JPH07115106A - Tape for tab - Google Patents

Tape for tab

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JPH07115106A
JPH07115106A JP5281898A JP28189893A JPH07115106A JP H07115106 A JPH07115106 A JP H07115106A JP 5281898 A JP5281898 A JP 5281898A JP 28189893 A JP28189893 A JP 28189893A JP H07115106 A JPH07115106 A JP H07115106A
Authority
JP
Japan
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compound
epoxy
adhesive layer
dianhydride
tape
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP5281898A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Nojiri
仁志 野尻
Taku Ito
卓 伊藤
Katsunori Yabuta
勝典 薮田
Yoshifumi Okada
好史 岡田
Kosaku Nagano
広作 永野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP5281898A priority Critical patent/JPH07115106A/en
Publication of JPH07115106A publication Critical patent/JPH07115106A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a tape for TAB having excellent heat-resisting property, high insulating reliability and also having small curling and warpage by a method wherein the polyimide, having a specific linear expansion coefficient, is used for an organic insulating film layer. CONSTITUTION:A TAB tape consists of an organic insulating film, an adhesive layer and a protective layer. The organic insulating film is a polyimide film having the linear expansion coefficient which is 1.0 to 1.6 times of the linear expansion coefficient of copper. The organic insulating film consists of pyromellitic dianhydride or its derivative and one kind selected from benzophenonetetracarboxylic dianhydride, oxydiphthalic dianhydride and biphenyltetracarboxylic dianhydride, or a plurality of acid anhydride components, one or more kinds of linear diamine and refractive diamine. The adhesive layer consists of a compound having two or more epoxy radicals in a molecule, epoxy denatured polyamide resin, a compound having one or more epoxy radical, a diamine compound, an acid anhydride, a compound having one or more phenolic hydroxyl group, and cyanate ester resin.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、TAB(Tape Automat
ed Bonding)方式に用いられるテープ(以下、TAB用
テープという)に関し、より詳しくは、半導体デバイス
の組み立て工程において、デバイスの多ピン化、小型
化、高密度実装に際して注目されている保護層、接着剤
層及び有機絶縁フィルムの3層構造からなるTAB用テ
ープに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a TAB (Tape Automat).
Regarding the tape used in the ed bonding method (hereinafter referred to as TAB tape), more specifically, in the process of assembling a semiconductor device, a protective layer, an adhesive, which is attracting attention when the device has multiple pins, is miniaturized, and has a high density mounting. The present invention relates to a TAB tape having a three-layer structure of an agent layer and an organic insulating film.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】TAB
用テープは、スリット、パンチング、銅箔ラミネー
ティング、接着剤硬化、パターン形成(レジスト塗
布、銅のエッチング、レジスト剥離)、メッキ処理、
インナーリードボンディング、樹脂封止、パンチ
ング、アウターリードボンディング、の以上の加工工
程によりパッケージ化及び機器への実装がなされる。
PRIOR ART AND PROBLEMS TO BE SOLVED BY THE INVENTION TAB
Tape for slitting, punching, copper foil laminating, adhesive curing, pattern formation (resist coating, copper etching, resist peeling), plating treatment,
Inner lead bonding, resin sealing, punching, outer lead bonding are packaged and mounted on a device by the above processing steps.

【0003】これらの加工工程において、接着剤層及び
有機絶縁フィルムは周辺回路、封止樹脂中に残ることに
なるので、益々高密度化が進む中にあって、銅箔のパタ
ーン間の絶縁信頼性やチップのアルミニウム配線の腐食
に影響するイオン性不純物が問題となる。絶縁信頼性は
接着剤の特性に起因するところが多く、TAB用テープ
がエッチング液(酸、塩素イオン含有)、レジスト剥離
液(アルカリ、カリウムイオン含有)、メッキ液(塩素
イオン、硫酸イオン含有)などにさらされるために、イ
オン性不純物が接着剤に取り込まれたり、また接着剤そ
のものに含まれていたりする場合がある。
In these processing steps, since the adhesive layer and the organic insulating film remain in the peripheral circuit and the sealing resin, the insulation reliability between the patterns of the copper foil is increasing while the density is further increased. And ionic impurities that affect the corrosion resistance and corrosion of the aluminum wiring of the chip become a problem. Insulation reliability is often attributed to the characteristics of the adhesive. For TAB tape, etching liquid (containing acid and chlorine ions), resist stripping liquid (containing alkali and potassium ions), plating liquid (containing chlorine ions and sulfate ions), etc. As a result, the ionic impurities may be incorporated into the adhesive or contained in the adhesive itself.

【0004】従来より、フレキシブルプリント基板を初
めとする基板材料用途に用いられてきた接着剤として
は、エポキシ/ポリアミド(ナイロン)系のものが多く
用いられていた。しかし、これは加工中にイオン性不
純物(特に塩素イオン)を取り込み易い、加水分解さ
れ易い、等の性質を持っているため、パターン間の金属
マイグレーション等の絶縁劣化が問題になっていた。
Conventionally, epoxy / polyamide (nylon) type adhesives have been widely used as adhesives which have been used for substrate materials such as flexible printed circuit boards. However, this has a property that ionic impurities (especially chlorine ions) are easily taken in during processing and is easily hydrolyzed, so that insulation deterioration such as metal migration between patterns has been a problem.

【0005】また、インナーリードボンディング工程に
おいて、ボンディングツールからの熱が接着剤層に伝わ
るため耐熱性(高温時における高接着性)が要求される
が、従来の接着剤では高温時の接着力の低下が問題にな
っていた。
Further, in the inner lead bonding process, heat from the bonding tool is transferred to the adhesive layer, so that heat resistance (high adhesiveness at high temperature) is required. The decline was a problem.

【0006】また、加工工程において、テープの反りが
問題になることがある。テープの反りは、接着剤の硬化
収縮の大きさ、及びベース材料である有機絶縁フィルム
の線膨張係数に大きく依存する。
Further, in the processing step, the warp of the tape may become a problem. The warp of the tape largely depends on the degree of curing shrinkage of the adhesive and the linear expansion coefficient of the organic insulating film as the base material.

【0007】TAB用テープの加工工程においては、応
力を受ける工程、温度変化を受ける工程を数多く含み、
このため一般的には、ベース材料の有機絶縁フィルム
は、応力や温度変化による寸法の変化が小さいことが望
まれる。応力による寸法変化を小さくするには、フィル
ムが高弾性率を有することが有効であり、また温度変化
による寸法変化を小さくするには、一般的にはフィルム
の線膨張係数が小さいことが有効である。ただし、TA
B用途などの場合、フィルムと銅箔と接着剤との3層の
積層構造をとるため、線膨張係数が小さくなりすぎる
と、熱による銅の伸縮量がフィルムのそれより大きくな
るために、反りを生じてしまう。特に具体的には、貼り
合わせ温度又は接着剤の硬化温度から室温に冷却される
過程で、銅箔との線膨張係数の違いにより、反り・カー
ルが生じる。この観点からは、フィルムの線膨張係数
が、銅と同等であることが好ましいと言える。
In the process of processing the TAB tape, many processes including stress and temperature change are included.
Therefore, it is generally desired that the organic insulating film as the base material has a small dimensional change due to stress or temperature change. In order to reduce the dimensional change due to stress, it is effective that the film has a high elastic modulus, and in order to reduce the dimensional change due to temperature change, it is generally effective that the linear expansion coefficient of the film is small. is there. However, TA
In the case of B application, etc., since the film, the copper foil, and the adhesive have a three-layer laminated structure, if the coefficient of linear expansion becomes too small, the amount of expansion and contraction of copper due to heat becomes larger than that of the film. Will occur. More specifically, in the process of cooling from the bonding temperature or the curing temperature of the adhesive to room temperature, warpage and curling occur due to the difference in the coefficient of linear expansion from that of the copper foil. From this viewpoint, it can be said that the linear expansion coefficient of the film is preferably equal to that of copper.

【0008】この知見は、例えば特開平5−07059
1の中でも述べられており、銅箔と同等の線膨張係数と
高い弾性率を有するフィルムが開示されている。しか
し、銅箔と同等の線膨張係数を有するフィルムを用いた
場合、反りが無いのは室温に冷却された直後のみであ
り、そのあとフィルムが吸湿にともなって伸びるに従
い、反りやカールが発生することになる。このため、飽
和状態まで吸湿した後に反りやカールの小さな積層体を
得るためには、銅箔よりやや大きい線膨張係数を有する
ことが必要となる。
This finding is based on, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-07059.
No. 1, which discloses a film having a coefficient of linear expansion equivalent to that of a copper foil and a high elastic modulus. However, when a film having a coefficient of linear expansion equivalent to that of a copper foil is used, there is no warp only immediately after being cooled to room temperature, and thereafter, the film warps or curls as it stretches due to moisture absorption. It will be. For this reason, in order to obtain a laminate with small warpage and curl after absorbing moisture to the saturated state, it is necessary to have a coefficient of linear expansion slightly larger than that of the copper foil.

【0009】そこで、本発明者らは、従来のTAB用テ
ープにおける上記のような問題を起こすことのないTA
B用テープを提供することを目的に鋭意研究を重ねた結
果、本発明に至ったのである。
Therefore, the present inventors have proposed a TA which does not cause the above problems in the conventional TAB tape.
As a result of intensive studies aimed at providing a tape for B, the present invention has been achieved.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明に係るTAB用テ
ープの要旨とするところは、有機絶縁フィルム層と、接
着剤層と、保護層とからなるTAB用テープにおいて、
前記有機絶縁フィルム層が、銅の線膨張係数の1.0倍
〜1.6倍の線膨張係数を有するポリイミドフィルムで
あり、かかるポリイミドフィルムが、ピロメリット酸二
無水物又はその誘導物と、3,3’,4,4’−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,
4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’
−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物から選ばれるい
ずれか一つ又は複数の酸二無水物成分と、1種以上の直
線性ジアミンと、1種以上の屈曲性ジアミンとから合成
されるポリアミド酸をイミド化してなることにある。
The gist of the TAB tape according to the present invention is that the TAB tape comprises an organic insulating film layer, an adhesive layer, and a protective layer.
The organic insulating film layer is a polyimide film having a linear expansion coefficient of 1.0 to 1.6 times the linear expansion coefficient of copper, and the polyimide film is pyromellitic dianhydride or a derivative thereof, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4
4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'
An imide polyamic acid synthesized from any one or a plurality of acid dianhydride components selected from biphenyltetracarboxylic dianhydride, one or more linear diamines, and one or more flexible diamines It has become a reality.

【0011】また、かかるTAB用テープにおいて、前
記接着剤層が、少なくとも分子内に2個以上のエポキシ
基を有する化合物と、ダイマー酸を原料としてなるジカ
ルボン酸末端のポリアミドオリゴマーを反応させて得ら
れたエポキシ変性ポリアミド樹脂と、エポキシ基を1個
以上有する化合物とジアミン化合物、酸無水物、フェノ
ール性水酸基を1個以上有する化合物、シアナートエス
テル樹脂から選ばれる1種又は2種以上の硬化剤成分と
を配合してなることにある。
In the TAB tape, the adhesive layer is obtained by reacting a compound having at least two epoxy groups in the molecule with a dicarboxylic acid-terminated polyamide oligomer starting from dimer acid. Epoxy modified polyamide resin, one or more epoxy group-containing compounds and diamine compounds, acid anhydrides, compounds having one or more phenolic hydroxyl groups, and one or more curing agent components selected from cyanate ester resins It is to mix and.

【0012】本発明に係るTAB用テープの他の要旨と
するところは、有機絶縁フィルム層と、接着剤層と、保
護層とからなるTAB用テープにおいて、前記接着剤層
が、少なくとも分子内に2個以上のエポキシ基を有する
化合物と、ダイマー酸を原料としてなるジカルボン酸末
端のポリアミドオリゴマーを反応させて得られたエポキ
シ変性ポリアミド樹脂と、エポキシ基を1個以上有する
化合物とジアミン化合物、酸無水物、フェノール性水酸
基を1個以上有する化合物、シアナートエステル樹脂か
ら選ばれる1種又は2種以上の硬化剤成分とを配合して
なることにある。
Another aspect of the TAB tape according to the present invention is that in the TAB tape comprising an organic insulating film layer, an adhesive layer, and a protective layer, the adhesive layer is at least in the molecule. An epoxy-modified polyamide resin obtained by reacting a compound having two or more epoxy groups with a dicarboxylic acid-terminated polyamide oligomer using dimer acid as a raw material, a compound having one or more epoxy groups, a diamine compound, and an acid anhydride Compound, a compound having one or more phenolic hydroxyl groups, and one or more curing agent components selected from cyanate ester resins.

【0013】また、かかるTAB用テープにおいて、前
記接着剤層における硬化剤成分がシアナートエステル樹
脂であることにある。
In the TAB tape, the hardener component in the adhesive layer is a cyanate ester resin.

【0014】[0014]

【実施例】本発明に係るTAB用テープは、有機絶縁フ
ィルムと、半硬化状(B−ステージ状態)の接着剤層
と、保護層となる保護フィルムが順次積層された3層構
造から構成される。まず、本発明に係るTAB用テープ
の各構成要素について説明する。
EXAMPLE A TAB tape according to the present invention has a three-layer structure in which an organic insulating film, a semi-cured (B-stage state) adhesive layer, and a protective film serving as a protective layer are sequentially laminated. It First, each component of the TAB tape according to the present invention will be described.

【0015】本発明における有機絶縁フィルムは、線膨
張係数が銅の値の1.0倍〜1.6倍であるポリイミド
フィルムであり、厚さが好ましくは25〜190μm、
より好ましくは50〜125μmのものが用いられる。
かかるポリイミドフィルムは、ピロメリット酸二無水物
又はその誘導物(以下、ピロメリット酸二無水物類とい
う)と、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−オキシジフタ
ル酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラ
カルボン酸二無水物から選ばれるいずれか1つ又は複数
の酸二無水物成分(以下、3,3’,4,4’−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物等の酸二無水物成分
という)と、1種以上の直線性ジアミンと、1種以上の
屈曲性ジアミンとから合成されるポリアミド酸をイミド
化して得られる。
The organic insulating film in the present invention is a polyimide film having a coefficient of linear expansion of 1.0 to 1.6 times that of copper, and a thickness of preferably 25 to 190 μm.
It is more preferably 50 to 125 μm.
Such a polyimide film includes pyromellitic dianhydride or a derivative thereof (hereinafter referred to as pyromellitic dianhydride), 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, and 3,3 ′. Any one or more acid dianhydride components selected from ', 4,4'-oxydiphthalic dianhydride and 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (hereinafter, referred to as 3, 3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride and other acid dianhydride components), one or more linear diamines, and one or more flexible diamines synthesized from polyamic acid. Obtained by imidization.

【0016】かかるポリイミドフィルムは、まず、アル
ゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気中において、上記直線
性ジアミン及び屈曲性ジアミンを有機溶媒中に溶解、も
しくは拡散させ、上記ピロメリット酸二無水物類及び
3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物等の酸二無水物成分の混合物を、固体もしくは
有機溶媒による溶液もしくはスラリーの形で添加し、ポ
リイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液を得た後、フ
ィルム状に形成し、熱的及び/又は化学的に脱水閉環
(イミド化)することにより得られる。
The polyimide film is prepared by first dissolving or diffusing the linear diamine and the flexible diamine in an organic solvent in an atmosphere of an inert gas such as argon or nitrogen to obtain the pyromellitic dianhydride and the pyromellitic dianhydride. A mixture of acid dianhydride components such as 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride in the form of a solution or a slurry with a solid or organic solvent is added, and a polyamic acid which is a precursor of polyimide is added. After obtaining a solution, it is obtained by forming a film and thermally and / or chemically performing dehydration ring closure (imidization).

【0017】ポリアミド酸溶液を得る反応において、上
記とは逆にまずピロメリット酸二無水物類及び3,
3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物等の酸二無水物成分の溶液を作製し、この溶液中に
直線性ジアミン及び屈曲性ジアミンの混合物を、固体も
しくは有機溶媒による溶液もしくはスラリーの形で添加
してもよい。
In the reaction for obtaining a polyamic acid solution, contrary to the above, first, pyromellitic dianhydride and 3,
A solution of an acid dianhydride component such as 3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride is prepared, and a mixture of a linear diamine and a flexible diamine is added to the solution, which is a solution of a solid or an organic solvent, or It may be added in the form of a slurry.

【0018】熱的及び/又は化学的に脱水閉環(イミド
化)する方法について、例を挙げて説明すると、熱的方
法では、上記ポリアミド酸溶液を支持板、PET等の有
機フィルム、ドラムあるいはエンドレスベルト等の支持
体上に流延又は塗布して膜状となし、乾燥させて自己支
持性を有する膜を得る。この乾燥は150℃以下の温度
で約5〜90分間行うのが好ましい。次いで、これを更
に加熱して乾燥してイミド化し、本発明に用いるポリイ
ミドフィルムを得る。加熱の際の温度は150〜500
℃の範囲の温度が好ましい。加熱の際の昇温速度には制
限はないが、徐々に加熱し、最高温度が上記温度になる
ようにするのが好ましい。加熱時間は、フィルム厚みや
最高温度によって異なるが、一般には最高温度に達して
から10秒〜5分の範囲が好ましい。自己支持性を有す
る膜を加熱する際は、支持体から引きはがし、その状態
で端部を固定して加熱すると線膨張係数が小さいフィル
ムが得られるので好ましい。
A method of thermally and / or chemically performing dehydration ring closure (imidization) will be described with reference to an example. In the thermal method, the polyamic acid solution is used as a support plate, an organic film such as PET, a drum or an endless film. It is cast or coated on a support such as a belt to form a film, and dried to obtain a film having self-supporting properties. This drying is preferably carried out at a temperature of 150 ° C. or lower for about 5 to 90 minutes. Next, this is further heated and dried to imidize to obtain a polyimide film used in the present invention. The temperature during heating is 150-500
Temperatures in the range of ° C are preferred. There is no limitation on the rate of temperature increase during heating, but it is preferable that the maximum temperature reaches the above temperature by gradually heating. The heating time varies depending on the film thickness and the maximum temperature, but is generally preferably in the range of 10 seconds to 5 minutes after the maximum temperature is reached. When the film having self-supporting properties is heated, it is preferable to peel it off from the support and fix the ends in this state to heat it, so that a film having a small linear expansion coefficient can be obtained.

【0019】また、化学的方法では、上記ポリアミド酸
溶液に化学量論以上の脱水剤と触媒量の第3級アミンを
加え、熱的に脱水する場合と同様の方法で処理すると、
熱的に脱水する場合より短時間で所望のポリイミド膜が
得られる。
In the chemical method, a dehydrating agent in a stoichiometric amount or more and a catalytic amount of a tertiary amine are added to the polyamic acid solution, and the same treatment as in the case of thermal dehydration is carried out.
The desired polyimide film can be obtained in a shorter time than when thermally dehydrated.

【0020】熱的にイミド化する方法と化学的にイミド
化する方法を比較すると、化学的方法による方が得られ
たポリイミドの機械的強度が大きく、且つ線膨張係数が
小さくなるという利点がある。なお、熱的にイミド化す
る方法と化学的にイミド化する方法とを併用することも
可能である。
Comparing the thermal imidization method and the chemical imidization method, the chemical method has the advantages that the mechanical strength of the obtained polyimide is large and the linear expansion coefficient is small. . In addition, it is also possible to use the method of thermally imidizing and the method of chemically imidizing together.

【0021】このように上記ポリアミド酸溶液を熱的及
び/又は化学的にイミド化することによって、本発明で
用いるポリイミドフィルムが得られるのである。
Thus, the polyimide film used in the present invention can be obtained by thermally and / or chemically imidizing the above polyamic acid solution.

【0022】ここで、直線性ジアミンとは、エーテル結
合等の屈曲基を含まず、2つの窒素原子を結ぶ直線とジ
アミンの主鎖方向が一致するような構造を有するジアミ
ンをいい、例えば、化1
The term "linear diamine" as used herein means a diamine having a structure that does not include a bending group such as an ether bond and the direction of the main chain of the diamine coincides with the straight line connecting two nitrogen atoms. 1

【化1】 (ただし、Xは、F,Cl,Br,CH3 ,CH3 O,
CF3 ,CF3 Oを示す)等のジアミンを例示すること
ができる。
[Chemical 1] (However, X is F, Cl, Br, CH 3 , CH 3 O,
Examples thereof include diamines such as CF 3 and CF 3 O).

【0023】一方、屈曲性ジアミンとは、主鎖中に、エ
ーテル結合やカルボニル基等の屈曲基を含む構造を有す
るジアミン、又は2つの窒素原子を結ぶ直線とジアミン
の主鎖方向が一致しないような構造を有するジアミンを
いい、例えば、化2、化3、化4
On the other hand, the flexible diamine is a diamine having a structure containing a flexible group such as an ether bond or a carbonyl group in the main chain, or a straight line connecting two nitrogen atoms does not coincide with the main chain direction of the diamine. A diamine having a different structure, for example, chemical formula 2, chemical formula 3, chemical formula 4

【化2】 [Chemical 2]

【化3】 [Chemical 3]

【化4】 (ただし、Xは、F,Cl,Br,CH3 ,CH3 O,
CF3 ,CF3 Oを示す)等のジアミンを例示すること
ができる。
[Chemical 4] (However, X is F, Cl, Br, CH 3 , CH 3 O,
Examples thereof include diamines such as CF 3 and CF 3 O).

【0024】なお、上記酸二無水物を用いる比率は、全
酸二無水物中、好ましくはピロメリット酸二無水物類が
5〜70mol%で、3,3’,4,4’−ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸二無水物等の酸二無水物成分が3
0〜95mol%であるのが良く、より好ましくはピロ
メリット酸二無水物類が10〜50mol%で、3,
3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸等の
酸二無水物成分が50〜90mol%であるのが良い。
ピロメリット酸二無水物類が多すぎると線膨張係数が小
さくなりすぎ、一方3,3’,4,4’−ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸等の酸二無水物成分が多すぎると弾
性率が小さくなりすぎるため、上記比率が好ましい。
The ratio of the above-mentioned acid dianhydride is preferably 5 to 70 mol% of pyromellitic dianhydride in the total acid dianhydride and 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetra Acid dianhydride component such as carboxylic acid dianhydride is 3
It is preferably 0 to 95 mol%, more preferably 10 to 50 mol% of pyromellitic dianhydride,
The acid dianhydride component such as 3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid is preferably 50 to 90 mol%.
If the amount of pyromellitic dianhydride is too large, the linear expansion coefficient becomes too small, while if the amount of the acid dianhydride component such as 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid is too large, the elastic modulus becomes small. Therefore, the above ratio is preferable.

【0025】また、上記ジアミンを用いる比率は、全ジ
アミン中、好ましくは直線性ジアミンが30〜90mo
l%、屈曲性ジアミンが10〜70mol%であるのが
良い。
The ratio of the above-mentioned diamine is preferably 30 to 90 mo of linear diamine in all diamines.
1%, and the flexible diamine is preferably 10 to 70 mol%.

【0026】上記成分の組み合わせは、高い弾性率を有
しながらかつ銅よりやや大きい線膨張係数となるフィル
ムを得るために好適なものであり、中でも酸二無水物成
分として、ピロメリット酸二無水物類及び3,3’,
4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を
用い、ジアミン成分として、直線性ジアミンについては
パラフェニレンジアミン、屈曲性ジアミンについては
4,4’−ジアミノジフェニルエーテルを用いることが
特性バランス上、より好ましい。
The combination of the above components is suitable for obtaining a film having a high elastic modulus and a coefficient of linear expansion slightly larger than that of copper. Among them, the acid dianhydride component is pyromellitic dianhydride. Things and 3,3 ',
It is more preferable to use 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride and, as the diamine component, paraphenylenediamine for the linear diamine and 4,4′-diaminodiphenyl ether for the flexible diamine in terms of the property balance. .

【0027】次に、接着剤層は、熱硬化型のもので半硬
化状(B−ステージ状態)のものが用いられる。この接
着剤層は、分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合
物と、ダイマー酸を原料としてなるジカルボン酸末端の
ポリアミドオリゴマーを反応させて得られたエポキシ変
性ポリアミド樹脂と、エポキシ基を1個以上有する化合
物と、ジアミン化合物、酸無水物,フェノール性水酸基
を1個以上有する化合物、シアナートエステル樹脂から
選ばれる1種又は2種以上の硬化剤成分とを配合して得
られる。接着剤層の膜厚は好ましくは5〜40μm、よ
り好ましくは10〜30μmである。
Next, as the adhesive layer, a thermosetting type and a semi-cured type (B-stage state) is used. This adhesive layer comprises an epoxy-modified polyamide resin obtained by reacting a compound having two or more epoxy groups in the molecule with a dicarboxylic acid-terminated polyamide oligomer starting from dimer acid, and one epoxy group. It is obtained by blending the above compound with one or more curing agent components selected from diamine compounds, acid anhydrides, compounds having one or more phenolic hydroxyl groups, and cyanate ester resins. The thickness of the adhesive layer is preferably 5 to 40 μm, more preferably 10 to 30 μm.

【0028】かかる接着剤層において、エポキシ変性ポ
リアミド樹脂は、トルエンやクロロベンゼンなどの有機
溶媒を反応溶媒とし、ジカルボン酸末端ポリアミドに、
2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を加え、好
ましくはジカルボン酸基に対してエポキシ基の当量数が
上回るような存在比となるように若干過剰量のエポキシ
樹脂を加え、加熱下反応させることによって得られる。
この際トリエチルアミンなどの反応触媒を用いると、よ
り収率を上げることができる。この反応は、ジカルボン
酸末端ポリアミドを用いることが重要である。もしアミ
ン末端のポリアミドを用いるとエポキシと反応して生成
する2級アミンがさらにエポキシと反応し、またこれに
より生成した3級アミンがエポキシとアミンとの反応を
促進するなど反応が複雑になり反応の制御ができないた
め、エポキシ変性ポリアミド樹脂の合成のためには、ジ
カルボン酸末端ポリアミドを用いることが必要である。
これらのエポキシ樹脂は単独で用いても、2種以上の混
合物として用いても構わない。
In the adhesive layer, the epoxy-modified polyamide resin is a dicarboxylic acid-terminated polyamide using an organic solvent such as toluene or chlorobenzene as a reaction solvent.
Add an epoxy resin having two or more epoxy groups, and preferably add a slight excess amount of the epoxy resin so that the abundance ratio of the epoxy groups is higher than the dicarboxylic acid group, and react under heating. Obtained by
At this time, the yield can be further increased by using a reaction catalyst such as triethylamine. It is important to use dicarboxylic acid terminated polyamide for this reaction. If an amine-terminated polyamide is used, the secondary amine formed by reacting with the epoxy will further react with the epoxy, and the resulting tertiary amine will accelerate the reaction between the epoxy and the amine, leading to a complicated reaction. Therefore, it is necessary to use a dicarboxylic acid-terminated polyamide for the synthesis of the epoxy-modified polyamide resin.
These epoxy resins may be used alone or as a mixture of two or more kinds.

【0029】ここで、このジカルボン酸末端ポリアミド
は、ダイマー酸とジアミン若しくはジイソシアネートを
反応させて得られるが、ダイマー酸をモノマーとして用
いることで、吸湿性の低いポリアミドを得ることができ
る。なお、ジアミンからは公知の方法を用いカルボン酸
に対して過少量のジアミンを加えることによって得られ
る。また、ジイソシアネートからはN−メチル−2−ピ
ロリドン、ジメチルホルムアミドなどの有機溶媒を反応
溶媒としカルボン酸に対して過少量のジイソシアネート
を加え、加熱下反応させることによって得られる。
The dicarboxylic acid-terminated polyamide can be obtained by reacting dimer acid with diamine or diisocyanate. By using dimer acid as a monomer, a polyamide having low hygroscopicity can be obtained. The diamine can be obtained by adding an excessive amount of diamine to the carboxylic acid using a known method. Further, diisocyanate can be obtained by using an organic solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone or dimethylformamide as a reaction solvent and adding an excessively small amount of diisocyanate to a carboxylic acid and reacting with heating.

【0030】ダイマー酸と反応させるジアミン若しくは
ジイソシアネートとしては種々のものが用いることがで
きるが、特にはイソフォロンジイソシアネートが吸湿
性、耐熱性の点から好ましい。
As the diamine or diisocyanate to be reacted with the dimer acid, various kinds can be used, but isophorone diisocyanate is particularly preferable from the viewpoint of hygroscopicity and heat resistance.

【0031】また、ダイマー酸としては不飽和脂肪酸を
原料としたものであればどのようなものでもよく、モノ
マー酸、トリマー酸などを含んでいてもよい。また二重
結合を飽和させた水添ダイマー酸であってもよい。
The dimer acid may be any dimer acid as long as it is made of unsaturated fatty acid as a raw material, and may contain monomer acid, trimer acid and the like. Further, hydrogenated dimer acid in which the double bond is saturated may be used.

【0032】なお、ジカルボン酸末端ポリアミドの分子
量は1000〜30000であることが好ましい。これ
より小さいとポリアミドとしての可撓性が充分に発現し
ない。またこれより大きいとジカルボン酸末端ポリアミ
ドをエポキシ化するにあたって反応が困難になる。
The molecular weight of the dicarboxylic acid terminated polyamide is preferably 1,000 to 30,000. If it is smaller than this, flexibility as a polyamide is not sufficiently expressed. On the other hand, if it is larger than this, the reaction becomes difficult when epoxidizing the dicarboxylic acid terminated polyamide.

【0033】また、ジカルボン酸末端ポリアミドと反応
させるエポキシ樹脂は、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂に代表されるような分子骨格中に2個のエポキシ基を
有する2官能エポキシ樹脂が、反応の制御が容易であり
好ましい。
As the epoxy resin to be reacted with the dicarboxylic acid terminated polyamide, a bifunctional epoxy resin having two epoxy groups in its molecular skeleton, as represented by a bisphenol A type epoxy resin, is easy to control the reaction. Yes preferred.

【0034】また、分子骨格上に3個以上のエポキシ基
を有する多官能エポキシ樹脂も一部用いることができ
る。例えばフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレ
ゾールノボラック型エポキシ樹脂、テトラグリシジルア
ミン系4官能エポキシ樹脂、トリグリシジルアミン系3
官能エポキシ樹脂、ナフタレン系3官能エポキシ樹脂等
を用いることができる。ただし多官能エポキシ樹脂の官
能基(エポキシ基)数が大きくなりすぎると、分子鎖の
分岐が複雑になりすぎ粘度が高くなりすぎて取扱い性に
問題が生じ、極端な場合なゲル化することがあり好まし
くない。また、使用量についても、多官能エポキシ樹脂
を用いる場合は、2官能エポキシ樹脂のモル数の1/5
以下であることが好ましい。多官能エポキシ樹脂の量が
これより多いと、架橋が複雑に起こりすぎるため、合成
の段階でゲル化を引き起こし、取扱い性に難があり、ま
た可撓性が極度に低下することがあり好ましくない。
A part of a polyfunctional epoxy resin having three or more epoxy groups on the molecular skeleton can also be used. For example, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, tetraglycidyl amine type tetrafunctional epoxy resin, triglycidyl amine type 3
A functional epoxy resin, a naphthalene-based trifunctional epoxy resin, or the like can be used. However, if the number of functional groups (epoxy groups) in the polyfunctional epoxy resin is too large, branching of the molecular chain becomes too complicated and the viscosity becomes too high, which causes problems in handling and may cause gelation in extreme cases. There is not preferable. Also, regarding the amount used, when a polyfunctional epoxy resin is used, it is 1/5 of the number of moles of the bifunctional epoxy resin.
The following is preferable. When the amount of the polyfunctional epoxy resin is larger than this, crosslinking is too complicated to cause gelation at the synthesis stage, which is difficult to handle, and flexibility is extremely lowered, which is not preferable. .

【0035】本発明の接着剤層として用いる第二成分で
あるエポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキ
シ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂、テトラグリシジルアミ
ン系エポキシ樹脂、トリグリシジルアミン系エポキシ樹
脂、ナフタレン系エポキシ樹脂その他、種々の2官能エ
ポキシ樹脂、多官能エポキシ樹脂などを1種又は2種以
上組み合わせて用いることができる。
The second component epoxy resin used as the adhesive layer of the present invention includes bisphenol A type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, tetraglycidyl amine type epoxy resin, triglycidyl amine type. Epoxy resins, naphthalene-based epoxy resins, and other various bifunctional epoxy resins and polyfunctional epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

【0036】本発明の接着剤層に用いられる硬化剤成分
としては芳香族ジアミン化合物、酸無水物、フェノール
性水酸基を1個以上有する化合物、シアナートエステル
樹脂から選ばれる1種又は2種以上の混合物が可能であ
るが、テープの反りを小さくできるものとして、シアナ
ートエステル樹脂が好適である。
The curing agent component used in the adhesive layer of the present invention is one or more selected from aromatic diamine compounds, acid anhydrides, compounds having at least one phenolic hydroxyl group, and cyanate ester resins. Although a mixture is possible, a cyanate ester resin is preferable as it can reduce the warp of the tape.

【0037】本発明に用いられる接着剤層は、上記のエ
ポキシ変性ポリアミド樹脂にエポキシ樹脂とエポキシ樹
脂硬化剤成分を適量配合してなる。配合割合としてはエ
ポキシ変性ポリアミド樹脂20〜80重量部、エポキシ
樹脂20〜80重量部が好適である。エポキシ樹脂硬化
剤成分はエポキシ樹脂と硬化剤の種類によって適量添加
する。なお、エポキシ変性ポリアミド樹脂が20重量部
未満では、接着剤が柔軟性に欠け、80重量部を越える
と、高温における接着性等の特性が低下することにな
る。
The adhesive layer used in the present invention comprises the above epoxy-modified polyamide resin and an appropriate amount of an epoxy resin and an epoxy resin curing agent component. The compounding ratio is preferably 20 to 80 parts by weight of epoxy-modified polyamide resin and 20 to 80 parts by weight of epoxy resin. The epoxy resin curing agent component is added in an appropriate amount depending on the types of epoxy resin and curing agent. If the epoxy-modified polyamide resin is less than 20 parts by weight, the adhesive lacks flexibility, and if it exceeds 80 parts by weight, properties such as adhesiveness at high temperature deteriorate.

【0038】本発明に用いられる接着剤層はこれら3成
分以外に他成分を含んでも構わない。例えば、アクリル
系樹脂、フェノール系樹脂、イミド系樹脂、ゴム系樹脂
などの樹脂成分、エポキシ樹脂に対しての硬化促進剤・
硬化触媒、各種無機・有機フィラーなどが考えられる。
また作業性の観点から各種の有機溶剤に溶解して用いる
のが好ましい。用いる溶剤としては、エポキシ樹脂とポ
リアミド樹脂をともに溶解することが必要であり、メチ
ルエチルケトン、トルエン、クロロベンゼン、トリクロ
ロエチレン、塩化メチレン、メチルセロソルブ、エチル
セロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ルなどを接着剤組成に応じて適宜混合し用いることがで
きる。ただし、硬化剤成分としてシアナートエステル樹
脂を用いる場合には、アルコール系溶剤はシアナート基
との反応が起こるため好ましくない。
The adhesive layer used in the present invention may contain other components in addition to these three components. For example, acrylic resin, phenolic resin, imide resin, resin component such as rubber resin, curing accelerator for epoxy resin
A curing catalyst, various inorganic / organic fillers, etc. can be considered.
From the viewpoint of workability, it is preferably dissolved in various organic solvents before use. As the solvent to be used, it is necessary to dissolve both the epoxy resin and the polyamide resin, and methyl ethyl ketone, toluene, chlorobenzene, trichloroethylene, methylene chloride, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, dimethylacetamide, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, etc. Can be appropriately mixed and used according to the adhesive composition. However, when a cyanate ester resin is used as a curing agent component, an alcohol solvent is not preferable because it reacts with a cyanate group.

【0039】また、本発明における接着剤層の保護層と
しては、接着剤の乾燥時に、軟化・劣化・変質を起こさ
ないだけの耐熱性を有していればどのようなものでも構
わないが、剥離性・強度・価格などのバランスから、ポ
リエチレンテレフタレートやポリプロピレンのフィルム
が好適である。
Any protective layer may be used as the protective layer for the adhesive layer in the present invention, as long as it has heat resistance that does not cause softening, deterioration or deterioration when the adhesive is dried. A polyethylene terephthalate or polypropylene film is preferable in terms of balance of peelability, strength, price, and the like.

【0040】次に、本発明のTAB用テープの製造方法
について説明する。まず、保護フィルム上に所定の配合
の接着剤を、乾燥後の膜厚が前記5〜40μm、より好
ましくは10〜30μmの範囲になるように塗布し、6
0〜160℃、1〜3分の加熱条件で乾燥させ、接着剤
層を半硬化状態(B−ステージ化状態)にする。次に、
保護フィルム上に塗布した接着剤層と有機絶縁フィルム
とを重ね合わせ、20〜180℃の温度で圧力1kg/cm
2 以上の条件で圧着することにより、本発明に係るTA
B用テープが得られる。
Next, a method for manufacturing the TAB tape of the present invention will be described. First, an adhesive having a predetermined composition is applied on the protective film so that the film thickness after drying is in the range of 5 to 40 μm, more preferably 10 to 30 μm.
The adhesive layer is dried in a heating condition of 0 to 160 ° C. for 1 to 3 minutes to bring the adhesive layer into a semi-cured state (B-staged state). next,
The adhesive layer applied on the protective film and the organic insulating film are overlaid, and the pressure is 1 kg / cm at a temperature of 20 to 180 ° C.
By pressing under two or more conditions, the TA according to the present invention
A tape for B is obtained.

【0041】この際、フィルム上に塗布した接着剤層を
有機絶縁フィルム層より狭くスリットして用いると、テ
ープ中央の所定位置にのみ接着剤層を形成することがで
き、銅箔を張り合わせたときに、接着剤がむき出しにな
る部分がなくなる。
At this time, if the adhesive layer applied on the film is slit and used narrower than the organic insulating film layer, the adhesive layer can be formed only at a predetermined position in the center of the tape. In addition, there is no part where the adhesive is exposed.

【0042】以上、本発明に係るTAB用テープの実施
例を説明したが、本考案はこれらの実施例のみに限定さ
れるものではなく、本考案はその趣旨を逸脱しない範囲
内で当業者の知識に基づき、種々なる改良、変更、修正
を加えた態様で実施しうるものである。
The embodiments of the TAB tape according to the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to these embodiments, and the present invention is within the scope of those skilled in the art without departing from the spirit thereof. It can be implemented in a mode in which various improvements, changes and modifications are made based on the knowledge.

【0043】以下に実施例により本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれら実施例によって限定される
ものではない。なお、以下の記載において、「部」は特
に断らない限り、「重量部」を意味する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In the following description, "part" means "part by weight" unless otherwise specified.

【0044】なお、実施例中のPMDAはピロメリット
酸二無水物、BTDAは3,3’,4,4’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物、ODAはオキシジア
ニリン(4,4’−ジアミノジフェニルエーテル)、p
−PDAはパラフェニレンジアミン、BAPPは2,2
−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロ
パンを表す。また、NMPはN−メチル−2−ピロリド
ン、MEKはメチルエチルケトン、DMFはジメチルホ
ルムアミドを表す。
In the examples, PMDA is pyromellitic dianhydride, BTDA is 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, and ODA is oxydianiline (4,4'-diamino). Diphenyl ether), p
-PDA is paraphenylenediamine, BAPP is 2,2
-Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane. Further, NMP represents N-methyl-2-pyrrolidone, MEK represents methyl ethyl ketone, and DMF represents dimethylformamide.

【0045】実施例1 まず、攪拌器、還流管及び排気管を備えたフラスコにダ
イマー酸(PRIPOL 1009 ユニケマ社製)を71.5g、
NMPを120g入れ攪拌し溶解する。これにイソフォ
ロンジイソシアネート14gを加え100℃で1時間、
150℃で3時間、200℃で2時間加熱を行い反応を
進めた。この反応溶液よりNMPを留去し、分子量12
70のジカルボン酸末端ポリアミドを得た。
Example 1 First, 71.5 g of dimer acid (manufactured by Unichema PRIPOL 1009) was placed in a flask equipped with a stirrer, a reflux pipe and an exhaust pipe.
Add 120 g of NMP and stir to dissolve. 14g of isophorone diisocyanate was added to this, and 100 ° C for 1 hour,
The reaction was carried out by heating at 150 ° C. for 3 hours and 200 ° C. for 2 hours. NMP was distilled off from this reaction solution to obtain a molecular weight of 12
70 dicarboxylic acid terminated polyamides were obtained.

【0046】次に、攪拌器、還流管を備えたフラスコに
上記反応により得られたジカルボン酸末端ポリアミドを
40.0g、エポキシ樹脂エピコート1004(油化シ
ェルエポキシ社製)64.3g、クロロベンゼン200
g、トリエチルアミン8.0gを秤取し、140℃で1
0時間還流を行い反応を進めた。この反応溶液よりクロ
ロベンゼン及びトリエチルアミンを留去して、エポキシ
変性ポリアミド樹脂を得た。
Next, in a flask equipped with a stirrer and a reflux tube, 40.0 g of the dicarboxylic acid-terminated polyamide obtained by the above reaction, 64.3 g of epoxy resin Epicoat 1004 (produced by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), and chlorobenzene 200 were used.
g and 8.0 g of triethylamine are weighed out, and 1 at 140 ° C.
Refluxing was performed for 0 hours to proceed the reaction. Chlorobenzene and triethylamine were distilled off from this reaction solution to obtain an epoxy-modified polyamide resin.

【0047】上記反応により得られたエポキシ変性ポリ
アミド樹脂の40%MEK溶液を150部と、エポキシ
樹脂としてエピコート1001(油化シェルエポキシ社
製)の40%MEK溶液を70部と、硬化剤としてシア
ナートエステル樹脂M−50(チバ・ガイギー社製)の
40%MEK溶液を35部とを配合して接着剤層用溶液
を作製し、厚さ35μmのポリエチレンテレフタレート
フィルムからなる保護フィルム上に上記接着剤層用溶液
を塗布し、130℃で2分間加熱乾燥して膜厚15μm
の接着剤層を形成した。
150 parts of a 40% MEK solution of the epoxy-modified polyamide resin obtained by the above reaction, 70 parts of a 40% MEK solution of Epicoat 1001 (produced by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) as an epoxy resin, and a shea as a curing agent. A 40% MEK solution of a nato ester resin M-50 (manufactured by Ciba Geigy) was mixed with 35 parts to prepare a solution for an adhesive layer, and the above-mentioned adhesion was performed on a protective film made of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 35 μm. Apply the agent layer solution and heat dry at 130 ° C for 2 minutes to obtain a film thickness of 15 μm
The adhesive layer of was formed.

【0048】また、2リットルのセパラブルフラスコに
DMF1000gとp−PDA37.8gとODA2
3.3gをとり、ジアミノ化合物が完全に溶解するまで
室温でよく混合しその後、氷で冷却しながら攪拌した。
次にPMDA16.9gとBTDA123.7gの混合
物の全量近くを粉体状で徐々に添加し粘度が2500ポ
イズになったところで添加を中止し、その後約30分間
冷却攪拌し、ポリアミド酸のDMF溶液を得た。
In a 2 liter separable flask, 1000 g of DMF, 37.8 g of p-PDA and ODA2 were added.
3.3 g was taken, mixed well at room temperature until the diamino compound was completely dissolved, and then stirred while cooling with ice.
Next, gradually add powdery powder in the vicinity of the total amount of 16.9 g of PMDA and 123.7 g of BTDA. When the viscosity reached 2500 poise, the addition was stopped, and then the mixture was cooled and stirred for about 30 minutes to prepare a DMF solution of polyamic acid. Obtained.

【0049】上記反応により得られたポリアミド酸溶液
100gに無水酢酸15gとイソキノリン8gを添加混
合後ガラス板上に流延塗布し、約100℃で5分間乾燥
後、ポリアミド酸塗膜をガラス板より剥がし、その塗膜
を支持枠に固定した。その後、約200℃で約1分間、
約300℃で約1分間、約450℃で約2分間加熱し脱
水閉環乾燥させ、約75μm厚さのポリイミドフィルム
を得た。得られたポリイミドフィルムについて、弾性率
及び線膨張係数を調べた。弾性率については、ASTM
D882に従い測定し、線膨張係数については理学電
機製TMA8140により100℃から200℃までの
値を測定した。その結果を表1に示した。
To 100 g of the polyamic acid solution obtained by the above reaction, 15 g of acetic anhydride and 8 g of isoquinoline were added and mixed, followed by flow casting coating on a glass plate and drying at about 100 ° C. for 5 minutes. It was peeled off and the coating film was fixed to a supporting frame. After that, at about 200 ℃ for about 1 minute,
The polyimide film having a thickness of about 75 μm was obtained by heating at about 300 ° C. for about 1 minute and at about 450 ° C. for about 2 minutes and dehydration ring-closing drying. The elastic modulus and linear expansion coefficient of the obtained polyimide film were examined. For elastic modulus, see ASTM
The temperature was measured according to D882, and the linear expansion coefficient was measured from R.C. The results are shown in Table 1.

【0050】[0050]

【表1】 [Table 1]

【0051】次に上記の要領で作成した厚さ75μmの
ポリイミドフィルムを35mm幅にスリットし、また、上
記の要領で保護フィルム上に塗布した膜厚15μmの接
着剤層を26mm幅にスリットし、前記保護フィルム上に
塗布した接着剤層を前記ポリイミドフィルムの中央に配
置し、温度90℃、圧力2kg/cm2 の条件で加熱加圧
し、本発明に係るTAB用テープを得た。
Next, the polyimide film having a thickness of 75 μm prepared as described above was slit into a width of 35 mm, and the adhesive layer having a thickness of 15 μm applied on the protective film was slit into a width of 26 mm as described above. The adhesive layer applied on the protective film was placed in the center of the polyimide film and heated and pressed under the conditions of a temperature of 90 ° C. and a pressure of 2 kg / cm 2 to obtain a TAB tape according to the present invention.

【0052】かかるTAB用テープの保護層を剥がし、
27mm幅の銅箔(厚さ35μm)を配置して120℃で
ラミネートした後、80℃、100℃、120℃、14
0℃で各3時間、160℃で4時間加熱して接着剤を硬
化させ、銅箔積層フィルムを得た。また、櫛型パターン
は、かかる銅箔積層フィルムを用いてエッチングを行い
形成した。
Peel off the protective layer of the TAB tape,
After arranging a copper foil of 27 mm width (thickness 35 μm) and laminating at 120 ° C., 80 ° C., 100 ° C., 120 ° C., 14
The adhesive was cured by heating at 0 ° C. for 3 hours and at 160 ° C. for 4 hours to obtain a copper foil laminated film. The comb pattern was formed by etching using the copper foil laminated film.

【0053】得られたTAB用テープに対し、接着剤
の吸収率、接着力、線間絶縁抵抗、耐マイグレー
ション性、反りについて特性評価試験を行い、その結
果を表2に示した。接着剤の吸収率については、AST
M−D−570に従い、24時間後の吸収率を調べた。
接着力については、TAB用テープに電解銅箔をラミネ
ートした銅箔積層フィルムを用い、JIS C5016
に従い、20℃及び100℃におけるポリイミドフィル
ムと電解銅箔の接着力を調べた。線間絶縁抵抗について
は、TAB用テープに線間1mm櫛形パターンを形成した
ものを用い、常態及び吸湿後において、500Vの直流
電圧を加えてその抵抗値を測定した。常態は温度20
℃、湿度65%の条件下に24時間放置した試料を、ま
た吸湿後は温度40℃、湿度90%の条件下に96時間
放置した試料を用いた。耐マイグレーション性について
は、TAB用テープに線間50μm櫛形パターンを形成
したものを用いてシプレイ社LT34により10分間メ
ッキ処理を施し、温度130℃、湿度85%の条件下
で、直流電圧100Vで絶縁抵抗を測定し抵抗値が5×
106 Ωに到達する時間を調べた。反りについては、室
温に冷却した銅箔積層フィルムを用いて、温度20℃、
湿度50%の雰囲気中に48時間放置した後、4cmの長
さに切り出し、平坦な面上に置いて4隅が平面からどれ
だけ離れているか測定し、4点の平均値で反りの値とし
た。
The obtained TAB tape was subjected to a characteristic evaluation test with respect to the absorptance of the adhesive, the adhesive force, the insulation resistance between lines, the migration resistance and the warpage, and the results are shown in Table 2. About the absorption rate of the adhesive, AST
The absorption rate after 24 hours was examined according to MD-570.
Regarding the adhesive strength, a copper foil laminated film in which an electrolytic copper foil is laminated on a TAB tape is used, and JIS C5016 is used.
Then, the adhesive strength between the polyimide film and the electrolytic copper foil at 20 ° C. and 100 ° C. was examined. Regarding the line insulation resistance, a TAB tape having a line-shaped 1 mm comb pattern formed thereon was used, and a resistance value was measured by applying a DC voltage of 500 V under normal conditions and after moisture absorption. Normal temperature is 20
A sample left for 24 hours under the condition of ° C and a humidity of 65%, and a sample left after left for 96 hours under the condition of a temperature of 40 ° C and a humidity of 90% were used. Regarding migration resistance, a TAB tape with a 50 μm inter-line pattern formed was plated for 10 minutes by Shipley LT34, and insulated at a DC voltage of 100 V under the conditions of a temperature of 130 ° C. and a humidity of 85%. The resistance is measured and the resistance value is 5 x
The time to reach 10 6 Ω was investigated. Regarding the warp, using a copper foil laminated film cooled to room temperature, a temperature of 20 ° C,
After leaving it in an atmosphere of 50% humidity for 48 hours, cut it out to a length of 4 cm, put it on a flat surface, measure how far the four corners are from the plane, and measure the average value of the four points as the warp value. did.

【0054】[0054]

【表2】 [Table 2]

【0055】実施例2 実施例1と同様の手順で合成したエポキシ変性ポリアミ
ドの40%MEK溶液を165部と、エポキシ樹脂とし
てエピコート1001(油化シェルエポキシ社製)の4
0%MEK溶液を45部、エピコート180H65(油
化シェルエポキシ社製)の40%MEK溶液を25部、
及びテトラッドC(三菱瓦斯化学社製)の40%MEK
溶液を25部と、硬化剤として4,4’−ジアミノジフ
ェニルスルフォンを5.4部及びイソフォロンジアミン
を0.9部とを配合して接着剤層用溶液を作製し、以下
実施例1と同様にして本発明に係るTAB用テープ、及
び銅箔積層フィルムを作製した。得られたTAB用テー
プについて実施例1と同様の特性評価試験を行い、その
結果を表2に示した。
Example 2 165 parts of a 40% MEK solution of an epoxy-modified polyamide synthesized by the same procedure as in Example 1 and 4 of Epicoat 1001 (produced by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) as an epoxy resin.
45 parts of 0% MEK solution, 25 parts of 40% MEK solution of Epikote 180H65 (produced by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.),
And 40% MEK of Tetrad C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.)
A solution for an adhesive layer was prepared by mixing 25 parts of the solution, 5.4 parts of 4,4′-diaminodiphenylsulfone as a curing agent and 0.9 part of isophoronediamine to prepare a solution for an adhesive layer. Similarly, a TAB tape and a copper foil laminated film according to the present invention were produced. The obtained TAB tape was subjected to the same characteristic evaluation test as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

【0056】実施例3 2リットルのセパラブルフラスコにDMF1000gと
p−PDA37.8gとBAPP47.8gをとり、ジ
アミン化合物が完全に溶解するまで室温でよく混合しそ
の後、氷で冷却しながら攪拌した。次にBTDA10
0.1gとPMDA33.9gの全量近くを粉体状で徐
々に添加し粘度が2500ポイズになったところで添加
を中止し、その後約30分間冷却攪拌し、ポリアミド酸
のDMF溶液を得て、この溶液を用い実施例1と同様の
方法で厚さ75μmのポリイミドフィルムを得た。得ら
れたポリイミドフィルムについて実施例1と同様の物性
を調べ、その結果を表1に示した。
Example 3 1000 g of DMF, 37.8 g of p-PDA and 47.8 g of BAPP were placed in a 2 liter separable flask, mixed well at room temperature until the diamine compound was completely dissolved, and then stirred while cooling with ice. Next, BTDA10
About 0.1 g and 33.9 g of PMDA were gradually added in powder form and the addition was stopped when the viscosity reached 2500 poise, and then the mixture was cooled and stirred for about 30 minutes to obtain a DMF solution of polyamic acid. Using the solution, a polyimide film having a thickness of 75 μm was obtained in the same manner as in Example 1. The same physical properties as in Example 1 were examined for the obtained polyimide film, and the results are shown in Table 1.

【0057】上記ポリイミドフィルムを用いた以外は、
実施例1と同様にして本発明に係るTAB用テープ、及
び銅箔積層フィルムを作製した。得られたTAB用テー
プについて実施例1と同様の特性評価試験を行い、その
結果を表2に示した。
Other than using the above polyimide film,
In the same manner as in Example 1, a TAB tape according to the present invention and a copper foil laminated film were produced. The obtained TAB tape was subjected to the same characteristic evaluation test as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

【0058】比較例1 エポキシ樹脂としてエピコート828(油化シェルエポ
キシ社製)を30部と、ポリアミド樹脂としてダイマー
酸系ポリアミド(マルクメルト6900、ヘンケル白水
社製)の20%トルエン/イソプロピルアルコール混合
溶液を300部と、硬化剤として4:1の割合で配合さ
れたジアミノジフェニルスルホン/ジシアンジアミドの
20%メチルセロソルブ溶液を40部とを配合した接着
剤層用溶液を用いた以外は、実施例1と同様にしてTA
B用テープ、及び銅箔積層フィルムを作製した。得られ
たTAB用テープについて実施例1と同様の特性評価試
験を行い、その結果を表2に示した。
Comparative Example 1 30 parts of Epicoat 828 (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) as an epoxy resin and a 20% toluene / isopropyl alcohol mixed solution of dimer acid type polyamide (Marcmelt 6900, manufactured by Henkel Hakusui Co., Ltd.) as a polyamide resin. Same as Example 1 except that an adhesive layer solution containing 300 parts and 40 parts of a 20% methylcellosolve solution of diaminodiphenyl sulfone / dicyandiamide mixed in a ratio of 4: 1 as a curing agent was used. And TA
A tape for B and a copper foil laminated film were produced. The obtained TAB tape was subjected to the same characteristic evaluation test as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

【0059】比較例2 エポキシ樹脂としてエピコート828(油化シェルエポ
キシ社製)を60部及びクレゾールノボラックエポキシ
(エピコート180H、油化シェルエポキシ社製)の5
0%トルエン/イソプロピルアルコール混合溶液を20
部と、ポリアミド樹脂として共重合ナイロン(プラタボ
ンドM1276、日本リルサン社製)の20%トルエン
/イソプロピルアルコール混合溶液を150部と、硬化
剤として4:1の割合で配合されたジアミノジフェニル
スルホン/ジシアンジアミドの20%メチルセロソルブ
溶液を90部とを配合した接着剤層用溶液を用いた以外
は、実施例1と同様にしてTAB用テープ、及び銅箔積
層フィルムを作製した。得られたTAB用テープについ
て実施例1と同様の特性評価試験を行い、その結果を表
2に示した。
Comparative Example 2 As an epoxy resin, 60 parts of Epicoat 828 (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co.) and 5 parts of cresol novolac epoxy (Epicoat 180H, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co.) were used.
20% of 0% toluene / isopropyl alcohol mixed solution
Part, 150 parts of a 20% toluene / isopropyl alcohol mixed solution of copolymerized nylon (Platabond M1276, manufactured by Nippon Rilsan Co., Ltd.) as a polyamide resin, and diaminodiphenyl sulfone / dicyandiamide mixed at a ratio of 4: 1 as a curing agent. A TAB tape and a copper foil laminated film were produced in the same manner as in Example 1 except that an adhesive layer solution containing 90 parts of a 20% methyl cellosolve solution was used. The obtained TAB tape was subjected to the same characteristic evaluation test as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

【0060】比較例3 ODAとPMDAを等モル用いてポリアミド酸溶液を得
て、この溶液を用い実施例1と同様の方法で厚さ75μ
mのポリイミドフィルム得た。得られたポリイミドフィ
ルムについて実施例1と同様に物性を調べ、その結果を
表1に示した。
Comparative Example 3 A polyamic acid solution was obtained by using equimolar amounts of ODA and PMDA, and a thickness of 75 μm was obtained in the same manner as in Example 1 using this solution.
m polyimide film was obtained. The physical properties of the obtained polyimide film were examined in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0061】上記ポリイミドフィルムを用いた以外は実
施例1と同様にしてTAB用テープ、及び銅箔積層フィ
ルムを作製した。得られたTAB用テープについて実施
例1と同様の特性評価試験を行い、その結果を表2に示
した。
A TAB tape and a copper foil laminated film were produced in the same manner as in Example 1 except that the above polyimide film was used. The obtained TAB tape was subjected to the same characteristic evaluation test as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

【0062】比較例4 2リットルのセパラブルフラスコにDMF1000gと
p−PDA37.8gとODA23.3gをとり、ジア
ミン化合物が完全に溶解するまで室温でよく混合しその
後、氷で冷却しながら攪拌した。次にBTDA100.
1gとPMDA33.9gの全量近くを粉体状で徐々に
添加し粘度が2500ポイズになったところで添加を中
止し、その後約30分間冷却攪拌し、ポリアミド酸のD
MF溶液を得て、この溶液を用い実施例1と同様の方法
で厚さ75μmのポリイミドフィルムを得た。得られた
ポリイミドフィルムについて実施例1と同様に物性を調
べ、その結果を表1に示した。
Comparative Example 4 1000 g of DMF, 37.8 g of p-PDA and 23.3 g of ODA were placed in a 2 liter separable flask, mixed well at room temperature until the diamine compound was completely dissolved, and then stirred while cooling with ice. Next, BTDA100.
About 1 g and 33.9 g of PMDA were gradually added in the form of powder, and when the viscosity reached 2500 poise, the addition was stopped, and then the mixture was cooled and stirred for about 30 minutes.
An MF solution was obtained, and this solution was used to obtain a polyimide film having a thickness of 75 μm in the same manner as in Example 1. The physical properties of the obtained polyimide film were examined in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0063】上記ポリイミドフィルムを用いた以外は、
実施例1と同様にしてTAB用テープ、及び銅箔積層フ
ィルムを作製した。得られたTAB用テープについて実
施例1と同様の特性評価試験を行い、その結果を表2に
示した。
Other than using the above polyimide film,
A TAB tape and a copper foil laminated film were produced in the same manner as in Example 1. The obtained TAB tape was subjected to the same characteristic evaluation test as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

【0064】比較例5 2リットルのセパラブルフラスコにDMF1000gと
p−PDA13.6gとODA37.1gをとり、ジア
ミン化合物が完全に溶解するまで室温でよく混合しその
後、氷で冷却しながら攪拌した。次にPMDA67.7
gの全量近くを粉体状で徐々に添加し粘度が2500ポ
イズになったところで添加を中止し、その後約30分間
冷却攪拌し、ポリアミド酸のDMF溶液を得て、この溶
液を用い実施例1と同様の方法で厚さ75μmのポリイ
ミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムにつ
いて実施例1と同様に物性を調べ、その結果を表1に示
した。
Comparative Example 5 DMF (1000 g), p-PDA (13.6 g) and ODA (37.1 g) were placed in a 2-liter separable flask and mixed well at room temperature until the diamine compound was completely dissolved, and then stirred while cooling with ice. Then PMDA 67.7
Nearly the entire amount of g was gradually added in the form of powder and the addition was stopped when the viscosity reached 2500 poise, and then the mixture was cooled and stirred for about 30 minutes to obtain a DMF solution of polyamic acid, and this solution was used in Example 1 A polyimide film having a thickness of 75 μm was obtained by the same method. The physical properties of the obtained polyimide film were examined in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0065】上記ポリイミドフィルムを用いた以外は、
実施例1と同様にしてTAB用テープ、及び銅箔積層フ
ィルムを作製した。得られたTAB用テープについて実
施例1と同様の特性評価試験を行い、その結果を表2に
示した。
Other than using the above polyimide film,
A TAB tape and a copper foil laminated film were produced in the same manner as in Example 1. The obtained TAB tape was subjected to the same characteristic evaluation test as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

【0066】[0066]

【発明の効果】本発明によって、耐熱性に優れ、加工時
でのイオン性不純物の取り込みが少なく絶縁信頼性の高
い、またカール・反りが小さなTAB用テープを提供す
ることが出来る。
Industrial Applicability According to the present invention, it is possible to provide a TAB tape which is excellent in heat resistance, has less ionic impurities taken in during processing, has high insulation reliability, and has a small curl / warp.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 永野 広作 滋賀県大津市比叡辻2−1−1 鐘淵化学 工業株式会社滋賀工場内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hirosaku Nagano 2-1-1 Hiei Tsuji, Otsu City, Shiga Prefecture Kanebuchi Chemical Co., Ltd. Shiga Factory

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機絶縁フィルム層と、接着剤層と、保
護層とからなるTAB用テープにおいて、前記有機絶縁
フィルム層が、銅の線膨張係数の1.0倍〜1.6倍の
線膨張係数を有するポリイミドフィルムであり、かかる
ポリイミドフィルムが、 ピロメリット酸二無水物又はその誘導物と、 3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、3,3’,4,4’−オキシジフタル酸二無
水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物から選ばれるいずれか一つ又は複数の酸二無
水物成分と、 1種以上の直線性ジアミンと、 1種以上の屈曲性ジアミンとから合成されるポリアミド
酸をイミド化してなることを特徴とするTAB用テー
プ。
1. A TAB tape comprising an organic insulating film layer, an adhesive layer, and a protective layer, wherein the organic insulating film layer has a linear expansion coefficient of 1.0 to 1.6 times that of copper. A polyimide film having a coefficient of expansion, wherein the polyimide film comprises pyromellitic dianhydride or a derivative thereof, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4 , 4'-oxydiphthalic dianhydride and 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, and one or more acid dianhydride components, and one or more linearity A tape for TAB, which is formed by imidizing a polyamic acid synthesized from a diamine and one or more kinds of flexible diamines.
【請求項2】 前記接着剤層が、少なくとも分子内に2
個以上のエポキシ基を有する化合物と、ダイマー酸を原
料としてなるジカルボン酸末端のポリアミドオリゴマー
を反応させて得られたエポキシ変性ポリアミド樹脂と、 エポキシ基を1個以上有する化合物と、 ジアミン化合物、酸無水物、フェノール性水酸基を1個
以上有する化合物、シアナートエステル樹脂から選ばれ
る1種又は2種以上の硬化剤成分とを配合してなること
を特徴とする請求項1に記載するTAB用テープ。
2. The adhesive layer has at least 2 in the molecule.
An epoxy-modified polyamide resin obtained by reacting a compound having at least one epoxy group with a dicarboxylic acid-terminated polyamide oligomer starting from dimer acid, a compound having at least one epoxy group, a diamine compound, an acid anhydride The tape for TAB according to claim 1, wherein the TAB tape comprises a compound having at least one phenolic hydroxyl group, and one or more curing agent components selected from cyanate ester resins.
【請求項3】 有機絶縁フィルム層と、接着剤層と、保
護層とからなるTAB用テープにおいて、前記接着剤層
が、少なくとも分子内に2個以上のエポキシ基を有する
化合物と、ダイマー酸を原料としてなるジカルボン酸末
端のポリアミドオリゴマーを反応させて得られたエポキ
シ変性ポリアミド樹脂と、 エポキシ基を1個以上有する化合物と、 ジアミン化合物、酸無水物、フェノール性水酸基を1個
以上有する化合物、シアナートエステル樹脂から選ばれ
る1種又は2種以上の硬化剤成分とを配合してなること
を特徴とするTAB用テープ。
3. A TAB tape comprising an organic insulating film layer, an adhesive layer, and a protective layer, wherein the adhesive layer comprises a compound having at least two epoxy groups in the molecule and dimer acid. An epoxy-modified polyamide resin obtained by reacting a dicarboxylic acid-terminated polyamide oligomer as a raw material, a compound having at least one epoxy group, a diamine compound, an acid anhydride, a compound having at least one phenolic hydroxyl group, and a cyan A tape for TAB, which is prepared by blending one or more curing agent components selected from nato ester resins.
【請求項4】 前記接着剤層における硬化剤成分がシア
ナートエステル樹脂であることを特徴とする請求項1乃
至請求項3のいずれかに記載するTAB用テープ。
4. The TAB tape according to any one of claims 1 to 3, wherein the curing agent component in the adhesive layer is a cyanate ester resin.
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