JPH07235261A - Exposure method and device for forming phosphor screen of cathode-ray tube - Google Patents
Exposure method and device for forming phosphor screen of cathode-ray tubeInfo
- Publication number
- JPH07235261A JPH07235261A JP2669694A JP2669694A JPH07235261A JP H07235261 A JPH07235261 A JP H07235261A JP 2669694 A JP2669694 A JP 2669694A JP 2669694 A JP2669694 A JP 2669694A JP H07235261 A JPH07235261 A JP H07235261A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- ray tube
- exposure
- eccentric cam
- cathode ray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、陰極線管の蛍光面作成
用露光方法および露光装置に係り、さらに詳しくは、デ
ィジタルフィルターに形成された遮光パターンのピッチ
が多少粗くても、しかもディジタルフィルターの揺動速
度を多少遅らしても、陰極線管用パネルの内面に、均一
で微細な蛍光体パターンを作成することができる露光方
法および露光装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure method and an exposure apparatus for forming a fluorescent screen of a cathode ray tube, and more particularly, to an exposure method of a digital filter even if the pitch of a light shielding pattern formed on the digital filter is slightly rough. The present invention relates to an exposure method and an exposure apparatus capable of forming a uniform and fine phosphor pattern on the inner surface of a panel for a cathode ray tube even if the rocking speed is slightly slowed.
【０００２】[0002]
【従来の技術】カラー陰極線管のパネルガラス内面に形
成される蛍光体ストライプ（またはドット）およびブラ
ックストライプは、アパーチャグリルの孔と正確な位置
関係を保って形成されなければならない。このため、パ
ネルの内面にレジスト（ＰＶＰ，ＰＶＡ）および蛍光体
スラリーを塗布・乾燥した後、パネルの内面にアパーチ
ャグリルを装着し、そのパネルの内面に露光用光を照射
し、その後現像などの処理を得て、蛍光面を作成してい
る。2. Description of the Related Art Phosphor stripes (or dots) and black stripes formed on the inner surface of a panel glass of a color cathode ray tube must be formed in a precise positional relationship with holes of an aperture grill. Therefore, after coating and drying the resist (PVP, PVA) and the phosphor slurry on the inner surface of the panel, an aperture grill is attached to the inner surface of the panel, the inner surface of the panel is irradiated with exposure light, and then the development is performed. After processing, the phosphor screen is created.
【０００３】陰極線管の蛍光面を作成するための露光装
置の概略を図５に示す。図５に示すように、陰極線管の
パネルガラス３２は、露光装置２０の上部に設置され、
露光用光源６とレンズ群５の間、およびレンズ群５とパ
ネルガラス２との間には、シャッター２２，２４がそれ
ぞれ装着してある。露光用光源６としては、たとえば超
高圧水銀灯が用いられる。FIG. 5 schematically shows an exposure apparatus for forming a fluorescent screen of a cathode ray tube. As shown in FIG. 5, the panel glass 32 of the cathode ray tube is installed on the upper part of the exposure device 20,
Shutters 22 and 24 are mounted between the exposure light source 6 and the lens group 5 and between the lens group 5 and the panel glass 2, respectively. As the exposure light source 6, for example, an ultrahigh pressure mercury lamp is used.
【０００４】レンズ群５は、たとえばフラットレンズ
８、メインレンズ１０、サイドレンズ１４、サブレンズ
１６およびプリズムレンズ１８などで構成してある。レ
ンズ群５の途中またはその前後には、ディジタル（ＣＡ
Ｄ）フィルター１２が設置してある。ＣＡＤフィルター
１２は、露光用光の強度分布を、中心領域と周辺領域と
で調節するためのものであり、中心領域に対する周辺領
域の光強度分布の比を０．７〜１０倍に調節する。The lens group 5 is composed of, for example, a flat lens 8, a main lens 10, a side lens 14, a sub lens 16 and a prism lens 18. A digital (CA
D) The filter 12 is installed. The CAD filter 12 is for adjusting the intensity distribution of the exposure light between the central region and the peripheral region, and adjusts the ratio of the light intensity distribution of the peripheral region to the central region to 0.7 to 10 times.
【０００５】なお、陰極線管のパネルガラス２の内面に
形成される蛍光体ストライプまたはブラックストライプ
は、アパーチャグリルの孔と正確な位置関係を保って形
成されなければならない。このため、露光時には、パネ
ルガラス２の内面には、アパーチャグリル２６が装着し
てある。The phosphor stripes or the black stripes formed on the inner surface of the panel glass 2 of the cathode ray tube must be formed in a precise positional relationship with the holes of the aperture grill. Therefore, at the time of exposure, the aperture grille 26 is attached to the inner surface of the panel glass 2.
【０００６】ＣＡＤフィルター１２は、図６に示すよう
に、遮光ストライプ２８が所定ピッチＰ1 （ストライプ
の中心間距離）で形成してある透明なガラス円盤で構成
される。遮光ストライプ２８は、たとえばカーボン膜な
どで構成される。遮光ストライプ２８のストライプ幅Ｂ
は、中心部分で太く、周辺部分に近づくにつれて細くな
るように構成してある。周辺部分での光透過率を向上さ
せるためである。なお、前記ピッチＰ1 は、一定であ
る。As shown in FIG. 6, the CAD filter 12 is composed of a transparent glass disk in which light-shielding stripes 28 are formed at a predetermined pitch P 1 (distance between stripe centers). The light-shielding stripe 28 is made of, for example, a carbon film. Stripe width B of light-shielding stripe 28
Is thick at the central portion and becomes thinner toward the peripheral portion. This is to improve the light transmittance in the peripheral portion. The pitch P 1 is constant.
【０００７】このＣＡＤフィルター１２を、露光時に、
ストライプに対して直交する方向に微小往復移動（揺
動）させることで、このストライプを蛍光面に転写する
ことなく、露光用光の強度分布を、中心領域と周辺領域
とで調節することができる。そこで、従来では、図７に
示す装置３０を用いて、ＣＡＤフィルター１２を揺動さ
せている。When the CAD filter 12 is exposed,
By slightly reciprocating (swinging) in the direction orthogonal to the stripe, the intensity distribution of the exposure light can be adjusted in the central region and the peripheral region without transferring the stripe to the fluorescent screen. . Therefore, conventionally, the CAD filter 12 is swung by using the device 30 shown in FIG.
【０００８】図７に示す装置３０では、ＣＡＤフィルタ
ー１２は、ホルダー３２に保持してある。ホルダー３２
は、レンズ群５を保持するレンズホルダー３４に対し
て、矢印Ａ方向に移動自在となるように、リニアベアリ
ングなどで保持してある。また、ホルダー３２には、ス
プリング３６の一端が連結してある。スプリング３６の
他端は、レンズホルダー３４に対して連結してある。そ
の結果、ホルダー３２は、スプリング３６の弾性力によ
り、レンズホルダー３４側に常時押し付けられている。In the device 30 shown in FIG. 7, the CAD filter 12 is held in a holder 32. Holder 32
Is held by a linear bearing or the like so as to be movable in the direction of arrow A with respect to the lens holder 34 that holds the lens group 5. Further, one end of a spring 36 is connected to the holder 32. The other end of the spring 36 is connected to the lens holder 34. As a result, the holder 32 is constantly pressed against the lens holder 34 side by the elastic force of the spring 36.
【０００９】ホルダー３２には、回転軸３８の上端が回
転自在に装着してある。回転軸３８の下端には、カムフ
ォロアー４０が固定してある。カムフォロアー４０の外
周は、偏心カム４２の外周に対し、スプリング３６によ
る弾性力で圧接している。偏心カム４２は、図８にも示
すように、回転軸４６により偏心して回転し、その回転
により、カムフォロアー４０を従動して回転させるよう
になっている。回転軸４６は、モータ４４により回転さ
せられる。An upper end of a rotary shaft 38 is rotatably mounted on the holder 32. A cam follower 40 is fixed to the lower end of the rotary shaft 38. The outer periphery of the cam follower 40 is pressed against the outer periphery of the eccentric cam 42 by the elastic force of the spring 36. As shown in FIG. 8, the eccentric cam 42 is eccentrically rotated by the rotation shaft 46, and the rotation causes the cam follower 40 to follow and rotate. The rotating shaft 46 is rotated by the motor 44.
【００１０】偏心カム４２の偏心量ｅは、従来では、約
０．９mmであった。偏心カム４２の回転により、カムフ
ォロアー４０が従動して回転し、その結果、回転軸３８
およびホルダー３２が、矢印Ａ方向に揺動する。ホルダ
ー３２が矢印Ａ方向に移動すると、図６に示すように、
ＣＡＤフィルター１２も矢印Ａ方向に揺動し、そこを通
過する露光用光の強度分布を、中心領域と周辺領域とで
調節する。The eccentric amount e of the eccentric cam 42 has been about 0.9 mm in the past. The rotation of the eccentric cam 42 causes the cam follower 40 to rotate following the rotation of the eccentric cam 42. As a result, the rotation shaft 38
And the holder 32 swings in the direction of arrow A. When the holder 32 moves in the direction of arrow A, as shown in FIG.
The CAD filter 12 also swings in the direction of arrow A, and the intensity distribution of the exposure light passing therethrough is adjusted in the central region and the peripheral region.
【００１１】その結果、図５に示すパネルガラス２の内
面には、アパーチャグリルの孔に対応した適切なストラ
イプ幅で、ブラックストライプ、赤色蛍光体（Ｒ）スト
ライプ、緑色蛍光体（Ｇ）ストライプおよび青色蛍光体
（Ｂ）ストライプを順次得ることができる。As a result, on the inner surface of the panel glass 2 shown in FIG. 5, a black stripe, a red phosphor (R) stripe, a green phosphor (G) stripe and an appropriate stripe width corresponding to the holes of the aperture grille are formed. Blue phosphor (B) stripes can be sequentially obtained.
【００１２】[0012]
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の露光
装置を用いた露光方法では、ＣＡＤフィルター１２をス
トライプと直角方向に揺動させるための手段として、単
一の偏心カム４２を用いているので、図９に示すよう
に、その揺動の振幅ａが、図８に示す偏心量ｅ（＝０．
９mm）の二倍である１．８mmと一定であった。However, in the exposure method using the conventional exposure apparatus, the single eccentric cam 42 is used as the means for swinging the CAD filter 12 in the direction perpendicular to the stripes. , As shown in FIG. 9, the amplitude a of the oscillation is eccentricity e (= 0.
9 mm), which is twice as large as 1.8 mm.
【００１３】そのため、従来の方法では、図９に示すよ
うに、ＣＡＤフィルター１２の動きが単調になり、ＣＡ
Ｄフィルター１２の揺動のピーク４８の位置で、ＣＡＤ
フィルター１２の位置が常に同じ位置となる。このた
め、揺動速度が２mm／秒程度に遅い場合には、前記ピー
ク４８の位置では、ＣＡＤフィルター１２は、停止状態
と略同等になり、ＣＡＤフィルター１２を通過する露光
用光により、図６に示すＣＡＤフィルター１２のストラ
イプ２８のパターンが、パネル内面の蛍光面に転写さ
れ、不良が発生するおそれがある。Therefore, in the conventional method, the movement of the CAD filter 12 becomes monotonous as shown in FIG.
At the position of the peak 48 of the swing of the D filter 12, the CAD
The position of the filter 12 is always the same. Therefore, when the rocking speed is as slow as about 2 mm / sec, the CAD filter 12 becomes substantially equivalent to the stopped state at the position of the peak 48, and the exposure light passing through the CAD filter 12 causes The pattern of the stripe 28 of the CAD filter 12 shown in (4) may be transferred to the fluorescent surface on the inner surface of the panel, and a defect may occur.
【００１４】そこで、ストライプ２８のピッチＰ1 を、
たとえば０．３mm程度に狭くしたり、揺動速度を上げた
りするなどの対策が成されている。しかしながら、ＣＡ
Ｄフィルター１２のピッチＰ1 を０．３mm程度に狭くす
ると、このＣＡＤフィルター１２の作成精度が悪くなり
（約５％のばらつきが生じる）、蛍光面で、適切な蛍光
体パターン（適切な幅の蛍光体ストライプ）を得ること
ができないおそれがある。Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ
（青）のストライプ幅が、１〜２μｍ程度にバラつく
と、色調がずれ、不良品となるおそれがある。Therefore, the pitch P 1 of the stripe 28 is
For example, measures such as narrowing down to about 0.3 mm and increasing the rocking speed are taken. However, CA
If the pitch P 1 of the D filter 12 is narrowed to about 0.3 mm, the accuracy of making the CAD filter 12 becomes poor (causing a variation of about 5%), and an appropriate phosphor pattern (with an appropriate width) is formed on the phosphor screen. It may not be possible to obtain a phosphor stripe). R (red), G (green), B
If the stripe width of (blue) varies from about 1 to 2 μm, the color tone may be deviated and the product may be defective.
【００１５】また、揺動速度を上げると、蛍光面が生成
されるパネルまたはアパーチャグリルが振動するおそれ
があり、この場合にも、良好な蛍光体パターンを形成で
きないおそれがある。本発明は、このような実状に鑑み
てなされ、ＣＡＤフィルターに形成された遮光パターン
のピッチが多少粗くても、しかもＣＡＤフィルターの揺
動速度を多少遅らしても、陰極線管用パネルの内面に、
均一で微細な蛍光体パターンを作成することができる露
光方法および露光装置を提供することを目的とする。Further, if the rocking speed is increased, the panel or the aperture grill on which the phosphor screen is generated may vibrate, and in this case also, it may be impossible to form a good phosphor pattern. The present invention has been made in view of such an actual situation, and even if the pitch of the light shielding pattern formed on the CAD filter is slightly rough, and the swing speed of the CAD filter is slightly slowed, the inner surface of the cathode ray tube panel is
An object of the present invention is to provide an exposure method and an exposure apparatus capable of forming a uniform and fine phosphor pattern.
【００１６】[0016]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る陰極線管用パネルの蛍光面作成用露光
方法は、光源からの光を、遮光ストライプが所定ピッチ
で形成されたＣＡＤフィルターを少なくとも通し、陰極
線管用パネルの内面に照射し、陰極線管の蛍光面作成用
露光を行う方法であって、上記ＣＡＤフィルターを、上
記遮光ストライプと略垂直方向に、ランダムな振幅で揺
動させることを特徴とする。In order to achieve the above object, an exposure method for forming a fluorescent screen of a cathode ray tube panel according to the present invention is a CAD filter in which light-shielding stripes are formed at a predetermined pitch for light from a light source. At least through the above, and irradiating the inner surface of the panel for the cathode ray tube to perform exposure for forming the fluorescent screen of the cathode ray tube, wherein the CAD filter is oscillated at a random amplitude in a direction substantially perpendicular to the light shielding stripe. Is characterized by.
【００１７】上記ＣＡＤフィルターの揺動速度が、２〜
３mm／秒であることが好ましい。また、上記ＣＡＤフィ
ルターの振幅の最小が０．１〜０．５mmであり、振幅の
最大が１．２〜５．０mmであることが好ましい。上記Ｃ
ＡＤフィルターに形成された遮光ストライプのピッチ
が、０．４〜２．０mmであることが好ましい。The swing speed of the CAD filter is 2 to
It is preferably 3 mm / sec. The minimum amplitude of the CAD filter is preferably 0.1 to 0.5 mm and the maximum amplitude is preferably 1.2 to 5.0 mm. C above
The pitch of the light-shielding stripes formed on the AD filter is preferably 0.4 to 2.0 mm.
【００１８】上記目的を達成するために、本発明に係る
露光装置は、露光用光源と、この露光用光源からの光
を、陰極線管内の電子ビームの軌跡に近似させるための
少なくとも一のレンズと、このレンズと共に、露光用光
源からの光が通過するように配置され、所定ピッチの遮
光ストライプが形成してあＣＡＤフィルターと、このデ
ジタルフィルターを、上記遮光ストライプと略直角方向
に、ランダムな振幅で揺動させる揺動手段と、上記レン
ズおよびデジタルフィルターを通過した光が照射される
パネルを保持する保持手段とを有する。In order to achieve the above object, an exposure apparatus according to the present invention comprises an exposure light source and at least one lens for approximating the light from this exposure light source to the trajectory of an electron beam in a cathode ray tube. Along with this lens, light from an exposure light source is arranged to pass through, and a light-shielding stripe having a predetermined pitch is formed. A CAD filter and this digital filter are provided with a random amplitude in a direction substantially perpendicular to the light-shielding stripe. And a holding means for holding the panel irradiated with the light passing through the lens and the digital filter.
【００１９】上記揺動手段は、偏心カムと、この偏心カ
ムを回転させる回転手段と、上記ＣＡＤフィルターを、
上記遮光ストライプと略直角方向に移動自在に保持する
ホルダーと、上記偏心カムに従動して回転し、上記ホル
ダーを、ランダムな振幅で揺動させる偏心カムフォロア
ーとを有することが好ましい。The swinging means includes an eccentric cam, a rotating means for rotating the eccentric cam, and the CAD filter.
It is preferable to have a holder that movably holds the light-shielding stripe in a direction substantially perpendicular to the light-shielding stripe, and an eccentric cam follower that rotates following the eccentric cam and swings the holder with a random amplitude.
【００２０】上記偏心カムの偏心量と、偏心カムフォロ
アーの偏心量とは、１．５倍〜４．０倍の範囲で相互に
異なることが好ましい。It is preferable that the eccentric amount of the eccentric cam and the eccentric amount of the eccentric cam follower differ from each other in the range of 1.5 times to 4.0 times.
【００２１】[0021]
【作用】本発明に係る陰極線管用パネルの蛍光面作成用
露光方法では、ＣＡＤフィルターを、遮光ストライプと
略垂直方向に、ランダムな振幅で揺動させるので、ＣＡ
Ｄフィルターの揺動のピーク位置は常に変動する。その
結果、ＣＡＤフィルターに形成された遮光ストライプの
ピッチが０．４〜２．０mm程度に広くとも、また、揺動
速度が２〜３mm／秒程度に遅くとも、遮光ストライプが
蛍光面に転写されるなどの不具合を防止することができ
る。また、遮光ストライプのピッチを広くすることがで
きるので、遮光ストライプの作成精度が向上すると共
に、光透過率の精度が向上する（遮光ストライプのピッ
チが倍になると、透過率の精度は倍増する）。その結
果、露光精度が向上し（すなわち、蛍光体ストライプな
どの蛍光体パターンのパターン幅が均一になる）、蛍光
面の色調不良などが改善される。In the exposure method for forming the phosphor screen of the cathode ray tube panel according to the present invention, the CAD filter is oscillated in a direction substantially perpendicular to the light-shielding stripes with a random amplitude.
The peak position of the D filter swing fluctuates constantly. As a result, even if the pitch of the light-shielding stripes formed on the CAD filter is as wide as about 0.4 to 2.0 mm and the rocking speed is as slow as about 2 to 3 mm / sec, the light-shielding stripes are transferred to the phosphor screen. It is possible to prevent such problems. In addition, since the pitch of the light-shielding stripes can be widened, the light-shielding stripe creation accuracy is improved and the light transmittance accuracy is improved (when the light-shielding stripe pitch is doubled, the transmittance accuracy is doubled). . As a result, the exposure accuracy is improved (that is, the pattern width of the phosphor pattern such as the phosphor stripe is uniform), and the poor color tone of the phosphor screen is improved.
【００２２】また、ＣＡＤフィルターの揺動速度を遅く
できれば、アパーチャグリルの振動対策にも効果があ
る。本発明に係る露光装置では、ＣＡＤフィルターの揺
動の振幅を、容易にランダムに変化させることができ
る。Further, if the swing speed of the CAD filter can be slowed down, it is effective as a countermeasure against the vibration of the aperture grill. In the exposure apparatus according to the present invention, the swing amplitude of the CAD filter can be easily and randomly changed.
【００２３】[0023]
【実施例】以下、本発明に係る陰極線管用パネルの蛍光
面作成用露光方法および露光装置について、図面に示す
実施例に基づき、詳細に説明する。図１は本発明に係る
陰極線管用パネルの蛍光面作成用露光装置の要部概略図
である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The exposure method and exposure apparatus for forming a fluorescent screen of a cathode ray tube panel according to the present invention will be described in detail below with reference to the embodiments shown in the drawings. FIG. 1 is a schematic view of a main part of an exposure apparatus for forming a phosphor screen of a cathode ray tube panel according to the present invention.
【００２４】本実施例に係る露光装置の全体構成図は、
図５に示す露光装置２０と同様であるので、共通する部
材には、共通する符号を付し、その説明は一部省略す
る。本実施例では、図１に示すように、ディジタルフィ
ルター（ＣＡＤフィルター）１２ａを揺動させる装置５
０が相違する。The overall configuration diagram of the exposure apparatus according to the present embodiment is as follows:
Since it is similar to the exposure apparatus 20 shown in FIG. 5, common members are denoted by common reference numerals, and description thereof will be partially omitted. In this embodiment, as shown in FIG. 1, a device 5 for oscillating a digital filter (CAD filter) 12a.
0 is different.
【００２５】本実施例に係る装置５０では、ＣＡＤフィ
ルター１２ａは、ホルダー３２に保持してある。ホルダ
ー３２は、レンズ群５を保持するレンズホルダー３４に
対して、矢印Ａ方向に移動自在となるように、リニアベ
アリングなどで保持してある。また、ホルダー３２に
は、スプリング３６の一端が連結してある。スプリング
３６の他端は、レンズホルダー３４に対して連結してあ
る。その結果、ホルダー３２は、スプリング３６の弾性
力により、レンズホルダー３４側に常時押し付けられて
いる。In the apparatus 50 according to this embodiment, the CAD filter 12a is held by the holder 32. The holder 32 is held by a linear bearing or the like so as to be movable in the arrow A direction with respect to the lens holder 34 that holds the lens group 5. Further, one end of a spring 36 is connected to the holder 32. The other end of the spring 36 is connected to the lens holder 34. As a result, the holder 32 is constantly pressed against the lens holder 34 side by the elastic force of the spring 36.
【００２６】ホルダー３２には、回転軸３８の上端が回
転自在に装着してある。回転軸３８の下端には、偏心カ
ムフォロアー５２が固定してある。偏心カムフォロアー
５２の外周は、偏心カム５４の外周に対し、スプリング
３６による弾性力で圧接している。偏心カム５４は、図
８にも示すように、回転軸４６により偏心して回転し、
その回転により、カムフォロアー５２を従動して回転さ
せるようになっている。回転軸４６は、モータ４４によ
り回転させられる。An upper end of a rotary shaft 38 is rotatably mounted on the holder 32. An eccentric cam follower 52 is fixed to the lower end of the rotary shaft 38. The outer circumference of the eccentric cam follower 52 is pressed against the outer circumference of the eccentric cam 54 by the elastic force of the spring 36. The eccentric cam 54 is eccentrically rotated by the rotating shaft 46 as shown in FIG.
Due to the rotation, the cam follower 52 is driven and rotated. The rotating shaft 46 is rotated by the motor 44.
【００２７】図２に示すように、本実施例では、カムフ
ォロアー５２も、回転軸３８に対して偏心して取り付け
てある。偏心カム５４の偏心量をｅ1 とし、偏心カムフ
ォロアー５２の偏心量をｅ2 とすると、ｅ1 ＋ｅ2 ＝
０．６〜２．５mm、好ましくは約０．９mm程度、ｅ1 ／
ｅ 2 ＝１．５〜４．０または１／１．５〜１／４．０が
好ましく、さらに好ましくは、２．０または１／２．０
である。このような倍率範囲でｅ1 とｅ2 とが相違する
ことで、後述するように、ＣＡＤフィルター１２ａのラ
ンダム揺動が可能になる。In this embodiment, as shown in FIG.
The follower 52 is also eccentrically attached to the rotary shaft 38.
There is. The eccentricity of the eccentric cam 54 is e1 And eccentric cam
The eccentricity of the lower 52 is e2 Then, e1 + E2 =
0.6 to 2.5 mm, preferably about 0.9 mm, e1 /
e 2 = 1.5 to 4.0 or 1 / 1.5 to 1 / 4.0
Preferably, more preferably 2.0 or 1 / 2.0
Is. E in such a magnification range1 And e2 Is different from
Therefore, as described later, the CAD filter 12a
Allows rocking of the dam.
【００２８】また、偏心カム５４の外径と、偏心カムフ
ォロアー５２の外径とは、ランダム揺動の観点からは、
異なることが好ましく、偏心カム５４の外径に対して、
偏心カムフォロフー５２の外径は、０．８〜０．１、好
ましくは０．６〜０．３程度が好ましい。または、その
逆でも良い。From the viewpoint of random oscillation, the outer diameter of the eccentric cam 54 and the outer diameter of the eccentric cam follower 52 are:
It is preferable that they are different, with respect to the outer diameter of the eccentric cam 54
The outer diameter of the eccentric cam follower 52 is preferably 0.8 to 0.1, and more preferably 0.6 to 0.3. Or vice versa.
【００２９】偏心カム５４の回転により、カムフォロア
ー５２が従動して回転し、その結果、回転軸３８および
ホルダー３２が、矢印Ａ方向に揺動する。ホルダー３２
が矢印Ａ方向に移動すると、図３に示すように、ＣＡＤ
フィルター１２ａも矢印Ａ方向（遮光ストライプ２８ａ
に対して直角方向）に揺動し、そこを通過する露光用光
の強度分布を、中心領域と周辺領域とで調節する。The rotation of the eccentric cam 54 causes the cam follower 52 to follow and rotate, and as a result, the rotary shaft 38 and the holder 32 swing in the direction of arrow A. Holder 32
Is moved in the direction of arrow A, as shown in FIG.
The filter 12a is also in the direction of arrow A (shading stripe 28a
The light intensity distribution of the exposure light passing therethrough is adjusted in the central region and the peripheral region.
【００３０】本実施例に係る装置５０を用いて露光を行
えば、ＣＡＤフィルター１２ａを、遮光ストライプ２８
ａと略垂直方向Ａに、図４に示すように、ランダムな振
幅で揺動させることができる。このランダムな揺動の振
幅の最大値ａmax は、前記偏心量の和（ｅ1 ＋ｅ2 ）の
二倍で規定され、１．２〜５．０mm程度が好ましい。ま
た、このランダムな揺動の振幅の最小値ａmin は、前記
偏心量の差（ｅ1 −ｅ 2 ）の絶対値の二倍または最小偏
心量（ｅ2 ）の二倍で規定され、０．１〜０．５mm程度
が好ましい。ただし、このランダムな揺動の振幅の最小
値ａmin は、図３に示すＣＡＤフィルター１２ａの遮光
ストライプ２８ａのピッチよりも大きいことが好まし
い。露光用光（一般には紫外光）の干渉を避けるためで
ある。Exposure is performed using the apparatus 50 according to the present embodiment.
For example, use the CAD filter 12a with the light-shielding stripe 28
As shown in FIG. 4, a random vibration is generated in the direction A substantially perpendicular to a.
Can be swung by width. This random rocking swing
Maximum width amaxIs the sum of the eccentricity (e1 + E2 )of
It is specified by double, and preferably about 1.2 to 5.0 mm. Well
Also, the minimum value a of the amplitude of this random oscillationminIs the above
Eccentricity difference (e1 -E 2 ) Double the absolute value or minimum deviation
Heart rate (e2 ) Is specified twice, and is about 0.1-0.5 mm
Is preferred. However, the minimum amplitude of this random oscillation
Value aminIs the shading of the CAD filter 12a shown in FIG.
It is preferable that the pitch is larger than the pitch of the stripe 28a.
Yes. To avoid interference of exposure light (generally UV light)
is there.
【００３１】本実施例では、ＣＡＤフィルター１２ａの
揺動の振幅が常に変動し、ＣＡＤフィルターの揺動のピ
ーク位置は常に変動する。露光時間は、一般に２〜３０
秒なので、少なくとも、その間には、揺動のピーク位置
は常に変動する。その結果、図３に示すように、ＣＡＤ
フィルター１２ａに形成された遮光ストライプ２８ａの
ピッチＰ2 が０．４〜２．０mm程度に広くとも、また、
揺動速度が２〜３mm／秒程度に遅くとも、遮光ストライ
プ２８ａが、図５に示すパネル２の蛍光面に転写される
などの不具合を防止することができる。In this embodiment, the swing amplitude of the CAD filter 12a constantly fluctuates, and the peak position of the CAD filter swing always fluctuates. The exposure time is generally 2 to 30.
Since it is a second, at least during that time, the peak position of the fluctuation constantly fluctuates. As a result, as shown in FIG.
Even if the pitch P 2 of the light-shielding stripes 28a formed on the filter 12a is as wide as 0.4 to 2.0 mm,
Even if the rocking speed is as slow as about 2 to 3 mm / sec, it is possible to prevent problems such as transfer of the light shielding stripe 28a to the fluorescent surface of the panel 2 shown in FIG.
【００３２】また、遮光ストライプ２８ａのピッチを広
くすることができるので、遮光ストライプ２８ａの作成
精度が向上すると共に、光透過率の精度が向上する。な
ぜなら、遮光ストライプ２８ａのピッチＰ2 が倍になる
と、透過率の精度は倍増するからである。Further, since the pitch of the light-shielding stripes 28a can be widened, the precision of forming the light-shielding stripes 28a is improved and the precision of the light transmittance is also improved. This is because if the pitch P 2 of the light shielding stripes 28a is doubled, the accuracy of the transmittance is doubled.
【００３３】ＣＡＤフィルター１２ａを形成するには、
まず、原板を作成する。その際、適切な透過率分布を設
計し、そのデータをコンピュータに送り、そのデータに
基づき、タングステンランプの光を光量調整用のスリッ
トにて開閉調節し、乾板（レジストが塗布されているガ
ラス板）を露光する。その後、現像を行い硬膜化処理
し、カーボンスラリーを塗布乾燥後ウエッティング処理
すると共に、反転剤にてＰＶＡ膜を反転し、カーボン膜
で構成された遮光ストライプをガラス基板上に作成す
る。上記プロセスを経て、原板は完成するが、その時点
での遮光ストライプの作成誤差は、０．３mmピッチで約
１％ある。その後、原板から露光用ＣＡＤフィルターを
作成するには、光学ガラスにレジスト（ＰＶＡ）を塗布
乾燥後、原板と密着露光し、その後は原板と同様なプロ
セスを経て露光用ＣＡＤフィルターが完成する。その際
の作成誤差は、約１〜２％発生し、トータルでは約２〜
３％の作成誤差が生じる。また、ピッチが細かく（０．
３mm）になるにつれて、透過率が同様であれば、精度へ
の効き分はさらに大きくなり、作成誤差は約５％とな
る。To form the CAD filter 12a,
First, a master plate is created. At that time, design an appropriate transmittance distribution, send the data to a computer, and based on the data, adjust the opening and closing of the light of the tungsten lamp with a slit for adjusting the light quantity, and dry plate (a glass plate coated with resist). ) Is exposed. After that, development is performed for hardening treatment, carbon slurry is applied and dried, and then wet treatment is performed, and at the same time, the PVA film is inverted by an inversion agent to form a light-shielding stripe formed of the carbon film on the glass substrate. Although the original plate is completed through the above process, the light-shielding stripe formation error at that time is about 1% at a pitch of 0.3 mm. After that, in order to prepare a CAD filter for exposure from the original plate, a resist (PVA) is applied to the optical glass and dried, and then contact exposure is performed with the original plate, and then a CAD filter for exposure is completed through the same process as the original plate. In that case, the production error is about 1-2%, and the total is about 2%.
A manufacturing error of 3% occurs. In addition, the pitch is fine (0.
3 mm), if the transmittance is the same, the effect on accuracy is even greater, and the production error is about 5%.
【００３４】本実施例では、遮光ストライプ２８ａのピ
ッチＰ2 を、０．５mm以上に広くすることができるの
で、遮光ストライプ２８ａの作成精度が向上すると共
に、光透過率の精度が向上する。なお、図３では、ＣＡ
Ｄフィルター１２ａを模式的に表わすため、遮光ストラ
イプ２８ａの形成数は実際より少なく示してあると共
に、その幅も誇張して示してある。In the present embodiment, the pitch P 2 of the light-shielding stripes 28a can be widened to 0.5 mm or more, so that the light-shielding stripes 28a can be formed with higher accuracy and the light transmittance can be improved. In FIG. 3, CA
In order to schematically represent the D filter 12a, the number of light-shielding stripes 28a formed is shown smaller than it actually is, and its width is also exaggerated.
【００３５】これらの結果、本実施例では、露光精度が
向上し（すなわち、蛍光体ストライプなどの蛍光体パタ
ーンのパターン幅が均一になる）、蛍光面の色調不良な
どが改善される。また、ＣＡＤフィルター１２ａの揺動
速度を遅くできれば、アパーチャグリルの振動対策にも
効果がある。As a result, in this embodiment, the exposure accuracy is improved (that is, the pattern width of the phosphor pattern such as the phosphor stripe is uniform), and the poor tone of the phosphor screen is improved. Further, if the swing speed of the CAD filter 12a can be slowed down, it is also effective as a countermeasure against the vibration of the aperture grill.
【００３６】なお、本発明は、上述した実施例に限定さ
れるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変するこ
とができる。たとえば、上記ＣＡＤフィルター１２ａを
ランダムに揺動させる手段としては、図１，２に示す実
施例に限定されず、その他のダブルカム、トリプルカ
ム、あるいはその他の機構を採用することができる。The present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, but can be variously modified within the scope of the present invention. For example, the means for randomly swinging the CAD filter 12a is not limited to the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, and other double cam, triple cam, or other mechanism can be adopted.
【００３７】[0037]
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、ＣＡＤフィルターを、遮光ストライプと略垂直方向
に、ランダムな振幅で揺動させるので、ＣＡＤフィルタ
ーの揺動のピーク位置は常に変動する。その結果、ＣＡ
Ｄフィルターに形成された遮光ストライプのピッチが
０．４〜２．０mm程度に広くとも、また、揺動速度が２
〜３mm／秒程度に遅くとも、遮光ストライプが蛍光面に
転写されるなどの不具合を防止することができる。ま
た、遮光ストライプのピッチを広くすることができるの
で、遮光ストライプの作成精度が向上すると共に、光透
過率の精度が向上する（遮光ストライプのピッチが倍に
なると、透過率の精度は倍増する）。その結果、露光精
度が向上し（すなわち、蛍光体ストライプなどの蛍光体
パターンのパターン幅が均一になる）、蛍光面の色調不
良などが改善される。As described above, according to the present invention, the CAD filter is oscillated in a direction substantially perpendicular to the light-shielding stripe with a random amplitude. Therefore, the peak position of the oscillation of the CAD filter is always changed. To do. As a result, CA
Even if the pitch of the light-shielding stripes formed on the D filter is as wide as 0.4 to 2.0 mm, the rocking speed is 2
It is possible to prevent problems such as the transfer of the light-shielding stripes to the fluorescent screen even at a slow rate of about 3 mm / sec. In addition, since the pitch of the light-shielding stripes can be widened, the light-shielding stripe creation accuracy is improved and the light transmittance accuracy is improved (when the light-shielding stripe pitch is doubled, the transmittance accuracy is doubled). . As a result, the exposure accuracy is improved (that is, the pattern width of the phosphor pattern such as the phosphor stripe is uniform), and the poor color tone of the phosphor screen is improved.
【００３８】また、ＣＡＤフィルターの揺動速度を遅く
できれば、アパーチャグリルの振動対策にも効果があ
る。本発明に係る露光装置では、ＣＡＤフィルターの揺
動の振幅を、容易にランダムに変化させることができ
る。Further, if the swing speed of the CAD filter can be slowed down, it is effective as a countermeasure against the vibration of the aperture grill. In the exposure apparatus according to the present invention, the swing amplitude of the CAD filter can be easily and randomly changed.
【図１】図１は本発明に係る陰極線管用パネルの蛍光面
作成用露光装置の要部概略図である。FIG. 1 is a schematic view of a main part of an exposure apparatus for forming a fluorescent screen of a cathode ray tube panel according to the present invention.
【図２】図２は図１に示すII−II線に沿うカムの矢視図
である。FIG. 2 is a view of the cam taken along the line II-II shown in FIG.
【図３】図３は図１に示すＣＡＤフィルターの概略正面
図である。FIG. 3 is a schematic front view of the CAD filter shown in FIG.
【図４】図４は図１，３に示すＣＡＤフィルターの揺動
振幅の変動を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing fluctuations in oscillation amplitude of the CAD filter shown in FIGS.
【図５】図５は一般的な陰極先管用パネルの内面に蛍光
面を作成するための露光装置の概略図である。FIG. 5 is a schematic view of an exposure apparatus for forming a fluorescent screen on the inner surface of a general cathode ray tube panel.
【図６】図６は従来例に係るＣＡＤフィルターの概略正
面図である。FIG. 6 is a schematic front view of a CAD filter according to a conventional example.
【図７】図７は従来例に係るＣＡＤフィルターを揺動さ
せるための装置を示す概略図である。FIG. 7 is a schematic view showing a device for rocking a CAD filter according to a conventional example.
【図８】図８は図７に示すVIII−VIII線に沿うカムの矢
視図である。FIG. 8 is a view of the cam taken along the line VIII-VIII shown in FIG.
【図９】図９は図７，８に示す装置でＣＡＤフィルター
を揺動させた場合の揺動の振幅を示すグラフである。FIG. 9 is a graph showing the amplitude of the swing when the CAD filter is swung by the device shown in FIGS.
２… パネル ５… レンズ群 ６… 光源 １２，１２ａ… デジタルフィルター（ＣＡＤフィルタ
ー） ３２… ホルダー ３４… レンズホルダー ３６… スプリング ３８… 回転軸 ４４… モータ ４６… 回転軸 ５０… 装置 ５２… 偏心カムフォロアー ５４… 偏心カム2 ... Panel 5 ... Lens group 6 ... Light source 12, 12a ... Digital filter (CAD filter) 32 ... Holder 34 ... Lens holder 36 ... Spring 38 ... Rotating shaft 44 ... Motor 46 ... Rotating shaft 50 ... Device 52 ... Eccentric cam follower 54 … Eccentric cam
Claims (7)
ピッチで形成されたディジタルフィルターを少なくとも
通し、陰極線管用パネルの内面に照射し、陰極線管の蛍
光面作成用露光を行う方法であって、 上記デジタルフィルターを、遮光ストライプと略垂直方
向に、ランダムな振幅で揺動させることを特徴とする陰
極線管の蛍光面作成用露光方法。1. A method of exposing light from a light source to an inner surface of a panel for a cathode ray tube through at least a digital filter in which light-shielding stripes are formed at a predetermined pitch to perform exposure for forming a fluorescent screen of the cathode ray tube. An exposure method for producing a fluorescent screen of a cathode ray tube, characterized in that the digital filter is oscillated in a direction substantially perpendicular to a light-shielding stripe with a random amplitude.
が、２〜３mm／秒である請求項１に記載の陰極線管の蛍
光面作成用露光方法。2. The exposure method for forming a fluorescent screen of a cathode ray tube according to claim 1, wherein the rocking speed of the digital filter is 2 to 3 mm / sec.
が０．１〜０．５mmであり、振幅の最大が１．２〜５．
０mmである請求項１または２に記載の陰極線管の蛍光面
作成用露光方法。3. The digital filter has a minimum amplitude of 0.1 to 0.5 mm and a maximum amplitude of 1.2 to 5.
The exposure method for producing a fluorescent screen of a cathode ray tube according to claim 1 or 2, wherein the exposure method is 0 mm.
光ストライプのピッチが、０．４〜２．０mmである請求
項１〜３のいずれかに記載の陰極線管の蛍光面作成用露
光方法。4. The exposure method for forming a fluorescent screen of a cathode ray tube according to claim 1, wherein the light-shielding stripes formed on the digital filter have a pitch of 0.4 to 2.0 mm.
軌跡に近似させるための少なくとも一のレンズと、 このレンズと共に、露光用光源からの光が通過するよう
に配置され、所定ピッチの遮光ストライプが形成してあ
るデジタルフィルターと、 このデジタルフィルターを、上記遮光ストライプと略直
角方向に、ランダムな振幅で揺動させる揺動手段と、 上記レンズおよびデジタルフィルターを通過した光が照
射されるパネルを保持する保持手段とを有する陰極線管
の蛍光面作成用露光装置。5. An exposure light source, at least one lens for approximating the light from this exposure light source to the trajectory of an electron beam in a cathode ray tube, and with this lens, the light from the exposure light source passes through. And a digital filter in which a light-shielding stripe having a predetermined pitch is formed, a swinging means for swinging the digital filter in a direction substantially perpendicular to the light-shielding stripe with a random amplitude, the lens and the digital filter. And a holding means for holding a panel irradiated with light passing through the cathode ray tube.
カムを回転させる回転手段と、上記ディジタルフィルタ
ーを、上記遮光ストライプと略直角方向に移動自在に保
持するホルダーと、上記偏心カムに従動して回転し、上
記ホルダーを、ランダムな振幅で揺動させる偏心カムフ
ォロアーとを有する請求項５に記載の蛍光面作成用露光
装置。6. The oscillating means includes an eccentric cam, a rotating means for rotating the eccentric cam, a holder for holding the digital filter movably in a direction substantially perpendicular to the light-shielding stripe, and the eccentric cam. The fluorescent screen producing exposure apparatus according to claim 5, further comprising an eccentric cam follower that is driven and rotated to swing the holder with a random amplitude.
ロアーの偏心量とが、１．５倍〜４．０倍の範囲で相互
に異なる請求項６に記載の蛍光面作成用露光装置。7. The exposure apparatus for creating a fluorescent screen according to claim 6, wherein the eccentric amount of the eccentric cam and the eccentric amount of the eccentric cam follower are different from each other in a range of 1.5 times to 4.0 times.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02669694A JP3319122B2 (en) | 1994-02-24 | 1994-02-24 | Exposure method and exposure apparatus for preparing fluorescent screen of cathode ray tube |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02669694A JP3319122B2 (en) | 1994-02-24 | 1994-02-24 | Exposure method and exposure apparatus for preparing fluorescent screen of cathode ray tube |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07235261A true JPH07235261A (en) | 1995-09-05 |
| JP3319122B2 JP3319122B2 (en) | 2002-08-26 |
Family
ID=12200560
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02669694A Expired - Fee Related JP3319122B2 (en) | 1994-02-24 | 1994-02-24 | Exposure method and exposure apparatus for preparing fluorescent screen of cathode ray tube |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3319122B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106970096A (en) * | 2017-05-22 | 2017-07-21 | 上海电气核电设备有限公司 | Nozzle inner wall bias exposure support frame |
-
1994
- 1994-02-24 JP JP02669694A patent/JP3319122B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106970096A (en) * | 2017-05-22 | 2017-07-21 | 上海电气核电设备有限公司 | Nozzle inner wall bias exposure support frame |
| CN106970096B (en) * | 2017-05-22 | 2023-12-01 | 上海电气核电设备有限公司 | Eccentric exposure support frame for inner wall of connecting pipe |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3319122B2 (en) | 2002-08-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3888673A (en) | Method and apparatus for making electroluminescent screens for color cathode ray tubes | |
| US3664295A (en) | Means for achieving a controlled gradient density coating on a light attenuation medium | |
| JPH07235261A (en) | Exposure method and device for forming phosphor screen of cathode-ray tube | |
| US3773541A (en) | Process for achieving a controlled gradient density coating on a light attenuation medium | |
| JP3918440B2 (en) | Light irradiation device with illuminance distribution uniform filter | |
| KR0137900B1 (en) | Method of forming phosphor screen for color picture tube and exposure apparatus | |
| JP4992363B2 (en) | Method for producing cured pattern | |
| CN108170009A (en) | Exposure sources, exposure method, color membrane substrates and preparation method thereof | |
| US4152154A (en) | Method of optically projecting a pattern of substantially circular apertures on a photosensitive layer by rotating light source | |
| JP2007212508A (en) | Photomask for color filter, method and apparatus for manufacturing color filter using same, and color filter | |
| US3971043A (en) | Apparatus for making electroluminescent screens for color cathode ray tubes | |
| JP2670708B2 (en) | Apparatus and method for varying arc length of exposure table | |
| KR0150393B1 (en) | Exposing device | |
| JP2980397B2 (en) | X-ray exposure equipment | |
| JPH0713476A (en) | Formation of hologram | |
| KR100222603B1 (en) | Method of exposuring for screen forming of cathode ray tube | |
| JPS6066429A (en) | Photoelectron image reduced projection type electron beam exposure method | |
| JPH087760A (en) | Exposing device of cathode-ray tube | |
| JPS6217925A (en) | Exposing method | |
| JPS63308919A (en) | Electron beam lithography method | |
| JP2007178622A (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
| JPH02177233A (en) | Manufacture of black matrix film of colour cathode-ray tube | |
| JPS6017834A (en) | Exposure of cathode-ray tube | |
| JPH07130289A (en) | Exposer of color picture tube and exposing method | |
| JPS59938B2 (en) | Color fluorescent surface manufacturing method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080621 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080621 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090621 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |