JPH07237061A - Stage device - Google Patents

Stage device

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JPH07237061A
JPH07237061A JP5488894A JP5488894A JPH07237061A JP H07237061 A JPH07237061 A JP H07237061A JP 5488894 A JP5488894 A JP 5488894A JP 5488894 A JP5488894 A JP 5488894A JP H07237061 A JPH07237061 A JP H07237061A
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viscous
stage
viscous fluid
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Tetsutsugu Hanazaki
哲嗣 花崎
Tomohide Hamada
智秀 浜田
Kazuaki Saeki
和明 佐伯
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces

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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Auxiliary Devices For Machine Tools (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE:To adjust the viscous resistance acting on a movable stage to an appropriate value. CONSTITUTION:A protruding piece disposed at the lower face of a movable stage 2 is vertically moved by a viscous resistance adjusting means 11. Viscous resistance caused to the movable stage 2 is adjusted by the contact quantity of the protruding piece 11B and a viscous fluid 12 increased/decreased by the vertical movement of the protruding piece 11B so as to be able to adjust the damping quantity to the appropriate value. As a result, the movable stage 2 can be positioned into a specified position without conducting a hunting action.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はステージ装置に関し、例
えば半導体製造装置や液晶表示板製造装置に用いられる
可動ステージ装置に適用して好適なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a stage apparatus, and is suitable for application to a movable stage apparatus used in, for example, a semiconductor manufacturing apparatus or a liquid crystal display panel manufacturing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の製造装置では、図5に示
す構成の位置決め機構を有する可動ステージ装置が用い
られている。この可動ステージ装置は保持台1上に案内
された可動ステージ2を送り機構3を用いて水平駆動す
るもので、可動ステージ2の位置をレーザ干渉計4を用
いて計測し、計測結果を基に可動ステージ2の送り位置
をコントローラ5によつてフイードバツク制御するよう
になされている。この可動ステージ装置の各部は次のよ
うに構成されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in this type of manufacturing apparatus, a movable stage device having a positioning mechanism having a structure shown in FIG. 5 has been used. This movable stage device horizontally drives a movable stage 2 guided on a holding table 1 by using a feed mechanism 3. The position of the movable stage 2 is measured by a laser interferometer 4, and based on the measurement result. The feed position of the movable stage 2 is fed back controlled by the controller 5. Each part of this movable stage device is configured as follows.

【0003】保持台1上には案内面(V字溝1Aと水平
面1B)が形成されており、可動ステージ2はこれら案
内面上にニードルベアリング6A及び6Bを介して案内
されている。これにより可動ステージ2は案内面に沿つ
て図中矢印Aの方向又はその逆方向に可動となつている
のである。また可動ステージ2の駆動に用いられる送り
機構3は、モータ3Aとこの出力軸にカツプリング(図
示せず)を介して接続された送りねじ3Bとを主構成と
して構成されている。可動ステージ2を駆動する場合に
は、支持部材3Cを介して保持台1に固定されているモ
ータ3Aの出力軸を回転させて送りねじ3Bを回転さ
せ、可動ステージ2に固定されたナツト3Dと共に可動
ステージ2を駆動するようになされている。さらに可動
ステージ2の一端には反射鏡2Aが固定されており、レ
ーザ干渉計4から当該反射鏡2Aに向けて射出されたレ
ーザ光の戻り光を検出することにより位置を検出するよ
うになされている。可動ステージ装置はこれら各部の組
み合わせによつて構成されている。
A guide surface (V-shaped groove 1A and horizontal surface 1B) is formed on the holding table 1, and the movable stage 2 is guided on these guide surfaces via needle bearings 6A and 6B. As a result, the movable stage 2 is movable along the guide surface in the direction of arrow A in the figure or in the opposite direction. Further, the feed mechanism 3 used for driving the movable stage 2 is mainly composed of a motor 3A and a feed screw 3B connected to this output shaft via a coupling (not shown). When the movable stage 2 is driven, the output shaft of the motor 3A fixed to the holding table 1 via the support member 3C is rotated to rotate the feed screw 3B, and the nut 3D fixed to the movable stage 2 is rotated. The movable stage 2 is driven. Further, a reflecting mirror 2A is fixed to one end of the movable stage 2, and the position is detected by detecting the return light of the laser light emitted from the laser interferometer 4 toward the reflecting mirror 2A. There is. The movable stage device is configured by a combination of these parts.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところでこの構成の可
動ステージ装置では、精密な位置決め(1〔μm〕以
下)に必要なダンピング量の発生を、図6に示すよう
に、送りねじ3Bとナツト3Dとの間に充填された油膜
3Eに依存している。このため可動ステージ2を精密に
位置決めするためには定期的に給油して所定の膜厚に保
ち、常に一定のダンピング量を得ることができる状態に
維持しなければならない。特に可動ステージ2の大型化
が進み、より高い位置決め精度が求められる現状におい
ては給油間隔がますます短くなる傾向にある。またこの
構成では将来的にダンピング量の不足が発生するおそれ
もある。
By the way, in the movable stage device of this structure, the generation of the damping amount necessary for precise positioning (1 [μm] or less) is generated by the feed screw 3B and nut 3D as shown in FIG. It depends on the oil film 3E filled between and. Therefore, in order to precisely position the movable stage 2, it is necessary to periodically supply oil to maintain a predetermined film thickness and maintain a state where a constant damping amount can be obtained. In particular, under the present circumstances where the movable stage 2 becomes larger and higher positioning accuracy is required, the lubrication interval tends to become shorter and shorter. Further, this configuration may cause a shortage of damping amount in the future.

【0005】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、可動ステージの大型化や高精度化に対応した十分な
ダンピング量を得ることができ、さらにダンピング量の
大きさも容易に制御することができるステージ装置を提
案しようとするものである。
The present invention has been made in consideration of the above points, and it is possible to obtain a sufficient damping amount corresponding to an increase in the size and accuracy of the movable stage, and also to easily control the amount of the damping amount. It is intended to propose a stage device that can do this.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
めに、一実施例を表す図1に対応付けて説明すると、請
求項1記載のステージ装置では、保持台(1)と、保持
台(1)上に、水平方向に移動可能に案内された可動ス
テージ(2)と、を備えるステージ装置において、保持
台(1)の上面に水平方向に沿つて設けられ、粘性流体
(12)が満たされた溝(13)と、粘性流体(12)
と接触可能なように、可動ステージ(2)の下面に配設
された突片(11B)と、突片(11B)を上下動さ
せ、突片(11B)と粘性流体(12)との接触量を調
節して、この接触量に応じた粘性抵抗を可動ステージ
(2)に生じさせる粘性抵抗可変手段(11)とを設け
ている。請求項2記載のステージ装置では、可動ステー
ジ(2)は駆動軸の駆動により水平方向に移動をし、溝
(13)はこの駆動軸の対向した位置に設けている。請
求項3記載のステージ装置では、粘性抵抗可変手段(1
1)は、可動ステージ(2)の減速時に突片(11B)
と粘性流体(12)との接触量を大きくして粘性抵抗を
大きくし、可動ステージ(2)の減速時以外に突片(1
1B)と粘性流体(12)との接触量を小さくして粘性
抵抗を小さくする制御手段(29)を更に設けている。
請求項4記載のステージ装置では、粘性流体(12)は
電気粘性流体である。請求項5記載のステージ装置で
は、突片(11B)の先端は断面楔型に形成されてお
り、かつ溝(13)の断面は前記楔型形状に対して雌型
に形成されている。
In order to solve such a problem, an explanation will be given by associating it with FIG. 1 showing an embodiment, and in a stage apparatus according to claim 1, a holding table (1) and a holding table ( 1) A stage device comprising a movable stage (2) guided movably in a horizontal direction on a top surface of the holding table (1) in a horizontal direction and filled with a viscous fluid (12). Groove (13) and viscous fluid (12)
So that it can come into contact with the projecting piece (11B) disposed on the lower surface of the movable stage (2), and the projecting piece (11B) is moved up and down to bring the projecting piece (11B) into contact with the viscous fluid (12). A viscous resistance varying means (11) for adjusting the amount and causing a viscous resistance according to the contact amount on the movable stage (2) is provided. In the stage device according to the second aspect, the movable stage (2) moves in the horizontal direction by driving the drive shaft, and the groove (13) is provided at a position facing the drive shaft. In the stage apparatus according to claim 3, viscous resistance variable means (1
1) is a projecting piece (11B) when decelerating the movable stage (2)
The amount of contact between the viscous fluid (12) and the viscous fluid (12) is increased to increase the viscous resistance.
1B) and the viscous fluid (12) are reduced in contact amount to further reduce the viscous resistance (29).
In the stage apparatus according to claim 4, the viscous fluid (12) is an electrorheological fluid. In the stage apparatus according to the fifth aspect, the tip of the projecting piece (11B) is formed in a wedge shape in cross section, and the cross section of the groove (13) is formed in a female shape with respect to the wedge shape.

【0007】[0007]

【作用】請求項1記載のステージ装置では、粘性抵抗可
変手段(11)は、突片(11B)を上下動させ、突片
(11B)と粘性流体(12)との接触量を調整するこ
とにより、可動ステージ(2)に作用する粘性抵抗の大
きさを調整するので、可動ステージ(2)の位置決め時
に必要なダンピング量を調整することができる。請求項
2記載のステージ装置では、溝(13)は駆動軸(3
B)に対向する位置に設けられているので、精度よく可
動ステージ(2)を水平方向に移動できる。請求項3記
載のステージ装置では、制御手段(29)は、可動ステ
ージ(2)の減速時に突片(11B)と粘性流体(1
2)との接触量を大きくして粘性抵抗を大きくし、可動
ステージ(2)の減速時以外に突片(11B)と粘性流
体(12)との接触量を小さくして粘性抵抗を小さくし
ているので、可動ステージ(2)を高速で移動し、か
つ、高精度で位置決めすることができる。請求項4記載
のステージ装置では、粘性流体(12)として電気粘性
流体を用いているので、突片(11B)と溝(13)と
に印加する電圧に応じて電気粘性流体の粘性を可変でき
る。このため、ダンピング量の調整幅を広くすることが
できる。請求項5記載のステージ装置では、突片(11
B)の先端は断面楔型であり、かつ、溝(13)はこの
断面楔型に対して雌型に形成されているので、突片(1
1B)と溝(13)との隙間を調整することにより所望
のダンピング量を得ることができる。
In the stage apparatus according to claim 1, the viscous resistance varying means (11) moves the protrusion (11B) up and down to adjust the contact amount between the protrusion (11B) and the viscous fluid (12). As a result, the magnitude of the viscous resistance acting on the movable stage (2) is adjusted, so that the damping amount required when positioning the movable stage (2) can be adjusted. In the stage apparatus according to claim 2, the groove (13) has a drive shaft (3).
Since it is provided at a position facing B), the movable stage (2) can be accurately moved in the horizontal direction. In the stage device according to claim 3, the control means (29) causes the protrusion piece (11B) and the viscous fluid (1) during deceleration of the movable stage (2).
2) The amount of contact with the viscous resistance is increased by increasing the amount of contact with the viscous fluid, and the amount of contact between the protruding piece (11B) and the viscous fluid (12) is decreased during the deceleration of the movable stage (2) to reduce the viscous resistance. Therefore, the movable stage (2) can be moved at high speed and positioned with high accuracy. In the stage apparatus according to the fourth aspect, since the electrorheological fluid is used as the viscous fluid (12), the viscosity of the electrorheological fluid can be changed according to the voltage applied to the protrusion (11B) and the groove (13). . Therefore, the adjustment range of the damping amount can be widened. In the stage apparatus according to claim 5, the projecting piece (11
Since the tip of (B) has a wedge-shaped cross section and the groove (13) is formed in a female shape with respect to this wedge-shaped cross section, the protrusion (1
A desired damping amount can be obtained by adjusting the gap between 1B) and the groove (13).

【0008】[0008]

【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0009】図5との対応部分に同一符号を付して示す
図1において、10は全体として本実施例における可動
ステージ装置を示し、可動ステージ2の下面にダンピン
グ量調整機構11を設けると共に、保持台1の表面に粘
性流体12で満たされた溝13を形成している。因に粘
性流体12は油等、長時間大気中に放置されても変質や
蒸発し難いものを用い、さらに適度の粘度が得られるも
のを用いるものとする。このように可動ステージ2の下
面に取り付けられるダンピング量調整機構11は送りね
じ3Bと対向し、かつ送りねじ3Bと干渉しない(又は
ナツト3D上)部分に取り付けられており、本体部分1
1Aから下方(矢印Bの方向)に伸びる突片11Bを上
下動させることによりダンピング量の発生を切り換える
ことができるようになされている。制御装置29は、コ
ントローラ5からの信号により、ダンピング量調整機構
11を制御する。
In FIG. 1 in which parts corresponding to those in FIG. 5 are designated by the same reference numerals, 10 indicates the movable stage device according to the present embodiment as a whole, and a damping amount adjusting mechanism 11 is provided on the lower surface of the movable stage 2. A groove 13 filled with a viscous fluid 12 is formed on the surface of the holding table 1. Incidentally, the viscous fluid 12 is made of oil or the like, which is not easily deteriorated or evaporated even if left in the atmosphere for a long time, and is made of a material which can obtain an appropriate viscosity. In this way, the damping amount adjusting mechanism 11 attached to the lower surface of the movable stage 2 is attached to the portion facing the feed screw 3B and not interfering with the feed screw 3B (or on the nut 3D).
The generation of the damping amount can be switched by vertically moving the protruding piece 11B extending downward from 1A (in the direction of arrow B). The control device 29 controls the damping amount adjusting mechanism 11 by a signal from the controller 5.

【0010】即ちダンピングの発生が必要となる減速時
に制御装置29は突片11Bを溝13内に満たされた粘
性流体12中に降下され接触される状態に位置決めされ
るように制御する。このとき降下量を調整して突片11
Bと粘性流体12との接触量を変化させれば粘性抵抗も
増減し、これに応じてダンピング量も調整することがで
きる。これに対してダンピング量の発生が不要な期間、
すなわち可動ステージ2の減速時以外の期間に、制御装
置29は、突片11Bを粘性流体12と接触しない状態
に保つことができるように制御している。これにより負
荷のない状態で可動ステージ2を駆動することができ
る。
That is, the controller 29 controls the protrusion 11B so that the protrusion 11B is lowered into the viscous fluid 12 filled in the groove 13 and brought into contact with the viscous fluid 12 when the deceleration is required to generate damping. At this time, the amount of descent is adjusted to adjust the protrusion 11
If the contact amount between B and the viscous fluid 12 is changed, the viscous resistance is also increased or decreased, and the damping amount can be adjusted accordingly. On the other hand, during the period when the amount of damping is unnecessary,
That is, the control device 29 controls the protrusion 11B so as not to come into contact with the viscous fluid 12 during a period other than when the movable stage 2 is decelerated. As a result, the movable stage 2 can be driven without a load.

【0011】続いてダンピング量調整機構11の詳細構
成を図2を用いて説明する。ダンピング量調整機構11
は主に2つの機構部分、即ち突片駆動機構及び降下量調
整機構によつて構成されている。ここで突片駆動機構は
粘性流体12と突片11Bとを接触させるか否かを2者
択一に切り換える駆動部分であり、降下量調整機構は降
下した突片11Bの最下点位置、すなわち降下量を調整
して粘性抵抗の大きさを制御するための駆動部分であ
る。
Next, the detailed structure of the damping amount adjusting mechanism 11 will be described with reference to FIG. Damping amount adjustment mechanism 11
Is mainly composed of two mechanical parts, that is, a projection driving mechanism and a descent amount adjusting mechanism. Here, the projecting piece drive mechanism is a drive portion that switches between whether or not the viscous fluid 12 and the projecting piece 11B are brought into contact with each other, and the descent amount adjusting mechanism is the lowest point position of the descending projecting piece 11B, that is, It is a drive unit for adjusting the amount of drop and controlling the magnitude of viscous resistance.

【0012】ここではまず降下量調整機構について説明
し、突片駆動機構についてはその後説明する。降下量調
整機構は可動ステージ2の下面に固定された断面L字形
状のベース部材14に取り付けられている。ベース部材
14の天板部分には可動ステージ2の移動方向Aと平行
に伸びるリニアガイド14Aが固定され、また側板部分
には上下方向(矢印Bの方向)に伸びるリニアガイド1
4Bが固定されている。
Here, the descent amount adjusting mechanism will be described first, and the protrusion driving mechanism will be described later. The descending amount adjusting mechanism is attached to a base member 14 having an L-shaped cross section, which is fixed to the lower surface of the movable stage 2. A linear guide 14A extending in parallel with the moving direction A of the movable stage 2 is fixed to the top plate portion of the base member 14, and a linear guide 1 extending in the up-down direction (direction of arrow B) is attached to the side plate portion.
4B is fixed.

【0013】各リニアガイド14A及び14Bには断面
コ字状のスライダー15A及び15Bを介してカム16
A及び16Bがそれぞれ取り付けられており、2つのカ
ム16A及び16Bは互いに連動し得るように係止され
ている。すなわちカム16Aとカム16Bは、カム16
Aを貫通するように形成された案内溝16A1に、軸が
カム16Bに固定されている軸付ベアリング17のベア
リング部分を摺動自在に取り付けることによつて係止さ
れている。
A cam 16 is provided on each of the linear guides 14A and 14B via sliders 15A and 15B having a U-shaped cross section.
A and 16B are attached, respectively, and the two cams 16A and 16B are locked so that they can be interlocked with each other. That is, the cam 16A and the cam 16B are
A shaft is fixed to a guide groove 16A1 formed so as to pass through A by a bearing portion of a shaft bearing 17 whose shaft is fixed to a cam 16B being slidably mounted.

【0014】ところでこの案内溝16A1は図2(A)
に示すように矢印Aの方向に向かつて緩やかに上昇する
ように加工されている。従つてカム16Aが矢印A又は
その逆方向に移動するに伴つて案内溝16A1にはめ込
まれているベアリングが案内溝16A1の内壁に沿つて
上方又は下方に移動することになり、カム16Bの取り
付け高さ自体が調整されるようになされている。例えば
カム16Aを矢印Aの方向に駆動すれば、溝16A1に
はめ込まれている軸付ベアリング17の中心位置が相対
的に低下してカム16Bが押し下げられることになる。
一方、カム16Aを矢印Aに対して逆方向に駆動すれ
ば、溝16A1にはめ込まれている軸付ベアリング17
の中心位置が相対的に上昇してカム16Bが押し上げら
れることになる。
By the way, this guide groove 16A1 is shown in FIG.
As shown in FIG. 4, the work is processed so as to gradually rise in the direction of arrow A. Therefore, as the cam 16A moves in the direction of arrow A or in the opposite direction, the bearing fitted in the guide groove 16A1 moves upward or downward along the inner wall of the guide groove 16A1. It is designed to be adjusted. For example, when the cam 16A is driven in the direction of arrow A, the center position of the shaft bearing 17 fitted in the groove 16A1 is relatively lowered, and the cam 16B is pushed down.
On the other hand, when the cam 16A is driven in the direction opposite to the arrow A, the bearing 17 with shaft fitted in the groove 16A1 is inserted.
The center position of the cam 16B is relatively raised, and the cam 16B is pushed up.

【0015】ところでこのカム16Aは取付部材18を
介してベース部材14に固定されたモータ19の回転に
よつて駆動することができる。すなわちモータ19の回
転量をカム16Aに伝える送りねじ20は一端において
モータ19の出力軸にカツプリング(図示せず)を介し
て結合される一方で、他端においてベース部材14に固
定されている取付部材21に回動自在に軸支されてい
る。この送りねじ20に取り付けられたナツト22の位
置が送りねじ20の回転に応じてカム16Aと一体に平
行移動されることによりカム16Aの水平方向位置、ひ
いては降下された突片11Bの先端位置を決定するカム
16Bの位置を決定することができるようになされてい
る。
The cam 16A can be driven by the rotation of a motor 19 fixed to the base member 14 via a mounting member 18. That is, the feed screw 20 that transmits the rotation amount of the motor 19 to the cam 16A is coupled to the output shaft of the motor 19 at one end via a coupling (not shown), while the other end is fixed to the base member 14. It is rotatably supported by the member 21. The nut 22 attached to the feed screw 20 is translated in parallel with the cam 16A in accordance with the rotation of the feed screw 20 to move the horizontal position of the cam 16A, and thus the tip position of the lowered protruding piece 11B. The position of the cam 16B to be determined can be determined.

【0016】次に突片駆動機構について説明する。この
突片駆動機構は上述のカム16Bに取り付けられてい
る。カム16Bにも上述したベース部材14と同様2つ
のリニアガイド23A及び23Bが設けられている。こ
こでリニアガイド23Aはカム16Bの底板部分に矢印
Aの方向に伸びるように固定されており、リニアガイド
23Bは側板部分に矢印Bの方向に伸びるように固定さ
れている。各リニアガイド23A及び23Bには断面コ
字状のスライダー24A及び24Bを介してカム25及
び突片11Bがそれぞれ取り付けられている。ここでカ
ム25とスライダー24Bはそれぞれ連動するように係
止されており、突片11Bはカム25に連動して上下動
するようになされている。
Next, the protruding piece drive mechanism will be described. This protruding piece drive mechanism is attached to the cam 16B described above. The cam 16B is also provided with two linear guides 23A and 23B similar to the base member 14 described above. Here, the linear guide 23A is fixed to the bottom plate portion of the cam 16B so as to extend in the direction of arrow A, and the linear guide 23B is fixed to the side plate portion so as to extend in the direction of arrow B. A cam 25 and a protruding piece 11B are attached to each of the linear guides 23A and 23B via sliders 24A and 24B having a U-shaped cross section. Here, the cam 25 and the slider 24B are locked so as to interlock with each other, and the projecting piece 11B moves up and down in conjunction with the cam 25.

【0017】即ちカム25には高さの異なる2段の貫通
溝とこれらを結ぶ急傾斜の溝部でなる案内溝25Aが設
けられており、この案内溝25Aに軸がスライダー24
Bに固定されてなる軸付ベアリング26のベアリング部
分が転動自在に取り付けられている。この軸付きベアリ
ング26の上下動に応動してスライダー24Bに固定さ
れている突片11Bがカム16Bの底部に形成された貫
通孔を介して上下動するようになされている。ただしこ
の突片駆動機構の場合、案内溝25Aの内壁に沿つて移
動するベアリングの静止位置は上段位置か下段位置かの
いずれかとなるように構成されている。これは突片駆動
機構が突片11Bの高速出し入れを目的とする機構であ
るからである。従つてこの機構ではカム25の駆動にエ
アシリンダ27を用いる。このエアシリンダ27は固定
部材28を介してカム16Bの底板部分に固定されてお
り、先端部分がカム25に固定されたピストン27Aを
出し入れすることによりカム25を駆動し、突片11B
を粘性流体12に接触させたり、接触させなかつたりし
ている。
That is, the cam 25 is provided with a two-step through groove having different heights and a guide groove 25A which is a steeply inclined groove portion connecting these through grooves, and the shaft has a slider 24 in the guide groove 25A.
The bearing portion of the shaft bearing 26 fixed to B is rotatably attached. In response to the vertical movement of the shaft bearing 26, the protrusion 11B fixed to the slider 24B moves vertically through a through hole formed in the bottom of the cam 16B. However, in the case of this protruding piece drive mechanism, the stationary position of the bearing that moves along the inner wall of the guide groove 25A is configured to be either the upper position or the lower position. This is because the projecting piece drive mechanism is a mechanism for the purpose of moving the projecting piece 11B at high speed. Therefore, in this mechanism, the air cylinder 27 is used to drive the cam 25. The air cylinder 27 is fixed to the bottom plate portion of the cam 16B via a fixing member 28. The cam 25 is driven by inserting / removing the piston 27A whose tip portion is fixed to the cam 25, and the protruding piece 11B.
With or without contact with the viscous fluid 12.

【0018】以上の構成において、可動ステージ装置1
0による位置決め動作について説明する。ここでは位置
決め動作を、静止状態から加速され一定速度に達した可
動ステージ2が減速されるまでの期間と、減速を開始し
てから目標位置に位置決めされるまでの期間に分けて説
明する。因に可動ステージ2を搬送するのに先だつて適
切なダンピング量が突片11Bと粘性流体12との間に
発生するように突片11Bの先端高さ、すなわち粘性流
体12内に付け込まれる突片11Bの付け込み量は降下
量調整機構によつて調整されているものとする。
In the above structure, the movable stage device 1
The positioning operation by 0 will be described. Here, the positioning operation will be described by dividing it into a period from the stationary state until the movable stage 2 that has been accelerated and reached a constant speed is decelerated, and a period from the start of deceleration to the positioning to the target position. Incidentally, the tip height of the protrusion 11B, that is, the protrusion attached to the viscous fluid 12 so that an appropriate damping amount is generated between the protrusion 11B and the viscous fluid 12 before the movable stage 2 is conveyed. It is assumed that the attachment amount of the piece 11B is adjusted by the descent amount adjusting mechanism.

【0019】まず可動ステージ2の駆動開始から減速ま
での期間について説明する。加速開始に際して、制御装
置29の指令により、エアシリンダ27はカム25を矢
印Aの反対方向に駆動して案内溝25Aにはめ込まれて
いる軸付きベアリング26を案内溝25Aの下段位置か
ら上段位置へと移動させ、粘性流体12中に接触してい
た突片11Bを速やかに粘性流体12中から引き出す。
この状態で可動ステージ2は送り機構3によつて加速さ
れ、一定速度に達した後は目標地点近傍まで等速度によ
つて搬送される。ところでこのとき突片11Bには粘性
抵抗が作用しない状態(すなわち負荷のない状態)にあ
るためモータ3Aとして比較的小さいモータを用いても
可動ステージ2を容易に駆動することができる。
First, the period from the start of driving the movable stage 2 to the deceleration will be described. At the start of acceleration, the air cylinder 27 drives the cam 25 in the direction opposite to the arrow A in response to a command from the control device 29 to move the shaft bearing 26 fitted in the guide groove 25A from the lower position to the upper position of the guide groove 25A. The protruding piece 11B that was in contact with the viscous fluid 12 is quickly pulled out from the viscous fluid 12.
In this state, the movable stage 2 is accelerated by the feed mechanism 3, and after reaching a constant speed, it is conveyed to the vicinity of the target point at a constant speed. At this time, the viscous resistance does not act on the projecting piece 11B (that is, there is no load), so that the movable stage 2 can be easily driven even if a relatively small motor is used as the motor 3A.

【0020】やがて目標地点が近づき減速動作に移行す
る際、制御装置29の指令によりエアシリンダ27はカ
ム25を矢印Aの方向に駆動して軸付きベアリング26
を案内溝25Aの上段位置から下段位置まで移動させ
る。これにより突片11Bは速やかに粘性流体12中に
降下され、粘性抵抗が発生するようになる。この粘性抵
抗は微妙な位置決めをする際に必要となる適正なダンピ
ング量を発生させる。これにより図3(A)に示す速度
−時間特性曲線図のように、可動ステージ2を減速後速
やかに所定位置に静止させることができる。
When the target point approaches soon and shifts to the deceleration operation, the air cylinder 27 drives the cam 25 in the direction of arrow A according to a command from the control device 29, and the shaft bearing 26
Is moved from the upper position to the lower position of the guide groove 25A. As a result, the protrusion 11B is quickly lowered into the viscous fluid 12 and viscous resistance is generated. This viscous resistance generates an appropriate damping amount required for delicate positioning. As a result, as shown in the speed-time characteristic curve diagram shown in FIG. 3A, the movable stage 2 can be quickly stopped at a predetermined position after deceleration.

【0021】一方、従来型の可動ステージ装置の場合に
は、適切なダンピング力の調整が難しく、またダンピン
グ力が低下している場合には、図3(B)に示す速度−
時間特性曲線図のように可動ステージ2は減速後も位置
決めが収束せずいわゆるハンチング状態になる問題があ
る。しかしながら本実施例で説明した可動ステージ装置
10の場合には、このようなときであつても、降下量調
整機構のモータ19を回動させてカム16Aを矢印Aの
方向に移動させ、突片11Bの最下点高さを少し低くな
るように調整すれば適切な大きさの粘性抵抗を発生させ
ることができ、ハンチング状態を脱することができる。
On the other hand, in the case of the conventional movable stage apparatus, it is difficult to properly adjust the damping force, and when the damping force is lowered, the speed shown in FIG.
As shown in the time characteristic curve diagram, there is a problem that the movable stage 2 does not converge its positioning even after deceleration and becomes a so-called hunting state. However, in the case of the movable stage device 10 described in the present embodiment, even at this time, the motor 19 of the descending amount adjusting mechanism is rotated to move the cam 16A in the direction of the arrow A, and the projecting piece. If the height of the lowest point of 11B is adjusted to be slightly lower, it is possible to generate a viscous resistance of an appropriate size, and it is possible to get out of the hunting state.

【0022】以上の構成によれば、可動ステージ2の位
置決め時に任意の大きさのダンピング量を得ることがで
きる可動ステージ装置10を実現することができ、ハン
チング動作するおそれなく速やかに可動ステージ2の位
置を位置決めすることができる。本実施例では、減速時
のみに突片11Bを粘性流体12と接触させたが加速時
や定速時に突片11Bを粘性流体12にわずかに接触さ
せても良い。これにより、減速時により早く突片11B
と粘性流体12とが接触するので、ステージ装置の速い
位置決めができる。
With the above-described structure, it is possible to realize the movable stage device 10 which can obtain a damping amount of an arbitrary size when the movable stage 2 is positioned, and the movable stage 2 can be swiftly moved without the risk of hunting. The position can be positioned. In the present embodiment, the protrusion 11B is brought into contact with the viscous fluid 12 only during deceleration, but the protrusion 11B may be slightly brought into contact with the viscous fluid 12 during acceleration or constant speed. As a result, the protrusion 11B can be decelerated more quickly during deceleration.
Since the viscous fluid 12 comes into contact with the viscous fluid 12, the stage device can be quickly positioned.

【0023】なお上述の実施例においては、突片11B
として平板状のものを用いる場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、粘性流体12との間に適切な大き
さの粘性抵抗を発生することができれば他の形状であつ
ても良い。例えば図2との対応部分に同一符号を付して
示す図4に示すように、断面楔型形状の突片30を突片
11Bの代わりに用いても良い。またこの場合、粘性流
体12が満たされる溝13Aの断面形状も突片30の断
面形状に対して雌型に形成しても良い。このようにして
突片30と溝13Aとの間にできる隙間dの大きさを調
整することによつて得られる粘性抵抗により、所望のダ
ンピング量を得るようにしても良い。またこの場合、突
片30と溝13Aの内壁を完全に接触させることにより
ロツクをかけることもできる。
In the above embodiment, the protruding piece 11B is used.
Although the case where a flat plate is used has been described above, the present invention is not limited to this, and another shape may be used as long as it can generate a viscous resistance of an appropriate size with the viscous fluid 12. For example, as shown in FIG. 4 in which parts corresponding to those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, a projecting piece 30 having a wedge-shaped cross section may be used instead of the projecting piece 11B. Further, in this case, the cross-sectional shape of the groove 13A filled with the viscous fluid 12 may be formed in a female shape with respect to the cross-sectional shape of the projecting piece 30. In this way, a desired damping amount may be obtained by viscous resistance obtained by adjusting the size of the gap d formed between the protrusion 30 and the groove 13A. Further, in this case, the locking can be applied by completely contacting the projecting piece 30 and the inner wall of the groove 13A.

【0024】また上述の実施例においては、可動ステー
ジ装置10を半導体製造装置や液晶表示板製造装置の位
置決めステージとして用いる場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、保持台1上に案内された可動ステ
ージ2を水平方向に案内する構成の可動ステージ装置に
広く適用し得る。
Further, in the above-mentioned embodiment, the case where the movable stage device 10 is used as the positioning stage of the semiconductor manufacturing apparatus or the liquid crystal display panel manufacturing apparatus has been described, but the present invention is not limited to this, and is guided on the holding table 1. The present invention can be widely applied to a movable stage device configured to horizontally guide the movable stage 2 thus formed.

【0025】さらに上述の実施例においては、粘性流体
12として油等、適度な粘度を有するものを用い、突片
11Bとの接触量を調整する場合(接触しない場合も含
む)について述べたが、本発明はこれに限らず、粘度を
電気によつて制御することができる電気粘性流体を粘性
流体12の代わりに用いても良い。電気粘性流体は、溝
13と突片11Bとに印加する電圧を調整することによ
り、電気粘性流体の粘度を可変できるので、突片11B
と粘性流体12との接触量のみで粘性抵抗を変えるのに
比べて広い範囲で粘性抵抗を変えることができる。これ
により、更にステージ装置を高精度で位置決めできる。
また、上述のように電気粘性流体は印加電圧で粘度を可
変できるので高速でステージ装置の位置決めができる。
Further, in the above-mentioned embodiment, the case where the viscous fluid 12 having a proper viscosity such as oil is used and the contact amount with the projecting piece 11B is adjusted (including the case where it does not contact) has been described. The present invention is not limited to this, and an electrorheological fluid whose viscosity can be controlled by electricity may be used instead of the viscous fluid 12. The electrorheological fluid can change the viscosity of the electrorheological fluid by adjusting the voltage applied to the groove 13 and the protrusion 11B.
It is possible to change the viscous resistance in a wider range than changing the viscous resistance only by the amount of contact between the viscous fluid 12 and the viscous fluid 12. As a result, the stage device can be positioned with higher accuracy.
In addition, since the viscosity of the electrorheological fluid can be changed by the applied voltage as described above, the stage device can be positioned at high speed.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上説明してきたように、請求項1記載
のステージ装置では、粘性抵抗可変手段は、可動ステー
ジに作用する粘性抵抗の大きさを調整することにより、
可動ステージの位置決め時に必要なダンピング量を得る
ので、可動ステージの大型化や高精度化に対応したダン
ピング量を得ることができる。請求項2記載のステージ
装置では、溝は駆動軸に対向する位置に設けられている
ので、精度よく可動ステージを水平方向に移動できる。
請求項3記載のステージ装置では、制御手段の制御によ
り、可動ステージを高速で移動し、かつ、高精度で位置
決めすることができる。請求項4記載のステージ装置で
は、粘性流体として電気粘性流体を用いているので、所
望のダンピング量を高速に得ることができる。また、突
片の上下動と合わせることにより、ダンピング量の調整
幅を広くすることができる。請求項5記載のステージ装
置では、突片の先端は断面楔型であり、かつ、溝はこの
断面楔型に対して雌型に形成されているので、突片と溝
との隙間を調整することにより所望のダンピング量を得
ることができる。
As described above, in the stage device according to the first aspect, the viscous resistance varying means adjusts the magnitude of the viscous resistance acting on the movable stage,
Since the damping amount necessary for positioning the movable stage is obtained, it is possible to obtain the damping amount corresponding to the size increase and the precision improvement of the movable stage. In the stage device according to the second aspect, since the groove is provided at a position facing the drive shaft, the movable stage can be accurately moved in the horizontal direction.
In the stage apparatus according to the third aspect, the movable stage can be moved at high speed and positioned with high accuracy by the control of the control means. In the stage device according to the fourth aspect, since the electrorheological fluid is used as the viscous fluid, a desired damping amount can be obtained at high speed. In addition, the adjustment range of the damping amount can be widened by combining it with the vertical movement of the protrusion. In the stage apparatus according to claim 5, since the tip of the projecting piece has a wedge-shaped cross section and the groove is formed in a female shape with respect to this wedge-shaped cross section, the gap between the projecting piece and the groove is adjusted. As a result, a desired damping amount can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるステージ装置の全体構成を示す略
線的斜視図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an overall configuration of a stage device according to the present invention.

【図2】ダンピング量調整機構の説明に供する側面図及
び正面図である。
2A and 2B are a side view and a front view for explaining a damping amount adjusting mechanism.

【図3】可動ステージの位置決め動作の説明に供する特
性曲線図である。
FIG. 3 is a characteristic curve diagram for explaining a positioning operation of a movable stage.

【図4】ダンピング量調整機構の他の実施例の説明に供
する側面図及び正面図である。
FIG. 4 is a side view and a front view for explaining another embodiment of the damping amount adjusting mechanism.

【図5】従来用いられているステージ装置の全体構成を
示す略線的斜視図である。
FIG. 5 is a schematic perspective view showing an overall configuration of a conventionally used stage device.

【図6】送りねじの断面構造を示す略線的断面図であ
る。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a cross-sectional structure of a feed screw.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……保持台、2……可動ステージ、3……送り機構、
3A、19……モータ、3B、20……送りねじ、3C
……支持部材、3D、22……ナツト、4……レーザ干
渉計、5……コントローラ、6A、6B……ニードルベ
アリング、10……可動ステージ装置、11……ダンピ
ング量調整機構、11A……本体部分、11B、30…
…突片、12……粘性流体、13、13A……溝、14
……ベース部材、14A、14B、23A、23B……
リニアガイド、16A、16B、25……カム、16A
1、25A……案内溝、17、26……軸付ベアリン
グ、18、21……取付部材、24A、24B……スラ
イダー、27……エアシリンダ、27A……ピストン、
28……固定部材、29……制御装置。
1 ... holding table, 2 ... movable stage, 3 ... feed mechanism,
3A, 19 ... Motor, 3B, 20 ... Feed screw, 3C
...... Support member, 3D, 22 ...... Nut, 4 ...... Laser interferometer, 5 ...... Controller, 6A, 6B ...... Needle bearing, 10 ...... Movable stage device, 11 ...... Damping amount adjusting mechanism, 11A ...... Body part, 11B, 30 ...
… Protrusions, 12 …… Viscous fluid, 13, 13A …… Groove, 14
... Base member, 14A, 14B, 23A, 23B ...
Linear guide, 16A, 16B, 25 ... Cam, 16A
1, 25A ... Guide groove, 17, 26 ... Shaft bearing, 18, 21 ... Mounting member, 24A, 24B ... Slider, 27 ... Air cylinder, 27A ... Piston,
28: fixing member, 29: control device.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/027 // B23Q 15/24 7352−4M H01L 21/30 503 A 7352−4M 515 G ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location H01L 21/027 // B23Q 15/24 7352-4M H01L 21/30 503 A 7352-4M 515 G

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】保持台と、 前記保持台上に、水平方向に移動可能に案内された可動
ステージとを備えるステージ装置において、 前記保持台の上面に前記水平方向に沿つて設けられ、粘
性流体が満たされた溝と、 前記粘性流体と接触可能なように、前記可動ステージの
下面に配設された突片と、 前記突片を上下動させ、前記突片と前記粘性流体との接
触量を調整して、前記接触量に応じた粘性抵抗を前記可
動ステージに生じさせる粘性抵抗可変手段とを具えるこ
とを特徴とするステージ装置。
1. A stage device comprising a holding base and a movable stage guided on the holding base so as to be movable in the horizontal direction, wherein a viscous fluid is provided on an upper surface of the holding base along the horizontal direction. And a protrusion provided on the lower surface of the movable stage so as to be able to come into contact with the viscous fluid, and an amount of contact between the protrusion and the viscous fluid that is moved up and down. And a viscous resistance varying means for causing the movable stage to generate viscous resistance according to the contact amount.
【請求項2】前記可動ステージは、駆動軸の駆動によつ
て前記水平方向に駆動され、 前記溝は、前記駆動軸に対向する位置に設けられること
を特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
2. The stage according to claim 1, wherein the movable stage is driven in the horizontal direction by driving a drive shaft, and the groove is provided at a position facing the drive shaft. apparatus.
【請求項3】前記粘性抵抗可変手段は、前記可動ステー
ジの減速時に前記突片と前記粘性流体との接触量を大き
くして粘性抵抗を大きくし、 前記可動ステージの減速時以外に前記突片と前記粘性流
体との接触量を小さくして粘性抵抗を小さくする制御手
段を具えることを特徴とする請求項1又は請求項2に記
載のステージ装置。
3. The viscous resistance varying means increases the amount of contact between the projecting piece and the viscous fluid to increase the viscous resistance during deceleration of the movable stage, and the viscous piece during the deceleration of the movable stage. The stage device according to claim 1 or 2, further comprising a control unit configured to reduce a contact amount between the viscous fluid and the viscous fluid to reduce a viscous resistance.
【請求項4】前記粘性流体は電気粘性流体であることを
特徴とする請求項1、請求項2又は請求項3に記載のス
テージ装置。
4. The stage apparatus according to claim 1, wherein the viscous fluid is an electrorheological fluid.
【請求項5】前記突片の先端は断面楔型に形成されてお
り、かつ前記溝の断面は前記楔型形状に対して雌型に形
成されていることを特徴とする請求項1、請求項2、請
求項3又は請求項4に記載のステージ装置。
5. The projection according to claim 1, wherein the tip of the projection is formed in a wedge shape in cross section, and the cross section of the groove is formed in a female shape with respect to the wedge shape. The stage device according to claim 2, claim 3, or claim 4.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003243481A (en) * 2002-02-21 2003-08-29 Asm Japan Kk Semiconductor manufacturing apparatus and maintenance method
JP2008139695A (en) * 2006-12-04 2008-06-19 Hiihaisuto Seiko Kk Stage device and processing device
JP2009246238A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Sumitomo Heavy Ind Ltd Lift pin unit and xy stage device having same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6448723B1 (en) 1999-08-26 2002-09-10 Canon Kabushiki Kaisha Stage system and exposure apparatus
JP2003243481A (en) * 2002-02-21 2003-08-29 Asm Japan Kk Semiconductor manufacturing apparatus and maintenance method
JP2008139695A (en) * 2006-12-04 2008-06-19 Hiihaisuto Seiko Kk Stage device and processing device
JP2009246238A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Sumitomo Heavy Ind Ltd Lift pin unit and xy stage device having same

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