JPH0720449A - Liquid crystal element - Google Patents
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- JPH0720449A JPH0720449A JP5162694A JP16269493A JPH0720449A JP H0720449 A JPH0720449 A JP H0720449A JP 5162694 A JP5162694 A JP 5162694A JP 16269493 A JP16269493 A JP 16269493A JP H0720449 A JPH0720449 A JP H0720449A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、液晶層を介在する一対
のプラスチック基板に少なくとも１層から成るガスバリ
ア膜を形成した液晶素子に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal element in which a gas barrier film consisting of at least one layer is formed on a pair of plastic substrates with a liquid crystal layer interposed therebetween.
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶表示素子の薄型軽量化を図り、基板
の加工性を向上するためにガラスのかわりにプラスチッ
ク素材を用いて液晶表示素子の基板を形成することが試
みられている。しかし、プラスチック基板はガラス基板
に比べてガス透過率が高く、このために外部から透過し
てきたガスが液晶層中で気泡となり、液晶表示素子の表
示不良が生じる。2. Description of the Related Art It has been attempted to form a substrate of a liquid crystal display element by using a plastic material instead of glass in order to reduce the thickness and weight of the liquid crystal display element and improve the workability of the substrate. However, the plastic substrate has a higher gas permeability than the glass substrate, and thus the gas that has permeated from the outside becomes bubbles in the liquid crystal layer, which causes a display failure of the liquid crystal display element.
【０００３】このため、特開平３−１３８６１７に開示
されるように、液晶表示素子のプラスチック基板表面に
透光性を有するＳｉ，Ｔｉなどの金属酸化物あるいは金
属窒化物のガスバリア膜をスパッタ法などによって形成
し、プラスチック基板のガス透過性を抑制する構造が提
案されている。Therefore, as disclosed in JP-A-3-138617, a gas barrier film of a metal oxide or metal nitride such as Si or Ti having a light-transmitting property is formed on the surface of a plastic substrate of a liquid crystal display element by a sputtering method or the like. A structure has been proposed which is formed by the method of suppressing the gas permeability of the plastic substrate.
【０００４】図５は、従来の液晶表示素子１０の構成を
示す断面図である。液晶表示素子１０は、一対の基板１
１ａ，１１ｂ間に液晶層７が封入され、シール材６によ
って封止されて形成される。前記一対の基板１１ａ，１
１ｂは、プラスチック基板１ａ，１ｂの両面にハードコ
ート膜２ａ，２ｂと、これに積層してＳｉ，Ｔｉなどの
アモルファス金属酸化物あるいは金属窒化物から成るガ
スバリア膜３ａ，３ｂが形成され、さらに対向する面上
にＩＴＯ（インジウム錫酸化物）などの透光性を有する
電極４ａ，４ｂおよび配向膜５ａ，５ｂが形成される。FIG. 5 is a sectional view showing the structure of a conventional liquid crystal display element 10. The liquid crystal display element 10 includes a pair of substrates 1
A liquid crystal layer 7 is sealed between 1a and 11b and is sealed by a sealing material 6. The pair of substrates 11a, 1
1b has hard coat films 2a and 2b on both sides of plastic substrates 1a and 1b, and gas barrier films 3a and 3b made of an amorphous metal oxide such as Si or Ti or a metal nitride that are laminated on the hard coat films 2a and 2b. The transparent electrodes 4a and 4b such as ITO (indium tin oxide) and the alignment films 5a and 5b are formed on the surface to be formed.
【０００５】一方、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）、
ＥＶＯＡ（ＰＶＡとエチレンの共重合体）などの有機物
から成るガスバリア膜３ａ，３ｂを前述のように形成し
た液晶表示素子１０も試みられている。On the other hand, PVA (polyvinyl alcohol),
A liquid crystal display element 10 in which the gas barrier films 3a and 3b made of an organic material such as EVOA (a copolymer of PVA and ethylene) are formed as described above has also been tried.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】前述のような順序でプ
ラスチック基板１ａ，１ｂに膜処理を行い、ガスバリア
膜３ａ，３ｂとしてたとえばＳｉＯ2を選んだ場合、Ｓ
ｉＯ2膜３ａ，３ｂとそれに積層されるＩＴＯ膜４ａ，
４ｂとは共にスパッタ法によって同一装置内で連続的に
形成することが可能である。したがって、従来製造コス
トを低く抑えるために、図５に示すようなプラスチック
基板１ａ，１ｂへの膜処理が行われている。When the plastic substrates 1a and 1b are subjected to film processing in the above-described order and, for example, SiO 2 is selected as the gas barrier films 3a and 3b, S
iO 2 films 3a, 3b and ITO films 4a,
Both 4b and 4b can be continuously formed in the same apparatus by the sputtering method. Therefore, in order to keep the manufacturing cost low, a film treatment is performed on the plastic substrates 1a and 1b as shown in FIG.
【０００７】しかし、前述のＩＴＯ膜４ａ，４ｂの膜厚
は７００〜２０００Åであり、ＳｉＯ2膜３ａ，３ｂの
膜厚は６００〜１０００Åであって、それぞれ非常に薄
いため微小な異物によって傷を生じることがある。この
ため、微小な異物が液晶表示素子を製造する工程で液晶
層７などの中に混入した場合には、ＩＴＯ膜４ａ，４ｂ
が形成されない部分のガスバリア膜３ａ，３ｂは直接前
記異物と接することになり、これによって貼り合わされ
た基板をプレスするなどの工程でガスバリア膜３ａ，３
ｂにクラックを生じてしまう。その結果、プラスチック
基板１ａ，１ｂを透過したガスがクラックから液晶層７
中に浸入し、液晶表示素子１０の液晶層７に気泡を生
じ、光学装置としての信頼性に劣るという問題がある。However, the above-mentioned ITO films 4a and 4b have a film thickness of 700 to 2000Å, and the SiO 2 films 3a and 3b have a film thickness of 600 to 1000Å, which are very thin and scratched by minute foreign matters. May occur. Therefore, if minute foreign matter is mixed in the liquid crystal layer 7 or the like in the process of manufacturing the liquid crystal display element, the ITO films 4a and 4b
The gas barrier films 3a, 3b in the areas where the gas barrier films 3a, 3b are not formed are in direct contact with the foreign matter, so that the gas barrier films 3a, 3b are pressed in a step of pressing the bonded substrates.
This causes cracks in b. As a result, the gas that has permeated the plastic substrates 1a and 1b is cracked and the liquid crystal layer 7
There is a problem in that the liquid crystal layer 7 of the liquid crystal display element 10 invades inside and bubbles are generated, resulting in poor reliability as an optical device.
【０００８】また、ＰＶＡおよびＥＶＯＡなどの有機物
から成るガスバリア膜は、一般に硬度が低く、耐熱性も
低いため耐久性が低いという問題がある。Further, a gas barrier film made of an organic substance such as PVA and EVOA generally has low hardness and low heat resistance, so that it has a problem of low durability.
【０００９】本発明の目的は、前記問題点を解消し、光
学装置としての信頼性の高い液晶素子を提供することで
ある。An object of the present invention is to solve the above problems and provide a highly reliable liquid crystal element as an optical device.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明は、一対のプラス
チック基板間に液晶層を介在して形成される液晶素子に
おいて、前記プラスチック基板を保護するハードコート
層の下層に、当該プラスチック基板からのガス透過を防
止するガスバリア膜が形成されることを特徴とする液晶
素子である。According to the present invention, in a liquid crystal device formed by interposing a liquid crystal layer between a pair of plastic substrates, a layer of a hard coat layer for protecting the plastic substrate is provided below the plastic substrate. The liquid crystal element is characterized in that a gas barrier film for preventing gas permeation is formed.
【００１１】[0011]
【作用】本発明に従えば、液晶素子は、液晶層を介在し
て液晶素子を形成する一対のプラスチック基板に当該プ
ラスチック基板のガス透過を防止するためのガスバリア
膜が設けられる。さらに、これに積層して前記プラスチ
ック基板を保護するためのハードコート層が設けられ
る。これによって、前記ハードコート層によってその下
層に形成されたガスバリア膜が保護され、液晶素子の製
造工程で外気中の微細な異物によってガスバリア膜に傷
が生じることを防止することができる。According to the present invention, in the liquid crystal element, the pair of plastic substrates forming the liquid crystal element with the liquid crystal layer interposed therebetween is provided with the gas barrier film for preventing gas permeation of the plastic substrate. Further, a hard coat layer is provided on top of this to protect the plastic substrate. As a result, the gas barrier film formed thereunder is protected by the hard coat layer, and it is possible to prevent the gas barrier film from being damaged by fine foreign matter in the outside air in the manufacturing process of the liquid crystal element.
【００１２】またさらに、ハードコート層の下層にガス
バリア膜を配置することによって、ガスバリア膜の耐熱
性および耐久性を向上することができる。これによっ
て、ガスバリア膜のガス透過防止の信頼性を向上するこ
とができ、液晶素子の光学装置としての信頼性を向上す
ることができる。Furthermore, by disposing the gas barrier film under the hard coat layer, the heat resistance and durability of the gas barrier film can be improved. As a result, the reliability of preventing gas permeation of the gas barrier film can be improved, and the reliability of the liquid crystal element as an optical device can be improved.
【００１３】[0013]
【実施例】図１は本発明の一実施例である液晶表示素子
２０の構成を示す断面図であり、図２は図１に示す基板
２９の他の例を示す断面図である。図１に示すように液
晶表示素子２０は、膜処理が施された一対のプラスチッ
ク基板２９ａ，２９ｂ間に液晶層２７が注入され、シー
ル材２６によって封止されて形成される。前記基板２９
ａは、３００ｍｍ×３２４ｍｍ、厚さ０．４ｍｍのアク
リル系プラスチック基板２１ａの一方表面上にスパッタ
法によってＳｉＯｘ膜から成る無機ガスバリア膜２３ａ
が膜厚約６００Åに形成される。その後、前記基板２１
ａはディップ法によってシロキサン系をベースにＳｉ粒
子を混入したハードコート剤を塗布され、焼結によって
膜厚１．５〜２ｎｍのハードコート膜２２ａがプラスチ
ック基板２１ａの両面に形成される。前記ハードコート
膜２２ａは、下地となる無機ガスバリア膜２３ａおよび
プラスチック基板２１ａを保護し、さらにハードコート
膜２２ａ上にスパッタ法によって形成されるＩＴＯ膜２
４ａの密着性を向上する。1 is a sectional view showing the structure of a liquid crystal display element 20 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view showing another example of the substrate 29 shown in FIG. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display element 20 is formed by injecting a liquid crystal layer 27 between a pair of film-processed plastic substrates 29 a and 29 b and sealing it with a sealing material 26. The substrate 29
a is an inorganic gas barrier film 23a made of a SiOx film on one surface of an acrylic plastic substrate 21a having a size of 300 mm × 324 mm and a thickness of 0.4 mm by a sputtering method.
Is formed to a film thickness of about 600Å. Then, the substrate 21
For a, a hard coating agent containing Si particles based on siloxane is applied by a dipping method, and a hard coating film 22a having a film thickness of 1.5 to 2 nm is formed on both surfaces of the plastic substrate 21a by sintering. The hard coat film 22a protects the underlying inorganic gas barrier film 23a and the plastic substrate 21a, and further the ITO film 2 formed on the hard coat film 22a by the sputtering method.
The adhesion of 4a is improved.
【００１４】さらに、前記プラスチック基板２１ａの無
機ガスバリア膜２３ａが形成されている側のハードコー
ト膜２２ａに積層してＩＴＯ膜２４ａがスパッタ法によ
って形成される。前記ＩＴＯ膜２４ａは、エッチングな
どの既知の方法を用いて電極パターンが形成される。さ
らに、これに積層して配向膜２５ａが形成された後、前
記配向膜２５ａにはラビングなどの配向処理が施され
る。また、図２に示す液晶表示素子２０ａのように基板
２９ａは、プラスチック基板２１ａの両面にＳｉＯｘか
ら成る無機ガスバリア膜２３ａが形成されてもよい。基
板２９ｂも基板２９ａと同様である。Further, an ITO film 24a is formed by sputtering on the hard coat film 22a on the side where the inorganic gas barrier film 23a of the plastic substrate 21a is formed. An electrode pattern is formed on the ITO film 24a by using a known method such as etching. Further, after the alignment film 25a is formed by stacking the alignment film 25a on the alignment film 25a, the alignment film 25a is subjected to alignment treatment such as rubbing. Further, like the liquid crystal display element 20a shown in FIG. 2, the substrate 29a may have the inorganic gas barrier film 23a made of SiOx formed on both surfaces of the plastic substrate 21a. The substrate 29b is similar to the substrate 29a.
【００１５】前述のようにして形成された液晶表示素子
２０，２０ａは、ＳｉＯｘから成る無機ガスバリア膜２
３ａ，２３ｂがプラスチック基板２１ａ，２１ｂの片面
に形成されたもの、および両面に形成されたものの両方
について加速試験が行われた。前記加速試験において、
前記液晶表示素子２０，２０ａはそれぞれ温度４０℃湿
度９５％、温度６０℃湿度９５％および温度７０℃湿度
９５％の環境下に通電状態および通電しない状態で保存
される。前述のいずれの場合にも、１０００時間まで液
晶表示素子２０，２０ａには液晶層２７内に気泡の発生
が見られなかった。さらに、温度５０℃、気圧５ｋｇｆ
／ｃｍ2空気中で１２時間保存した場合も、液晶層２７
内に気泡の発生が見られなかった。The liquid crystal display elements 20 and 20a formed as described above have the inorganic gas barrier film 2 made of SiOx.
Acceleration tests were performed on both the plastic substrates 21a and 21b on which one side 3a and 23b were formed and on both sides. In the accelerated test,
The liquid crystal display elements 20 and 20a are stored in an energized state and a non-energized state in an environment of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 95%, a temperature of 60 ° C. and a humidity of 95%, and a temperature of 70 ° C. and a humidity of 95%. In any of the above cases, no bubbles were found in the liquid crystal layer 27 in the liquid crystal display elements 20 and 20a until 1000 hours. Furthermore, temperature 50 ° C, atmospheric pressure 5 kgf
/ Cm 2 Liquid crystal layer 27 even when stored in air for 12 hours
No air bubbles were found inside.
【００１６】図３は本発明の他の実施例である液晶表示
素子３０の構成を示す断面図であり、図４は図３に示す
基板３１の他の例を示す断面図である。図１および図２
に示す実施例と同一の構成には、同一の参照符号を付
す。図３に示すように、液晶表示素子３０は、膜処理が
施された一対のプラスチック基板３１ａ，３１ｂ間に液
晶層２７が注入され、シール材２６によって封止されて
形成される。前記基板３１ａは、３００ｍｍ×３２４ｍ
ｍ、厚さ０．４ｍｍのアクリル系プラスチック基板２１
ａの一方表面上に有機ガスバリア膜２８ａとしてＥＶＯ
Ａ（ポリビニルアルコールとエチレンの共重合体）がス
ピンコート法によって塗布され、有機ガスバリア膜２８
ａが膜厚２〜４μｍに形成される。この後、ディップ法
によってハードコート剤が基板２１ａの両面に塗布さ
れ、焼結によって前記基板２１ａの両面にハードコート
膜２２ａが形成される。さらに、前記基板２１ａの有機
ガスバリア膜２８ａが形成されている側のハードコート
膜２２ａに積層してＩＴＯ膜２４ａがスパッタ法によっ
て形成される。前記ＩＴＯ膜２４ａは、エッチングなど
によって電極パターンが形成され、これに積層して配向
膜２５ａが形成される。さらに、前記配向膜２５ａに
は、ラビングなどの配向処理が施される。また、図４に
示す液晶表示素子３０ａのように基板３１ａは、プラス
チック基板２１ａの両面にＥＶＯＡから成る有機ガスバ
リア膜２８ａが形成されてもよい。基板３１ｂも基板３
１ａと同様である。FIG. 3 is a sectional view showing the structure of a liquid crystal display element 30 which is another embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a sectional view showing another example of the substrate 31 shown in FIG. 1 and 2
The same components as those of the embodiment shown in FIG. As shown in FIG. 3, the liquid crystal display element 30 is formed by injecting the liquid crystal layer 27 between the pair of film-processed plastic substrates 31 a and 31 b and sealing it with the sealing material 26. The substrate 31a is 300 mm × 324 m
m, 0.4 mm thick acrylic plastic substrate 21
EVO as the organic gas barrier film 28a on one surface of a
A (a copolymer of polyvinyl alcohol and ethylene) is applied by a spin coating method to form an organic gas barrier film 28.
a is formed to a film thickness of 2 to 4 μm. After that, a hard coat agent is applied to both sides of the substrate 21a by a dipping method, and a hard coat film 22a is formed on both sides of the substrate 21a by sintering. Further, an ITO film 24a is formed by sputtering on the hard coat film 22a on the side of the substrate 21a on which the organic gas barrier film 28a is formed. An electrode pattern is formed on the ITO film 24a by etching or the like, and an alignment film 25a is formed by laminating the electrode pattern. Further, the alignment film 25a is subjected to alignment treatment such as rubbing. Further, like the liquid crystal display element 30a shown in FIG. 4, the substrate 31a may have the organic gas barrier film 28a made of EVOA formed on both surfaces of the plastic substrate 21a. Substrate 31b is also substrate 3
The same as 1a.
【００１７】前述のように形成された液晶表示素子３
０，３０ａは、ＥＶＯＡから成る有機ガスバリア膜２８
ａ，２８ｂがプラスチック基板２１ａ，２１ｂの片面に
形成されたものおよび両面に形成されたものの両方につ
いて加速試験が行われた。前記加速試験において、前記
液晶表示素子３０，３０ａはそれぞれ温度４０℃湿度９
５％、温度６０℃湿度９５％および温度７０℃湿度９５
％の環境下に通電状態および通電しない状態で保存され
る。この結果、前述のいずれの場合にも、１０００時間
まで液晶表示素子３０，３０ａには液晶層２７内に気泡
の発生は見られなかった。さらに、温度５０℃、気圧５
ｋｇｆ／ｃｍ2空気中で１２時間保存した場合も、液晶
層２７内に気泡の発生が見られなかった。Liquid crystal display element 3 formed as described above
Reference numerals 0 and 30a denote organic gas barrier films 28 made of EVOA.
Accelerated tests were carried out on both a and 28b in which the plastic substrates 21a and 21b were formed on one side and those on both sides. In the acceleration test, the liquid crystal display elements 30 and 30a each have a temperature of 40 ° C. and a humidity of 9
5%, temperature 60 ℃ humidity 95% and temperature 70 ℃ humidity 95
% Environment, it is stored with and without electricity. As a result, in any of the above cases, no bubbles were found in the liquid crystal layer 27 in the liquid crystal display elements 30 and 30a until 1000 hours. Furthermore, temperature 50 ℃, atmospheric pressure 5
No bubbles were observed in the liquid crystal layer 27 even when stored in air of kgf / cm 2 for 12 hours.
【００１８】以上のように本実施例によれば、液晶表示
素子２０，２０ａは、一対のプラスチック基板２１ａ，
２１ｂの少なくとも液晶層２７を介在して対向する表面
上にＳｉＯｘから成る無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂ
が形成され、さらに前記無機ガスバリア膜２３ａ，２３
ｂに積層してハードコート膜２２ａ，２２ｂが基板２１
ａ，２１ｂの両面に形成される。これによって、プラス
チック基板２１ａ，２１ｂ上に形成された無機ガスバリ
ア膜２３ａ，２３ｂがハードコート膜２２ａ，２２ｂに
よって被覆されるので、製造工程で外気中の微小な異物
に接することによって無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂ
に傷を生じることを防止することができる。したがっ
て、この結果、無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂのガス
透過防止の信頼性を向上することができ、液晶表示素子
２０，２０ａの表示信頼性を向上することができる。As described above, according to this embodiment, the liquid crystal display elements 20 and 20a include the pair of plastic substrates 21a,
Inorganic gas barrier films 23a and 23b made of SiOx on the surface of 21b facing at least the liquid crystal layer 27.
And the inorganic gas barrier films 23a, 23
and the hard coat films 22a and 22b are laminated on the substrate 21.
It is formed on both surfaces of a and 21b. As a result, the inorganic gas barrier films 23a, 23b formed on the plastic substrates 21a, 21b are covered with the hard coat films 22a, 22b, so that the inorganic gas barrier films 23a, 23a, 23b
It is possible to prevent the scratches from being generated. Therefore, as a result, the reliability of gas permeation prevention of the inorganic gas barrier films 23a and 23b can be improved, and the display reliability of the liquid crystal display elements 20 and 20a can be improved.
【００１９】また本実施例によれば、液晶表示素子３
０，３０ａは、一対のプラスチック基板２１ａ，２１ｂ
の少なくとも液晶層２７を介在して対向する表面上にＥ
ＶＯＡから成る有機ガスバリア膜２８ａ，２８ｂが形成
され、さらに前記有機ガスバリア膜２８ａ，２８ｂに積
層してハードコート膜２２ａ，２２ｂが基板２１ａ，２
１ｂの両面に形成される。これによって、プラスチック
基板２１ａ，２１ｂ上に形成された有機ガスバリア膜２
８ａ，２８ｂがハードコート膜２２ａ，２２ｂによって
被覆されるので、有機ガスバリア膜２８ａ，２８ｂの耐
熱性および耐久性を向上し、有機ガスバリア膜２８ａ，
２８ｂのガス透過防止の信頼性を向上することができ
る。Further, according to this embodiment, the liquid crystal display element 3
0 and 30a are a pair of plastic substrates 21a and 21b
E on the surface facing at least with the liquid crystal layer 27 interposed therebetween.
Organic gas barrier films 28a, 28b made of VOA are formed, and further hard coat films 22a, 22b are laminated on the organic gas barrier films 28a, 28b to form substrates 21a, 2b.
It is formed on both sides of 1b. As a result, the organic gas barrier film 2 formed on the plastic substrates 21a and 21b
Since 8a and 28b are covered with the hard coat films 22a and 22b, the heat resistance and durability of the organic gas barrier films 28a and 28b are improved, and the organic gas barrier films 28a and 28b
The reliability of 28b for preventing gas permeation can be improved.
【００２０】本実施例では、液晶表示素子を例にとり説
明したけれども、透明電極であるＩＴＯ膜が形成されな
い光学補償板に利用されるような液晶素子に適用するよ
うにしてもよい。In the present embodiment, the liquid crystal display element has been described as an example, but the present invention may be applied to a liquid crystal element used for an optical compensator in which an ITO film as a transparent electrode is not formed.
【００２１】[0021]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、液晶素子
は、液晶層を介在する一対のプラスチック基板にガスバ
リア膜に積層してハードコート層が形成されるので、液
晶素子の製造工程でガスバリア膜に微小な傷が生じるこ
とを防止することができ、さらにガスバリア膜の耐熱性
および耐久性を向上することができる。これによって、
ガスバリア膜のガス透過防止の信頼性を向上することが
でき、液晶素子の光学装置としての信頼性を向上するこ
とができる。As described above, according to the present invention, in the liquid crystal device, since the hard coat layer is formed by laminating the gas barrier film on the pair of plastic substrates having the liquid crystal layer interposed therebetween, the liquid crystal device can be manufactured in the manufacturing process. It is possible to prevent minute scratches from occurring in the gas barrier film, and further improve the heat resistance and durability of the gas barrier film. by this,
The reliability of preventing gas permeation of the gas barrier film can be improved, and the reliability of the liquid crystal element as an optical device can be improved.
【図１】本発明の一実施例である液晶表示素子２０の構
成を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a liquid crystal display element 20 that is an embodiment of the present invention.
【図２】図１に示す基板２９ａ，２９ｂの他の例を示す
断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of substrates 29a and 29b shown in FIG.
【図３】本発明の他の実施例である液晶表示素子３０の
構成を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a configuration of a liquid crystal display element 30 which is another embodiment of the present invention.
【図４】図３に示す基板３１ａ，３１ｂの他の例を示す
断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing another example of the substrates 31a and 31b shown in FIG.
【図５】従来の液晶表示素子１０の構成を示す断面図で
ある。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a configuration of a conventional liquid crystal display element 10.
２０，２０ａ，３０，３０ａ 液晶表示素子 ２１ａ，２１ｂ プラスチック基板 ２２ａ，２２ｂ ハードコート膜 ２３ａ，２３ｂ 無機ガスバリア膜 ２４ａ，２４ｂ ＩＴＯ膜（透明電極） ２５ａ，２５ｂ 配向膜 ２６ａ，２６ｂ シール材 ２７ａ，２７ｂ 液晶層 ２８ａ，２８ｂ 有機ガスバリア膜 ２９ａ，２９ｂ 基板 20, 20a, 30, 30a Liquid crystal display element 21a, 21b Plastic substrate 22a, 22b Hard coat film 23a, 23b Inorganic gas barrier film 24a, 24b ITO film (transparent electrode) 25a, 25b Alignment film 26a, 26b Sealing material 27a, 27b Liquid crystal Layer 28a, 28b Organic gas barrier film 29a, 29b Substrate
Claims (1)
在して形成される液晶素子において、 前記プラスチック基板を保護するハードコート層の下層
に、当該プラスチック基板からのガス透過を防止するガ
スバリア膜が形成されることを特徴とする液晶素子。1. In a liquid crystal element formed by interposing a liquid crystal layer between a pair of plastic substrates, a gas barrier film for preventing gas permeation from the plastic substrate is provided below a hard coat layer that protects the plastic substrate. A liquid crystal element, which is formed.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05162694A JP3143268B2 (en) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | Liquid crystal element |
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