JPH07169042A - Magnetic recording medium and its manufacture - Google Patents

Magnetic recording medium and its manufacture

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JPH07169042A
JPH07169042A JP31557493A JP31557493A JPH07169042A JP H07169042 A JPH07169042 A JP H07169042A JP 31557493 A JP31557493 A JP 31557493A JP 31557493 A JP31557493 A JP 31557493A JP H07169042 A JPH07169042 A JP H07169042A
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JP
Japan
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layer
magnetic
cobalt
magnetic recording
recording medium
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JP31557493A
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Japanese (ja)
Inventor
Kunihiro Ueda
国博 上田
Koji Kobayashi
康二 小林
Hiromichi Kanazawa
弘道 金沢
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To improve the corrosion-resistance, abrasion durability and weather- resistance. CONSTITUTION:An undercoating layer 2, a magnetic layer 3 and a protective layer 4 are successively built up on a nonmagnetic substrate 1 to obtain a multi-layer unit. In this multilayer unit, the undercoating layer 2 is made of a silicon oxide which is expressed by a general formula: SiOx wherein 1.8<=x<=1.95. The magnetic layer 3 is made of cobalt or a cobalt alloy and formed in the existence of a silicon compound and oxygen. The protective film 4 is composed of a hydrogen-containing carbon film whose refractive index is not less than 1.9 and whose contact angle is less than 80 degrees.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気テープや磁気ディ
スクのような磁気記録媒体及びその製造方法に関するも
のである。さらに詳しくいえば、本発明は、耐食性、摩
擦耐久性、耐候性の優れた磁気記録媒体及びその製造方
法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium such as a magnetic tape or a magnetic disk and a manufacturing method thereof. More specifically, the present invention relates to a magnetic recording medium having excellent corrosion resistance, friction durability, and weather resistance, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気テープ、磁気ディスクのような磁気
的記録装置に用いられる磁気記録媒体は、一般に、プラ
スチックのような非磁性基体上に、鉄やクロムの酸化
物、コバルト、ニッケルのような金属又はこれらの合金
から成る磁性膜を設けることによって構成されている。
この磁性膜は通常酸素雰囲気中で形成されるが、このよ
うにして形成された磁性膜は耐食性を欠き、腐食性環境
下、例えば海岸や火山の近くではそのままでは実用に供
し得ない上、摩擦耐久性も低いため、表面に保護層を設
けることが行われている。
2. Description of the Related Art A magnetic recording medium used in a magnetic recording device such as a magnetic tape or a magnetic disk is generally formed on a non-magnetic substrate such as plastic on an oxide of iron or chromium, cobalt or nickel. It is configured by providing a magnetic film made of a metal or an alloy thereof.
This magnetic film is usually formed in an oxygen atmosphere, but the magnetic film formed in this way lacks corrosion resistance and cannot be used as it is in a corrosive environment, for example, near a coast or a volcano, and has a frictional effect. Since the durability is low, a protective layer is provided on the surface.

【0003】これまで、このような保護層としてはフッ
素化炭化水素、フッ素化ケトン、フッ素化エーテルなど
の含フッ素有機化合物(特開昭57−135442号公
報)、フッ化ビニリデン、四フッ化エチレン、エチレ
ン、塩化ビニル、スチレンなどのモノマーのプラズマ重
合体(特開昭57−135443号公報)、ポリカーボ
ネートと高級脂肪酸又はそのエステルとの複合層(特開
昭57−164432号公報)、各種低分子量化合物の
プラズマ重合体(特開昭59−72653号公報、特開
昭59−171028号公報)などが提案されている
が、これらの保護層は、有機物から構成されているた
め、摩擦耐久性の点では必ずしも満足すべきものではな
かった。
Hitherto, as such a protective layer, fluorine-containing organic compounds such as fluorinated hydrocarbons, fluorinated ketones and fluorinated ethers (JP-A-57-135442), vinylidene fluoride, and tetrafluoroethylene. Polymers of monomers such as ethylene, vinyl chloride and styrene (JP-A-57-135443), composite layers of polycarbonate and higher fatty acid or its ester (JP-A-57-164432), various low molecular weights Although plasma polymers of compounds (JP-A-59-72653, JP-A-59-171028) and the like have been proposed, these protective layers are made of an organic material, and therefore, have excellent friction durability. The point was not always satisfactory.

【0004】他方、摩擦耐久性を向上させるために、磁
性層を蒸着により形成させる際に、酸素ガスとともにケ
イ素化合物ガスを導入し、磁性粒子表面と酸素とケイ素
との間で化学反応を行わせることにより、個々の磁性カ
ラムを保護膜で囲ぎようし、スリット時において直接磁
性体端面が大気に暴露されないような構造としたり(特
開昭62−54828号公報)、モノマーガスを導入し
ながら強磁性金属を蒸着、イオンプレーティング又はス
パッタリングすることにより強磁性金属表面を重合体で
被覆すること(特公平5−18173号公報)も提案さ
れているが、これらの磁気記録媒体は、耐久性が低くな
るのを免れない。
On the other hand, in order to improve friction durability, when forming the magnetic layer by vapor deposition, a silicon compound gas is introduced together with oxygen gas to cause a chemical reaction between the surface of the magnetic particles, oxygen and silicon. As a result, each magnetic column is surrounded by a protective film so that the end face of the magnetic material is not directly exposed to the atmosphere during slitting (Japanese Patent Laid-Open No. 62-54828), or a strong monomer gas is introduced. It has also been proposed to coat the surface of a ferromagnetic metal with a polymer by vapor deposition, ion plating or sputtering of a magnetic metal (Japanese Patent Publication No. 5-18173), but these magnetic recording media have excellent durability. I cannot avoid getting lower.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記したこ
れまでの磁気記録媒体がもつ欠点を克服し、腐食性環境
下でも充分な耐食性を有し、摩擦耐久性に優れ、しかも
耐候性の良好な磁気記録媒体を提供することを目的とし
てなされたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention overcomes the above-mentioned drawbacks of conventional magnetic recording media, has sufficient corrosion resistance even in a corrosive environment, is excellent in friction durability, and has excellent weather resistance. The purpose of the invention is to provide a good magnetic recording medium.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は、磁気記録媒
体の特性を改善するために鋭意研究を重ねた結果、磁性
層をケイ素化合物と酸素の存在下で形成させるととも
に、アンダーコート層として特定組成のケイ素酸化物を
用いて基体面と磁性層との接着性を向上させ、かつ水素
含有炭素膜から成る保護層を用いて耐食性及び潤滑性を
高めることにより、腐食性環境下においても錆を生じる
ことなく、摩擦耐久性の高い理想的な磁気記録媒体が得
られることを見出し、この知見に基づいて本発明をなす
に至った。
The present inventor has conducted extensive studies to improve the characteristics of a magnetic recording medium, and as a result, formed a magnetic layer in the presence of a silicon compound and oxygen and used it as an undercoat layer. By using a silicon oxide with a specific composition to improve the adhesion between the substrate surface and the magnetic layer, and by using a protective layer consisting of a hydrogen-containing carbon film to improve corrosion resistance and lubricity, rust is maintained even in a corrosive environment. It has been found that an ideal magnetic recording medium having high friction durability can be obtained without causing the above phenomenon, and the present invention has been completed based on this finding.

【0007】すなわち、本発明は、非磁性基体上に、ア
ンダーコート層、磁性層及び保護層を順次積層して構成
された多層構造体において、(イ)アンダーコート層が
一般式SiOx(ただし、1.8≦x≦1.95)で表
わされるケイ素酸化物から成ること、(ロ)磁性層がケ
イ素化合物及び酸素の存在下で成膜されたコバルト又は
コバルト合金から成ること、及び(ハ)保護層が水素含
有炭素膜から成り、屈折率が1.9以上で接触角が80
度未満であることを特徴とする磁気記録媒体を提供する
ものである。
That is, according to the present invention, in a multilayer structure constituted by sequentially laminating an undercoat layer, a magnetic layer and a protective layer on a non-magnetic substrate, (a) the undercoat layer has the general formula SiO x (where 1.8 ≦ x ≦ 1.95), (b) the magnetic layer is composed of a cobalt compound or a cobalt alloy formed in the presence of a silicon compound and oxygen, and (c) ) The protective layer is composed of a hydrogen-containing carbon film and has a refractive index of 1.9 or more and a contact angle of 80.
A magnetic recording medium characterized by having a magnetic recording medium of less than 100 degrees.

【0008】この磁気記録媒体は、例えば非磁性基体の
表面に、ケイ素化合物ガスと酸素ガスとをプラズマによ
り化学的気相成長させて一般式SiOx(ただし1.8
≦x≦1.95)で表わされるアンダコート層を形成さ
せ、次にケイ素化合物ガスと酸素ガスの存在下、圧力1
-3ないし10-7Torrの条件においてコバルト又は
コバルトとこれと合金を形成しうる金属との混合物とか
ら磁性層の成膜を行わせたのち、炭化水素と水素の存在
下、印加電源周波数50〜400kHzで放電させ、水
素含有炭素膜から成る保護層を形成させることによって
製造することができる。
In this magnetic recording medium, for example, a silicon compound gas and an oxygen gas are chemically vapor-deposited by plasma on the surface of a non-magnetic substrate to form SiO x (provided that 1.8).
≦ x ≦ 1.95), and then under pressure 1 in the presence of a silicon compound gas and oxygen gas.
A magnetic layer was formed from cobalt or a mixture of cobalt and a metal capable of forming an alloy with cobalt under the condition of 0 -3 to 10 -7 Torr, and then applied power source frequency in the presence of hydrocarbon and hydrogen. It can be manufactured by discharging at 50 to 400 kHz and forming a protective layer made of a hydrogen-containing carbon film.

【0009】なお、磁性層が強磁性金属薄膜から成る磁
気テープを巻回した状態でモノマーの存在下高周波を印
加し、両端面のみプラズマ重合雰囲気に接触させる方法
は知られているが(特開昭62−54828号公報)、
このような方法により得られる磁気記録媒体は摩擦耐久
性、耐候性が低く、実用化するには、必ずしも満足でき
るものとはいえない。
There is known a method in which a magnetic tape having a magnetic layer made of a ferromagnetic metal thin film is wound and a high frequency is applied in the presence of a monomer so that only both end surfaces are brought into contact with a plasma polymerization atmosphere. No. 62-54828),
The magnetic recording medium obtained by such a method has low friction durability and weather resistance, and is not necessarily satisfactory for practical use.

【0010】[0010]

【構成】次に本発明の構成をさらに詳細に説明する。[Structure] Next, the structure of the present invention will be described in more detail.

【0011】図1は、本発明の磁気記録媒体の1例を示
す拡大断面図であって、非磁性基体1の表面に接してア
ンダーコート層2が施こされ、これは、その上に設けら
れた磁性層3と基体面1との間に介在し、磁性層への水
分バリアー層として作用するとともに、両者の接着層と
しての役割を果している。また、基体面に水分バリアー
層を設けることにより外部の水分が基体を通過して磁性
体を腐食させることを防ぎ、さらに直接磁性層を成膜す
る場合にみられる基体が含有している水分による磁性特
性の劣化を防ぐ効果がある。そして、磁性層3の表面は
保護層4によって被覆されている。
FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view showing an example of the magnetic recording medium of the present invention. An undercoat layer 2 is applied in contact with the surface of a non-magnetic substrate 1, which is provided thereon. The magnetic layer 3 is interposed between the magnetic layer 3 and the substrate surface 1 and acts as a moisture barrier layer for the magnetic layer and also serves as an adhesive layer between them. Also, by providing a moisture barrier layer on the surface of the substrate, it is possible to prevent external moisture from passing through the substrate to corrode the magnetic substance, and to prevent the moisture contained in the substrate, which is observed when the magnetic layer is directly formed. It has the effect of preventing the deterioration of magnetic properties. The surface of the magnetic layer 3 is covered with the protective layer 4.

【0012】上記の非磁性基体1の材料は、適度なたわ
み性、硬さを有し、ビデオテープ、ビデオディスクとし
て使用しうるものであればよく、特に制限はない。この
ようなものとしては、例えばポリエチレンテレフタレー
ト(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、
ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリエーテルエ
ーテルケトン(PEEK)、ポリイミド、ポリイミンイ
ミド、アラミド樹脂などが挙げられるが、表面性がある
程度コントロール可能なエンジニアリングプラスチック
やスーパーエンジニアリングプラスチックが好適であ
る。この基体の厚さは通常4〜75μmの範囲で選ば
れ、磁気記録媒体の仕様に応じて基体の厚さは適宜決め
られる。
The material of the non-magnetic substrate 1 is not particularly limited as long as it has appropriate flexibility and hardness and can be used as a video tape or a video disk. Examples of such materials include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN),
Examples thereof include polyphenylene sulfide (PPS), polyether ether ketone (PEEK), polyimide, polyimine imide, and aramid resin, and engineering plastics and super engineering plastics whose surface properties can be controlled to some extent are preferable. The thickness of this substrate is usually selected in the range of 4 to 75 μm, and the thickness of the substrate is appropriately determined according to the specifications of the magnetic recording medium.

【0013】次にこの上に施されるアンダーコート層2
は、一般式SiOxで表わされるケイ素酸化物から成
り、水分バリアー層であると同時に基体表面と磁性層と
の接着層の役割を果すものであるが、この式中のxは
1.8から1.95の範囲にあることが必要である。x
がこの範囲を逸脱した組成を有するものは、水分遮断性
が低く、十分な保護効果を示さない。
Next, the undercoat layer 2 to be applied thereon
Is composed of a silicon oxide represented by the general formula SiO x , and serves both as a moisture barrier layer and as an adhesive layer between the substrate surface and the magnetic layer, where x in the formula is from 1.8 It must be in the range 1.95. x
Those having a composition deviating from this range have a low moisture barrier property and do not show a sufficient protective effect.

【0014】このものは、ケイ素化合物と酸素との混合
ガスを、反応室に送り、プラズマ重合法により、基体表
面上に形成される。この際、蒸着室内はあらかじめ10
-6Torr程度に真空排気しておき、この中へケイ素化
合物と酸素との混合ガスを導入し、所定の圧力に達して
からプラズマ放電を開始する。この場合の放電周波数
は、kHzからMHzのオーダーで用いられ、特にkH
zのオーダーが望ましい。13.56MHz帯の高周波
を用いると発生したイオンが空間に滞留し、基板に到達
しないので保護層の形成には不適当である。
This product is formed on the surface of the substrate by a plasma polymerization method by sending a mixed gas of a silicon compound and oxygen to the reaction chamber. At this time, the inside of the vapor deposition chamber should be 10
The chamber is evacuated to about -6 Torr, a mixed gas of a silicon compound and oxygen is introduced into the chamber, and plasma discharge is started after reaching a predetermined pressure. The discharge frequency in this case is used in the order of kHz to MHz, and in particular kH
The z order is preferred. When a high frequency of 13.56 MHz band is used, the generated ions stay in the space and do not reach the substrate, which is not suitable for forming the protective layer.

【0015】この際用いるケイ素化合物としては、10
-3Torr程度好ましくは10-5Torr程度の圧力下
でガス化するものであればよく、特に制限はないが取り
扱いやすさの点で200℃以下の沸点を有するものが好
ましい。このようなものとしては、例えばシラン、トリ
メチルシラン、テトラメチルシラン、トリメトキシシラ
ン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなど
を挙げることができる。
The silicon compound used at this time is 10
There is no particular limitation as long as it can be gasified under a pressure of about -3 Torr, preferably about 10 -5 Torr, but it is preferably one having a boiling point of 200 ° C. or less in view of easy handling. Examples of such substances include silane, trimethylsilane, tetramethylsilane, trimethoxysilane, tetramethoxysilane, and tetraethoxysilane.

【0016】このケイ素化合物と酸素とは、ケイ素1原
子当り酸素3当量以上の割合の混合ガスとして用いられ
るが、このような混合ガスは、例えば液体ケイ素化合物
を収容したタンクを定温に保ち、その中に酸素をバブリ
ングさせることによって調製するのが有利である。この
際のタンクの温度を変えることによりケイ素と酸素との
混合比を調整することができる。またシランのような室
温でガス状のものは、マスフローコントローラを用いて
適量ずつ供給することができる。液体でも気化器を用い
れば別々に制御し、供給することが可能である。このア
ンダーコート層2の厚さは、通常0.02〜0.1μm
の範囲で選ばれる。
This silicon compound and oxygen are used as a mixed gas having a ratio of 3 equivalents or more of oxygen per one atom of silicon. Such a mixed gas keeps a tank containing a liquid silicon compound at a constant temperature, for example. It is advantageous to prepare it by bubbling oxygen through it. The mixing ratio of silicon and oxygen can be adjusted by changing the temperature of the tank at this time. Further, a gaseous substance such as silane at room temperature can be supplied in appropriate amounts by using a mass flow controller. Even liquids can be controlled and supplied separately by using a vaporizer. The thickness of the undercoat layer 2 is usually 0.02 to 0.1 μm.
It is selected in the range of.

【0017】また、このようにして形成された、アンダ
ーコート層2の上に設けられる磁性層3としては、コバ
ルト又はコバルト合金が用いられるが、コバルト合金
は、コバルトの結晶異方性がそこなわれない程度のコバ
ルト含有量、通常は70重量%以上のものが好ましい。
コバルト合金としては例えばCo−Fe、Co−Ni、
Co−Cr、Co−Ni−Cr、Co−Cu、Co−
B、Co−Bi、Co−P、Co−Pt、Co−Smな
どを挙げることができる。この磁性層の構造は単層でも
多層でもよく、要求特性に応じて適宜選択される。
Cobalt or a cobalt alloy is used for the magnetic layer 3 formed on the undercoat layer 2 formed in this manner. The cobalt alloy has a poor crystal anisotropy of cobalt. It is preferable that the cobalt content is such that it is not lost, usually 70% by weight or more.
Examples of the cobalt alloy include Co-Fe, Co-Ni,
Co-Cr, Co-Ni-Cr, Co-Cu, Co-
B, Co-Bi, Co-P, Co-Pt, Co-Sm, etc. can be mentioned. The structure of the magnetic layer may be a single layer or multiple layers, and is appropriately selected according to the required characteristics.

【0018】この磁性層の形成は、真空蒸着、化学蒸
着、イオンプレーティング、スパッタリングなどによっ
て行われるが、10-5Torrないし10-4Torrの
雰囲気において、ケイ素化合物ガスと酸素ガスとを同時
に導入することが必要である。この際のケイ素化合物と
酸素ガスの供給は、アンダーコート層の形成の場合に準
じて行われるが、ケイ素ガスと酸素ガスの流量比は、磁
性層のコントロールにも用いられるので、1:3より大
きい比率とする。この酸素は、磁気特性のコントロール
を行うとともに表面を硬化して耐久性を向上させる作用
を有し、またケイ素化合物は保護効果を増大させる作用
を有する。この際のケイ素化合物としては、アンダーコ
ート層の形成の場合に示したものを用いることができ
る。この磁性層の厚さとしては0.02〜0.5μm、
好ましくは0.05〜0.2μmの範囲で選ばれる。
The formation of this magnetic layer is carried out by vacuum vapor deposition, chemical vapor deposition, ion plating, sputtering or the like, and a silicon compound gas and an oxygen gas are simultaneously introduced in an atmosphere of 10 -5 Torr to 10 -4 Torr. It is necessary to. At this time, the silicon compound and the oxygen gas are supplied according to the case of forming the undercoat layer, but the flow rate ratio of the silicon gas and the oxygen gas is also used for controlling the magnetic layer. Use a large ratio. This oxygen has the function of controlling the magnetic properties and hardening the surface to improve durability, and the silicon compound has the function of increasing the protective effect. At this time, as the silicon compound, those shown in the case of forming the undercoat layer can be used. The thickness of this magnetic layer is 0.02 to 0.5 μm,
It is preferably selected in the range of 0.05 to 0.2 μm.

【0019】本発明においては、磁性層の上に施す保護
層4としてプラズマ重合水素含有炭素膜いわゆるダイヤ
モンド様炭素膜(DLC膜)を用いることが必要であ
る。この膜を形成させるには、反応室をあらかじめ10
-6Torr程度まで真空排気したのち炭化水素ガスと水
素ガスとをモル比(炭素数/H2比)1:3ないし3:
1好ましくは1:2ないし2:1の割合で導入し、10
-2Torrないし1Torrの圧力に達したときに放電
を開始する。モル比で1:3以上の過剰の水素を用いる
と膜が軟化し、歩留りが低下するし、また逆に炭化水素
がモル比で1:3以上になると炭素粉が発生し歩留りが
低下する。この際の放電周波数は50〜400kHzの
範囲のものが適当である。これよりも低いと放電を安定
した状態で継続することが困難な上に基板へのダメージ
が大きくなるし、またこれよりも高いとイオンが電極空
間に閉じ込められ、イオン衝撃を生じないので、硬質の
ダイヤモンド様炭素膜が形成されない。
In the present invention, it is necessary to use a plasma-polymerized hydrogen-containing carbon film, a so-called diamond-like carbon film (DLC film), as the protective layer 4 provided on the magnetic layer. To form this film, the reaction chamber was previously
After evacuating to about -6 Torr, the hydrocarbon gas and hydrogen gas are in a molar ratio (carbon number / H 2 ratio) of 1: 3 to 3:
1 preferably introduced in a ratio of 1: 2 to 2: 1 and 10
Discharge starts when the pressure reaches -2 Torr or 1 Torr. If excess molar ratio of 1: 3 or more is used, the film is softened and the yield is lowered. Conversely, if the molar ratio of hydrocarbon is 1: 3 or more, carbon powder is generated to lower the yield. The discharge frequency at this time is preferably in the range of 50 to 400 kHz. If it is lower than this, it is difficult to continue the discharge in a stable state and the damage to the substrate is large, and if it is higher than this, ions are confined in the electrode space and ion bombardment does not occur. No diamond-like carbon film is formed.

【0020】この場合に、使用される炭化水素ガスとし
ては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ヘキサン、
石油エーテルなどの脂肪族炭化水素やベンゼン、トルエ
ンなどの芳香族炭化水素が好適である。これらも10-3
Torrにおいてガス状になるものであればよく、特に
制限はない。
In this case, the hydrocarbon gas used is methane, ethane, propane, butane, hexane,
Aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether and aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene are preferable. These are also 10 -3
There is no particular limitation as long as it is gasified at Torr.

【0021】この保護層は、屈折率1.9以上、接触角
80度未満であることが必要であり、また、膜厚が30
〜150Åの範囲であるのが好ましいので、このような
保護層が形成されるまで放電を継続する。この保護層
は、耐食性を与えると同時に潤滑性を付与し、摩擦耐久
性を向上させる。屈折率が1.9未満では、膜がソフト
となり耐久性が向上しないし、また接触角が80度以上
では耐久性、スチル特性が劣化する。さらにこの膜厚が
30Å未満では所望の効果が得られず、また150Åを
超えると電磁変換特性上の欠点を生じる。
The protective layer must have a refractive index of 1.9 or more and a contact angle of less than 80 degrees, and the film thickness is 30.
Since it is preferably in the range of 150 Å, the discharge is continued until such a protective layer is formed. This protective layer not only provides corrosion resistance but also lubricity and improves friction durability. When the refractive index is less than 1.9, the film becomes soft and the durability is not improved, and when the contact angle is 80 degrees or more, the durability and still properties are deteriorated. Further, if the film thickness is less than 30 Å, the desired effect cannot be obtained, and if it exceeds 150 Å, a drawback in electromagnetic conversion characteristics occurs.

【0022】本発明の磁気記録媒体においては、所望に
応じ保護層4の上にさらに液体潤滑剤を塗布することも
できる。このような液体潤滑剤としては、例えば極性ペ
ルフルオロポリエーテル、ペルフルオロカルボン酸、フ
ォスファゼン、ポリアクリレートなどが用いられる。
In the magnetic recording medium of the present invention, a liquid lubricant can be further coated on the protective layer 4 if desired. As such a liquid lubricant, for example, polar perfluoropolyether, perfluorocarboxylic acid, phosphazene, polyacrylate and the like are used.

【0023】[0023]

【実施例】次に実施例、比較例により本発明をさらに詳
細に説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.

【0024】なお、各例中の保護層の屈折率、接触角及
び磁気記録テープの物性は以下の方法により測定した。 (1)屈折率;エリプソメーター(溝尻光学社製)を用
いて測定した。 (2)接触角;接触角計(協和界面科学社製)を用い、
液滴として水(イオン交換水)を用いて測定した。 (3)初期摩擦;180°捲き角のピン摩擦試験機で1
パス目の摩擦係数を測定した。試験ピンは直径3mmの
ステンレス鋼(SUS304)で表面粗さ0.15μm
のものを用いた。 (4)耐久摩擦;初期摩擦の場合と同じ方法で200パ
ス後の摩擦係数を測定した。 (5)スチル;温度40℃、湿度20%の環境下で7M
Hzの信号を記録し、その出力が−5dBになるまでの
時間を測定した。 (6)耐候性;温度60℃、湿度90%の環境下で1週
間保存し、飽和磁束密度の低下率を測定した。 (7)角形;VSMで測定した。 (8)電磁変換特性;厚さ7μmのポリエチレンテレフ
タレートフイルム上にコバルト95重量%とニッケル5
重量%から成る合金の磁性層を厚さ0.2μmで施した
試料について、7MHzの出力で測定した電磁変換特性
を0dBとし、次の基準によって評価した。 ○:0ないし−1dB未満 △:−1dBないし−2dB未満 ×:−2dB以上
The refractive index of the protective layer, the contact angle and the physical properties of the magnetic recording tape in each example were measured by the following methods. (1) Refractive index; measured using an ellipsometer (manufactured by Mizojiri Optical Co., Ltd.). (2) Contact angle; using a contact angle meter (Kyowa Interface Science Co., Ltd.),
The measurement was performed using water (ion-exchanged water) as droplets. (3) Initial friction: 1 with a pin friction tester with a 180 ° wrap angle
The coefficient of friction of the pass was measured. The test pin is made of stainless steel (SUS304) with a diameter of 3 mm and has a surface roughness of 0.15 μm.
I used the one. (4) Durability friction: The friction coefficient after 200 passes was measured by the same method as in the case of initial friction. (5) Still; 7M under the environment of temperature 40 ° C and humidity 20%
The signal of Hz was recorded, and the time until the output became -5 dB was measured. (6) Weather resistance: It was stored for 1 week in an environment of temperature 60 ° C. and humidity 90%, and the reduction rate of saturation magnetic flux density was measured. (7) Square; measured by VSM. (8) Electromagnetic conversion characteristics: 95 wt% cobalt and 5 nickel on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 7 μm
The electromagnetic conversion characteristics measured with an output of 7 MHz were set to 0 dB for a sample on which a magnetic layer of an alloy consisting of wt. ◯: 0 to less than -1 dB Δ: -1 dB to less than -2 dB X: -2 dB or more

【0025】実施例1〜6、比較例1 厚さ7μmのポリエチレンテレフタレートフイルム上
に、トリメチルシランと酸素とをケイ素1原子当り酸素
4当量の割合で混合した混合ガスを送り、圧力10P
a、温度25℃、放電周波数100kHzの条件下にお
いてプラズマ重合を行わせることにより、SiO1.9
ら成る厚さ200Åのアンダーコート層を形成させた。
シラン化合物と酸素はマイフローコントローラによって
別々に導入した。
Examples 1 to 6 and Comparative Example 1 A mixed gas in which trimethylsilane and oxygen were mixed at a ratio of 4 equivalents of oxygen per 1 atom of silicon was sent onto a polyethylene terephthalate film having a thickness of 7 μm, and a pressure of 10 P was applied.
a, a temperature of 25 ° C. and a discharge frequency of 100 kHz were used to perform plasma polymerization to form an undercoat layer of SiO 1.9 with a thickness of 200 Å.
The silane compound and oxygen were separately introduced by the Myflow controller.

【0026】次に、このようにして得たアンダーコート
層の上に、常法に従いコバルト95重量%とニッケル5
重量%の合金を、圧力5×10-5Torr、CAN温度
−10℃の条件下で真空蒸着させて、厚さ0.1μmの
磁性層を形成させた。この際表1に示すケイ素化合物と
酸素とをケイ素1原子当り、酸素10当量の割合でケイ
素化合物に酸素をバブリングしながら同時に導入した。
ケイ素化合物は沸点により保持温度を変化させ、40〜
90℃の範囲とした。
Then, on the undercoat layer thus obtained, 95% by weight of cobalt and 5% of nickel were formed by a conventional method.
A weight% alloy was vacuum-deposited under a pressure of 5 × 10 −5 Torr and a CAN temperature of −10 ° C. to form a magnetic layer having a thickness of 0.1 μm. At this time, the silicon compound and oxygen shown in Table 1 were simultaneously introduced while bubbling oxygen into the silicon compound at a ratio of 10 equivalents of oxygen per atom of silicon.
The silicon compound changes its holding temperature depending on the boiling point,
The range was 90 ° C.

【0027】このようにして得た積層体に、メタンと水
素とをメタンの炭素1原子当り水素1当量の割合で混合
したガスを用い、圧力10Pa、温度20℃、周波数1
00kHzの条件下で放電処理を行い、磁性層上に屈折
率1.95、接触角75度、厚さ100Åのダイヤモン
ド様炭素膜から成る保護層を形成させた。
A gas obtained by mixing methane and hydrogen at a ratio of 1 equivalent of hydrogen to 1 atom of carbon of methane was used in the laminate thus obtained, pressure was 10 Pa, temperature was 20 ° C., and frequency was 1
A discharge treatment was performed under the condition of 00 kHz to form a protective layer made of a diamond-like carbon film having a refractive index of 1.95, a contact angle of 75 degrees and a thickness of 100Å on the magnetic layer.

【0028】このようにして得た磁気記録テープの物性
を表1に示す。なお、比較のために、ポリエチレンテレ
フタレートフイルム上にコバルト95重量%とニッケル
5重量%とから成る合金の磁性層を厚さ0.2μmで施
しただけの磁気記録テープの物性を併記する。
Table 1 shows the physical properties of the magnetic recording tape thus obtained. For comparison, the physical properties of a magnetic recording tape obtained by only applying a magnetic layer of an alloy of 95% by weight of cobalt and 5% by weight of nickel to a thickness of 0.2 μm on a polyethylene terephthalate film are also shown.

【0029】[0029]

【表1】 [Table 1]

【0030】実施例7、8、比較例2,3 前記実施例と同様にして、ポリエチレンテレフタレート
フイルム上にアンダーコート層を形成させたのち、ケイ
素化合物ガスとしてテトラエトキシシランを用い、圧力
を5×10-4Torrから5×10-7Torrの範囲で
変化させ、他は実施例3と同じ条件下で磁性層を形成さ
せた。ただし、比較例2の保護層厚は30Å、比較例3
の保護層厚は200Åであった。
Examples 7, 8 and Comparative Examples 2, 3 After forming an undercoat layer on a polyethylene terephthalate film in the same manner as in the above Examples, tetraethoxysilane was used as a silicon compound gas and the pressure was 5 ×. The magnetic layer was formed under the same conditions as in Example 3 except that the range was changed from 10 −4 Torr to 5 × 10 −7 Torr. However, the protective layer thickness of Comparative Example 2 was 30Å, Comparative Example 3
The protective layer thickness was 200Å.

【0031】このようにして得た積層体に前記実施例と
同様にして保護層を被覆することによって磁気記録テー
プを得た。このものの物性を表2に示す。
A magnetic recording tape was obtained by coating the thus obtained laminate with a protective layer in the same manner as in the above-mentioned Examples. The physical properties of this product are shown in Table 2.

【0032】[0032]

【表2】 [Table 2]

【0033】この表から明らかなように、磁性層形成の
際の圧力を10-3Torrよりも低くすると、摩擦耐久
性及び耐候性が低下する。
As is clear from this table, when the pressure at the time of forming the magnetic layer is lower than 10 -3 Torr, friction durability and weather resistance are deteriorated.

【0034】実施例9、10、比較例4〜6 アンダーコート層の形成条件を変えてSiOxのx値を
変化させた以外は、全く実施例3と同様にして磁気記録
テープを製造した。このものの物性を表3に示す。X値
はケイ素化合物に含ませる酸素量を3当量以下にするこ
とにより調整した。
Examples 9 and 10, Comparative Examples 4 to 6 Magnetic recording tapes were manufactured in the same manner as in Example 3 except that the x value of SiO x was changed by changing the formation conditions of the undercoat layer. The physical properties of this product are shown in Table 3. The X value was adjusted by adjusting the amount of oxygen contained in the silicon compound to 3 equivalents or less.

【0035】[0035]

【表3】 [Table 3]

【0036】この表から明らかなように、アンダーコー
ト層を形成するSiOxのx値が1.8〜1.95の範
囲を逸脱したものは摩擦耐久性、耐候性が低い。
As is clear from this table, SiO x forming the undercoat layer having an x value outside the range of 1.8 to 1.95 has low friction durability and weather resistance.

【0037】実施例11、12、比較例6〜8 保護層の形成条件を変えて、DLC膜の屈折率及び接触
角を変化させた以外は、全く実施例3と同様にして磁気
記録テープを製造した。このものの物性を表4に示す。
放電周波数を上げると屈折率は小さくなり、また流量を
上げると接触角が80°以上になる。
Examples 11 and 12, Comparative Examples 6 to 8 Magnetic recording tapes were prepared in the same manner as in Example 3 except that the protective layer formation conditions were changed to change the refractive index and contact angle of the DLC film. Manufactured. The physical properties of this product are shown in Table 4.
When the discharge frequency is increased, the refractive index becomes smaller, and when the flow rate is increased, the contact angle becomes 80 ° or more.

【0038】[0038]

【表4】 [Table 4]

【0039】この表から明らかなように、保護層の屈折
率が1.9未満、接触角が80度以上になると摩擦耐久
性及び耐候性が低下する。
As is apparent from this table, when the refractive index of the protective layer is less than 1.9 and the contact angle is 80 degrees or more, the friction durability and weather resistance are deteriorated.

【0040】比較例8〜10 実施例3と同様にして磁性層を形成するが、アンダーコ
ート層、保護層のいずれか、あるいは両方を欠く磁気記
録テープを製造した。それらの物性を表5に示す。
Comparative Examples 8 to 10 A magnetic recording tape was produced in the same manner as in Example 3, except that the undercoat layer and / or the protective layer were omitted. Table 5 shows their physical properties.

【0041】[0041]

【表5】 [Table 5]

【0042】この表から明らかなように、ケイ素化合物
と酸素との混合ガスを導入しながら、磁性層を形成させ
た場合でも、アンダーコート層や保護層を欠くものは摩
擦耐久性や耐候性が不十分である。
As is clear from this table, even when a magnetic layer is formed while introducing a mixed gas of a silicon compound and oxygen, those lacking an undercoat layer or a protective layer have poor friction durability and weather resistance. Is insufficient.

【0043】比較例12〜16 特開昭62−54828号公報記載の方法に従い、比較
例1で得た磁気記録テープを巻回し、エッジ部だけを各
種有機化合物を用いてプラズマ処理したのち、液体潤滑
剤AM2001(モンテジソン社製)を塗布し、物性を
測定した。その結果を表6に示す。
Comparative Examples 12 to 16 According to the method described in JP-A-62-54828, the magnetic recording tape obtained in Comparative Example 1 was wound, and only the edge portion was subjected to plasma treatment using various organic compounds, and then liquid. Lubricant AM2001 (manufactured by Montedison Co., Ltd.) was applied and the physical properties were measured. The results are shown in Table 6.

【0044】[0044]

【表6】 [Table 6]

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明によると、従来の磁気記録媒体に
比べ耐食性、摩擦耐久性、耐候性の著しく向上した磁気
記録媒体が提供される。
According to the present invention, there is provided a magnetic recording medium having remarkably improved corrosion resistance, friction durability and weather resistance as compared with the conventional magnetic recording medium.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の磁気記録媒体の拡大断面図FIG. 1 is an enlarged sectional view of a magnetic recording medium of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 非磁性基体 2 アンダーコート層 3 磁性層 4 保護層 1 non-magnetic substrate 2 undercoat layer 3 magnetic layer 4 protective layer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性基体上に、アンダーコート層、磁
性層及び保護層を順次積層して構成された多層構造体に
おいて、 (イ)アンダーコート層が一般式SiOx(ただし、
1.8≦x≦1.95)で表わされるケイ素酸化物から
成ること、 (ロ)磁性層がケイ素化合物及び酸素の存在下で成膜さ
れたコバルト又はコバルト合金から成ること、及び (ハ)保護層が水素含有炭素膜から成り、屈折率が1.
9以上で、接触角が80度未満であることを特徴とする
磁気記録媒体。
1. In a multilayer structure constituted by sequentially laminating an undercoat layer, a magnetic layer and a protective layer on a non-magnetic substrate, (a) the undercoat layer has the general formula SiO x (where
1.8 ≦ x ≦ 1.95), (b) the magnetic layer is composed of cobalt or a cobalt alloy formed in the presence of a silicon compound and oxygen, and (c) The protective layer is composed of a hydrogen-containing carbon film and has a refractive index of 1.
A magnetic recording medium having a contact angle of 9 or more and a contact angle of less than 80 degrees.
【請求項2】 保護層が30〜150Åの膜厚を有する
請求項1記載の磁気記録媒体。
2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the protective layer has a film thickness of 30 to 150 Å.
【請求項3】 非磁性基体の表面に、ケイ素化合物ガス
と酸素ガスとをプラズマにより化学的気相成長させて一
般式SiOx(ただし1.8≦x≦1.95)で表わさ
れるアンダーコート層を形成させ、次にケイ素化合物ガ
スと酸素ガスの存在下、圧力10-3ないし10-7Tor
rの条件においてコバルト又はコバルトとこれと合金を
形成しうる金属との混合物とから磁性層の成膜を行わせ
たのち、炭化水素と水素の存在下、印加電源周波数50
〜400kHzで放電させることにより水素含有炭素膜
から成る保護層を形成させることを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法。
3. An undercoat represented by the general formula SiO x (where 1.8 ≦ x ≦ 1.95) is obtained by chemically vapor-depositing a silicon compound gas and an oxygen gas on a surface of a non-magnetic substrate by plasma. Layers, and then in the presence of silicon compound gas and oxygen gas at a pressure of 10 −3 to 10 −7 Tor.
After forming a magnetic layer from cobalt or a mixture of cobalt and a metal capable of forming an alloy with cobalt under the condition of r, an applied power supply frequency of 50 is applied in the presence of hydrocarbon and hydrogen.
A method of manufacturing a magnetic recording medium, comprising forming a protective layer made of a hydrogen-containing carbon film by discharging at ~ 400 kHz.
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