JPH07191208A - Zone plate and its production - Google Patents

Zone plate and its production

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JPH07191208A
JPH07191208A JP33297193A JP33297193A JPH07191208A JP H07191208 A JPH07191208 A JP H07191208A JP 33297193 A JP33297193 A JP 33297193A JP 33297193 A JP33297193 A JP 33297193A JP H07191208 A JPH07191208 A JP H07191208A
Authority
JP
Japan
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zone
zone plate
substances
thickness
kinds
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP33297193A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiaki Horikawa
嘉明 堀川
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
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Publication of JPH07191208A publication Critical patent/JPH07191208A/en
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  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a zone plate with which the max. diffraction efficiency is obtd. by taking absorption and interference conditions (phase difference=2pi) into consideration and using a process for production suitable for the same. CONSTITUTION:This zone plate 1 is constituted by forming plural concentrie circular zones expressed by rn=(2nlambdaf)<1/2> (where n; natural number, lambda; wavelength, f; focal length) in zone radius rn of the n-th zone by two kinds of materials varying in refractive index. At this time, the respective zones are composed of two kinds of the materials varying in the refractive index and the mixing ratios of two kinds of these materials are so continuously changed as to attain {n-(r<2>/lambdaf)}: (r<2>/lambdaf-n+1) according to the radius (r).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、X線顕微鏡等に結像光
学系として利用されるゾーンプレートに関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a zone plate used as an image forming optical system in an X-ray microscope or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、結像光学系としてゾーンプレー
トを利用するのは特殊な用途に限定され、例えば、軟X
線領域の結像に用いられる。軟X線領域の電磁波(波長
1〜数十nm)に対するすべての物質の屈折率はほほ1
であるので、屈折光学系を用いることはできない。ま
た、軟X線領域では物質の反射率も低く、反射型の光学
系を用いることも難しい。よって、全反射を利用した斜
入射光学系が用いられるが、その場合でも収差が大きく
性能の良い光学系を実現するのは難しい。また、多層膜
を用いた直入射型の反射光学系を用いることもあるが、
波長が5nmよりも短くなると層厚が非常に薄くなって
製作が困難になることから、十分な反射率が得られる直
入射型の反射光学系は実現が難しい。
2. Description of the Related Art Generally, the use of a zone plate as an image forming optical system is limited to a special purpose.
It is used for imaging the line region. The refractive index of all materials for electromagnetic waves in the soft X-ray region (wavelength 1 to several tens of nm) is about 1
Therefore, the refractive optical system cannot be used. Further, the reflectance of the substance is low in the soft X-ray region, and it is difficult to use a reflection type optical system. Therefore, an oblique incidence optical system utilizing total reflection is used, but even in that case, it is difficult to realize an optical system with large aberration and good performance. In addition, a direct-incidence type reflective optical system using a multilayer film may be used,
If the wavelength is shorter than 5 nm, the layer thickness becomes very thin and it becomes difficult to manufacture. Therefore, it is difficult to realize a direct-incidence type catoptric system capable of obtaining a sufficient reflectance.

【0003】したがって、軟X線領域では、回折現象を
利用したゾーンプレート光学系を用いる場合が多く、図
10にその一例を示す。この場合、ゾーンプレート1
は、電磁波の透過ゾーン(図示白抜きの部分)と遮光ゾ
ーン(図示黒塗りの部分)とを合計n層(nは自然数)
同心円状に交互に形成して成り、振幅型として構成され
ている。各ゾーンの半径rn を規定するため、一般的に
近似的な次式が用いられている。 rn =√(nλf) (1) ここで、λは波長、fはゾーンプレートの焦点距離であ
る。
Therefore, in the soft X-ray region, a zone plate optical system utilizing the diffraction phenomenon is often used, and an example thereof is shown in FIG. In this case, the zone plate 1
Is a total of n layers (n is a natural number) of the electromagnetic wave transmission zone (the white portion in the drawing) and the light shielding zone (the black portion in the drawing).
It is formed by alternately forming concentric circles and is configured as an amplitude type. In order to define the radius r n of each zone, the following approximate equation is generally used. r n = √ (nλf) (1) where λ is the wavelength and f is the focal length of the zone plate.

【0004】この振幅型のゾーンプレートの回折効率
は、理論上、1/π2 =10%が最大であり、実際には
物質による吸収および製作誤差により、数%が得られる
に過ぎない。よって、遮光ゾーンの代わりに、電磁波の
位相をπ(半波長分)変化させるゾーンを用いて回折効
率を最大4/π2 =40%に向上させるようにした位相
差型のゾーンプレートが提案されているが、このゾーン
プレートにあっても、物質による吸収の影響のため、上
記最大の回折効率は得られていない。現在、ゾーンプレ
ートを顕微鏡の対物レンズとして用いた場合、解像力
0.03μmの高い値が実現されている。しかし、この
ような高解像力のゾーンプレー、このような高解像力の
ゾーンプレートの製作は非常に難しいので、十分な回折
効率が得られていない。これは、ゾーンプレートの解像
力が一番外側のゾーンプレートの線幅、すなわち最小線
幅で決定されることに起因する。
The theoretical maximum diffraction efficiency of this amplitude type zone plate is 1 / π 2 = 10%, and in actuality, only a few% can be obtained due to absorption by the substance and manufacturing error. Therefore, instead of the light-shielding zone, a phase difference type zone plate is proposed in which a zone for changing the phase of the electromagnetic wave by π (half wavelength) is used to improve the diffraction efficiency up to 4 / π 2 = 40%. However, even in this zone plate, the maximum diffraction efficiency is not obtained due to the effect of absorption by the substance. At present, when the zone plate is used as an objective lens of a microscope, a high resolution of 0.03 μm is realized. However, since it is very difficult to produce such a high resolution zone play and such a high resolution zone plate, sufficient diffraction efficiency has not been obtained. This is because the resolution of the zone plate is determined by the line width of the outermost zone plate, that is, the minimum line width.

【0005】以下、このことについて説明する。光学系
の解像力δは公知のように、波長λと光学系の開口数N
Aとで決まり、次式のように表わされる。 δ=0.61λ/NA (2) ゾーンプレートの開口数は、最外郭ゾーンの幅をwとす
ると、 NA=λ/2w (3) で決定される。したがって、(2)、(3)式より、ゾ
ーンプレート光学系の解像力δは、 δ=1.22w (4) で与えられる。よって、解像力は最外郭ゾーンの線幅で
決定され、波長には依存しない。ゾーンプレートのゾー
ン幅は中心から外方に向かって順次小さくなるので、最
外郭ゾーンの幅は、そのゾーンプレート中の最小線幅に
相当する。
This will be described below. As is well known, the resolution δ of the optical system is the wavelength λ and the numerical aperture N of the optical system.
It is determined by A and is expressed by the following equation. δ = 0.61λ / NA (2) The numerical aperture of the zone plate is determined by NA = λ / 2w (3) where w is the width of the outermost zone. Therefore, from the expressions (2) and (3), the resolving power δ of the zone plate optical system is given by δ = 1.22w (4). Therefore, the resolution is determined by the line width of the outermost zone and does not depend on the wavelength. Since the zone width of the zone plate gradually decreases from the center toward the outside, the width of the outermost zone corresponds to the minimum line width in the zone plate.

【0006】現在の技術水準において最高の0.03μ
mの解像力を有するゾーンプレートの最外郭のゾーン幅
は、(4)式より約0.025μmとなる。このような
微細な線幅に加工することは非常に難しく、電子ビーム
リソグラフィが用いられている。しかし、このように微
細な線幅の場合、実現できたとしてもアスペクトレシオ
はせいぜい8程度にしかならず、ゾーンプレートの厚さ
は最大でも0.2μmにしかならない。例えば、波長
2.4nmの領域で吸収の大きいTiを遮光ゾーンに用
いた場合、ゾーンプレートの厚さが0.2μmの場合に
は遮光量が十分ではなく、回折効率は6%程度しか得ら
れず、理論的に最大となる10%の回折効率を得るため
には0.4μmの厚さが必要となる。
0.03μ, which is the highest in the current state of the art
The outermost zone width of the zone plate having a resolving power of m is about 0.025 μm from the equation (4). It is very difficult to process such a fine line width, and electron beam lithography is used. However, in the case of such a fine line width, even if it can be realized, the aspect ratio is at most about 8, and the thickness of the zone plate is 0.2 μm at the maximum. For example, when Ti, which has large absorption in the wavelength region of 2.4 nm, is used for the light shielding zone, the light shielding amount is not sufficient when the thickness of the zone plate is 0.2 μm, and the diffraction efficiency is only about 6%. In order to obtain the theoretical maximum diffraction efficiency of 10%, the thickness of 0.4 μm is required.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ゾーンプレートを顕微
鏡に用いた場合、上述したように高い解像力を得ること
ができるが、回折効率が低いことや、電子ビームリソグ
ラフィにより製作されるゾーンプレートが十分な厚さを
得られないことにより、明るい光学系を構成することが
できない。また、遮光ゾーンの代わりに位相がπ(半波
長分)異なるゾーンを用いた従来の位相差型のゾーンプ
レートの場合、吸収による遮光の効果が生じるか否かは
ゾーンプレートの厚さに依存することになるが、その厚
さについては吸収を考慮した最適化が行われていなかっ
た。
When a zone plate is used in a microscope, a high resolution can be obtained as described above, but the diffraction efficiency is low and a zone plate manufactured by electron beam lithography is insufficient. Since the thickness cannot be obtained, a bright optical system cannot be constructed. Further, in the case of a conventional retardation type zone plate using a zone having a phase difference of π (half wavelength) instead of the light shielding zone, whether or not the light shielding effect due to absorption occurs depends on the thickness of the zone plate. However, the thickness was not optimized in consideration of absorption.

【0008】本発明は、上述した問題に鑑みてなされた
もので、各ゾーン中で位相を連続的に変化させることに
よりゾーンプレートの回折効率を大幅に向上させるとと
もに、吸収と干渉条件(位相差)とを考慮して、それに
適した製作方法により、高い回折効率が得られるゾーン
プレートを提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems. The diffraction efficiency of the zone plate is greatly improved by continuously changing the phase in each zone, and the absorption and interference conditions (phase difference) are increased. ), The zone plate which can obtain high diffraction efficiency by a manufacturing method suitable for it is aimed at.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この目的のため、本発明
のゾーンプレートは、請求項1に示すように、n番目の
ゾーンのゾーン半径rn が、rn =(2nλf)
1/2 (ただし、n;自然数、λ;波長、f;焦点距離)
で表わされる同心円状のゾーンを複数形成して成るゾー
ンプレートであって、前記各ゾーンが屈折率の異なる2
種類の物質で構成され、該2種類の物質の混合比率が半
径rに応じて連続的に変化するようにしたことを特徴と
し、前記混合比率は、請求項2に示すように、{n−
(r2 /λf)}:(r2 /λf−n+1)に応じて連
続的に変化するようにするのが好ましい。また、本発明
のゾーンプレートの製造方法は、請求項3に示すよう
に、屈折率の異なる2種類の物質の一方またはその他の
物質で構成される円柱状部材を回転し、該円柱状部材に
前記屈折率の異なる2種類の物質を、{n−(r2 /λ
f)}:(r2 /λf−n+1)(ただし、n;自然
数、r;半径、λ;波長、f;焦点距離)で規定される
混合比率で成膜してゾーンを形成し、複数のゾーンの形
成が完了した円柱状部材を軸に対し垂直方向に切断して
ゾーンプレートを製造することを特徴とする。
For this purpose, the zone plate of the present invention has the zone radius r n of the nth zone as r n = (2nλf)
1/2 (however, n: natural number, λ: wavelength, f: focal length)
And a zone plate formed by forming a plurality of concentric zones, each zone having a different refractive index.
It is composed of two kinds of substances, and the mixing ratio of the two kinds of substances is continuously changed according to the radius r, and the mixing ratio is {n-
(R 2 / λf)} preferably to continuously changes in accordance with :( r 2 / λf-n + 1). Further, according to the method for manufacturing a zone plate of the present invention, as described in claim 3, a cylindrical member made of one of the two kinds of substances having different refractive indexes or other substances is rotated to form the cylindrical member. The two types of substances having different refractive indices are {n- (r 2 / λ
f)}: (r 2 / λf−n + 1) (where n is a natural number, r is a radius, λ is a wavelength, f is a focal length), and a film is formed at a mixing ratio to form a zone. The zone plate is manufactured by cutting the columnar member in which the formation of the zone is completed in the direction perpendicular to the axis.

【0010】[0010]

【作用】反射型の位相回折格子としてブレーズドグレー
ティングが良く知られているが、本発明は透過型の回折
格子にこの原理を応用したものである。以下、本発明に
よるゾーンプレート(ブレーズドゾーンプレート)の回
折効率を計算する。周期2πの関数f(x)は、次式の
ようにフーリエ級数に展開することができる。
Although a blazed grating is well known as a reflection type phase diffraction grating, the present invention applies this principle to a transmission type diffraction grating. Hereinafter, the diffraction efficiency of the zone plate (blaze zone plate) according to the present invention will be calculated. The function f (x) having a period of 2π can be expanded into a Fourier series as in the following equation.

【数1】 [Equation 1]

【0011】したがって、振幅型の場合、π毎に0と1
とを繰り返す周期関数は0および1が各々、透過および
遮光に相当するので、次式
Therefore, in the case of the amplitude type, 0 and 1 are set for each π.
In the periodic function that repeats and, 0 and 1 correspond to transmission and shading, respectively.

【数2】 で表わされる(Nは整数)。ここで、x→πr2 /λf
の変数変換を考えると、各ゾーンの半径がrn =√(n
λf)のゾーンプレートとなる。ここで、0次の回折効
率は(1/2)2 =25%、1次光の回折効率は1/π
2 となり、良く知られた結果となる。
[Equation 2]Is represented by (N is an integer). Where x → πr2 / Λf
Considering the variable transformation of, the radius of each zone is rn= √ (n
It becomes a zone plate of λf). Where the 0th-order diffraction effect
The rate is (1/2)2 = 25%, the diffraction efficiency of the first-order light is 1 / π
2 And the well-known result.

【0012】一方、位相差型の場合を考える。π毎に1
と−1(=exp(−jπ))とを繰り返す周期関数
は、次式となる。
On the other hand, consider the case of the phase difference type. 1 for every π
And a periodic function that repeats −1 (= exp (−jπ)) is given by the following equation.

【数3】 したがって、0次光=0%、1次光=4/π2 =40.
5%となり、これも良く知られた結果となる。
[Equation 3] Therefore, 0th order light = 0%, 1st order light = 4 / π 2 = 40.
5%, which is also a well-known result.

【0013】ここで、図7に示すような各ゾーン内で2
π(波長分)変化するブレーズドグレーティングについ
て考察する。このブレーズドグレーティングのゾーン幅
は、上述した振幅型、位相差型の2つ分に相当し、ゾー
ンの境界の半径rn は、rn=√(2nλf)となる。
吸収は無いものとして考えると、次式
Here, 2 in each zone as shown in FIG.
Consider a blazed grating that changes by π (wavelength). The zone width of this blazed grating corresponds to the above-mentioned two of the amplitude type and the phase difference type, and the radius r n of the zone boundary is r n = √ (2nλf).
Considering that there is no absorption, the following equation

【数4】 が得られる。したがって、1次回折光の回折効率E1
は、 E1 =a1 cosx+b1 sinx=cosx−jsinx =exp(−jx) (9) となり、+1次に100%の回折が得られることが分か
る。
[Equation 4] Is obtained. Therefore, the diffraction efficiency E1 of the first-order diffracted light is
Is E 1 = a 1 cosx + b 1 sinx = cosx−jsinx = exp (−jx) (9), and it can be seen that 100% diffraction is obtained in the + 1st order.

【0014】しかし、実際には使用する2物質に吸収が
あり、軟X線領域では吸収が大きくなるので、使用する
物質の複素屈折率を考慮する必要がある。いま、図8に
示すような吸収および位相変化t(x)およびφ(x)
を有する透過型のブレーズドグレーティングを考え、ゾ
ーン内での位相変化を上記のようにするために物質1お
よび物質2を(x/2π):{1−(x/2π)}の比
率で混合することとする。すなわち、x→2πの変化に
したがって混合比率が0→1、あるいは1→0に変化す
るようにする。もっとも、必ずしも0→1に変化させる
必要は無く、例えば0→0.9、0.1→0.8等の変
化でもよいことは言うまでもない。また、2つの物質を
混合して不均質(GRINに相当する)にする代わり
に、単に厚さの比率で構成してもよい。
However, in reality, the two substances used have absorption, and the absorption becomes large in the soft X-ray region, so it is necessary to consider the complex refractive index of the substance used. Now, absorption and phase changes t (x) and φ (x) as shown in FIG.
Considering a transmissive blazed grating having the following, the substances 1 and 2 are mixed in a ratio of (x / 2π): {1- (x / 2π)} in order to make the phase change in the zone as described above. I decided to. That is, the mixing ratio is changed to 0 → 1 or 1 → 0 according to the change of x → 2π. Needless to say, it is not always necessary to change it from 0 to 1, but it is also possible to change it from 0 to 0.9, 0.1 to 0.8, or the like. Further, instead of mixing the two substances to make them inhomogeneous (corresponding to GRIN), they may be simply constituted by a thickness ratio.

【0015】ここで、物質1の屈折率をn1 −jk1
物質2の屈折率をn2 −jk2 として、ゾーンプレート
の厚さをdとすると、f(x)、t(x)、φ(x)
は、夫々、 f(x) =t(x) exp {−jφ(x) } (10) t(x) =exp { (k2 −k1 ) xd/λ}exp (−2πk2 d/λ)(11) φ(x)=(n1 −n2)xd/λ+2πn2 d/λ (12) (ただし、n1 、k1 、n2 、k2 は、夫々の物質の屈
折率の実部および虚部)と表わすことができる。
Here, the refractive index of the substance 1 is n 1 −jk 1 ,
Assuming that the refractive index of the substance 2 is n 2 −jk 2 and the thickness of the zone plate is d, f (x), t (x), φ (x)
F (x) = t (x) exp {−jφ (x)} (10) t (x) = exp {(k 2 −k 1 ) xd / λ} exp (−2πk 2 d / λ) ) (11) φ (x) = (n 1 −n 2 ) xd / λ + 2πn 2 d / λ (12) (where n 1 , k 1 , n 2 and k 2 are the actual refractive indices of the respective substances). Part and imaginary part).

【0016】ここで、 C=exp (−2πk2 d/λ)exp (−j2πn2 d/λ) (13) と置けば、Here, if C = exp (-2πk 2 d / λ) exp (-j2πn 2 d / λ) (13), then

【数5】 [Equation 5]

【0017】[0017]

【数6】 が得られる。[Equation 6] Is obtained.

【0018】一次回折光は、 a1 cosx+b1 sinx ={(a1 /2)+(b1 /2)j}exp(jx) +{(a1 /2)−(b1 /2)j}exp(−jx) (16) であるから+1次の回折光の回折効率は次式で得られ
る。 E1 =|(a1 /2)−(b1 /2)j|2 (17) したがって、ゾーンプレートの厚さdは、この値E1
最大になるように決定するのがよい。そして、この値
は、吸収が無い場合の干渉条件2π(1波長分)より求
められる厚さと比較すると僅かに小さくなり、その厚さ
の約0.6〜0.9倍程度にするとよい。なお、上式に
おいてx→2πr2 /λfの変換でゾーンプレートが表
わされていることになるのは通常のゾーンプレートと同
一である。
The first-order diffracted light, = a 1 cosx + b 1 sinx {(a 1/2) + (b 1/2) j} exp (jx) + {(a 1/2) - (b 1/2) j } Exp (-jx) (16), the diffraction efficiency of the + 1st order diffracted light is obtained by the following equation. E 1 = | (a 1/ 2) - (b 1/2) j | 2 (17) Therefore, the thickness d of the zone plate, it is preferable to determine, as the value E 1 is maximum. Then, this value is slightly smaller than the thickness obtained from the interference condition 2π (for one wavelength) when there is no absorption, and is preferably set to about 0.6 to 0.9 times the thickness. Note that, in the above equation, the zone plate is represented by the conversion of x → 2πr 2 / λf, which is the same as the normal zone plate.

【0019】実際の2物質の混合比率は、ゾーン半径r
n =√(2nλf)(n;自然数、λ;波長、f;焦点
距離)のゾーン境界のあるゾーンプレートの場合、図6
に示す比率になる。すなわち、 物質1:物質2 =2nπ−(2πr2 /λf):{2πr2 /λf−2(n−1)π} ={n−(r2 /λf)}:(r2 /λf−n+1) (18) となる。ただし、上記混合比率は、図6に示すような曲
線的変化でも、それを直線(比例)的変化に置き換えた
ものでも良い。なお、ゾーンプレートは、rn とrn-1
との間からなるゾーンを有しており、そこでの混合比率
は次のようになっている。即ち r1=√(2λf)とr0=0 との間は、φ(r) =(2π/λf)(r
−r0)2 r2=√(4λf)とr1=√(2λf)との間は、φ(r) =(2π/
λf)(r−r1)2 r3=√(6λf)とr2=√(4λf)との間は、φ(r) =(2π/
λf)(r−r2)2 という関係になっている。
The actual mixing ratio of the two substances is the zone radius r
In the case of a zone plate having zone boundaries of n = √ (2nλf) (n; natural number, λ; wavelength, f; focal length), FIG.
It becomes the ratio shown in. That is, substance 1: substance 2 = 2nπ- (2πr 2 / λf): {2πr 2 / λf-2 (n-1) π} = {n- (r 2 / λf)} :( r 2 / λf-n + 1 ) (18) However, the mixing ratio may be a curve-like change as shown in FIG. 6 or a linear (proportional) change thereof. The zone plates are r n and r n-1.
It has a zone consisting of between and, and the mixing ratio there is as follows. That is, between r 1 = √ (2λf) and r 0 = 0, φ (r) = (2π / λf) (r
−r 0 ) 2 r 2 = √ (4λf) and r 1 = √ (2λf), φ (r) = (2π /
Between (λf) (r−r 1 ) 2 r 3 = √ (6λf) and r 2 = √ (4λf), φ (r) = (2π /
The relationship is λf) (r−r 2 ) 2 .

【0020】上記(17)式を満たすように最適設計し
たゾーンプレートの厚さdは、従来の技術で可能な値よ
りも一般的に大きくなることが多いため、製作法にも工
夫が必要である。また、2種類の物質を所定の比率で例
えば(18)式にしたがってゾーン状に形成するには特
別な方法が必要である。例えば、まず細いワイヤ(数十
〜数百μm)を図9(a)に示すように回転させながら
2種類の物質を各ゾーンが上記混合比率になるように所
定の比率で成膜する。なお、これについては、Pro
c.SPIE,316(1981)の103頁に基本的
な製法が提案されている。成膜の半径は、例えば請求項
1記載の式による。数十から数千層成膜したら、同図
(b)に示すように周囲を該2種類の物質とほぼ同じ力
学特性(例えば、摩耗度や固さ)の物質あるいはエポキ
シ等の物質によって覆い、同図(c)に示すようにミク
ロトーム等の切断手段で所望の厚さdよりも若干厚めに
垂直方向に切断する。その後、切断した切片をポリッシ
ングやイオンエッチング等で丁寧に加工し、切断面を滑
らかにする。以上のように、ゾーンプレートの厚さを決
定する際に使用する物質の吸収を考慮するので、最大の
回折効率が得られる。さらに、ワイヤ上に形成したゾー
ンを切断してゾーンプレートを製作するので大量生産が
可能である。
Since the thickness d of the zone plate optimally designed so as to satisfy the above expression (17) is generally larger than the value possible by the conventional technique, it is necessary to devise the manufacturing method. is there. Further, a special method is required to form the two kinds of substances in a zone at a predetermined ratio according to, for example, the formula (18). For example, first, a thin wire (several tens to several hundreds of μm) is rotated as shown in FIG. 9A, and two kinds of substances are formed in a predetermined ratio so that each zone has the above mixing ratio. In addition, about this, Pro
c. A basic manufacturing method is proposed on page 103 of SPIE, 316 (1981). The radius of film formation is based on the formula described in claim 1, for example. After forming several tens to several thousands of layers, the surroundings are covered with a substance having substantially the same mechanical characteristics (for example, abrasion degree and hardness) or a substance such as epoxy as shown in FIG. As shown in FIG. 3C, the cutting is performed in a vertical direction with a cutting means such as a microtome so as to be slightly thicker than a desired thickness d. Then, the cut pieces are carefully processed by polishing, ion etching or the like to smooth the cut surface. As described above, the absorption of the substance used in determining the thickness of the zone plate is taken into consideration, so that the maximum diffraction efficiency is obtained. Further, the zone plate formed by cutting the zone formed on the wire can be mass-produced.

【0021】[0021]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき詳細に
説明する。図1は本発明の第1実施例のゾーンプレート
の回折効率を示す特性図である。このゾーンプレート1
は、図10に示すように各ゾーンが配置され、波長4±
0.4nm用のゾーンプレートとして構成されている。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a characteristic diagram showing the diffraction efficiency of the zone plate of the first embodiment of the present invention. This zone plate 1
, Each zone is arranged as shown in FIG.
It is configured as a zone plate for 0.4 nm.

【0022】一般に、吸収を考慮して回折効率を考える
と、使用する2種類の物質が共に吸収が少なく、かつ、
2物質の屈折率実部の差ができるだけ大きくなるように
物質を選択して、できるだけ薄いゾーンプレートで適合
させることが材料選択の条件である。
Generally, considering the diffraction efficiency in consideration of absorption, both of the two kinds of substances used have little absorption, and
It is a condition of material selection that the materials are selected so that the difference between the real parts of the refractive indices of the two materials is as large as possible, and that they are matched with the zone plate as thin as possible.

【0023】図1の構成のゾーンプレートにおいては、
上記条件を満たす吸収の少ない組み合わせの例として、
物質Scおよび物質Coの組み合わせを選択しており、
フレーズドゾーンプレート(BZP)の厚さが0.29
μmのとき12%の回折効率が得られる。この場合、吸
収が無いと仮定したとき最大効率が得られる厚さ、すな
わち、ゾーンによって生じる電磁波の位相差が2π(1
波長分)になる干渉条件φ=2π(n1 −n2 )d1
λ=2πより求められる厚さd1 =λ/(n1−n2
=0.46μmの約0.63倍の厚さになる。なお、比
較のために従来例の位相ゾーンプレート(PZP)の回
折効率も示してあるが、この例では最大の回折効率はP
ZPの方が優れている。しかし、BZPの方がピーク幅
が広いので波長依存性が低くより広範囲の波長で使用す
ることができる。他に、吸収の少ない物質の組み合わせ
の例として、グループ(Sc,Ti,Ba)の任意の1
つの物質と、グループ(Co,Ni,Cu)の任意の1
つの物質との組み合わせが優れている。
In the zone plate having the structure shown in FIG.
As an example of a combination with less absorption that satisfies the above conditions,
The combination of the substance Sc and the substance Co is selected,
The thickness of the phrased zone plate (BZP) is 0.29
When the thickness is μm, a diffraction efficiency of 12% is obtained. In this case, the thickness at which maximum efficiency is obtained assuming no absorption, that is, the phase difference of the electromagnetic waves generated by the zones is 2π (1
Interference condition φ = 2π (n 1 −n 2 ) d 1 /
Thickness obtained from λ = 2π d 1 = λ / (n 1 −n 2 ).
The thickness is about 0.63 times 0.46 μm. For comparison, the diffraction efficiency of the conventional phase zone plate (PZP) is also shown, but the maximum diffraction efficiency is P in this example.
ZP is better. However, since BZP has a wider peak width, it has less wavelength dependence and can be used in a wider range of wavelengths. In addition, as an example of a combination of substances having low absorption, any one of groups (Sc, Ti, Ba)
One substance and any one of the groups (Co, Ni, Cu)
Excellent combination with three substances.

【0024】図2は本発明の第2実施例のゾーンプレー
トの回折効率を示す特性図である。このゾーンプレート
1は、図10に示すように各ゾーンが配置され、波長
3.2±0.32nm用のゾーンプレートとして構成さ
れている。このゾーンプレートにおいては、上記条件を
満たす吸収の少ない組み合わせの例として、物質Scお
よび物質Crの組み合わせ、物質Scおよび物質Vの組
み合わせを選択しており、フレーズドゾーンプレート
(BZP)の厚さが夫々0.48μm、0.67μmの
とき26%、22%の回折効率が得られ、これら回折効
率はPZPよりも優れている。この場合、物質Sc,C
rの組み合わせの厚さは、上記干渉条件で決定される厚
さ0.62μmの約0.77倍になる。
FIG. 2 is a characteristic diagram showing the diffraction efficiency of the zone plate of the second embodiment of the present invention. In this zone plate 1, each zone is arranged as shown in FIG. 10 and is configured as a zone plate for a wavelength of 3.2 ± 0.32 nm. In this zone plate, a combination of the substance Sc and the substance Cr and a combination of the substance Sc and the substance V are selected as an example of a combination having a small absorption which satisfies the above condition, and the thickness of the phrased zone plate (BZP) is selected. Diffraction efficiencies of 26% and 22% are obtained at 0.48 μm and 0.67 μm, respectively, and these diffraction efficiencies are superior to PZP. In this case, the substances Sc, C
The thickness of the combination of r is about 0.77 times the thickness of 0.62 μm determined by the above interference condition.

【0025】図3は本発明の第3実施例のゾーンプレー
トの回折効率を示す特性図である。このゾーンプレート
1は、図10に示すように各ゾーンが配置され、波長
2.4±0.24nm用のゾーンプレートとして構成さ
れている。このゾーンプレートにおいては、上記条件を
満たす吸収の少ない組み合わせの例として、物質Vおよ
び物質Feの組み合わせを選択しており、フレーズドゾ
ーンプレート(BZP)の厚さが0.43μmのとき、
最大の30%の回折効率が得られる。この場合、物質
V,Feの組み合わせの厚さは、上記干渉条件で決定さ
れる厚さ0.53μmの約0.81倍になる。なお、比
較のためPZPの回折効率も示してあるが、22%であ
るので本例の方が優れている。他に、吸収の少ない物質
の組み合わせの例として、グループ(V,Mg)の任意
の1つの物質と、グループ(Fe,Co,Ni)の任意
の1つの物質との組み合わせが優れている。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing the diffraction efficiency of the zone plate of the third embodiment of the present invention. The zone plate 1 has zones arranged as shown in FIG. 10 and is configured as a zone plate for a wavelength of 2.4 ± 0.24 nm. In this zone plate, a combination of the substance V and the substance Fe is selected as an example of a combination with less absorption that satisfies the above condition, and when the thickness of the phrased zone plate (BZP) is 0.43 μm,
A maximum diffraction efficiency of 30% is obtained. In this case, the thickness of the combination of the substances V and Fe is about 0.81 times the thickness of 0.53 μm determined by the above interference condition. For comparison, the diffraction efficiency of PZP is also shown, but since this is 22%, this example is superior. In addition, as an example of a combination of substances having low absorption, a combination of any one substance of the group (V, Mg) and any one substance of the group (Fe, Co, Ni) is excellent.

【0026】図4は本発明の第4実施例のゾーンプレー
トの回折効率を示す特性図である。このゾーンプレート
1は、図10に示すように各ゾーンが配置され、波長1
±0.1nm用のゾーンプレートとして構成されてい
る。このゾーンプレートにおいては、上記条件を満たす
吸収の少ない組み合わせの例として、物質Mgおよび物
質Moの組み合わせを選択しており、フレーズドゾーン
プレート(BZP)の厚さが0.85μmのとき、最大
の22%の回折効率が得られ、この回折効率はPZPよ
りも優れている。この場合、物質Mg,Moの組み合わ
せの厚さは、上記干渉条件で決定される厚さ1.12μ
mの約0.76倍になる。他に、吸収の少ない物質の組
み合わせの例として、グループ(B,C,Mg,Al,
Si)の任意の1つの物質と、グループ(Mo,Nb,
Cr)の任意の1つの物質との組み合わせが優れてい
る。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing the diffraction efficiency of the zone plate of the fourth embodiment of the present invention. In this zone plate 1, each zone is arranged as shown in FIG.
It is configured as a zone plate for ± 0.1 nm. In this zone plate, a combination of the substance Mg and the substance Mo is selected as an example of a combination having less absorption that satisfies the above condition, and when the thickness of the phrased zone plate (BZP) is 0.85 μm, the maximum is obtained. A diffraction efficiency of 22% is obtained, which is better than PZP. In this case, the thickness of the combination of the substances Mg and Mo is 1.12 μ which is determined by the above interference condition.
It is about 0.76 times m. In addition, as an example of a combination of substances having low absorption, groups (B, C, Mg, Al,
Any one substance of Si) and group (Mo, Nb,
The combination of Cr) with any one substance is excellent.

【0027】図5は本発明の第5実施例のゾーンプレー
トの回折効率を示す特性図である。このゾーンプレート
1は、図10に示すように各ゾーンが配置され、波長
0,6±0.06nm用のゾーンプレートとして構成さ
れている。このゾーンプレートにおいては、上記条件を
満たす吸収の少ない組み合わせの例として、物質Bおよ
び物質Ruの組み合わせを選択しており、フレーズドゾ
ーンプレート(BZP)の厚さが1.5μmのとき、最
大の37%の回折効率が得られる。この場合、物質B,
Ruの組み合わせの厚さは、上記干渉条件で決定される
厚さ1.75μmの約0.86倍になる。他に、吸収の
少ない物質の組み合わせの例として、グループ(B,M
g,C,Sc)の任意の1つの物質と、グループ(C
o,Ni,Cu,Tc,Ru,Rh,Pd)の任意の1
つの物質との組み合わせが優れている。
FIG. 5 is a characteristic diagram showing the diffraction efficiency of the zone plate of the fifth embodiment of the present invention. The zone plate 1 has zones arranged as shown in FIG. 10, and is configured as a zone plate for wavelengths of 0.6 ± 0.06 nm. In this zone plate, a combination of the substance B and the substance Ru is selected as an example of a combination with less absorption that satisfies the above condition, and when the thickness of the phrased zone plate (BZP) is 1.5 μm, the maximum is obtained. A diffraction efficiency of 37% is obtained. In this case, substance B,
The thickness of the Ru combination is about 0.86 times the thickness of 1.75 μm determined by the above interference condition. In addition, as an example of a combination of substances having low absorption, a group (B, M
g, C, Sc) any one substance and group (C
o, Ni, Cu, Tc, Ru, Rh, Pd)
Excellent combination with three substances.

【0028】以上のように、ゾーンプレートの厚さは
0.3〜1.5μm程度必要であり、また、物質の構成
比を半径にしたがって変化させるため、従来の方法と異
なる超薄膜多層膜の技術を用いてゾーンプレートを製作
する。例えば、まず、数十μm〜数百μmの銅製の細い
ワイヤを用意する。このワイヤは、表面か滑らかな材質
のものを用いるものとする。次に、電界研磨により表面
を滑らかにする(その代わりに、B4 Cのように成膜す
ると表面が滑らかになる物質をワイヤに形成してもよ
い)。表面の粗さは数Å〜数十Årms以下が望まし
い。このワイヤはその軸を中心にして回転させることの
できる治具に設置する。
As described above, the zone plate needs to have a thickness of about 0.3 to 1.5 μm, and since the composition ratio of the substance is changed according to the radius, the ultrathin multilayer film different from the conventional method is used. Zone plate is manufactured using the technology. For example, first, a thin copper wire having a thickness of several tens to several hundreds of μm is prepared. This wire shall have a surface or smooth material. Next, the surface is smoothed by electropolishing (alternatively, a substance such as B4 C that forms a smooth surface when formed into a film may be formed on the wire). The surface roughness is preferably several Å to several tens Å rms or less. The wire is placed on a jig that can be rotated about its axis.

【0029】次に、2種類の物質をマグネトロンスパッ
タでワイヤ上に形成する。その際、膜の構成比(混合比
率)を、例えば(18)式に従うように制御しながら成
膜する。その際、膜の構成比の変化は、ワイヤおよび夫
々の物質のターゲットに対する距離を調整することによ
り設定するものとし(その代わりに、シャッタの開閉時
間を上記構成比に応じて微細に制御するようにしてもよ
い)、2物質の一方のみを変化させても双方を変化させ
てもよい。数百から数千層成膜した時点で、2種類の物
質の少なくとも一方と力学的特性が近似する物質で周囲
を覆う。十分厚く(例えば製作したゾーンプレートの直
径の2倍以上になるように)覆ったら、その細いワイヤ
状のゾーンプレートをさらにエポキシ等の樹脂で包囲し
て、取り扱い易い形状(例えば20×20mmの角柱の
ような形状)にする。
Next, two kinds of materials are formed on the wire by magnetron sputtering. At that time, the film is formed while controlling the composition ratio (mixing ratio) of the film so as to follow the equation (18), for example. At that time, the change in the composition ratio of the film is set by adjusting the distance between the wire and each substance with respect to the target (instead, the opening / closing time of the shutter should be finely controlled according to the composition ratio). Alternatively, only one of the two substances may be changed or both of them may be changed. When several hundreds to several thousands of layers are formed, the surroundings are covered with a substance having mechanical characteristics similar to at least one of the two types of substances. Once it is covered sufficiently thick (for example, at least twice the diameter of the manufactured zone plate), the thin wire-shaped zone plate is further surrounded by a resin such as epoxy to make it easy to handle (for example, a 20 × 20 mm prism). Shape).

【0030】この状態で、ミクロトーム等の切断器によ
り、所望の厚さdよりも若干厚くなるように、軸と垂直
に例えば数ミクロン程度の厚さに切断する。次に、シー
ト状になったゾーンプレートをポリッシングやイオンエ
ッチング等により、表面や内部の構造を壊さないように
丁寧に研磨し、所望の厚さdになるまで薄くする。この
とき、ゾーンプレートワイヤを複数本まとめて作業する
ことができ、その場合、一度に複数のゾーンプレートが
製作できるので大量生産が可能になる。
In this state, a cutting device such as a microtome cuts the film perpendicularly to the axis to a thickness of, for example, several microns so that the thickness d becomes slightly larger than the desired thickness d. Next, the sheet-shaped zone plate is carefully polished by polishing, ion etching or the like so as not to damage the surface or the internal structure, and thinned to a desired thickness d. At this time, a plurality of zone plate wires can be collectively operated, and in this case, a plurality of zone plates can be manufactured at one time, which enables mass production.

【0031】この方法を用いた場合、数十μm程度の厚
さまで、任意にゾーンプレートの厚さを設定できるの
で、回折効率を最適にする厚さを最優先に考慮すること
ができ、高効率のゾーンプレートの製作が可能になる。
さらに、多層膜の形成は最小1nm程度まで可能であ
り、よって、解像力1.22nmのゾーンプレートの製
作が可能になる。
When this method is used, the thickness of the zone plate can be arbitrarily set up to a thickness of about several tens of μm, so that the thickness for optimizing the diffraction efficiency can be considered with high priority and high efficiency can be obtained. It becomes possible to manufacture zone plates.
Furthermore, a multilayer film can be formed to a minimum of about 1 nm, and therefore a zone plate with a resolution of 1.22 nm can be manufactured.

【0032】なお、実際の結像光学系に用いる場合ゾー
ンプレートの形状については、以下に示す実施例のよう
にすることも考えられる。各ゾーンの半径rn は(1)
式 rn =√(nλf) で与えられる。例えばλ=3nm,f=1mmとし、n
=1,000とすると r1000=54.77 となるからφ=109.54μm のワイヤに r1001=54.80μm まで、第1の物質を形成し、 : r4999=122.46μm r5000=122.47μm まで、順次第1および第2の物質を交互に形成する。そ
して、その周囲をエポキシ等で固め切断研摩しゾーンプ
レートとする。この結果、直径244.94μm のゾー
ンプレートができる。φ109.54μm の内側は結像
に寄与しないが、通常この部分は0次光カットの遮光板
を置く位置であり、不都合はないが、えんぺい率0.4
5の輪帯光学系となる。また最外殻の線幅は0.01μ
m であり、解像力は0.012μm 、NA=0.15で
ある。
When used in an actual image forming optical system, the zone plate may be shaped as in the following embodiments. The radius r n of each zone is (1)
It is given by the expression r n = √ (nλf). For example, if λ = 3 nm and f = 1 mm, then n
= 1,000, r 1000 = 54.77, so the first substance is formed on a wire of φ = 109.54 μm up to r 1001 = 54.80 μm: r 4999 = 122.46 μm r 5000 = 122 The first and second materials are alternately formed up to 0.47 μm. Then, the periphery thereof is hardened with epoxy or the like and cut and polished to form a zone plate. As a result, a zone plate having a diameter of 244.94 μm is formed. The inside of φ109.54 μm does not contribute to the image formation, but this part is usually the position where the 0th-order light-shielding plate is placed, and there is no inconvenience.
It becomes an annular optical system of No. 5. The line width of the outermost shell is 0.01μ
m, the resolving power is 0.012 μm, and NA = 0.15.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のゾーンプ
レートは、n番目のゾーンのゾーン半径rn が、rn
(2nλf)1/2 (ただし、n;自然数、λ;波長、
f;焦点距離)で表わされる同心円状のゾーンを複数形
成して成るゾーンプレートであって、前記各ゾーンが屈
折率の異なる2種類の物質で構成され、該2種類の物質
の混合比率が、例えば、{n−(r2 /λf)}:(r
2 /λf−n+1)に応じて連続的に変化するようにし
たから、屈折率の異なる2種類の物質の一方またはその
他の物質で構成される円柱状部材を回転し、該円柱状部
材に前記屈折率の異なる2種類の物質を、{n−(r2
/λf)}:(r2 /λf−n+1)で規定される混合
比率で成膜してゾーンを形成し、複数のゾーンの形成が
完了した円柱状部材を軸に対し垂直方向に切断してゾー
ンプレートを製造することにより、吸収と干渉条件(位
相差=2π)とを考慮した最大の回折効率が得られるゾ
ーンプレートを製作することができる。
As described above, in the zone plate of the present invention, the zone radius r n of the nth zone is r n =
(2nλf) 1/2 (where n is a natural number, λ is a wavelength,
f: focal length), a zone plate formed by forming a plurality of concentric zones, each zone being composed of two kinds of substances having different refractive indices, and the mixing ratio of the two kinds of substances being For example, {n- (r 2 / λf)} :( r
2 / λf−n + 1), the cylindrical member made of one of the two kinds of substances having different refractive indexes or other substances is rotated, and Two types of materials with different refractive indices are converted into {n- (r 2
/ Λf)} :( r 2 / λf-n + 1) is formed in a mixing ratio defined by forming a zone, a cylindrical member which forms is complete multiple zones with respect to the axis was cut vertically By manufacturing the zone plate, it is possible to manufacture the zone plate that can obtain the maximum diffraction efficiency in consideration of the absorption and the interference condition (phase difference = 2π).

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例のゾーンプレートの回折効
率を示す特性図である。
FIG. 1 is a characteristic diagram showing diffraction efficiency of a zone plate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2実施例のゾーンプレートの回折効
率を示す特性図である。
FIG. 2 is a characteristic diagram showing the diffraction efficiency of the zone plate of the second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3実施例のゾーンプレートの回折効
率を示す特性図である。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing the diffraction efficiency of the zone plate of the third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第4実施例のゾーンプレートの回折効
率を示す特性図である。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing the diffraction efficiency of the zone plate of the fourth embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第5実施例のゾーンプレートの回折効
率を示す特性図である。
FIG. 5 is a characteristic diagram showing the diffraction efficiency of the zone plate of the fifth embodiment of the present invention.

【図6】本発明のゾーンプレートの2種類の物質の混合
比率を例示する図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a mixing ratio of two kinds of substances in the zone plate of the present invention.

【図7】本発明のゾーンプレートの位相特性を例示する
図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a phase characteristic of the zone plate of the present invention.

【図8】本発明のゾーンプレートの吸収特性を位相変化
とともに例示する図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating absorption characteristics of the zone plate of the present invention together with phase changes.

【図9】(a)〜(c)は本発明のゾーンプレートの製
作方法を説明するための図である。
9A to 9C are views for explaining a method for manufacturing a zone plate of the present invention.

【図10】本発明のゾーンプレートのゾーン配置を説明
するための図である。
FIG. 10 is a diagram for explaining the zone arrangement of the zone plate of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ブレーズドゾーンプレート(ゾーンプレート) 1 Blazed zone plate (zone plate)

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 n番目のゾーンのゾーン半径rn が、 rn =(2nλf)1/2 (ただし、n;自然数、λ;波
長、f;焦点距離)で表わされる同心円状のゾーンを複
数形成して成るゾーンプレートであって、前記各ゾーン
が屈折率の異なる2種類の物質で構成され、該2種類の
物質の混合比率が半径rに応じて連続的に変化するよう
にしたことを特徴とする、ゾーンプレート。
1. A zone radius r n of the n -th zone is a plurality of concentric zones represented by r n = (2nλf) 1/2 (where n is a natural number, λ is a wavelength, and f is a focal length). A zone plate formed by forming each zone by two kinds of substances having different refractive indexes, and the mixing ratio of the two kinds of substances is continuously changed according to the radius r. Characteristic zone plate.
【請求項2】 前記混合比率が、 {n−(r2 /λf)}:(r2 /λf−n+1) に応じて連続的に変化するようにしたことを特徴とす
る、請求項1記載のゾーンプレート。
2. The mixing ratio is continuously changed according to {n- (r 2 / λf)} :( r 2 / λf-n + 1). Zone plate.
【請求項3】 屈折率の異なる2種類の物質の一方また
はその他の物質で構成される円柱状部材を回転し、該円
柱状部材に前記屈折率の異なる2種類の物質を、 {n−(r2 /λf)}:(r2 /λf−n+1)(た
だし、n;自然数、r n ;半径、λ;波長、f;焦点距
離)で規定される混合比率で成膜してゾーンを形成し、
複数のゾーンの形成が完了した円柱状部材を軸に対し垂
直方向に切断してゾーンプレートを製造することを特徴
とする、ゾーンプレートの製造方法。
3. One of two kinds of substances having different refractive indexes
Rotates a cylindrical member composed of other substances,
The two types of substances having different refractive indexes are added to the columnar member as {n- (r2/ Λf)}: (r2/ Λf-n + 1)
However, n; natural number, r n; Radius, λ; wavelength, f; focal length
Separation) to form a zone by forming a film with a mixing ratio defined by
The cylindrical member on which multiple zones have been formed is suspended from the shaft.
Characterized by manufacturing the zone plate by cutting in the vertical direction
And a method for manufacturing a zone plate.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999050692A1 (en) * 1998-03-27 1999-10-07 Hitachi, Ltd. Polarizing diffraction grating and magneto-optical head made by using the same

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WO1999050692A1 (en) * 1998-03-27 1999-10-07 Hitachi, Ltd. Polarizing diffraction grating and magneto-optical head made by using the same

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