JPH07169277A - Semiconductor storage - Google Patents

Semiconductor storage

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JPH07169277A
JPH07169277A JP5315655A JP31565593A JPH07169277A JP H07169277 A JPH07169277 A JP H07169277A JP 5315655 A JP5315655 A JP 5315655A JP 31565593 A JP31565593 A JP 31565593A JP H07169277 A JPH07169277 A JP H07169277A
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JP
Japan
Prior art keywords
bit line
word line
circuit
word
multiple selection
Prior art date
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Application number
JP5315655A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kikuo Kimura
貴久男 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Steel Corp filed Critical Kawasaki Steel Corp
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Abstract

PURPOSE:To prevent the destruction in the memory data at the time of multiple selection of a word line without sacrificing an access time by detecting the multiple selection of plural word lines and controlling an impedance of a bit line load. CONSTITUTION:When two pieces or more of word lines WL0-WL511 are multiple-selected through a row decoder 14 in the state where a clock signal phibecomes an H, and a word line detection circuit 20 is activated, corresponding transistors(TR) TNS0-TNS511 are turned on, and a multiple selection detection signal LC is lowered. Then, the conduction of the TRs TP1, TP2 of a variable load circuit 30 are controlled, and a bit line pair BL, BLb are pulled up by pull-up TRs TN3, TN4 of the circuit 30 in an overlapped state to the conduction of the bit line load TRs TN1, TN2, and a bit line load impedance is controlled, and the potential lowering of the bit line pair is suppressed without using a delay circuit. Thus, the destruction in the memory cell data at the time of multiple selection of the word line is prevented without sacrificing the access time.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置に係
り、特に、ワード線の多重選択によるデータ破壊を防止
可能な、ビット線負荷トランジスタが接続されたビット
線と、デコーダが接続されたワード線と、前記ビット線
とワード線により選択されるようにマトリックス状に配
置されたメモリセルとを含み、前記ワード線とビット線
の選択により活性化されるメモリセルが、リード・ライ
トの対象とされる半導体記憶装置の改良に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a word line connected to a bit line load transistor and a word line connected to a decoder, which can prevent data destruction due to multiple selection of word lines. Line and memory cells arranged in a matrix so as to be selected by the bit line and the word line, and the memory cell activated by the selection of the word line and the bit line is a target of read / write. The present invention relates to an improved semiconductor memory device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体記憶装置は、図1に例示す
る如く、ビット線負荷トランジスタTN1、TN2が接
続されたビット線対BL、BLb と、後出デコーダが接
続されたワード線WL0〜WL511と、前記ビット線
とワード線により択一的に選択されるようにマトリック
ス状に配置されたメモリセルMC0〜MC511と、外
部から入力されるアドレス信号の相補信号を生成するア
ドレスバッファ回路群(ADB群)10と、該アドレス
バッファ回路群10からの相補信号を受けて1/Nの選
択信号を生成するプリデコーダ群(P−DEC群)12
と、該プリデコーダ群12からの1/N選択信号を受け
て択一的にワード線を選択するロウデコーダ(R−DE
C)14と、図示しないリード・ライト回路及びその他
の周辺回路から構成されている。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 1, a conventional semiconductor memory device has a pair of bit lines BL and BLb to which bit line load transistors TN1 and TN2 are connected and a word line WL0 to WL511 to which a subsequent decoder is connected. And memory cells MC0 to MC511 arranged in a matrix so as to be selectively selected by the bit line and the word line, and an address buffer circuit group (ADB) that generates a complementary signal of an address signal input from the outside. Group) 10 and a predecoder group (P-DEC group) 12 that receives complementary signals from the address buffer circuit group 10 and generates a 1 / N selection signal.
And a row decoder (R-DE that selectively selects a word line in response to a 1 / N selection signal from the predecoder group 12).
C) 14 and a read / write circuit (not shown) and other peripheral circuits.

【0003】前記アドレスバッファ回路群10を構成す
る各アドレスバッファ回路は、例えば図2に外部アドレ
ス信号X0 について例示する如く、外部から入力される
アドレス信号X0 の相補信号x 0 及びx 0bを生成するよ
うに構成されている。
Each address buffer circuit which constitutes the address buffer circuit group 10 generates complementary signals x 0 and x 0b of the address signal X 0 input from the outside, for example, as shown in FIG. 2 for the external address signal X 0. Is configured.

【0004】又、前記プリデコーダ群12を構成する各
プリデコーダは、図3に相補信号x 0 、x 0b、x 1 、x
1bについて例示する如く、前記アドレスバッファ回路群
10からの相補信号x 0 、x 0b、x 1 、x 1bを受けて、
1/Nの選択信号a 1 、a 2、a 3 、a 4 を生成するよ
うに構成されている。
Further, each of the predecoder groups 12 is formed.
The predecoder is shown in FIG. 0, X0b, X1, X
1bThe address buffer circuit group
Complementary signal x from 100, X0b, X1, X1bReceived
1 / N selection signal a1, A2, A3, AFourWill generate
It is configured as

【0005】又、前記ロウデコーダ14は、図5に1/
N選択信号A(a 1 〜a 4 )、B(b 1 〜b 4 )、C
(c 1 〜c 4 )、D(d 1 〜d 4 )について例示する如
く、1/N選択信号A、B、C、Dを受けて、択一的に
ワード線WLを選択するように構成されている。
Further, the row decoder 14 is shown in FIG.
N selection signals A (a 1 to a 4 ), B (b 1 to b 4 ), C
(C 1 ~c 4), as will be exemplified D (d 1 ~d 4), receives 1 / N selection signals A, B, C, and D, alternatively configured to select the word line WL Has been done.

【0006】このような従来の半導体記憶装置におい
て、外部アドレス信号(X0 、・・・)が入力される
と、アドレスバッファ回路群10及びプリデコーダ群1
2を経て、ロウデコーダ14により、最終的に1本のワ
ード線WLのみが選択され、ビット線の選択と合わせ
て、これによって活性化されるメモリセルMCがリード
・ライトの対象とされる。
In such a conventional semiconductor memory device, when an external address signal (X0, ...) Is input, the address buffer circuit group 10 and the predecoder group 1 are inputted.
After 2, the row decoder 14 finally selects only one word line WL, and along with the selection of the bit line, the memory cell MC activated by this is targeted for read / write.

【0007】ところが、最終的に1本のワード線を選択
する過程で、複数のワード線が一時的に選択されてしま
う場合がある。例えば、アドレスバッファ回路の出力
が、外部アドレス信号に基づいて反転する際に、相補信
号(x 0 、x 0b)が共にLレベルとなると、これを入力
するプリデコーダの出力a 1 、a 2 が共にHレベルとな
る(但し、相補信号x 1 =Lレベル、x 1b=Hレベルと
する)。すると、これらが入力されるロウデコーダ14
は、本来4線中の1線のみを選択すべきプリデコード信
号群A(a 1 、a 2 、a 3 、a 4 )が、そのうち2線
(a 1 、a 2 )を選択してしまうので、最終的に、51
2本中の2本のワード線が多重選択されることになる。
このとき、他のプリデコード信号群B、C、Dでも多重
選択がされていれば、更に多重選択されるワード線の数
が増える。
However, in the process of finally selecting one word line, a plurality of word lines may be temporarily selected. For example, when the output of the address buffer circuit is inverted based on the external address signal, if the complementary signals (x 0 , x 0b ) are both at the L level, the outputs a 1 and a 2 of the predecoder for inputting them are Both become H level (however, complementary signals x 1 = L level, x 1b = H level). Then, the row decoder 14 to which these are input
Is because the predecode signal group A (a 1 , a 2 , a 3 , a 4 ) that should originally select only one of the four wires, selects two of them (a 1 , a 2 ). , Finally, 51
Two of the two word lines are multiply selected.
At this time, if the other predecode signal groups B, C, and D are also multi-selected, the number of word lines to be multi-selected is further increased.

【0008】多重選択されるワード線の数が増えると、
活性化されるメモリセルの数が増えるため、図5に破線
で示す如く、ビット線の電位が多重選択が発生しない場
合のビット線電位(実線)に比べて大きく低下する(図
5は、期待値としてBL=Hレベル、BLb =Lレベル
となるセルデータの呼出しの場合を示したものであ
る)。従って、最終的に選択されるメモリセルのリード
が阻害されるばかりでなく、最悪の場合にはメモリセル
内のデータが破壊されるという問題点を有していた。つ
まり、多重選択されたメモリセルに格納された1と0の
データ数と、その比率によっては、当該メモリセルのデ
ータと逆の状態にビット線電位が大きく移動する。この
結果、その移動量によっては、当該メモリセル及びその
他のメモリセルの内容が書替えられてしまい、データが
破壊される。
As the number of word lines to be multiple selected increases,
Since the number of activated memory cells increases, the potential of the bit line is significantly lower than the bit line potential (solid line) when multiple selection does not occur as shown by the broken line in FIG. This shows a case of calling cell data in which BL = H level and BLb = L level as values). Therefore, there is a problem that not only the reading of the finally selected memory cell is hindered but also the data in the memory cell is destroyed in the worst case. That is, depending on the number of data of 1 and 0 stored in the multiple-selected memory cell and the ratio thereof, the bit line potential largely moves to the state opposite to the data of the memory cell. As a result, the contents of the memory cell and other memory cells are rewritten depending on the amount of movement, and the data is destroyed.

【0009】これを防ぐため、従来は、図2に示したよ
うに、アドレスバッファ回路に遅延回路DLYを設け
て、図6に示す如く、アドレスバッファ回路出力の相補
信号x 0 、x 0bが共にHレベルとなる期間Pを設けるこ
とにより、プリデコーダ信号群a 1 、a 2 、a 3 、a 4
の多重選択が生じないようにしていた。
In order to prevent this, the conventional method shown in FIG.
As described above, the delay circuit DLY is provided in the address buffer circuit.
As shown in FIG. 6, the output of the address buffer circuit is complementary.
Signal x 0, X0bShould be set to a period P in which both are at H level.
By, the predecoder signal group a1, A2, A3, AFour
The multiple selection of was not made to occur.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、遅延回
路DLYを設けると、その遅延時間分だけ、ワード線の
選択が遅れるため、アクセスタイムの遅延を生じるとい
う問題があった。
However, when the delay circuit DLY is provided, the selection of the word line is delayed by the delay time, which causes a delay in access time.

【0011】又、遅延回路DLYの遅延時間Pの設定に
あたっては、プロセスのばらつきや回路動作マージンを
見込む必要があり、アクセスタイムが更に遅れるという
問題点を有していた。
Further, when setting the delay time P of the delay circuit DLY, it is necessary to take into account process variations and circuit operation margins, and there is a problem that the access time is further delayed.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は、ビット線負荷
トランジスタが接続されたビット線と、デコーダが接続
されたワード線と、前記ビット線とワード線により選択
されるようにマトリックス状に配置されたメモリセルと
を含み、前記ワード線とビット線の選択により活性化さ
れるメモリセルが、リード・ライトの対象とされる半導
体記憶装置において、複数のワード線の多重選択を検出
するワード線検出回路と、該ワード線検出回路の出力に
基づいて、ビット線負荷のインピーダンスを制御する可
変負荷回路を備えることにより、前記目的を達成したも
のである。
According to the present invention, a bit line to which a bit line load transistor is connected, a word line to which a decoder is connected, and a matrix arranged so as to be selected by the bit line and the word line. And a memory cell that is activated by selection of the word line and the bit line, in a semiconductor memory device to be read / written, the word line detecting multiple selection of a plurality of word lines. The object is achieved by providing a detection circuit and a variable load circuit that controls the impedance of the bit line load based on the output of the word line detection circuit.

【0013】更に、ライト期間中や、リード期間中でア
ドレス呼出しから所定時間経過した後は、前記ワード線
検出回路を非活性化する手段を備えたものである。
Further, there is provided means for deactivating the word line detection circuit during a write period or after a lapse of a predetermined time from an address call during a read period.

【0014】又、前記可変負荷回路が、複数のワード線
の多重選択時に、前記ビット線をプルアップするように
したものである。
Also, the variable load circuit pulls up the bit line when multiple selections of a plurality of word lines are made.

【0015】[0015]

【作用】本発明においては、複数のワード線の多重選択
を検出するワード線検出回路を設け、該ワード線検出回
路の出力に基づいて、ビット線負荷のインピーダンスを
制御するようにしたので、ワード線の多重選択時に、ビ
ット線電位の低下が抑えられる。従って、従来のように
遅延回路を設ける必要がなく、アクセスタイムを犠牲に
することなく、ワード線多重選択によるメモリセルのデ
ータ破壊を防ぐことができる。
In the present invention, the word line detection circuit for detecting the multiple selection of a plurality of word lines is provided, and the impedance of the bit line load is controlled based on the output of the word line detection circuit. When multiple lines are selected, a decrease in bit line potential can be suppressed. Therefore, it is not necessary to provide a delay circuit as in the conventional case, and it is possible to prevent the data destruction of the memory cell due to the word line multiple selection without sacrificing the access time.

【0016】なお、ライト期間中や、リード期間中でア
ドレス呼出しから所定時間経過した後は、前記ワード線
検出回路を非活性化する手段を備えた場合には、ワード
線検出回路による消費電流を低減することができる。
If a means for inactivating the word line detection circuit is provided after a predetermined time has passed from the address call during the write period or the read period, the current consumption by the word line detection circuit is reduced. It can be reduced.

【0017】又、前記可変負荷回路が、複数のワード線
の多重選択時に、前記ビット線をプルアップするように
した場合には、ビット線負荷のインピーダンスを簡単に
変更することができる。
Further, when the variable load circuit pulls up the bit line when multiple word lines are selected, the impedance of the bit line load can be easily changed.

【0018】[0018]

【実施例】以下、図面を参照して、本発明の実施例を詳
細に説明する。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings.

【0019】本実施例は、図7に示す如く、従来と同様
のビット線負荷トランジスタTN1、TN2が接続され
たビット線対BL、BLb と、ロウデコーダ14が接続
されたワード線WL0〜WL511と、前記ビット線B
L、BLb とワード線WL0〜WL511により択一的
に選択されるようにマトリックス状に配置されたメモリ
セルMC0〜MC511とを含み、前記ワード線WL0
〜WL511とビット線BL、BLb の選択により活性
化されるメモリセルが、リード・ライトの対象とされる
半導体記憶装置において、複数のワード線の多重選択を
検出するワード線検出回路20と、該ワード線検出回路
20の出力に基づいて、複数のワード線の多重選択時
に、前記ビット線をプルアップしてビット線負荷のイン
ピーダンスを制御する可変負荷回路30を備えたもので
ある。
In this embodiment, as shown in FIG. 7, a bit line pair BL and BLb to which bit line load transistors TN1 and TN2 similar to the conventional one are connected, and word lines WL0 to WL511 to which a row decoder 14 is connected. , The bit line B
L and BLb and memory cells MC0 to MC511 arranged in a matrix so as to be selectively selected by the word lines WL0 to WL511, the word line WL0
A word line detection circuit 20 for detecting multiple selection of a plurality of word lines in a semiconductor memory device in which a memory cell activated by selection of WL511 and bit lines BL, BLb is a target of read / write; Based on the output of the word line detection circuit 20, a variable load circuit 30 is provided for pulling up the bit line and controlling the impedance of the bit line load at the time of multiple selection of a plurality of word lines.

【0020】前記ワード線検出回路20は、電源Vddに
接続されたトランジスタTP3と、各ワード線WL0〜
WL511にそれぞれ接続されたトランジスタTNS0
〜TNS511と、トランジスタTNS0〜TNS51
1の一方の端子を前記トランジスタTP3、又は、電源
電圧Vddに接続するためのトランジスタTP4及びTN
5とを含み、2本以上のワード線が選択された場合にの
み、多重選択検出信号LCが、電源電圧VddよりもTP
1とTP2のVTp 分低い電位(Vdd−Vtp)よりも更
に低い電位となるように構成されている。
The word line detection circuit 20 includes a transistor TP3 connected to the power source Vdd and each word line WL0 to WL0.
Transistor TNS0 connected to WL511, respectively
-TNS511 and transistors TNS0-TNS51
1 has one terminal connected to the transistor TP3 or transistors TP4 and TN for connecting to the power supply voltage Vdd.
5, and the multi-selection detection signal LC is higher than the power supply voltage Vdd by TP only when two or more word lines are selected.
1 and TP2 are lower than the potential (Vdd-Vtp) lower by VTp.

【0021】前記トランジスタTP4及びTN5に供給
されるクロック信号φは、ワード線検出回路20の活性
状態を制御している。即ち、クロック信号φがLレベル
の場合には、ワード線検出回路20が非活性化されて、
多重選択検出信号LCはHレベルに固定される。一方、
クロック信号φがHレベルの場合には、ワード線により
導通状態が定められるトランジスタTNS0〜TNS5
11とトランジスタTP3により、多重選択検出信号L
Cの電位が上記のように決定される。
The clock signal φ supplied to the transistors TP4 and TN5 controls the active state of the word line detection circuit 20. That is, when the clock signal φ is at the L level, the word line detection circuit 20 is deactivated,
The multiple selection detection signal LC is fixed at the H level. on the other hand,
When the clock signal φ is at the H level, the transistors TNS0 to TNS5 whose conduction state is determined by the word line are set.
11 and the transistor TP3, the multiple selection detection signal L
The potential of C is determined as above.

【0022】ここで、クロック信号φは、図示しないク
ロックジェネレータで生成される信号であり、アドレス
の変化を検出して生成され、ライト期間中、及び、リー
ド期間中でアドレス呼出しから一定時間Tが経過した後
は、消費電流低減のために、Lレベルに固定して、ワー
ド線検出回路20を非活性化する。
Here, the clock signal φ is a signal generated by a clock generator (not shown), is generated by detecting a change in address, and has a fixed time T from the address call during the write period and the read period. After the lapse of time, the word line detection circuit 20 is deactivated by fixing it to the L level in order to reduce current consumption.

【0023】前記可変負荷回路30は、多重選択検出信
号LCにより、トランジスタTP1、TP2の導通を制
御し、ビット線負荷トランジスタTN1、TN2の導通
に重複して、プルアップトランジスタTN3、TN4に
より、ビット線対BL、BLb をプルアップする。
The variable load circuit 30 controls the conduction of the transistors TP1 and TP2 by the multiplex selection detection signal LC, and overlaps the conduction of the bit line load transistors TN1 and TN2, and the bit line load transistors TN3 and TN4 control the bit. Pull up the line pair BL, BLb.

【0024】このように機能するワード線検出回路20
と可変負荷回路30を備えた回路動作を、図8を参照し
て、詳細に説明する。
The word line detection circuit 20 functioning in this way
The circuit operation including the variable load circuit 30 and the variable load circuit 30 will be described in detail with reference to FIG.

【0025】クロック信号φがHレベルの活性期間中
に、ワード線WL511からワード線WL0に選択が移
る際に、ロウデコーダ14が多重選択を起こして、ワー
ド線WL0とWL511及びその他のワード線が共に一
時的にHレベルになった場合を考える。すると、ビット
線電位は、図5に破線で示した従来例で説明したよう
に、大きく低下しようとする。
When the selection shifts from the word line WL511 to the word line WL0 during the active period of the clock signal φ at the H level, the row decoder 14 causes multiple selection, and the word lines WL0 and WL511 and other word lines are selected. Consider the case where both of them temporarily become H level. Then, the bit line potential tends to largely decrease as described in the conventional example shown by the broken line in FIG.

【0026】一方、トランジスタTNS0、TNS51
1等が同時に導通すると、多重選択検出信号LCの電位
が、Vdd−Vtp以下に低下する。すると、これをゲート
に受けるトランジスタTP1、TP2は導通するので、
ビット線負荷トランジスタTN1、TN2にそれぞれ並
列にプルアップトランジスタTN3、TN4が接続さ
れ、ビット線BL、BLb をより強くプルアップする。
この結果、ビット線電位の低下量は抑えられる。
On the other hand, the transistors TNS0 and TNS51
When 1 and the like are turned on at the same time, the potential of the multiple selection detection signal LC drops to Vdd-Vtp or less. Then, the transistors TP1 and TP2 receiving this at their gates become conductive,
Pull-up transistors TN3 and TN4 are connected in parallel to the bit line load transistors TN1 and TN2, respectively, to more strongly pull up the bit lines BL and BLb.
As a result, the amount of decrease in the bit line potential can be suppressed.

【0027】この場合、従来例のようにビット線対電位
の逆転現象は起こり得るが、ビット線電位自体が高く、
ビット線対の電位差も小さく抑えられるので、メモリセ
ルの内容が破壊されることはない。又、多重選択される
期間が過ぎると同時に、ビット線負荷は、従来のものと
等価に回復するので、選択されたセルのデータが速やか
にビット線に現れる。従って、プルアップを常時強める
場合の問題点も回避される。
In this case, the inversion phenomenon of the potential of the bit line pair may occur as in the conventional example, but the bit line potential itself is high,
Since the potential difference between the bit line pair can be suppressed to a small value, the contents of the memory cell will not be destroyed. Further, at the same time when the period of multiple selection is over, the bit line load is restored to the same level as the conventional one, so that the data of the selected cell appears on the bit line promptly. Therefore, the problem of always strengthening the pull-up is also avoided.

【0028】又、仮に多重選択が起こらなかった場合に
は、トランジスタTNS0〜TNS511は、2以上同
時に導通することはないので、多重選択検出信号LC
は、Vdd−Vtp以上の電位を保ち、ビット線負荷は従来
と同様に振舞う。
Further, if multiple selection does not occur, the transistors TNS0 to TNS511 do not become conductive more than once at the same time, so the multiple selection detection signal LC
Holds a potential of Vdd-Vtp or higher, and the bit line load behaves as in the conventional case.

【0029】本実施例においては、ライト期間中や、リ
ード期間中でアドレス呼出しから所定時間経過した後
は、クロック信号φによりワード線検出回路20を非活
性化するようにしていたので、ワード線検出回路の消費
電流を低減することが可能である。なお、ワード線検出
回路を非活性化する構成はこれに限定されない。又、ワ
ード線検出回路による消費電流が問題とならない場合に
は、ワード線検出回路を常時活性化しておくことも可能
である。
In the present embodiment, the word line detection circuit 20 is deactivated by the clock signal φ after a predetermined time has elapsed from the address call during the write period or the read period, so that the word line detection circuit 20 is deactivated. It is possible to reduce the current consumption of the detection circuit. The configuration for deactivating the word line detection circuit is not limited to this. Further, when the current consumption by the word line detection circuit does not cause a problem, it is possible to always activate the word line detection circuit.

【0030】又、本実施例においては、可変負荷回路
が、複数のワード線の多重選択時に、ビット線をプルア
ップするようにされていたので、構成が簡略である。な
お、ビット線の負荷を変化させる構成はこれに限定され
ず、他の手段によりビット線のインピーダンスを制御し
てもよい。
Further, in the present embodiment, the variable load circuit pulls up the bit line when multiple selections of a plurality of word lines are made, so that the structure is simple. The configuration for changing the load of the bit line is not limited to this, and the impedance of the bit line may be controlled by other means.

【0031】又、前記実施例においては、ビット線がビ
ット線対BL、BLb を含むように構成されていたが、
本発明の適用対象はこれに限定されず、ビット線が1本
である場合にも、同様に適用できる。
Further, in the above embodiment, the bit line is configured to include the bit line pair BL, BLb.
The application target of the present invention is not limited to this, and can be similarly applied to the case where the number of bit lines is one.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、ア
クセスタイムを犠牲にすることなく、ワード線多重選択
によるメモリセルのデータ破壊を防ぐことができるとい
う優れた効果を有する。
As described above, according to the present invention, it is possible to prevent the data destruction of the memory cell due to the word line multiple selection without sacrificing the access time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来の半導体記憶装置の全体構成を示すブロッ
ク線図
FIG. 1 is a block diagram showing an overall configuration of a conventional semiconductor memory device.

【図2】従来例で用いられているアドレスバッファの構
成例を示す回路図
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration example of an address buffer used in a conventional example.

【図3】同じくプリデコーダの構成例を示す回路図FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration example of a predecoder in the same manner.

【図4】同じくロウデコーダの構成例を示す回路図FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration example of a row decoder.

【図5】従来例におけるビット線電位の変化状態の例を
示す線図
FIG. 5 is a diagram showing an example of a change state of a bit line potential in a conventional example.

【図6】従来例における対策を説明するための線図FIG. 6 is a diagram for explaining measures in a conventional example.

【図7】本発明に係る半導体記憶回路の実施例の構成を
示す回路図
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of an embodiment of a semiconductor memory circuit according to the present invention.

【図8】本発明の実施例における各部信号波形の例を示
す線図
FIG. 8 is a diagram showing an example of a signal waveform of each part in the embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

TN1、TN2…ビット線負荷トランジスタ BL、BLb …ビット線対 12、14…デコーダ WL0〜WL511…ワード線 MC0〜MC511…メモリセル 20…ワード線検出回路 LC…多重選択検出信号 30…可変負荷回路 φ…クロック信号 TN3、TN4…プルアップトランジスタ TN1, TN2 ... Bit line load transistor BL, BLb ... Bit line pair 12, 14 ... Decoder WL0-WL511 ... Word line MC0-MC511 ... Memory cell 20 ... Word line detection circuit LC ... Multiple selection detection signal 30 ... Variable load circuit φ ... Clock signals TN3, TN4 ... Pull-up transistors

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ビット線負荷トランジスタが接続されたビ
ット線と、 デコーダが接続されたワード線と、 前記ビット線とワード線により選択されるようにマトリ
ックス状に配置されたメモリセルとを含み、 前記ワード線とビット線の選択により活性化されるメモ
リセルが、リード・ライトの対象とされる半導体記憶装
置において、 複数のワード線の多重選択を検出するワード線検出回路
と、 該ワード線検出回路の出力に基づいて、ビット線負荷の
インピーダンスを制御する可変負荷回路を備えたことを
特徴とする半導体記憶装置。
1. A bit line to which a bit line load transistor is connected, a word line to which a decoder is connected, and memory cells arranged in a matrix so as to be selected by the bit line and the word line. A word line detection circuit for detecting multiple selection of a plurality of word lines in a semiconductor memory device in which a memory cell activated by selection of the word line and bit line is a target of read / write, and the word line detection circuit. A semiconductor memory device comprising a variable load circuit for controlling impedance of a bit line load based on an output of the circuit.
【請求項2】請求項1において、ライト期間中や、リー
ド期間中でアドレス呼出しから所定時間経過した後は、
前記ワード線検出回路を非活性化する手段を備えたこと
を特徴とする半導体記憶装置。
2. The method according to claim 1, wherein after a predetermined time has elapsed from the address call during the write period or the read period,
A semiconductor memory device comprising means for deactivating the word line detection circuit.
【請求項3】請求項1又は2において、前記可変負荷回
路が、複数のワード線の多重選択時に、前記ビット線を
プルアップするようにされていることを特徴とする半導
体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the variable load circuit is configured to pull up the bit line when multiple selection of a plurality of word lines is performed.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100502666B1 (en) * 2002-09-02 2005-07-22 주식회사 하이닉스반도체 Resistance calibration circuit

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100502666B1 (en) * 2002-09-02 2005-07-22 주식회사 하이닉스반도체 Resistance calibration circuit
US6927600B2 (en) 2002-09-02 2005-08-09 Hynix Semiconductor Inc. Resistance calibration circuit in semiconductor device

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