JPH07245232A - Layered ceramic electronic parts and its production - Google Patents

Layered ceramic electronic parts and its production

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JPH07245232A
JPH07245232A JP3605394A JP3605394A JPH07245232A JP H07245232 A JPH07245232 A JP H07245232A JP 3605394 A JP3605394 A JP 3605394A JP 3605394 A JP3605394 A JP 3605394A JP H07245232 A JPH07245232 A JP H07245232A
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JP
Japan
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electrode
electrodes
electronic component
metal film
thickness
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Application number
JP3605394A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Kawakami
博之 川上
Nobuyuki Wada
信之 和田
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a layered ceramic electronic part whose electrode has excellent reliability in electrical connection and in which electrical characteristics such as electrostatic capacitance, etc., can be adjusted without making a buried electronic part element larger in size. CONSTITUTION:A ceramic multi-layered substrate 41 is formed by piling up a sintered body and a ceramic layer and has a plurality of electrodes 2, 3, 12-14, 24, 25, 27 that are formed through a thin-film formation method, and at least one electrodes 13, 14 among them has a thickness different from those of the other electrodes.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えばセラミック多層
基板や積層コンデンサなどの積層セラミック電子部品及
びその製造方法に関し、特に、薄膜形成法により形成さ
れた電極用金属膜とセラミックグリーンシートとが一体
化された電極セラミックス一体化シートを積層する工程
を経て得られる積層セラミック電子部品及びその製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a monolithic ceramic electronic component such as a ceramic multi-layer substrate and a monolithic capacitor, and a method for manufacturing the same, and more particularly, a metal film for electrodes formed by a thin film forming method and a ceramic green sheet are integrated. The present invention relates to a monolithic ceramic electronic component obtained through a process of laminating the integrated electrode ceramics integrated sheet and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】積層セラミック電子部品としては、従
来、積層コンデンサ、積層インダクタなどの種々の電子
部品が開発されている。近年、電子機器の小型化に伴っ
て、これらの電子部品についても、小型化や集積密度の
向上が強く求められている。そこで、1つのセラミック
基板内に複数個のコンデンサやインダクタなどの電子部
品素子や配線パターンを埋設してなるセラミック多層基
板や、複数個の電子部品素子を複合化してなる複合型の
積層セラミック電子部品が提案されている。
2. Description of the Related Art As a multilayer ceramic electronic component, various electronic components such as a multilayer capacitor and a multilayer inductor have been conventionally developed. In recent years, along with the miniaturization of electronic devices, there is a strong demand for miniaturization and improvement in integration density of these electronic components. Therefore, a ceramic multilayer substrate in which a plurality of capacitors, inductors and other electronic component elements and wiring patterns are embedded in one ceramic substrate, or a composite type multilayer ceramic electronic component obtained by compounding a plurality of electronic component elements Is proposed.

【0003】上記のようなセラミック多層基板や複合型
セラミック電子部品は、周知の積層セラミック電子部品
の製造方法に従って製造されている。すなわち、セラミ
ックグリーンシート上に内部電極構成用導電ペーストを
塗布し、乾燥させた後、積層し、積層体を得る。得られ
た積層体を、焼成し、焼結体を得、焼結体の外表面に内
部電極と接続される外部電極を形成することにより、上
記セラミック多層基板や複合型セラミック電子部品が製
造されている。
The above-mentioned ceramic multilayer substrate and composite type ceramic electronic component are manufactured by a well-known method for manufacturing a laminated ceramic electronic component. That is, a conductive paste for forming internal electrodes is applied on a ceramic green sheet, dried and then laminated to obtain a laminated body. The obtained multilayer body is fired to obtain a sintered body, and external electrodes connected to the internal electrodes are formed on the outer surface of the sintered body, whereby the above-mentioned ceramic multilayer substrate or composite type ceramic electronic component is manufactured. ing.

【0004】また、セラミック多層基板などでは、内部
に構成された複数の電子部品素子を電気的に接続するた
めに、セラミックグリーンシートに貫通孔を形成してお
き、該貫通孔に導電ペーストを注入することによりビア
ホール電極が形成されている。このビアホール電極は、
セラミック層を介して隔てられた上下の電極を電気的に
接続するものである。
Further, in a ceramic multi-layer substrate or the like, a through hole is formed in a ceramic green sheet in order to electrically connect a plurality of electronic component elements formed therein, and a conductive paste is injected into the through hole. By doing so, a via hole electrode is formed. This via hole electrode is
The upper and lower electrodes separated by the ceramic layer are electrically connected.

【0005】また、従来の積層セラミック電子部品の製
造方法では、内部に構成されるコンデンサ部分の容量の
設計は、主として、電極同士の対向面積を調節すること
により行われていた。すなわち、より大きな容量のコン
デンサを構成する場合には、電極の対向面積を大きく
し、容量の小さなコンデンサを構成する際には電極対向
面積を小さくすることにより、容量の調節が行われてい
た。
Further, in the conventional method for manufacturing a monolithic ceramic electronic component, the capacitance of the capacitor portion formed inside is mainly designed by adjusting the facing area of the electrodes. That is, the capacitance is adjusted by increasing the facing area of the electrodes when forming a capacitor having a larger capacitance and decreasing the electrode facing area when forming a capacitor having a small capacitance.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
積層セラミック電子部品の製造方法では、内部電極が導
電ペーストを用いて構成されていたため、セラミックス
焼成に際し導電ペーストが焼き付けられるが、その際に
導電ペーストが収縮しがちであった。その結果、内部電
極同士あるいは内部電極とビアホール電極との間の電気
的接続が損なわれることがあった。さらに、焼結体の外
表面に露出すべき内部電極が十分に露出しなかったり
し、外部電極との電気的接続の信頼性が損なわれること
もあった。
However, in the conventional method for manufacturing a monolithic ceramic electronic component, since the internal electrodes are formed by using the conductive paste, the conductive paste is baked during firing of the ceramics. Tended to shrink. As a result, the electrical connection between the internal electrodes or between the internal electrode and the via-hole electrode may be impaired. Furthermore, the internal electrodes that should be exposed on the outer surface of the sintered body may not be sufficiently exposed, and the reliability of the electrical connection with the external electrodes may be impaired.

【0007】他方、導電ペーストにより内部電極を形成
した場合の上記のような問題を解決するために、内部電
極を蒸着、メッキもしくはスパッタリングなどの薄膜形
成法により形成してなる積層コンデンサが提案されてい
る(特開昭64−42809)。
On the other hand, in order to solve the above problems when the internal electrodes are formed of a conductive paste, a multilayer capacitor has been proposed in which the internal electrodes are formed by a thin film forming method such as vapor deposition, plating or sputtering. (Japanese Patent Laid-Open No. 64-42809).

【0008】しかしながら、セラミック多層基板や複合
型のセラミック電子部品では、上下の内部電極を電気的
に接続するビアホール電極が形成されているが、このビ
アホール電極については、前述したようにセラミックグ
リーンシートに貫通孔を予め形成しておき、該貫通孔内
に導電ペーストを充填する方法しか知られていない。
However, in the ceramic multi-layer substrate or the composite type ceramic electronic component, the via hole electrode for electrically connecting the upper and lower internal electrodes is formed, and the via hole electrode is formed on the ceramic green sheet as described above. Only a method of forming a through hole in advance and filling the through hole with a conductive paste is known.

【0009】他方、コンデンサを内蔵した積層セラミッ
ク電子部品では、前述のようにコンデンサの静電容量が
電極対向面積で調節されていた。そのため、容量を大き
くする場合には、対向面積を大きくせざるを得ず、コン
デンサ部分の面積が大きくなりがちであった。その結
果、積層セラミック電子部品の寸法が大きくなったり、
あるいは十分大きな静電容量を取得することができない
ことがあった。
On the other hand, in a monolithic ceramic electronic component having a built-in capacitor, the capacitance of the capacitor is adjusted by the area facing the electrodes as described above. Therefore, when the capacitance is increased, the facing area has to be increased and the area of the capacitor portion tends to be increased. As a result, the dimensions of the monolithic ceramic electronic components are increased,
Alternatively, it may not be possible to obtain a sufficiently large capacitance.

【0010】本発明の目的は、導電部分の電気的接続の
信頼性に優れ、電子部品素子内蔵密度を効果的に高め得
る構造を備えた積層セラミック電子部品及びその製造方
法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a monolithic ceramic electronic component having a structure capable of effectively increasing the electrical component element built-in density and a method of manufacturing the same, which is excellent in the electrical connection of the conductive portion. .

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、電極を薄膜形
成法により形成することにより、電極の電気的接続の信
頼性を高めた積層セラミック電子部品及びその製造方法
を提供するものであり、下記の構成を備えることを特徴
とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention provides a laminated ceramic electronic component and a method for producing the same, in which the electrode is formed by a thin film forming method to improve reliability of electrical connection of the electrode. It is characterized by having the following configuration.

【0012】すなわち、請求項1に記載の発明は、薄膜
形成法により形成された複数の電極がセラミック層を介
して積層された焼結体を有する積層セラミック電子部品
において、前記複数の電極のうち、少なくとも1つの電
極の厚みが部分的にまたは他の電極と異ならされている
ことを特徴とする、積層セラミック電子部品である。
That is, according to the first aspect of the present invention, in a multilayer ceramic electronic component having a sintered body in which a plurality of electrodes formed by a thin film forming method are laminated via ceramic layers, among the plurality of electrodes, A multilayer ceramic electronic component, wherein the thickness of at least one electrode is partially or different from that of another electrode.

【0013】本発明の積層セラミック電子部品では、少
なくとも1つの電極の厚みが部分的にまたは他の電極と
異ならされている。従って、厚みの異ならされている電
極を利用することにより、静電容量などの電気的特性の
調整を図ることができる。しかも、薄膜形成法により上
記電極が形成されているため、電極同士あるいは電極と
別途形成される外部電極との電気的接続の信頼性も高め
られる。
In the monolithic ceramic electronic component of the present invention, the thickness of at least one electrode is partially or different from that of another electrode. Therefore, it is possible to adjust the electrical characteristics such as capacitance by using the electrodes having different thicknesses. Moreover, since the electrodes are formed by the thin film forming method, the reliability of the electrical connection between the electrodes or between the electrodes and an external electrode formed separately can be improved.

【0014】本発明のセラミック電子部品では、上記の
ように少なくとも1つの電極の厚みが部分的にまたは他
の電極と異ならされているが、この異ならせ方は、目的
に応じて任意に定められる。例えば、セラミック層を介
して対向している一対の電極のうち、一方の電極の厚み
を他方の電極の厚みと異ならせてもよい。あるいは、請
求項2に記載のように、同一平面上において、電極を部
分的に厚みが異なるように構成してもよく、また同一平
面上に形成された複数の電極の厚みを電極間で異ならせ
てもよい。
In the ceramic electronic component of the present invention, the thickness of at least one electrode is partially or different from the thickness of the other electrodes as described above, but this different method can be arbitrarily determined according to the purpose. . For example, of the pair of electrodes facing each other with the ceramic layer in between, the thickness of one electrode may be different from the thickness of the other electrode. Alternatively, as described in claim 2, the electrodes may be configured so that the thicknesses thereof are partially different on the same plane, and if the thicknesses of the plurality of electrodes formed on the same plane are different between the electrodes. You may let me.

【0015】さらに、本発明における電極とは、コンデ
ンサやインダクタなどの電子部品素子の電極として機能
するものに限らず、配線パターンを構成する電極も含ま
れる。この配線パターンを構成する電極としては、焼結
体内において所定の高さ位置の平面上に延びるものに限
らず、請求項3に記載のように、上下の電極同士を電気
的に接続するためのビアホール電極も含まれる。すなわ
ち、請求項3では、厚みが異ならされた電極部分または
電極のうち、厚みの相対的に厚い電極部分または電極
が、セラミック層を介して隔てられた上方または下方の
電極に接続されるように構成されてビアホール電極が形
成されている。
Furthermore, the electrodes in the present invention are not limited to those that function as electrodes of electronic component elements such as capacitors and inductors, but also include electrodes that form wiring patterns. The electrodes forming this wiring pattern are not limited to those extending on a plane at a predetermined height position in the sintered body, and as described in claim 3, for electrically connecting the upper and lower electrodes to each other. Via hole electrodes are also included. That is, in claim 3, among the electrode portions or electrodes having different thicknesses, the electrode portion or electrode having a relatively large thickness is connected to the upper or lower electrode separated by the ceramic layer. A via hole electrode is formed.

【0016】上記のように、本発明における電極とは、
焼結体に形成される導電部分のすべてを総称するもので
あり、さらに、焼結体内に形成されるものだけでなく、
焼結体外表面に形成されるものであってもよい。
As described above, the electrode in the present invention is
It is a general term for all the conductive parts formed in the sintered body, and not only those formed in the sintered body,
It may be formed on the outer surface of the sintered body.

【0017】請求項4に記載の発明は、請求項1に記載
の発明の積層セラミック電子部品の製造方法を提供する
ものであり、支持体上に薄膜形成法により電極を構成す
るための少なくとも1つの金属膜を形成する工程と、前
記支持体上にセラミックグリーンシートを形成して、支
持体に支持された電極セラミックス一体化シートを得る
工程と、複数の前記電極セラミックス一体化シートを積
層して積層体を得る工程と、前記積層体を焼成する工程
とを備え、前記積層体内において少なくとも1つの金属
膜が、部分的にまたは他の金属膜と厚みが異ならされて
いる、積層セラミック電子部品の製造方法である。
A fourth aspect of the present invention provides a method for manufacturing a monolithic ceramic electronic component according to the first aspect of the present invention, which comprises at least one electrode for forming an electrode on a support by a thin film forming method. Forming a single metal film, forming a ceramic green sheet on the support to obtain an electrode ceramics integrated sheet supported by the support, and stacking a plurality of electrode ceramics integrated sheets A multilayer ceramic electronic component, comprising: a step of obtaining a laminate and a step of firing the laminate, wherein at least one metal film in the laminate has a thickness partially or different from that of another metal film. It is a manufacturing method.

【0018】また、電極構成用金属膜の厚みの異ならせ
方としては、目的に応じて種々変更し得る。例えば、上
記電極セラミックス一体化シートを得るに先立ち、支持
体上に金属膜を形成するにあたり、支持体上に形成され
る金属膜の厚みを異ならせることによって行ってもよ
い。あるいは、同一平面上において電極の厚みを部分的
に異ならせる際には、1つの支持体上に形成される金属
膜を部分的に厚みが異なるように形成すればよい。さら
に、同一平面上において、複数の電極間で厚みを異なら
せた構造を得るには、請求項5に記載のように、少なく
とも1枚の電極セラミックス一体化シートにおいて、厚
みの異なる複数の金属膜を構成すればよい。
The method of making the thickness of the electrode-constituting metal film different may be variously changed according to the purpose. For example, prior to obtaining the electrode ceramics integrated sheet, a metal film may be formed on the support by varying the thickness of the metal film formed on the support. Alternatively, when the electrodes have different thicknesses on the same plane, the metal films formed on one support may be formed so as to have different thicknesses. Furthermore, in order to obtain a structure in which a plurality of electrodes have different thicknesses on the same plane, as described in claim 5, in at least one electrode ceramics integrated sheet, a plurality of metal films having different thicknesses are used. Should be configured.

【0019】また、上記ビアホール電極を形成するにあ
たっては、請求項6に記載のように、厚みの異なる金属
膜部分または金属膜のうち、厚みの厚い金属膜部分また
は金属膜がセラミックグリーンシートを貫通するよう形
成しておけばよい。なお、上記電極セラミックス一体化
シートを用いて上記積層体を得るにあたっては、請求項
7に記載のように、支持体に支持された電極セラミック
ス一体化シートを、転写法により転写して積層していく
ことにより行われ得る。この場合、支持体は、積層に先
立ち電極セラミックス一体化シートから剥離されていて
もよく、転写後に剥離されてもよい。
In forming the via-hole electrode, as described in claim 6, among the metal film portions or the metal films having different thicknesses, the thick metal film portion or the metal film penetrates the ceramic green sheet. It may be formed so that When the laminated body is obtained using the electrode-ceramics integrated sheet, the electrode-ceramics integrated sheet supported by a support is transferred by a transfer method and laminated as described in claim 7. It can be done by going. In this case, the support may be peeled off from the electrode ceramics integrated sheet prior to lamination, or may be peeled off after transfer.

【0020】なお、上記薄膜形成法とは、蒸着、メッキ
もしくはスパッタリングなどの従来より公知の薄膜形成
法を含むものであり、導電ペーストを用いて構成された
内部電極の場合とは異なり、セラミックス焼成前にすで
に金属膜として完成されているものである。
The above-mentioned thin film forming method includes a conventionally known thin film forming method such as vapor deposition, plating or sputtering, and unlike the case of the internal electrode formed by using a conductive paste, ceramic firing It has already been completed as a metal film before.

【0021】[0021]

【作用】請求項1に記載の発明では、電極が薄膜形成法
により形成されているため、セラミック焼成時に電極の
収縮が生じ難い。従って、電極同士や電極と外部電極と
の間の電気的接続の信頼性が高められる。
According to the first aspect of the invention, since the electrodes are formed by the thin film forming method, it is difficult for the electrodes to shrink when firing the ceramic. Therefore, the reliability of the electrical connection between the electrodes or between the electrodes and the external electrode is enhanced.

【0022】しかも、少なくとも1つの電極の厚みが部
分的にまたは他の電極と異ならされているため、この厚
みの異ならせ方を利用して、例えば、上下の電極間の対
向距離を調節することができ、静電容量などの電気的特
性の調節ができる。
In addition, since the thickness of at least one electrode is partially or different from that of the other electrodes, it is possible to adjust the facing distance between the upper and lower electrodes, for example, by using the different thickness. It is possible to adjust electric characteristics such as capacitance.

【0023】請求項2に記載の発明では、同一平面上に
おいて電極の厚みが部分的にまたは他の電極と異ならさ
れているため、上記薄膜形成法により形成された電極を
用いて、静電容量などの電気的特性が異なる電子部品素
子を並設することができる。
According to the second aspect of the invention, since the thickness of the electrode is partially or different from that of the other electrode on the same plane, the capacitance formed by using the electrode formed by the above-mentioned thin film forming method is used. It is possible to arrange electronic component elements having different electrical characteristics such as.

【0024】また、請求項3に記載のように、相対的に
厚みの厚い電極部分または電極を、セラミック層を隔て
て上方または下方に配置された電極に接続することによ
り、上記厚みの厚い電極部分または電極によりビアホー
ル電極を構成することができる。なお、ビアホール電極
も薄膜形成法により形成されることになるため、焼成に
際してビアホール電極の収縮が生じ難い。よって、ビア
ホール電極と内部電極等との電気的接続の信頼性も高め
られる。
Further, as described in claim 3, the relatively thick electrode portion or electrode is connected to the electrode arranged above or below the ceramic layer to separate the thick electrode. A via hole electrode can be formed by the portion or the electrode. Since the via hole electrode is also formed by the thin film forming method, the via hole electrode is unlikely to contract during firing. Therefore, the reliability of the electrical connection between the via hole electrode and the internal electrode can be improved.

【0025】請求項4に記載の発明では、上記支持体上
に金属膜を形成した後に、セラミックグリーンシートを
形成することにより、電極セラミックス一体化シートが
得られ、この電極セラミックス一体化シートを積層し、
焼成することにより請求項1に記載の発明に係る積層セ
ラミック電子部品が得られる。この場合、電極は、支持
体上に薄膜形成法により少なくとも1つの金属膜を形成
することにより形成されるため、後で行われる焼成に際
しては、導電ペーストとは異なり収縮が生じ難い。
In the invention according to claim 4, an electrode ceramics integrated sheet is obtained by forming a ceramic green sheet after forming a metal film on the support, and the electrode ceramics integrated sheet is laminated. Then
By firing, the monolithic ceramic electronic component according to the first aspect of the invention is obtained. In this case, the electrode is formed by forming at least one metal film on the support by a thin film forming method, and therefore, unlike the conductive paste, shrinkage is unlikely to occur during the baking performed later.

【0026】また、請求項1に記載の発明と同様に、少
なくとも1つの金属膜が部分的にまたは他の金属膜と厚
みの異なるように構成されているため、この厚みの異な
らせ方を調節することにより、静電容量などの電気的特
性を調節することができる。
Further, as in the first aspect of the invention, since at least one metal film is configured so as to have a different thickness partially or from other metal films, the method of varying the thickness is adjusted. By doing so, electrical characteristics such as capacitance can be adjusted.

【0027】請求項5に記載の発明では、少なくとも1
枚の電極セラミックス一体化シートにおいて、上記厚み
の異なる金属膜部分または金属膜が構成されているた
め、同一平面上に厚みの異なる電極部分または電極を有
する請求項2に記載の発明の積層セラミック電子部品を
得ることができる。
In the invention described in claim 5, at least 1
3. The multilayer ceramic electronic device according to claim 2, wherein the electrode film integrated with one sheet of the electrode ceramics comprises the metal film portions or the metal films having different thicknesses, and therefore the electrode portions or electrodes having different thicknesses are provided on the same plane. You can get the parts.

【0028】請求項6に記載の発明では、厚みの相対的
に厚い金属膜部分または金属膜がセラミックグリーンシ
ートを貫通する厚みに形成されているため、請求項3に
記載の発明のビアホール電極を、上記相対的に厚みの厚
い金属膜部分または金属膜により構成することができ
る。
In the invention according to claim 6, since the relatively thick metal film portion or the metal film is formed to have a thickness penetrating the ceramic green sheet, the via hole electrode of the invention according to claim 3 is provided. The metal film portion or the metal film having a relatively large thickness can be used.

【0029】[0029]

【実施例の説明】図1〜図6を参照して、本発明の一実
施例の積層セラミック電子部品及びその製造方法を説明
する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A monolithic ceramic electronic component according to an embodiment of the present invention and a method for manufacturing the same will be described with reference to FIGS.

【0030】まず、図1に示す支持体1を用意する。支
持体1は、後述の電極セラミックス一体化シートを支持
するために設けられているものであり、支持体1を構成
する材料は特に限定されるものではない。もっとも、電
極セラミックス一体化シートを転写して積層していく際
に、転写を容易とするためには、可撓性を有する合成樹
脂フィルム、例えばポリエチレンテレフタレートフィル
ムやポリプロピレンフィルムから構成することが好まし
い。また、支持体1の上面には、ふっ素樹脂コーティン
グやシリコン樹脂コーティングなどにより離型処理が施
されていてもよく、それによって電極セラミックス一体
化シートの転写に際しての支持体1からの剥離を容易に
行うことができる。
First, the support 1 shown in FIG. 1 is prepared. The support 1 is provided to support the electrode ceramics integrated sheet described later, and the material forming the support 1 is not particularly limited. However, in order to facilitate transfer when transferring and stacking the electrode ceramics integrated sheets, it is preferable to use a flexible synthetic resin film such as a polyethylene terephthalate film or a polypropylene film. Further, the upper surface of the support 1 may be subjected to a mold release treatment such as a fluorine resin coating or a silicon resin coating, which facilitates the peeling from the support 1 when the electrode ceramics integrated sheet is transferred. It can be carried out.

【0031】次に、支持体1の上面に、薄膜形成法によ
り内部電極を構成するための金属膜2,3を形成する。
薄膜形成法としては、蒸着、メッキもしくはスパッタリ
ングなどの従来より公知の適宜の薄膜形成法を用いるこ
とができる。金属膜2,3は、同じ厚みを有し、ただし
異なる平面形状を有するように構成されている。金属膜
2,3は薄膜形成法により形成されているため、図1に
示した状態において、すでに金属膜として完成されてい
る。従って、後述の焼成工程において収縮は生じ難い。
Next, metal films 2 and 3 for forming internal electrodes are formed on the upper surface of the support 1 by a thin film forming method.
As the thin film forming method, a conventionally known appropriate thin film forming method such as vapor deposition, plating or sputtering can be used. The metal films 2 and 3 have the same thickness, but are configured to have different planar shapes. Since the metal films 2 and 3 are formed by the thin film forming method, they are already completed as metal films in the state shown in FIG. Therefore, shrinkage is unlikely to occur in the firing process described below.

【0032】次に、図2に示すように、支持体1上にお
いて、セラミックグリーンシート4を形成する。セラミ
ックグリーンシート4は、誘電体セラミックスなどのセ
ラミック粉末を含むセラミックスラリーを付与し、金属
膜2,3と等しい厚みとなるように形成されている。す
なわち、金属膜2,3の上面が露出するように、セラミ
ックグリーンシート4の厚みは金属膜2,3とほぼ等し
くされており、それによって電極セラミックス一体化シ
ート5が構成されている。
Next, as shown in FIG. 2, a ceramic green sheet 4 is formed on the support 1. The ceramic green sheet 4 is formed by applying a ceramic slurry containing a ceramic powder such as a dielectric ceramic and having the same thickness as the metal films 2 and 3. That is, the thickness of the ceramic green sheet 4 is made substantially equal to that of the metal films 2 and 3 so that the upper surfaces of the metal films 2 and 3 are exposed, whereby the electrode ceramics integrated sheet 5 is configured.

【0033】他方、上記電極セラミックス一体化シート
5とは別に、図3に示すように、支持フィルム11を用
意する。支持フィルム11は、前述した支持フィルム1
と同様に構成されている。支持フィルム11上に、薄膜
形成法により金属膜12〜14を形成する。金属膜12
〜14は、図示のように、異なる厚みを有する。すなわ
ち、金属膜14が最も厚く、金属膜13、12の順に厚
みが小さくされている。
On the other hand, a support film 11 is prepared separately from the electrode ceramics integrated sheet 5 as shown in FIG. The support film 11 is the support film 1 described above.
Is configured similarly to. The metal films 12 to 14 are formed on the support film 11 by a thin film forming method. Metal film 12
~ 14 have different thicknesses as shown. That is, the metal film 14 is thickest, and the metal films 13 and 12 are made thinner in this order.

【0034】上記のような金属膜12〜14は、金属膜
2,3と同様に蒸着、メッキもしくはスパッタリングな
どの薄膜形成法により形成される。厚みの異なる金属膜
12〜14の形成は、種々の方法により行うことができ
る。例えば、蒸着、メッキもしくはスパッタリングなど
により金属膜を形成するにあたり、まず金属膜12〜1
4が形成されている部分以外をマスクで覆い金属膜を形
成していく。そして、金属膜12の厚みに達した際に、
金属膜12の上面をマスクで覆い、さらに金属膜を形成
していく。次に、金属膜13の厚みが所定の厚みに達し
た際に、金属膜13の上面をマスクで覆い、さらに金属
膜を形成し、金属膜14の厚みが所定の厚みに達した段
階で金属膜の形成を終了すればよい。
Like the metal films 2 and 3, the metal films 12 to 14 as described above are formed by a thin film forming method such as vapor deposition, plating or sputtering. The metal films 12 to 14 having different thicknesses can be formed by various methods. For example, when forming a metal film by vapor deposition, plating or sputtering, first, the metal films 12 to 1
A metal film is formed by covering a portion other than the portion where 4 is formed with a mask. When the thickness of the metal film 12 is reached,
The upper surface of the metal film 12 is covered with a mask to further form a metal film. Next, when the thickness of the metal film 13 reaches a predetermined thickness, the upper surface of the metal film 13 is covered with a mask, a metal film is further formed, and when the thickness of the metal film 14 reaches the predetermined thickness, The formation of the film may be completed.

【0035】次に、図4に示すように、上記支持体11
上にセラミックグリーンシート15を形成する。セラミ
ックグリーンシート15の厚みは、金属膜14の厚みと
ほぼ等しくされている。従って、得られた電極セラミッ
クス一体化シート16においては、金属膜14が上下に
貫通しており、金属膜14の上面14aが露出されてい
る。他方、金属膜13,金属膜12については、その上
面がセラミックグリーンシート15内に埋設されてい
る。
Next, as shown in FIG.
A ceramic green sheet 15 is formed on top. The thickness of the ceramic green sheet 15 is made substantially equal to the thickness of the metal film 14. Therefore, in the obtained electrode-ceramics integrated sheet 16, the metal film 14 penetrates vertically and the upper surface 14a of the metal film 14 is exposed. On the other hand, the upper surfaces of the metal films 13 and 12 are embedded in the ceramic green sheet 15.

【0036】上述のようにして用意した電極セラミック
ス一体化シート5及び16を、他の電極セラミックス一
体化シートとともに積層することにより、図5に示す積
層体21を得る。積層体21においては、最下層に前述
した電極セラミックス一体化シート5が積層されてお
り、その上に電極セラミックス一体化シート22、電極
セラミックス一体化シート16、電極セラミックス一体
化シート23が順に積層されている。電極セラミックス
一体化シート22,23を用意する工程については、特
にその詳細な説明は省略するが、前述した電極セラミッ
クス一体化シート5,16と同様に行われる。ただし、
電極セラミックス一体化シート22は、その厚みが電極
セラミックス一体化シート16と同様に構成されてい
る。また、金属膜24,25が、電極セラミックス一体
化シート22を貫通するように形成されている。なお、
26はセラミックグリーンシートを示す。
The electrode ceramics integrated sheets 5 and 16 prepared as described above are laminated together with other electrode ceramics integrated sheets to obtain a laminate 21 shown in FIG. In the laminated body 21, the electrode ceramics integrated sheet 5 described above is laminated on the lowermost layer, and the electrode ceramics integrated sheet 22, the electrode ceramics integrated sheet 16 and the electrode ceramics integrated sheet 23 are laminated in this order. ing. The steps of preparing the electrode-ceramics integrated sheets 22 and 23 are the same as those of the electrode-ceramics integrated sheets 5 and 16 described above, although a detailed description thereof is omitted. However,
The electrode ceramics integrated sheet 22 has the same thickness as the electrode ceramics integrated sheet 16. Further, the metal films 24 and 25 are formed so as to penetrate the electrode ceramics integrated sheet 22. In addition,
Reference numeral 26 indicates a ceramic green sheet.

【0037】他方、電極セラミックス一体化シート23
は、金属膜27及びセラミックグリーンシート28を一
体化した構造を有し、支持体上において、セラミックグ
リーンシート28を形成した後に、その上面に薄膜形成
法により金属膜27を形成することにより得られてい
る。すなわち、電極セラミックス一体化シート23を得
るにあたっては、支持体上において、最初に金属膜では
なくセラミックグリーンシート28を成形した後に、上
記金属膜27が形成されている。
On the other hand, the electrode ceramics integrated sheet 23
Has a structure in which the metal film 27 and the ceramic green sheet 28 are integrated, and is obtained by forming the ceramic green sheet 28 on the support and then forming the metal film 27 on the upper surface by a thin film forming method. ing. That is, when the electrode-ceramic integrated sheet 23 is obtained, the metal film 27 is formed on the support after first forming the ceramic green sheet 28, not the metal film.

【0038】電極セラミックス一体化シート23のよう
に、本発明において用意される電極セラミックス一体化
シートの製造に際しては、すべての電極セラミックス一
体化シートを、支持体上に金属膜を形成した後にセラミ
ックグリーンシートを成形することによって得たもので
構成する必要はない。
In the production of the electrode ceramics integrated sheet prepared in the present invention, such as the electrode ceramics integrated sheet 23, all the electrode ceramics integrated sheets are formed into a ceramic green film after forming a metal film on the support. It need not consist of what is obtained by molding the sheet.

【0039】次に、上記電極セラミックス一体化シート
5,16,22,23を積層する工程を説明する。ま
ず、積層ステージ上において、電極セラミックス一体化
シート5を、図1に示した向きと逆転させ、金属膜2,
3側が下面となるように載置し、積層ステージ上に圧着
した後、支持体1を剥離する。次に、電極セラミックス
一体化シート5上に、上記と同様にして電極セラミック
ス一体化シート22を支持体とともに積層し圧着した後
支持体(図示せず)を剥離する。このように、支持体で
支持された電極セラミックス一体化シートを上下逆転さ
せて順に積層し、支持体を剥離していく、いわゆる転写
法により、電極セラミックス一体化シート22,16,
23を、順に電極セラミックス一体化シート5上に積層
することができる。
Next, the step of stacking the electrode ceramics integrated sheets 5, 16, 22, and 23 will be described. First, on the stacking stage, the electrode ceramics integrated sheet 5 is reversed to the direction shown in FIG.
The support 3 is placed so that the lower surface is on the 3 side, and the support 1 is peeled off after pressure-bonding on the stacking stage. Next, the electrode-ceramics integrated sheet 22 is laminated on the electrode-ceramics integrated sheet 5 together with the support in the same manner as described above and pressure-bonded, and then the support (not shown) is removed. In this way, the electrode-ceramics integrated sheets 22, 16, which are supported by the support, are stacked upside down in order and peeled off the support.
23 can be sequentially laminated on the electrode ceramics integrated sheet 5.

【0040】もっとも、積層体21を得るにあたって
は、予め支持体から電極セラミックス一体化シートを剥
離し、剥離された電極セラミックス一体化シートを順に
積層していってもよい。しかし、上記の転写法を用いれ
ば、電極セラミックス一体化シートの厚みが薄い場合で
も確実にかつ高精度に積層体21を得ることができるた
め、転写法を用いることが望ましい。
However, in obtaining the laminate 21, the electrode ceramics integrated sheet may be peeled from the support in advance, and the peeled electrode ceramics integrated sheets may be laminated in order. However, if the above-mentioned transfer method is used, the laminated body 21 can be reliably and highly accurately obtained even when the thickness of the electrode ceramics integrated sheet is thin, and thus the transfer method is preferable.

【0041】上記のようにして得た積層体21を焼成す
ることにより、図6に示すセラミック多層基板41を得
ることができる。セラミック多層基板41では、上記電
極セラミックス一体化シート5,16,22,23のセ
ラミックグリーンシート4,15,26,28が焼成さ
れ、セラミック焼結体42が形成されている。このセラ
ミック焼結体42内に、上述した金属膜よりなる電極
2,3,12,13,14,24,25,27が構成さ
れている(上記電極の参照番号としては説明を容易とす
るために、前述した金属膜の参照番号をそのまま用いる
ことにする。)。
By firing the laminate 21 obtained as described above, the ceramic multilayer substrate 41 shown in FIG. 6 can be obtained. In the ceramic multilayer substrate 41, the ceramic green sheets 4, 15, 26, 28 of the electrode ceramics integrated sheets 5, 16, 22, 23 are fired to form a ceramic sintered body 42. The electrodes 2, 3, 12, 13, 14, 24, 25, 27 made of the above-described metal film are formed in the ceramic sintered body 42 (for ease of explanation, reference numerals of the electrodes are used). The reference numbers of the metal films mentioned above will be used as they are.).

【0042】セラミック多層基板41において、上記電
極14,25は、図示のようにセラミック層42aを介
して上下に隔てられた電極3,27を互いに電気的に接
続しているビアホール電極を構成している。
In the ceramic multi-layer substrate 41, the electrodes 14 and 25 constitute via-hole electrodes which electrically connect the electrodes 3 and 27, which are vertically separated by the ceramic layer 42a, as shown in the figure. There is.

【0043】本実施例のセラミック多層基板41では、
上記のように、内部に形成される電極12,13,27
や外表面に形成される電極2,3だけでなく、ビアホー
ル電極も薄膜形成法により形成された金属膜により構成
されている。従って、セラミック焼結体42を得るにあ
たっての焼成に際し、上記各電極の収縮が生じ難い。よ
って、内部電極間やビアホール電極と内部電極との電気
的接続、さらに外部電極などの外表面に位置する電極と
内部の内部電極やビアホール電極との電気的接続の信頼
性が高められる。
In the ceramic multilayer substrate 41 of this embodiment,
As described above, the electrodes 12, 13, 27 formed inside are
Not only the electrodes 2 and 3 formed on the outer surface, but also the via-hole electrodes are made of a metal film formed by a thin film forming method. Therefore, during firing for obtaining the ceramic sintered body 42, the above-mentioned electrodes are unlikely to contract. Therefore, the reliability of the electrical connection between the internal electrodes, the electrical connection between the via hole electrode and the internal electrode, and the electrical connection between the electrode located on the outer surface such as the external electrode and the internal internal electrode or the via hole electrode can be improved.

【0044】さらに、電極3と電極13とはコンデンサ
を構成している。この場合、電極3,13の厚みが、図
示のように異ならされている。従って、電極13の厚み
を調節することにより、電極3,13間の対向距離を調
節することができるため、それによって静電容量の調整
を図ることができる。すなわち、電極13の厚みを増大
させることにより、コンデンサ構成部分の面積を増大さ
せることなく、より大きな静電容量のコンデンサ部を構
成することができる。従って、セラミック多層基板41
におけるコンデンサ構成部分の面積を小さくすることが
でき、セラミック多層基板41の小型化及びセラミック
多層基板41内における電子部品素子の集積密度の向上
を図り得る。
Further, the electrodes 3 and 13 form a capacitor. In this case, the electrodes 3 and 13 have different thicknesses as illustrated. Therefore, since the facing distance between the electrodes 3 and 13 can be adjusted by adjusting the thickness of the electrode 13, the capacitance can be adjusted accordingly. That is, by increasing the thickness of the electrode 13, it is possible to configure a capacitor portion having a larger capacitance without increasing the area of the capacitor constituent portion. Therefore, the ceramic multilayer substrate 41
It is possible to reduce the area of the capacitor constituent part in the above, and it is possible to miniaturize the ceramic multilayer substrate 41 and improve the integration density of electronic component elements in the ceramic multilayer substrate 41.

【0045】また、本実施例のセラミック多層基板41
では、電極12,13,14のように、同一平面に位置
する複数の電極において、厚みが異ならされている。従
来の導電ペーストをセラミックグリーンシート上にスク
リーン印刷して複数の電極を形成する方法では、このよ
うに同一平面に位置する複数の電極の厚みを大きく異な
らせることは非常に困難であった。これに対して、本実
施例では、上記のように薄膜形成法により電極12〜1
4が形成されているため、図示のように種々の厚みの電
極12〜14を正確に形成することができる。
The ceramic multilayer substrate 41 of this embodiment is also used.
Then, like the electrodes 12, 13 and 14, a plurality of electrodes located on the same plane have different thicknesses. In the conventional method of forming a plurality of electrodes by screen-printing a conductive paste on a ceramic green sheet, it was very difficult to make the thicknesses of the plurality of electrodes located on the same plane largely different from each other. On the other hand, in this embodiment, the electrodes 12 to 1 are formed by the thin film forming method as described above.
4 is formed, it is possible to accurately form the electrodes 12 to 14 having various thicknesses as illustrated.

【0046】図7は、本発明の第2の実施例の要部を示
す略図的斜視図であり、セラミック多層基板に内蔵され
るコンデンサ部分のみを取り出して模式的に示す斜視図
である。
FIG. 7 is a schematic perspective view showing the main part of the second embodiment of the present invention, and is a perspective view schematically showing only the capacitor portion built in the ceramic multilayer substrate.

【0047】このセラミック多層基板に内蔵されている
コンデンサ部61は、参照番号62で示す外形線にそっ
た矩形形状を有する。ここでは、平面形状が矩形の電極
63,64が対向されて第1のコンデンサ部65が構成
されており、その側方に所定距離を隔てて電極66,6
7が対向されて第2のコンデンサ部68が構成されてい
る。電極66,67の面積は、電極63,64と同一と
されている。もっとも、電極63,64間の距離に比べ
て、電極66,67間の対向距離は1/2とされてい
る。すなわち、電極66,67間の対向距離が、電極6
3,64間の対向距離の1/2となるように、電極67
の厚みが図示のように厚くされている。
The capacitor portion 61 built in this ceramic multilayer substrate has a rectangular shape along the outline indicated by reference numeral 62. Here, the electrodes 63 and 64 each having a rectangular planar shape are opposed to each other to form the first capacitor section 65, and the electrodes 66 and 6 are laterally separated by a predetermined distance.
7 are opposed to each other to form a second capacitor section 68. The areas of the electrodes 66 and 67 are the same as those of the electrodes 63 and 64. However, the facing distance between the electrodes 66 and 67 is ½ of the distance between the electrodes 63 and 64. That is, the facing distance between the electrodes 66 and 67 is
The electrode 67 is arranged so that it is half the facing distance between the electrodes 3 and 64.
Is thicker as shown.

【0048】従って、第1のコンデンサ部65と第2の
コンデンサ部68とは構成部分の面積及び厚みが等しい
にも係わらず、第2のコンデンサ部68の静電容量が、
第1のコンデンサ部65の2倍とされている。すなわ
ち、第1のコンデンサ部65の2倍の容量を有する第2
のコンデンサ部68は、第1のコンデンサ部65と同一
寸法まで小型化されていることがわかる。
Therefore, although the first capacitor section 65 and the second capacitor section 68 have the same area and thickness of the constituent parts, the capacitance of the second capacitor section 68 is
It is twice as large as the first capacitor section 65. That is, the second capacitor having twice the capacity of the first capacitor unit 65
It can be seen that the capacitor section 68 of No. 1 is downsized to the same size as the first capacitor section 65.

【0049】このように、薄膜形成法により形成された
金属膜の厚みを異ならせて電極厚みを異ならせることに
より、同一寸法でより大きな静電容量の得られるコンデ
ンサを構成することができる。また、種々の容量のコン
デンサ部を、コンデンサ部を構成する寸法を一定とした
まま構成することができ、従ってセラミック多層基板内
におけるコンデンサ部の寸法を容量の如何に係わらず標
準化することもでき、それによってセラミック多層基板
内における電気的接続構造の設計を容易とすることがで
きる。
In this way, by making the thickness of the metal film formed by the thin film forming method different so as to make the electrode thickness different, it is possible to construct a capacitor having the same size and a larger electrostatic capacitance. Further, it is possible to configure the capacitor parts of various capacities while keeping the size of the capacitor part constant, and therefore, the size of the capacitor part in the ceramic multilayer substrate can be standardized regardless of the capacity, This facilitates the design of the electrical connection structure in the ceramic multilayer substrate.

【0050】なお、図7はセラミック多層基板内におい
て第1,第2のコンデンサ部65,68が形成されてい
る部分のみを取り出して模式的に示した図であり、各電
極63,64,66,67の上面または下面には、セラ
ミック層や他の電子部品素子が連なって構成されている
ことを指摘しておく。
Incidentally, FIG. 7 is a diagram schematically showing only the portions where the first and second capacitor portions 65 and 68 are formed in the ceramic multilayer substrate, and the respective electrodes 63, 64 and 66. It should be pointed out that a ceramic layer and other electronic component elements are formed in series on the upper surface or the lower surface of the electrodes 67 and 67.

【0051】また、上述した第1,第2の実施例では、
電極の厚みを異ならせることにより、静電容量の調節を
図っていたが、電極の厚みを異ならせることにより、静
電容量以外の他の電気的特性を調節することも可能であ
る。
Further, in the above-mentioned first and second embodiments,
Although the electrostatic capacity is adjusted by changing the thickness of the electrodes, it is possible to adjust other electric characteristics other than the electrostatic capacity by changing the thickness of the electrodes.

【0052】また、第1,第2の実施例は、セラミック
多層基板に用いたものであるが、本発明は複数のコンデ
ンサを内蔵した積層コンデンサ、インダクタやコンデン
サなどの複数の電子部品素子を内蔵してなる複合型の積
層セラミック電子部品にも適用することができる。
Although the first and second embodiments are used for the ceramic multilayer substrate, the present invention incorporates a plurality of electronic component elements such as a multilayer capacitor having a plurality of capacitors incorporated therein, an inductor and a capacitor. It can also be applied to a composite type multilayer ceramic electronic component formed by the above.

【0053】[0053]

【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、薄膜形
成法により電極が形成されているため、セラミックス焼
成に際して電極の収縮が生じ難い。従って、複数の電極
間の電気的接続の信頼性が高められる。
According to the first aspect of the invention, since the electrodes are formed by the thin film forming method, it is difficult for the electrodes to shrink when firing the ceramics. Therefore, the reliability of the electrical connection between the plurality of electrodes is improved.

【0054】また、複数の電極のうち少なくとも1つの
電極の厚みが部分的にまたは他の電極と異ならされてい
るため、この異ならせ方を調節することにより、対向電
極間の距離を制御することができ、それによって静電容
量などの電気的特性を調節することができる。特に、コ
ンデンサ部を構成する場合には、電極の厚みの異ならせ
方を制御することにより、静電容量を調整することがで
き、さらに少なくとも一方の電極の厚みを厚くすること
により、対向電極間の距離を狭めて大きな静電容量を実
現することができる。よって、コンデンサ部の寸法を増
大させることなく、大きな静電容量のコンデンサ部を構
成することができるため、コンデンサ内蔵密度を高める
ことができる。
Since the thickness of at least one of the plurality of electrodes is partially or different from that of the other electrodes, the distance between the counter electrodes can be controlled by adjusting the difference. It is possible to adjust the electric characteristics such as the capacitance. In particular, when configuring a capacitor part, the capacitance can be adjusted by controlling the way in which the electrodes have different thicknesses, and by increasing the thickness of at least one electrode It is possible to realize a large capacitance by reducing the distance. Therefore, it is possible to configure a capacitor section having a large electrostatic capacity without increasing the size of the capacitor section, so that the density of built-in capacitors can be increased.

【0055】請求項2に記載の発明では、同一平面上に
おいて、厚みが部分的にまたは他の電極と異ならされて
いる電極が形成されているため、同一平面上において容
量などの電気的特性の異なる電子部品素子部を構成する
ことができる。
According to the second aspect of the present invention, since electrodes having a thickness partially or different from those of the other electrodes are formed on the same plane, the electric characteristics such as capacitance on the same plane can be improved. Different electronic component element parts can be configured.

【0056】請求項3に記載の発明によれば、厚みの厚
い電極部分または電極が、セラミック層を間に隔てて配
置された上方または下方の電極に電気的に接続されてビ
アホール電極が形成されているため、従来の導電ペース
トを用いて構成されたビアホール電極に比べて、ビアホ
ール電極の電気的接続の信頼性を高めることができる。
According to the third aspect of the present invention, the thick electrode portion or electrode is electrically connected to the upper or lower electrode arranged with the ceramic layer in between to form the via hole electrode. Therefore, the reliability of the electrical connection of the via-hole electrode can be improved as compared with the via-hole electrode formed using the conventional conductive paste.

【0057】請求項4〜6に係る発明によれば、上記請
求項1〜3に記載の発明の導電部分の接続の信頼性に優
れかつ電子部品素子内蔵密度の高い積層セラミック電子
部品を提供することができる。
According to the inventions of claims 4 to 6, there is provided a monolithic ceramic electronic component having excellent reliability of connection of the conductive parts of the inventions of claims 1 to 3 and having a high density of embedded electronic component elements. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例で用意される支持体上に電極を形成した
状態を示す断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a state in which electrodes are formed on a support prepared in an example.

【図2】図1に示した支持体上にセラミックグリーンシ
ートを形成して得られた電極セラミックス一体化シート
を説明するための断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining an electrode ceramics integrated sheet obtained by forming a ceramic green sheet on the support shown in FIG.

【図3】実施例で用意される支持体上に電極を形成した
状態を示す断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state in which electrodes are formed on a support prepared in an example.

【図4】図3に示した支持体上にセラミックグリーンシ
ートを成形した得られた電極セラミックス一体化シート
を説明するための断面図。
4 is a cross-sectional view for explaining an electrode ceramics integrated sheet obtained by forming a ceramic green sheet on the support shown in FIG.

【図5】実施例で用意された積層体を示す断面図。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a laminated body prepared in an example.

【図6】実施例で得られたセラミック多層基板を説明す
るための断面図。
FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining a ceramic multilayer substrate obtained in an example.

【図7】第2の実施例におけるセラミック多層基板中の
コンデンサ部が構成されている部分を取り出して示す模
式的斜視図。
FIG. 7 is a schematic perspective view showing a portion of a ceramic multilayer substrate according to a second embodiment in which a capacitor portion is formed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,11…支持体 2〜4,12〜14…金属膜(電極) 24,25,27…金属膜(電極) 22,23…電極セラミックス一体化シート 26,28…セラミックグリーンシート 21…積層体 41…セラミック多層基板 42…焼結体 65…第1のコンデンサ部 68…第2のコンデンサ部 63,64,66,67…電極 1, 11 ... Supports 2-4, 12-14 ... Metal film (electrode) 24, 25, 27 ... Metal film (electrode) 22, 23 ... Electrode ceramics integrated sheet 26, 28 ... Ceramic green sheet 21 ... Laminated body 41 ... Ceramic multilayer substrate 42 ... Sintered body 65 ... First capacitor part 68 ... Second capacitor part 63, 64, 66, 67 ... Electrode

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 薄膜形成法により形成された複数の電極
がセラミック層を介して積層された焼結体を有する積層
セラミック電子部品において、 前記複数の電極のうち、少なくとも1つの電極の厚みが
部分的にまたは他の電極の厚みと異ならされていること
を特徴とする、積層セラミック電子部品。
1. A monolithic ceramic electronic component having a sintered body in which a plurality of electrodes formed by a thin film forming method are laminated via ceramic layers, wherein at least one of the plurality of electrodes has a partial thickness. Or a thickness of another electrode, a laminated ceramic electronic component.
【請求項2】 同一高さ位置の平面上に形成された少な
くとも1つの電極を有し、前記少なくとも1つの電極の
厚みが部分的にまたは同一平面上に位置する他の電極と
異ならされている、請求項1に記載の積層セラミック電
子部品。
2. It has at least one electrode formed on a plane at the same height position, and the thickness of the at least one electrode is partially or differently made different from other electrodes located on the same plane. The multilayer ceramic electronic component according to claim 1.
【請求項3】 厚みが異ならされた前記電極のうち、厚
みの相対的に厚い電極部分または電極が、セラミック層
を介して隔てられた上方または下方の電極に接続される
ように構成されてビアホール電極が形成されている、請
求項1に記載の積層セラミック電子部品。
3. The via hole is configured such that, of the electrodes having different thicknesses, an electrode portion or electrode having a relatively large thickness is connected to an upper electrode or a lower electrode separated by a ceramic layer. The multilayer ceramic electronic component according to claim 1, wherein an electrode is formed.
【請求項4】 支持体上に薄膜形成法により電極を構成
するための少なくとも1つの金属膜を形成する工程と、 前記支持体上にセラミックグリーンシートを形成して、
支持体に支持された電極セラミックス一体化シートを得
る工程と、 複数の前記電極セラミックス一体化シートを積層して積
層体を得る工程と、 前記積層体を焼成する工程とを備え、 前記積層体内において少なくとも1つの金属膜の厚み
が、部分的にまたは他の金属膜の厚みと異ならされてい
る、積層セラミック電子部品の製造方法。
4. A step of forming at least one metal film for forming an electrode on a support by a thin film forming method, and forming a ceramic green sheet on the support,
A step of obtaining an electrode ceramics integrated sheet supported by a support, a step of obtaining a laminated body by laminating a plurality of the electrode ceramics integrated sheets, and a step of firing the laminated body, A method of manufacturing a multilayer ceramic electronic component, wherein the thickness of at least one metal film is partially or different from the thickness of another metal film.
【請求項5】 前記少なくとも1つの電極セラミックス
一体化シートにおいて、厚みの異なる金属膜部分または
金属膜が構成されている、請求項4に記載の積層セラミ
ック電子部品の製造方法。
5. The method for manufacturing a laminated ceramic electronic component according to claim 4, wherein the at least one electrode ceramics integrated sheet has metal film portions or metal films having different thicknesses.
【請求項6】 前記厚みの異なる金属膜部分または金属
膜のうち、相対的に厚みの厚い金属膜部分または金属膜
が、前記セラミックグリーンシートを貫通するように形
成されている、請求項4に記載の積層セラミック電子部
品の製造方法。
6. The metal film portion or the metal film having a relatively large thickness among the metal film portions or the metal films having different thicknesses is formed so as to penetrate the ceramic green sheet. A method for manufacturing the multilayer ceramic electronic component described.
【請求項7】 前記電極セラミックス一体化シートを積
層する工程が、支持体上に支持された電極セラミックス
一体化シートを転写していくことにより行われる、請求
項4に記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
7. The laminated ceramic electronic component according to claim 4, wherein the step of laminating the electrode ceramics integrated sheet is carried out by transferring the electrode ceramics integrated sheet supported on a support. Production method.
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JP3605394A Pending JPH07245232A (en) 1994-03-07 1994-03-07 Layered ceramic electronic parts and its production

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JP (1) JPH07245232A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5745335A (en) * 1996-06-27 1998-04-28 Gennum Corporation Multi-layer film capacitor structures and method

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