JPH07244982A - Word line selecting circuit - Google Patents

Word line selecting circuit

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JPH07244982A
JPH07244982A JP6062200A JP6220094A JPH07244982A JP H07244982 A JPH07244982 A JP H07244982A JP 6062200 A JP6062200 A JP 6062200A JP 6220094 A JP6220094 A JP 6220094A JP H07244982 A JPH07244982 A JP H07244982A
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JP
Japan
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word line
transistor
power supply
selection circuit
line selection
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JP6062200A
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Japanese (ja)
Inventor
Shintaro Shibata
信太郎 柴田
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Abstract

PURPOSE:To obtain a word line selecting circuit capable of surely deterring transient currents, easy for design and suitable for high-integration of a semiconductor memory. CONSTITUTION:In an inactivated state, a control signal phi10 becomes an 'H' and consequently transistors Q11 and Q19 having high threshold voltages come into nonconductive conditions and the supply of a power source voltage VCC to a pseudo power source voltage VDD is completely stopped and also a current passing through the inside of an NAND gate 1 is completely interrupted. Further, a control signal phi11 becomes an 'L' and then a transistor Q18 comes into a conductive condition and since the output of the NAND gate 1 is held at the level of the power source voltage VXCC and a transistor Q16 is controlled to be always a nonconductive condition, a current flowing from the drain to the source of the transistor Q16 is suppressed to be of the order of the leakage current flowing through a MOS transistor.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体メモリ装置のワ
ード線選択回路に関し、特に半導体メモリ装置が非活性
状態にある場合にメモリセル周辺の回路における消費電
力を低減するワード線選択回路に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a word line selection circuit for a semiconductor memory device, and more particularly to a word line selection circuit for reducing power consumption in circuits around memory cells when the semiconductor memory device is inactive. Is.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、非活性状態(スタンバイ状態)
にある半導体メモリ装置の消費電力は、MOSトランジ
スタのソース−ドレイン間に流れるリーク電流に依存し
ている。MOSトランジスタのリーク電流は、MOSト
ランジスタのしきい値電圧を高く設定することにより低
減できるが、同時にスイッチング時間が増大する原因と
なる。従来、このようなスイッチング時間に与える影響
を最小限にするとともに、リーク電流を低減する方法と
して、低いしきい値電圧を有するMOSトランジスタで
構成された論理ゲートに高いしきい値電圧のMOSトラ
ンジスタによるスイッチを直列接続する方法が提案され
ている(例えば、S.Muto, 1V High-Speed Digital Circ
uit Technology with 0.5um Muti-threshold CMOS, IEE
E International ASIC Conference and Exhibit, pp186
-189, September 27 to October 1, 1993 )。
2. Description of the Related Art Generally, an inactive state (standby state)
The power consumption of the semiconductor memory device described above depends on the leak current flowing between the source and drain of the MOS transistor. Although the leakage current of the MOS transistor can be reduced by setting the threshold voltage of the MOS transistor high, it also causes a switching time to increase. Conventionally, as a method of minimizing the influence on the switching time and reducing the leak current, a MOS transistor having a high threshold voltage is used for a logic gate formed of a MOS transistor having a low threshold voltage. A method of connecting switches in series has been proposed (for example, S.Muto, 1V High-Speed Digital Circ
uit Technology with 0.5um Muti-threshold CMOS, IEE
E International ASIC Conference and Exhibit, pp186
-189, September 27 to October 1, 1993).

【0003】以下、前述の方法を半導体メモリ装置のワ
ード線選択回路に適用した場合について説明する。図5
は、従来の方法による半導体メモリ装置のワード線選択
回路を示す回路図であり、同図において、Q51は高い
しきい値を有するPchMOSトランジスタであり、活性
/非活性状態を示す制御信号φ50に応じて、疑似電源
線VDDに対する電源電圧VCCの供給を制御するものであ
る。6は半導体メモリ装置におけるアドレスデコード部
を構成する2入力NANDゲートであり、半導体メモリ
装置に入力されたアドレス信号IN51,IN52に基
づきワード線WLを選択するものである。
A case where the above method is applied to a word line selection circuit of a semiconductor memory device will be described below. Figure 5
FIG. 4 is a circuit diagram showing a word line selection circuit of a semiconductor memory device according to a conventional method. In the figure, Q51 is a PchMOS transistor having a high threshold value, which corresponds to a control signal φ50 indicating an active / inactive state. Thus, the supply of the power supply voltage V CC to the pseudo power supply line V DD is controlled. Reference numeral 6 denotes a 2-input NAND gate which constitutes an address decoding unit in the semiconductor memory device, and selects the word line WL based on the address signals IN51 and IN52 input to the semiconductor memory device.

【0004】7はインバータであり、NANDゲート6
の出力(接続点T5)を入力としてワード線WLに反転
出力するワードドライバである。NANDゲート6およ
びインバータ7は、ともに疑似電源線VDDから電源供給
されている。C5は疑似電源線VDDの寄生容量、Q58
は非選択状態においてワード線WLの電位を接地電位に
クランプするNchMOSトランジスタである。なお、N
ANDゲート6は、疑似電源線VDDと出力との間に並列
接続されアドレス信号IN51,IN52をそれぞれ入
力とするPchMOSトランジスタQ52,Q53と、出
力と接地電位との間に直列接続されアドレス信号IN5
1,IN52をそれぞれ入力とするNchMOSトランジ
スタQ54,Q55とから構成され、またインバータ7
は疑似電源線VDDと出力との間に接続されたPchMOS
トランジスタQ56と、出力と接地電位との間に接続さ
れたNchMOSトランジスタQ57とから構成されてい
る。
Reference numeral 7 denotes an inverter, which is a NAND gate 6
Is a word driver that receives the output (connection point T5) as an input and inverts and outputs it to the word line WL. Both the NAND gate 6 and the inverter 7 are supplied with power from the pseudo power supply line V DD . C5 is the parasitic capacitance of the pseudo power line V DD , Q58
Is an NchMOS transistor that clamps the potential of the word line WL to the ground potential in the non-selected state. Note that N
The AND gate 6 is connected in parallel between the pseudo power supply line V DD and the output, and is connected in series between the PchMOS transistors Q52 and Q53 which receive the address signals IN51 and IN52, respectively, and the address signal IN5.
1, an NchMOS transistor Q54, Q55 which receives inputs of IN52, and an inverter 7
Is a PchMOS connected between the pseudo power line V DD and the output
It is composed of a transistor Q56 and an NchMOS transistor Q57 connected between the output and the ground potential.

【0005】図5に示すワード選択回路は、1つのワー
ド線WLについて個々に設けられており、半導体メモリ
装置内には、このような単一回路が一次元のアレイ状に
配置されている。ここで、半導体メモリ装置を活性状態
とする場合には、制御信号φ50を低レベル「L」に制
御する。これによりトランジスタQ51は導通状態とな
り、疑似電源線VDDに電源電圧VCCが供給される。従っ
て、ワード線WLをクランプするトランジスタQ58
は、非導通状態となるとともに、NANDゲート6およ
びインバータ7は、疑似電源線VDDからの電源供給によ
り動作可能となり、アドレス信号IN51,IN52に
応じてトランジスタQ54,Q55が導通状態となった
場合には、インバータ7を介してワード線WLに高レベ
ル「H」が出力され、所定のメモリセル(図示せず)が
選択状態となる。
The word selection circuit shown in FIG. 5 is individually provided for one word line WL, and such single circuits are arranged in a one-dimensional array in the semiconductor memory device. Here, when the semiconductor memory device is activated, the control signal φ50 is controlled to the low level “L”. As a result, the transistor Q51 becomes conductive and the power supply voltage V CC is supplied to the pseudo power supply line V DD . Therefore, the transistor Q58 that clamps the word line WL
Becomes non-conductive, the NAND gate 6 and the inverter 7 become operable by the power supply from the pseudo power supply line V DD, and the transistors Q54 and Q55 become conductive in response to the address signals IN51 and IN52. , A high level "H" is output to the word line WL via the inverter 7, and a predetermined memory cell (not shown) is brought into a selected state.

【0006】一方、半導体メモリ装置を非活性状態とす
る場合には、制御信号φ50を「H」に制御する。これ
によりトランジスタQ51は非導通状態となり、さらに
トランジスタQ51のしきい値電圧は高く設定されてい
るためリーク電流はほとんどなく、疑似電源線VDDに対
する電源電圧VCCの供給は完全に停止される。これによ
り、スタティックな観点から見れば、NANDゲート6
およびインバータ7における貫通電流はゼロとなるた
め、非活性状態におけるワード線選択回路の消費電力も
ゼロとなる。
On the other hand, when the semiconductor memory device is inactivated, the control signal φ50 is controlled to "H". As a result, transistor Q51 becomes non-conductive, and since the threshold voltage of transistor Q51 is set high, there is almost no leakage current, and supply of power supply voltage V CC to pseudo power supply line V DD is completely stopped. Therefore, from a static point of view, the NAND gate 6
Since the through current in the inverter 7 is zero, the power consumption of the word line selection circuit in the inactive state is also zero.

【0007】ここで、疑似電源線VDDが電源電圧VCC
ら切り離された直後には、疑似電源線VDDの寄生容量C
5に蓄えられていた電荷が、ダイナミックなリーク電流
となってNANDゲート6およびインバータ7を介して
接地電位に放電される。疑似電源線VDD、NANDゲー
ト6およびインバータ7の各部の電位は、電荷の放電に
応じてやがて接地電位まで低下するものとなる。
[0007] Here, immediately after the virtual power supply line V DD is disconnected from the power supply voltage V CC is the parasitic capacitance C of the pseudo power supply line V DD
The charge stored in 5 becomes a dynamic leak current and is discharged to the ground potential via the NAND gate 6 and the inverter 7. The potentials of the pseudo power supply line V DD , the NAND gate 6 and the inverter 7 will eventually drop to the ground potential in response to the discharge of electric charges.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】従って、このような従
来の半導体メモリ装置では、単に高いしきい値を有する
MOSトランジスタを設けて、活性/非活性状態に応じ
て疑似電源線VDDに対する電源電圧VCCの供給を制御す
るものであるため、疑似電源線VDDに大きな寄生容量C
5が存在する場合には、インバータ7の入力電位(T
5)が疑似電源線VDDの電位よりMOSトランジスタの
しきい値電圧以上低くなった場合にインバータ7のトラ
ンジスタQ56が導通状態となり、疑似電源線VDDから
ワード線WLへ電荷(電流I)が流れ込み、この結果、
ワード線WLの電位が上昇しメモリセルが選択状態とな
り、最悪の場合にはメモリセルの記憶内容が破壊される
という問題点があった。
Therefore, in such a conventional semiconductor memory device, a MOS transistor having a high threshold value is simply provided, and the power supply voltage for the pseudo power supply line V DD is changed according to the active / inactive state. Since it controls the supply of V CC , it has a large parasitic capacitance C on the pseudo power line V DD.
5 exists, the input potential (T
5) becomes lower than the potential of the pseudo power supply line V DD by the threshold voltage of the MOS transistor or more, the transistor Q56 of the inverter 7 becomes conductive, and the charge (current I) is transferred from the pseudo power supply line V DD to the word line WL. Flowing in, as a result of this,
There is a problem that the potential of the word line WL rises and the memory cell is selected, and in the worst case, the stored contents of the memory cell are destroyed.

【0009】また、ワード線選択回路の設計段階におい
て、疑似電源線VDDの寄生容量C5を正確に算出して、
過渡的に発生する電流Iをクランプするのに十分な抵抗
値にトランジスタQ58の導通抵抗を設定し、ワード線
WLの電位の上昇を抑制する方法も考えられるが、半導
体メモリ装置の各部に配線される疑似電源線VDDの寄生
容量C5を正確に算出するとともに、これに見合ったク
ランプ用トランジスタQ58を設計するには、膨大な労
力が必要とされるばかりでなく、すべてのワード線WL
に対して占有面積が大きなトランジスタQ58を配置す
る必要があり、半導体メモリ装置の高集積化を妨げる原
因となるという問題点があった。本発明はこのような課
題を解決するためのものであり、過渡的電流を確実に抑
止できるとともに、設計が容易で半導体メモリの高集積
化に適したワード線選択回路を提供することを目的とし
ている。
Further, in the design stage of the word line selection circuit, the parasitic capacitance C5 of the pseudo power supply line V DD is accurately calculated,
A method is possible in which the conduction resistance of the transistor Q58 is set to a resistance value sufficient to clamp the transiently generated current I and the rise of the potential of the word line WL is suppressed, but it is provided in each part of the semiconductor memory device. Not only enormous effort is required to accurately calculate the parasitic capacitance C5 of the pseudo power supply line V DD and also to design the clamp transistor Q58 corresponding thereto, but also all the word lines WL
On the other hand, it is necessary to dispose the transistor Q58 which occupies a large area, which causes a problem of hindering high integration of the semiconductor memory device. The present invention is to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a word line selection circuit which can suppress transient current without fail and which is easy to design and suitable for high integration of a semiconductor memory. There is.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明によるワード線選択回路は、半導体メ
モリ装置を非活性状態とする場合に、ワード線に非選択
状態を示す信号が出力される論理レベルに多入力論理ゲ
ートの出力を設定する設定手段と、半導体メモリ装置を
非活性状態とする場合に、多入力論理ゲート内を電源電
圧から接地電位へ流れる貫通電流を遮断する遮断手段と
を備えるものである。また、遮断手段は、複数のワード
線選択回路にそれぞれ設けられた多入力論理ゲートに共
通して設けられているものである。さらに、設定手段
は、電源電圧とワードドライバの入力との間に接続され
非活性状態に応じて導通状態となるMOSトランジスタ
から構成され、遮断手段は、多入力論理ゲートの接地端
子と接地電位との間に接続され高しきい値電圧を有し非
活性状態に応じて非導通状態となるMOSトランジスタ
から構成されているものである。また、多入力論理ゲー
トは、複数のアドレス信号と半導体メモリ装置の活性/
非活性状態を制御する制御信号とを入力とするNAND
またはNORゲートから構成され、設定手段は、NAN
DまたはNORゲート内で電源電圧と出力との間に並列
接続されたMOSトランジスタのうち制御信号を入力と
するMOSトランジスタから構成され、遮断手段は、N
ANDまたはNORゲート内で出力と接地電位の間に直
列接続されたMOSトランジスタのうち制御信号を入力
とするMOSトランジスタから構成されているものであ
る。さらに、遮断手段を構成するMOSトランジスタ
は、高しきい値電圧を有するものである。
In order to achieve such an object, the word line selection circuit according to the present invention provides a signal indicating a non-selected state to a word line when the semiconductor memory device is inactivated. Setting means for setting the output of the multi-input logic gate to the output logic level, and shutting off the through current that flows from the power supply voltage to the ground potential in the multi-input logic gate when the semiconductor memory device is deactivated. And means. Further, the cutoff means is commonly provided to the multi-input logic gates respectively provided in the plurality of word line selection circuits. Further, the setting means is composed of a MOS transistor connected between the power supply voltage and the input of the word driver and turned on in response to the inactive state, and the cutoff means is provided with the ground terminal and the ground potential of the multi-input logic gate. It is composed of a MOS transistor which is connected between the two and has a high threshold voltage and becomes non-conductive in accordance with the inactive state. In addition, the multi-input logic gate activates / deactivates a plurality of address signals and semiconductor memory devices.
NAND with control signal for controlling inactive state as input
Alternatively, the setting means comprises a NOR gate and the setting means is a NAN.
Of the MOS transistors connected in parallel in the D or NOR gate between the power supply voltage and the output, the MOS transistor receives the control signal, and the breaking means is N
Of the MOS transistors connected in series between the output and the ground potential in the AND or NOR gate, the MOS transistor receives the control signal. Furthermore, the MOS transistor that constitutes the cutoff means has a high threshold voltage.

【0011】[0011]

【作用】従って、半導体メモリ装置を非活性状態とする
場合には、設定手段により、ワード線に非選択状態を示
す信号が出力される論理レベルに多入力論理ゲートの出
力が設定されるとともに、遮断手段により、多入力論理
ゲート内を電源電圧から接地電位へ流れる貫通電流が遮
断される。また、複数のワード線選択回路にそれぞれ設
けられた多入力論理ゲートに共通して設けらた遮断手段
により貫通電流が遮断される。さらに、半導体メモリ装
置を非活性状態とする場合には、設定手段として電源電
圧とワードドライバの入力との間に接続されたMOSト
ランジスタが導通状態となるとともに、遮断手段として
多入力論理ゲートの接地端子と接地電位との間に接続さ
れ高しきい値電圧を有するMOSトランジスタが非導通
状態となる。また、半導体メモリ装置を非活性状態とす
る場合には、設定手段としてNANDまたはNORゲー
ト内で電源電圧と出力との間に並列接続されたMOSト
ランジスタのうち制御信号を入力とするMOSトランジ
スタが導通状態となるとともに、遮断手段としてNAN
DまたはNORゲート内で出力と接地電位の間に直列接
続されたMOSトランジスタのうち制御信号を入力とす
るMOSトランジスタが非導通状態となる。さらに、遮
断手段として高しきい値電圧を有するMOSトランジス
タが非導通状態となる。
Therefore, when the semiconductor memory device is deactivated, the setting means sets the output of the multi-input logic gate to the logic level at which the signal indicating the non-selected state is output to the word line. The cut-off means cuts off a through current flowing from the power supply voltage to the ground potential in the multi-input logic gate. Further, the through current is interrupted by the interrupting means commonly provided to the multi-input logic gates respectively provided in the plurality of word line selection circuits. Further, when the semiconductor memory device is deactivated, the MOS transistor connected between the power supply voltage and the input of the word driver is turned on as the setting means, and the multi-input logic gate is grounded as the breaking means. A MOS transistor connected between the terminal and the ground potential and having a high threshold voltage is rendered non-conductive. Further, when the semiconductor memory device is inactivated, the MOS transistor which receives the control signal among the MOS transistors connected in parallel between the power supply voltage and the output in the NAND or NOR gate as the setting means becomes conductive. It becomes a state and NAN as a blocking means
Among the MOS transistors connected in series between the output and the ground potential in the D or NOR gate, the MOS transistor to which the control signal is input becomes non-conductive. Further, the MOS transistor having a high threshold voltage as the cutoff means is turned off.

【0012】[0012]

【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明の一実施例である半導体メモリ装置に
おけるワード線選択回路の回路図である。同図におい
て、Q11は高いしきい値を有するPchMOSトランジ
スタであり、活性/非活性状態を示す制御信号φ10に
応じて、疑似電源線VDDに対する電源電圧VCCの供給を
制御するものである。1は半導体メモリ装置におけるア
ドレスデコード部を構成する2入力NANDゲートであ
り、半導体メモリ装置に入力されたアドレス信号IN1
1,IN12に基づきワード線WLを選択するものであ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a circuit diagram of a word line selection circuit in a semiconductor memory device which is an embodiment of the present invention. In the figure, Q11 is a PchMOS transistor having a high threshold value, which controls the supply of the power supply voltage V CC to the pseudo power supply line V DD according to the control signal φ10 indicating the active / inactive state. Reference numeral 1 denotes a 2-input NAND gate that constitutes an address decoding unit in the semiconductor memory device, and is an address signal IN1 input to the semiconductor memory device.
The word line WL is selected based on 1, IN12.

【0013】2はインバータであり、NANDゲート1
の出力(接続点T1)を入力としてワード線WLに反転
出力するワードドライバである。NANDゲート1およ
びインバータ2は、それぞれ電源電圧VCCおよび疑似電
源線VDDから電源供給されている。C1は疑似電源線V
DDの寄生容量である。なお、NANDゲート1は、疑似
電源線VDDと出力との間に並列接続されアドレス信号I
N11,IN12をそれぞれ入力とするPchMOSトラ
ンジスタQ12,Q13と、出力と接地電位との間に直
列接続されアドレス信号IN11,IN12をそれぞれ
入力とするNchMOSトランジスタQ14,Q15とか
ら構成され、またインバータ2は疑似電源線VDDと出力
(ワード線WL)との間に接続されたPchMOSトラン
ジスタQ16と、出力と接地電位との間に接続されたN
chMOSトランジスタQ17とから構成されている。
Reference numeral 2 is an inverter, which is a NAND gate 1
Is a word driver that receives the output (connection point T1) of FIG. The NAND gate 1 and the inverter 2 are supplied with power from the power supply voltage V CC and the pseudo power supply line V DD , respectively. C1 is the pseudo power line V
It is the parasitic capacitance of DD . The NAND gate 1 is connected in parallel between the pseudo power supply line V DD and the output, and the address signal I
The inverter 2 includes PchMOS transistors Q12 and Q13 having N11 and IN12 as inputs, and NchMOS transistors Q14 and Q15 which are connected in series between the output and the ground potential and have address signals IN11 and IN12 as inputs, respectively. A PchMOS transistor Q16 connected between the pseudo power supply line V DD and the output (word line WL), and an N connected between the output and the ground potential.
It is composed of a chMOS transistor Q17.

【0014】また、Q18は電源電圧VCCとインバータ
2の入力との間に接続され制御信号φ11を入力とする
PchMOSトランジスタであり、制御信号φ11の低レ
ベル「L」すなわち半導体メモリ装置の非活性状態にお
いて導通状態となり、インバータ2の入力を電源電圧V
CCのレベルに設定するもの、Q19はNANDゲート1
の接地端子(トランジスタQ15のソース)と接地電位
との間に接続され制御信号φ11を入力とするNchMO
Sトランジスタであり、制御信号φ11の「L」すなわ
ち半導体メモリ装置の非活性状態において非導通状態と
なり、NANDゲート1の貫通電流を遮断するものであ
る。
Q18 is a PchMOS transistor which is connected between the power supply voltage V CC and the input of the inverter 2 and receives the control signal φ11 as an input. The low level “L” of the control signal φ11, that is, the semiconductor memory device is inactive. In this state, the power supply voltage V
Set to CC level, Q19 is NAND gate 1
NchMO connected between the ground terminal (source of the transistor Q15) and the ground potential of the control signal φ11
The S transistor is a non-conductive state when the control signal φ11 is "L", that is, in the inactive state of the semiconductor memory device, and cuts off the through current of the NAND gate 1.

【0015】図1に示すワード選択回路は、1つのワー
ド線WLについて個々に設けられており、半導体メモリ
装置内には、このような単一回路が一次元のアレイ状に
配置されている。ここで、半導体メモリ装置を活性状態
とする場合には、制御信号φ10を「L」に制御する。
これによりトランジスタQ11は導通状態となり、疑似
電源線VDDに電源電圧VCCが供給される。従って、イン
バータ2は動作可能となり、アドレス信号IN11,I
N12に応じてトランジスタQ14,Q15が導通状態
となった場合には、すでに制御信号φ11によりトラン
ジスタQ19が導通状態となっているため、インバータ
2を介してワード線WLに高レベル「H」が出力され、
所定のメモリセル(図示せず)が選択状態となる。
The word selection circuit shown in FIG. 1 is individually provided for one word line WL, and such single circuits are arranged in a one-dimensional array in the semiconductor memory device. Here, when the semiconductor memory device is activated, the control signal φ10 is controlled to “L”.
As a result, the transistor Q11 becomes conductive, and the power supply voltage V CC is supplied to the pseudo power supply line V DD . Therefore, the inverter 2 becomes operable and the address signals IN11, I
When the transistors Q14 and Q15 are rendered conductive in response to N12, the transistor Q19 has already been rendered conductive by the control signal φ11, so that the high level “H” is output to the word line WL via the inverter 2. Is
A predetermined memory cell (not shown) is in the selected state.

【0016】一方、半導体メモリ装置を非活性状態とす
る場合には、制御信号φ10を「H」(制御信号φ11
を「L」)に制御する。これによりトランジスタQ11
およびQ19は非導通状態となり、さらにトランジスタ
Q11およびQ19のしきい値電圧は高く設定されてい
るためそれぞれ非導通状態におけるリーク電流はほとん
どなく、疑似電源線VDDに対する電源電圧VCCの供給が
完全に停止されるとともに、アドレス信号IN11,I
N12のレベル状態にかかわらず電源電圧VCCから接地
電位へNANDゲート1内を貫通する電流が完全に遮断
される。これにより、スタティックな観点から見れば、
NANDゲート1およびインバータ2における貫通電流
はゼロとなるため、非活性状態におけるワード線選択回
路の消費電力もゼロとなる。
On the other hand, when the semiconductor memory device is inactivated, the control signal φ10 is set to "H" (control signal φ11).
To "L"). As a result, the transistor Q11
And Q19 are non-conductive, and since the threshold voltages of the transistors Q11 and Q19 are set high, there is almost no leak current in the non-conductive state, and the supply of the power supply voltage V CC to the pseudo power supply line V DD is complete. Address signal IN11, I
The current passing through the NAND gate 1 from the power supply voltage V CC to the ground potential is completely cut off regardless of the level state of N12. This gives you a static perspective
Since the through current in the NAND gate 1 and the inverter 2 becomes zero, the power consumption of the word line selection circuit in the inactive state also becomes zero.

【0017】ここで、疑似電源線VDDが電源電圧VCC
ら切り離された直後には、疑似電源線VDDの寄生容量C
1に蓄えられていた電荷が、ダイナミックなリーク電流
となってNANDゲート1およびインバータ2を介して
接地電位に放電される。しかし、制御信号φ11が
「L」に制御されているため、トランジスタQ18が導
通状態となり、NANDゲート1の出力すなわち接続点
T1が電源電圧VCCのレベルに保持されるものとなり、
これによりインバータ2のトランジスタQ16が常に非
導通状態に制御され、トランジスタQ16のドレインか
らソースに流れる電流は、MOSトランジスタにおける
リーク電流程度に抑制されるものとなる。
[0017] Here, immediately after the virtual power supply line V DD is disconnected from the power supply voltage V CC is the parasitic capacitance C of the pseudo power supply line V DD
The electric charge stored in 1 becomes a dynamic leak current and is discharged to the ground potential via the NAND gate 1 and the inverter 2. However, since the control signal φ11 is controlled to be “L”, the transistor Q18 becomes conductive, and the output of the NAND gate 1, that is, the connection point T1 is held at the level of the power supply voltage V CC ,
As a result, the transistor Q16 of the inverter 2 is always controlled to be in the non-conducting state, and the current flowing from the drain to the source of the transistor Q16 is suppressed to about the leak current in the MOS transistor.

【0018】また、トランジスタQ17が導通状態とな
るため、ダイナミックなリーク電流に対してクランパの
役目を果たすものとなり、ワード線WLは「L」に保持
されるものとなる。従って、半導体メモリ装置内の各ワ
ード線選択回路ごとに、非活性状態においてインバータ
2の入力を電源電圧VCCのレベルに設定するトランジス
タQ18と、NANDゲート1の貫通電流を遮断するト
ランジスタQ19とを設けることにより、ワード線選択
回路における消費電力が削減されるとともに、疑似電源
線VDDの寄生容量に起因するダイナミックなリーク電流
が抑制されて、ワード線WLへの悪影響がなくなり、安
定した動作を実現することが可能となる。
Further, since the transistor Q17 becomes conductive, it serves as a clamper against a dynamic leak current, and the word line WL is held at "L". Therefore, for each word line selection circuit in the semiconductor memory device, a transistor Q18 for setting the input of the inverter 2 to the level of the power supply voltage V CC in the inactive state and a transistor Q19 for cutting off the through current of the NAND gate 1 are provided. By providing, the power consumption in the word line selection circuit is reduced, and the dynamic leak current due to the parasitic capacitance of the pseudo power supply line V DD is suppressed, the word line WL is not adversely affected, and stable operation is performed. It can be realized.

【0019】次に、本発明による第2の実施例につい
て、図2を参照して説明する。図2は、前述の説明(図
1参照)において、個々のワード線選択回路に設けた電
圧レベル設定用のトランジスタQ18と貫通電流遮断用
のトランジスタQ19とを、NANDゲートの一部によ
り実現したものである。同図において、図1の回路図と
同じまたは同等の部分には同一の符号を付してあり、3
は半導体メモリ装置におけるアドレスデコード部を構成
する3入力NANDゲートであり、半導体メモリ装置に
入力されたアドレス信号IN11,IN12および制御
信号φ11に基づき所定のワード線WLを選択するもの
である。
Next, a second embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 shows a configuration in which the transistor Q18 for voltage level setting and the transistor Q19 for shutting off the through current provided in each word line selection circuit are realized by a part of the NAND gate in the above description (see FIG. 1). Is. In the figure, parts that are the same as or equivalent to those in the circuit diagram of FIG.
Is a three-input NAND gate forming an address decoding unit in the semiconductor memory device, and selects a predetermined word line WL based on the address signals IN11, IN12 and the control signal φ11 input to the semiconductor memory device.

【0020】なお、NANDゲート3は、疑似電源線V
DDと出力との間に並列接続されアドレス信号IN11,
IN12および制御信号φ11をそれぞれ入力とするP
chMOSトランジスタQ22,Q23およびQ28と、
出力と接地電位との間に直列接続されアドレス信号IN
11,IN12および制御信号φ11をそれぞれ入力と
するNchMOSトランジスタQ24,Q25およびしき
い値電圧の高いNchMOSトランジスタQ29とから構
成されている。
The NAND gate 3 is connected to the pseudo power line V
Address signal IN11, which is connected in parallel between DD and output,
P to which IN12 and control signal φ11 are input
chMOS transistors Q22, Q23 and Q28,
Address signal IN connected in series between the output and ground potential
11 and IN12 and NchMOS transistors Q24 and Q25 to which the control signal .phi.11 is input respectively, and an NchMOS transistor Q29 having a high threshold voltage.

【0021】動作としては、前述の説明と同様であり、
半導体メモリ装置を活性状態とする場合には、制御信号
φ10を「L」に制御し、これによりトランジスタQ1
1は導通状態となって疑似電源線VDDに電源電圧VCC
供給され、また制御信号φ11が「H」となるのでトラ
ンジスタQ29が導通状態となり、NANDゲート3お
よびインバータ2はそれぞれ動作可能となる。一方、半
導体メモリ装置を非活性状態とする場合には、制御信号
φ10を「H」に制御する。これによりトランジスタQ
11およびQ29は非導通状態となり、さらにトランジ
スタQ11およびQ29のしきい値電圧は高く設定され
ているためそれぞれ非導通状態におけるリーク電流はほ
とんどなく、疑似電源線VDDに対する電源電圧VCCの供
給が完全に停止されるとともに、疑似接地線VSSと接地
電位とが切り離され、電源電圧VCCから接地電位へNA
NDゲート3内を貫通する電流が完全に遮断される。
The operation is similar to that described above,
When the semiconductor memory device is activated, the control signal φ10 is controlled to "L", which causes the transistor Q1.
1 becomes conductive, the power supply voltage V CC is supplied to the pseudo power supply line V DD , and the control signal φ11 becomes "H". Therefore, the transistor Q29 becomes conductive, and the NAND gate 3 and the inverter 2 can operate. Become. On the other hand, when the semiconductor memory device is inactivated, the control signal φ10 is controlled to “H”. This allows the transistor Q
11 and Q29 are in a non-conducting state, and the threshold voltages of the transistors Q11 and Q29 are set high. Therefore, there is almost no leak current in the non-conducting state, and the power supply voltage V CC is supplied to the pseudo power supply line V DD . When it is completely stopped, the pseudo ground line V SS is disconnected from the ground potential, and the power supply voltage V CC is changed to the ground potential NA.
The current passing through the ND gate 3 is completely cut off.

【0022】これにより、スタティックな観点から見れ
ば、NANDゲート3およびインバータ2における貫通
電流はゼロとなるため、非活性状態におけるワード線選
択回路の消費電力もゼロとなる。また、疑似電源線VDD
の寄生容量C1に蓄えられた電荷により、疑似電源線V
DDが電源電圧VCCから切り離された場合に発生するダイ
ナミックなリーク電流は、前述と同様に、トランジスタ
Q28が導通し、インバータ2のトランジスタQ16が
非導通状態に制御されるため、MOSトランジスタにお
けるリーク電流程度に抑制され、さらにトランジスタQ
17が導通状態となるため、ダイナミックなリーク電流
に対してクランパの役目を果たすものとなり、ワード線
WLは「L」に保持されるものとなる。
As a result, from the static point of view, the through current in the NAND gate 3 and the inverter 2 becomes zero, and the power consumption of the word line selection circuit in the inactive state also becomes zero. Also, the pseudo power line V DD
Of the pseudo power supply line V by the electric charge stored in the parasitic capacitance C1 of
The dynamic leak current that occurs when DD is disconnected from the power supply voltage V CC causes the transistor Q28 to be conductive and the transistor Q16 of the inverter 2 to be non-conductive, as described above. It is suppressed to about the current, and the transistor Q
Since 17 becomes conductive, it serves as a clamper against a dynamic leak current, and the word line WL is held at "L".

【0023】従って、半導体メモリ装置内の各ワード線
選択回路ごとに設けられたアドレスデコード用のNAN
Dゲートを3入力NANDゲートで構成し、このうち直
列接続されるMOSトランジスタのいずれかを高しきい
値電圧を有するMOSトランジスタで構成するとともに
このトランジスタに活性状態を制御する制御信号φ11
を入力することにより、前述と同様に、非活性状態にお
いてインバータ2の入力を電源電圧VCCのレベルに設定
し、NANDゲート3の貫通電流を遮断することがで
き、前述の消費電力を削減し安定動作を実現するワード
線選択回路を用いた半導体メモリ装置をより集積化する
ことが可能となる。
Therefore, an NAN for address decoding provided for each word line selection circuit in the semiconductor memory device.
The D gate is formed of a 3-input NAND gate, and one of the MOS transistors connected in series is formed of a MOS transistor having a high threshold voltage, and a control signal φ11 for controlling the active state of this transistor.
By inputting, the input of the inverter 2 can be set to the level of the power supply voltage V CC in the inactive state, and the shoot-through current of the NAND gate 3 can be cut off, thereby reducing the power consumption. It is possible to further integrate the semiconductor memory device using the word line selection circuit that realizes stable operation.

【0024】次に、本発明による第3の実施例につい
て、図3を参照して説明する。図3は、前述の説明(図
1参照)において、個々のワード線選択回路に設けた貫
通電流遮断用のトランジスタQ19の代わりに、トラン
ジスタQ39として複数のワード線選択回路で共用する
ようにしたものである。同図において、図1の回路図と
同じまたは同等の部分には同一の符号を付してあり、Q
39は複数のNANDゲート1の接地端子と接地電位と
の間に接続され制御信号φ11を入力とするNchMOS
トランジスタであり、非導通時のリーク電流をほとんど
ゼロとするために高いしきい値電圧が設定されている。
SSは各ワード線選択回路に設けられた複数のNAND
ゲート1の接地端子を共通に接続する疑似接地線であ
る。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 3, in the above description (see FIG. 1), instead of the transistor Q19 for interrupting the through current provided in each word line selection circuit, a transistor Q39 is shared by a plurality of word line selection circuits. Is. In the figure, parts that are the same as or equivalent to those in the circuit diagram of FIG.
NchMOS 39 is connected between the ground terminals of the plurality of NAND gates 1 and the ground potential and receives the control signal φ11 as an input.
It is a transistor, and a high threshold voltage is set in order to make the leak current at non-conduction almost zero.
V SS is a plurality of NANDs provided in each word line selection circuit
It is a pseudo ground line that connects the ground terminals of the gate 1 in common.

【0025】動作としては、前述の説明と同様であり、
半導体メモリ装置を活性状態とする場合には、制御信号
φ10を「L」に制御し、これによりトランジスタQ1
1は導通状態となって疑似電源線VDDに電源電圧VCC
供給され、また制御信号φ11が「H」となるのでトラ
ンジスタQ39が導通状態となり、疑似接地線VSSの電
位が接地電位と等しくなるため、NANDゲート1およ
びインバータ2はそれぞれ動作可能となる。一方、半導
体メモリ装置を非活性状態とする場合には、制御信号φ
10を「H」(制御信号φ11を「L」)に制御する。
これによりトランジスタQ11およびQ39は非導通状
態となり、さらにトランジスタQ11およびQ39のし
きい値電圧は高く設定されているためそれぞれ非導通状
態におけるリーク電流はほとんどなく、疑似電源線VDD
に対する電源電圧VCCの供給が完全に停止されるととも
に、疑似接地線VSSと接地電位とが切り離され、電源電
圧VCCから接地電位へNANDゲート1内を貫通する電
流が完全に遮断される。
The operation is similar to that described above,
When the semiconductor memory device is activated, the control signal φ10 is controlled to "L", which causes the transistor Q1.
1 becomes conductive, the power supply voltage V CC is supplied to the pseudo power supply line V DD , and the control signal φ11 becomes "H", so that the transistor Q39 becomes conductive and the potential of the pseudo ground line V SS becomes the ground potential. Since they are equal to each other, the NAND gate 1 and the inverter 2 can operate respectively. On the other hand, when the semiconductor memory device is deactivated, the control signal φ
10 is controlled to "H" (control signal φ11 is "L").
As a result, transistors Q11 and Q39 are rendered non-conductive, and since the threshold voltages of transistors Q11 and Q39 are set high, there is almost no leak current in the non-conductive state, and pseudo power supply line VDD
Supply of the power supply voltage V CC to the circuit is completely stopped, the pseudo ground line V SS is disconnected from the ground potential, and the current passing through the NAND gate 1 from the power supply voltage V CC to the ground potential is completely cut off. .

【0026】これにより、スタティックな観点から見れ
ば、NANDゲート1およびインバータ2における貫通
電流はゼロとなるため、非活性状態におけるワード線選
択回路の消費電力もゼロとなる。また、疑似電源線VDD
の寄生容量C1に蓄えられた電荷により、疑似電源線V
DDが電源電圧VCCから切り離された場合に発生するダイ
ナミックなリーク電流は、前述と同様に、トランジスタ
Q18が導通し、インバータ2のトランジスタQ16が
非導通状態に制御されるため、MOSトランジスタにお
けるリーク電流程度に抑制され、さらにトランジスタQ
17が導通状態となるため、ダイナミックなリーク電流
に対してクランパの役目を果たすものとなり、ワード線
WLは「L」に保持されるものとなる。
As a result, from a static point of view, the through current in the NAND gate 1 and the inverter 2 becomes zero, and the power consumption of the word line selection circuit in the inactive state also becomes zero. Also, the pseudo power line V DD
Of the pseudo power supply line V by the electric charge stored in the parasitic capacitance C1 of
The dynamic leak current that occurs when DD is disconnected from the power supply voltage V CC causes the transistor Q18 to be conductive and the transistor Q16 of the inverter 2 to be in a non-conductive state as described above. It is suppressed to about the current, and the transistor Q
Since 17 becomes conductive, it serves as a clamper against a dynamic leak current, and the word line WL is held at "L".

【0027】従って、半導体メモリ装置内の各ワード線
選択回路ごとに、非活性状態においてインバータ2の入
力を電源電圧VCCのレベルに設定するトランジスタQ1
8を設けるとともに、複数のNANDゲート1の貫通電
流を遮断するトランジスタQ39を共通して設けること
により、トランジスタの数を削減することができ、前述
の消費電力を削減し安定動作を実現するワード線選択回
路を用いた半導体メモリ装置をより集積化することが可
能となる。
Therefore, for each word line selection circuit in the semiconductor memory device, the transistor Q1 which sets the input of the inverter 2 to the level of the power supply voltage V CC in the inactive state.
The number of transistors can be reduced by providing 8 and the transistor Q39 that cuts off the through current of a plurality of NAND gates 1 in common, and the word line for reducing the power consumption and realizing the stable operation described above. It is possible to further integrate the semiconductor memory device using the selection circuit.

【0028】なお、以上の説明において、ワード線WL
が「H」すなわち電源電圧VCCレベルである場合に、メ
モリセルが選択状態となる半導体メモリ装置を例に説明
したが、ワード線が「H」すなわち接地電位レベルであ
る場合に、メモリセルが非選択状態となり、「L」すな
わち電源電圧VCC’レベル(VCC’<接地電位)である
場合に選択状態となる半導体メモリ装置でも同様であ
る。以下、図4を参照して、ワード線が「L」すなわち
電源電圧VCCレベルである場合に、メモリセルが選択状
態となる半導体メモリ装置のワード線選択回路について
説明する。
In the above description, the word line WL
Although the description has been given by taking the semiconductor memory device in which the memory cell is in the selected state when is "H", that is, the power supply voltage V CC level, when the word line is "H", that is, the ground potential level, the memory cell is The same applies to the semiconductor memory device which is in the non-selected state and is in the selected state when "L", that is, the power supply voltage V CC 'level (V CC '<ground potential). The word line selection circuit of the semiconductor memory device in which the memory cell is in the selected state when the word line is at the "L" level, that is, the power supply voltage V CC level will be described below with reference to FIG.

【0029】図4は、特に3入力NORゲートを用いた
ワード線選択回路の回路図であり、同図において、Q4
1は高いしきい値を有するNchMOSトランジスタであ
り、活性/非活性状態を示す制御信号φ40に応じて、
疑似電源線VDD’に対する電源電圧VCC’の供給を制御
するものである。4は半導体メモリ装置におけるアドレ
スデコード部を構成する3入力NORゲートであり、半
導体メモリ装置に入力されたアドレス信号IN41,I
N42に基づき所定のワード線WL’を選択するもので
ある。5はインバータであり、NORゲート4の出力
(接続点T4)を入力としてワード線WL’に反転出力
するものであり、NORゲート4およびインバータ5
は、ともに疑似電源線VDD’から電源供給されている。
C4は疑似電源線VDD’の寄生容量である。
FIG. 4 is a circuit diagram of a word line selection circuit using a 3-input NOR gate, and in FIG.
Reference numeral 1 denotes an NchMOS transistor having a high threshold value, which responds to a control signal φ40 indicating active / inactive state.
It controls the supply of the power supply voltage V CC 'to the pseudo power supply line V DD '. Reference numeral 4 denotes a 3-input NOR gate which constitutes an address decoding unit in the semiconductor memory device, and which has address signals IN41 and I input to the semiconductor memory device.
A predetermined word line WL 'is selected based on N42. Reference numeral 5 denotes an inverter, which receives the output of the NOR gate 4 (connection point T4) as an input and inverts and outputs it to the word line WL ′.
Are both supplied from the pseudo power supply line V DD '.
C4 is the parasitic capacitance of the pseudo power supply line V DD '.

【0030】なお、NORゲート4は、疑似電源線
DD’と出力との間に並列接続されアドレス信号IN4
1,IN42および制御信号φ41をそれぞれ入力とす
るNchMOSトランジスタQ42,Q43およびQ48
と、出力と接地電位との間に直列接続されアドレス信号
IN41,IN42および制御信号φ41をそれぞれ入
力とするPchMOSトランジスタQ44,Q45および
しきい値電圧の高いPchMOSトランジスタQ49とか
ら構成され、またインバータ5は疑似電源線VDD’と出
力(ワード線WL’)との間に接続されたNchMOSト
ランジスタQ46と、出力と接地電位との間に接続され
たPchMOSトランジスタQ47とから構成されてい
る。
The NOR gate 4 is connected in parallel between the pseudo power supply line V DD 'and the output and is connected to the address signal IN4.
1, IN42 and control signal φ41 are input to Nch MOS transistors Q42, Q43 and Q48, respectively.
And PchMOS transistors Q44 and Q45 which are connected in series between the output and the ground potential and which receive the address signals IN41 and IN42 and the control signal φ41, respectively, and a PchMOS transistor Q49 having a high threshold voltage. Is composed of an NchMOS transistor Q46 connected between the pseudo power supply line V DD 'and the output (word line WL'), and a PchMOS transistor Q47 connected between the output and the ground potential.

【0031】今、半導体メモリ装置を活性状態とする場
合には、制御信号φ40を「H」(接地電位)に制御
し、これによりトランジスタQ41は導通状態となって
疑似電源線VDD’に電源電圧VCC’が供給され、また制
御信号φ41が「L」となるのでトランジスタQ49が
導通状態となり、NORゲート4およびインバータ5は
それぞれ動作可能となる。一方、半導体メモリ装置を非
活性状態とする場合には、制御信号φ40を「L」に制
御する。これによりトランジスタQ41およびQ49は
非導通状態となり、さらにトランジスタQ41およびQ
49のしきい値電圧は高く設定されているためそれぞれ
非導通状態におけるリーク電流はほとんどなく、疑似電
源線VDD’に対する電源電圧VCC’の供給が完全に停止
されるとともに、NORゲート4の接地端子と接地電位
とが切り離され、電源電圧VCC’から接地電位へNOR
ゲート4内を貫通する電流が完全に遮断される。
When the semiconductor memory device is activated, the control signal φ40 is controlled to "H" (ground potential), whereby the transistor Q41 becomes conductive and the pseudo power supply line V DD 'is powered. Since the voltage V CC 'is supplied and the control signal φ41 becomes "L", the transistor Q49 becomes conductive, and the NOR gate 4 and the inverter 5 can operate respectively. On the other hand, when the semiconductor memory device is inactivated, the control signal φ40 is controlled to "L". As a result, the transistors Q41 and Q49 become non-conductive, and the transistors Q41 and Q49
Since the threshold voltage of 49 is set high, there is almost no leak current in the non-conducting state, the supply of the power supply voltage V CC ′ to the pseudo power supply line V DD ′ is completely stopped, and the NOR gate 4 is The ground terminal and the ground potential are separated, and the power supply voltage V CC 'is changed to the ground potential.
The current passing through the gate 4 is completely cut off.

【0032】これにより、スタティックな観点から見れ
ば、NORゲート4およびインバータ5における貫通電
流はゼロとなるため、非活性状態におけるワード線選択
回路の消費電力もゼロとなる。また、疑似電源線VDD
の寄生容量C4に蓄えられた電荷により、疑似電源線V
DD’が電源電圧VCC’から切り離された場合に発生する
ダイナミックなリーク電流は、トランジスタQ48が導
通しインバータ5のトランジスタQ46が非導通状態に
制御されるため、MOSトランジスタにおけるリーク電
流程度に抑制され、さらにトランジスタQ47が導通状
態となるため、ダイナミックなリーク電流に対してクラ
ンパの役目を果たすものとなり、ワード線WL’はHI
GH(接地電位)レベルに保持されるものとなる。
As a result, from a static point of view, the through current in the NOR gate 4 and the inverter 5 becomes zero, and the power consumption of the word line selection circuit in the inactive state also becomes zero. Also, pseudo power line V DD '
Of the pseudo power supply line V by the electric charge stored in the parasitic capacitance C4 of
The dynamic leakage current generated when DD 'is disconnected from the power supply voltage V CC ' is suppressed to about the leakage current in the MOS transistor because the transistor Q48 is turned on and the transistor Q46 of the inverter 5 is controlled to be off. Then, the transistor Q47 becomes conductive, which serves as a clamper for the dynamic leak current, and the word line WL 'is HI.
It is held at the GH (ground potential) level.

【0033】従って、ワード線WL’が「H」の場合に
メモリセルが非選択状態となる半導体メモリ装置であっ
ても、前述と同様に、非活性状態においてインバータ5
の入力を電源電圧VCC’のレベルに設定し、NORゲー
ト4の貫通電流を遮断することができ、消費電力を削減
し安定動作を実現するワード線選択回路を用いた半導体
メモリ装置をより集積化することが可能となる。なお、
以上の説明では3入力NORゲートを用いた場合につい
て説明したが、別個にMOSトランジスタを設けた場
合、あるいは貫通電流遮断用MOSトランジスタを共通
に設けた場合でも、同様の作用効果が得られる。
Therefore, even in the semiconductor memory device in which the memory cell is in the non-selected state when the word line WL 'is "H", the inverter 5 is in the inactive state as described above.
Of the semiconductor memory device using the word line selection circuit that can set the input of the power supply to the level of the power supply voltage V CC 'and cut off the through current of the NOR gate 4 to reduce the power consumption and realize the stable operation. Can be converted. In addition,
In the above description, the case where the 3-input NOR gate is used has been described, but the same operational effect can be obtained even if the MOS transistors are separately provided or the through-current cutoff MOS transistors are provided in common.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ワード
線に非選択状態を示す信号が出力される論理レベルに多
入力論理レベルの出力を設定する設定手段と、多入力論
理ゲート内を電源電圧から接地電位へ流れる貫通電流を
遮断する遮断手段とを設けて、半導体メモリ装置を非活
性状態とする場合に、設定手段によりワード線に非選択
状態を示す信号が出力される論理レベルに多入力論理レ
ベルの出力を設定し、遮断手段により多入力論理ゲート
内を電源電圧から接地電位へ流れる貫通電流を遮断する
ようにしたものである。従って、非活性状態において、
ワード線選択回路における消費電力が削減されるととも
に、電源線の寄生容量に起因するダイナミックなリーク
電流が抑制されて、ワード線への悪影響がなくなり、半
導体メモリ装置として安定した動作を実現することが可
能となる。
As described above, according to the present invention, the setting means for setting the output of the multi-input logic level to the logic level at which the signal indicating the non-selected state is output to the word line and the multi-input logic gate are provided. A shutoff means for shutting off a through current flowing from the power supply voltage to the ground potential is provided, and when the semiconductor memory device is deactivated, the setting means outputs a signal indicating a non-selected state to the word line to a logic level. The output of the multi-input logic level is set, and the break-through means cuts off the through current flowing from the power supply voltage to the ground potential in the multi-input logic gate. Therefore, in the inactive state,
The power consumption in the word line selection circuit is reduced, and the dynamic leak current due to the parasitic capacitance of the power supply line is suppressed, the word line is not adversely affected, and stable operation as a semiconductor memory device can be realized. It will be possible.

【0035】また、遮断手段として、複数のワード線選
択回路にそれぞれ設けられた多入力論理ゲートに共通し
て設けたので、遮断手段の必要数が削減され、半導体メ
モリ装置をより集積化することが可能となる。さらに、
設定手段として、電源電圧とワードドライバの入力との
間に接続され非活性状態に応じて導通状態となるMOS
トランジスタから構成し、遮断手段として、多入力論理
ゲートの接地端子と接地電位との間に接続され非活性状
態に応じて非導通状態となる高しきい値電圧を有するM
OSトランジスタから構成したので、簡素な回路素子構
成により確実な動作を実現することができる。
Further, since the interrupting means is provided commonly to the multi-input logic gates respectively provided in the plurality of word line selecting circuits, the required number of interrupting means is reduced and the semiconductor memory device can be more integrated. Is possible. further,
As setting means, a MOS that is connected between the power supply voltage and the input of the word driver and becomes conductive according to the inactive state.
The transistor is composed of a transistor, and has a high threshold voltage M as a breaking means, which is connected between the ground terminal of the multi-input logic gate and the ground potential and becomes non-conductive in accordance with the inactive state.
Since it is composed of OS transistors, reliable operation can be realized with a simple circuit element configuration.

【0036】また、多入力論理ゲートとして、複数のア
ドレス信号と半導体メモリ装置の活性/非活性状態を制
御する制御信号を入力とするNANDまたはNORゲー
トから構成し、設定手段として、NANDまたはNOR
ゲート内で電源電圧と出力との間に並列接続されたMO
Sトランジスタのうち制御信号を入力とするMOSトラ
ンジスタから構成し、遮断手段として、NANDまたは
NORゲート内で出力と接地電位の間に直列接続された
MOSトランジスタのうち制御信号を入力とするMOS
トランジスタから構成するようにしたので、設定手段お
よび遮断手段を多入力論理ゲートとは別個に設ける必要
がなく、またNANDまたはNORゲート内の最も接地
電位側にあるMOSトランジスタだけではなく直列接続
されたいずれのMOSトランジスタを遮断手段として用
いてもよく、半導体メモリ装置の設計を容易にし高集積
化を実現できる。さらに、遮断手段として高しきい値電
圧を有するMOSトランジスタで構成したので、非導通
状態におけるリーク電流がほとんどなくなり、簡素な回
路素子構成により確実な動作を実現することができる。
The multi-input logic gate is composed of a NAND or NOR gate to which a plurality of address signals and a control signal for controlling the active / inactive state of the semiconductor memory device are input, and the setting means is NAND or NOR.
MO connected in parallel between the power supply voltage and the output in the gate
Of the S transistors, a MOS transistor that receives a control signal is used, and as a breaking means, a MOS transistor that receives a control signal among the MOS transistors connected in series between the output and the ground potential in the NAND or NOR gate.
Since it is configured by the transistor, it is not necessary to provide the setting means and the cutoff means separately from the multi-input logic gate, and not only the MOS transistor on the most ground potential side in the NAND or NOR gate but also the series connection. Any MOS transistor may be used as the cutoff means, which facilitates the design of the semiconductor memory device and realizes high integration. Furthermore, since the MOS transistor having a high threshold voltage is used as the breaking means, the leak current in the non-conducting state is almost eliminated, and the reliable operation can be realized by the simple circuit element structure.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の一実施例によるワード線選択回路の
回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram of a word line selection circuit according to an embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の他の実施例によるワード線選択回路
の回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram of a word line selection circuit according to another embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の他の実施例によるワード線選択回路
の回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram of a word line selection circuit according to another embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の他の実施例によるワード線選択回路
の回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram of a word line selection circuit according to another embodiment of the present invention.

【図5】 従来のワード線選択回路の回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram of a conventional word line selection circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,3…NANDゲート、2…インバータ、4…NOR
ゲート、Q11,Q49…PchMOSトランジスタ(高
しきい値電圧)、Q12,Q13,Q16,Q18,Q
22,Q23,Q28,Q44,Q45,Q47…Pch
MOSトランジスタ、Q14,Q15,Q17,Q2
4,Q25,Q42,Q43,Q46,Q48…NchM
OSトランジスタ、Q19,Q29,Q39,Q41…
NchMOSトランジスタ(高しきい値電圧)、VCC,V
CC’…電源電圧、VDD,VDD’…疑似電源線、VSS…疑
似接地線、WL…ワード線、IN11,IN12,IN
41,IN42…アドレス信号、φ10,φ11,φ4
0,φ41…制御信号、C1,C4…寄生容量、T1,
T4…接続点。
1, 3 ... NAND gate, 2 ... Inverter, 4 ... NOR
Gate, Q11, Q49 ... PchMOS transistor (high threshold voltage), Q12, Q13, Q16, Q18, Q
22, Q23, Q28, Q44, Q45, Q47 ... Pch
MOS transistors, Q14, Q15, Q17, Q2
4, Q25, Q42, Q43, Q46, Q48 ... NchM
OS transistors, Q19, Q29, Q39, Q41 ...
Nch MOS transistor (high threshold voltage), V CC , V
CC '... Power supply voltage, V DD , V DD ' ... Pseudo power supply line, V SS ... Pseudo ground line, WL ... Word line, IN11, IN12, IN
41, IN42 ... Address signal, φ10, φ11, φ4
0, φ41 ... Control signal, C1, C4 ... Parasitic capacitance, T1,
T4 ... connection point.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体メモリ装置に入力される複数のア
ドレス信号をデコードする多入力論理ゲートと、前記多
入力論理ゲートの出力に応じてメモリセルの選択状態を
制御するワードドライバから構成されるワード線選択回
路において、 半導体メモリ装置を非活性状態とする場合に、前記ワー
ド線に非選択状態を示す信号が出力される論理レベルに
前記多入力論理ゲートの出力を設定する設定手段と、 半導体メモリ装置を非活性状態とする場合に、前記多入
力論理ゲート内を前記電源電圧から接地電位へ流れる貫
通電流を遮断する遮断手段とを備えることを特徴とする
ワード線選択回路。
1. A word comprising a multi-input logic gate for decoding a plurality of address signals input to a semiconductor memory device, and a word driver for controlling a selection state of a memory cell according to an output of the multi-input logic gate. In the line selection circuit, setting means for setting the output of the multi-input logic gate to a logic level at which a signal indicating the non-selected state is output to the word line when the semiconductor memory device is inactivated. A word line selection circuit comprising: a cutoff means for cutting off a through current flowing from the power supply voltage to the ground potential in the multi-input logic gate when the device is inactivated.
【請求項2】 請求項1記載のワード線選択回路におい
て、 前記遮断手段は、複数のワード線選択回路にそれぞれ設
けられた多入力論理ゲートに共通して設けられているこ
とを特徴とするワード線選択回路。
2. The word line selection circuit according to claim 1, wherein the cutoff unit is provided commonly to multi-input logic gates provided in each of the plurality of word line selection circuits. Line selection circuit.
【請求項3】 請求項1または2記載のワード線選択回
路において、 前記設定手段は、前記電源電圧と前記ワードドライバの
入力との間に接続され前記非活性状態に応じて導通状態
となるMOSトランジスタから構成され、 前記遮断手段は、前記多入力論理ゲートの接地端子と前
記接地電位との間に接続され高しきい値電圧を有し前記
非活性状態に応じて非導通状態となるMOSトランジス
タから構成されていることを特徴とするワード線選択回
路。
3. The word line selection circuit according to claim 1, wherein the setting means is connected between the power supply voltage and an input of the word driver and is turned on in accordance with the inactive state. A MOS transistor comprising a transistor, wherein the cut-off means is connected between the ground terminal of the multi-input logic gate and the ground potential, has a high threshold voltage, and is in a non-conducting state according to the inactive state. A word line selection circuit comprising:
【請求項4】 請求項1記載のワード線選択回路におい
て、 前記多入力論理ゲートは、複数のアドレス信号と半導体
メモリ装置の活性/非活性状態を制御する制御信号とを
入力とするNANDまたはNORゲートから構成され、 前記設定手段は、前記NANDまたはNORゲート内で
電源電圧と出力との間に並列接続されたMOSトランジ
スタのうち前記制御信号を入力とするMOSトランジス
タから構成され、 前記遮断手段は、前記NANDまたはNORゲート内で
出力と接地電位の間に直列接続されたMOSトランジス
タのうち前記制御信号を入力とするMOSトランジスタ
から構成されていることを特徴とするワード線選択回
路。
4. The word line selection circuit according to claim 1, wherein the multi-input logic gate receives a NAND or NOR inputting a plurality of address signals and a control signal for controlling an active / inactive state of the semiconductor memory device. The setting unit is a MOS transistor that receives the control signal as an input among the MOS transistors connected in parallel between the power supply voltage and the output in the NAND or NOR gate; A word line selection circuit comprising a MOS transistor that receives the control signal as an input, among the MOS transistors connected in series between the output and the ground potential in the NAND or NOR gate.
【請求項5】 請求項4記載のワード線選択回路におい
て、 前記遮断手段を構成するMOSトランジスタは、高しき
い値電圧を有することを特徴とするワード線選択回路。
5. The word line selection circuit according to claim 4, wherein the MOS transistor forming the cutoff means has a high threshold voltage.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6178122B1 (en) 1998-08-11 2001-01-23 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Boosted-voltage drive circuit operable with high reliability and semiconductor memory device employing the same
US6756814B2 (en) 2002-01-31 2004-06-29 Renesas Technology Corp. Logic circuit and semiconductor device
JP2009522711A (en) * 2006-01-04 2009-06-11 クゥアルコム・インコーポレイテッド System and method for low power word line logic for memory
US7894292B2 (en) 2008-02-05 2011-02-22 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device for preventing erroneous write to memory cell in switching operational mode between normal mode and standby mode
CN102262902A (en) * 2010-05-25 2011-11-30 台湾积体电路制造股份有限公司 Memory word-line driver having reduced power consumption

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6178122B1 (en) 1998-08-11 2001-01-23 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Boosted-voltage drive circuit operable with high reliability and semiconductor memory device employing the same
US6327195B2 (en) 1998-08-11 2001-12-04 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Boosted-voltage drive circuit operable with high reliability and semiconductor memory device employing the same
US6756814B2 (en) 2002-01-31 2004-06-29 Renesas Technology Corp. Logic circuit and semiconductor device
JP2009522711A (en) * 2006-01-04 2009-06-11 クゥアルコム・インコーポレイテッド System and method for low power word line logic for memory
US7894292B2 (en) 2008-02-05 2011-02-22 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device for preventing erroneous write to memory cell in switching operational mode between normal mode and standby mode
US8593859B2 (en) 2008-02-05 2013-11-26 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device for preventing erroneous write to memory cell in switching operational mode between normal mode and standby mode
CN102262902A (en) * 2010-05-25 2011-11-30 台湾积体电路制造股份有限公司 Memory word-line driver having reduced power consumption

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