JPH07193301A - 軸流型ガスレーザ発振器 - Google Patents
軸流型ガスレーザ発振器Info
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- JPH07193301A JPH07193301A JP32942593A JP32942593A JPH07193301A JP H07193301 A JPH07193301 A JP H07193301A JP 32942593 A JP32942593 A JP 32942593A JP 32942593 A JP32942593 A JP 32942593A JP H07193301 A JPH07193301 A JP H07193301A
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- laser
- laser gas
- discharge tube
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 発振効率良く、低次モード出力ビームを得る
軸流型ガスレーザ発振器を提供する。 【構成】 放電管３におけるレーザガスを励起する高周
波電源よりなるエネルギー供給装置４および励起エネル
ギーを印加する電極５により定まる励起区域の下流に吸
収ガス供給口１７よりレーザビームを吸収するガスを供
給する構成とする。 【効果】 アパーチャによる回折光の発生なく、低次モ
ード出力ビームを得る。
軸流型ガスレーザ発振器を提供する。 【構成】 放電管３におけるレーザガスを励起する高周
波電源よりなるエネルギー供給装置４および励起エネル
ギーを印加する電極５により定まる励起区域の下流に吸
収ガス供給口１７よりレーザビームを吸収するガスを供
給する構成とする。 【効果】 アパーチャによる回折光の発生なく、低次モ
ード出力ビームを得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は効果ガスを流入させる構
成の軸流型ガスレーザ発振器に関する。
成の軸流型ガスレーザ発振器に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、金属、非金属の切断や溶接等の分
野においてレーザ加工機が用いられ、高生産性に大きく
貢献している。また、生産現場の無人化の要望は今後と
も増加すると予想され、レーザ加工機はその要望を実現
するのに最適であると考えられており、そのためレーザ
加工機の需要は増加すると予測される。レーザ加工機、
とりわけガスレーザである軸流型ＣＯ2 レーザ加工機
は、加工に適する円形の出力ビームが安価に、高出力、
すなわち高エネルギー密度で得られるので、今後ともレ
ーザ加工機需要の中心であると考えられている。
野においてレーザ加工機が用いられ、高生産性に大きく
貢献している。また、生産現場の無人化の要望は今後と
も増加すると予想され、レーザ加工機はその要望を実現
するのに最適であると考えられており、そのためレーザ
加工機の需要は増加すると予測される。レーザ加工機、
とりわけガスレーザである軸流型ＣＯ2 レーザ加工機
は、加工に適する円形の出力ビームが安価に、高出力、
すなわち高エネルギー密度で得られるので、今後ともレ
ーザ加工機需要の中心であると考えられている。
【０００３】安価にレーザビームを得るためには高発振
効率化により電力消費量の抑制が必要であり、一方、高
出力を得るには注入電力を増大しなければならない。つ
まり、注入電力増大と高発振効率を達成しなければなら
ない。ところが、注入電力増大はレーザガス温度上昇を
招き、レーザガスは熱飽和を起こして発振効率低下を生
じさせる。
効率化により電力消費量の抑制が必要であり、一方、高
出力を得るには注入電力を増大しなければならない。つ
まり、注入電力増大と高発振効率を達成しなければなら
ない。ところが、注入電力増大はレーザガス温度上昇を
招き、レーザガスは熱飽和を起こして発振効率低下を生
じさせる。
【０００４】また、レーザ加工の課題として生産性向上
のために、加工に適するモードの出力レーザビームを用
いなければならず、すなわち任意のモードを持つ出力レ
ーザビームを供給しなければならない。
のために、加工に適するモードの出力レーザビームを用
いなければならず、すなわち任意のモードを持つ出力レ
ーザビームを供給しなければならない。
【０００５】上記のように効率よく低次モードレーザビ
ームを得るための技術として、励起区域外をウィンドー
で区切り、前記区域内にレーザガスを吸収しないガスを
充満させ、効率よく低次モードのレーザビームを取り出
す方法が公知である（特開昭６１−１１９０８６号公
報）。
ームを得るための技術として、励起区域外をウィンドー
で区切り、前記区域内にレーザガスを吸収しないガスを
充満させ、効率よく低次モードのレーザビームを取り出
す方法が公知である（特開昭６１−１１９０８６号公
報）。
【０００６】しかしながら、レーザビームを吸収するガ
スを励起区域直後に供給したり、レーザガス循環系と異
なる混合比のガスを供給する例は存在しない。また、レ
ーザガスを音速で循環させ、その衝撃波を用いて効率良
くレーザガスをかくはんし、発振効率を向上させる技術
が公知であるが、レーザガス循環系と異なる混合比のレ
ーザガスを亜音速、あるいは音速で供給した例はない。
スを励起区域直後に供給したり、レーザガス循環系と異
なる混合比のガスを供給する例は存在しない。また、レ
ーザガスを音速で循環させ、その衝撃波を用いて効率良
くレーザガスをかくはんし、発振効率を向上させる技術
が公知であるが、レーザガス循環系と異なる混合比のレ
ーザガスを亜音速、あるいは音速で供給した例はない。
【０００７】以下、図８を参照しながら従来の軸流型ガ
スレーザ発振器を説明する。図８に従来の軸流型ガスレ
ーザ発振器の概略構成の一例を示す。図において、１は
出力鏡、２は終段鏡であり、放電管３の両端部に設けら
れている。前記放電管３の外周には電極５が設けられ、
これにエネルギー供給装置４よりエネルギーを与えるよ
うにしている。前記放電管３内の両端側にはアパーチャ
６が形成され、また放電管３の中央部より導出した通路
には熱交換機７、送風機８が設けられ、その端部より放
電管３の両端に至るレーザガス循環系１０が設けられて
いる。図中の２６はレーザガス循環系１０と同じ混合比
を持つ、新しいレーザガスを供給する新鮮ガス供給系を
示す。
スレーザ発振器を説明する。図８に従来の軸流型ガスレ
ーザ発振器の概略構成の一例を示す。図において、１は
出力鏡、２は終段鏡であり、放電管３の両端部に設けら
れている。前記放電管３の外周には電極５が設けられ、
これにエネルギー供給装置４よりエネルギーを与えるよ
うにしている。前記放電管３内の両端側にはアパーチャ
６が形成され、また放電管３の中央部より導出した通路
には熱交換機７、送風機８が設けられ、その端部より放
電管３の両端に至るレーザガス循環系１０が設けられて
いる。図中の２６はレーザガス循環系１０と同じ混合比
を持つ、新しいレーザガスを供給する新鮮ガス供給系を
示す。
【０００８】上記構成において、送風機８によってレー
ザガス循環系１０内を循環する励起媒質であるレーザガ
スは、熱交換機７で冷却されて放電管３内に供給され、
新鮮ガス供給系２６より供給されるレーザガスと合流
し、エネルギー供給装置４からエネルギーが電極５によ
り印加されて、上記電極５により制限される励起区域内
で励起される。励起されたレーザビームはアパーチャ６
により制限を受けて出力鏡１および終段鏡２により多重
増幅帰還され、低次モードのレーザビームとして出力鏡
１より取り出される。
ザガス循環系１０内を循環する励起媒質であるレーザガ
スは、熱交換機７で冷却されて放電管３内に供給され、
新鮮ガス供給系２６より供給されるレーザガスと合流
し、エネルギー供給装置４からエネルギーが電極５によ
り印加されて、上記電極５により制限される励起区域内
で励起される。励起されたレーザビームはアパーチャ６
により制限を受けて出力鏡１および終段鏡２により多重
増幅帰還され、低次モードのレーザビームとして出力鏡
１より取り出される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の軸流
型ガスレーザ発振器は、下記課題を有している。 （１）低次モードのレーザビームを得るためにアパーチ
ャを挿入しなければならず、アパーチャによる回折光が
発生し、低次モードのレーザビームを乱す。
型ガスレーザ発振器は、下記課題を有している。 （１）低次モードのレーザビームを得るためにアパーチ
ャを挿入しなければならず、アパーチャによる回折光が
発生し、低次モードのレーザビームを乱す。
【００１０】（２）アパーチャの挿入により発振効率が
低下する。 （３）発振中に任意のモードを持つレーザビームを得る
ことができない。 本発明は上記課題を解決するもので、アパーチャ挿入に
よる回折光による雑光なしに低次モードレーザビーム得
ることを第１の目的とする。
低下する。 （３）発振中に任意のモードを持つレーザビームを得る
ことができない。 本発明は上記課題を解決するもので、アパーチャ挿入に
よる回折光による雑光なしに低次モードレーザビーム得
ることを第１の目的とする。
【００１１】本発明の第２の目的は、発振効率を向上さ
せることである。本発明の第３の目的は、注入電力増
大、すなわち出力を増大させることである。
せることである。本発明の第３の目的は、注入電力増
大、すなわち出力を増大させることである。
【００１２】本発明の第４の目的は、任意のモードをも
つ出力ビームを供給することである。さらに、本発明の
第５の目的は、円形の低次モードのレーザビームを得る
ことにある。
つ出力ビームを供給することである。さらに、本発明の
第５の目的は、円形の低次モードのレーザビームを得る
ことにある。
【００１３】そして、本発明の第６の目的は、レーザガ
ス循環系の混合比を一定に保ち、安定した発振効率を得
ることである。
ス循環系の混合比を一定に保ち、安定した発振効率を得
ることである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るために本発明の軸流型ガスレーザ発振器は、励起媒質
であるレーザガスと、前記レーザガスの流れを制限する
放電管と、前記放電管内に前記レーザガスを供給する手
段と、前記放電管内の前記レーザガスにエネルギーを供
給して前記レーザガスを励起するエネルギー供給手段
と、励起された前記レーザガスにより発生するレーザビ
ームを放電管の両端に設けた出力鏡と終段鏡の間で多重
帰還増幅させる光共振器とを備え、前記レーザビームを
発生させる励起区域の下流にレーザビームを吸収するガ
スを供給する第１のガス供給手段を備えた構成とする。
るために本発明の軸流型ガスレーザ発振器は、励起媒質
であるレーザガスと、前記レーザガスの流れを制限する
放電管と、前記放電管内に前記レーザガスを供給する手
段と、前記放電管内の前記レーザガスにエネルギーを供
給して前記レーザガスを励起するエネルギー供給手段
と、励起された前記レーザガスにより発生するレーザビ
ームを放電管の両端に設けた出力鏡と終段鏡の間で多重
帰還増幅させる光共振器とを備え、前記レーザビームを
発生させる励起区域の下流にレーザビームを吸収するガ
スを供給する第１のガス供給手段を備えた構成とする。
【００１５】上記本発明の第２の目的を達成するため
に、励起媒質であるレーザガスと、前記レーザガスの流
れを制限する放電管と、前記放電管内に前記レーザガス
を供給する手段と、前記放電管内の前記レーザガスにエ
ネルギーを供給して前記レーザガスを励起するエネルギ
ー供給手段と、励起された前記レーザガスにより発生す
るレーザビームを放電管の両端に設けた出力鏡と終段鏡
の間で多重帰還増幅させる光共振器とを備え、前記レー
ザビームを発生させる励起区域の上流にレーザガス循環
系と異なる混合比のレーザガスを供給する第２のガス供
給手段を備えた構成とする。
に、励起媒質であるレーザガスと、前記レーザガスの流
れを制限する放電管と、前記放電管内に前記レーザガス
を供給する手段と、前記放電管内の前記レーザガスにエ
ネルギーを供給して前記レーザガスを励起するエネルギ
ー供給手段と、励起された前記レーザガスにより発生す
るレーザビームを放電管の両端に設けた出力鏡と終段鏡
の間で多重帰還増幅させる光共振器とを備え、前記レー
ザビームを発生させる励起区域の上流にレーザガス循環
系と異なる混合比のレーザガスを供給する第２のガス供
給手段を備えた構成とする。
【００１６】上記本発明の第３の目的を達成するため
に、前記第２の目的達成手段におけるレーザビームを発
生させる励起区域の上流に供給されるレーザガス循環系
と異なる混合比のレーザガスを構成する各々のレーザガ
スのうち、少なくとも一種類のレーザガスを亜音速、あ
るいは音速で供給する第３のガス供給手段を備えた構成
とする。
に、前記第２の目的達成手段におけるレーザビームを発
生させる励起区域の上流に供給されるレーザガス循環系
と異なる混合比のレーザガスを構成する各々のレーザガ
スのうち、少なくとも一種類のレーザガスを亜音速、あ
るいは音速で供給する第３のガス供給手段を備えた構成
とする。
【００１７】上記本発明の第４の目的を達成するため
に、励起媒質であるレーザガスと、前記レーザガスの流
れを制限する放電管と、前記放電管内に前記レーザガス
を供給する手段と、前記放電管内の前記レーザガスにエ
ネルギーを供給して前記レーザガスを励起するエネルギ
ー供給手段と、励起された前記レーザガスにより発生す
るレーザビームを放電管の両端に設けた出力鏡と終段鏡
の間で多重帰還増幅させる光共振器とを備え、レーザビ
ームを発生させる複数の励起区域の上流毎にレーザガス
循環系と異なる混合比のレーザガスを供給する複数の第
２のガス供給手段と、各励起区域の励起を各々に制御す
る制御手段を備えた構成とする。
に、励起媒質であるレーザガスと、前記レーザガスの流
れを制限する放電管と、前記放電管内に前記レーザガス
を供給する手段と、前記放電管内の前記レーザガスにエ
ネルギーを供給して前記レーザガスを励起するエネルギ
ー供給手段と、励起された前記レーザガスにより発生す
るレーザビームを放電管の両端に設けた出力鏡と終段鏡
の間で多重帰還増幅させる光共振器とを備え、レーザビ
ームを発生させる複数の励起区域の上流毎にレーザガス
循環系と異なる混合比のレーザガスを供給する複数の第
２のガス供給手段と、各励起区域の励起を各々に制御す
る制御手段を備えた構成とする。
【００１８】上記本発明の第５の目的を達成するため
に、第１の目的達成手段における第１のガス供給手段
が、光軸に対して点対称に備えられた構成とする。上記
本発明の第６の目的を達成するために、前記各目的達成
手段におけるレーザガス循環系のレーザガスの混合比を
一定に保つようにガスを供給する第４のガス供給手段を
備えた構成とする。
に、第１の目的達成手段における第１のガス供給手段
が、光軸に対して点対称に備えられた構成とする。上記
本発明の第６の目的を達成するために、前記各目的達成
手段におけるレーザガス循環系のレーザガスの混合比を
一定に保つようにガスを供給する第４のガス供給手段を
備えた構成とする。
【００１９】
【作用】上記第１の目的達成手段の軸流型ガスレーザ発
振器を採用すれば、励起区域直後に供給されるレーザビ
ームを吸収するガスが、放電管壁付近に沿って下流に流
れることによって、放電管壁付近でのゲインが低下し、
相対的に放電管中心近傍、すなわち光軸近傍でのゲイン
が高くなり、低次モードレーザビームを取り出すことが
できる。
振器を採用すれば、励起区域直後に供給されるレーザビ
ームを吸収するガスが、放電管壁付近に沿って下流に流
れることによって、放電管壁付近でのゲインが低下し、
相対的に放電管中心近傍、すなわち光軸近傍でのゲイン
が高くなり、低次モードレーザビームを取り出すことが
できる。
【００２０】上記第２の目的達成手段の軸流型ガスレー
ザ発振器を採用すれば、励起区域上流から励起区域内に
レーザガス循環系と異なる混合比のレーザガスを局所的
に供給できるので、放電に適する混合比のレーザガスを
放電管壁付近に供給して発振効率を向上させることがで
きる。
ザ発振器を採用すれば、励起区域上流から励起区域内に
レーザガス循環系と異なる混合比のレーザガスを局所的
に供給できるので、放電に適する混合比のレーザガスを
放電管壁付近に供給して発振効率を向上させることがで
きる。
【００２１】上記第３の目的達成手段の軸流型ガスレー
ザ発振器を採用すれば、励起区域上流から励起区域内に
レーザガス循環系と異なる混合比のレーザガスを亜音
速、あるいは音速で供給することにより、励起区域内で
励起されるレーザガスが衝撃波により攪はんされ、レー
ザガスに対する冷却効果が向上して熱飽和を緩和するこ
とができ、注入電力、すなわち出力を増大させることが
できる。
ザ発振器を採用すれば、励起区域上流から励起区域内に
レーザガス循環系と異なる混合比のレーザガスを亜音
速、あるいは音速で供給することにより、励起区域内で
励起されるレーザガスが衝撃波により攪はんされ、レー
ザガスに対する冷却効果が向上して熱飽和を緩和するこ
とができ、注入電力、すなわち出力を増大させることが
できる。
【００２２】上記第４の目的達成手段の軸流型ガスレー
ザ発振器を採用すれば、励起区域の上流毎にレーザガス
循環系と異なる混合比のレーザガスを供給し、前記放電
区域毎の励起を各々制御することにより、任意のゲイン
分布が得られ、任意のモードを持つ出力ビームが得られ
る。
ザ発振器を採用すれば、励起区域の上流毎にレーザガス
循環系と異なる混合比のレーザガスを供給し、前記放電
区域毎の励起を各々制御することにより、任意のゲイン
分布が得られ、任意のモードを持つ出力ビームが得られ
る。
【００２３】上記第５の目的達成手段の軸流型ガスレー
ザ発振器を採用すれば、光軸に対して点対象に上記第１
のガスを供給することにより、円形の低次モードレーザ
ビームが得られる。
ザ発振器を採用すれば、光軸に対して点対象に上記第１
のガスを供給することにより、円形の低次モードレーザ
ビームが得られる。
【００２４】上記第６の目的達成手段の軸流型ガスレー
ザ発振器を採用すれば、レーザガス循環系のレーザガス
混合比変化をなくするようにガスを供給することによ
り、レーザガス循環系のレーザガス混合比が一定に保た
れ、安定した発振効率が得られる。
ザ発振器を採用すれば、レーザガス循環系のレーザガス
混合比変化をなくするようにガスを供給することによ
り、レーザガス循環系のレーザガス混合比が一定に保た
れ、安定した発振効率が得られる。
【００２５】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面を参照しながら
構成を説明する。なお、従来例と同一構成部分には同一
番号を付し、その説明を省略する。
構成を説明する。なお、従来例と同一構成部分には同一
番号を付し、その説明を省略する。
【００２６】（実施例１）図１、図２に本発明の第１の
実施例を示し、図１、図２、図３、図４を用いて説明す
る。図１は本発明の第１の実施例の軸流型ガスレーザ発
振器の構成概略図、図２は本発明の第１の実施例の軸流
型ガスレーザ発振器における励起区域下流側の概略構成
図、図３は本発明の第１の実施例の軸流型ガスレーザ発
振器のゲイン分布を示す図、図４は従来の軸流型ガスレ
ーザ発振器のゲイン分布を示す図である。
実施例を示し、図１、図２、図３、図４を用いて説明す
る。図１は本発明の第１の実施例の軸流型ガスレーザ発
振器の構成概略図、図２は本発明の第１の実施例の軸流
型ガスレーザ発振器における励起区域下流側の概略構成
図、図３は本発明の第１の実施例の軸流型ガスレーザ発
振器のゲイン分布を示す図、図４は従来の軸流型ガスレ
ーザ発振器のゲイン分布を示す図である。
【００２７】図１において構成要素として２は励起され
たレーザビームを多重帰還させる終段鏡、３は誘電体で
あってレーザガス流を制限する放電管、４はレーザガス
を励起するのに必要なエネルギーを供給する高周波電源
よりなるエネルギー供給装置、５はエネルギーを印加す
る電極であり、エネルギー供給装置４と電極５を用いて
エネルギー供給手段を形成している。これらの構成要素
は従来のものと同様である。
たレーザビームを多重帰還させる終段鏡、３は誘電体で
あってレーザガス流を制限する放電管、４はレーザガス
を励起するのに必要なエネルギーを供給する高周波電源
よりなるエネルギー供給装置、５はエネルギーを印加す
る電極であり、エネルギー供給装置４と電極５を用いて
エネルギー供給手段を形成している。これらの構成要素
は従来のものと同様である。
【００２８】本実施の特徴はレーザガス循環系１０の放
電区域内におけるレーザガス混合比を一定に保つガスを
供給する混合比適正化ガス供給系（第４のガス供給手
段）、９を設けたことと、レーザガスを吸収するガスを
供給する吸収ガス供給口１７を光軸に対して点対称に配
置したことと、混合比適正化ガス供給系９に供給するガ
スを混合するガス混合機２７を設けたことにある。なお
図２において、１１は放電管３や図示略のミラーを支持
するフランジ、１２はレーザガス循環系の真空漏れを防
止するＯリングである。
電区域内におけるレーザガス混合比を一定に保つガスを
供給する混合比適正化ガス供給系（第４のガス供給手
段）、９を設けたことと、レーザガスを吸収するガスを
供給する吸収ガス供給口１７を光軸に対して点対称に配
置したことと、混合比適正化ガス供給系９に供給するガ
スを混合するガス混合機２７を設けたことにある。なお
図２において、１１は放電管３や図示略のミラーを支持
するフランジ、１２はレーザガス循環系の真空漏れを防
止するＯリングである。
【００２９】本実施例において、ガス混合機２７により
レーザガス循環系１０の放電区域内でのレーザガス混合
比を一定に保つように混合比適正化ガス供給系９に供給
されるガスおよびレーザガス循環系１０より放電管３に
流入した励起媒質であるレーザガスは、エネルギー供給
装置４および電極５により定まる励起区域内に流入し、
励起される。レーザガスの熱飽和による発振効率低下お
よび出力低下を防止するために、高出力軸流型ガスレー
ザ発振器は、レーザガスを高速で循環させなければなら
ないため放電管壁付近におけるゲインが高い。一方、高
速ガス流によって励起ガスが下流側に流れ込み、励起区
域外にもゲインを持つ。この励起区域外ゲイン部にレー
ザビームを吸収し易いガス、たとえば二酸化炭素を放電
管３に設けられた吸収ガス供給口１７より、光軸に対し
て点対称に放電管壁３に沿うように供給する。供給され
た吸収ガスは、励起区域より流出したゲインを持つ高速
ガス流により放電管３の壁面に沿って下流に流され、や
がて拡散する。その間にレーザビームの一部を光軸に対
して点対称に吸収する。
レーザガス循環系１０の放電区域内でのレーザガス混合
比を一定に保つように混合比適正化ガス供給系９に供給
されるガスおよびレーザガス循環系１０より放電管３に
流入した励起媒質であるレーザガスは、エネルギー供給
装置４および電極５により定まる励起区域内に流入し、
励起される。レーザガスの熱飽和による発振効率低下お
よび出力低下を防止するために、高出力軸流型ガスレー
ザ発振器は、レーザガスを高速で循環させなければなら
ないため放電管壁付近におけるゲインが高い。一方、高
速ガス流によって励起ガスが下流側に流れ込み、励起区
域外にもゲインを持つ。この励起区域外ゲイン部にレー
ザビームを吸収し易いガス、たとえば二酸化炭素を放電
管３に設けられた吸収ガス供給口１７より、光軸に対し
て点対称に放電管壁３に沿うように供給する。供給され
た吸収ガスは、励起区域より流出したゲインを持つ高速
ガス流により放電管３の壁面に沿って下流に流され、や
がて拡散する。その間にレーザビームの一部を光軸に対
して点対称に吸収する。
【００３０】本実施例のような軸流型ガスレーザ発振器
を採用すれば、アパーチャを挿入することなく、図３に
示すように放電管壁付近でのゲインを光軸に対して点対
称に低下させ、相対的に放電管中心近傍におけるゲイン
を増加させることができる。このような、放電管中心近
傍、すなわち、光軸近傍でのゲインが高く、光軸から離
れるほどゲインが低くなるゲイン分布を得ることによ
り、アパーチャ挿入による回折光の影響なく、円形の低
次モード出力ビームを取り出すことができる。なお、図
４は本実施例に対比するための従来の放電管における管
壁部のゲイン分布図である。
を採用すれば、アパーチャを挿入することなく、図３に
示すように放電管壁付近でのゲインを光軸に対して点対
称に低下させ、相対的に放電管中心近傍におけるゲイン
を増加させることができる。このような、放電管中心近
傍、すなわち、光軸近傍でのゲインが高く、光軸から離
れるほどゲインが低くなるゲイン分布を得ることによ
り、アパーチャ挿入による回折光の影響なく、円形の低
次モード出力ビームを取り出すことができる。なお、図
４は本実施例に対比するための従来の放電管における管
壁部のゲイン分布図である。
【００３１】なお、本実施例では吸収ガス供給量および
供給口径を可変としなかったが、吸収ガス供給量および
供給口径を可変とすることにより、任意のモードを有す
る出力ビームを得ることが可能であり、加工に最適な出
力ビームを、出力ビームを得ながら得ることができ、生
産性向上を達成できる。
供給口径を可変としなかったが、吸収ガス供給量および
供給口径を可変とすることにより、任意のモードを有す
る出力ビームを得ることが可能であり、加工に最適な出
力ビームを、出力ビームを得ながら得ることができ、生
産性向上を達成できる。
【００３２】（実施例２）図５に本発明の第２実施例を
示し、図５を用いて説明する。図５は本発明の第２の実
施例における軸流型ガスレーザ発振器の励起区域上流側
構成概略図である。この実施例では光軸に対して鋭角に
備えられた下流側レーザガス供給口１５を設け、レーザ
ガス循環光と異なる混合比のレーザガスを供給してい
る。また光軸に対して鋭角に備えられた上流側レーザガ
ス供給口１６を設け、レーザガス循環系と異なる混合比
のレーザガスを供給している。そして下流側レーザガス
供給口１５と、上流側レーザガス供給口１６とで第２の
ガス供給手段を構成している。
示し、図５を用いて説明する。図５は本発明の第２の実
施例における軸流型ガスレーザ発振器の励起区域上流側
構成概略図である。この実施例では光軸に対して鋭角に
備えられた下流側レーザガス供給口１５を設け、レーザ
ガス循環光と異なる混合比のレーザガスを供給してい
る。また光軸に対して鋭角に備えられた上流側レーザガ
ス供給口１６を設け、レーザガス循環系と異なる混合比
のレーザガスを供給している。そして下流側レーザガス
供給口１５と、上流側レーザガス供給口１６とで第２の
ガス供給手段を構成している。
【００３３】本実施例において、レーザガス循環系１０
より放電管３に流入する励起媒質であるレーザガスに下
流側レーザガス供給口１５および上流側レーザガス供給
口１６よりレーザガス循環系と異なる混合比のレーザガ
スを供給する。下流側のレーザガス供給口１５は、励起
に適するレーザガス、たとえば窒素を多く含むガスが励
起区域内の放電管壁付近に沿って下流に流れるように光
軸に対して鋭角に備えられ、前記ガスが供給される（壁
側ガス供給手段）。一方上流側のレーザガス供給口１６
は高出力に適するレーザガス、たとえば二酸化炭素を多
く含むガスが放電管中心近傍、すなわち光軸近傍に流れ
込むように光軸に対して鋭角に備えられ、前記レーザガ
スが供給される（中心側ガス供給手段）。
より放電管３に流入する励起媒質であるレーザガスに下
流側レーザガス供給口１５および上流側レーザガス供給
口１６よりレーザガス循環系と異なる混合比のレーザガ
スを供給する。下流側のレーザガス供給口１５は、励起
に適するレーザガス、たとえば窒素を多く含むガスが励
起区域内の放電管壁付近に沿って下流に流れるように光
軸に対して鋭角に備えられ、前記ガスが供給される（壁
側ガス供給手段）。一方上流側のレーザガス供給口１６
は高出力に適するレーザガス、たとえば二酸化炭素を多
く含むガスが放電管中心近傍、すなわち光軸近傍に流れ
込むように光軸に対して鋭角に備えられ、前記レーザガ
スが供給される（中心側ガス供給手段）。
【００３４】たとえば高周波励起の高速軸流型炭酸ガス
レーザ発振器の場合を例にとると、レーザガスとして
は、出力を得るための二酸化炭素、二酸化炭素を効率良
く上位準位にする窒素、二酸化炭素を効率良く下位準位
にするヘリウムの混合ガスがレーザガスとして用いられ
ている。そのレーザガスを励起するためのエネルギーを
印加する電極により定まる放電管内の励起区域の放電管
壁付近は、上記の電極によるエネルギー注入量が大き
い。したがって、この部位に励起に適する混合比を持つ
レーザガス、たとえば窒素を多く含むレーザガスを放電
管壁に沿って流れるように、光軸に対して鋭角に、かつ
局所的に供給することにより、窒素が効率良く励起され
る。そして、上記の励起に適するレーザガスは高速ガス
流下で供給されるので急速に拡散され、励起された窒素
も拡散される。この拡散された窒素によっても二酸化炭
素が励起され、レーザビームが効率良く発生する。一
方、上流側のレーザガス供給口１６に供給される高出力
に適するレーザガス、たとえば二酸化炭素を多く含むレ
ーザガスを光軸に対して鋭角に供給することにより、励
起区域内の光軸近傍に供給できる。このため、光軸近傍
での出力が向上し、低次モード出力ビームが得られる。
レーザ発振器の場合を例にとると、レーザガスとして
は、出力を得るための二酸化炭素、二酸化炭素を効率良
く上位準位にする窒素、二酸化炭素を効率良く下位準位
にするヘリウムの混合ガスがレーザガスとして用いられ
ている。そのレーザガスを励起するためのエネルギーを
印加する電極により定まる放電管内の励起区域の放電管
壁付近は、上記の電極によるエネルギー注入量が大き
い。したがって、この部位に励起に適する混合比を持つ
レーザガス、たとえば窒素を多く含むレーザガスを放電
管壁に沿って流れるように、光軸に対して鋭角に、かつ
局所的に供給することにより、窒素が効率良く励起され
る。そして、上記の励起に適するレーザガスは高速ガス
流下で供給されるので急速に拡散され、励起された窒素
も拡散される。この拡散された窒素によっても二酸化炭
素が励起され、レーザビームが効率良く発生する。一
方、上流側のレーザガス供給口１６に供給される高出力
に適するレーザガス、たとえば二酸化炭素を多く含むレ
ーザガスを光軸に対して鋭角に供給することにより、励
起区域内の光軸近傍に供給できる。このため、光軸近傍
での出力が向上し、低次モード出力ビームが得られる。
【００３５】上記のような軸流型ガスレーザ発振器を採
用すれば、効率良く窒素を励起でき、したがって、効率
良く二酸化炭素を励起でき、したがって発振効率が向上
し、かつ光軸近傍の出力が向上して、低次モード出力ビ
ームを取り出すことができる。
用すれば、効率良く窒素を励起でき、したがって、効率
良く二酸化炭素を励起でき、したがって発振効率が向上
し、かつ光軸近傍の出力が向上して、低次モード出力ビ
ームを取り出すことができる。
【００３６】（実施例３）本発明の第３の実施例を図６
に示し、図６を用いて説明する。図６は本発明の第３の
実施例における放電区域上流側の概略構成図である。こ
の実施例では放電管３を保持するホルダ１３と上流側レ
ーザガス供給ホルダ１８と、下流側レーザガス供給ホル
ダ１９とを備え、上流側レーザガス供給ホルダ１８にジ
ェットガス供給口２８を設けた構成としている。前記ジ
ェットガス供給口２８はたとえばジェットノズルであ
り、亜音速、あるいは音速でレーザガスを供給できる
（第３のガス供給手段）。またその設置角度は光軸に対
して鋭角で、光軸に対して点対称に設置されている。
に示し、図６を用いて説明する。図６は本発明の第３の
実施例における放電区域上流側の概略構成図である。こ
の実施例では放電管３を保持するホルダ１３と上流側レ
ーザガス供給ホルダ１８と、下流側レーザガス供給ホル
ダ１９とを備え、上流側レーザガス供給ホルダ１８にジ
ェットガス供給口２８を設けた構成としている。前記ジ
ェットガス供給口２８はたとえばジェットノズルであ
り、亜音速、あるいは音速でレーザガスを供給できる
（第３のガス供給手段）。またその設置角度は光軸に対
して鋭角で、光軸に対して点対称に設置されている。
【００３７】本実施例のような軸流型ガスレーザ発振器
を採用すると、亜音速、あるいは音速で供給されるレー
ザガスの衝撃波により励起区域内のレーザガスが攪はん
され、また、ガス流が加速されるので、レーザガスの熱
飽和が発生しにくくなり、発振効率および出力が増大す
る。
を採用すると、亜音速、あるいは音速で供給されるレー
ザガスの衝撃波により励起区域内のレーザガスが攪はん
され、また、ガス流が加速されるので、レーザガスの熱
飽和が発生しにくくなり、発振効率および出力が増大す
る。
【００３８】（実施例４）図７に本発明の第４の実施例
を示し、図７を用いて説明する。図７（ａ）は本発明の
第５の実施例における軸流型ガスレーザ発振器の励起区
域上流側の構成概略図、図７（ｂ）は第５の実施例にお
ける上流側放電管断面での放電状態を示す図、図７
（ｃ）は本発明の第５の実施例における下流側放電管断
面での放電状態を示す図である。構成要素として２０は
放電管断面、２１は上流側励起区域、２２は下流側励起
区域、２３は上流側励起区域内放電管断面での放電状
態、２４は上流側励起区域内放電管断面での放電状態、
２５は励起エネルギーを発生、供給する手段であるマグ
ネトロンおよび導波管である。
を示し、図７を用いて説明する。図７（ａ）は本発明の
第５の実施例における軸流型ガスレーザ発振器の励起区
域上流側の構成概略図、図７（ｂ）は第５の実施例にお
ける上流側放電管断面での放電状態を示す図、図７
（ｃ）は本発明の第５の実施例における下流側放電管断
面での放電状態を示す図である。構成要素として２０は
放電管断面、２１は上流側励起区域、２２は下流側励起
区域、２３は上流側励起区域内放電管断面での放電状
態、２４は上流側励起区域内放電管断面での放電状態、
２５は励起エネルギーを発生、供給する手段であるマグ
ネトロンおよび導波管である。
【００３９】本実施例において、レーザガス循環系１０
より放電管３に流入する励起媒質であるレーザガスに下
流側レーザガス供給口１５および上流側レーザガス供給
口１６よりレーザガス循環系と異なる混合比のレーザガ
スを供給する。下流側のレーザガス供給口１５には励起
に適するレーザガス、たとえば窒素を多く含むガスが励
起区域内の放電管壁付近に沿って下流に流れるように供
給する。前記ガスが拡散しないうちに通過する区間に上
流側励起区域２１を設ける。一方上流側のレーザガス供
給口１６には高出力に適するレーザガス、たとえば二酸
化炭素を多く含むガスが放電管中心近傍、すなわち光軸
近傍に流れ込むように供給する。前記ガスが多く流れる
区間に下流側励起区域を設ける。
より放電管３に流入する励起媒質であるレーザガスに下
流側レーザガス供給口１５および上流側レーザガス供給
口１６よりレーザガス循環系と異なる混合比のレーザガ
スを供給する。下流側のレーザガス供給口１５には励起
に適するレーザガス、たとえば窒素を多く含むガスが励
起区域内の放電管壁付近に沿って下流に流れるように供
給する。前記ガスが拡散しないうちに通過する区間に上
流側励起区域２１を設ける。一方上流側のレーザガス供
給口１６には高出力に適するレーザガス、たとえば二酸
化炭素を多く含むガスが放電管中心近傍、すなわち光軸
近傍に流れ込むように供給する。前記ガスが多く流れる
区間に下流側励起区域を設ける。
【００４０】たとえばマイクロ波励起の高速軸流型炭素
ガスレーザ発振器の場合を例にとると、レーザガスとし
ては、出力を得るための二酸化炭素、二酸化炭素を効率
良く上位準位にする窒素、二酸化炭素を効率良く下位準
位にするヘリウムの混合ガスがレーザガスとして用いら
れている。そのレーザガスを励起するためのエネルギー
を注入する図示略の導波管により定まる放電管内の上流
側励起区域２１の放電管壁付近に、上記の励起に適する
混合比を持つレーザガス、たとえば窒素を多く含むレー
ザガスを上流側レーザガス供給口１６より少量供給す
る。その場合の放電管断面での励起分布２３が環状とな
るように図示略の導波管を調整する。そして、上記の励
起に適するレーザガスは高速ガス流下で供給されるので
急速に拡散され、励起されたレーザガスが拡散され、下
流側励起区域に流れ込み、下流側励起区域内でのレーザ
ガスの励起を助ける。一方、下流側レーザガス供給口１
５に供給される高出力に適するレーザガス、たとえば二
酸化炭素を多く含むレーザガスを図示略の導波管により
定まる下流側励起区域２２に供給する。その場合の放電
管断面での励起分布が光軸付近が高くなるように図示略
の導波管を調整する。
ガスレーザ発振器の場合を例にとると、レーザガスとし
ては、出力を得るための二酸化炭素、二酸化炭素を効率
良く上位準位にする窒素、二酸化炭素を効率良く下位準
位にするヘリウムの混合ガスがレーザガスとして用いら
れている。そのレーザガスを励起するためのエネルギー
を注入する図示略の導波管により定まる放電管内の上流
側励起区域２１の放電管壁付近に、上記の励起に適する
混合比を持つレーザガス、たとえば窒素を多く含むレー
ザガスを上流側レーザガス供給口１６より少量供給す
る。その場合の放電管断面での励起分布２３が環状とな
るように図示略の導波管を調整する。そして、上記の励
起に適するレーザガスは高速ガス流下で供給されるので
急速に拡散され、励起されたレーザガスが拡散され、下
流側励起区域に流れ込み、下流側励起区域内でのレーザ
ガスの励起を助ける。一方、下流側レーザガス供給口１
５に供給される高出力に適するレーザガス、たとえば二
酸化炭素を多く含むレーザガスを図示略の導波管により
定まる下流側励起区域２２に供給する。その場合の放電
管断面での励起分布が光軸付近が高くなるように図示略
の導波管を調整する。
【００４１】上記のような軸流型ガスレーザ発振器を採
用すれば、効率良く窒素を励起でき従って、効率良く二
酸化炭素を励起でき、したがって発振効率が向上し、か
つ任意のゲイン分布が得られるので、任意の出力のビー
ムモードが得られる。
用すれば、効率良く窒素を励起でき従って、効率良く二
酸化炭素を励起でき、したがって発振効率が向上し、か
つ任意のゲイン分布が得られるので、任意の出力のビー
ムモードが得られる。
【００４２】
【発明の効果】以上の実施例の説明から明らかなように
本発明によれば、放電管における励起区域下流側にレー
ザビームを吸収するガスを供給することにより、アパー
チャを挿入することなく、したがってアパーチャによる
回折光の発生なく、低次モード出力ビームを得ることが
できる。
本発明によれば、放電管における励起区域下流側にレー
ザビームを吸収するガスを供給することにより、アパー
チャを挿入することなく、したがってアパーチャによる
回折光の発生なく、低次モード出力ビームを得ることが
できる。
【００４３】一方、レーザガス循環系と異なる混合比の
レーザガスを励起区域上流に供給することにより、発振
効率が向上させることができる。さらに、レーザガス循
環系と異なる混合比のレーザガスを励起区域上流に亜音
速、あるい音速で供給することにより、レーザガスが攪
はんされ、注入電力が増大し、出力を増大させることが
できる。
レーザガスを励起区域上流に供給することにより、発振
効率が向上させることができる。さらに、レーザガス循
環系と異なる混合比のレーザガスを励起区域上流に亜音
速、あるい音速で供給することにより、レーザガスが攪
はんされ、注入電力が増大し、出力を増大させることが
できる。
【００４４】そして、レーザガス循環系と異なる混合比
のレーザガスを励起区域上流に供給し、各励起区域の励
起を制御することにより、任意のモードをもつ出力ビー
ケを得ることができる。
のレーザガスを励起区域上流に供給し、各励起区域の励
起を制御することにより、任意のモードをもつ出力ビー
ケを得ることができる。
【００４５】また、励起区域下流側にレーザビームを吸
収するガスを、光軸に対して点対称に供給することによ
り、円形の出力ビームが得られる。さらに、レーザガス
循環系の放電区域内でのレーザガスの混合比を一定に保
つようなガスを供給することにより、安定した発振効率
を得ることができる。
収するガスを、光軸に対して点対称に供給することによ
り、円形の出力ビームが得られる。さらに、レーザガス
循環系の放電区域内でのレーザガスの混合比を一定に保
つようなガスを供給することにより、安定した発振効率
を得ることができる。
【図１】本発明の第１の実施例の軸流型ガスレーザ発振
器の概略構成図
器の概略構成図
【図２】同軸流型ガスレーザ発振器における励起区域下
流側の概略構成図
流側の概略構成図
【図３】同軸流型ガスレーザ発振器のゲイン分布図
【図４】従来の軸流型ガスレーザ発振器のゲイン分布図
【図５】本発明の第２の実施例の軸流型ガスレーザ発振
器における励起区域下流側の概略構成図
器における励起区域下流側の概略構成図
【図６】本発明の第３の実施例の軸流型ガスレーザ発振
器における励起区域下流側の概略構成図
器における励起区域下流側の概略構成図
【図７】（ａ）は本発明の第４の実施例の軸流型ガスレ
ーザ発振器における励起区域の概略構成図 （ｂ）は同軸流型ガスレーザ発振器における上流側放電
管断面での放電状態を示す図 （ｃ）は同軸流型ガスレーザ発振器における下流側放電
管断面での放電状態を示す図
ーザ発振器における励起区域の概略構成図 （ｂ）は同軸流型ガスレーザ発振器における上流側放電
管断面での放電状態を示す図 （ｃ）は同軸流型ガスレーザ発振器における下流側放電
管断面での放電状態を示す図
【図８】従来の軸流型ガスレーザ発振器の概略構成図
１ 出力鏡 ２ 終段鏡 ３ 放電管 ４ エネルギー供給装置（高周波電源） ５ 電極 ９ 混合比適正化ガス供給系（第４のガス供給手段） １０ レーザガス循環系 １４ 吸収ガス供給部（第１のガス供給手段） １５ 下流側レーザガス供給口（壁側ガス供給手段）
（第２のガス供給手段） １６ 上流側レーザガス供給口（中心側ガス供給手段）
（第２のガス供給手段） １７ 吸収ガス供給口（第１のガス供給手段） ２１ 上流側励起区域 ２２ 下流側励起区域 ２５ マグネトロン ２６ 新鮮ガス供給系 ２７ ガス混合機 ２８ ジェットガス供給口（第３のガス供給手段）
（第２のガス供給手段） １６ 上流側レーザガス供給口（中心側ガス供給手段）
（第２のガス供給手段） １７ 吸収ガス供給口（第１のガス供給手段） ２１ 上流側励起区域 ２２ 下流側励起区域 ２５ マグネトロン ２６ 新鮮ガス供給系 ２７ ガス混合機 ２８ ジェットガス供給口（第３のガス供給手段）
Claims (8)
- 【請求項１】 励起媒質であるレーザガスと、前記レー
ザガスの流れを制限する放電管と、前記放電管内に前記
レーザガスを供給する手段と、前記放電管内の前記レー
ザガスにエネルギーを供給して前記レーザガスを励起す
るエネルギー供給手段と、励起された前記レーザガスに
より発生するレーザビームを放電管の両端に設けた出力
鏡と終段鏡の間で多重帰還増幅させる光共振器とを備
え、前記レーザビームを発生させる励起区域の下流にレ
ーザビームを吸収するガスを供給する第１のガス供給手
段を備えた軸流型ガスレーザ発振器。 - 【請求項２】 励起媒質であるレーザガスと、前記レー
ザガスの流れを制限する放電管と、前記放電管内に前記
レーザガスを供給する手段と、前記放電管内の前記レー
ザガスにエネルギーを供給して前記レーザガスを励起す
るエネルギー供給手段と、励起された前記レーザガスに
より発生するレーザビームを放電管の両端に設けた出力
鏡と終段鏡の間で多重帰還増幅させる光共振器とを備
え、前記レーザビームを発生させる励起区域の上流にレ
ーザガス循環系と異なる混合比のレーザガスを供給する
第２のガス供給手段を備えた軸流型ガスレーザ発振器。 - 【請求項３】 レーザビームを発生させる励起区域の上
流に供給されるレーザガス循環系と異なる混合比のレー
ザガスを構成する各々のレーザガスのうち、少なくとも
一種類のレーザガスを、亜音速、または音速で供給する
第３のガス供給手段を備えた請求項２記載の軸流型ガス
レーザ発振器。 - 【請求項４】 励起媒質であるレーザガスと、前記レー
ザガスの流れを制限する放電管と、前記放電管内に前記
レーザガスを供給する手段と、前記放電管内の前記レー
ザガスにエネルギーを供給して前記レーザガスを励起す
るエネルギー供給手段と、励起された前記レーザガスに
より発生するレーザビームを放電管の両端に設けた出力
鏡と終段鏡の間で多重帰還増幅させる光共振器とを備
え、レーザビームを発生させる複数の励起区域の上流毎
にレーザガス循環系と異なる混合比のレーザガスを供給
する複数の第２のガス供給手段と、各励起区域の励起を
各々に制御する制御手段を備えた軸流型ガスレーザ発振
器。 - 【請求項５】 第２のガス供給手段が、励起に適する混
合比のレーザガスを放電管の壁面付近に供給する壁側ガ
ス供給手段と、ゲインを増大させるのに適する混合比の
レーザガスを前記放電管の中心近傍に供給する中心側ガ
ス供給手段との少なくとも一方を備えた請求項２記載の
軸流型ガスレーザ発振器。 - 【請求項６】 第１のガス供給手段が、光軸に対して点
対称に備えられた請求項１記載の軸流型ガスレーザ発振
器。 - 【請求項７】 第２のガス供給手段が、光軸に対して鋭
角に備えられた請求項２記載の軸流型ガスレーザ発振
器。 - 【請求項８】 励起媒質であるレーザガスと、前記レー
ザガスの流れを制限する放電管と、前記放電管内に前記
レーザガスを供給する手段と、前記放電管内の前記レー
ザガスにエネルギーを供給して前記レーザガスを励起す
るエネルギー供給手段と、励起された前記レーザガスに
より発生するレーザビームを放電管の両端に設けた出力
鏡と終段鏡の間で多重帰還増幅させる光共振器と、レー
ザガス循環系と異なる混合比のレーザガスを供給する手
段と、前記ガス供給に起因する放電区域内レーザガス混
合比変化をなくす混合比のレーザガスを供給する第４の
ガス供給手段を備えた軸流型ガスレーザ発振器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32942593A JPH07193301A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 軸流型ガスレーザ発振器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32942593A JPH07193301A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 軸流型ガスレーザ発振器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07193301A true JPH07193301A (ja) | 1995-07-28 |
Family
ID=18221251
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32942593A Pending JPH07193301A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 軸流型ガスレーザ発振器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07193301A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1039592A1 (fr) * | 1999-03-23 | 2000-09-27 | Cinema Magnetique Communication ( C.M.C.) | Procédé et dispositif pour l'excitation d'une décharge électrique à fréquence élevée dans un laser au gaz |
| EP3376288A1 (en) * | 2017-03-15 | 2018-09-19 | ASML Netherlands B.V. | Apparatus for delivering gas |
| WO2018166741A1 (en) * | 2017-03-15 | 2018-09-20 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus for delivering gas and illumination source for generating high harmonic radiation |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP32942593A patent/JPH07193301A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1039592A1 (fr) * | 1999-03-23 | 2000-09-27 | Cinema Magnetique Communication ( C.M.C.) | Procédé et dispositif pour l'excitation d'une décharge électrique à fréquence élevée dans un laser au gaz |
| EP3376288A1 (en) * | 2017-03-15 | 2018-09-19 | ASML Netherlands B.V. | Apparatus for delivering gas |
| WO2018166741A1 (en) * | 2017-03-15 | 2018-09-20 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus for delivering gas and illumination source for generating high harmonic radiation |
| US20180267411A1 (en) * | 2017-03-15 | 2018-09-20 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus For Delivering Gas and Illumination Source for Generating High Harmonic Radiation |
| KR20190125467A (ko) * | 2017-03-15 | 2019-11-06 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 가스를 전달하는 장치 및 고조파 방사선을 발생시키는 조명 소스 |
| CN110462521A (zh) * | 2017-03-15 | 2019-11-15 | Asml荷兰有限公司 | 用于输送气体的设备及用于产生高谐波辐射的照射源 |
| US10530111B2 (en) | 2017-03-15 | 2020-01-07 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus for delivering gas and illumination source for generating high harmonic radiation |
| US10630037B2 (en) | 2017-03-15 | 2020-04-21 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus for delivering gas and illumination source for generating high harmonic radiation |
| KR20210135002A (ko) * | 2017-03-15 | 2021-11-11 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 가스를 전달하는 장치 및 고조파 방사선을 발생시키는 조명 소스 |
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