovery tube 8
Runs out to 8. While the plating solution L is flowing in this way,
The electrode 82 is used as an anode and the work W4 is used as a cathode to energize the electrodes, so that the plating process is performed at high speed.

【0071】とくに本実施例によると、シリンダボアW
41に下方の液流入部83から流入しためっき液Lが、
ワークW4の上方の押え蓋84に形成された液流出部8
6に流出するようになっているため、電極82を筒状に
してその内部に流路を形成するという必要がなく、電極
82の形状が簡略化されてその成形が容易になる。
In particular, according to this embodiment, the cylinder bore W
The plating liquid L that has flowed into the liquid 41 from the lower liquid inflow portion 83
Liquid outflow portion 8 formed on the holding lid 84 above the work W4
Since there is no need to form the electrode 82 into a cylindrical shape to form a flow path therein, the shape of the electrode 82 is simplified and its molding is facilitated.

【0072】さらに、上記蓋部材84に給電部89が一
体に設けられているため、蓋部材84をワークW4上に
セットしさえすれば、ワークW4のシリンダボアW41
のシールとワークW4に対する給電部89の接続とが一
度に行なわれ、めっき処理のための準備作業が簡単にな
る。
Further, since the power feeding portion 89 is integrally provided on the cover member 84, the cylinder bore W41 of the work W4 can be set as long as the cover member 84 is set on the work W4.
And the connection of the power feeding portion 89 to the work W4 are performed at one time, which simplifies the preparatory work for the plating process.

【0073】次に、本発明の表面処理装置の第4の実施
例を図9〜図11によって説明する。これらの図に示す
装置は、めっき処理システムにおける前処理部の一つで
あるアルマイト処理部に用いられ、ワークの筒状部分の
内面にアルマイト処理(陽極酸化処理)を施し、つまり
アルミ鋳造のシリンダブロックのシリンダボア周面に陽
極酸化皮膜を生成する処理を施すものである。この第4
の実施例の装置も、第1の実施例の装置や第2の実施例
の装置と同様に、処理槽内の処理液中にワークを漬浸さ
せた状態で処理液を流動させるようになっているが、ア
ルマイト処理の場合はめっき処理の場合ほどには処理液
の流動性の管理を高度に行なうことが要求されないた
め、第1の実施例の装置や第2の実施例の装置よりも簡
易な構造となっている。
Next, a fourth embodiment of the surface treatment apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS. The equipment shown in these figures is used in the alumite treatment part, which is one of the pretreatment parts in the plating system, and performs the alumite treatment (anodizing treatment) on the inner surface of the cylindrical part of the work, that is, the cylinder of aluminum casting. A process for forming an anodic oxide film is performed on the cylinder bore peripheral surface of the block. This 4th
Like the apparatus of the first embodiment and the apparatus of the second embodiment, the apparatus of the above embodiment also allows the processing liquid to flow while the work is immersed in the processing liquid in the processing tank. However, in the case of the alumite treatment, it is not required to manage the fluidity of the treatment liquid to a higher degree than in the case of the plating treatment, and therefore, the apparatus of the first embodiment and the apparatus of the second embodiment are required. It has a simple structure.

【0074】図9は、第4の実施例の一具体例として、
モータサイクル用2サイクルエンジンのシリンダブロッ
クをワークW1とする場合に適用される構造を示してい
る。この図に示す表面処理装置は処理槽90(図1中の
処理槽D1に相当)を備え、この処理槽D1は、ワーク
W1を収容することのできる適度の大きさに形成され、
かつ、アルマイト液L’を貯留し得るようになってい
る。
FIG. 9 shows a specific example of the fourth embodiment.
The structure applied when the cylinder block of the two-cycle engine for motorcycles is made into the work W1 is shown. The surface treatment apparatus shown in this figure includes a treatment tank 90 (corresponding to the treatment tank D1 in FIG. 1), and the treatment tank D1 is formed to have an appropriate size capable of accommodating the work W1.
In addition, the alumite liquid L'can be stored.

【0075】上記処理槽90の底部にはワーク設置部9
1が設けられ、このワーク設置部91の下方に液流入部
93が形成されており、この液流入部93に連通する連
通孔93aがワーク設置部91の中央部に開口し、ワー
ク設置部91上にワークW1が設置されたときに上記液
流入部93とワークW1のシリンダボアW11とが連通
孔93aを介して連通するようになっている。上記液流
入部93は、流量調整用のバルブ103を有する液供給
管101を介してアルマイト液送給用のポンプ102に
接続され、このポンプ102はアルマイト液貯蔵タンク
100に接続されている。
At the bottom of the processing tank 90, the work setting section 9 is provided.
1 is provided, and a liquid inflow portion 93 is formed below the work setting portion 91, and a communication hole 93a communicating with the liquid inflow portion 93 is opened at the center of the work setting portion 91, and the work setting portion 91 is provided. When the work W1 is installed on the work W1, the liquid inflow portion 93 and the cylinder bore W11 of the work W1 communicate with each other through the communication hole 93a. The liquid inflow portion 93 is connected to a pump 102 for supplying alumite liquid via a liquid supply pipe 101 having a valve 103 for adjusting the flow rate, and this pump 102 is connected to an alumite liquid storage tank 100.

【0076】上記処理槽90には電極92が取付けられ
ている。この電極92は、棒状に形成され、上記液流入
部93及び連通孔93aを突き抜けてワーク設置部91
の上方に突出した状態で、下端部が処理槽90の下部に
固定されており、ワーク設置部91上にワークW1が設
置されたときにワークW1のシリンダボアW11内に電
極92が位置するようになっている。
An electrode 92 is attached to the processing bath 90. The electrode 92 is formed in a rod shape, penetrates the liquid inflow portion 93 and the communication hole 93a, and is a work setting portion 91.
The lower end is fixed to the lower part of the processing tank 90 in a state of projecting upward so that the electrode 92 is positioned inside the cylinder bore W11 of the work W1 when the work W1 is set on the work setting section 91. Has become.

【0077】上記処理槽90の上方外側部には小形の補
助槽90aが設けられ、この補助槽90aと処理槽90
とを仕切る仕切り壁には、オーバーフロー孔90bが形
成されている。上記補助槽90aには液回収管104が
接続され、この液回収管104の下流端側はアルマイト
液貯蔵タンク100に達している。
A small auxiliary tank 90a is provided on the upper outside of the processing tank 90. The auxiliary tank 90a and the processing tank 90 are provided.
An overflow hole 90b is formed in the partition wall for partitioning and. A liquid recovery pipe 104 is connected to the auxiliary tank 90a, and the downstream end side of the liquid recovery pipe 104 reaches the alumite liquid storage tank 100.

【0078】さらにこの表面処理装置には、液流出部構
成部材94が具備されている。この液流出部構成部材9
4は、上端が閉鎖されて下端が開口した中空状に形成さ
れており、この液流出部構成部材94の周壁には複数の
液流出孔95が設けられている。そして、上記処理槽9
0のワーク設置部91にワークW1が設置された状態
で、上記液流出部構成部材94がワークW1の上端に被
せられるとともに、図外の押えシリンダにより上方から
押圧されて、液流出部構成部材94の下端がワークW1
の上端に押し付けられるようになっている。このように
ワークW1に対して液流出部構成部材94がセットされ
た状態において、液流出部構成部材94の中空部とシリ
ンダボアW11とが連通し、シリンダボアW11を流通
したアルマイト液L’が、液流出部構成部材94の中空
部から液流出孔95を通って処理槽90内の液面上に流
出するようになっている。
Further, this surface treatment apparatus is provided with a liquid outflow portion constituting member 94. This liquid outflow portion constituent member 9
4 is formed in a hollow shape with the upper end closed and the lower end opened, and a plurality of liquid outflow holes 95 are provided in the peripheral wall of the liquid outflow portion constituting member 94. And the processing tank 9
With the work W1 installed in the work setting part 91 of 0, the liquid outflow part constituting member 94 is put on the upper end of the work W1 and is pressed from above by a holding cylinder (not shown) to form a liquid outflow part forming member. The lower end of 94 is the work W1
It is designed so that it can be pressed onto the upper edge of. In the state in which the liquid outflow portion constituting member 94 is set to the work W1 in this manner, the hollow portion of the liquid outflow portion constituting member 94 and the cylinder bore W11 communicate with each other, and the alumite liquid L ′ flowing through the cylinder bore W11 becomes the liquid. From the hollow portion of the outflow portion constituent member 94, the liquid flows out through the liquid outflow hole 95 onto the liquid surface in the processing tank 90.

【0079】上記液流出部構成部材94にはワークW1
に対する給電部96が一体に設けられており、この給電
部96が通電回路における整流器105のプラス側に接
続され、一方、上記電極92が整流器105のマイナス
側に接続されている。
The work W1 is attached to the liquid outflow portion constituting member 94.
Is integrally provided to the rectifier 105, and the electrode 92 is connected to the minus side of the rectifier 105 in the energizing circuit.

【0080】この装置を用いた場合の表面処理方法とし
ては、上記のように処理槽90内にワークW1が設置さ
れるとともにワークW1上に上記液流出部構成部材94
がセットされた状態で、上記ポンプ102が作動される
ことにより、アルマイト液L’がアルマイト液貯蔵タン
ク100から液供給管101、液流入部93および連通
孔93aを経てシリンダボアW11内に送り込まれる。
そして、シリンダボアW11内に流入したアルマイト液
L’が上方へ向けて流れ、その一部はポートW12,W
13からも流出するが、多くはシリンダボアW11を通
ってその上方の液流出部構成部材94の中空部に流れ、
上記液流出孔95から処理槽90の液面上に流出する。
また、処理槽90へのアルマイト液L’の流出に伴い、
処理槽90のアルマイト液L’が上記オーバーフロー孔
90bから補助槽90aに溢出し、液回収管104を経
てアルマイト液貯蔵タンク100に回収される。
As a surface treatment method using this apparatus, the work W1 is installed in the treatment tank 90 as described above, and the liquid outflow portion constituting member 94 is provided on the work W1.
When the pump 102 is operated in the state where is set, the alumite liquid L ′ is sent from the alumite liquid storage tank 100 into the cylinder bore W11 through the liquid supply pipe 101, the liquid inflow portion 93 and the communication hole 93a.
Then, the alumite liquid L ′ that has flowed into the cylinder bore W11 flows upward, and a part of the alumite liquid L ′ flows into the ports W12 and W.
Although it also flows out from 13, most of it flows through the cylinder bore W11 to the hollow portion of the liquid outflow portion constituting member 94 above it,
The liquid flows out from the liquid outflow hole 95 onto the liquid surface of the processing tank 90.
Further, with the outflow of the alumite liquid L ′ into the processing tank 90,
The alumite liquid L ′ in the processing tank 90 overflows from the overflow hole 90b into the auxiliary tank 90a, and is recovered in the alumite liquid storage tank 100 via the liquid recovery pipe 104.

【0081】このようにアルマイト液L’が流動されつ
つ、上記ワークW1を陽極、電極92を陰極としてこれ
らに通電されることにより、アルマイト処理が高速で行
なわれる。
While the alumite solution L'is flowing as described above, the work W1 is used as an anode and the electrode 92 is used as a cathode to energize them, so that the alumite treatment is performed at high speed.

【0082】この方法によっても、ワークW1が処理槽
90内の処理液に漬浸された状態で処理が行なわれるこ
とにより、ポートW12,W13等のシールが不要とな
り、構造及び作業が簡略化されることは、第1,第2の
実施例と同様である。
Also in this method, since the work W1 is processed while being immersed in the processing liquid in the processing tank 90, the sealing of the ports W12, W13 and the like becomes unnecessary, and the structure and the work are simplified. This is the same as in the first and second embodiments.

【0083】図10は第4の実施例の変形例として、自
動車用の4サイクル多気筒直列型エンジンのシリンダブ
ロックをワークW2とする場合に適用される構造を示し
ている。この図に示す装置も、図9に示す装置と同様
に、処理槽110を備え、この処理槽110にワーク設
置部111、電極112、液流入部113、連通孔11
3a、補助槽110a及びオーバーフロー110b孔を
具備し、上記液流入部113及び補助槽110aが液供
給管101及び液回収管104にそれぞれ接続されてい
る。上記電極112、液流入部113及び連通孔113
aは、ワークW2としての4サイクル多気筒直列型エン
ジンのシリンダブロックの各シリンダボアW21に対応
するように配設されている。また、ワークW2に対する
給電部を兼ねる液流出部構成部材114を備え、この液
流出部構成部材114は、下方に開口した中空状とされ
るとともに、側壁に液流出孔115を有している。そし
て、上記処理槽110のワーク設置部111にワークW
2が設置された状態で、上記液流出部構成部材114が
ワークW2の上端に被せられるとともに、押えシリンダ
115により上方から押圧され、この状態において液流
出部構成部材114の中空部とワークW2の各シリンダ
ボアW21とが連通するようになっている。上記液流出
部構成部材114および電極112は整流器105に接
続されている。
FIG. 10 shows, as a modification of the fourth embodiment, a structure applied when a cylinder block of a four-cycle multi-cylinder in-line engine for an automobile is used as a work W2. Like the apparatus shown in FIG. 9, the apparatus shown in this figure also includes a processing tank 110, and the workpiece setting section 111, the electrode 112, the liquid inflow section 113, and the communication hole 11 are provided in the processing tank 110.
3a, an auxiliary tank 110a and an overflow 110b hole are provided, and the liquid inflow portion 113 and the auxiliary tank 110a are connected to the liquid supply pipe 101 and the liquid recovery pipe 104, respectively. The electrode 112, the liquid inflow portion 113, and the communication hole 113
"a" is arranged so as to correspond to each cylinder bore W21 of the cylinder block of the 4-cycle multi-cylinder in-line engine as the work W2. Further, a liquid outflow portion constituting member 114 which also serves as a power feeding portion for the work W2 is provided, and the liquid outflow portion constituting member 114 has a hollow shape which opens downward and has a liquid outlet hole 115 in the side wall. Then, the work W is placed in the work setting section 111 of the processing tank 110.
2 is installed, the liquid outflow part constituting member 114 is covered on the upper end of the work W2 and is pressed from above by the holding cylinder 115. In this state, the hollow part of the liquid outflow part forming member 114 and the work W2 are separated from each other. It communicates with each cylinder bore W21. The liquid outflow portion constituent member 114 and the electrode 112 are connected to the rectifier 105.

【0084】図11は第4の実施例の別の変更例とし
て、V型エンジンのシリンダブロックをワークW3とす
る場合に適用される構造を示している。この図に示す装
置も、処理槽120を備え、この処理槽120にワーク
設置部121、電極122、液流入部123、補助槽1
20a及びオーバーフロー孔120b等を具備し、さら
に、液流出孔125を有する液流出部構成部材124及
び押えシリンダ126を備えており、ワークW3に対応
した変更以外は、図10に示す装置と同様の構成となっ
ている。
FIG. 11 shows, as another modification of the fourth embodiment, a structure applied when the cylinder block of the V-type engine is used as the work W3. The apparatus shown in this figure also includes a processing tank 120, and the workpiece setting section 121, the electrode 122, the liquid inflow section 123, and the auxiliary tank 1 are provided in the processing tank 120.
20a, an overflow hole 120b and the like, and further, a liquid outflow portion constituting member 124 having a liquid outflow hole 125 and a holding cylinder 126, which are the same as those of the apparatus shown in FIG. 10 except for a change corresponding to the work W3. It is composed.

【0085】図10、図11に示す装置による場合も、
図9に示す装置と同様の方法でアルマイト処理が行なわ
れる。
Also in the case of the apparatus shown in FIGS. 10 and 11,
The alumite treatment is performed by the same method as the apparatus shown in FIG.

【0086】なお、図9〜図11に示すような装置は、
電極を省略すればアルマイト処理以外の前処理に適用す
ることも可能である。
The apparatus shown in FIGS. 9 to 11 is
If the electrode is omitted, it can be applied to a pretreatment other than the alumite treatment.

【0087】ところで、めっき処理システム全体の処理
としては、ワークWが図1中に示す各前処理部A〜D、
めっき処理部E及び乾燥部Fに順次送られ、各処理部で
前処理やめっき処理が行なわれる。例えば、脱脂処理部
A、アルカリエッチング処理部B及び混酸エッチング処
理部Cでは簡易な方法として処理槽内の処理液中にワー
クWが漬浸されることでそれぞれの処理が行なわれ、ア
ルマイト処理部D及びめっき処理部Eでは前記の実施例
に示すような装置により処理が行なわれる。
By the way, in the processing of the entire plating processing system, the work W has the pretreatment parts A to D shown in FIG.
It is sequentially sent to the plating processing section E and the drying section F, and each processing section performs pretreatment and plating processing. For example, in the degreasing treatment unit A, the alkali etching treatment unit B, and the mixed acid etching treatment unit C, as a simple method, the respective treatments are performed by immersing the work W in the treatment liquid in the treatment tank. In D and the plating processing section E, the processing is performed by the apparatus as shown in the above embodiment.

【0088】各処理部においてはそれぞれ、処理槽での
処理後に、処理部に付属する槽によってワークに付着し
た処理液の回収及びワークの水洗が行なわれる。脱脂処
理部を例にとって図12により説明すると、脱脂液を貯
留する処理槽A1と複数の液回収槽A21,A22,A
23と水洗槽A24とが隣接配置され、水洗槽A24に
は清浄水が供給され、他の槽A1,A21,A22,A
23にはそれぞれの片側の槽からオーバーフローした液
が流入するようになっている。そして、ワークWは、処
理槽A1での処理が済むと引き上げられ、液回収槽A2
1上に移動されてこの槽A21内に降ろされ、以下同様
にして回収槽A22,A23及び水洗槽A24へと移さ
れ、水洗後は次の処理部へ移される。
In each processing unit, after the processing in the processing tank, the tank attached to the processing unit collects the processing liquid adhering to the work and rinses the work with water. With reference to FIG. 12, a degreasing processing unit will be described as an example. A processing tank A1 for storing degreasing liquid and a plurality of liquid recovery tanks A21, A22, A
23 and a washing tank A24 are arranged adjacent to each other, clean water is supplied to the washing tank A24, and other tanks A1, A21, A22, A
The liquid overflowing from each tank on one side flows into 23. Then, the work W is pulled up when the treatment in the treatment tank A1 is completed, and the work W is collected in the liquid recovery tank A2.
1 is moved to the upper position and lowered into the tank A21, and thereafter similarly transferred to the recovery tanks A22, A23 and the water washing tank A24, and after the water washing, it is moved to the next processing section.

【0089】このようなワークWの昇降及び移動はワー
ク搬送手段により行なわれる。一般にこの種のワーク搬
送手段は、パレット等のワーク搬送用治具を具備し、こ
のワーク搬送用治具とワークとを結合した状態で各槽の
内外にわたる昇降及び移動を行なわせるようにしている
が、このようにすると、上記ワーク搬送用治具にも処理
液が付着するために処理槽からの処理液の持出し量が多
くなり、水洗等の効率及び経済性の面で好ましくない。
The raising and lowering and movement of the work W as described above are performed by the work transfer means. In general, this type of work transfer means is equipped with a work transfer jig such as a pallet and the like, and the work transfer jig and the work are combined so that they can be moved up and down and moved in and out of each tank. However, in this case, since the treatment liquid adheres to the work transfer jig, the carry-out amount of the treatment liquid from the treatment tank increases, which is not preferable in terms of efficiency such as washing with water and economy.

【0090】そこで、ワーク搬送用治具を用いずにワー
クWを単体で搬送することができるように、ワーク搬送
手段は例えば図13に示すような構成あるいは図14に
示すような構成とすることが望ましい。
Therefore, in order that the work W can be carried by itself without using a work carrying jig, the work carrying means should be constructed as shown in FIG. 13 or as shown in FIG. 14, for example. Is desirable.

【0091】すなわち、図13に示す例では、各槽20
1,202(図1中の処理槽A1〜E1及び槽A2〜E
2に相当)にそれぞれ、ワークWを支持するワーク支持
部材210が、槽201,202の上方に位置する上昇
位置と槽201,202内の下部に位置する下降位置と
にわたって昇降可能に設けられ、このワーク支持部材2
10が、昇降杆211及びロッド212等を介して昇降
用シリンダ等の昇降駆動手段213に連結されている。
また、槽201,202の上方にはワークWを搬送ライ
ン方向に移動させるためのワーク移送手段215が配置
され、このワーク移送手段215は、搬送ライン方向に
延びるビーム216と、このビーム216に取り付けら
れたワーク把持装置217とを備えている。このワーク
把持装置217は、ワークWの上端部を把持するための
拡縮可能なチャック218を備え、このチャック218
が把持装置本体に対して所定量だけ上下動可能とされる
とともに、把持装置本体が上記ビーム215に移動可能
に取り付けられている。そして、上記チャック218の
拡縮、上下動及び把持装置本体の移動のための各駆動手
段(図示せず)がワーク移送手段215に具備されてい
る。
That is, in the example shown in FIG.
1,202 (treatment tanks A1 to E1 and tanks A2 to E in FIG. 1)
(Corresponding to 2), a work supporting member 210 for supporting the work W is provided so as to be capable of moving up and down between an ascending position located above the tanks 201 and 202 and a descending position located below the tanks 201 and 202, This work support member 2
10 is connected to an elevating / lowering driving means 213 such as an elevating / lowering cylinder via an elevating rod 211, a rod 212 and the like.
A work transfer means 215 for moving the work W in the transfer line direction is arranged above the tanks 201 and 202. The work transfer means 215 is attached to the beam 216 extending in the transfer line direction and the beam 216. And the work gripping device 217. The work gripping device 217 includes a chuck 218 capable of expanding and contracting for gripping the upper end of the work W.
Is movable up and down by a predetermined amount with respect to the gripping device main body, and the gripping device main body is movably attached to the beam 215. The work transfer means 215 is provided with driving means (not shown) for expanding / contracting the chuck 218, moving up and down, and moving the gripping device body.

【0092】なお、めっき処理部やアルマイト処理部に
おいては、前記各実施例に示すような表面処理装置にお
ける処理槽もしくは処理装置本体に、上記ワーク支持部
材210を装備しておけばよい。
In the plating treatment section and the alumite treatment section, the work supporting member 210 may be provided in the treatment tank or the treatment apparatus main body of the surface treatment apparatus as shown in each of the embodiments.

【0093】この搬送手段によると、槽201でのワー
ク処理時には、ワークWがワーク把持装置217から離
脱して上記ワーク支持部材210に支持された後、ワー
ク支持部材210が下降位置とされることによりワーク
Wが槽内に収容される。槽201での処理後は、ワーク
Wを支持しているワーク支持部材210が上昇位置まで
作動されてから、上記ワーク把持装置217のチャック
218によりワークWが把持され、ワークWがワーク支
持部材210から離れてワーク把持装置217により次
の槽202に対応する位置へ移送される。
According to this carrying means, at the time of processing a work in the tank 201, the work W is disengaged from the work gripping device 217 and supported by the work supporting member 210, and then the work supporting member 210 is set to the lowered position. Thus, the work W is stored in the tank. After the processing in the tank 201, the work supporting member 210 supporting the work W is operated to the raised position, and then the work W is gripped by the chuck 218 of the work gripping device 217, and the work W is supported by the work supporting member 210. Then, the work gripping device 217 transfers the work to a position corresponding to the next tank 202.

【0094】こうして、ワークWの単体が移送されるこ
とにより、処理液の持出し量が少なくなる。
In this way, by transferring the single body of the work W, the carry-out amount of the processing liquid is reduced.

【0095】また、図14に示す例でも、各槽201,
202にそれぞれ、ワークWを支持するワーク支持部材
210が昇降可能に設けられ、このワーク支持部材21
0が、昇降杆211及びロッド212等を介して昇降駆
動手段213に連結され、一方、槽201,202の上
方にワーク移送手段220が配置されている。このワー
ク移送手段220は、上記ワーク支持部材210が上昇
位置にあるときの高さに対応する高さ位置で各槽20
1,202の間に配置されたガイドローラ221と、こ
れよりも所定量だけ上方に配置されて搬送ライン方向に
スライド可能とされたスライドプレート222と、この
スライドプレート222を移動させる駆動手段(図示せ
ず)とを備え、上記スライドプレート222には、ワー
ク上端部に対する嵌合孔223が設けられている。
Also in the example shown in FIG. 14, each tank 201,
A work supporting member 210 that supports a work W is provided on each of the 202 so as to be movable up and down.
0 is connected to the elevating drive means 213 via the elevating rod 211, the rod 212 and the like, while the work transfer means 220 is arranged above the tanks 201 and 202. The work transfer means 220 is provided in each tank 20 at a height position corresponding to the height when the work support member 210 is in the raised position.
1, a guide roller 221 arranged between the first and the second roller 202, a slide plate 222 which is arranged above the guide roller 221 by a predetermined amount and is slidable in the conveying line direction, and a drive means for moving the slide plate 222 (see FIG. (Not shown), the slide plate 222 is provided with a fitting hole 223 for the upper end of the work.

【0096】この搬送手段によると、槽201でのワー
ク処理時には、ワークWが上記ワーク支持部材210に
支持された状態で、ワーク支持部材210が下降位置と
されることによりワークWが槽内に収容される。そし
て、槽201での処理後は、ワークWを支持しているワ
ーク支持部材210が上昇位置まで作動されることによ
り、ワークWの上端が上記スライドプレート222の嵌
合孔223に嵌合し、それから、スライドプレート22
2がスライドすることにより、ワークWがワーク支持部
材210上を滑り、ガイドローラ221上を通って次の
槽202のワーク支持部材210上へ移動する。
According to this carrying means, when the work W is processed in the tank 201, the work W is supported by the work supporting member 210, and the work supporting member 210 is moved to the lowered position, so that the work W is placed in the tank. Be accommodated. After the processing in the tank 201, the work supporting member 210 supporting the work W is operated to the raised position, so that the upper end of the work W fits into the fitting hole 223 of the slide plate 222. Then slide plate 22
As the work piece 2 slides, the work W slides on the work support member 210, passes over the guide rollers 221, and moves onto the work support member 210 of the next tank 202.

【0097】従って、この例は、ワークWがワーク支持
部材210上を滑り動き得る場合に適用することがで
き、この例による場合もワークWの単体が移送されるこ
とにより処理液の持出し量が少なくなる。
Therefore, this example can be applied to the case where the work W can slide on the work supporting member 210, and even in the case of this example, the amount of the processing liquid taken out can be increased by transferring the single body of the work W. Less.

【0098】[0098]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、処理槽
内の処理液にワークを漬浸させるようにした状態で、処
理液送給用のポンプにより圧送した処理液を、上記処理
槽に設けた液流入部から上記ワークの中空部に流入さ
せ、ワークの中空部を流通した処理液を液流出部から流
出させるようにしているため、中空状のワークの内面に
施す表面処理を高速化することができ、しかも、ワーク
のシールを不要にし、シール装置等を省略して構造を簡
略化することができるとともに、準備作業を簡単にする
ことができる。
As described above, according to the present invention, the processing liquid pumped by the processing liquid feeding pump is used to dip the workpiece in the processing liquid in the processing tank. Since the processing liquid flowing through the hollow part of the work is allowed to flow out from the liquid outflow part through the liquid inflow part provided in the above, the surface treatment applied to the inner surface of the hollow work can be performed at high speed. Moreover, it is possible to simplify the structure by eliminating the need for sealing the work, omitting the sealing device and the like, and simplifying the preparation work.

【0099】とくにめっき処理に適用した場合は、ワー
クのシールを不要にして構造及び準備作業の簡略化を図
りつつ、めっき液を流動させて高速めっきを行なうこと
ができる。
Especially when applied to the plating treatment, high speed plating can be performed by flowing the plating solution while simplifying the structure and the preparatory work by eliminating the need for sealing the work.

【0100】この場合に、処理槽内にワークを設置した
後に、処理槽を密閉するようにすれば、処理槽がめっき
液で充満した状態では液流入部からワークの中空部を通
って液流出部へ向かうめっき液の流れが良好となり、効
果的に高速めっきを行なうことができる。また、液流出
部からめっき液を強制的に吸い出すようにしても、ワー
ク内のめっき液の流れが良好となり、効果的に高速めっ
きを行なうことができる。
In this case, after the work is installed in the treatment tank, the treatment tank is hermetically sealed, and when the treatment tank is filled with the plating solution, the solution flows out from the liquid inflow portion through the hollow portion of the work. The flow of the plating solution toward the portion becomes good, and high-speed plating can be effectively performed. Further, even if the plating solution is forcibly sucked out from the solution outflow portion, the flow of the plating solution in the work becomes good, and high-speed plating can be effectively performed.

【0101】また、陽極酸化処理に適用して、処理槽内
の陽極酸化処理液にワークを漬浸させた状態で、上記陽
極酸化処理液をワークの中空部に一端側から流入させ、
他端側から処理槽内に流出させるようにすれば、ワーク
のシールを不要にしながら、陽極酸化処理を高速化する
ことができる。
Further, when applied to anodizing treatment and the work is immersed in the anodizing solution in the processing tank, the anodizing solution is flown into the hollow part of the work from one end side,
If the flow is made to flow into the processing tank from the other end side, it is possible to speed up the anodizing process while eliminating the need for sealing the work.

【0102】また、めっき処理に適用する場合の方法及
び装置として、ワークを設置する処理装置本体に液流入
部及び電極を設ける一方、ワークの上端に圧接される押
え蓋にめっき液流出部及び給電部を設け、めっき液送給
用のポンプにより圧送しためっき液が上記めっき液流入
部からワーク内を通って上記押え蓋の液流出部に流れる
ようにすれば、電極等の構造を簡略化することができる
とともに、ワークのシール及び給電部の接続等の準備作
業を簡単にすることができる。
As a method and apparatus applied to the plating treatment, the treatment apparatus main body on which the work is installed is provided with the liquid inflow portion and the electrode, while the holding lid pressed against the upper end of the work is provided with the plating liquid outflow portion and the power supply. If a portion is provided so that the plating solution pumped by the pump for feeding the plating solution flows from the plating solution inflow part through the inside of the work to the solution outflow part of the pressing lid, the structure of the electrode and the like can be simplified. In addition, it is possible to simplify the preparatory work such as sealing the work and connecting the power supply unit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明が適用されるめっき処理システムの概略
図である。
FIG. 1 is a schematic diagram of a plating processing system to which the present invention is applied.

【図2】本発明の第1の実施例による表面処理装置の断
面図である。
FIG. 2 is a sectional view of the surface treatment apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図3】第1の実施例の変形例を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing a modification of the first embodiment.

【図4】第1の実施例の別の変形例を示す断面図であ
る。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing another modification of the first embodiment.

【図5】本発明の第2の実施例による表面処理装置の断
面図である。
FIG. 5 is a sectional view of a surface treatment apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図6】第2の実施例の変形例を示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view showing a modification of the second embodiment.

【図7】第2の実施例の別の変形例を示す断面図であ
る。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing another modification of the second embodiment.

【図8】本発明の第3の実施例による表面処理装置の断
面図である。
FIG. 8 is a sectional view of a surface treatment apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第4の実施例による表面処理装置の断
面図である。
FIG. 9 is a sectional view of a surface treatment apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

【図10】第4の実施例の変形例を示す断面図である。FIG. 10 is a sectional view showing a modification of the fourth embodiment.

【図11】第4の実施例の別の変形例を示す断面図であ
る。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing another modification of the fourth embodiment.

【図12】前処理部等における各槽の処理及びワークの
動き示す説明図である。
FIG. 12 is an explanatory diagram showing the processing of each tank and the movement of the work in the pretreatment unit and the like.

【図13】ワーク搬送手段の一例を示す説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram showing an example of a work transfer unit.

【図14】ワーク搬送手段の別の例を示す説明図であ
る。
FIG. 14 is an explanatory diagram showing another example of the work transfer means.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,30,40,50,60,70,90,110,
120 処理槽 12,32,42,52,62,72,92,112,
122 電極 13,33,43,53,63,73,93,113,
123 液流入部 14,34,44,54,64,74,94,114,
124 液流出部 22,55,65,75,102 ポンプ 15,35,45 蓋部材 80 処理装置本体 83 液流入部 84 蓋部材 86 液流出部 W,W1,W2,W3,W4 ワーク
10, 30, 40, 50, 60, 70, 90, 110,
120 treatment tanks 12, 32, 42, 52, 62, 72, 92, 112,
122 electrodes 13, 33, 43, 53, 63, 73, 93, 113,
123 liquid inflow section 14, 34, 44, 54, 64, 74, 94, 114,
124 Liquid outflow part 22, 55, 65, 75, 102 Pump 15, 35, 45 Lid member 80 Processing device main body 83 Liquid inflow part 84 Lid member 86 Liquid outflow part W, W1, W2, W3, W4 Workpiece

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 中空状のワークの内面に表面処理を施す
表面処理方法であって、処理液を貯留する処理槽内にワ
ークを設置し、この処理槽内の処理液にワークを漬浸さ
せるようにした状態で、処理液送給用のポンプにより圧
送した処理液を、上記処理槽に設けた液流入部から上記
ワークの中空部に流入させ、ワークの中空部を流通した
処理液を、上記処理槽に設けた液流出部から流出させる
ことを特徴とする表面処理方法。
1. A surface treatment method for performing a surface treatment on an inner surface of a hollow work, wherein the work is set in a treatment tank for storing the treatment liquid, and the work is immersed in the treatment liquid in the treatment tank. In such a state, the processing liquid pressure-fed by the pump for supplying the processing liquid is caused to flow into the hollow portion of the work from the liquid inflow portion provided in the processing tank, and the processing liquid flowing through the hollow portion of the work, A surface treatment method, which comprises flowing out from a liquid outflow portion provided in the treatment tank.
【請求項2】 処理液としてめっき液を用い、処理槽内
に設置されるワークの中空部内にめっき用電極を配置し
た状態で、めっき液の流入、流出を行なわせることを特
徴とする請求項1記載の表面処理方法。
2. The plating solution is used as the processing solution, and the plating solution is allowed to flow in and out in a state where the plating electrode is arranged in the hollow portion of the work set in the processing tank. The surface treatment method described in 1.
【請求項3】 処理槽内にワークを設置した後に、処理
槽を密閉することを特徴とする請求項2記載の表面処理
方法。
3. The surface treatment method according to claim 2, wherein the treatment tank is closed after the work is installed in the treatment tank.
【請求項4】 液流出部からめっき液を強制的に吸い出
すことを特徴とする請求項2記載の表面処理方法。
4. The surface treatment method according to claim 2, wherein the plating solution is forcibly sucked out from the solution outflow portion.
【請求項5】 処理液として陽極酸化処理液を用い、処
理槽内に設置されるワークの筒状部分の内部に陽極酸化
処理用電極を配置した状態で、上記処理液をワークの中
空部に一端側から流入させ、他端側から処理槽内に流出
させることを特徴とする請求項1記載の表面処理方法。
5. An anodizing treatment liquid is used as a treatment liquid, and the treatment liquid is applied to a hollow portion of the work while the anodizing treatment electrode is arranged inside the cylindrical portion of the work installed in the treatment tank. 2. The surface treatment method according to claim 1, wherein the surface treatment method comprises inflowing from one end side and flowing out into the treatment tank from the other end side.
【請求項6】 中空状のワークの内面にめっきを施す表
面処理方法であって、液流入部を有する処理装置本体上
に上記ワークを設置し、ワークの中空部内にめっき用電
極を位置させるとともに、ワークへの給電部と液流出部
とを有する押え蓋をワークの上端に押当てた状態で、め
っき液送給用のポンプにより圧送しためっき液を上記き
液流入部からワークの中空部に流入させ、ワークの中空
部を通過しためっき液を上記液流出部から流出させるこ
とを特徴とする表面処理方法。
6. A surface treatment method for plating an inner surface of a hollow work, wherein the work is installed on a processing apparatus main body having a liquid inflow part, and a plating electrode is positioned in the hollow part of the work. While the pressing lid having the power supply part to the work and the liquid outflow part is pressed against the upper end of the work, the plating solution pressure-fed by the pump for feeding the plating solution from the above liquid inflow part to the hollow part of the work A surface treatment method, characterized in that the plating solution that has flowed in and passed through the hollow part of the work is allowed to flow out from the liquid outflow part.
【請求項7】 中空状のワークの内面にめっきを施す表
面処理装置であって、めっき液を貯留する処理槽を備
え、この処理槽に、ワークを処理槽内の一定位置に支持
するワーク設置部と、上記ワークの中空部に挿入される
めっき用電極と、めっき液送給用のポンプに接続され
て、上記処理槽内に設置されるワークの中空部にめっき
液を導く液流入部と、このワークの中空部を通っためっ
き液を流出させる液流出部とを設けたことを特徴とする
表面処理装置。
7. A surface treatment apparatus for plating an inner surface of a hollow work, comprising a treatment tank for storing a plating solution, wherein the work is installed to support the workpiece at a fixed position in the treatment tank. Part, a plating electrode inserted into the hollow part of the work, and a liquid inflow part that is connected to a pump for feeding the plating solution and guides the plating solution to the hollow part of the work installed in the processing tank. And a liquid outflow section for outflowing the plating solution through the hollow portion of the work.
【請求項8】 上記処理槽の上端に、この処理槽を密閉
する蓋部材を開閉可能に設けたことを特徴とする請求項
7記載の表面処理装置。
8. The surface treatment apparatus according to claim 7, wherein a lid member for sealing the treatment tank is provided on the upper end of the treatment tank so as to be openable and closable.
【請求項9】 上記蓋部材に、ワークに対する給電部を
装備したことを特徴とする請求項8記載の表面処理装
置。
9. The surface treatment apparatus according to claim 8, wherein the lid member is provided with a power feeding portion for the work.
【請求項10】 液流入部及び液流出部を処理槽内に設
け、液流入部に連なる通路をめっき液送給用のポンプの
吐出側に接続するとともに、液流出部に連なる通路を上
記ポンプの流入側に接続したことを特徴とする請求項7
記載の表面処理装置。
10. A liquid inflow part and a liquid outflow part are provided in a processing tank, a passage connected to the liquid inflow part is connected to a discharge side of a pump for feeding a plating solution, and a passage connected to the liquid outflow part is connected to the pump. 7. It is connected to the inflow side of
The surface treatment device described.
【請求項11】 中空状のワークの内面に陽極酸化処理
を施す表面処理装置であって、陽極酸化処理液を貯留す
る処理槽を備え、この処理槽に、ワークを処理槽内の一
定位置に支持するワーク設置部と、上記ワークの中空部
に挿入される陽極酸化処理用電極と、処理液送給用のポ
ンプに接続されて、上記処理槽内に設置されるワークの
筒状部分に下方から上記処理液を流入させる液流入部
と、上記筒状部分を通った処理液を上方から処理槽内に
流出させる液流出部とを設けたことを特徴とする表面処
理装置。
11. A surface treatment apparatus for anodizing an inner surface of a hollow work, comprising a treatment tank for storing an anodizing treatment liquid, wherein the work is placed at a predetermined position in the treatment tank. Connected to the work installation part to support, the anodizing electrode inserted into the hollow part of the work, and the pump for supplying the processing liquid, and the lower part of the cylindrical part of the work installed in the processing tank. And a liquid outflow portion for outflowing the processing liquid that has passed through the tubular portion into the processing tank from above.
【請求項12】 中空状のワークの内面にめっきを施す
表面処理装置であって、上面部にワーク設置部を有する
処理装置本体と、この処理装置本体上に設置されるワー
クの上端に圧接される押え蓋とを備え、上記処理装置本
体に、上記ワークの中空部に挿入される電極と、めっき
液送給用のポンプに接続されて、上記ワークの中空部に
めっき液を導く液流入部とを設け、一方、上記蓋部材
に、ワークの中空部を通っためっき液を流出させる液流
出部と、ワークーの給電部とを一体的に設けたことを特
徴とする表面処理装置。
12. A surface treatment apparatus for plating an inner surface of a hollow work, the treatment apparatus main body having a work setting portion on an upper surface thereof, and the work being installed on the treatment apparatus main body by press contact with the upper end of the work. And a holding lid, which is connected to a pump for feeding a plating solution and a plating solution feeding pump into the processing apparatus main body, and which introduces the plating solution into the hollow section of the work. On the other hand, the surface treatment apparatus is characterized in that the lid member is integrally provided with a liquid outflow portion for outflowing the plating liquid passing through the hollow portion of the work and a power feeding portion of the work.
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