JPH07113195A - Formation of metallic film - Google Patents

Formation of metallic film

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JPH07113195A
JPH07113195A JP28187493A JP28187493A JPH07113195A JP H07113195 A JPH07113195 A JP H07113195A JP 28187493 A JP28187493 A JP 28187493A JP 28187493 A JP28187493 A JP 28187493A JP H07113195 A JPH07113195 A JP H07113195A
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crystal
metal
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貴浩 郡司
Yoshikazu Fujisawa
義和 藤澤
Katsumune Tabata
勝宗 田畑
Kenji Dousaka
健児 堂坂
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    • F05C2201/00Metals
    • F05C2201/02Light metals
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  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a sliding surface constituting body which consists of a film having six-ridge Fe crystals which are made fine and uniform and having excellent sliding characteristics. CONSTITUTION:The current of a power source for plating is controlled to draw pulse waveforms in such a manner that,this current rises from the min. value, attains the max. value and falls clown to the min. value at the time of forming the sliding surface constituting body 4 having the many hexagonal pyramid- shaped six-ridge Fe crystals 71 on the sliding surface 4a by an electroplating method. The ratio TON/TC of the energization time TON and the cycle time TC is set at TON/TC <=0.45 when the energization time from the start of rising of the current before the start of the falling is defined as TON and the cycle time thereof as TC with the time from the previous start of the rising to the next start of the rising as one cycle. As a result, the sliding surface 4a is formed of the aggregate of the six-ridge Fe crystals 7, and the oil retaining property thereof is improved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は金属皮膜の形成方法、特
に、表面に多数の角錐状金属結晶または角錐台状金属結
晶の少なくとも一方を有する金属皮膜をメッキ法により
形成する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a metal coating, and more particularly to a method for forming a metal coating having a large number of pyramidal metal crystals or truncated pyramidal metal crystals on the surface by a plating method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種金属皮膜としては、例えば
内燃機関用ピストンにおいて、Al合金製母材のランド
部およびスカート部外周面に、耐摩耗性の向上を狙って
設けられるFeメッキ層が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a metal coating of this kind, for example, in a piston for an internal combustion engine, an Fe plating layer provided for improving wear resistance is provided on the outer peripheral surfaces of the land and the skirt of an Al alloy base material. Are known.

【0003】しかしながら、内燃機関が高速、且つ高出
力化の傾向にある現在の状況下では、従来のFeメッキ
層はその摺動面が比較的平滑であることに起因してオイ
ル保持性、つまり保油性が十分でなく、また初期なじみ
性も悪いため耐焼付き性が乏しいという問題があった。
However, under the present circumstances where the internal combustion engine tends to have high speed and high output, the conventional Fe plating layer has a relatively smooth sliding surface, so that the oil retention, that is, the There was a problem that seizure resistance was poor due to insufficient oil retention and poor initial conformability.

【0004】そこで、本出願人は、先にFeメッキ層と
してその摺動面に多数の角錐状Fe結晶または角錐台状
Fe結晶の少なくとも一方を有するものを開発した。
Therefore, the present applicant has previously developed an Fe plating layer having a large number of pyramidal Fe crystals or truncated pyramidal Fe crystals on its sliding surface.

【0005】このように構成すると、相隣る両Fe結晶
は相互に食込んだ状態を呈し、これにより摺動面は、多
数の微細な山部と、それら山部の間に形成された多数の
微細な谷部と、山部相互の食込みに因る多数の微細な沢
部とからなる入組んだ様相を呈するので、Feメッキ層
の保油性が良好となる。またFe結晶における先端部側
の優先的摩耗によってFeメッキ層の初期なじみ性も良
好となる。
According to this structure, the two adjacent Fe crystals are in a state of being bitten into each other, whereby the sliding surface has a large number of fine ridges and a large number of ridges formed between the ridges. Since it has an intricate appearance of fine valleys and a large number of fine ridges due to the mutual biting of the ridges, the Fe plating layer has good oil retention. Also, the preferential wear of the tip side of the Fe crystal improves the initial conformability of the Fe plating layer.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】前記のように優れた摺
動特性を得るためには、角錐状Fe結晶等を微細化する
と共にその粒径を均一化することが必要である。
In order to obtain excellent sliding characteristics as described above, it is necessary to make pyramidal Fe crystals and the like finer and uniform in particle size.

【0007】本発明は前記要求に応ずることのできる前
記金属皮膜の形成方法を提供することを目的とする。
It is an object of the present invention to provide a method for forming the metal film which can meet the above requirements.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、表面に多数の
角錐状金属結晶または角錐台状金属結晶の少なくとも一
方を有する金属皮膜をメッキ法により形成するに当り、
メッキ用エネルギ源の出力を、その出力が最小値から立
上って最大値に至り、次いで最小値へ下降するごとくパ
ルス波形を描くように制御し、前記出力の立上り開始時
から下降開始時までの出力時間をTONとし、また先の立
上り開始時から次の立上り開始時までを1サイクルとし
て、そのサイクル時間をTc としたとき、出力時間TON
とサイクル時間Tc との比TON/Tc をTON/Tc
0.45に設定することを特徴とする。
According to the present invention, a metal film having at least one of a large number of pyramidal metal crystals or truncated pyramidal metal crystals on a surface is formed by a plating method.
The output of the plating energy source is controlled so as to draw a pulse waveform as the output rises from the minimum value to the maximum value and then falls to the minimum value, from the start of rising of the output to the start of falling. When the output time of T ON is T ON and the cycle time from the start of the previous rise to the start of the next rise is 1 cycle and the cycle time is T c , the output time T ON
And the cycle time T c , the ratio T ON / T c is T ON / T c
It is characterized in that it is set to 0.45.

【0009】[0009]

【作用】メッキ用エネルギ源の出力を前記のように制御
すると共に両時間の比TON/Tc を前記のように設定す
ると、表面に、微細化およびその粒径の均一化を達成さ
れた多数の角錐状金属結晶等を有する金属皮膜を形成す
ることが可能であり、またその表面における角錐状金属
結晶等の存在率SをS≧40%になし得る。
When the output of the plating energy source is controlled as described above and the ratio T ON / T c of both times is set as described above, the surface is made finer and its grain size is made uniform. It is possible to form a metal film having a large number of pyramidal metal crystals or the like, and the existence rate S of the pyramidal metal crystals or the like on the surface can be S ≧ 40%.

【0010】これにより、例えば前記金属皮膜を有する
ピストンにおいて、その金属皮膜は潤滑下にて優れた摺
動特性を発揮する。また前記存在率SをS≧90%に設
定すると、金属皮膜の無潤滑下における摺動特性をも向
上させることができる。
As a result, for example, in the piston having the metal coating, the metal coating exhibits excellent sliding characteristics under lubrication. Further, when the existence ratio S is set to S ≧ 90%, the sliding property of the metal film without lubrication can be improved.

【0011】ただし、両時間の比TON/Tc がTON/T
c >0.45になると、角錐状金属結晶等の存在率Sが
S<40%となり、その金属結晶等を設けたことによる
意義が失われる。
However, the ratio T ON / T c of both times is T ON / T
When c > 0.45, the existence rate S of the pyramidal metal crystal or the like becomes S <40%, and the significance of providing the metal crystal or the like is lost.

【0012】[0012]

【実施例】図1,図2において、内燃機関用ピストン1
はAl合金製母材2を有し、その母材2のランド部31
およびスカート部32 外周面に、メッキ処理により金属
皮膜としての層状摺動面構成体4が形成される。
1 and 2, a piston 1 for an internal combustion engine is shown.
Has a base material 2 made of Al alloy, and the land portion 3 1 of the base material 2
On the outer peripheral surface of the skirt portion 32, a layered sliding surface structure 4 as a metal film is formed by plating.

【0013】図3に示すように、摺動面構成体4は体心
立方構造(bcc構造)を持つ金属結晶の集合体より構
成される。その集合体は、母材2より柱状に成長し、且
つミラー指数で(hhh)面を、シリンダボア内壁5と
の摺動面(表面)4a側に向けた多数の(hhh)配向
性金属結晶を有する。
As shown in FIG. 3, the sliding surface structure 4 is composed of an aggregate of metal crystals having a body-centered cubic structure (bcc structure). The aggregate grows in a columnar shape from the base material 2 and has a large number of (hhh) oriented metal crystals whose mirror index (hhh) surface is directed to the sliding surface (surface) 4a side with the inner wall 5 of the cylinder bore. Have.

【0014】摺動面構成体4の形成に当っては電気メッ
キ法が適用される。その際、図4に示すように、メッキ
用電源の電流密度CDは、その電流密度CDが最小電流
密度CDmin から立上って最大電流密度CDmax に至
り、次いで最小電流密度CDmin へ下降するごとく、時
間Tの経過に伴いパルス波形を描くように制御される。
An electroplating method is applied to the formation of the sliding surface structure 4. At that time, as shown in FIG. 4, the current density CD of the plating power source rises from the minimum current density CDmin to the maximum current density CDmax, and then decreases to the minimum current density CDmin. It is controlled to draw a pulse waveform as time T elapses.

【0015】そして、電流密度CDの立上り開始時から
下降開始時までの出力時間をTONとし、また先の立上り
開始時から次の立上り開始時までを1サイクルとして、
そのサイクル時間をTc としたとき、出力時間TONとサ
イクル時間Tc との比、即ち、時間比TON/Tc はTON
/Tc ≦0.45に設定される。
The output time from the start of the rise of the current density CD to the start of the fall thereof is T ON, and one cycle from the start of the previous rise to the start of the next rise is defined as
When the cycle time is T c , the ratio of the output time T ON and the cycle time T c , that is, the time ratio T ON / T c is T ON
/ T c ≦ 0.45 is set.

【0016】この場合、メッキ用電源の最小電流密度C
Dmin をCDmin =0に、また平均電流密度CDmを、
例えば、CDm≧2.5A/dm2 に設定することによっ
て(hhh)配向性金属結晶の存在率SをS≧40%に
することができる。
In this case, the minimum current density C of the plating power source is
Dmin to CDmin = 0 and average current density CDm to
For example, by setting CDm ≧ 2.5 A / dm 2 , the abundance S of (hhh) oriented metal crystals can be S ≧ 40%.

【0017】一方、最小電流密度CDmin をCDmin =
0に、また時間比TON/Tc をTON/Tc ≦0.35
に、さらに平均電流密度CDmをCDm≧3.5A/dm
2 にそれぞれ設定すると、(hhh)配向性金属結晶の
存在率SをS≧90%にすることができる。
On the other hand, the minimum current density CDmin is given by CDmin =
0, and the time ratio T ON / T c is set to T ON / T c ≦ 0.35.
In addition, the average current density CDm is CDm ≧ 3.5 A / dm
When each is set to 2 , the existence rate S of (hhh) oriented metal crystals can be S ≧ 90%.

【0018】前記形成条件下で、(hhh)配向性金属
結晶の存在率SをS≧90%に設定すると、図5に示す
ように摺動面4aの略全体を六角錐状(または六角錐台
状)をなす金属結晶、即ち6本の稜線6を持つ六稜金属
結晶71 の集合体より形成することができる。この六稜
金属結晶71 は、図6に示す三角錐状(または三角錐台
状)をなす(hhh)配向性金属結晶、即ち3本の稜線
6を持つ三稜金属結晶72 に比べて平均粒径が小さく、
且つ粒径も略均一である。(hhh)配向性金属結晶に
おいて、粒径と高さとの間には相関関係があり、したが
って粒径が略均一である、ということは高さも略等しい
ということである。
Under the above-mentioned forming conditions, if the abundance S of (hhh) oriented metal crystals is set to S ≧ 90%, substantially the entire sliding surface 4a is hexagonal pyramid-shaped (or hexagonal pyramid) as shown in FIG. It can be formed from a trapezoidal metal crystal, that is, an aggregate of hexagonal metal crystals 7 1 having 6 ridgelines 6. The hexagonal metal crystal 7 1 is more than the triangular pyramid-shaped (or triangular truncated pyramid) (hhh) oriented metal crystal shown in FIG. 6, that is, the tri-ridged metal crystal 7 2 having three ridge lines 6. Small average particle size,
Moreover, the particle size is also substantially uniform. In the (hhh) oriented metal crystal, there is a correlation between the grain size and the height, so that the grain size being substantially uniform means that the heights are also substantially equal.

【0019】しかも、これら六稜金属結晶71 におい
て、相隣るものは相互に食込んだ状態を呈する。これに
より摺動面4aは、三稜金属結晶72 より形成される場
合に比べて表面積を拡大され、また多数の極微細な山部
8と、それら山部8の間に形成された多数の極微細な谷
部9と、山部8相互の食込みに因る多数の極微細な沢部
10(図7参照)とからなる非常に入組んだ様相を呈す
るので、摺動面構成体4の保油性が極めて良好となる。
また六稜金属結晶71 における先端部側の優先的摩耗に
よって摺動面構成体4の初期なじみ性も良好である。
Moreover, in these hexagonal metal crystals 7 1 , adjacent ones are in a state of being bitten into each other. As a result, the sliding surface 4a has a larger surface area as compared with the case where it is formed of the tri-ridged metal crystal 7 2. Also, a large number of extremely fine ridges 8 and a large number of ridges formed between the ridges 8 are formed. Since it has a very intricate appearance composed of extremely fine valleys 9 and a large number of extremely fine ridges 10 (see FIG. 7) due to the mutual biting of the ridges 8, the sliding surface structure 4 has Very good oil retention.
In addition, the initial conformability of the sliding surface structure 4 is also good due to preferential wear of the hexagonal metal crystal 7 1 on the tip side.

【0020】さらに六稜金属結晶71 の均一微細化に伴
い、局部的な高面圧化を回避すると共に摺動荷重の微細
分化を達成することができ、これにより摺動面構成体4
は潤滑下では勿論のこと、無潤滑下においても優れた耐
摩耗性を発揮する。
Furthermore with the uniform finer Rokuryo metal crystals 71, while avoiding the high local surface pressurization can achieve fine differentiation sliding load, thereby slide surface construction 4
Exhibits excellent wear resistance not only under lubrication but also under non-lubrication.

【0021】図8に示すように、摺動面4aに沿う仮想
面11に対する(hhh)面の傾きは六稜金属結晶71
の傾きとなって現われるので、摺動面構成体4の保油
性、初期なじみ性および耐摩耗性に影響を与える。そこ
で、(hhh)面が仮想面11に対してなす傾き角θは
0°≦θ≦15°に設定される。この場合、(hhh)
面の傾き方向については限定されない。傾き角θがθ>
15°になると、摺動面構成体4の保油性、初期なじみ
性および耐摩耗性が低下する。
As shown in FIG. 8, the inclination of the (hhh) plane with respect to the virtual surface 11 along the sliding surface 4a is hexagonal metal crystal 7 1
Of the sliding surface structure 4 affects the oil retaining property, the initial running-in property, and the wear resistance of the sliding surface structure 4. Therefore, the inclination angle θ formed by the (hhh) plane with respect to the virtual surface 11 is set to 0 ° ≦ θ ≦ 15 °. In this case, (hhh)
The direction of inclination of the surface is not limited. Tilt angle θ is θ>
When it becomes 15 °, the oil retaining property, the initial conformability and the wear resistance of the sliding surface structure 4 are deteriorated.

【0022】(hhh)配向性金属結晶の存在率Sが、
例えば40%≦S<90%である場合、摺動面4aは六
稜金属結晶71 および三稜金属結晶72 の集合体より形
成される。この摺動面構成体4の摺動特性は、摺動面4
aの略全体を六稜金属結晶71 より形成した場合に比べ
て低くなる。
(Hhh) The abundance S of oriented metal crystals is
For example, when 40% ≦ S <90%, the sliding surface 4a is formed of an assembly of hexagonal metal crystals 7 1 and trihedral metal crystals 7 2 . The sliding characteristics of this sliding surface structure 4 are
It becomes lower than that in the case where almost all of a is formed of hexagonal metal crystals 7 1 .

【0023】前記形成方法において、メッキ用電源の最
小電流密度CDmin をCDmin ≧0.2A/dm2 に、ま
た時間比TON/Tc をTON/Tc ≦0.35に、さらに
平均電流密度CDmをCDm≧3.5A/dm2 にそれぞ
れ設定すると、図9に示すように、各斜面12が略平坦
な六稜金属結晶71 を析出させることができる。
In the above forming method, the minimum current density CDmin of the plating power source is set to CDmin ≥0.2 A / dm 2 , the time ratio T ON / T c is set to T ON / T c ≤0.35, and the average current is further set. When the densities CDm are set to CDm ≧ 3.5 A / dm 2 , hexagonal metal crystals 7 1 whose slopes 12 are substantially flat can be deposited as shown in FIG.

【0024】この六稜金属結晶71 は硬さが高いので、
摺動面構成体4の耐摩耗性を向上させる上で有効であ
る。
Since this hexagonal metal crystal 7 1 has a high hardness,
This is effective in improving the wear resistance of the sliding surface structure 4.

【0025】また、メッキ用電源の最小電流密度CDmi
n をCDmin ≦−0.2A/dm2 に、また時間比TON
c をTON/Tc ≦0.35に、さらに平均電流密度C
DmをCDm≧3.5A/dm2 にそれぞれ設定すると、
図10に示すように、相隣る稜線6間に比較的深い谷1
3を有する六稜金属結晶71 を析出させることができ
る。
Also, the minimum current density CDmi of the power supply for plating is
n to CDmin ≦ −0.2 A / dm 2 , and the time ratio T ON /
T c to T ON / T c ≦ 0.35, and further average current density C
When Dm is set to CDm ≧ 3.5 A / dm 2 ,
As shown in FIG. 10, a relatively deep valley 1 between adjacent ridgelines 6
Hexahedral metal crystals 7 1 having 3 can be deposited.

【0026】この六稜金属結晶71 は、その谷13に起
因して保油性が良好であるから、摺動面構成体4の耐焼
付き性を向上させる上で有効である。
The hexagonal metal crystal 7 1 has a good oil retaining property due to the valley 13 thereof, and therefore is effective in improving the seizure resistance of the sliding surface constituting body 4.

【0027】bcc構造を持つ金属結晶としては、F
e、Cr、Mo、W、Ta、Zr、Nb、V等の単体ま
たは合金の結晶を挙げることができる。
As a metal crystal having a bcc structure, F is
Examples thereof include crystals of e, Cr, Mo, W, Ta, Zr, Nb, V, etc., or alloys thereof.

【0028】メッキ法としては、電気メッキ法の外に、
例えば気相メッキ法であるPVD法、CVD法、スパッ
タ法、イオンプレーティング等を挙げることができる。
スパッタ法によりW、Moメッキを行う場合は、例えば
Ar圧力0.2〜1Pa、母材温度150〜300℃と
し、平均Ar加速電力(エネルギ源)を1〜1.5kW
に制御する。CVD法によりWメッキを行う場合は、例
えばWF6 (原料)の流量2〜15cc/min 、チャンバ
内圧力50〜300Pa、母材温度100〜400℃と
し、ArFマキシマレーザ(エネルギ源)の平均出力を
5〜40Wに制御する。
As the plating method, in addition to the electroplating method,
For example, a PVD method which is a vapor phase plating method, a CVD method, a sputtering method, an ion plating and the like can be mentioned.
When performing W and Mo plating by the sputtering method, for example, Ar pressure is 0.2 to 1 Pa, base material temperature is 150 to 300 ° C., and average Ar acceleration power (energy source) is 1 to 1.5 kW.
To control. When performing W plating by the CVD method, for example, the flow rate of WF 6 (raw material) is 2 to 15 cc / min, the chamber internal pressure is 50 to 300 Pa, the base material temperature is 100 to 400 ° C., and the average output of the ArF maximer laser (energy source) is used. Is controlled to 5 to 40 W.

【0029】〔実施例1〕Al合金製母材2のランド部
1 およびスカート部32 外周面に、電気Feメッキ法
を適用することによりFe結晶の集合体より構成された
厚さ15μmの摺動面構成体4を形成して複数の内燃機
関用ピストン1を製造し、それら摺動面構成体4につい
て、次のような各種考察を行った。
[Example 1] A 15 µm-thick layer formed of an aggregate of Fe crystals by applying an electric Fe plating method to the outer peripheral surface of the land portion 3 1 and the skirt portion 3 2 of the Al alloy base material 2 A plurality of internal combustion engine pistons 1 were manufactured by forming the sliding surface constructing body 4, and the following various considerations were performed on the sliding surface constructing body 4.

【0030】A.時間比TON/Tc について 表1は、摺動面構成体4の例1〜24,50〜54にお
けるメッキ浴条件を示す。
A. Regarding time ratio T ON / T c Table 1 shows the plating bath conditions in Examples 1 to 24 and 50 to 54 of the sliding surface structure 4.

【0031】[0031]

【表1】 表2は、例1〜14のメッキ処理条件を示す。この場
合、例1〜6ではCDm=7A/dm2 に、また例7〜1
4ではCDm=4A/dm2 にそれぞれ設定され、各CD
m一定においてTON/Tc を変化させた。
[Table 1] Table 2 shows the plating treatment conditions of Examples 1-14. In this case, in Examples 1 to 6, CDm = 7 A / dm 2 , and in Examples 7-1.
In 4, the CDm is set to 4 A / dm 2 for each CD.
T ON / T c was changed at constant m.

【0032】[0032]

【表2】 表3は、例15〜24のメッキ処理条件を示す。この場
合、例15〜19ではCDm=3.5A/dm2 に、また
例20〜24ではCDm=3A/dm2 にそれぞれ設定さ
れ、各CDm一定においてTON/Tc を変化させた。
[Table 2] Table 3 shows the plating treatment conditions of Examples 15-24. In this case, in Examples 15 to 19, CDm = 3.5 A / dm 2 , and in Examples 20 to 24, CDm = 3 A / dm 2 , respectively, and T ON / T c was changed at each constant CDm.

【0033】[0033]

【表3】 表4は、例50〜54のメッキ処理条件を示す。この場
合、CDm=2.5A/dm2 一定においてTON/Tc
変化させた。
[Table 3] Table 4 shows the plating treatment conditions of Examples 50 to 54. In this case, T ON / T c was changed at a constant CDm = 2.5 A / dm 2 .

【0034】[0034]

【表4】 表5〜9は、例1〜24,50〜54における摺動面4
aの結晶形態、六稜Fe結晶の面積率Aおよび平均粒径
d、各配向性Fe結晶の存在率Sならびに硬さをそれぞ
れ示す。
[Table 4] Tables 5 to 9 show sliding surfaces 4 in Examples 1 to 24 and 50 to 54.
The crystal morphology of a, the area ratio A and the average grain size d of the hexagonal Fe crystals, the abundance S of each oriented Fe crystal, and the hardness are shown.

【0035】[0035]

【表5】 [Table 5]

【0036】[0036]

【表6】 [Table 6]

【0037】[0037]

【表7】 [Table 7]

【0038】[0038]

【表8】 [Table 8]

【0039】[0039]

【表9】 六稜Fe結晶の面積率Aは、摺動面4aの面積をB、そ
の摺動面4aにおいて全部の六稜Fe結晶が占める面積
をCとしたとき、A=(C/B)×100(%)として
求められた。また六稜Fe結晶の粒径は、頂点を挟んで
相対向する両角部間の距離、即ち、三つの距離の平均値
である。
[Table 9] The area ratio A of the hexahedral Fe crystal is A = (C / B) × 100 (where B is the area of the sliding surface 4a and C is the area occupied by all the hexahedral Fe crystals on the sliding surface 4a. %) Was calculated as. Further, the grain size of the hexagonal Fe crystal is the distance between both corners facing each other with the apex interposed, that is, the average value of the three distances.

【0040】存在率Sは、例1〜24,50〜54のX
線回折図(X線照射方向は摺動面4aに対して直角方
向)に基づいて次のような方法で求められたものであ
る。一例として、例8について説明すると、図11は例
8のX線回折図であり、各配向性Fe結晶の存在率Sは
次式から求められた。なお、例えば{110}配向性F
e結晶とは、{110}面を摺動面4a側に向けた配向
性Fe結晶を意味する。 {110}配向性Fe結晶:S110 ={(I110 /IA
110 )/T}×100、 {200}配向性Fe結晶:S200 ={(I200 /IA
200 )/T}×100、 {211}配向性Fe結晶:S211 ={(I211 /IA
211 )/T}×100、 {310}配向性Fe結晶:S310 ={(I310 /IA
310 )/T}×100、 {222}配向性Fe結晶:S222 ={(I222 /IA
222 )/T}×100 ここで、I110 、I200 、I211 、I310 、I222 は各
結晶面のX線反射強度の測定値(cps)で、I110
0.8K、I200 =0.4K、I211 =1.7K、I
310 =0.15K、I222 =9.8Kである。またIA
110 、IA200 、IA211 、IA310 、IA222 はAS
TMカードにおける各結晶面のX線反射強度比で、IA
110 =100、IA200 =20、IA211 =30、IA
310 =12、IA222 =6である。さらにTは、T=
(I110 /IA110 )+(I200 /IA200 )+(I
211 /IA211 )+(I310 /IA310 )+(I222
IA222)=1.73Kである。
The existence ratio S is X in Examples 1 to 24 and 50 to 54.
It is obtained by the following method based on the line diffraction diagram (the X-ray irradiation direction is the direction perpendicular to the sliding surface 4a). Explaining Example 8 as an example, FIG. 11 is an X-ray diffraction diagram of Example 8, and the abundance S of each oriented Fe crystal was obtained from the following equation. Note that, for example, {110} orientation F
The e crystal means an oriented Fe crystal in which the {110} plane faces the sliding surface 4a side. {110} oriented Fe crystal: S 110 = {(I 110 / IA
110 ) / T} × 100, {200} oriented Fe crystal: S 200 = {(I 200 / IA
200 ) / T} × 100, {211} oriented Fe crystal: S 211 = {(I 211 / IA)
211 ) / T} × 100, {310} oriented Fe crystal: S 310 = {(I 310 / IA
310 ) / T} × 100, {222} oriented Fe crystal: S 222 = {(I 222 / IA)
222 ) / T} × 100 where I 110 , I 200 , I 211 , I 310 , and I 222 are measured values (cps) of the X-ray reflection intensity of each crystal plane, and I 110 =
0.8K, I 200 = 0.4K, I 211 = 1.7K, I
310 = 0.15K, a I 222 = 9.8K. Also IA
110 , IA 200 , IA 211 , IA 310 , IA 222 are AS
X-ray reflection intensity ratio of each crystal plane in TM card, IA
110 = 100, IA 200 = 20, IA 211 = 30, IA
310 = 12, a IA 222 = 6. Furthermore, T is T =
(I 110 / IA 110 ) + (I 200 / IA 200 ) + (I
211 / IA 211 ) + (I 310 / IA 310 ) + (I 222 /
IA 222 ) = 1.73K.

【0041】図12は、例8における摺動面4aの結晶
構造を示す電子顕微鏡写真であり、多数の六角錐状をな
す六稜Fe結晶が観察される。表6に示すように、六稜
Fe結晶の面積率AはA=96%、平均粒径dはd=3
μmである。この六稜Fe結晶は(hhh)面、したが
って{222}面を摺動面4a側に向けた{222}配
向性Fe結晶である。この場合、{222}配向性Fe
結晶の存在率Sは、表6,図11に示すように、S=9
4.3%である。
FIG. 12 is an electron micrograph showing the crystal structure of the sliding surface 4a in Example 8, in which a large number of hexagonal pyramidal hexagonal Fe crystals are observed. As shown in Table 6, the area ratio A of the hexagonal Fe crystal is A = 96%, and the average particle diameter d is d = 3.
μm. The hexagonal Fe crystal is a {222} oriented Fe crystal in which the (hhh) plane, and thus the {222} plane, faces the sliding surface 4a side. In this case, {222} oriented Fe
As shown in Table 6 and FIG. 11, the crystal abundance S is S = 9.
It is 4.3%.

【0042】図13は例14のX線回折図である。図1
4は、例14における摺動面4aの結晶構造を示す電子
顕微鏡写真であり、多数の粒状Fe結晶が観察される。
FIG. 13 is an X-ray diffraction pattern of Example 14. Figure 1
4 is an electron micrograph showing the crystal structure of the sliding surface 4a in Example 14, in which many granular Fe crystals are observed.

【0043】図15は、例1〜24,50〜54におけ
る時間比TON/Tc と{222}配向性Fe結晶の存在
率Sとの関係を示し、図中、点(1)〜(24),(5
0)〜(54)は例1〜24,50〜54にそれぞれ対
応する。図15から、明らかなように、時間比TON/T
c をTON/Tc ≦0.45に設定することによって、各
平均電流密度CDmにおいて、{222}配向性Fe結
晶の存在率SをS≧40%にすることができる。
FIG. 15 shows the relationship between the time ratio T ON / T c and the abundance S of {222} oriented Fe crystals in Examples 1 to 24 and 50 to 54, and points (1) to (( 24), (5
0) to (54) correspond to Examples 1 to 24 and 50 to 54, respectively. As is clear from FIG. 15, the time ratio T ON / T
By setting c to T ON / T c ≦ 0.45, the abundance ratio S of {222} oriented Fe crystals can be S ≧ 40% at each average current density CDm.

【0044】この場合、平均電流密度DmをDm≧3.
5A/dm2 に、また時間率TON/Tc をTON/Tc
0.35にそれぞれ設定すると、{222}配向性Fe
結晶の存在率SはS≧90%となり、図15において、
90%≦S≦100%で、且つ0<TON/Tc ≦0.3
5の領域では{222}配向性Fe結晶は、その殆どが
六稜Fe結晶の形態をとる。
In this case, the average current density Dm is Dm ≧ 3.
5 A / dm 2 , and the time rate T ON / T c is T ON / T c
If set to 0.35, respectively, {222} oriented Fe
The abundance S of crystals is S ≧ 90%, and in FIG.
90% ≦ S ≦ 100% and 0 <T ON / T c ≦ 0.3
In the region of No. 5, most of the {222} oriented Fe crystals take the form of hexagonal Fe crystals.

【0045】一方、図15において、S≧40%で、且
つTON/Tc ≦0.45の領域から前記六稜Fe結晶単
一領域を除いた領域は、六稜Fe結晶と三稜Fe結晶の
混在領域となる。
On the other hand, in FIG. 15, the region excluding the hexagonal Fe crystal single region from the region of S ≧ 40% and T ON / T c ≦ 0.45 is a hexagonal Fe crystal and a trihedral Fe. It becomes a mixed region of crystals.

【0046】B.メッキ浴のFeイオン濃度Fe2+につ
いて 表10は、摺動面構成体4の例25〜36におけるメッ
キ浴条件を示す。
B. Regarding Fe Ion Concentration Fe 2+ in Plating Bath Table 10 shows the plating bath conditions in Examples 25 to 36 of the sliding surface structure 4.

【0047】[0047]

【表10】 表11は、例25〜36のメッキ処理条件を示す。この
場合、例25〜27ではCDm=7A/dm2 に、例28
〜31ではCDm=4A/dm2 に、例32〜34ではC
Dm=3.5A/dm2 に、また例35,36ではCDm
=3A/dm2 にそれぞれ設定され、各CDm一定におい
て、表10に示すようにFeイオン濃度Fe2+を変化さ
せた。
[Table 10] Table 11 shows the plating treatment conditions of Examples 25 to 36. In this case, in Examples 25 to 27, CDm = 7 A / dm 2 and Example 28
CDm = 4 A / dm 2 for ~ 31, and C for Examples 32-34.
Dm = 3.5 A / dm 2 , and in Examples 35 and 36, CDm
= 3 A / dm 2 , and the Fe ion concentration Fe 2+ was changed as shown in Table 10 at a constant CDm.

【0048】[0048]

【表11】 表12,13は、例25〜36における摺動面4aの結
晶形態、六稜Fe結晶の面積率Aおよび平均粒径d、各
配向性Fe結晶の存在率Sならびに硬さをそれぞれ示
す。
[Table 11] Tables 12 and 13 show the crystal morphology of the sliding surface 4a, the area ratio A of the hexagonal Fe crystals and the average grain size d, the abundance S of each oriented Fe crystal and the hardness in Examples 25 to 36, respectively.

【0049】[0049]

【表12】 [Table 12]

【0050】[0050]

【表13】 図16は、例25〜36および前記例2,8,16,2
1におけるメッキ浴のFeイオン濃度Fe2+と{22
2}配向性Fe結晶の存在率Sとの関係を示し、図中、
点(2),(8),(16),(21),(25)〜
(36)は例2,8,16,21,25〜36にそれぞ
れ対応する。図16から明らかなように、例えば平均電
流密度CDm≧3A/dm2 においてFeイオン濃度Fe
2+をFe2+≧0.6に設定することにより{222}配
向性Fe結晶の存在率SをS≧40%にすることができ
る。また{222}配向性Fe結晶の存在率SをS≧9
0%にするためには、平均電流密度CDm≧3.5A/
dm2 においてFeイオン濃度Fe2+をFe2+≧1に設定
することが必要である。
[Table 13] FIG. 16 shows Examples 25 to 36 and Examples 2, 8, 16, 2 above.
Fe ion concentration of the plating bath in No. 1 Fe 2+ and {22
2} shows the relationship with the abundance S of oriented Fe crystals,
Points (2), (8), (16), (21), (25) ~
(36) corresponds to Examples 2, 8, 16, 21, 25-36, respectively. As is clear from FIG. 16, for example, when the average current density CDm ≧ 3 A / dm 2 , the Fe ion concentration Fe
By setting 2+ to Fe 2+ ≧ 0.6, the abundance ratio S of {222} oriented Fe crystals can be S ≧ 40%. The abundance ratio S of {222} oriented Fe crystals is S ≧ 9.
To achieve 0%, the average current density CDm ≧ 3.5 A /
It is necessary to set the Fe ion concentration Fe 2+ in dm 2 to Fe 2+ ≧ 1.

【0051】C.メッキ浴のpHについて 表14は、摺動面構成体4の例37〜47におけるメッ
キ浴条件を示す。
C. Regarding pH of Plating Bath Table 14 shows the plating bath conditions in Examples 37 to 47 of the sliding surface structure 4.

【0052】[0052]

【表14】 表15は、例37〜47のメッキ処理条件を示す。この
場合、例37〜39ではCDm=7A/dm2 に、例40
〜42ではCDm=4A/dm2 に、例43〜45ではC
Dm=3.5A/dm2 に、例46,47ではCDm=3
A/dm2 にそれぞれ設定され、各CDm一定において、
表14に示すようにpHを変化させた。
[Table 14] Table 15 shows the plating treatment conditions of Examples 37 to 47. In this case, in Examples 37 to 39, CDm = 7 A / dm 2 , and in Example 40.
CDm = 4 A / dm 2 for ~ 42, and C for Examples 43-45.
Dm = 3.5 A / dm 2 , and in Examples 46 and 47, CDm = 3
It is set to A / dm 2 respectively, and at each CDm constant,
The pH was changed as shown in Table 14.

【0053】[0053]

【表15】 表16,17は、例37〜47における摺動面4aの結
晶形態、六稜Fe結晶の面積率Aおよび平均粒径d、各
配向性Fe結晶の存在率Sならびに硬さをそれぞれ示
す。
[Table 15] Tables 16 and 17 show the crystal morphology of the sliding surface 4a, the area ratio A of the hexagonal Fe crystals and the average grain size d, the abundance ratio S of each oriented Fe crystal, and the hardness in Examples 37 to 47, respectively.

【0054】[0054]

【表16】 [Table 16]

【0055】[0055]

【表17】 図17は、例37〜47および前記例2,8,16,2
1におけるメッキ浴のpHと{222}配向性Fe結晶
の存在率Sとの関係を示し、図中、点(2),(8),
(16),(21),(37)〜(47)は例2,8,
16,21,37〜47にそれぞれ対応する。図17か
ら明らかなように、例えば平均電流密度CDm≧3A/
dm2 においてpHをpH≧4.5に設定することにより
{222}配向性Fe結晶の存在率SをS≧40%にす
ることができる。また{222}配向性Fe結晶の存在
率SをS≧90%にするためには、平均電流密度CDm
≧3.5A/dm2 においてpHをpH≧5.5に設定す
ることが必要である。
[Table 17] FIG. 17 shows Examples 37 to 47 and Examples 2, 8, 16, 2 above.
The relationship between the pH of the plating bath and the abundance ratio S of {222} oriented Fe crystals in FIG. 1 is shown by points (2), (8),
(16), (21), (37) to (47) are examples 2, 8 and
16, 21, 37-47 respectively. As is clear from FIG. 17, for example, the average current density CDm ≧ 3 A /
By setting the pH to ≧ 4.5 in dm 2 , the abundance ratio S of {222} oriented Fe crystals can be S ≧ 40%. Further, in order to set the existence ratio S of the {222} oriented Fe crystal to S ≧ 90%, the average current density CDm
It is necessary to set the pH to pH ≧ 5.5 at ≧ 3.5 A / dm 2 .

【0056】D.耐焼付き性および耐摩耗性について 摺動面構成体4の例1,7,8,11〜14,17,2
2〜24,31について、潤滑下でチップオンディスク
方式による焼付きテストを行って、{222}配向性F
e結晶の存在率Sと焼付き発生荷重との関係を求めた。
テスト条件は次の通りである。ディスクの材質Al−1
0重量%Si合金、ディスクの回転速度15m/sec 、
給油量 0.3ml/min 、摺動面構成体より製作された
チップの摺動面の面積 1cm2
D. About seizure resistance and wear resistance Examples of sliding surface structure 4 1, 7, 8, 11 to 14, 17, 2
2-22 and 31 were subjected to a seizure test by a chip-on-disk method under lubrication, and {222} orientation F
The relationship between the abundance S of the crystals and the seizure load was determined.
The test conditions are as follows. Disc material Al-1
0wt% Si alloy, disk rotation speed 15m / sec,
Lubrication amount 0.3 ml / min, sliding surface area of chip made of sliding surface structure 1 cm 2 .

【0057】また、各例1,7,8,11〜14,1
7,22〜24,31について、無潤滑下でチップオン
ディスク方式による摩耗テストを行って、{222}配
向性Fe結晶の存在率Sと、チップの摩耗量との関係を
求めた。テスト条件は次の通りである。ディスクの材質
Al−10重量%Si合金、ディスクの回転速度
0.5m/sec 、荷重 100N、摺動距離 1km、摺
動面構成体より製作されたチップの摺動面の面積 1cm
2 。摩耗量はチップの面積1cm2 当りの減量(mg)であ
る。
Further, each example 1, 7, 8, 11-14, 1
7, 22 to 24, 31 were subjected to a wear test by a chip-on-disk method without lubrication, and the relationship between the abundance S of {222} oriented Fe crystals and the wear amount of the chips was obtained. The test conditions are as follows. Disk material Al-10 wt% Si alloy, disk rotation speed
0.5m / sec, load 100N, sliding distance 1km, sliding surface area of chip made from sliding surface structure 1cm
2 . The amount of wear is the amount of loss (mg) per 1 cm 2 of chip area.

【0058】表18は、焼付きテストおよび摩耗テスト
結果を示す。図18,19は表18をグラフ化したもの
で、両図中、点(1),(7),(8),(11)〜
(14),(17),(22)〜(24),(31)は
例1,7,8,11〜14,17,22〜24,31に
それぞれ対応する。
Table 18 shows the seizure test and abrasion test results. 18 and 19 are graphs of Table 18, showing points (1), (7), (8), and (11) -in both figures.
(14), (17), (22) to (24) and (31) correspond to Examples 1, 7, 8, 11 to 14, 17, 22 to 24 and 31, respectively.

【0059】[0059]

【表18】 表18,図18から明らかなように、{222}配向性
Fe結晶の存在率S≧40%において、摺動面4aの保
油性および初期なじみ性が良好になるので、耐焼付き性
が大幅に向上する。特に、{222}配向性Fe結晶の
存在率S≧90%においては、六稜Fe結晶の高密度化
に起因して耐焼付き性が飛躍的に向上することが明らか
である。
[Table 18] As is clear from Table 18 and FIG. 18, when the abundance S of the {222} -oriented Fe crystals S ≧ 40%, the oil retaining property and the initial running-in property of the sliding surface 4a are improved, and the seizure resistance is significantly improved. improves. In particular, it is clear that the seizure resistance is remarkably improved due to the high density of the hexagonal Fe crystals in the presence ratio S ≧ 90% of the {222} oriented Fe crystals.

【0060】また表18,図19から明らかなように、
{222}配向性Fe結晶の存在率S≧40%において
摩耗量が少なくなり、したがって無潤滑下においても良
好な耐摩耗性が得られる。特に、{222}配向性Fe
結晶の存在率S≧90%においては、六稜Fe結晶の高
密度化に起因して耐摩耗性が極めて良好となる。
As is clear from Table 18 and FIG.
When the abundance rate S of the {222} oriented Fe crystals is S ≧ 40%, the wear amount is small, and therefore, good wear resistance can be obtained even without lubrication. In particular, {222} oriented Fe
When the crystal abundance ratio S ≧ 90%, the wear resistance becomes extremely good due to the high density of the hexagonal Fe crystals.

【0061】〔実施例2〕前記実施例1においては、最
小電流密度CDmin をCDmin =0A/dm2 に設定した
が、本実施例では、CDmin ≧0.2A/dm2 か、また
はCDmin ≦−0.2A/dm2 に設定される。
[Second Embodiment] In the first embodiment, the minimum current density CDmin is set to CDmin = 0A / dm 2 , but in the present embodiment, CDmin ≧ 0.2A / dm 2 or CDmin ≦ −. It is set to 0.2 A / dm 2 .

【0062】表19は、摺動面構成体4の例1〜7にお
けるメッキ浴条件を示す。なお、例4は実施例1の例8
と同じである。
Table 19 shows the plating bath conditions in Examples 1 to 7 of the sliding surface structure 4. In addition, Example 4 is Example 8 of Example 1.
Is the same as.

【0063】[0063]

【表19】 表20は例1〜7のメッキ処理条件を示す。[Table 19] Table 20 shows the plating treatment conditions of Examples 1 to 7.

【0064】[0064]

【表20】 表21は、例1〜7における摺動面4aの結晶形態、六
稜Fe結晶の面積率Aおよび平均粒径d、各配向性Fe
結晶の存在率Sならびに硬さをそれぞれ示す。
[Table 20] Table 21 shows the crystal morphology of the sliding surface 4a in Examples 1 to 7, the area ratio A of the hexagonal Fe crystals and the average grain size d, and the respective oriented Fe.
The crystal abundance S and hardness are shown respectively.

【0065】[0065]

【表21】 図20は例1のX線回折図であり、また図21は例1に
おける摺動面4aの結晶構造を示す電子顕微鏡写真であ
る。図21から明らかなように、最小電流密度CDmin
をCDmin ≦−0.2A/dm2 に設定すると、{22
2}配向性Fe結晶は、相隣る稜線間に比較的深い谷を
有する六稜Fe結晶となる。
[Table 21] 20 is an X-ray diffraction diagram of Example 1, and FIG. 21 is an electron micrograph showing the crystal structure of the sliding surface 4a in Example 1. As is clear from FIG. 21, the minimum current density CDmin
Is set to CDmin ≤ -0.2 A / dm 2 , {22
The 2} oriented Fe crystal becomes a hexagonal Fe crystal having a relatively deep valley between adjacent ridgelines.

【0066】図22は例7のX線回折図であり、また図
23は例7における摺動面4aの結晶構造を示す電子顕
微鏡写真である。図23から明らかなように、最小電流
密度CDmin をCDmin ≧0.2A/dm2 に設定する
と、{222}配向性Fe結晶は、各斜面が略平坦な六
稜Fe結晶となる。
FIG. 22 is an X-ray diffraction pattern of Example 7, and FIG. 23 is an electron micrograph showing the crystal structure of the sliding surface 4a in Example 7. As is clear from FIG. 23, when the minimum current density CDmin is set to CDmin ≧ 0.2 A / dm 2 , the {222} oriented Fe crystal becomes a hexagonal Fe crystal in which each slope is substantially flat.

【0067】例1〜7について、前記と同一条件にて、
潤滑下での焼付きテストおよび無潤滑下での摩耗テスト
を行ったところ、表22の結果を得た。図24,25は
表22をグラフ化したもので、両図中、点(1)〜
(7)は例1〜7にそれぞれ対応する。
Regarding Examples 1 to 7, under the same conditions as described above,
When a seizure test under lubrication and a wear test under non-lubrication were conducted, the results shown in Table 22 were obtained. 24 and 25 are graphs of Table 22, showing points (1) to
(7) corresponds to Examples 1 to 7, respectively.

【0068】[0068]

【表22】 表22,図24から明らかなように、最小電流密度CD
min をCDmin ≦−0.2A/dm2 に設定すると、各六
稜Fe結晶の各谷部に起因して保油性が良好となるの
で、例1〜3のように耐焼付き性が向上する。
[Table 22] As is clear from Table 22 and FIG. 24, the minimum current density CD
When min is set to CDmin ≦ −0.2 A / dm 2 , oil retention becomes good due to each valley of each hexagonal Fe crystal, and seizure resistance is improved as in Examples 1 to 3.

【0069】また表22,図25から明らかなように、
最小電流密度CDmin をCDmin ≧0.2A/dm2 に設
定すると、各六稜Fe結晶の硬さが高くなるので、例5
〜7のように耐摩耗性が良好となる。
As is clear from Table 22 and FIG.
When the minimum current density CDmin is set to CDmin ≧ 0.2 A / dm 2 , the hardness of each hexagonal Fe crystal becomes high, so
The wear resistance becomes good as shown by ~ 7.

【0070】図26に示すように、摺動面構成体4を面
心立方構造(fcc構造)を持つ金属結晶の集合体より
構成してもよい。その集合体は母材2より柱状に成長
し、且つミラー指数で(3hhh)面を摺動面4a側に
向けた(3hhh)配向性金属結晶を含み、その(3h
hh)配向性金属結晶の存在率SはS≧40%に設定さ
れる。図27に示すように、(3hhh)配向性金属結
晶6は摺動面4aにおいて四角錐状をなす四稜金属結晶
3 である。
As shown in FIG. 26, the sliding surface structure 4 may be composed of an aggregate of metal crystals having a face-centered cubic structure (fcc structure). The aggregate grows in a columnar shape from the base material 2 and includes (3hhh) oriented metal crystals with the (3hhh) plane facing the sliding surface 4a side by the Miller index.
hh) The abundance S of oriented metal crystals is set to S ≧ 40%. As shown in FIG. 27, the (3hhh) oriented metal crystal 6 is a four-sided pyramidal metal crystal 7 3 having a quadrangular pyramid shape on the sliding surface 4a.

【0071】図28に示すように、摺動面4aに沿う仮
想面11に対する(3hhh)面の傾きは四角錐の傾き
となって現われるので、摺動面構成体4の保油性および
初期なじみ性に影響を与える。そこで、(3hhh)面
が仮想面11に対してなす傾き角θは、前記同様の理由
により、0°≦θ≦15°に設定される。この場合、
(3hhh)面の傾き方向については限定されない。
As shown in FIG. 28, since the inclination of the (3hhh) surface with respect to the virtual surface 11 along the sliding surface 4a appears as the inclination of a quadrangular pyramid, the oil retaining property and the initial conformability of the sliding surface constituting body 4 are shown. Affect. Therefore, the inclination angle θ formed by the (3hhh) plane with respect to the virtual surface 11 is set to 0 ° ≦ θ ≦ 15 ° for the same reason as above. in this case,
The inclination direction of the (3hhh) plane is not limited.

【0072】fcc構造を持つ金属結晶としては、P
b、Ni、Cu、Pt、Al、Ag、Au等の単体また
は合金の結晶を挙げることができる。
A metal crystal having an fcc structure is P
Examples thereof include crystals of b, Ni, Cu, Pt, Al, Ag, Au and the like, which are simple substances or alloys.

【0073】以下、具体例について説明する。A specific example will be described below.

【0074】鋳鉄製母材のジャーナル部外周面に、電気
Niメッキ処理を施すことによりNi結晶の集合体より
構成された摺動面構成体を形成して内燃機関用カムシャ
フトを製造した。
A camshaft for an internal combustion engine was manufactured by forming a sliding surface structure composed of an aggregate of Ni crystals by performing an electric Ni plating treatment on the outer peripheral surface of the journal of a cast iron base material.

【0075】メッキ浴条件は、硫酸ニッケルの濃度 3
00g/リットル、Niイオン濃度Ni2+=1mol /リ
ットル、pH=5.5、温度 55℃である。またメッ
キ処理条件は、最小電流密度CDmin =0A/dm2 、最
大電流密度CDmax =20A/dm2 、平均電流密度CD
m=4A/dm2 、時間比TON/Tc =0.2、出力時間
ON=2msec である。
The plating bath conditions were nickel sulfate concentration 3
00 g / liter, Ni ion concentration Ni 2+ = 1 mol / liter, pH = 5.5, and temperature 55 ° C. The plating conditions are: minimum current density CDmin = 0A / dm 2 , maximum current density CDmax = 20A / dm 2 , average current density CD
m = 4 A / dm 2 , time ratio T ON / T c = 0.2, output time T ON = 2 msec.

【0076】摺動面の結晶形態は四角錐と粒状の混成、
四稜Ni結晶の面積率A=60%、その平均粒径d=4
μm、各配向性Ni結晶の存在率Sは、{111}配向
性Ni結晶 S=29%、{200}配向性Ni結晶
S=15.2%、{220}配向性Ni結晶 S=4.
7%、{311}配向性Ni結晶 S=51.1%、硬
さはHv=250である。
The crystal morphology of the sliding surface is a mixture of quadrangular pyramids and particles,
Area ratio of four-sided Ni crystal A = 60%, average grain size d = 4
μm, the abundance S of each oriented Ni crystal is {111} oriented Ni crystal S = 29%, {200} oriented Ni crystal
S = 15.2%, {220} oriented Ni crystal S = 4.
7%, {311} oriented Ni crystal S = 51.1%, hardness Hv = 250.

【0077】存在率Sは、図29に示す摺動面構成体の
X線回折図(X線照射方向は摺動面に対して直角方向)
に基づいて次式から求められたものである。なお、例え
ば{111}配向性Ni結晶とは、{111}面を摺動
面側に向けた配向性Ni結晶を意味する。 {111}配向性Ni結晶:S111 ={(I111 /IA
111 )/T}×100、 {200}配向性Ni結晶:S200 ={(I200 /IA
200 )/T}×100、 {220}配向性Ni結晶:S220 ={(I220 /IA
220 )/T}×100、 {311}配向性Ni結晶:S311 ={(I311 /IA
311 )/T}×100 ここで、I111 、I200 、I220 、I311 は各結晶面の
X線反射強度の測定値(cps)で、I111 =78.6
K、I200 =17.4K、I220 =2.7K、I311
27.7である。またIA110 、IA200 、IA220
IA311 はASTMカードにおける各結晶面のX線反射
強度比で、IA111 =100、IA200=42、IA
220 =21、IA311 =20である。さらにTは、T=
(I111 /IA111 )+(I200 /IA200 )+(I
220 /IA220 )+(I311 /IA311 )=2.71K
である。
The existence ratio S is an X-ray diffraction diagram of the sliding surface structure shown in FIG. 29 (X-ray irradiation direction is a direction perpendicular to the sliding surface).
It is obtained from the following equation based on Note that, for example, the {111} oriented Ni crystal means an oriented Ni crystal with the {111} plane facing the sliding surface side. {111} oriented Ni crystal: S 111 = {(I 111 / IA
111 ) / T} × 100, {200} oriented Ni crystal: S 200 = {(I 200 / IA
200 ) / T} × 100, {220} oriented Ni crystal: S 220 = {(I 220 / IA)
220 ) / T} × 100, {311} oriented Ni crystal: S 311 = {(I 311 / IA
311 ) / T} × 100 where I 111 , I 200 , I 220 , and I 311 are measured values (cps) of the X-ray reflection intensity of each crystal plane, and I 111 = 78.6.
K, I 200 = 17.4K, I 220 = 2.7K, I 311 =
It is 27.7. In addition, IA 110 , IA 200 , IA 220 ,
IA 311 is the X-ray reflection intensity ratio of each crystal plane in the ASTM card, IA 111 = 100, IA 200 = 42, IA
220 = 21, IA 311 = 20. Furthermore, T is T =
(I 111 / IA 111 ) + (I 200 / IA 200 ) + (I
220 / IA 220 ) + (I 311 / IA 311 ) = 2.71K
Is.

【0078】図30は、摺動面の結晶構造を示す顕微鏡
写真である。図30において、多数の四角錐状をなす四
稜Ni結晶が観察される。この四稜Ni結晶は(3hh
h)面、したがって{311}面を摺動面側に向けた
{311}配向性Ni結晶であり、その存在率SはS=
51.1%である。
FIG. 30 is a micrograph showing the crystal structure of the sliding surface. In FIG. 30, a large number of quadrilateral pyramidal Ni crystals are observed. This four-sided Ni crystal is (3hh
h) plane, and hence {311} plane is a {311} oriented Ni crystal with the sliding surface side, and the abundance ratio S is S =
It is 51.1%.

【0079】この摺動面構成体について、前記と同一条
件にて潤滑下での焼付きテストおよび無潤滑下での摩耗
テストを行ったところ、焼付き発生荷重は650N、摩
耗量は1.6mgであった。
The sliding surface structure was subjected to a seizure test under lubrication and a wear test under non-lubrication under the same conditions as described above. The seizure load was 650 N and the abrasion amount was 1.6 mg. Met.

【0080】摺動面構成体は、例えば次のような内燃機
関用部品等の摺動部に適用される。ピストン(リング
溝)、ピストンリング、ピストンピン、コンロッド、ク
ランクシャフト、軸受メタル、オイルポンプロータ、オ
イルポンプロータハウジング、カムシャフト、スプリン
グ(端面)、スプリングシート、スプリングリテーナ、
コッタ、ロッカアーム、ローラベアリングアウタケー
ス、ローラベアリングインナケース、バルブステム、バ
ルブフェイス、油圧タペット、ウォータポンプロータシ
ャフト、プーリ、ギア、トランスミッションシャフト
部、クラッチプレート、ワッシャ、ボルト(座面、ねじ
部)。
The sliding surface structure is applied to a sliding portion such as the following internal combustion engine parts. Piston (ring groove), piston ring, piston pin, connecting rod, crankshaft, bearing metal, oil pump rotor, oil pump rotor housing, camshaft, spring (end surface), spring seat, spring retainer,
Cotta, rocker arm, roller bearing outer case, roller bearing inner case, valve stem, valve face, hydraulic tappet, water pump rotor shaft, pulley, gear, transmission shaft part, clutch plate, washer, bolt (seat surface, screw part).

【0081】なお、本発明は摺動面構成体の形成に限ら
ず、前記金属結晶を持つ皮膜の高吸光率を利用した吸光
体の形成、前記皮膜の高透磁率を利用した磁気シールド
材の形成等に適用される。
The present invention is not limited to the formation of the sliding surface structure, but is also applicable to the formation of a light absorber utilizing the high absorptivity of the film having the metal crystals, and the magnetic shield material utilizing the high magnetic permeability of the film. It is applied to formation etc.

【0082】[0082]

【発明の効果】本発明によれば、メッキ用エネルギ源の
出力を前記のようにパルス波形を描くように制御し、ま
た出力時間TONとサイクル時間Tc の比TON/Tc を前
記のように特定することによって、微細化および粒径の
均一化を達成された多数の角錐状金属結晶および/また
は角錐台状金属結晶を有し、摺動面構成体等の各種用途
に適用される金属皮膜を容易に形成することができる。
According to the present invention, the output of the plating energy source is controlled so as to draw a pulse waveform as described above, and the ratio T ON / T c of the output time T ON and the cycle time T c is set to the above. It has a large number of pyramidal metal crystals and / or truncated pyramidal metal crystals that have been made finer and uniform in particle size by being specified as follows, and are applied to various applications such as sliding surface structures. A metal film can be easily formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】ピストンの側面図である。FIG. 1 is a side view of a piston.

【図2】図1の2−2線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line 2-2 of FIG.

【図3】体心立方構造およびその(hhh)面を示す斜
視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a body-centered cubic structure and its (hhh) plane.

【図4】電気メッキ用電源の出力波形図である。FIG. 4 is an output waveform diagram of a power supply for electroplating.

【図5】摺動面構成体の一例を示す要部平面図である。FIG. 5 is a plan view of an essential part showing an example of a sliding surface structure.

【図6】三稜金属結晶の平面図である。FIG. 6 is a plan view of a trihedral metal crystal.

【図7】図5の7−7線断面図である。7 is a sectional view taken along line 7-7 of FIG.

【図8】体心立方構造における(hhh)面の傾きを示
す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing an inclination of a (hhh) plane in a body-centered cubic structure.

【図9】六稜金属結晶の一例を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing an example of a hexagonal metal crystal.

【図10】六稜金属結晶の他例を示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing another example of hexagonal metal crystals.

【図11】摺動面構成体の第1例におけるX線回折図で
ある。
FIG. 11 is an X-ray diffraction diagram of a first example of a sliding surface structure.

【図12】摺動面構成体の第1例における摺動面の結晶
構造を示す顕微鏡写真である。
FIG. 12 is a micrograph showing a crystal structure of a sliding surface in a first example of the sliding surface structure.

【図13】摺動面構成体の第2例におけるX線回折図で
ある。
FIG. 13 is an X-ray diffraction diagram of a second example of the sliding surface structure.

【図14】摺動面構成体の第2例における摺動面の結晶
構造を示す顕微鏡写真である。
FIG. 14 is a micrograph showing a crystal structure of a sliding surface in a second example of the sliding surface structure.

【図15】時間比TON/Tc と{222}配向性Fe結
晶の存在率Sとの関係を示すグラフである。
FIG. 15 is a graph showing the relationship between the time ratio T ON / T c and the abundance ratio S of {222} oriented Fe crystals.

【図16】メッキ浴のFeイオン濃度Fe2+と{22
2}配向性Fe結晶の存在率Sとの関係を示すグラフで
ある。
FIG. 16: Fe ion concentration of the plating bath Fe 2+ and {22
2 is a graph showing the relationship with the abundance ratio S of 2} oriented Fe crystals.

【図17】メッキ浴のpHと{222}配向性Fe結晶
の存在率Sとの関係を示すグラフである。
FIG. 17 is a graph showing the relationship between the pH of the plating bath and the abundance S of {222} oriented Fe crystals.

【図18】{222}配向性Fe結晶の存在率Sと焼付
き発生荷重との関係を示すグラフである。
FIG. 18 is a graph showing the relationship between the abundance ratio S of {222} oriented Fe crystals and the seizure generation load.

【図19】{222}配向性Fe結晶の存在率Sと摩耗
量との関係を示すグラフである。
FIG. 19 is a graph showing the relationship between the abundance S of {222} oriented Fe crystals and the amount of wear.

【図20】摺動面構成体の第3例におけるX線回折図で
ある。
FIG. 20 is an X-ray diffraction diagram of a third example of the sliding surface structure.

【図21】摺動面構成体の第3例における摺動面の結晶
構造を示す顕微鏡写真である。
FIG. 21 is a micrograph showing a crystal structure of a sliding surface in a third example of the sliding surface structure.

【図22】摺動面構成体の第4例におけるX線回折図で
ある。
FIG. 22 is an X-ray diffraction diagram of a fourth example of the sliding surface structure.

【図23】摺動面構成体の第4例における摺動面の結晶
構造を示す顕微鏡写真である。
FIG. 23 is a micrograph showing a crystal structure of a sliding surface in a fourth example of the sliding surface structure.

【図24】最小電流密度CDmin と焼付き発生荷重との
関係を示すグラフである。
FIG. 24 is a graph showing the relationship between the minimum current density CDmin and the seizure generation load.

【図25】最小電流密度CDmin と摩耗量との関係を示
すグラフである。
FIG. 25 is a graph showing the relationship between the minimum current density CDmin and the wear amount.

【図26】面心立方構造およびその(3hhh)面を示
す斜視図である。
FIG. 26 is a perspective view showing a face-centered cubic structure and its (3hhh) face.

【図27】四稜金属結晶の平面図である。FIG. 27 is a plan view of a tetrahedral metal crystal.

【図28】面心立方構造における(3hhh)面の傾き
を示す説明図である。
FIG. 28 is an explanatory diagram showing the inclination of the (3hhh) plane in the face-centered cubic structure.

【図29】摺動面構成体の第5例におけるX線回折図で
ある。
FIG. 29 is an X-ray diffraction diagram of a fifth example of the sliding surface structure.

【図30】摺動面構成体の第5例における摺動面の結晶
構造を示す顕微鏡写真である。
FIG. 30 is a micrograph showing a crystal structure of a sliding surface in a fifth example of the sliding surface structure.

【符号の説明】 4 摺動面構成体(金属皮膜) 4a 摺動面(表面) 71 六稜金属結晶(角錐状金属結晶)[Explanation of reference symbols] 4 Sliding surface structure (metal film) 4a Sliding surface (surface) 7 1 Hexahedral metal crystal (pyramidal metal crystal)

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成6年6月14日[Submission date] June 14, 1994

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Name of item to be amended] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0014[Correction target item name] 0014

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0014】摺動面構成体4の形成に当っては電気メッ
キ法が適用される。その際、図4に示すように、メッキ
用電源(エネルギ源)の電流(出力)Iは、その電流
が最小電流Imin から立上って最大電流Imax に至り、
次いで最小電流Imin へ下降するごとく、時間Tの経過
に伴いパルス波形を描くように制御される。
An electroplating method is applied to the formation of the sliding surface structure 4. At this time, as shown in FIG. 4, the current (output) I plating power source (energy source), the current I
Rises from the minimum current Imin to the maximum current Imax ,
Then, the pulse current is controlled so as to draw a pulse waveform as the time T elapses as the current decreases to the minimum current Imin .

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0015[Name of item to be corrected] 0015

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0015】そして、電流の立上り開始時から下降開
始時までの通電時間(出力時間)をTONとし、また先の
立上り開始時から次の立上り開始時までを1サイクルと
して、そのサイクル時間をTc としたとき、通電時間T
ONとサイクル時間Tc との比、即ち、時間比TON/Tc
はTON/Tc ≦0.45に設定される。
Then, the energization time (output time) from the start of the rise of the current I to the start of the fall is set to T ON, and the cycle time is defined as one cycle from the start of the previous rise to the start of the next rise. When T c , energizing time T
Ratio of ON to cycle time T c , that is, time ratio T ON / T c
Is set to T ON / T c ≦ 0.45.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0016[Correction target item name] 0016

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0016】この場合、最小電流密度CDmin をCDmi
n =0に、また平均電流密度CDmを、例えば、CDm
≧2.5A/dm2 に設定することによって(hhh)配
向性金属結晶の存在率SをS≧40%にすることができ
る。
[0016] CDmi In this case, the minimum current density CDmin
n = 0 and the average current density CDm, for example, CDm
By setting ≧ 2.5 A / dm 2 , the existence rate S of (hhh) oriented metal crystals can be S ≧ 40%.

【手続補正5】[Procedure Amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0023[Name of item to be corrected] 0023

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0023】前記形成方法において、最小電流密度CD
min をCDmin ≧0.2A/dm2 に、また時間比TON
c をTON/Tc ≦0.35に、さらに平均電流密度C
DmをCDm≧3.5A/dm2 にそれぞれ設定すると、
図9に示すように、各斜面12が略平坦な六稜金属結晶
1 を析出させることができる。
[0023] In the forming method, the minimum current density CD
min to CDmin ≧ 0.2 A / dm 2 , and the time ratio T ON /
T c to T ON / T c ≦ 0.35, and further average current density C
When Dm is set to CDm ≧ 3.5 A / dm 2 ,
As shown in FIG. 9, hexagonal metal crystals 7 1 each having a substantially flat slope 12 can be deposited.

【手続補正6】[Procedure correction 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0025[Name of item to be corrected] 0025

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0025】また、最小電流密度CDmin をCDmin ≦
−0.2A/dm2 に、また時間比T ON/Tc をTON/T
c ≦0.35に、さらに平均電流密度CDmをCDm≧
3.5A/dm2 にそれぞれ設定すると、図10に示すよ
うに、相隣る稜線6間に比較的深い谷13を有する六稜
金属結晶71 を析出させることができる。
[0025], UpSmall current density CDmin ≤ CDmin ≤
-0.2 A / dm2And the time ratio T ON/ TcTo TON/ T
c≦ 0.35, and the average current density CDm is CDm ≧
3.5 A / dm2If you set each to
Sea urchin, which has a relatively deep valley 13 between adjacent ridge lines 6
Metal crystal 71Can be deposited.

【手続補正7】[Procedure Amendment 7]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0070[Name of item to be corrected] 0070

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0070】図26に示すように、摺動面構成体4を面
心立方構造(fcc構造)を持つ金属結晶の集合体より
構成してもよい。その集合体は母材2より柱状に成長
し、且つミラー指数で(3hhh)面を摺動面4a側に
向けた(3hhh)配向性金属結晶を含み、その(3h
hh)配向性金属結晶の存在率SはS≧40%に設定さ
れる。図27に示すように、(3hhh)配向性金属結
晶は摺動面4aにおいて四角錐状(または四角錐台状)
をなす金属結晶、即ち4本の稜線6を持つ四稜金属結晶
3 である。
As shown in FIG. 26, the sliding surface structure 4 may be composed of an aggregate of metal crystals having a face-centered cubic structure (fcc structure). The aggregate grows in a columnar shape from the base material 2, and includes (3hhh) oriented metal crystals with the (3hhh) plane facing the sliding surface 4a side by the Miller index.
hh) The abundance S of oriented metal crystals is set to S ≧ 40%. As shown in FIG. 27, (3hhh) oriented metal bond
Crystals have a quadrangular pyramid shape (or a truncated pyramid shape) on the sliding surface 4a.
Is a metal crystal that forms a ridge, that is, a tetrahedral metal crystal 7 3 having four ridge lines 6 .

【手続補正8】[Procedure Amendment 8]

【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing

【補正対象項目名】図4[Name of item to be corrected] Fig. 4

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【図4】 [Figure 4]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 堂坂 健児 埼玉県和光市中央1丁目4番1号 株式会 社本田技術研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kenji Dozaka 1-4-1 Chuo, Wako City, Saitama Stock Company Honda Technical Research Institute

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面に多数の角錐状金属結晶または角錐
台状金属結晶の少なくとも一方を有する金属皮膜をメッ
キ法により形成するに当り、メッキ用エネルギ源の出力
を、その出力が最小値から立上って最大値に至り、次い
で最小値へ下降するごとくパルス波形を描くように制御
し、前記出力の立上り開始時から下降開始時までの出力
時間をTONとし、また先の立上り開始時から次の立上り
開始時までを1サイクルとして、そのサイクル時間をT
c としたとき、出力時間TONとサイクル時間Tc との比
ON/Tc をTON/Tc ≦0.45に設定することを特
徴とする金属皮膜の形成方法。
1. When forming a metal film having at least one of a large number of pyramidal metal crystals or truncated pyramidal metal crystals on the surface by a plating method, the output of an energy source for plating is raised from a minimum value. It is controlled so as to draw a pulse waveform as it goes up to the maximum value and then goes down to the minimum value, and the output time from the start of rising of the output to the start of falling is set to T ON, and from the start of the previous rising. The cycle time is T until the start of the next rising, which is one cycle.
when is c, the method of forming the metal coating, which comprises setting the ratio T ON / T c of the output time T ON and the cycle time T c to T ON / T c ≦ 0.45.
【請求項2】 前記比TON/Tc をTON/Tc ≦0.3
5に設定する、請求項1記載の金属皮膜の形成方法。
2. The ratio T ON / T c is T ON / T c ≦ 0.3
The method for forming a metal film according to claim 1, wherein the method is set to 5.
【請求項3】 前記メッキ法は電気メッキ法であり、そ
のメッキ用電源の平均電流密度CDmをCDm≧3.5
A/dm2 に設定する、請求項1または2記載の金属皮膜
の形成方法。
3. The plating method is an electroplating method, and the average current density CDm of the plating power source is CDm ≧ 3.5.
The method for forming a metal film according to claim 1, wherein the metal film is set to A / dm 2 .
【請求項4】 前記メッキ用電源の最小電流密度CDmi
n をCDmin ≧0.2A/dm2 に設定する、請求項3記
載の金属皮膜の形成方法。
4. The minimum current density CDmi of the plating power source
The method for forming a metal film according to claim 3, wherein n is set to CDmin ≧ 0.2 A / dm 2 .
【請求項5】 前記メッキ用電源の最小電流密度CDmi
n をCDmin ≦−0.2A/dm2 に設定する、請求項3
記載の金属皮膜の形成方法。
5. The minimum current density CDmi of the plating power source
setting n to CDmin ≦ -0.2A / dm 2, claim 3
The method for forming a metal film as described above.
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