JPH0723940B2 - Liquid crystal projection type writing position correction device - Google Patents

Liquid crystal projection type writing position correction device

Info

Publication number
JPH0723940B2
JPH0723940B2 JP60049441A JP4944185A JPH0723940B2 JP H0723940 B2 JPH0723940 B2 JP H0723940B2 JP 60049441 A JP60049441 A JP 60049441A JP 4944185 A JP4944185 A JP 4944185A JP H0723940 B2 JPH0723940 B2 JP H0723940B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
axis
laser beam
liquid crystal
optical axis
controller
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60049441A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS61209424A (en
Inventor
忠彦 橋本
昇 梓沢
哲也 長山
一郎 勝山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP60049441A priority Critical patent/JPH0723940B2/en
Publication of JPS61209424A publication Critical patent/JPS61209424A/en
Publication of JPH0723940B2 publication Critical patent/JPH0723940B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は液晶投射形デイスプレイの書込み位置補正装置
に係り、特に高分解能を要求されるレーザビーム照射に
より図形等を書き込む制御方式に好適な液晶投射形デイ
スプレイの書込み位置補正装置に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal projection type display writing position correction apparatus, and particularly to a liquid crystal projection suitable for a control system for writing a figure or the like by laser beam irradiation which requires high resolution. The present invention relates to a writing position correction device for a display.

〔発明の背景〕[Background of the Invention]

従来の液晶投射形デイスプレイ(投映形液晶表示装置)
のレーザビーム書込み方式については、たとえば経営シ
ステム研究所発行「デイスプレイの先端技術集成(第2
版)」昭59.1.15,p.351〜356,第4章の「投映形液晶表
示装置」(a)レーザビーム書込み方式に記載のよう
に、図形等を書込むためのレーザビームの光軸を制御す
る光軸制御器としてのY軸,Y軸用ガルバノミラーの機能
については知られている。このレーザビーム書込み方式
は光軸制御器であるX軸,Y軸用ガルバノミラーによりレ
ーザビームの光軸を制御して2次元に走査し、メモリ機
能を有する液晶素子に図形等を書込むもので、表示中の
線分等を消去するには同一線分等を再照射する必要があ
る。しかしながら従来の書込み方式では光軸制御器をな
すY軸,Y軸用ガルバノミラーの経年ドリフトや長時間連
続運転時の電気的および機械的なドリフト等の影響につ
いては考慮されていないため、この種のレーザビーム書
込み方式による液晶投射形デイスプレイの実用化のさ
い、光軸制御器のドリフトにより表示図形等の歪みや書
き込んだ線分等を消去する時の消去もれが発生するなど
の問題点があつた。
Conventional liquid crystal projection type display (projection type liquid crystal display device)
Regarding the laser beam writing method of "Display Advanced Technology Collection (Second
Version) "59.1.15, p. 351-356, Chapter 4," Projection-type liquid crystal display device "(a) Laser beam writing method, as described in" Laser beam writing method ". The function of the Y-axis and Y-axis galvanometer mirrors as an optical axis controller for controlling the is known. This laser beam writing method controls the optical axis of the laser beam by an X-axis and Y-axis galvanometer mirror, which is an optical axis controller, and scans it two-dimensionally, and writes figures etc. in a liquid crystal element having a memory function. In order to erase the displayed line segment, it is necessary to re-irradiate the same line segment. However, the conventional writing method does not take into consideration the effects of the aged drift of the Y-axis and Y-axis galvano mirrors that form the optical axis controller and the electrical and mechanical drifts during long-term continuous operation. In the practical application of the liquid crystal projection type display by the laser beam writing method, there is a problem that the drift of the optical axis controller causes the distortion of the displayed figure and the leakage of the erased line segments. Atsuta

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明の目的は上記した従来技術の問題点を解決し、光
軸制御器のドリフトを自動補正して高分解能で高精度の
レーザビーム書込みを可能にする液晶投射形デイスプレ
イの書込み位置補正装置を提供するにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and to provide a liquid crystal projection type display position correction device which automatically corrects the drift of the optical axis controller and enables high-resolution and high-precision laser beam writing. To provide.

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

本発明は液晶投射形デイスプレイのレーザビーム書込み
方式において、レーザビームの照射位置を位置検出器に
より検出してレーザビームの光軸制御器を補正する液晶
投射形デイスプレイの書込み位置補正装置であつて、好
ましくは十字方向にスリツトを設けた位置検出器等を液
晶素子のレーザビーム照射面と同一平面内等の対応位置
に配置し、該位置検出器上に正方形の軌跡等を描くよう
にレーザビームを照射し、上記スリツトを通過したレー
ザビームの照射位置等を検出して、レーザビームの上下
左右方向の移動ずれおよび回転ずれを算出し、光軸制御
器を自動補正することによりレーザビームの照射位置を
補正するようにした液晶投射形デイスプレイの書込み位
置補正装置である。
The present invention relates to a liquid crystal projection type display laser beam writing system, which is a liquid crystal projection type display writing position correcting device for detecting an irradiation position of a laser beam by a position detector to correct an optical axis controller of the laser beam. Preferably, a position detector provided with a slit in the cross direction is arranged at a corresponding position on the same plane as the laser beam irradiation surface of the liquid crystal element, and the laser beam is drawn so as to draw a square locus on the position detector. The irradiation position of the laser beam that has been irradiated and has passed through the slit is detected, and the movement deviation and rotation deviation of the laser beam in the vertical and horizontal directions are calculated, and the irradiation position of the laser beam is automatically corrected by the optical axis controller. Is a liquid crystal projection type display writing position correction device.

〔発明の実施例〕Example of Invention

以下に本発明の実施例を第1図ないし第13図により説明
する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

まず第1図は本発明による液晶投射形デイスプレイの書
込み位置補正方式の一実施例を示す全体構成ブロツク図
である。第1図において、1は書込み制御部で、2はそ
のレーザビームを発生するレーザ、3はレーザビームの
光軸を制御して2次元に走査する光軸制御器、4はレー
ザ2より発するレーザビームの光量および光軸制御器3
から出るレーザビームの光軸の2次元位置(角度)を制
御する書込み制御回路である。5はスメクチツクA相液
晶の熱電気光学効果を利用したレーザビーム照射により
透明度の変化する液晶素子である。6は投射光学部で、
7はその液晶素子5へ投射用の光を与える光源、8はレ
ンズ、9はハーフミラー、10は液晶素子5からの反射光
を拡大する投射レンズ、11はスクリーンである。12は書
込み制御回路4への図形等作成上の制御データおよび液
晶素子5への図形等作成上の電圧データを作成するスク
リーンコントローラである。13は本発明により液晶素子
5のレーザビーム照射面と同一平面上に配置してレーザ
ビーム照射によりその位置を検出し該位置情報をスクリ
ーンコントローラ12に与えることにより光軸制御器3の
位置ずれを補正する位置検出器である。この構成で、ス
クリーンコントローラ12の指令により、書込み制御部1
の書込み制御回路4によりレーザ2から発するレーザビ
ームの光量を制御するとともに、書込み制御回路4によ
り光軸制御器3から出るレーザビームの2次元位置(角
度)を制御することにより、光軸制御器3を介してレー
ザビームの光軸をX−Y軸の2次元に走査し、該レーザ
ビーム照射によりスメクチツクA相液晶の熱電気光学効
果を利用した液晶素子5に図形等を書き込んで記憶す
る。なお該液晶素子の構造および書込み原理の詳細につ
いては上記公知例にあげた文献のp.351〜352等に述べら
れている。一方の投射光学部6の光源7からの投射用の
光はレンズ8により平行光線となつてハーフミラー9に
よりその1/2の光量が液晶素子5に与えられ、該液晶素
子5に与えられた光は上記書込み制御部1で光軸制御器
3からのレーザビーム照射により書き込まれた図形(線
分)等以外の部分だけから反射し、再びハーフミラー9
を通過してから投射レンズ10を通して拡大されスクリー
ン11に投射される。ここで液晶素子5より反射してくる
2次元の光束は液晶素子5に書き込まれた図形等を示す
光束であり、この図形等を示す光束が投射レンズ10によ
り拡大されてスクリーン11上に図形等の像を結び、これ
に書込制御部1で液晶素子5に書き込んだ図形等を表示
する。なお本発明による位置検出器13の動作については
次に説明する。
First, FIG. 1 is a block diagram of the entire configuration showing an embodiment of a writing position correction system of a liquid crystal projection type display according to the present invention. In FIG. 1, 1 is a writing control unit, 2 is a laser for generating the laser beam, 3 is an optical axis controller for controlling the optical axis of the laser beam to perform two-dimensional scanning, and 4 is a laser emitted from the laser 2. Beam intensity and optical axis controller 3
It is a writing control circuit for controlling the two-dimensional position (angle) of the optical axis of the laser beam emitted from. Reference numeral 5 denotes a liquid crystal element whose transparency changes by laser beam irradiation utilizing the thermo-electro-optic effect of smectic A-phase liquid crystal. 6 is a projection optical unit,
Reference numeral 7 is a light source for giving projection light to the liquid crystal element 5, 8 is a lens, 9 is a half mirror, 10 is a projection lens for magnifying the reflected light from the liquid crystal element 5, and 11 is a screen. Reference numeral 12 denotes a screen controller that creates control data for creating a figure and the like for the writing control circuit 4 and voltage data for creating a figure and the like for the liquid crystal element 5. Reference numeral 13 is arranged on the same plane as the laser beam irradiation surface of the liquid crystal element 5 according to the present invention, the position thereof is detected by laser beam irradiation, and the positional information is given to the screen controller 12 to shift the position of the optical axis controller 3. It is a position detector for correction. With this configuration, the write controller 1 is instructed by the screen controller 12
By controlling the light amount of the laser beam emitted from the laser 2 by the writing control circuit 4 and controlling the two-dimensional position (angle) of the laser beam emitted from the optical axis controller 3 by the writing control circuit 4. The optical axis of the laser beam is two-dimensionally scanned through the X-Y axis via 3, and a figure or the like is written and stored in the liquid crystal element 5 utilizing the thermoelectro-optical effect of the smectic A-phase liquid crystal by the laser beam irradiation. The details of the structure and writing principle of the liquid crystal element are described in the above-mentioned publicly known examples, pp. 351-352. The projection light from the light source 7 of the one projection optical unit 6 is converted into parallel rays by the lens 8 and half the amount of light is given to the liquid crystal element 5 by the half mirror 9 and given to the liquid crystal element 5. The light is reflected by only the portion other than the figure (line segment) written by the laser beam irradiation from the optical axis controller 3 in the writing control unit 1, and the half mirror 9 again.
After passing through, the image is enlarged through the projection lens 10 and projected on the screen 11. Here, the two-dimensional light flux reflected from the liquid crystal element 5 is a light flux indicating a figure or the like written in the liquid crystal element 5, and the light flux indicating this figure or the like is enlarged by the projection lens 10 and is projected on the screen 11 or the like. , And the figure etc. written in the liquid crystal element 5 by the writing control unit 1 is displayed. The operation of the position detector 13 according to the present invention will be described next.

第2図は第1図の本発明による位置検出器13を含むレー
ザビーム光学系の基本構成斜視図である。第2図におい
て、第1図と同一符号は以下各図面を通じて同一または
相当部分を示すものとし、14は光軸制御器3を構成する
Y軸用ガルバノミラー、15は同じくX軸用ガルバノミラ
ーである。この構成で、レーザ(発振器)2より発する
レーザビームはY軸用ガルバノミラー14およびX軸用ガ
ルバノミラー15から構成される光軸制御器3に入射さ
れ、このY軸,X軸用の2個のガルバノミラー14,15をそ
れぞれ矢印方向に回転させることにより、レーザビーム
の光軸を制御してX−Y軸の2次元に走査し、このレー
ザビーム照射により液晶素子5上に図形(線分)等を書
き込んで行く。しかしながら光軸制御器3のY軸,X軸用
ガルバノミラー14,15は長時間の連続運転を行なうとき
などにドリフトを発生し、これによりレーザビーム照射
位置に位置ずれを生じて図形等を歪ませる。また液晶素
子5上に照射するレーザビーム・スポツト径は数μm程
度で非常に小さく、かつ液晶素子5に書き込んだ線分の
一部を消去するには該書き込んだ線分上を再度照射する
必要があるが、もし完全に同一線分上を照射できずに走
査した場合には液晶素子5上に線分が消去できないで残
つてしまう。そこでこれらを防止するため、本発明によ
れば液晶素子5と同一平面上に設置した位置検出器13に
レーザビームを照射して該レーザビームの照射位置を検
出することにより、該位置情報をフイードバツクして光
軸制御器3のY軸,X軸用ガルバノミラー14,15のドリフ
トによる位置ずれを補正する。
FIG. 2 is a perspective view of a basic configuration of a laser beam optical system including the position detector 13 according to the present invention shown in FIG. In FIG. 2, the same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same or corresponding portions throughout the drawings, 14 is a Y-axis galvanometer mirror that constitutes the optical axis controller 3, and 15 is an X-axis galvanometer mirror. is there. With this configuration, the laser beam emitted from the laser (oscillator) 2 is incident on the optical axis controller 3 including the Y-axis galvanometer mirror 14 and the X-axis galvanometer mirror 15, and the two laser beams for the Y-axis and the X-axis are used. By rotating the Galvano mirrors 14 and 15 respectively in the directions of the arrows, the optical axis of the laser beam is controlled to perform two-dimensional scanning along the X-Y axis. ) Etc. are written. However, the Y-axis and X-axis galvanometer mirrors 14 and 15 of the optical axis controller 3 generate a drift when performing continuous operation for a long time, which causes a positional deviation in the laser beam irradiation position and distorts a figure or the like. No Further, the diameter of the laser beam spot irradiated onto the liquid crystal element 5 is about several μm, which is very small, and in order to erase a part of the line segment written on the liquid crystal element 5, it is necessary to irradiate the written line segment again. However, if scanning is performed without completely irradiating the same line segment, the line segment cannot be erased and remains on the liquid crystal element 5. In order to prevent these, according to the present invention, the position detector 13 installed on the same plane as the liquid crystal element 5 is irradiated with a laser beam and the irradiation position of the laser beam is detected, so that the position information is fed back. Then, the positional deviation due to the drift of the Y-axis and X-axis galvanometer mirrors 14 and 15 of the optical axis controller 3 is corrected.

第3図(a),(b),(c)は第1図および第2図の
位置検出器13のそれぞれ構成斜視図、平面図、レーザビ
ーム照射平面図である。第3図(a)において、16は位
置検出器13を構成する位置センサ板(位置検出素子)、
17は同じくその前面に配置される数μm程度の4本のス
リツトを設けたレーザビーム遮蔽板である。第3図
(b)において、レーザビーム遮蔽板17の4本のスリツ
トを実線で示し、その位置関係は中心より十字方向(X
−Yの4方向)にある。また第3図(c)において、レ
ーザビームの位置ずれ(ドリフト)がない場合に位置検
出器13のレーザビーム遮蔽板17を照射したときのレーザ
ビームの軌跡を破線で示し、その位置形状は各頂点が4
本のスリツトと交差するような正方形をなす。もしレー
ザビームの位置ずれ(ドリフト)が発生した場合には第
3図(c)の状態にレーザビームの軌跡が戻るように補
正を行なう。また第4図は第3図(a)の位置検出器13
の位置センサ板(位置検出素子)16の等価回路図であ
る。第4図において、18はレーザビーム受光面、19はレ
ーザビームを光電流に変換した電流源、20,21はX軸位
置検出出力(端子)、22,23はY軸位置検出出力(端
子)である。この構成で、レーザビーム受光面18内の一
点に照射されたレーザビームは受光面において光電流に
変換される。この電流源19の光電流はX軸位置検出出力
(端子)20,21までの抵抗比およびY軸位置検出出力
(端子)22,23までの抵抗比に応じて分配されて、それ
ぞれX軸位置検出出力(端子)20,21およびY軸位置検
出出力(端子)22,23から取り出すことができ、この電
流値比によりそれぞれレーザビーム照射点のX軸および
Y軸の位置を算出することができる。なお位置検出器13
の位置センサ板(位置検出素子)16の構造および検出原
理の詳細については浜松ホトニクス株式会社カタログ
「半導体位置検出素子(PSD)」T84・3・20などに示さ
れている。
3 (a), (b), and (c) are a perspective view, a plan view, and a laser beam irradiation plan view of the position detector 13 of FIGS. 1 and 2, respectively. In FIG. 3 (a), 16 is a position sensor plate (position detecting element) that constitutes the position detector 13,
Reference numeral 17 is a laser beam shield plate also provided on the front surface thereof with four slits of about several μm. In FIG. 3 (b), the four slits of the laser beam shielding plate 17 are shown by solid lines, and their positional relationship is in the cross direction (X
-Y four directions). In FIG. 3 (c), the trajectory of the laser beam when the laser beam shield plate 17 of the position detector 13 is irradiated when there is no positional deviation (drift) of the laser beam is shown by broken lines, and the position shape is different. 4 vertices
Make a square that intersects the slits of a book. If a positional deviation (drift) of the laser beam occurs, correction is performed so that the trajectory of the laser beam returns to the state shown in FIG. 3 (c). Further, FIG. 4 shows the position detector 13 of FIG.
6 is an equivalent circuit diagram of the position sensor plate (position detecting element) 16 of FIG. In FIG. 4, 18 is a laser beam receiving surface, 19 is a current source that converts a laser beam into a photocurrent, 20 and 21 are X-axis position detection outputs (terminals), and 22 and 23 are Y-axis position detection outputs (terminals). Is. With this configuration, the laser beam applied to one point on the laser beam receiving surface 18 is converted into photocurrent on the light receiving surface. The photocurrent of the current source 19 is distributed according to the resistance ratio up to the X-axis position detection outputs (terminals) 20 and 21 and the resistance ratio up to the Y-axis position detection outputs (terminals) 22 and 23. The detection outputs (terminals) 20 and 21 and the Y-axis position detection outputs (terminals) 22 and 23 can be taken out, and the X-axis and Y-axis positions of the laser beam irradiation point can be calculated from the current value ratios. . The position detector 13
The details of the structure and the detection principle of the position sensor plate (position detecting element) 16 of are described in Hamamatsu Photonics KK catalog "Semiconductor position detecting element (PSD)" T84 ・ 3 ・ 20.

第5図は第1図の本発明による位置検出器13を含むレー
ザビーム位置補正制御系の基本構成ブロツク図である。
第5図において、24は位置検出器13の出力をデイジタル
位置情報に変換する位置検出回路である。この構成で、
位置検出器13により検出した位置検出出力を位置検出回
路24を介してデイジタル信号に変換した位置情報25をス
クリーンコントローラ12により読み出し、位置補正のア
ルゴリズムで簡単な補正演算を行ない、補正値を含む位
置指令26により書込み制御回路4を介して光軸制御器に
補正値を含む制御信号27を出力する。第6図は第5図の
位置検出回路24の回路ブロツク図である。第6図におい
て、28はY軸位置検出部、29はX軸位置検出部、30,31
はY軸位置b,d格納レジスタ、32,33はX軸位置a,c格納
レジスタ、34はY軸データ格納用信号、35はX軸データ
格納用信号である。この構成で、位置検出器13の位置セ
ンサ板16にレーザビーム遮蔽板17の4本のスリツトを通
して入射する正方形軌跡(破線矢印で示す)のレーザビ
ームのY軸位置b,dおよびX軸位置a,cを検出したY軸位
置検出出力(端子)22,23およびX軸位置検出出力(端
子)20,21の光電流値は位置検出回路24の各Y軸,X軸位
置検出部28,29により各Y軸位置b,d、X軸位置a,cのデ
ジタル位置情報に変換され、各Y軸,X軸データ格納用信
号34,35により各Y軸位置b,dレジスタ30,31、X軸位置
a,cレジスタ32,33に格納され、これらの位置情報25をス
クリーンコントローラ12により読み出して次のように位
置補正のアルゴリズムにより補正演算を行なう。
FIG. 5 is a basic block diagram of a laser beam position correction control system including the position detector 13 according to the present invention shown in FIG.
In FIG. 5, reference numeral 24 is a position detection circuit for converting the output of the position detector 13 into digital position information. With this configuration,
The position detection output detected by the position detector 13 is converted into a digital signal through the position detection circuit 24, and the position information 25 is read out by the screen controller 12, and a simple correction calculation is performed by the position correction algorithm, and the position including the correction value is read. A command 26 outputs a control signal 27 including a correction value to the optical axis controller via the writing control circuit 4. FIG. 6 is a circuit block diagram of the position detection circuit 24 of FIG. In FIG. 6, 28 is a Y-axis position detecting unit, 29 is an X-axis position detecting unit, 30, 31.
Is a Y-axis position b, d storage register, 32, 33 is an X-axis position a, c storage register, 34 is a Y-axis data storage signal, and 35 is an X-axis data storage signal. With this configuration, the Y-axis positions b and d and the X-axis position a of the laser beam of the square locus (indicated by the dashed arrow) incident on the position sensor plate 16 of the position detector 13 through the four slits of the laser beam shield plate 17 are shown. , c detected Y-axis position detection outputs (terminals) 22 and 23 and X-axis position detection outputs (terminals) 20 and 21 are the photocurrent values of the Y-axis and X-axis position detectors 28 and 29 of the position detection circuit 24. Is converted into digital position information of each Y-axis position b, d and X-axis position a, c, and each Y-axis position b, d register 30, 31, X by each Y-axis, X-axis data storage signal 34, 35. Axis position
The position information 25 stored in the a, c registers 32, 33 is read by the screen controller 12 and correction calculation is performed by the position correction algorithm as follows.

第7図(a),(b),(c)は主に第3図の位置検出
器13のレーザビームの位置検出により第5図のスクリー
ンコントローラ12が行なう上下左右方向(X−Y方向)
の移動ずれの各補正手順説明用平面図である。第7図
(a)において、位置検出器13のレーザビーム照射に上
下左右方向の移動ずれおよび回転ずれが発生している場
合が例示され、第3図(c)に実線のスリツトに対応し
て破線で示した位置ずれのない場合の正方形に照射した
レーザビームの軌跡に対し、第7図(a)に実線で示す
上下左右方向(X−Y方向)のスリツトに対応して破線
で示す位置ずれのある場合の正方形に照射したレーザビ
ームの軌跡は上下左右方向および回転方向にずれが発生
している。すなわち正方形の中心はスリツトの中心から
中心位置p0に移動し、かつ回転角θのずれも発生して
いる。この状態で位置検出器13の位置センサ板16がレー
ザビーム遮蔽板17の4本のスリツトを通してレーザビー
ム照射位置を検出できるのは第7図(a)の実線の4本
のスリツトと破線の正方形のレーザビーム軌跡との交点
である点q0〜q3の4点である。なおこの4点q0〜q3の値
は位置検出器13より位置検出回路24を介しデイジタル位
置情報25としてスクリーンコントローラ12に入力でき
る。スクリーンコントローラ12はこの検出された4点q0
〜q3を通つて図の一点鎖線で示す水平・垂直方向の直線
を引いて形成される長方形の中心p1(p1x,p1y)を次式
により求める。
7 (a), (b), and (c) are mainly vertical and horizontal directions (X-Y directions) performed by the screen controller 12 of FIG. 5 by detecting the position of the laser beam of the position detector 13 of FIG.
FIG. 7 is a plan view for explaining each correction procedure of the movement deviation of FIG. In FIG. 7 (a), the case where the position detector 13 irradiates the laser beam with vertical and horizontal displacements and rotations is illustrated, and FIG. 3 (c) corresponds to the solid line slits. With respect to the locus of the laser beam irradiated on the square when there is no positional deviation shown by the broken line, the position shown by the broken line corresponding to the slit in the vertical and horizontal directions (XY direction) shown by the solid line in FIG. When there is a deviation, the locus of the laser beam applied to the square is deviated in the vertical and horizontal directions and the rotational direction. That is, the center of the square moves from the center of the slit to the center position p 0 , and the rotation angle θ 0 also deviates. In this state, the position sensor plate 16 of the position detector 13 can detect the laser beam irradiation position through the four slits of the laser beam shield plate 17 because the solid line four slits and the broken line square in FIG. 7 (a). 4 points q 0 to q 3 which are intersections with the locus of the laser beam. The values of these four points q 0 to q 3 can be input from the position detector 13 to the screen controller 12 as digital position information 25 via the position detection circuit 24. The screen controller 12 detects these four points q 0
The center p 1 (p 1 x, p 1 y) of the rectangle formed by drawing a straight line in the horizontal and vertical directions shown by the alternate long and short dash line in the figure through ~ q 3 is obtained by the following formula.

ただし(1)式のq0〜q3などは以下同様に点q0〜q3など
のX−Y座標値を示す。こうして求まつた中心p1の値
(p1x,p1y)=(Δx,Δy)を移動ずれの補正値とし
て、中心p1がスリツト交点と一致するように書込み制御
回路4を介して光軸制御器3のドリフトを補正する。第
7図(b)において、このようにして移動ずれを補正し
た場合が例示され、この状態で同様にして位置検出され
る4点q4〜q7の形成する長方形の中心がスリツト中心と
一致するように移動ずれを補正する。第7図(c)にお
いて、こうしてさらに移動ずれを補正した場合が例示さ
れ、なお状態に応じて移動ずれの補正を繰り返えすこと
により、徐々に一点鎖線の長方形の中心p1と実線のスリ
ツトの中心とが一致するとともに、破線の正方形のレー
ザビーム軌跡の中心p0とスリツトの中心も一致するよう
に移動ずれが補正される。この上下左右方向の移動ずれ
の補正が完了したことの判定は次式のように行なう。
However, q 0 to q 3 and the like in the equation (1) similarly indicate XY coordinate values of the points q 0 to q 3 and the like. Thus calculated Matsuda center p 1 value (p 1 x, p 1 y ) = (Δx, Δy) as a correction value of the movement displacement of the center p 1 via the write control circuit 4 so as to coincide with slit intersection The drift of the optical axis controller 3 is corrected. Figure 7 (b), the this manner is exemplified when corrected movement shift, rectangular central forming four points q 4 to q 7 that is positioned similarly detected in this state coincides with the slit center Correct the movement deviation so that In FIG. 7 (c), the case where the movement deviation is further corrected is illustrated, and by repeating the movement deviation correction depending on the state, the center p 1 of the rectangle of the alternate long and short dash line and the slit of the solid line are gradually increased. The displacement is corrected so that the center of the slit coincides with the center of the slit and the center p 0 of the trajectory of the laser beam of the broken-line square coincides with the center of the slit. The determination that the correction of the movement displacement in the vertical and horizontal directions is completed is performed by the following equation.

ただしΔは微小定数である。 However, Δ 1 is a minute constant.

ついで第8図(a),(b),(c)は同じく回転ずれ
の各補正手順説明用平面図である。第8図(a)におい
て、第7図(c)の上下左右方向の移動ずれの補正が完
了して回転角θの回転ずれが残つている場合が例示さ
れ、同じく実線の上下左右方向(X−Y方向)のスリツ
トに対応して破線で示す正方形のレーザビーム軌跡は回
転角θだけずれている。この状態で位置検出器13によ
り例えばY軸方向のスリツトを通して検出できるレーザ
ビーム照射位置は点r0,r1の2点であり、点r1から点r0
までのY軸の長さをl1とする。同じく一点鎖線で示す回
転ずれの補正を行なつた後の正方形のレーザビーム軌跡
のY軸方向のスリツトを通して検出できるレーザビーム
照射位置は点r2,r3であり、点r2から点r3までのY軸の
長さをl2とする。すなわち回転ずれの補正の前,後のY
軸の長さl1,l2は次式で与えられる。
Next, FIGS. 8 (a), (b), and (c) are plan views for explaining each correction procedure of the rotational deviation. In FIG. 8A, the case where the correction of the movement deviation in the vertical and horizontal directions in FIG. 7C is completed and the rotation deviation of the rotation angle θ 0 remains is illustrated. Corresponding to the slit in the (X-Y direction), the locus of the square laser beam shown by the broken line is shifted by the rotation angle θ 0 . In this state, the position detector 13 can detect the laser beam irradiation position through the slit in the Y-axis direction, for example, at two points r 0 and r 1 , and from the point r 1 to the point r 0.
Let l 1 be the length of the Y-axis up to. Similarly, the laser beam irradiation positions that can be detected through the slits in the Y-axis direction of the square laser beam locus after correction of the rotational deviation indicated by the one-dot chain line are points r 2 and r 3 , and from point r 2 to point r 3. The length of the Y-axis up to is set to l 2 . That is, Y before and after correction of the rotational deviation
The axis lengths l 1 and l 2 are given by the following equations.

l1=r0−r1,l2=r2−r3 ………(3) ただし(3)式でr0〜r3は各点r0〜r3のY座標値であ
る。いま補正前の長さl1と補正後の長さl2を比較する
と、第8図(a)においては回転ずれの正しい補正が行
なわれている場合が例示され、この正しい補正の場合に
は次の条件式が成立する。
l 1 = r 0 -r 1, l 2 = r 2 -r 3 ......... (3) provided that (3) r 0 ~r 3 in formula is Y coordinate values of each point r 0 ~r 3. Comparing the length l 1 before the correction and the length l 2 after the correction, it is illustrated in FIG. 8 (a) that the rotation deviation is corrected correctly. In the case of this correction, The following conditional expression is satisfied.

l1l2 ………(4) また第8図(b)においては回転ずれの補正が逆方向に
行なわれている場合が例示され、この場合にはl1>l2
なり(4)式が成立しない。さらに第8図(c)におい
ては回転ずれの補正が第10図(a)と同一方向に行なわ
れているが補正をかけすぎた場合が例示され、この場合
にもl1>l2となり(4)式が成立しなくなることを示し
ている。このようにして補正前の長さl1と補正後の長さ
l2を比較しつつ、(4)式の条件のl1l2が成立してい
る間は繰り返して補正を行ない、l1l2が成立しなくな
ると補正を完了する。この回転ずれの補正が完了したこ
との判定は次式のように行なう。
l 1 l 2 (4) Further, in FIG. 8 (b), the case where the rotation deviation is corrected in the opposite direction is illustrated. In this case, l 1 > l 2 and the formula (4) is obtained. Does not hold. Further, in FIG. 8 (c), the rotation deviation is corrected in the same direction as in FIG. 10 (a), but an example of overcorrection is illustrated. In this case also, l 1 > l 2 ( It shows that the equation (4) is not satisfied. In this way, the length before correction l 1 and the length after correction
while comparing the l 2, (4) expression while l 1 l 2 conditions are satisfied repeatedly performs correction, to complete the correction and l 1 l 2 is not satisfied. The determination that the correction of the rotation deviation is completed is performed by the following equation.

Δ=l2−l1Δmin ………(5) ただしΔminは正の微小定数である。スクリーンコント
ローラ12は位置検出器13で検出され位置検出回路24を介
して変換された位置情報25により、上記の上下左右方向
の移動ずれおよび回転ずれの位置補正アルゴリズムの簡
単な演算を行ないつつ書込み制御回路4を介して光軸制
御器3の補正を完了したのち、液晶素子の上記補正値を
含めた位置指令を出力する。
Δ = l 2 −l 1 Δmin (5) However, Δmin is a positive minute constant. The screen controller 12 performs write control while performing a simple calculation of the above-described position correction algorithm for movement displacement and rotation displacement in the vertical and horizontal directions based on the position information 25 detected by the position detector 13 and converted through the position detection circuit 24. After the correction of the optical axis controller 3 is completed via the circuit 4, a position command including the above-mentioned correction value of the liquid crystal element is output.

つぎに第9図は本発明による液晶投射形デイスプレイの
書込み位置補正方式の一実施例を示すレーザビーム光学
系の具体的構成斜視図である。第9図において、36はビ
ームエクスパンダ、37はY軸用ガルバノミラー14が取り
付けられるY軸ステージ、38はX軸用ガルバノミラー15
が取り付けられるX軸ステージ、39はf−θレンズであ
る。なお、Y軸,X軸用ガルバノミラー14,15には各ガル
バノミラーの制御回路(駆動回路)が実装され、またY
軸,X軸ステージ37,38には各ステージの制御回路が実装
されパルスモータが取り付けられていて各Y軸,X軸用ガ
ルバノミラー14,15のミラー軸のずれを補正する機能を
有する。この構成で、レーザ(発振器)2から発したレ
ーザビームはビームエクスパンダ36によりビーム径を拡
大し、光軸制御器3のY軸用ガルバノミラー14およびX
軸用ガルバノミラー15を経由してX−Y方向の2次元に
走査され、f−θレンズ39を介して液晶素子5に照射さ
れる。また第10図は同じくレーザビーム制御系の具体的
構成ブロツク図である。第10図において、40,41は位置
検出回路24を構成する各X軸,Y軸位置検出回路である。
42,43は書込み制御回路4を構成するD/A変換器、44,45
はパルス発生回路、46,47は駆動用増幅器である。48は
スクリーンコントローラ12を構成するCPU(中央処理装
置)、49はメモリである。この構成で、位置検出器13に
より検出されるレーザビーム照射のX軸,Y軸位置に対応
の電流値は各X軸,Y軸位置検出回路40,41により電圧値
に変換のうえA/D変換されてX,Y座標の位置情報のデイジ
タルデータとしてCPU48に提供される。またY軸,X軸用
ガルバノミラー14,15には各ガルバノミラーの制御回路
(駆動回路)が実装されていて、CPU48からの各Y軸,X
軸位置(角度)指令により、該Y軸,X軸位置(角度)指
令を各D/A変換器42,43でアナログ量に変換した出力値と
各Y軸,X軸用ガルバノミラー14,15からのY軸,X軸位置
(角度)フイードバツク値との突き合せを行ない、その
偏差値を各Y軸,X軸ガルバノミラー14,15の移動信号と
して各駆動用増幅器46,47で増幅したのち各Y軸,X軸ガ
ルバノミラー14,15に印加して駆動される。さらに各Y
軸,X軸ガルバノミラー14,15のY軸,X軸ステージ37,38に
は各ステージの制御回路が実装されパルスモータが取り
付けられていて、CPU48からの各Y軸,X軸指令によりパ
ルス発生回路44,45を介して各Y軸,X軸パルスモータのU
P,DOWNパルスを出力して回転制御を行なうことができ
る。
Next, FIG. 9 is a perspective view of a concrete configuration of a laser beam optical system showing an embodiment of a writing position correction system of a liquid crystal projection type display according to the present invention. In FIG. 9, 36 is a beam expander, 37 is a Y-axis stage to which the Y-axis galvanometer mirror 14 is attached, and 38 is an X-axis galvanometer mirror 15.
Is an X-axis stage, and 39 is an f-θ lens. The Y-axis and X-axis galvanometer mirrors 14 and 15 are equipped with control circuits (driving circuits) for the respective galvanometer mirrors.
A control circuit for each stage is mounted on each of the axis and X-axis stages 37 and 38, and a pulse motor is attached to the axis and X-axis stages 37 and 38. The axis and X-axis stages 37 and 38 have a function of correcting the deviation of the mirror axes of the Y-axis and X-axis galvano mirrors 14 and 15. With this configuration, the beam diameter of the laser beam emitted from the laser (oscillator) 2 is expanded by the beam expander 36, and the Y-axis galvanometer mirrors 14 and X of the optical axis controller 3 are expanded.
The liquid crystal element 5 is scanned two-dimensionally in the XY directions via the axis galvanometer mirror 15 and is irradiated onto the liquid crystal element 5 via the f-θ lens 39. Also, FIG. 10 is a block diagram of a concrete configuration of the laser beam control system. In FIG. 10, reference numerals 40 and 41 are X-axis and Y-axis position detecting circuits constituting the position detecting circuit 24.
42 and 43 are D / A converters constituting the write control circuit 4, 44 and 45
Is a pulse generating circuit, and 46 and 47 are driving amplifiers. Reference numeral 48 is a CPU (central processing unit) that constitutes the screen controller 12, and 49 is a memory. With this configuration, the current values corresponding to the X-axis and Y-axis positions of the laser beam irradiation detected by the position detector 13 are converted into voltage values by the X-axis and Y-axis position detection circuits 40 and 41, and then A / D. The converted data is provided to the CPU 48 as digital data of position information of X and Y coordinates. The Y-axis and X-axis galvano mirrors 14 and 15 are provided with control circuits (driving circuits) for the respective galvano mirrors, and the CPU 48 outputs the Y-axis and X-axis control circuits.
Output values obtained by converting the Y-axis and X-axis position (angle) commands into analog amounts by the D / A converters 42 and 43 and the Y-axis and X-axis galvano mirrors 14 and 15 according to the axis position (angle) command. After matching with the Y-axis and X-axis position (angle) feed back values from, the deviation value is amplified by each drive amplifier 46, 47 as a movement signal of each Y-axis, X-axis galvano mirror 14, 15. The Y-axis and X-axis galvanometer mirrors 14 and 15 are applied and driven. Furthermore each Y
The control circuit of each stage is mounted on the Y-axis and X-axis stages 37 and 38 of the X-axis and X-axis galvanometer mirrors 14 and 15, and a pulse motor is attached, and a pulse is generated by each Y-axis and X-axis command from the CPU 48. U of each Y-axis and X-axis pulse motor via circuits 44 and 45
Rotation can be controlled by outputting P and DOWN pulses.

この制御系における位置ずれ補正のアルゴリズムを次に
説明する。まず第11図は第10図の制御系の上下左右方向
(X−Y方向)の移動ずれの補正処理フローチヤートで
ある。この上下左右方向の移動ずれはY軸,X軸用ガルバ
ノミラー14,15の実装する駆動回路のドリフトにより発
生する。この移動ずれの補正手順については、上記の第
7図で説明したのと同様にして、Y軸,X軸用ガルバノミ
ラー14,15を移動させて位置検出器13上でレーザビーム
を照射して所定の正方形の軌跡を描く。これにより位置
検出器13の4本のスリツトを通して得られる照射位置の
4点q0〜q3のデイジタルデータをX軸,Y軸位置検出回路
40,41を介してCPU48に取り込む。CPU48内では(1)式
を用いて演算を行ない、逐次に補正値Δx=p1x,Δy=
p1yを算出して、現在値に対して加算または減算を行な
い、この加算または減算した値δx,δyを以後の補正値
(バイアス値)として点p1をスリツト中心へ移動するこ
とによりレーザビームの正方形の軌跡の中心p0をスリツ
ト中心へ一致させるように移動ずれの補正を行なう。こ
の移動ずれの補正の完了は(2)式を用いてΔx,Δy
Δ(定数)により判定する。次に第12図(a)および
第13図は同じく回転ずれの補正処理フローチヤート、第
12図(b)は第12図(a)の8種類の補正表である。こ
の回転ずれはY軸,X軸ガルバノミラー14,15のミラー軸
方向に対する移動であり、Y軸,X軸ガルバノミラー14,1
5の機械系のドリフトにより発生する。この回転ずれの
補正手順については、上記の第8図で説明したのと同様
にして、Y軸,X軸用ガルバノミラー14,15を移動させて
位置検出器13上でレーザビームを照射して所定の正方形
の軌跡を描く。これにより位置検出器13の例えば上下方
向(Y軸方向)の2本のスリツトを通して得られる照射
位置の点r0,r1のデイジタルデータをX軸,Y軸位置検出
回路40,41を介してCPU48に取り込む。CPU48では(3)
式を用いてY軸の長さl1=r0−r1の値を算出して補正を
行なう。すなわち第12図(b)に表示するようにX軸,Y
軸パルスモータへのパルス発生回路44,45のアツプ,ダ
ウンパルスの8種類の組合せの一定数パルスを各々独立
に順次出力して、再びY軸,X軸ガルバノミラー14,15を
移動させて位置検出器13上でレーザビーム照射による正
方形の軌跡を描き、そのときのY軸上の点r2,r3をCPU48
に取り込んで、Δ=(r2−r3)−l1の値を算出して記憶
する。この8種類の組合せの補正が完了したら、Δ0
の値の最大となる補正効果の最大の種類の組合せを見い
出して、このΔの最大となる組合せのパルス発生回路4
4,45からのパルス数可変のアツプ,ダウンパルスを出力
して補正を行ない、再び位置検出器13上でのレーザビー
ムの正方形の軌跡のY軸上の点r4,r5をCPU48に取り込ん
で、Δ=(r4−r3)−l2の値を算出して逐次に回転ずれ
θの補正を行ない、ΔΔminの条件により補正を完
了する。
An algorithm for correcting the positional deviation in this control system will be described next. First, FIG. 11 is a flow chart for correcting the movement deviation of the control system of FIG. 10 in the vertical and horizontal directions (X-Y directions). The displacement in the vertical and horizontal directions is caused by the drift of the drive circuits mounted on the Y-axis and X-axis galvanometer mirrors 14 and 15. Regarding the procedure for correcting this displacement, the Y-axis and X-axis galvanometer mirrors 14 and 15 are moved and the position detector 13 is irradiated with the laser beam in the same manner as described in FIG. Draw a predetermined square trajectory. As a result, the digital data of four points q 0 to q 3 of the irradiation position obtained through the four slits of the position detector 13 are used for the X-axis and Y-axis position detection circuit.
It is taken into CPU48 via 40 and 41. In the CPU 48, the calculation is performed using the equation (1), and the correction values Δx = p 1 x, Δy =
By calculating p 1 y and performing addition or subtraction with respect to the current value, the added or subtracted values δx, δy are used as subsequent correction values (bias values) to move point p 1 to the center of the slit. The displacement deviation is corrected so that the center p 0 of the beam square trajectory coincides with the slit center. Completion of the correction of this displacement is expressed by the equation (2) using Δx, Δy
It is determined by Δ 1 (constant). Next, FIG. 12 (a) and FIG.
FIG. 12 (b) shows eight types of correction tables shown in FIG. 12 (a). This rotation deviation is the movement of the Y-axis and X-axis galvanometer mirrors 14 and 15 in the mirror axis direction, and the Y-axis and X-axis galvanometer mirrors 14 and 1 are moved.
It is caused by the drift of the mechanical system of 5. Regarding the procedure for correcting this rotation deviation, the Y-axis and X-axis galvanometer mirrors 14 and 15 are moved to irradiate a laser beam on the position detector 13 in the same manner as described in FIG. Draw a predetermined square trajectory. Thereby, the digital data of the irradiation position points r 0 and r 1 obtained through, for example, two slits in the vertical direction (Y-axis direction) of the position detector 13 are transmitted via the X-axis and Y-axis position detection circuits 40 and 41. Capture to CPU48. For CPU48 (3)
The value of the length l 1 = r 0 −r 1 of the Y axis is calculated by using the formula and correction is performed. That is, as shown in FIG. 12 (b), the X axis, Y
The pulse generators 44, 45 to the axis pulse motor output a fixed number of up and down pulse combinations in sequence, each independently, and move the Y-axis and X-axis galvanometer mirrors 14 and 15 again to position them. Draw a square locus by laser beam irradiation on the detector 13 and draw the points r 2 and r 3 on the Y axis at that time by the CPU 48.
The value of Δ = (r 2 −r 3 ) −l 1 is calculated and stored. When the correction of these eight combinations is completed, Δ0
Find the combination of the maximum types of correction effects that maximizes the
The up and down pulses with variable pulse number from 4,45 are output to perform correction, and the points r 4 and r 5 on the Y axis of the square locus of the laser beam on the position detector 13 are fetched into the CPU 48 again. Then, the value of Δ = (r 4 −r 3 ) −l 2 is calculated, the rotation deviation θ 0 is sequentially corrected, and the correction is completed under the condition of ΔΔmin.

以上によりY軸,X軸ガルバノミラー14,15などを含む光
軸制御器3の電気回路系および機械系のドリフトによる
レーザビーム照射の上下左右方向の移動ずれおよび回転
ずれの位置ずれ補正が可能である。
As described above, it is possible to correct the positional deviation of the laser beam irradiation in the vertical and horizontal directions and the rotational deviation due to the drift of the electric circuit system and the mechanical system of the optical axis controller 3 including the Y-axis and X-axis galvanometer mirrors 14 and 15. is there.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上の説明のように本発明によれば、液晶投射形デイス
プレイの液晶素子にレーザビーム照射により書き込まれ
た図形等の位置ずれによる歪を自動的に補正し、かつ書
き込まれている線分等を消去するさいの消去もれも補償
できるため、高分解能でかつ歪の少ない優れた表示が可
能となる。
As described above, according to the present invention, the distortion due to the positional deviation of the figure or the like written by the laser beam irradiation on the liquid crystal element of the liquid crystal projection type display is automatically corrected, and the line segment or the like written is corrected. Since it is possible to compensate for erasure during erasure, it is possible to achieve excellent display with high resolution and little distortion.

また、位置ずれ補正のための位置検出を書込み用と同じ
レーザビームで行なうようにしたので、装置構成を小規
模化することが可能となる。
Further, since the position detection for the positional deviation correction is performed by the same laser beam as that for writing, the device configuration can be downsized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明による液晶投射形デイスプレイの書込み
位置補正装置の一実施例を示す全体構成ブロツク図、第
2図は第1図の本発明による位置検出器13を含むレーザ
ビーム光学系の基本構成斜視図、第3図(a),
(b),(c)は第1図および第2図の位置検出器13の
各構成斜視図,平面図,レーザビーム照射平面図、第4
図は第3図(a)の位置検出器13の位置センサ板16の等
価回路図、第5図は第1図の本発明による位置検出器13
を含むレーザビーム位置補正制御系の基本構成ブロツク
図、第6図は第5図の位置検出回路24の回路ブロツク
図、第7図(a),(b),(c)は本発明による上下
左右方向の移動ずれの各補正手順説明用平面図、第8図
(a),(b),(c)は同じく回転ずれの各補正手順
説明用平面図、第9図は本発明による液晶投射形デイス
プレイの書込み位置補正方式の一実施例を示すレーザビ
ーム光学系の具体的構成斜視図、第10図は同じくレーザ
ビーム制御系の具体的構成ブロツク図、第11図は第10図
の上下左右方向の移動ずれの補正処理フローチヤート、
第12図(a)および第13図は同じく回転ずれの補正処理
フローチヤート、第12図(b)は第12図(a)の8種類
の補正表を示す図である。 1……書込み制御部、2……レーザ(発振器)、3……
光軸制御器、4……書込み制御回路、5……液晶素子、
6……投射光学部、7……光源、8……レンズ、9……
ハーフミラー、10……投射レンズ、11……スクリーン、
12……スクリーンコントローラ、13……位置検出器、14
……Y軸用ガルバノミラー、15……X軸用ガルバノミラ
ー、16……位置センサ板、17……十字方向のスリツトを
もつレーザビーム遮蔽板、20,21……X軸位置検出出力
(端子)、22,23……Y軸位置検出出力(端子)、24…
…位置検出回路、25……X軸,Y軸位置情報デイジタルデ
ータ、37,38……ステージ、40……X軸位置検出回路、4
1……Y軸位置検出回路、42,43……D/A変換器、44,45…
…パルス発生回路、46,47……駆動用増幅器、48……CP
U、49……メモリ。
FIG. 1 is a block diagram of the overall structure showing an embodiment of a liquid crystal projection type writing position correcting device according to the present invention, and FIG. 2 is a basic diagram of a laser beam optical system including a position detector 13 according to the present invention shown in FIG. Configuration perspective view, FIG. 3 (a),
(B) and (c) are perspective views, plan views, laser beam irradiation plan views, and fourth views of the components of the position detector 13 shown in FIGS. 1 and 2.
FIG. 5 is an equivalent circuit diagram of the position sensor plate 16 of the position detector 13 shown in FIG. 3A, and FIG. 5 is a position detector 13 according to the present invention shown in FIG.
FIG. 6 is a block diagram of a basic configuration of a laser beam position correction control system including the above, FIG. 6 is a circuit block diagram of the position detection circuit 24 of FIG. 5, and FIGS. FIGS. 8A, 8B, and 8C are plan views for explaining the correction procedure of the lateral displacement, and FIGS. 8A, 8B, and 8C are plan views for explaining the correction procedure of the rotational deviation, and FIG. 9 is a liquid crystal projection according to the present invention. FIG. 10 is a block diagram showing the specific configuration of a laser beam optical system showing an embodiment of a writing position correction method for a display, FIG. 10 is a block diagram showing the specific configuration of the same laser beam control system, and FIG. Flow chart for correction of displacement in direction
12 (a) and 13 are the flowcharts for similarly correcting the rotational deviation, and FIG. 12 (b) is a diagram showing the eight kinds of correction tables in FIG. 12 (a). 1 ... Writing control unit, 2 ... Laser (oscillator), 3 ...
Optical axis controller, 4 ... Writing control circuit, 5 ... Liquid crystal element,
6 ... Projection optical unit, 7 ... Light source, 8 ... Lens, 9 ...
Half mirror, 10 …… Projection lens, 11 …… Screen,
12 …… Screen controller, 13 …… Position detector, 14
...... Y-axis galvanometer mirror, 15 …… X-axis galvanometer mirror, 16 …… position sensor plate, 17 …… laser beam shield plate with slits in the cross direction, 20,21 …… X-axis position detection output (terminal ), 22, 23 …… Y-axis position detection output (terminal), 24…
... Position detection circuit, 25 ... X-axis and Y-axis position information digital data, 37, 38 ... Stage, 40 ... X-axis position detection circuit, 4
1 …… Y-axis position detection circuit, 42,43 …… D / A converter, 44,45…
… Pulse generator, 46,47 …… Drive amplifier, 48 …… CP
U, 49 …… Memory.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長山 哲也 茨城県日立市大みか町5丁目2番1号 株 式会社日立製作所大みか工場内 (72)発明者 勝山 一郎 茨城県日立市大みか町5丁目2番1号 日 立プロセスコンピユータエンジニアリング 株式会社内 (56)参考文献 特開 昭51−114143(JP,A) 特開 昭54−58042(JP,A) 特開 昭55−67722(JP,A) 特開 昭56−1018(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Tetsuya Nagayama 5-2-1 Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Hitachi Ltd. Omika Plant, Ltd. (72) Ichiro Katsuyama 5-chome, Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture No. 1 within Hiritsu Process Computer Engineering Co., Ltd. (56) Reference JP-A-51-114143 (JP, A) JP-A-54-58042 (JP, A) JP-A-55-67722 (JP, A) Kai 56-1018 (JP, A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】レーザビームを発生するレーザと、上記レ
ーザビームの光軸を制御する光軸制御器と、上記光軸を
制御されたレーザビームの照射により透明度の変化する
液晶素子と、該透明度の変化する液晶素子に投射用の光
を与える光源と、上記投射用の光を与えた液晶素子から
の光を拡大してスクリーンに投射する投射レンズと、上
記光軸制御器等を制御する書込み制御回路と、該書込み
制御回路等へ制御データを指令するスクリーンコントロ
ーラーとからなる液晶投射形ディスプレイの書き込み位
置補正装置において、上記レーザビームの照射位置を位
置検出手段により検出して上記光軸制御器を補正制御す
る手段を備え、上記位置検出手段は、X軸及びY軸十字
方向にスリットを設けたスリット遮蔽板と、該スリット
遮蔽板上に正方形の軌跡を描くように上記レーザビーム
を照射して上記スリットを通過したレーザビームの位置
を検出する位置検出素子と、該位置検出素子の検出した
位置検出出力をX軸及びY軸方向の4点デジタル位置情
報に変換する位置検出回路とから成り、上記光軸制御器
の補正制御手段は、上記位置検出回路からの4点デジタ
ル位置情報から位置補正の補正演算を行ない該4点の中
心が上記スリツトの交点と一致するように上記光軸制御
器の書込み制御回路に位置ずれ補正指令を出力して上記
光軸制御器の上下左右方向の位置ずれ補正をし、更に上
記位置検出回路からのY軸方向の2点デジタル位置情報
から回転ずれの補正の補正演算を行ないY軸方向の2点
間長さが最大となるように上記光軸制御器の書込み制御
回路に回転ずれ補正指令を出力して上記光軸制御器の回
転ずれの補正を行なう上記スクリーンコントローラから
成ることを特徴とする液晶投射形ディスプレイの書込み
位置補正装置。
1. A laser that generates a laser beam, an optical axis controller that controls the optical axis of the laser beam, a liquid crystal element whose transparency changes by irradiation of the laser beam whose optical axis is controlled, and the transparency. Of the liquid crystal element that changes the liquid crystal element, a projection lens that magnifies the light from the liquid crystal element that has given the projection light and projects it on the screen, and a writing device that controls the optical axis controller and the like. In a writing position correction device for a liquid crystal projection display comprising a control circuit and a screen controller for instructing control data to the writing control circuit, etc., the optical axis controller for detecting the irradiation position of the laser beam by a position detecting means. The position detecting means includes a slit shielding plate having slits in the X-axis and Y-axis cross directions, and a square on the slit shielding plate. A position detecting element for irradiating the laser beam so as to draw a locus and detecting the position of the laser beam that has passed through the slit, and a position detection output detected by the position detecting element for four-point digital in the X-axis and Y-axis directions. A position detecting circuit for converting into position information, and the correction control means of the optical axis controller performs a position correction correction calculation from the four-point digital position information from the position detecting circuit, and the center of the four points is the slit. Position correction command is output to the write control circuit of the optical axis controller so as to coincide with the intersection point of the optical axis controller to correct the positional deviation in the vertical and horizontal directions of the optical axis controller, and further the Y axis from the position detection circuit. A rotational misalignment correction command is output to the writing control circuit of the optical axis controller so that the rotational misalignment correction calculation is performed from the two-point digital position information in the direction to maximize the length between the two points in the Y-axis direction. Writing position correcting device for a liquid crystal projection type display, characterized in that it consists of the screen controller for correcting the rotational displacement of Kihikarijiku controller.
JP60049441A 1985-03-14 1985-03-14 Liquid crystal projection type writing position correction device Expired - Lifetime JPH0723940B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60049441A JPH0723940B2 (en) 1985-03-14 1985-03-14 Liquid crystal projection type writing position correction device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60049441A JPH0723940B2 (en) 1985-03-14 1985-03-14 Liquid crystal projection type writing position correction device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61209424A JPS61209424A (en) 1986-09-17
JPH0723940B2 true JPH0723940B2 (en) 1995-03-15

Family

ID=12831202

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60049441A Expired - Lifetime JPH0723940B2 (en) 1985-03-14 1985-03-14 Liquid crystal projection type writing position correction device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0723940B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2512066B2 (en) * 1988-03-18 1996-07-03 株式会社日立製作所 Partial erasing method for thermal writing liquid crystal element
JP3349508B2 (en) * 1988-04-18 2002-11-25 スリーディー、システムズ、インコーポレーテッド Calibration device and calibration method for three-dimensional modeling device
JP4620901B2 (en) * 2001-06-04 2011-01-26 キヤノン株式会社 Two-dimensional optical scanning device and method for driving the two-dimensional optical scanning device

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61175461A (en) * 1985-01-30 1986-08-07 株式会社東芝 Gas liquid separator

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61209424A (en) 1986-09-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0052892B1 (en) Laser beam scanning system
US4103998A (en) Automatic alignment apparatus
US4952034A (en) Liquid crystal projection display
EP0686857A2 (en) Distance measurement apparatus for vehicle
JPS60221720A (en) Light beam scanner
JPH0723940B2 (en) Liquid crystal projection type writing position correction device
US5030836A (en) Method and apparatus for drawing patterns using an energy beam
US5307198A (en) Scanner with combined predictive and diffractive feedback control of beam position
JPH09197280A (en) Scanning linearlity correcting method for scanning type optical microscope
JPH02192710A (en) Lithography device
JP2001264654A (en) Laser plotting device
JP2002040352A (en) Scanner and three-dimensional measuring device
JP3460210B2 (en) Beam exposure equipment
JPS60121423A (en) Laser beam deflecting device
JPS62201412A (en) Laser drawing device
JP2839115B2 (en) IC inspection equipment
JPS59189628A (en) Electron beam drawing apparatus
SU1047313A1 (en) Device for readout of information from photographs
JPS60107828A (en) Deflection device for laser beam
JPS6279953A (en) Digital copying and cutter
JPH10213760A (en) Method and device for detecting optical scanning position
JP2577970B2 (en) Charged beam drawing method
JPS6188440A (en) Sample image display system
JPH0238367Y2 (en)
JPH02173609A (en) Laser drawing device