JPH07201170A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH07201170A
JPH07201170A JP5354208A JP35420893A JPH07201170A JP H07201170 A JPH07201170 A JP H07201170A JP 5354208 A JP5354208 A JP 5354208A JP 35420893 A JP35420893 A JP 35420893A JP H07201170 A JPH07201170 A JP H07201170A
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JP
Japan
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bit line
memory cell
potential
bit
sense amplifier
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Application number
JP5354208A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinichiro Shiratake
慎一郎 白武
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Priority to US08/358,582 priority patent/US5555203A/en
Priority to KR1019940037895A priority patent/KR0150494B1/en
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Abstract

PURPOSE:To provide a semiconductor storage device capable of reducing noise at write time and securing operational margin of sense amplifier at the read time. CONSTITUTION:One sense amplifier SA is shared by two sets of bit line pairs, and precharge potential of a bit line BL is made the potential between the write potential of 'H' and 'L' for a memory cell C, and the data in the memory cell C are read out or written successively shifting time. In this dynamic semiconductor storage device, the activating order of the bit line BL is controlled so that the adjacent bit line pair writing later is arranged so as to hold the bit line BL connected to the memory cell C writing earlier therebetween among the memory cells C selected by the same word line WL.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置に係わ
り、特に複数のビット線対によってそれよりも少ないセ
ンスアンプを共有した半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device in which a plurality of bit line pairs share a smaller number of sense amplifiers.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体記憶装置の大容量化に伴っ
てメモリセルの大きさがより小さくなり、ビット線の配
線間隔も狭くなってきている。このため、ビット線間の
容量結合によるノイズが、次第に無視できなくなってき
ている。
2. Description of the Related Art In recent years, as the capacity of semiconductor memory devices has increased, the size of memory cells has become smaller and the wiring intervals between bit lines have become narrower. For this reason, the noise due to the capacitive coupling between the bit lines cannot be ignored.

【0003】一方、ビット線のピッチが小さくなるにつ
れて、センスアンプのピッチも小さくなり、このためセ
ンスアンプ部のピッチを緩和するために複数のビット線
対によってセンスアンプを共有する方式が提案されてい
る。しかし、この方式では隣合うビット線にデータを書
き込むタイミングが異なるため、先に書き込まれたデー
タが、後から書き込まれるビット線の電位振幅のために
ノイズを受けてしまうという問題があった。
On the other hand, as the pitch of the bit lines becomes smaller, the pitch of the sense amplifier also becomes smaller. Therefore, in order to alleviate the pitch of the sense amplifier section, a method of sharing a sense amplifier by a plurality of bit line pairs has been proposed. There is. However, in this method, there is a problem in that the data written to the adjacent bit lines have different timings, and thus the data written first receives noise due to the potential amplitude of the bit lines written later.

【0004】この問題を図を用いて説明する。図7は4
本のビット線を1つのセンスアンプSAによって共有
し、そのうち2本ずつをビット線対とする折り返し型ビ
ット線構成のダイナミック型半導体記憶装置である。図
中のBLはビット線、WLはワード線、Cはメモリセ
ル、SAはセンスアンプ、P1,P2はビット線BLを
センスアンプSAに接続するための制御信号線である。
This problem will be described with reference to the drawings. 7 is 4
This is a dynamic semiconductor memory device having a folded bit line configuration in which two bit lines are shared by one sense amplifier SA, and two of them are a pair of bit lines. In the figure, BL is a bit line, WL is a word line, C is a memory cell, SA is a sense amplifier, and P1 and P2 are control signal lines for connecting the bit line BL to the sense amplifier SA.

【0005】図8は、このダイナミック型半導体記憶装
置において、ワード線WL1 が選択された場合の、メモ
リセルC0n及びC1nに対する書き込みを行う際の動作波
形図である。ビット線BLは書き込み動作を行う前に、
メモリセルCに対する“1”及び“0”の2つの書き込
み電位、即ちVccと0Vのちょうど中間電位Vcc/2に
プリチャージされている。センスアンプSAはメモリセ
ルC0n及びC1nのデータに応じて2回活性化され、ビッ
ト線BLとセンスアンプSAの接続ゲートがP1,P2
の順で選択されて、メモリセルC0n,C1nの順にデータ
がビット線BLに書き込まれる。
FIG. 8 is an operation waveform diagram in writing to the memory cells C0n and C1n when the word line WL1 is selected in this dynamic semiconductor memory device. Before the write operation is performed on the bit line BL,
It is precharged to two write potentials "1" and "0" for the memory cell C, that is, an intermediate potential Vcc / 2 just between Vcc and 0V. The sense amplifier SA is activated twice according to the data in the memory cells C0n and C1n, and the connection gates of the bit line BL and the sense amplifier SA are P1 and P2.
Data is written in the bit line BL in the order of the memory cells C0n and C1n.

【0006】図9は、同じダイナミック型半導体記憶装
置において、ワード線WL2 が選択された場合の、メモ
リセルC2n及びC3nに対する書き込み動作の波形図であ
る。図8の場合と同様に、ビット線BLとセンスアンプ
SAの接続ゲートがP1,P2の順で選択されて、メモ
リセルC2nに続いてメモリC3nの順にデータが書き込ま
れる。
FIG. 9 is a waveform diagram of a write operation to the memory cells C2n and C3n when the word line WL2 is selected in the same dynamic semiconductor memory device. Similar to the case of FIG. 8, the connection gates of the bit line BL and the sense amplifier SA are selected in the order of P1 and P2, and the data is written in the order of the memory C3n and then the memory C3n.

【0007】ここで、ワード線WL2 が選択された図9
の場合には、最初にメモリセルC2nにデータが書き込ま
れ、後からこのメモリセルC2nが接続されたビット線B
L2nを挟む形で配置されたBL1n及びBL3nがビット線
対を構成してビット線B3nに接続されたメモリセルC3n
に対する書き込みを行う。ビット線BL1n及びBL3nの
電位振幅は、プリチャージ電位Vcc/2から、メモリセ
ルに対する0V及びVccまでの大きさで、符号が異なり
絶対値はVcc/2と等しい。従って、これらに挟まれ、
センスアンプから切り離されて電気的にフローティング
になっているビット線BL2nが受けるビット線間の容量
結合によるノイズは、プラスマイナスでちょうど打ち消
されて等しくなる。従ってこの場合、メモリセルC2n及
びC3nに対する書き込みにおいては、ビット線間の容量
結合によるノイズは打ち消されている。
Here, the word line WL2 is selected in FIG.
In the case of, the data is first written into the memory cell C2n, and then the bit line B to which this memory cell C2n is connected.
A memory cell C3n in which BL1n and BL3n arranged so as to sandwich L2n form a bit line pair and are connected to the bit line B3n
Write to. The potential amplitudes of the bit lines BL1n and BL3n are from the precharge potential Vcc / 2 to 0V and Vcc with respect to the memory cell, the signs are different and the absolute values are equal to Vcc / 2. Therefore, sandwiched between these,
The noise due to the capacitive coupling between the bit lines, which is received by the bit line BL2n which is separated from the sense amplifier and is electrically floating, is canceled out by plus or minus and becomes equal. Therefore, in this case, in writing to the memory cells C2n and C3n, noise due to capacitive coupling between the bit lines is canceled.

【0008】しかし、ワード線WL1 が選択された図8
の場合には、最初にビット線BL0nに接続されたメモリ
セルC0nに対する書き込みが行われ、ゲート制御信号P
1が非活性化されてビット線BL0nが電気的に浮遊状態
となる。ここで、P2が活性化された後に書き込みが行
われるメモリセルC1nが接続されるビット線BL1n及び
その相補ビット線であるBL3nがセンスアンプSAによ
って電位振幅すると、ビット線BL0nはビット線間の容
量結合によりノイズを受けてしまう。その大きさは、ビ
ット線容量をCB 、ビット線間の結合容量をCBBとする
と、最悪の場合は両隣のビット線の電位振幅ノイズを受
けるので、2×(Vcc/2)×CBB/CB となる。
However, the word line WL1 is selected in FIG.
In the case of, the memory cell C0n connected to the bit line BL0n is first written, and the gate control signal P0
1 is inactivated, and the bit line BL0n becomes electrically floating. Here, when the bit line BL1n connected to the memory cell C1n to which writing is performed after P2 is activated and its complementary bit line BL3n are amplitude-amplified by the sense amplifier SA, the bit line BL0n causes a capacitance between the bit lines. Receive noise due to coupling. Assuming that the bit line capacitance is CB and the coupling capacitance between the bit lines is CBB, the magnitude is 2 × (Vcc / 2) × CBB / CB because in the worst case, the potential amplitude noise of the bit lines on both sides is received. Become.

【0009】従って、書き込まれたデータが、最悪の場
合は相対的に2CBB/CB だけ損なわれることになるの
で、その分だけ読み出し時の信号量も低下する。このよ
うにデータの読み出し時の信号量が低下することは、セ
ンスアンプの動作マージンを低くする要因となる。な
お、この書き込みノイズは、センスアンプSAを複数の
ビット線BLで共有せず、全てのビット線対を同時に活
性化する方式ではなかったものである。
Therefore, in the worst case, the written data is relatively damaged by 2CBB / CB, so that the signal amount at the time of reading is also reduced accordingly. Such a decrease in the signal amount at the time of reading data becomes a factor of lowering the operation margin of the sense amplifier. It should be noted that this write noise is not due to the method in which the sense amplifier SA is not shared by a plurality of bit lines BL and all bit line pairs are activated at the same time.

【0010】図10は、複数のDRAMセルを直列につ
なげたNAND型セルを基本単位とし、その最もビット
線コンタクト寄りのワード線を分離することによってデ
ータが転送されるビット線を選択して折り返し型ビット
線構成を実現したNAND型DRAMの例である。この
場合も、データの書き込みノイズの問題は図7の例と同
様である。
In FIG. 10, a NAND type cell in which a plurality of DRAM cells are connected in series is used as a basic unit, and the word line closest to the bit line contact is separated to select the bit line to which the data is transferred and the return is performed. 2 is an example of a NAND type DRAM that realizes a type bit line configuration. Also in this case, the problem of data writing noise is the same as in the example of FIG.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】このように従来、複数
のビット線対によってそれよりも少ない数のセンスアン
プを共有する場合、ビット線間の容量結合によって書き
込みデータがノイズを受ける問題があり、これがセンス
アンプの動作マージンを小さくする要因となっていた。
As described above, conventionally, when a plurality of bit line pairs share a smaller number of sense amplifiers, write data receives noise due to capacitive coupling between bit lines. This has been a factor that reduces the operation margin of the sense amplifier.

【0012】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
ので、その目的とするところは、ビット線間の容量結合
に起因する書き込み時のノイズを減少させることがで
き、読み出し時のセンスアンプの動作マージンを大きく
できる半導体記憶装置を提供することにある。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and an object thereof is to reduce noise at the time of writing due to capacitive coupling between bit lines, and to sense amplifier at the time of reading. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device capable of increasing the operation margin.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、次のような構成を採用している。
In order to solve the above problems, the present invention employs the following configurations.

【0014】即ち本発明は、複数のビット線対によって
それよりも少ない数のセンスアンプを共有し、ビット線
のプリチャージ電位がメモリセルに対する“H”と
“L”の書き込み電位の間の電位とし、時間をずらして
メモリセルのデータの読み出し又は書き込みを順に行う
半導体記憶装置において、同一のワード線によって選択
されるメモリセルのうち、先に書き込みを行ったメモリ
セルが接続されたビット線を、後から書き込みを行うビ
ット線対が隣接して挟み込んで配置されているようにビ
ット線の活性化順序を制御する回路を備えていることを
特徴とする。
That is, according to the present invention, a plurality of bit line pairs share a smaller number of sense amplifiers, and the precharge potential of the bit line is between the "H" and "L" write potentials for the memory cell. In a semiconductor memory device that sequentially reads or writes data in memory cells at different times, among memory cells selected by the same word line, a bit line to which a memory cell to which data has been written first is connected is A circuit for controlling the activation order of the bit lines is provided so that a bit line pair to be written later is arranged so as to be sandwiched between them.

【0015】ここで、本発明の望ましい実施態様として
は、次のものがあげられる。 (1) 各々のビット線対は同一ワード線との2つの交点の
いずれか一方にメモリセルが配置され、且つ同一ワード
線に対して、先に活性化されるビット線対では後に活性
化されるビット線対で挟まれるビット線側にメモリセル
が配置されていること。 (2) 4本のビット線で1つのセンスアンプを共有し、そ
のうち2本ずつをビット線対とする折り返しビット線方
式であり、ビット線対のどちらに書き込みを行うべきセ
ルが接続されるかによってビット線対の活性化順序を切
り換えること。
The preferred embodiments of the present invention are as follows. (1) Each bit line pair has a memory cell arranged at either one of two intersections with the same word line, and the bit line pair activated first with respect to the same word line is activated later. Memory cells are placed on the bit line side that is sandwiched between the pair of bit lines. (2) It is a folded bit line method in which one sense amplifier is shared by four bit lines, and two of them are paired bit lines. Which of the bit line pairs is connected to the cell to be written? Switching the activation order of bit line pairs by.

【0016】[0016]

【作用】本発明によれば、同一のワード線によって選択
されるメモリセルのうち、先に書き込みを行ったメモリ
セルが接続されたビット線を、後から書き込みを行うビ
ット線対が隣接して挟み込んで配置されているようにビ
ット線の活性化順序を制御することにより、後から書き
込みを行うビット線対が前に書き込んだメモリセルが接
続されたビット線から受けるノイズは相殺される。従っ
て、複数のビット線対によってそれよりも少ない数のセ
ンスアンプを共有する場合のビット線間の容量結合によ
る書き込みデータのノイズをなくし、或いは大幅に減少
させることができ、読み出し時におけるセンスアンプの
動作マージンを十分に確保することが可能となる。
According to the present invention, among the memory cells selected by the same word line, the bit line to which the memory cell to which data has been written first is connected is adjacent to the bit line pair to which data is to be written later. By controlling the activation order of the bit lines so that the bit lines are arranged so as to be sandwiched, noise received from the bit line connected to the memory cell previously written by the bit line pair to be written later is canceled. Therefore, when a plurality of bit line pairs share a smaller number of sense amplifiers, write data noise due to capacitive coupling between bit lines can be eliminated or significantly reduced. It is possible to secure a sufficient operating margin.

【0017】[0017]

【実施例】以下、本発明の詳細を図示の実施例によって
説明する。
The details of the present invention will be described below with reference to the illustrated embodiments.

【0018】図1は、本発明の第1の実施例に係わる半
導体記憶装置を示す回路構成図である。本実施例では、
1つのセンスアンプSA(より具体的には、センスアン
プ兼イコライズ回路,I/O等)に接続される4本のビ
ット線BL(BL0n,BL1n,BL2n,BL3n)は、B
L0nとBL2n、BL1nとBL3nがビット線対をなすよう
に制御信号P1,P2によって制御されるゲートが配置
されている。この例では、これらのゲート及びワード線
WLに対するメモリセルCの接続の順序はセンスアンプ
毎、即ちビット線4本毎に周期的である。
FIG. 1 is a circuit configuration diagram showing a semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention. In this embodiment,
The four bit lines BL (BL0n, BL1n, BL2n, BL3n) connected to one sense amplifier SA (more specifically, sense amplifier / equalize circuit, I / O, etc.) are
Gates controlled by the control signals P1 and P2 are arranged so that L0n and BL2n and BL1n and BL3n form a bit line pair. In this example, the order of connection of the memory cells C to these gates and word lines WL is periodic for each sense amplifier, that is, for every four bit lines.

【0019】ワード線WLとビット線BLの交点には、
対をなす2本のビット線の一方にメモリセルCが配置さ
れている。このメモリセルCは、1トランジスタ/1キ
ャパシタからなるDRAMセルである。
At the intersection of the word line WL and the bit line BL,
The memory cell C is arranged on one of the two bit lines forming a pair. The memory cell C is a DRAM cell composed of 1 transistor / 1 capacitor.

【0020】図2は、本実施例の第1の動作波形図で、
図1のワード線WL1 を選択した場合のメモリセルに対
する書き込み動作を表わしている。図3は、本実施例の
第2の動作波形図で、図1のワード線WL2 を選択した
場合の書き込み動作である。本実施例において、ワード
線WL1 を選択した場合はメモリセルC0n,C1nに書き
込みを行い、ワード線WL2 を選択した場合はメモリセ
ルC2n,C3nに書き込みを行う。また、この実施例にお
いては、選択されるワード線WLによって、ビット線B
LとセンスアンプSAを接続するゲートの制御信号P1
及びP2の活性化の順序が異なる。
FIG. 2 is a first operation waveform diagram of this embodiment.
This shows the write operation to the memory cell when the word line WL1 in FIG. 1 is selected. FIG. 3 is a second operation waveform diagram of the present embodiment, which is a write operation when the word line WL2 of FIG. 1 is selected. In this embodiment, when the word line WL1 is selected, the memory cells C0n and C1n are written, and when the word line WL2 is selected, the memory cells C2n and C3n are written. In addition, in this embodiment, the bit line B depends on the selected word line WL.
Control signal P1 of gate connecting L and sense amplifier SA
And the order of activation of P2 is different.

【0021】まず、図2の動作波形図について説明す
る。メモリセルCに対する書き込みを行う前に、ビット
線BLは全てメモリセルCに対する“1”の書き込み電
位と“0”の書き込み電位のちょうど中間にプリチャー
ジされている。メモリセルC1nはビット線BL1nに接続
され、BL1nはビット線対をなすビット線BL0n及びB
L2nに挟まれている。従って、請求項記載の規則に従っ
て、まずメモリセルC1nに対する書き込みを行うために
制御信号P2を選択してBL1n及びBL3nのビット線対
を活性化する。この後、P2を非選択とし、ビット線B
L1n及びBL3nを電気的に浮遊状態にする。さらに、P
1を選択してメモリセルC0nに書き込みを行うためにB
L0n及びBL2nのビット線対を活性化し、ワード線WL
1 を立ち下げてデータをメモリセルに閉じ込める。
First, the operation waveform diagram of FIG. 2 will be described. Before writing to the memory cell C, all the bit lines BL are precharged to the exact middle of the write potential of "1" and the write potential of "0" to the memory cell C. The memory cell C1n is connected to the bit line BL1n, and BL1n is a pair of bit lines BL0n and B0n.
It is sandwiched between L2n. Therefore, according to the rules of the claims, first, the control signal P2 is selected to write to the memory cell C1n to activate the bit line pair of BL1n and BL3n. After that, P2 is deselected and the bit line B
L1n and BL3n are brought into an electrically floating state. Furthermore, P
B to select 1 and write to memory cell C0n
Activates the bit line pair of L0n and BL2n to activate the word line WL.
Hold 1 to lock the data in the memory cell.

【0022】第2回目のセンスアンプの活性化によっ
て、先にデータが書き込まれたBL1nの2本の隣接ビッ
ト線であるBL0n及びBL2nがプリチャージ電位よりメ
モリセルに対する書き込み電位の“1”の電位と“0”
の電位まで振幅するが、これらに挟まれたビット線BL
1nが受ける容量結合ノイズはプラスとマイナスの電位振
幅幅が同じためちょうどキャンセルされる。従って、先
に書き込まれたメモリセルC1nのデータ及び後に書き込
まれるメモリセルC0nのデータのいずれも、データの書
き込み電位に対して容量結合ノイズを受けることなしに
メモリセルに書き込める。
By the activation of the sense amplifier for the second time, BL0n and BL2n, which are two adjacent bit lines of BL1n to which data is previously written, have a write potential "1" for the memory cell rather than the precharge potential. And “0”
Of the bit line BL sandwiched between them.
The capacitive coupling noise received by 1n is just canceled because the positive and negative potential amplitude widths are the same. Therefore, both the previously written data of the memory cell C1n and the later written data of the memory cell C0n can be written in the memory cell without receiving capacitive coupling noise with respect to the data write potential.

【0023】図3の動作においては、ワード線WL2 が
選択されており、メモリセルC2n及びC3nに書き込みを
行う。この場合、メモリセルC2nの接続されるビット線
BL2nはBL1n及びBL3nのビット線対に挟まれてい
る。よって、先にメモリセルC2nに対する書き込みを行
い、メモリセルC3nに対する書き込みを後に行うため
に、P1,P2の活性化の順序が図2の場合とは異な
る。そして、全く同様の原理によって、メモリセルC2n
及びC3nに対する書き込み電位は容量結合ノイズを受け
ない。
In the operation of FIG. 3, the word line WL2 is selected and writing is performed in the memory cells C2n and C3n. In this case, the bit line BL2n connected to the memory cell C2n is sandwiched between the bit line pair BL1n and BL3n. Therefore, since the memory cell C2n is written first and the memory cell C3n is written later, the activation order of P1 and P2 is different from the case of FIG. Then, according to the completely same principle, the memory cell C2n
And the write potential for C3n is not subject to capacitive coupling noise.

【0024】ビット線BLのプリチャージ電位が、メモ
リセルCに対する“0”及び“1”の2つの書き込み電
位のちょうど中間であれば、ここで説明した原理により
メモリセルCへの書き込みにおけるビット線間の容量結
合ノイズは完全になくすことができる。さらに、先にデ
ータを書き込まれたビット線BLを挟んで駆動されるビ
ット線BLの電位振幅はビット線BLのプリチャージ電
位がメモリセルCへの2種類の書き込み電位の間にある
限り符号が逆となり、従ってこれらの電位振幅によって
先にデータの書き込まれたビット線BLが受ける容量結
合ノイズは互いに打ち消し合う。
If the precharge potential of the bit line BL is exactly in the middle of the two write potentials of "0" and "1" for the memory cell C, the bit line in the write to the memory cell C according to the principle described here. Capacitively coupled noise between can be completely eliminated. Further, the potential amplitude of the bit line BL driven across the bit line BL in which the data is previously written has a sign as long as the precharge potential of the bit line BL is between two types of write potentials to the memory cell C. The opposite is true, and therefore, the capacitive coupling noises received by the bit line BL to which data has been previously written are canceled by these potential amplitudes.

【0025】よって、最悪の場合には隣接ビット線の電
位振幅の符号が同じとなる従来の場合に比べてノイズは
明かに減少するので、ビット線BLのプリチャージ電位
は厳密に中間である必要はなく、この値からずれていて
も本発明の意図するノイズ減少の効果は現われる。
Therefore, in the worst case, noise is clearly reduced as compared with the conventional case in which the signs of the potential amplitudes of the adjacent bit lines are the same, so the precharge potential of the bit line BL must be strictly in the middle. Even if it deviates from this value, the effect of noise reduction intended by the present invention appears.

【0026】図4は、本発明の第2の実施例に係わる半
導体記憶装置を示す回路構成図である。ワード線WLに
沿ったメモリセルCの並び方及びビット線BLとセンス
アンプSAの接続ゲートの並び方がビット線8本、即ち
センスアンプ2つ毎に周期的に配置された例である。
FIG. 4 is a circuit configuration diagram showing a semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention. In this example, the arrangement of the memory cells C along the word line WL and the arrangement of the connection gates of the bit lines BL and the sense amplifiers SA are periodically arranged for every eight bit lines, that is, for every two sense amplifiers.

【0027】動作原理及び動作波形は第1の実施例と全
く同様であるが、本実施例においては、データの読み出
し時におけるビット線間容量結合ノイズも従来の半分に
減少できる。
The operation principle and operation waveform are exactly the same as those in the first embodiment, but in this embodiment, the bit line capacitive coupling noise at the time of reading data can be reduced to half that in the conventional case.

【0028】図5は、本発明の第3の実施例に係わる半
導体記憶装置を示す回路構成図である。本実施例におい
ては、複数のDRAMセルを直列につなげたNAND型
セルを基本単位とし、最もビット線コンタクト寄りのワ
ード線WLを別にすることによりメモリセルCとビット
線BLの間でデータが転送されるものを選択し、折り返
しビット線構成を実現している。また、1つのセンスア
ンプSAを4本のビット線BLで共有し、その2本ずつ
がビット線対を構成してセンスアンプSAに接続される
ように、制御信号P1,P2によって駆動されるゲート
が配置されている。
FIG. 5 is a circuit configuration diagram showing a semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention. In this embodiment, a NAND type cell in which a plurality of DRAM cells are connected in series is used as a basic unit, and a word line WL closest to a bit line contact is separated to transfer data between a memory cell C and a bit line BL. And the folded bit line configuration is realized. Also, one sense amplifier SA is shared by four bit lines BL, and two gate lines driven by the control signals P1 and P2 so that two bit lines BL form a bit line pair and are connected to the sense amplifier SA. Are arranged.

【0029】本実施例おいて、読み出しが行われる順序
は、図中のセルの番号で (1)(2)(3)(4)(5)(6)(7)(8)
(及び(1)'(2)'(3)'(4)'(5)'(6)'(7)'(8) )の順序であ
るが、書き込みの順序はこれとちょうど逆とはならず、
(7)(8)(6)(5)(3)(4)(2)(1)(及び (7)'(8)'(6)'(5)'(3)
'(4)'(2)'(1))の順となる。図6は、本実施例の動作波
形の例である。この場合も、第1の実施例と同様に、ビ
ット線間の容量結合による書き込みデータのノイズを低
減することができる。
In this embodiment, the order of reading is the cell numbers in the figure: (1) (2) (3) (4) (5) (6) (7) (8)
(And (1) '(2)' (3) '(4)' (5) '(6)' (7) '(8)), but the order of writing is exactly the opposite. Not
(7) (8) (6) (5) (3) (4) (2) (1) (and (7) '(8)' (6) '(5)' (3)
The order is' (4) '(2)' (1)). FIG. 6 is an example of operation waveforms in this embodiment. Also in this case, similar to the first embodiment, it is possible to reduce the noise of the write data due to the capacitive coupling between the bit lines.

【0030】なお、本発明は上述した各実施例に限定さ
れるものではない。実施例では、ダイナミック型半導体
記憶装置の例で説明したが、複数のビット線対によって
それよりも少ない数のセンスアンプを共有するものであ
れば、不揮発性半導体記憶装置に適用することもでき
る。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変
形して実施することができる。
The present invention is not limited to the above embodiments. In the embodiment, the example of the dynamic semiconductor memory device has been described, but the invention can be applied to a nonvolatile semiconductor memory device as long as a plurality of bit line pairs share a smaller number of sense amplifiers. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、複
数のビット線対によってそれよりも少ない数のセンスア
ンプを共有した構成において、ビット線対の活性化順序
を工夫することにより、複数のビット線対によってそれ
よりも少ない数のセンスアンプを共有する場合のビット
線間の容量結合による書き込みデータのノイズをなくす
か、或いは大幅に減少でき、読み出し時のセンスアンプ
の動作マージンを確保した半導体記憶装置を実現するこ
とができる。
As described in detail above, according to the present invention, in a configuration in which a plurality of bit line pairs share a smaller number of sense amplifiers, the activation order of the bit line pairs is devised, When sharing a smaller number of sense amplifiers with multiple bit line pairs, write data noise due to capacitive coupling between bit lines can be eliminated or greatly reduced, and the sense amplifier operating margin at the time of reading is secured. The semiconductor memory device can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1の実施例に係わる半導体記憶装置を示す回
路構成図。
FIG. 1 is a circuit configuration diagram showing a semiconductor memory device according to a first embodiment.

【図2】第1の実施例における第1の動作波形図。FIG. 2 is a first operation waveform diagram in the first embodiment.

【図3】第1の実施例における第2の動作波形図。FIG. 3 is a second operation waveform diagram in the first embodiment.

【図4】第2の実施例に係わる半導体記憶装置を示す回
路構成図。
FIG. 4 is a circuit configuration diagram showing a semiconductor memory device according to a second embodiment.

【図5】第3の実施例に係わる半導体記憶装置を示す回
路構成図。
FIG. 5 is a circuit configuration diagram showing a semiconductor memory device according to a third embodiment.

【図6】第3の実施例における動作波形図。FIG. 6 is an operation waveform diagram in the third embodiment.

【図7】従来の折り返し型ビット線構成の半導体記憶装
置を示す回路構成図。
FIG. 7 is a circuit configuration diagram showing a conventional semiconductor memory device having a folded bit line configuration.

【図8】従来装置における第1の動作波形図。FIG. 8 is a first operation waveform diagram in the conventional device.

【図9】従来装置における第2の動作波形図。FIG. 9 is a second operation waveform diagram in the conventional device.

【図10】従来のNAND型DRAMの例を示す回路構
成図。
FIG. 10 is a circuit configuration diagram showing an example of a conventional NAND DRAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

BL…ビット線 WL…ワード線 C…メモリセル SA…センスアンプ P…制御信号 BL ... bit line WL ... word line C ... memory cell SA ... sense amplifier P ... control signal

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数のビット線対によってそれよりも少な
い数のセンスアンプを共有し、ビット線のプリチャージ
電位をメモリセルに対する“H”と“L”の書き込み電
位の間の電位とし、センスアンプに接続するビット線対
を順次切り換えてメモリセルのデータの読み出し又は書
き込みを行う半導体記憶装置において、 同一のワード線によって選択されるメモリセルのうち、
先に書き込みを行ったメモリセルが接続されたビット線
を、後から書き込みを行うビット線対が隣接して挟み込
んで配置されているように、ビット線対の活性化順序を
制御する手段を設けたことを特徴とする半導体記憶装
置。
1. A plurality of bit line pairs share a smaller number of sense amplifiers, and the precharge potential of the bit lines is set to a potential between "H" and "L" write potentials for a memory cell, and sense is performed. In a semiconductor memory device that sequentially reads and writes data in a memory cell by sequentially switching bit line pairs connected to an amplifier, among memory cells selected by the same word line,
A means for controlling the activation order of the bit line pair is provided so that the bit line to which the memory cell to which the writing is performed is connected is sandwiched by the bit line pair to be written later. A semiconductor memory device characterized by the above.
【請求項2】複数のビット線対によってそれよりも少な
い数のセンスアンプを共有し、ビット線のプリチャージ
電位をメモリセルに対する“H”と“L”の書き込み電
位の間の電位とし、センスアンプに接続するビット線対
を順次切り換えてメモリセルのデータの読み出し又は書
き込みを行う半導体記憶装置において、 各々のビット線対は同一ワード線との2つの交点のいず
れか一方にメモリセルが配置され、且つ同一ワード線に
対して、先に活性化されるビット線対では後に活性化さ
れるビット線対で挟まれるビット線側にメモリセルが配
置されてなることを特徴とする半導体記憶装置。
2. A plurality of bit line pairs share a smaller number of sense amplifiers, and the precharge potential of the bit lines is set to a potential between "H" and "L" write potentials for the memory cell, and sense is performed. In a semiconductor memory device that sequentially reads and writes data in a memory cell by sequentially switching bit line pairs connected to an amplifier, each bit line pair has a memory cell arranged at either one of two intersections with the same word line. The semiconductor memory device is characterized in that, for the same word line, a memory cell is arranged on a bit line side which is sandwiched between bit line pairs which are activated first and bit lines which are activated later.
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Cited By (4)

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