JPH07108233A - 洗浄液使用の洗浄装置 - Google Patents
洗浄液使用の洗浄装置Info
- Publication number
- JPH07108233A JPH07108233A JP25539993A JP25539993A JPH07108233A JP H07108233 A JPH07108233 A JP H07108233A JP 25539993 A JP25539993 A JP 25539993A JP 25539993 A JP25539993 A JP 25539993A JP H07108233 A JPH07108233 A JP H07108233A
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- JP
- Japan
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- nitrogen gas
- cleaning
- washing
- nitrogen
- separator
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 有機溶剤や純水等の洗浄液を使用した洗浄を
簡単な装置で行えるようにする。 【構成】 被処理部材を洗浄液で処理し、液切処理を施
した後乾燥処理する洗浄装置において、酸素ー窒素分離
膜で形成した中空糸を多数並列配置した分離器本体(９)
を有する窒素ガス分離装置(７)を洗浄装置(１)に配置
し、この窒素ガス分離装置(７)に供給した圧縮空気から
分離精製した窒素ガスを洗浄装置(１)の処理室(２)に送
給するように構成する。
簡単な装置で行えるようにする。 【構成】 被処理部材を洗浄液で処理し、液切処理を施
した後乾燥処理する洗浄装置において、酸素ー窒素分離
膜で形成した中空糸を多数並列配置した分離器本体(９)
を有する窒素ガス分離装置(７)を洗浄装置(１)に配置
し、この窒素ガス分離装置(７)に供給した圧縮空気から
分離精製した窒素ガスを洗浄装置(１)の処理室(２)に送
給するように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属工業製品や半導体
材料を液体洗浄する洗浄装置に関する。
材料を液体洗浄する洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来技術】金属工業や半導体製造工場では、加工部材
を脱脂処理や後加工の便宜のために洗浄処理しているの
であるが、従来この洗浄材として有機溶剤や純水、ある
いは、フロン系洗浄液が使用されており、特にフロン系
洗浄液は洗浄能力の面及び取り扱いの容易性から大量に
使用されていた。ところが、フロンの地球環境への悪影
響から、フロンの使用が規制されることになった。
を脱脂処理や後加工の便宜のために洗浄処理しているの
であるが、従来この洗浄材として有機溶剤や純水、ある
いは、フロン系洗浄液が使用されており、特にフロン系
洗浄液は洗浄能力の面及び取り扱いの容易性から大量に
使用されていた。ところが、フロンの地球環境への悪影
響から、フロンの使用が規制されることになった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】フロン系洗浄液の使用
が規制されることに伴い、新たな洗浄液が求められてい
るが、いまだこれという決定的な洗浄液は現れていない
ことから、有機溶剤や純水による洗浄が見直されてき
た。しかし、液体による洗浄処理の場合、洗浄処理の後
に液切りを行い、加熱雰囲気で乾燥を行うため、有機溶
剤の場合には爆発的燃焼の可能性があり、また純水洗浄
の場合には非処理部材表面を酸化する可能性がある。こ
のため、従来の液体使用の洗浄装置では洗浄装置として
の構造が複雑になるうえ、乾燥処理が面倒になるという
問題がある。本発明はこのような点に着目して、有機溶
剤や純水による洗浄を簡単な装置で行える洗浄装置を提
供することを目的とする。
が規制されることに伴い、新たな洗浄液が求められてい
るが、いまだこれという決定的な洗浄液は現れていない
ことから、有機溶剤や純水による洗浄が見直されてき
た。しかし、液体による洗浄処理の場合、洗浄処理の後
に液切りを行い、加熱雰囲気で乾燥を行うため、有機溶
剤の場合には爆発的燃焼の可能性があり、また純水洗浄
の場合には非処理部材表面を酸化する可能性がある。こ
のため、従来の液体使用の洗浄装置では洗浄装置として
の構造が複雑になるうえ、乾燥処理が面倒になるという
問題がある。本発明はこのような点に着目して、有機溶
剤や純水による洗浄を簡単な装置で行える洗浄装置を提
供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明は、酸素ー窒素分離膜で形成した中空糸を多
数並列配置した分離器本体を有する窒素ガス分離装置を
洗浄装置に配置し、この窒素ガス分離装置に供給した圧
縮空気から分離精製した窒素ガスを洗浄装置の処理室に
送給するように構成したことを特徴としている。
めに本発明は、酸素ー窒素分離膜で形成した中空糸を多
数並列配置した分離器本体を有する窒素ガス分離装置を
洗浄装置に配置し、この窒素ガス分離装置に供給した圧
縮空気から分離精製した窒素ガスを洗浄装置の処理室に
送給するように構成したことを特徴としている。
【０００５】
【作用】本発明では、酸素ー窒素分離膜で形成した中空
糸を多数並列配置した分離器本体を有する窒素ガス分離
装置を洗浄装置に配置し、窒素ガス分離装置で空気から
分離生成した窒素ガスを洗浄装置の処理室に送給するよ
うにしているので、乾燥工程時に加熱しても、処理室内
は窒素ガス雰囲気になる。これにより、乾燥作業時に処
理室は窒素ガスで防爆シールされることになるから、有
機溶剤を使用しての洗浄処理後にあっては爆発的燃焼す
ることがなく、また純水を使用しての洗浄処理後にあっ
ては非処理部材の表面を酸化させることがなくなる。
糸を多数並列配置した分離器本体を有する窒素ガス分離
装置を洗浄装置に配置し、窒素ガス分離装置で空気から
分離生成した窒素ガスを洗浄装置の処理室に送給するよ
うにしているので、乾燥工程時に加熱しても、処理室内
は窒素ガス雰囲気になる。これにより、乾燥作業時に処
理室は窒素ガスで防爆シールされることになるから、有
機溶剤を使用しての洗浄処理後にあっては爆発的燃焼す
ることがなく、また純水を使用しての洗浄処理後にあっ
ては非処理部材の表面を酸化させることがなくなる。
【０００６】
【実施例】図面は本発明の一実施例を示す概略構成図で
ある。図中符号(１)は洗浄装置であり、この洗浄装置
(１)は処理室(２)内に配置した処理槽(３)と有機溶剤貯
蔵槽(４)とを溶媒供給路(５)と溶媒回収路(６)とで連通
させることにより、処理槽(３)内に有機溶剤を供給して
処理槽(３)内で非処理材料を有機溶剤内に浸漬して洗浄
処理し、洗浄処理終了後に処理槽(３)から有機溶剤貯蔵
槽(４)に有機溶剤を返送したのち、処理室(２)内に加熱
空気を供給して乾燥するように構成してある。
ある。図中符号(１)は洗浄装置であり、この洗浄装置
(１)は処理室(２)内に配置した処理槽(３)と有機溶剤貯
蔵槽(４)とを溶媒供給路(５)と溶媒回収路(６)とで連通
させることにより、処理槽(３)内に有機溶剤を供給して
処理槽(３)内で非処理材料を有機溶剤内に浸漬して洗浄
処理し、洗浄処理終了後に処理槽(３)から有機溶剤貯蔵
槽(４)に有機溶剤を返送したのち、処理室(２)内に加熱
空気を供給して乾燥するように構成してある。
【０００７】そして、この洗浄装置(１)の内部に窒素ガ
ス分離装置(７)が配置してある。この窒素ガス分離装置
(７)は膜分離による窒素精製装置で構成してあり、酸素
−窒素分離膜で形成した中空糸を多数並列させて配置し
ているモジュール(８)を内部に収容した分離器本体(９)
と、この分離器本体(９)の一端部から連出した空気流入
路(10)及び分離器本体(９)の他端部から連出した窒素ガ
ス導出路(11)とで構成してある。
ス分離装置(７)が配置してある。この窒素ガス分離装置
(７)は膜分離による窒素精製装置で構成してあり、酸素
−窒素分離膜で形成した中空糸を多数並列させて配置し
ているモジュール(８)を内部に収容した分離器本体(９)
と、この分離器本体(９)の一端部から連出した空気流入
路(10)及び分離器本体(９)の他端部から連出した窒素ガ
ス導出路(11)とで構成してある。
【０００８】空気流入路(10)にはフィルター(12)とオイ
ル分離器(13)及び減圧弁(14)が順に介装してあり、窒素
ガス導出路(11)には圧力計(15)と酸素濃度検出器(16)と
流量計(17)及び定流量弁(18)が順に介装してある。そし
て、窒素ガス導出路(11)の先端は洗浄装置(１)の処理室
(２)に連通接続してある。また、空気流入路(10)は工場
内に配管されている作業用圧縮空気ライン(19)に接続し
てある。
ル分離器(13)及び減圧弁(14)が順に介装してあり、窒素
ガス導出路(11)には圧力計(15)と酸素濃度検出器(16)と
流量計(17)及び定流量弁(18)が順に介装してある。そし
て、窒素ガス導出路(11)の先端は洗浄装置(１)の処理室
(２)に連通接続してある。また、空気流入路(10)は工場
内に配管されている作業用圧縮空気ライン(19)に接続し
てある。
【０００９】図中符号(20)は分離器本体(９)の胴部から
連出した分離酸素導出路、(21)はオイル分離器(13)の目
詰まりを検出する圧力計である。
連出した分離酸素導出路、(21)はオイル分離器(13)の目
詰まりを検出する圧力計である。
【００１０】上述のように構成した洗浄装置(１)では、
乾燥工程時に窒素ガス分離装置(７)で空気から分離精製
した窒素ガスを処理室(２)内に導入し、処理室(２)内を
窒素ガス雰囲気に形成するようにして乾燥処理するよう
に構成してある。これにより、乾燥処理時には処理室
(２)が窒素ガスで防爆シールされることになる。また、
酸素−窒素分離膜で形成した中空糸内を通過して取り出
された窒素ガスは乾燥窒素ガスとなるので、窒素ガス自
体に乾燥機能が生じ効率よく乾燥させることができる。
乾燥工程時に窒素ガス分離装置(７)で空気から分離精製
した窒素ガスを処理室(２)内に導入し、処理室(２)内を
窒素ガス雰囲気に形成するようにして乾燥処理するよう
に構成してある。これにより、乾燥処理時には処理室
(２)が窒素ガスで防爆シールされることになる。また、
酸素−窒素分離膜で形成した中空糸内を通過して取り出
された窒素ガスは乾燥窒素ガスとなるので、窒素ガス自
体に乾燥機能が生じ効率よく乾燥させることができる。
【００１１】上記洗浄装置(１)では、処理槽(３)に有機
溶剤液を給排して洗浄処理と乾燥処理を行うようにした
が、洗浄室と乾燥室とを併設し、洗浄室で洗浄した被処
理部材を乾燥室に搬送して乾燥処理する形式の洗浄装置
でもよい。また、搬送中の被処理部材に有機溶剤液を噴
射して洗浄する形式のものでもよい。
溶剤液を給排して洗浄処理と乾燥処理を行うようにした
が、洗浄室と乾燥室とを併設し、洗浄室で洗浄した被処
理部材を乾燥室に搬送して乾燥処理する形式の洗浄装置
でもよい。また、搬送中の被処理部材に有機溶剤液を噴
射して洗浄する形式のものでもよい。
【００１２】さらに、上記実施例では洗浄液として有機
溶剤液を使用するものについて説明したが、洗浄液は純
水であってもよい。
溶剤液を使用するものについて説明したが、洗浄液は純
水であってもよい。
【００１３】
【発明の効果】本発明では、酸素ー窒素分離膜を使用し
た窒素ガス分離装置を洗浄装置に配置し、窒素ガス分離
装置で空気から分離生成した窒素ガスを洗浄装置の処理
室に送給するようにしているので、乾燥処理時に処理室
内を窒素ガス雰囲気にすることができる。これにより、
乾燥作業時に処理室は窒素ガスで防爆シールされること
になるから、有機溶剤を使用しての洗浄後の乾燥時にあ
っては爆発的燃焼することがなく、また純水を使用して
の洗浄後の乾燥時にあっては非処理部材の表面を酸化さ
せることがなくなる。
た窒素ガス分離装置を洗浄装置に配置し、窒素ガス分離
装置で空気から分離生成した窒素ガスを洗浄装置の処理
室に送給するようにしているので、乾燥処理時に処理室
内を窒素ガス雰囲気にすることができる。これにより、
乾燥作業時に処理室は窒素ガスで防爆シールされること
になるから、有機溶剤を使用しての洗浄後の乾燥時にあ
っては爆発的燃焼することがなく、また純水を使用して
の洗浄後の乾燥時にあっては非処理部材の表面を酸化さ
せることがなくなる。
【００１４】さらに、酸素−窒素分離膜で形成した中空
糸を多数並列配置した窒素ガス分離装置を使用している
ので、窒素分離のための駆動部がないから、窒素ガスを
得るための装置か簡単になるうえ、故障もなく、安定し
て窒素ガスを得ることかできる。
糸を多数並列配置した窒素ガス分離装置を使用している
ので、窒素分離のための駆動部がないから、窒素ガスを
得るための装置か簡単になるうえ、故障もなく、安定し
て窒素ガスを得ることかできる。
【００１５】さらに、酸素−窒素分離膜で形成した中空
糸の場合、中空糸を通過して得られた窒素ガスは乾燥窒
素になることから、窒素ガス自体が乾燥機能をもつこと
になり、効果的に乾燥させることができる。
糸の場合、中空糸を通過して得られた窒素ガスは乾燥窒
素になることから、窒素ガス自体が乾燥機能をもつこと
になり、効果的に乾燥させることができる。
【図１】本発明の一実施例を示す概略構成図である。
１…洗浄装置、２…洗浄装置の処理室、７…窒素ガス分
離装置、９…窒素ガス分離装置の分離器本体。
離装置、９…窒素ガス分離装置の分離器本体。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 入江 光則 兵庫県尼崎市立花町４−16−22 (72)発明者 澤 裕之 大阪府泉南郡岬町深日994−６
Claims (1)
- 【請求項１】 被処理部材を洗浄液で処理し、液切処理
を施した後乾燥処理する洗浄装置において、 酸素ー窒素分離膜で形成した中空糸を多数並列配置した
分離器本体(９)を有する窒素ガス分離装置(７)を洗浄装
置(１)に配置し、この窒素ガス分離装置(７)に供給した
圧縮空気から分離精製した窒素ガスを洗浄装置(１)の処
理室(２)に送給するように構成したことを特徴とする洗
浄液使用の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25539993A JPH07108233A (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | 洗浄液使用の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25539993A JPH07108233A (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | 洗浄液使用の洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07108233A true JPH07108233A (ja) | 1995-04-25 |
Family
ID=17278229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25539993A Pending JPH07108233A (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | 洗浄液使用の洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07108233A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01199431A (ja) * | 1988-02-04 | 1989-08-10 | Sony Corp | ウェハキャリア洗浄装置 |
| JPH01281124A (ja) * | 1988-04-30 | 1989-11-13 | Daikin Ind Ltd | 膜式気体分離装置 |
| JPH06173047A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-06-21 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法 |
-
1993
- 1993-10-13 JP JP25539993A patent/JPH07108233A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01199431A (ja) * | 1988-02-04 | 1989-08-10 | Sony Corp | ウェハキャリア洗浄装置 |
| JPH01281124A (ja) * | 1988-04-30 | 1989-11-13 | Daikin Ind Ltd | 膜式気体分離装置 |
| JPH06173047A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-06-21 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19970617 |