JPH0692248B2 - Method of disproportionation of silanes - Google Patents

Method of disproportionation of silanes

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JPH0692248B2
JPH0692248B2 JP18590985A JP18590985A JPH0692248B2 JP H0692248 B2 JPH0692248 B2 JP H0692248B2 JP 18590985 A JP18590985 A JP 18590985A JP 18590985 A JP18590985 A JP 18590985A JP H0692248 B2 JPH0692248 B2 JP H0692248B2
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acid
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silanes
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薫 井上
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智弘 安部
鏡悟 小泉
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三井東圧化学株式会社
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【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は一般式RnSiX(4-n)で表わされるハロゲン化シラ
ン、アルキルシラン、アルキルハロゲン化シラン等を不
均化させて、モノシラン、ジクロロシラン等原料シラン
類とは異なるシラン化合物を製造する方法に関し、さら
に詳しくは予めアミン類とスルホン酸類との反応により
得られるアミンの塩を担体に担持させたものを触媒とし
て不均化反応を起さしめモノシラン、ジクロロシラン等
の原料シラン類とは異なるシラン類を安価にかつ容易か
つ極めて効率良く製造する方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention disproportionates halogenated silanes, alkylsilanes, alkylhalogenated silanes and the like represented by the general formula RnSiX (4- n ) to obtain raw materials such as monosilane and dichlorosilane. The present invention relates to a method for producing a silane compound different from silanes, and more specifically, a monosilane which causes a disproportionation reaction by using as a catalyst a carrier of an amine salt obtained by a reaction of amines and sulfonic acids in advance. , A method for producing silanes such as dichlorosilane different from the starting silanes at low cost, easily and extremely efficiently.

〔背景技術〕[Background technology]

近年エレクトロニクス産業の発展に伴ない、多結晶シリ
コン、単結晶シリコン或いはアモルファスシリコン等の
製造原料としてモノシランおよびクロロシランは特にそ
の重要性が増大している。すなわち、モノシラン(Si
H4)は上記高純度シリコンの原料、太陽電池用半導体原
料、シリコンエピタキシャル膜用原料等として賞用され
今後大幅な需要の増大が見込まれている。従って安価で
かつ容易にモノシランを製造する方法が望まれる。一方
ジクロロシラン等のクロロシランも同様に半導体用シリ
コンの製造原料等として大幅な需要が望まれている。ま
たアルキルシラン、アルキルハロゲン化シラン等も、シ
リコーン、ポリカーボシラン等の原料として今後大幅な
需要が望まれている。
With the development of the electronics industry in recent years, monosilane and chlorosilane have become particularly important as raw materials for producing polycrystalline silicon, single crystal silicon, amorphous silicon and the like. That is, monosilane (Si
H 4 ) has been prized as a raw material for the above-mentioned high-purity silicon, a semiconductor raw material for solar cells, a raw material for a silicon epitaxial film, etc., and it is expected that the demand will greatly increase in the future. Therefore, an inexpensive and easy method for producing monosilane is desired. On the other hand, chlorosilane such as dichlorosilane is also in great demand as a raw material for manufacturing silicon for semiconductors. Further, a large demand for alkylsilanes, alkylhalogenated silanes and the like as raw materials for silicones, polycarbosilanes and the like is expected in the future.

従来モノシラン(SiH4)の製造方法としては以下の方法
が一般的に知られている。
The following methods are generally known as conventional methods for producing monosilane (SiH 4 ).

(1)ケイ化マグネシウム(Mg2Si)に塩酸を使用させ
る方法; (2)ケイ化マグネシウムを液体アンモニア中塩化アン
モニウム又は臭化アンモニウムと作用させる方法; (3)エーテル溶媒中四塩化ケイ素と水素リチウムアル
ミニウムを反応させる方法; (4)トリクロロシランを第3級アミノ基または第4級
アンモニウム基を含む陰イオン交換樹脂を触媒として再
分配もしくは不均化させる方法; (5)塩化リチウムと塩化カリウムの溶融塩中で水素化
リチウムと四塩化ケイ素を反応させる方法; (6)金属シリコンに水素ガスをNi触媒存在下に高温高
圧条件で反応させる方法等である。
(1) Method of using hydrochloric acid in magnesium silicide (Mg 2 Si); (2) Method of reacting magnesium silicide with ammonium chloride or ammonium bromide in liquid ammonia; (3) Silicon tetrachloride and hydrogen in ether solvent A method of reacting lithium aluminum; (4) A method of redistributing or disproportionating trichlorosilane using an anion exchange resin containing a tertiary amino group or a quaternary ammonium group as a catalyst; (5) Lithium chloride and potassium chloride A method of reacting lithium hydride with silicon tetrachloride in the molten salt of (6); (6) a method of reacting hydrogen gas with metallic silicon under high temperature and high pressure conditions in the presence of a Ni catalyst.

しかしながら、(1)の方法においてはモノシランの他
に高級ケイ素化合物(SinH2n+2)ただしnは2以上の整
数である。)を副生し、加えてモノシランの収率も低
い。更にMgが高価である為経済的ではない。(2)の方
法ではモノシランの収率が高いが、アンモニアの分離等
反応工程が複雑であり、加えてMgが高価で経済性に乏し
い。(3)の方法では高純度なモノシランが高収率で得
られるが還元剤として用いる水素化リチウムアルミニウ
ムが高価である為、又工程の連続化にも問題点があり、
工業化には困難である。(5)の方法では副生する塩化
リチウムを電解し、金属リチウムとしこれを水素化して
水素化リチウムに戻す事でリサイクル系とする事が出来
る為安価なモノシランの製造法となるが腐触性が大であ
り装置の腐触等の問題点があり、実用化には今だ到って
いない。(6)の方法では高温高圧反応である為、設備
等のコストが高く、加えて高温である為に生成物の分解
等が生じ実用的ではない。
However, in the method (1), a higher silicon compound (SinH 2 n +2 ) in addition to monosilane, where n is an integer of 2 or more. ) Is produced as a by-product, and the yield of monosilane is low. Furthermore, Mg is expensive and not economical. In the method (2), the yield of monosilane is high, but the reaction step such as separation of ammonia is complicated, and in addition, Mg is expensive and economically poor. According to the method (3), high-purity monosilane can be obtained in high yield, but lithium aluminum hydride used as a reducing agent is expensive, and there is a problem in continuous process.
It is difficult to industrialize. In the method (5), by-produced lithium chloride is electrolyzed, and metal lithium is hydrogenated and returned to lithium hydride, which can be used as a recycle system. However, there are problems such as corrosion of the device, and it has not yet been put to practical use. Since the method (6) is a high-temperature, high-pressure reaction, the cost of equipment and the like is high, and in addition, since the temperature is high, the product is decomposed and is not practical.

しかして、(4)の方法は触媒反応であり、加えて副生
した四塩化ケイ素を水素化しトリクロロシランとして再
使用する事が可能であり、極端な高温高圧を必要としな
い事からエネルギー的にも有利であり装置も簡便であり
経済性に優れた方法である。このシラン製造法において
は、クロロシランの不均化触媒が必要であり、液相均一
および気−固および液−固相不均一触媒が知られてい
る。液相触媒としては3級アミン、α−オキソアミンな
どが知られているが、連続流通反応による大量生産をす
るには適した方法ではない。また固体触媒による気−固
または液−固不均一反応においては3級アミンまたは4
級アンモニウム塩型イオン交換樹脂触媒が公知であり連
続流通反応による大量のモノシランの製造に適してい
る。しかしながらこれらの触媒は熱的安定性が低く、長
時間反応で容易に触媒の劣化が認められ、また触媒再生
が困難であり加えてイオン交換樹脂が高価であり経済性
に及ぼす影響が大である等の欠点を有している。
However, the method (4) is a catalytic reaction, and in addition, it is possible to hydrogenate the by-produced silicon tetrachloride and reuse it as trichlorosilane, which does not require extremely high temperature and high pressure. Is also advantageous, the apparatus is simple, and the method is economical. In this silane production method, a chlorosilane disproportionation catalyst is required, and liquid phase homogeneous and gas-solid and liquid-solid phase heterogeneous catalysts are known. Although tertiary amines, α-oxoamines, etc. are known as liquid phase catalysts, they are not suitable for mass production by continuous flow reaction. Further, in a gas-solid or liquid-solid heterogeneous reaction with a solid catalyst, a tertiary amine or 4
A quaternary ammonium salt type ion exchange resin catalyst is known and is suitable for producing a large amount of monosilane by a continuous flow reaction. However, these catalysts have low thermal stability, and deterioration of the catalyst can be easily recognized by long-term reaction, and it is difficult to regenerate the catalyst, and in addition, the ion exchange resin is expensive and has a great influence on the economical efficiency. It has drawbacks such as

一方、ジクロロシランの製造法としては上記(4)の方
法が知られており、この製造に関する問題点としては前
記モノシランの製造と同様な事が挙げられる。なお、他
にジクロロシランは金属ケイ素からトリクロロシランを
製造する際の副生物として得る方法があるが、収率が低
く実用的ではない。
On the other hand, the above method (4) is known as a method for producing dichlorosilane, and the problems related to this production include the same as the above-mentioned production of monosilane. In addition, there is a method of obtaining dichlorosilane as a by-product when producing trichlorosilane from metallic silicon, but the yield is low and it is not practical.

さらにアルキルシラン等の不均化反応においては上記
(4)による方法が知られているがやはり上記した欠点
がある。なお、その他ハロゲン化アルミニウムを触媒と
する方法が知られているが、ハロゲン化アルミニウムを
触媒とした際には極めて反応が遅く、通常500〜600℃で
も低い転化率を示すに過ぎない。
Further, in the disproportionation reaction of alkylsilane and the like, the method according to the above (4) is known, but it also has the above-mentioned drawbacks. Although other methods using aluminum halide as a catalyst are known, the reaction is extremely slow when aluminum halide is used as a catalyst, and the conversion rate is usually low even at 500 to 600 ° C.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

しかして、本発明の目的は、最も豊富なケイ素の供給源
となるトリクロロシラン等を原料とする前記(4)の方
法と同様に、ハロゲン化シラン類や含炭化水素基シラン
類を原料としてモノシランや原料シラン類とは異るシラ
ン類を製造する不均化方法を提供することである。
Therefore, the object of the present invention is to use monosilanes as a raw material from halogenated silanes or hydrocarbon-containing silanes, as in the method (4) above using trichlorosilane, which is the most abundant supply source of silicon, as a raw material. Another object of the present invention is to provide a disproportionation method for producing silanes different from raw silanes.

本発明の他の目的は、従来知られている不均一系固体触
媒である3級アミン型、または4級アンモニウム塩型陰
イオン交換樹脂に比して極端に熱安定性が高く、したが
って例えばトリクロロシランの不均化反応のごとき反応
平衡上生成物(モノシラン、モノクロロシラン、ジクロ
ロシラン、およびテトラクロロシラン)にとって有利と
なる高温での反応を行なう事が可能であり、かつ長寿命
で加えて安価で極めて容易に調製可能な触媒と接触させ
る不均化方法を提供することである。
Another object of the present invention is extremely high thermal stability as compared with the conventionally known heterogeneous solid catalysts such as tertiary amine type or quaternary ammonium salt type anion exchange resins, and therefore, for example It is possible to carry out a reaction at a high temperature that is advantageous for products (monosilane, monochlorosilane, dichlorosilane, and tetrachlorosilane) on the reaction equilibrium such as a disproportionation reaction of chlorosilane, and has a long life and is inexpensive at the same time. An object of the present invention is to provide a disproportionation method of contacting with a catalyst that can be prepared very easily.

〔発明の開示〕[Disclosure of Invention]

本発明に従って、一般式 RnSiX(4-n) (ここで、nは1以上4以下の整数であり、Rは水素ま
たは炭化水素基であり、Xはハロゲン原子またはアルコ
キシ基である) であらわされるシラン類を、炭素質物質に担持させたア
ミン類とスルホン酸類との反応生成物、と接触させるこ
とを特徴とするシラン類の不均化方法、が提供される。
According to the present invention, it is represented by the general formula RnSiX (4- n ) (wherein n is an integer of 1 or more and 4 or less, R is a hydrogen or a hydrocarbon group, and X is a halogen atom or an alkoxy group). Provided is a disproportionation method of silanes, which comprises contacting silanes with a reaction product of amines and sulfonic acids supported on a carbonaceous material.

以下、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明で原料として使用するシラン類とは、一般式 RnSiX(4-n) (ここでnは1以上4以下の整数であり、Rは水素また
は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアリル
基、炭素数6〜20のアリール基等の炭化水素基であり、
Xはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子また
はメトキシ、エトキシ等のアルコキシ基である) であらわされるものであって、たとえばハロゲン化シラ
ン、アルキルシラン、アルキルハロゲン化シラン、アル
コキシシラン、アルコキシハロゲン化シラン、アルキル
ハロゲン化アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラ
ン、アルケニルシラン、アルケニルハロゲン化シラン、
アリールシラン、アリールハロゲン化シラン、アリール
アルコキシシラン、アリールアルキルシラン、アルキル
アリールハロゲン化シラン、アリールハロゲン化アルコ
キシシラン等である。具体的には、トリクロロシラン、
ジクロロシラン、モノクロロシラン、トリブロモシラ
ン、ジブロモシラン、モノブロモシラン、トリヨードシ
ラン、ジヨードシラン、モノヨードシラン、トリフルオ
ロシラン、ジフルオロシラン、モノフルオロシラン、モ
ノメチルシラン、ジエチルシラン、モノエチルシラン、
メチルクロロシラン、ジメチルクロロシラン、トリメチ
ルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチルトリ
クロロシラン、モノエチルシラン、ジエチルシラン、ト
リエチルシラン、エチルクロロシラン、エチルジクロロ
シラン、エチルトリクロロシラン、ジエチルクロロシラ
ン、ジエチルジクロロシラン、トリエチルクロロシラ
ン、メチルブロモシラン、メチルジブロモシラン、メチ
ルトリブロモシラン、ジメチルブロモシラン、ジメチル
ジブロモシラン、トリメチルブロモシラン、エチルブロ
モシラン、エチルジブロモシラン、エチルトリブロモシ
ラン、ジエチルブロモシラン、ジエチルジブロモシラ
ン、トリエチルブロモシラン、メチルフルオロシラン、
メチルジフルオロシラン、メチルトリフルオロシラン、
ジメチルフルオロシラン、トリメチルフルオロシラン、
エチルフルオロシラン、エチルジフルオロシラン、エチ
ルトリフルオロシラン、ジエチルフルオロシラン、ジエ
チルジフルオロシラン、トリエチルフルオロシラン、メ
チルヨードシラン、メチルジヨードシラン、メチルトリ
ヨードシラン、トリメチルヨードシラン、エチルヨード
シラン、エチルトリヨードシラン、フェニルシラン、ジ
フェニルシラン、トリフェニルシラン、フェニルクロロ
シラン、ジフェニルクロロシラン、トリフェニルクロロ
シラン、ジフェニルクロロシラン、トリフェニルクロロ
シラン、フェニルブロモシラン、ジフェニルブロモシラ
ン、トリフェニルブロモシラン、ジフェニルジブロモシ
ラン、トリフェニルブロモシラン、フェニルフルオロシ
ラン、ジフェニルフルオロシラン、トリフェニルフルオ
ロシラン、ジフェニルジフルオロシラン、トリフェニル
フルオロシラン、ビニルシラン、ジビニルシラン,ビニ
ルクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、メトキシシ
ラン、ジメトキシシラン、トリメトキシシラン、エトキ
シシラン、ジエトキシシラン、トリエトキシシラン、ク
ロロメトキシシラン、ジクロロメトキシシラン、トリク
ロロメトキシシラン、メチルメトキシシラン、メチルジ
メトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、クロロエ
トキシシラン、ジクロロエトキシシラン、トリクロロエ
トキシシラン、クロロジエトキシシラン、ビニルメトキ
シシラン、ジビニルメトキシシラン、トリビニルメトキ
シシラン、ビニルクロロメトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシラン、ビニルエトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、トリビニルエトキシシラン、メチルエチル
シラン、メチルフェニルシラン、エチルフェニルシラ
ン、エチルフェニルクロロシラン等の含ハロゲンおよび
/または含炭化水素基および/または含アルコキシシラ
ン類であり、これら一種または2種以上の混合物であ
る。
The silanes used as a raw material in the present invention are represented by the general formula RnSiX (4- n ) (where n is an integer of 1 or more and 4 or less, R is hydrogen or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and 1 carbon atom). A hydrocarbon group such as an aryl group having 10 to 10 carbon atoms and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms,
X is a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine or iodine or an alkoxy group such as methoxy or ethoxy, and is represented by, for example, halogenated silane, alkylsilane, alkylhalogenated silane, alkoxysilane or alkoxyhalogen. Silane, alkylhalogenated alkoxysilane, alkylalkoxysilane, alkenylsilane, alkenylhalogenated silane,
Examples include arylsilane, arylhalogenated silane, arylalkoxysilane, arylalkylsilane, alkylarylhalogenated silane, and arylhalogenated alkoxysilane. Specifically, trichlorosilane,
Dichlorosilane, monochlorosilane, tribromosilane, dibromosilane, monobromosilane, triiodosilane, diiodosilane, monoiodosilane, trifluorosilane, difluorosilane, monofluorosilane, monomethylsilane, diethylsilane, monoethylsilane,
Methylchlorosilane, dimethylchlorosilane, trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane, methyltrichlorosilane, monoethylsilane, diethylsilane, triethylsilane, ethylchlorosilane, ethyldichlorosilane, ethyltrichlorosilane, diethylchlorosilane, diethyldichlorosilane, triethylchlorosilane, methylbromo Silane, methyldibromosilane, methyltribromosilane, dimethylbromosilane, dimethyldibromosilane, trimethylbromosilane, ethylbromosilane, ethyldibromosilane, ethyltribromosilane, diethylbromosilane, diethyldibromosilane, triethylbromosilane, methylfluoro Silane,
Methyldifluorosilane, methyltrifluorosilane,
Dimethylfluorosilane, trimethylfluorosilane,
Ethylfluorosilane, ethyldifluorosilane, ethyltrifluorosilane, diethylfluorosilane, diethyldifluorosilane, triethylfluorosilane, methyliodosilane, methyldiiodosilane, methyltriiodosilane, trimethyliodosilane, ethyliodosilane, ethyltriiodo Silane, phenylsilane, diphenylsilane, triphenylsilane, phenylchlorosilane, diphenylchlorosilane, triphenylchlorosilane, diphenylchlorosilane, triphenylchlorosilane, phenylbromosilane, diphenylbromosilane, triphenylbromosilane, diphenyldibromosilane, triphenylbromosilane , Phenylfluorosilane, diphenylfluorosilane, triphenylfluorosilane, diphe Rudifluorosilane, triphenylfluorosilane, vinylsilane, divinylsilane, vinylchlorosilane, vinyltrichlorosilane, methoxysilane, dimethoxysilane, trimethoxysilane, ethoxysilane, diethoxysilane, triethoxysilane, chloromethoxysilane, dichloromethoxysilane, Trichloromethoxysilane, methylmethoxysilane, methyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, chloroethoxysilane, dichloroethoxysilane, trichloroethoxysilane, chlorodiethoxysilane, vinylmethoxysilane, divinylmethoxysilane, trivinylmethoxysilane, vinylchloromethoxy Silane, vinyltrimethoxysilane, vinylethoxysilane, vinyltriethoxysilane, trivinylethoxysilane Emissions, methyl ethyl silane, a halogen-containing and / or carbon-hydrogen groups and / or containing alkoxysilanes such as methyl phenyl silane, ethyl phenyl silane, ethyl phenyl chlorosilane is these one or a mixture of two or more.

本発明は上記のごときシラン類を原料として、炭素質物
質に担持させた、アミン類とスルホン酸類との反応生成
物、に接触させ、不均化反応を行うものである。
In the present invention, the above-mentioned silanes are used as a raw material and brought into contact with a reaction product of an amine and a sulfonic acid supported on a carbonaceous substance to carry out a disproportionation reaction.

本発明におけるアミン類とスルホン酸類との反応生成物
とは以下の反応によって生成したものである。
The reaction product of amines and sulfonic acids in the present invention is produced by the following reaction.

(ただしR′は炭化水素基、R″はHおよび炭化水素基
であり、各々異なる基でも同一の基でもかまわない。) 本発明においてスルホン酸類と反応させてアミンのスル
ホン酸塩とするアミン類とは、 (a)アンモニア、ヒドラジン等の水素化窒素化合物; (b)脂肪族、芳香族または脂環式の第1級、第2級 または第3級のモノアミンまたはジアミン、トリアミン
等のポリアミン; (c)縮合環を含む環状アミンであり少なくとも1つの
窒素原子が環骨格に含まれるモノアミンまたはポリアミ
ン; (d)アミノ酸類、アミド類、アルコールアミン類、 エーテルアミン類、イミド類またはラクタム類等の含酸
素アミン; (e)O、S、Se等のヘテロ原子を有する含ヘテロ元素
アミン; 等であり、第2級或いは第3級アミンの場合にはNに対
する各々の置換基が同一か各々異なるか、または1以上
が異なるかのいずれの置換基を有していてもかまわな
い。
(However, R'is a hydrocarbon group, and R "is H and a hydrocarbon group, which may be different groups or the same groups.) In the present invention, amines which are reacted with sulfonic acids to form sulfonates of amines And (a) a nitrogen hydride compound such as ammonia or hydrazine; (b) an aliphatic, aromatic or alicyclic primary, secondary or tertiary monoamine or a polyamine such as a diamine or triamine; (C) a monoamine or polyamine which is a cyclic amine containing a condensed ring and contains at least one nitrogen atom in the ring skeleton; (d) amino acids, amides, alcohol amines, ether amines, imides or lactams Oxygen-containing amine; (e) Hetero-element-containing amine having a hetero atom such as O, S, Se; and the like, and in the case of secondary or tertiary amine, N Each substituent is identical or different from each other or to, or 1 or more may have a different one of any of the substituents.

具体的には、アンモニア、ヒドラジン、第1級アミンと
しては;モノメチルアミン、モノエチルアミン、モノプ
ロピルアミン類、モノブチルアミン類、モノペンチルア
ミン類、モノヘキシルアミン類、モノヘプチルアミン
類、ビニルアミン、アリルアミン、ブテニルアミン類、
ペンテニルアミン類、ヘキセニルアミン類、ペンタジエ
ニルアミン類、ヘキサジエニルアミン類、シクロペンチ
ルアミン、シクロヘキシルアミン、シクロオクチルアミ
ン、p−メンチルアミン、シクロペンテニルアミン類、
シクロヘキセニルアミン類、シクロヘキサジエニルアミ
ン類、アニリン、ベンジルアミン、ナフチルアミン、ナ
フチルメチルアミン、トルイジン、トリレンジアミン
類、アニゾール、エチレンジアミン、エチレントリアミ
ン、モノエタノールアミン、アミノチオフェン、グリシ
ン、アラニン、フェニルアラニン、アミノアセトンなど
が挙げられる。
Specifically, as ammonia, hydrazine, and primary amines; monomethylamine, monoethylamine, monopropylamines, monobutylamines, monopentylamines, monohexylamines, monoheptylamines, vinylamine, allylamine, Butenylamines,
Pentenylamines, hexenylamines, pentadienylamines, hexadienylamines, cyclopentylamine, cyclohexylamine, cyclooctylamine, p-menthylamine, cyclopentenylamines,
Cyclohexenylamines, cyclohexadienylamines, aniline, benzylamine, naphthylamine, naphthylmethylamine, toluidine, tolylenediamines, anisole, ethylenediamine, ethylenetriamine, monoethanolamine, aminothiophene, glycine, alanine, phenylalanine, amino Acetone etc. are mentioned.

また、第2級アミンとしては;ジメチルアミン、ジエチ
ルアミン、ジプロピルアミン類、ジブチルアミン類、ジ
ペンチルアミン類、ジヘキシルアミン類、メチルエチル
アミン、メチルプロピルアミン類、メチルブチルアミン
類、メチルペンチルアミン類、メチルヘキシルアミン
類、エチルプロピルアミン類、エチルブチルアミン類、
エチルペンチルアミン類、プロピルブチルアミン類、プ
ロピルペンチルアミン類、プロピルヘキシルアミン類、
ブチルペンチルアミン類、ペンチルヘキシルアミン類、
ジビニルアミン、ジアリルアミン、ジブテニルアミン
類、ジペンテニルアミン類、ジヘキセニルアミン類、メ
チルビニルアミン、メチルアリルアミン、メチルブテニ
ルアミン類、メチルペンテニルアミン類、メチルヘキセ
ニルアミン類、エチルビニルアミン、エチルアリルアミ
ン、エチルブテニルアミン、エチルペンテニルアミン
類、エチルヘキセニルアミン類、プロピルビニルアミン
類、プロピルアリルアミン類、プロピルブテニルアミン
類、プロピルペンテニルアミン類、プロピルヘキセニル
アミン類、ブチルビニルアミン類、ブチルアリルアミン
類、ブチルブテニルアミン類、ブチルペンテニルアミン
類、ブチルヘキセニルアミン類、ビニルアリルアミン、
ビニルブテニルアミン類、ビニルペンテニルアミン類、
ビニルヘキセニルアミン類、アリルブテニルアミン類、
アリルペンテニルアミン類、アリルヘキセニルアミン
類、ブテニルペンテニルアミン類、ブテニルヘキセニル
アミン類、ジシクロペンチルアミン、ジシクロヘキシ
ル、メチルシクロペンチルアミン、メチルシクロヘキシ
ルアミン、メチルシクロオクチルアミン、エチルシクロ
ペンチルアミン、エチルシクロヘキシルアミン、エチル
シクロオクチルアミン、プロピルシクロペンチルアミン
類、プロピルシクロヘキシルアミン類、ブチルシクロペ
ンチルアミン類、ブチルシクロヘキシルアミン類、ヘキ
シルシクロペンチルアミン類、ヘキシルシクロヘキシル
アミン類、ヘキシルシクロオクチルアミン類、ビニルシ
クロペンチルアミン、ビニルシクロヘキシルアミン、ビ
ニルシクロオクチルアミン、アリルシクロペンチルアミ
ン、アリルシクロヘキシルアミン、アリルシクロオクチ
ルアミン、ブテニルシクロペンチルアミン類、ブテニル
シクロヘキシルアミン類、ブテニルシクロオクチルアミ
ン類、ジシクロペンテニルアミン類、ジシクロヘキセニ
ルアミン類、ジシクロオクテニルアミン類、メチルシク
ロペンテニルアミン類、メチルシクロヘキセニルアミン
類、メチルシクロオクテニルアミン類、エチルシクロペ
ンテニルアミン類、エチルシクロヘキセニルアミン類、
エチルシクロオクテニルアミン類、プロピルシクロペン
テニルアミン類、プロピルシクロヘキセニルアミン類、
ブチルシクロペンテニルアミン類、ブチルシクロヘキセ
ニルアミン類、ビニルシクロペンテニルアミン類、ビニ
ルシクロヘキセニルアミン類、ビニルシクロオクテニル
アミン類、アリルシクロペンテニルアミン類、アリルシ
クロヘキセニルアミン類、ブテニルシクロペンテニルア
ミン類、ブテニルシクロヘキセニルアミン類、ジシクロ
ペンタジエニルアミン、ジシクロヘキサジエニルアミン
類、ジシクロオクタジエニルアミン類、メチルシクロペ
ンタジエニルアミン、メチルシクロヘキサジエニルアミ
ン類、エチルシクロペンタジエニルアミン、エチルシク
ロヘキサジエニルアミン類、プロピルシクロペンタジエ
ニルアミン類、プロピルシクロヘキサジエニルアミン
類、ジシクロオクタトリエニルアミン類、メチルシクロ
オクタトリエニルアミン類、エチルシクロオクタトリエ
ニルアミン類、ビニルシクロペンタジエニルアミン、ビ
ニルシクロヘキサジエニルアミン類、アリルシクロペン
タジエニルアミン、アリルシクロヘキサジエニルアミン
類、ジフェニルアミン、ジトリルアミン類、ジベンジル
アミン、ジナフチルアミン類、N−メチルアニリン、N
−エチルアニリン、N−プロピルアニリン類、N−ブチ
ルアニリン類、N−メチルトルイジン、N−エチルトル
イジン、N−プロピルトルイジン類、N−ブチルトルイ
ジン類、N−メチルベンジルアミン、N−エチルベンジ
ルアミン類、N−プロピルベンジルアミン類、N−ブチ
ルベンジルアミン類、N−メチルナフチルアミン類、N
−エチルナフチルアミン類、N−プロピルナフチルアミ
ン類、N−ビニルアニリン、N−アリルアニリン、N−
ビニルベンジルアミン、N−アリルベンジルアミン、N
−ビニルトルイジン、N−アリルトルイジン、フェニル
シクロペンチルアミン、フェニルシクロヘキシルアミ
ン、フェニルシクロオクチルアミン、フェニルシクロペ
ンテニルアミン、フェニルシクロヘキセニルアミン、フ
ェニルシクロペンタジエニルアミン、N−メチルアニゾ
ール、N−エチルアニソール、N−ビニルアニソール、
N−アリルアニソール、N−メチルエチレンジアミン、
N,N′ジメチルエチレンジアミン、N−エチルエチレン
ジアミン、N,N′−ジエチルエチレンジアミン、N,N′−
ジメチルトリレンジアミン類、N,N′−ジエチルトリレ
ンジアミン類、N−メチルエチレントリアミン、N,N′
−ジメチルエチレントリアミン、ピロール、ピロリジ
ン、イミダゾール、ピペリジン、ピペラジン、メチルピ
ロール類、メチルピロリジン類、メチルイミダーゾール
類、メチルピペリジン類、メチルピペラジン類、エチル
ピロール類、エチルピロリジン類、エチルイミダゾール
類、エチルピペリジン類、エチルピペラジン類、フタル
イミド、マレインイミド、カプロラクタム、ピロリド
ン、モルホリン、N−メチルグリシン、N−エチルグリ
シン、N−メチルアラニン、N−エチルアラニン、N−
メチル−アミノチオフェン、N−エチルアミノチオフェ
ン、2,5−ピペラジンジオン、N−メチルエタノールア
ミン、N−エチルエタノールアミン、プリンなどが挙げ
られる。
The secondary amine includes dimethylamine, diethylamine, dipropylamines, dibutylamines, dipentylamines, dihexylamines, methylethylamine, methylpropylamines, methylbutylamines, methylpentylamines, methylhexyl. Amines, ethylpropylamines, ethylbutylamines,
Ethyl pentyl amines, propyl butyl amines, propyl pentyl amines, propyl hexyl amines,
Butylpentylamines, pentylhexylamines,
Divinylamine, diallylamine, dibutenylamines, dipentenylamines, dihexenylamines, methylvinylamine, methylallylamine, methylbutenylamines, methylpentenylamines, methylhexenylamines, ethylvinylamine, ethylallylamine, ethylbutane Tenyl amine, ethyl pentenyl amines, ethyl hexenyl amines, propyl vinyl amines, propyl allyl amines, propyl butenyl amines, propyl pentenyl amines, propyl hexenyl amines, butyl vinyl amines, butyl allyl amines, butyl butenyl Amines, butylpentenylamines, butylhexenylamines, vinylallylamine,
Vinyl butenyl amines, vinyl pentenyl amines,
Vinylhexenylamines, allylbutenylamines,
Allyl pentenyl amines, allyl hexenyl amines, butenyl pentenyl amines, butenyl hexenyl amines, dicyclopentyl amine, dicyclohexyl, methyl cyclopentyl amine, methyl cyclohexyl amine, methyl cyclooctyl amine, ethyl cyclopentyl amine, ethyl cyclohexyl amine, ethyl Cyclooctylamine, propylcyclopentylamines, propylcyclohexylamines, butylcyclopentylamines, butylcyclohexylamines, hexylcyclopentylamines, hexylcyclohexylamines, hexylcyclooctylamines, vinylcyclopentylamine, vinylcyclohexylamine, vinylcyclo Octylamine, allylcyclopentylamine, allylcyclohexyl Ruamine, allylcyclooctylamine, butenylcyclopentylamines, butenylcyclohexylamines, butenylcyclooctylamines, dicyclopentenylamines, dicyclohexenylamines, dicyclooctenylamines, methylcyclopentenylamines , Methylcyclohexenylamines, methylcyclooctenylamines, ethylcyclopentenylamines, ethylcyclohexenylamines,
Ethylcyclooctenylamines, propylcyclopentenylamines, propylcyclohexenylamines,
Butylcyclopentenylamines, butylcyclohexenylamines, vinylcyclopentenylamines, vinylcyclohexenylamines, vinylcyclooctenylamines, allylcyclopentenylamines, allylcyclohexenylamines, butenylcyclopentenylamines, Butenylcyclohexenylamines, dicyclopentadienylamine, dicyclohexadienylamines, dicyclooctadienylamines, methylcyclopentadienylamine, methylcyclohexadienylamines, ethylcyclopentadienylamine, Ethylcyclohexadienylamines, propylcyclopentadienylamines, propylcyclohexadienylamines, dicyclooctatrienylamines, methylcyclooctatrienylamines , Ethylcyclooctatrienylamines, vinylcyclopentadienylamine, vinylcyclohexadienylamines, allylcyclopentadienylamine, allylcyclohexadienylamines, diphenylamine, ditolylamines, dibenzylamine, dinaphthylamine , N-methylaniline, N
-Ethylaniline, N-propylanilines, N-butylanilines, N-methyltoluidine, N-ethyltoluidine, N-propyltoluidines, N-butyltoluidines, N-methylbenzylamine, N-ethylbenzylamines , N-propylbenzylamines, N-butylbenzylamines, N-methylnaphthylamines, N
-Ethylnaphthylamines, N-propylnaphthylamines, N-vinylaniline, N-allylaniline, N-
Vinylbenzylamine, N-allylbenzylamine, N
-Vinyltoluidine, N-allyltoluidine, phenylcyclopentylamine, phenylcyclohexylamine, phenylcyclooctylamine, phenylcyclopentenylamine, phenylcyclohexenylamine, phenylcyclopentadienylamine, N-methylanisole, N-ethylanisole, N-vinyl anisole,
N-allylanisole, N-methylethylenediamine,
N, N 'dimethylethylenediamine, N-ethylethylenediamine, N, N'-diethylethylenediamine, N, N'-
Dimethyltolylenediamines, N, N'-diethyltolylenediamines, N-methylethylenetriamine, N, N '
-Dimethylethylenetriamine, pyrrole, pyrrolidine, imidazole, piperidine, piperazine, methylpyrroles, methylpyrrolidines, methylimidazoles, methylpiperidines, methylpiperazines, ethylpyrroles, ethylpyrrolidines, ethylimidazoles, ethyl Piperidines, ethylpiperazines, phthalimide, maleimide, caprolactam, pyrrolidone, morpholine, N-methylglycine, N-ethylglycine, N-methylalanine, N-ethylalanine, N-
Methyl-aminothiophene, N-ethylaminothiophene, 2,5-piperazinedione, N-methylethanolamine, N-ethylethanolamine, purine and the like can be mentioned.

また、第3級アミンとしては;トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、トリプロピルアミン類、トリブチルアミ
ン類、トリペンチルアミン類、トリヘキシルアミン類、
ジメチルエチルアミン、ジメチルプロピルアミン類、ジ
メチルブチルアミン類、ジメチルペンチルアミン類、ジ
メチルヘキシルアミン類、ジエチルプロピルアミン類、
ジエチルブチルアミン類、ジエチルペンチルアミン類、
ジエチルヘキシルアミン類、ジプロピルブチルアミン
類、ジプロピルペンチルアミン類、ジプロピルヘキシル
アミン類、ジブチルペンチルアミン類、ジブチルヘキシ
ルアミン類、ジペンチルヘキシルアミン類、メチルジエ
チルアミン、メチルジプロピルアミン類、メチルジブチ
ルアミン類、メチルジペンチルアミン類、メチルジヘキ
シルアミン類、エチルジプロピルアミン類、エチルジブ
チルアミン類、エチルジペンチルアミン類、エチルジヘ
キシルアミン類、プロピルジブチルアミン類、プロピル
ジペンチルアミン類、プロピルジヘキシルアミン類、ブ
チルジペンチルアミン類、ブチルジヘキシルアミン類、
ペンチルジヘキシルアミン類、メチルエチルプロピルア
ミン類、メチルエチルブチルアミン類、メチルエチルヘ
キシルアミン類、メチルプロピルブチルアミン類、メチ
ルプロピルヘキシルアミン類、エチルプロピルブチルア
ミン、エチルブチルペンチルアミン類、エチルブチルヘ
キシルアミン類、プロピルブチルペンチルアミン類、プ
ロピルブチルヘキシルアミン類、ブチルペンチルヘキシ
ルアミン類、トリビニルアミン、トリアリルアミン、ト
リブテニルアミン類、トリペンテニルアミン類、トリヘ
キセニルアミン類、ジメチルビニルアミン、ジメチルア
リルアミン、ジメチルブテニルアミン類、ジメチルペン
テニルアミン類、ジエチルビニルアミン、ジエチルアリ
ルアミン、ジエチルブテニルアミン類、ジエチルペンテ
ニルアミン類、ジエチルヘキセニルアミン類、ジプロピ
ルビニルアミン類、ジプロピルアリルアミン類、ジプロ
ピルブテニルアミン類、メチルジビニルアミン、メチル
ジアリルアミン、メチルジブテニルアミン類、エチルジ
ビニルアミン、エチルジアリルアミン、トリシクロペン
チルアミン、トリシクロヘキシルアミン、トリシクロオ
クチルアミン、トリシクロペンテニルアミン、トリシク
ロヘキセニルアミン、トリシクロペンタジエニルアミ
ン、トリシクロヘキサジエニルアミン類、ジメチルシク
ロペンチルアミン、ジエチルシクロペンチルアミン、ジ
プロピルシクロペンチルアミン類、ジブチルシクロペン
チルアミン類、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジエチ
ルシクロヘキシルアミン、ジプロピルシクロヘキシルア
ミン類、ジメチルシクロペンテニルアミン類、ジエチル
シクロペンテニルアミン類、ジプロピルシクロペンテニ
ルアミン類、ジメチルシクロヘキセニルアミン類、ジエ
チルシクロヘキセニルアミン類、ジプロピルシクロヘキ
セニルアミン類、メチルジシクロペンチルアミン、エチ
ルジシクロペンチルアミン、プロピルシクロペンチルア
ミン類、メチルジシクロヘキシルアミン、エチルジシク
ロヘキシルアミン、プロピルシクロヘキシルアミン類、
メチルジシクロペンテニルアミン類、エチルジシクロペ
ンテニルアミン類、プロピルジシクロペンテニルアミン
類、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルベンジルア
ミン、N,N−ジメチルトルイジン類、N,N−ジメチルナフ
チルアミン類、N,N−ジエチルアニリン、N,N−ジエチル
ベンジルアミン、N,N−ジエチルトルイジン類、N,N−ジ
エチルナフチルアミン類、N,N−ジプロピルアニリン
類、N,N−ジプロピルベンジルアミン類、N,N−ジプロピ
ルトルイジン類、N,N−ジプロピルナフチルアミン類、
N,N−ジビニルアニリン、N,N−ジアリルアニリン、N,N
−ジビニルトルイジン類、N,N−ジアリルアニリン、ジ
フェニルメチルアミン、ジフェニルエチルアミン、ジフ
ェニルプロピルアミン類、ジベンジルメチルアミン、ジ
ベンジルエチルアミン、ジベンジルシクロヘキシルアミ
ン、ジベンジルビニルアミン、ジベンジルアリルアミ
ン、ジトリルメチルアミン類、ジトリルエチルアミン
類、ジトリルシクロヘキシルアミン類、ジトリルビニル
アミン類、トリフェニルアミン、トリベンジルアミン、
トリ(トリル)アミン類、トリナフチルアミン類、N,N,
N′,N′−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N′,N′
−テトラエチルエチレンジアミン、N,N,N′,N′−テト
ラメチルトリレンジアミン類、N,N,N′,N′−テトラエ
チルトリレンジアミン類、N−メチルピロール,N−メチ
ルピロリジン、N−メチルイミダゾール、N,N′−ジメ
チルピペラジン、N−メチルピペリジン、N−エチルピ
ロール、N−メチルピロリジン、N−エチルイミダゾー
ル、N,N′−ジエチルピペラジン、N−エチルピペリジ
ン、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、キノリン、キナ
ゾリン、キヌクリジン、N−メチルピロリドン、N−メ
チルモルホリン、N−エチルピロリドン、N−エチルモ
ルホリン、N,N−ジメチルアニソール、N,N−ジエチルア
ニソール、N,N−ジメチルグリシン、N,N−ジエチルグリ
シン、N,N−ジメチルアラニン、N,N−ジエチルアラニ
ン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,N−ジメチルア
ミノチオフェンなどが挙げられる。従って上記アミン類
とは脂肪族または脂環式、飽和または不飽和の炭化水素
基;芳香族炭化水素基;含酸素および/または含イオウ
および/または含セレン炭化水素基等が1以上の窒素原
子と結合した化合物である。
Further, as the tertiary amine: trimethylamine, triethylamine, tripropylamines, tributylamines, tripentylamines, trihexylamines,
Dimethylethylamine, dimethylpropylamines, dimethylbutylamines, dimethylpentylamines, dimethylhexylamines, diethylpropylamines,
Diethylbutylamines, diethylpentylamines,
Diethylhexylamines, dipropylbutylamines, dipropylpentylamines, dipropylhexylamines, dibutylpentylamines, dibutylhexylamines, dipentylhexylamines, methyldiethylamine, methyldipropylamines, methyldibutylamines , Methyldipentylamines, methyldihexylamines, ethyldipropylamines, ethyldibutylamines, ethyldipentylamines, ethyldihexylamines, propyldibutylamines, propyldipentylamines, propyldihexylamines, butyldipentylamine , Butyldihexylamines,
Pentyldihexylamines, methylethylpropylamines, methylethylbutylamines, methylethylhexylamines, methylpropylbutylamines, methylpropylhexylamines, ethylpropylbutylamine, ethylbutylpentylamines, ethylbutylhexylamines, propylbutyl Pentylamines, propylbutylhexylamines, butylpentylhexylamines, trivinylamine, triallylamine, tributenylamines, tripentenylamines, trihexenylamines, dimethylvinylamine, dimethylallylamine, dimethylbutenylamines , Dimethyl pentenyl amines, diethyl vinyl amine, diethyl allyl amine, diethyl butenyl amines, diethyl pentenyl amines, di Tylhexenylamines, dipropylvinylamines, dipropylallylamines, dipropylbutenylamines, methyldivinylamine, methyldiallylamine, methyldibutenylamines, ethyldivinylamine, ethyldiallylamine, tricyclopentylamine, tricyclohexylamine , Tricyclooctylamine, tricyclopentenylamine, tricyclohexenylamine, tricyclopentadienylamine, tricyclohexadienylamines, dimethylcyclopentylamine, diethylcyclopentylamine, dipropylcyclopentylamines, dibutylcyclopentylamines, dimethyl Cyclohexylamine, diethylcyclohexylamine, dipropylcyclohexylamines, dimethylcyclopentenylamine Amines, diethylcyclopentenylamines, dipropylcyclopentenylamines, dimethylcyclohexenylamines, diethylcyclohexenylamines, dipropylcyclohexenylamines, methyldicyclopentylamine, ethyldicyclopentylamine, propylcyclopentylamines, Methyldicyclohexylamine, ethyldicyclohexylamine, propylcyclohexylamines,
Methyldicyclopentenylamines, ethyldicyclopentenylamines, propyldicyclopentenylamines, N, N-dimethylaniline, N, N-dimethylbenzylamine, N, N-dimethyltoluidines, N, N-dimethylnaphthylamine , N, N-diethylaniline, N, N-diethylbenzylamine, N, N-diethyltoluidine, N, N-diethylnaphthylamine, N, N-dipropylaniline, N, N-dipropylbenzylamine , N, N-dipropyltoluidines, N, N-dipropylnaphthylamines,
N, N-divinylaniline, N, N-diallylaniline, N, N
-Divinyltoluidines, N, N-diallylaniline, diphenylmethylamine, diphenylethylamine, diphenylpropylamines, dibenzylmethylamine, dibenzylethylamine, dibenzylcyclohexylamine, dibenzylvinylamine, dibenzylallylamine, ditolylmethyl Amines, ditolylethylamines, ditolylcyclohexylamines, ditolylvinylamines, triphenylamine, tribenzylamine,
Tri (tolyl) amines, trinaphthylamines, N, N,
N ', N'-tetramethylethylenediamine, N, N, N', N '
-Tetraethylethylenediamine, N, N, N ', N'-tetramethyltolylenediamines, N, N, N', N'-tetraethyltolylenediamines, N-methylpyrrole, N-methylpyrrolidine, N-methyl Imidazole, N, N'-dimethylpiperazine, N-methylpiperidine, N-ethylpyrrole, N-methylpyrrolidine, N-ethylimidazole, N, N'-diethylpiperazine, N-ethylpiperidine, pyridine, pyridazine, pyrazine, quinoline , Quinazoline, quinuclidine, N-methylpyrrolidone, N-methylmorpholine, N-ethylpyrrolidone, N-ethylmorpholine, N, N-dimethylanisole, N, N-diethylanisole, N, N-dimethylglycine, N, N- Diethylglycine, N, N-dimethylalanine, N, N-diethylalanine, N, N-dimethylethanolamine, N, N -Dimethylaminothiophene and the like. Therefore, the amines are aliphatic or alicyclic, saturated or unsaturated hydrocarbon groups; aromatic hydrocarbon groups; oxygen-containing and / or sulfur-containing and / or selenium-containing hydrocarbon groups and the like having one or more nitrogen atoms. Is a compound bound to.

本発明においてアミン類と反応生成物を形成するスルホ
ン酸類とは、脂肪族および芳香族スルホン酸類であり具
体的には;メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、n−
プロパンスルホン酸、i−プロパンスルホン酸、n−ブ
タンスルホン酸、n−ヘキサンスルホン酸、メタンジス
ルホン酸、1,2−エタンジスルホン酸、1,3−プロパンジ
スルホン酸等の脂肪族飽和モノおよびポリスルホン酸
類;エチレンスルホン酸、1−プロペン−1−スルホン
酸、1−プロピン−3−スルホン酸、1,2−エチレンジ
スルホン酸等の脂肪族不飽和スルホン酸類;ヨードメタ
ンスルホン酸、β−ブロモエタンスルホン酸、パークロ
ロオクタンスルホン酸、塩化オクタンスルホン酸、三フ
ッ化メタンスルホン酸等含ハロゲン脂肪族スルホン酸
類;β−アミノエタンスルホン酸、N−メチルタウリ
ン、2−アクリロイルアミノ−2−メチル−1−プロパ
ンスルホン酸、ヒドロキシメタンスルホン酸、N−β−
ヒドロキシヘキシルタウリン、スルホ酢酸、3−プロパ
ルギルオキシプロピルスルホン酸、3−(ω−ジエチレ
ンジオキシ)−1−プロパンスルホン酸、メタクリロイ
ルオキシプロピルスルホン酸、アセトンジスルホン酸、
1,2−ジヒドロキシエタンスルホン酸、スルホオクタン
酸、スルホコハク酸、ラウリルスルフォアセテート、α
−スルホパルミチン酸、ソルビト−ルエステル、N−オ
クタデシルスルホコハク酸アミド類等の含チッソおよび
/または含酸素脂肪族炭化水素スルホン酸類;ベンゼン
スルホン酸、トルエンスルホン酸類、キシレンスルホン
酸類、ベンゼンピロスルホン酸、ナフタレンスルホン
酸、エチルベンゼンスルホン酸類、ベンゼンジスルホン
酸類、ナフタレンジスルホン酸類、ナフタレントリスル
ホン酸類、メチルナフタレンスルホン酸類、ジノニルナ
フタレンスルホン酸類、スチレンスルホン酸類等の芳香
族スルホン酸類;フルオロベンゼンスルホン酸類、ジフ
ルオロベンゼンスルホン酸類、クロロベンゼンスルホン
酸、ジクロロベンゼンスルホン酸類、ブロモベンゼンス
ルホン酸類、ジブロモベンゼンスルホン酸類、ヨードベ
ンゼンスルホン酸類、クロロナフタレンスルホン酸類等
のハロゲン化芳香族スルホン酸類;アニリンスルホン酸
類、アミノトルエンスルホン酸類、ジアミノベンゼンス
ルホン酸類、ジアミノトルエンスルホン酸類、アニリン
ジスルホン酸類、アニリントリスルホン酸類、ナフチル
アミンスルホン酸類、ナフチルアミンジスルホン酸類、
ナフチルアミントリスルホン酸類、クロロアニリンスル
ホン酸類、アミノクロロトルエンスルホン酸類、ニトロ
ベンゼンスルホン酸類、ニトロトルエンスルホン酸類、
ジニトロベンゼンスルホン酸類、ニトロクロロベンゼン
スルホン酸類、ニトロアニリンスルホン酸類、アミノア
ゾベンゼンスルホン酸類、フェニルヒドラジンスルホン
酸類、フェノールスルホン酸類、クレゾールスルホン酸
類、ジヒドロキシベンゼンスルホン酸類、アミノフェノ
ールスルホン酸類、メトキシベンゼンスルホン酸類、ア
ミノメトキシベンゼンスルホン酸類、メトキシニトロベ
ンゼンスルホン酸類、スルホベンゼンジカルボン酸類、
N,N−ジメチルアニリンスルホン酸類、スルホベンゼン
カルボン酸類、ジスルホ安息香酸類、ナフチルアミンス
ルホン酸類、ナフチルアミンジスルホン酸類、ナフチル
アミントリスルホン酸類、ニトロナフタレンスルホン酸
類、ニトロナフタレントリスルホン酸類、ナフトールス
ルホン酸類、ナフトールジスルホン酸類、ナフトールト
リスルホン酸類、アミノナフトールスルホン酸類、ベン
ゾイルアミノナフタレンスルホン酸類、アセチルナフタ
レンスルホン酸類、ニトロナフトールスルホン酸類、ア
ゾナフタレンスルホン酸類等の含酸素および/または含
窒素芳香族スルホン酸類等が挙げられる。
In the present invention, the sulfonic acids forming a reaction product with amines are aliphatic and aromatic sulfonic acids, specifically; methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, n-
Aliphatic saturated mono- and polysulfonic acids such as propanesulfonic acid, i-propanesulfonic acid, n-butanesulfonic acid, n-hexanesulfonic acid, methanedisulfonic acid, 1,2-ethanedisulfonic acid and 1,3-propanedisulfonic acid Aliphatic unsaturated sulfonic acids such as ethylenesulfonic acid, 1-propene-1-sulfonic acid, 1-propyne-3-sulfonic acid, and 1,2-ethylenedisulfonic acid; iodomethanesulfonic acid, β-bromoethanesulfonic acid , Halogen-containing aliphatic sulfonic acids such as perchlorooctanesulfonic acid, octanesulfonic acid chloride, trifluoromethanesulfonic acid; β-aminoethanesulfonic acid, N-methyltaurine, 2-acryloylamino-2-methyl-1-propane Sulfonic acid, hydroxymethanesulfonic acid, N-β-
Hydroxyhexytaurine, sulfoacetic acid, 3-propargyloxypropylsulfonic acid, 3- (ω-diethylenedioxy) -1-propanesulfonic acid, methacryloyloxypropylsulfonic acid, acetonedisulfonic acid,
1,2-dihydroxyethanesulfonic acid, sulfooctanoic acid, sulfosuccinic acid, lauryl sulfoacetate, α
-Sulfopalmitic acid, sorbitol ester, N-octadecylsulfosuccinamide and other nitrogen-containing and / or oxygen-containing aliphatic hydrocarbon sulfonic acids; benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, benzenepyrosulfonic acid, naphthalene Aromatic sulfonic acids such as sulfonic acid, ethylbenzenesulfonic acid, benzenedisulfonic acid, naphthalenedisulfonic acid, naphthalenetrisulfonic acid, methylnaphthalenesulfonic acid, dinonylnaphthalenesulfonic acid, styrenesulfonic acid; fluorobenzenesulfonic acid, difluorobenzenesulfonic acid , Chlorobenzene sulfonic acid, dichlorobenzene sulfonic acid, bromobenzene sulfonic acid, dibromobenzene sulfonic acid, iodobenzene sulfonic acid Halogenated aromatic sulfonic acids such as chloro naphthalenesulfonic acids; Aniline sulphonic acids, amino-toluene sulfonic acid, diaminobenzene sulfonic acid, diaminotoluene sulphonic acids, aniline disulfonic acid, aniline tri sulfonic acids, naphthylamine sulfonic acid, naphthylamine disulphonic acids,
Naphthylamine trisulfonic acids, chloroaniline sulfonic acids, aminochlorotoluene sulfonic acids, nitrobenzene sulfonic acids, nitrotoluene sulfonic acids,
Dinitrobenzenesulfonic acids, nitrochlorobenzenesulfonic acids, nitroanilinesulfonic acids, aminoazobenzenesulfonic acids, phenylhydrazinesulfonic acids, phenolsulfonic acids, cresolsulfonic acids, dihydroxybenzenesulfonic acids, aminophenolsulfonic acids, methoxybenzenesulfonic acids, aminomethoxy Benzenesulfonic acid, methoxynitrobenzenesulfonic acid, sulfobenzenedicarboxylic acid,
N, N-dimethylanilinesulfonic acid, sulfobenzenecarboxylic acid, disulfobenzoic acid, naphthylaminesulfonic acid, naphthylaminedisulfonic acid, naphthylaminetrisulfonic acid, nitronaphthalenesulfonic acid, nitronaphthalenetrisulfonic acid, naphtholsulfonic acid, naphtholdisulfonic acid, Examples thereof include oxygen-containing and / or nitrogen-containing aromatic sulfonic acids such as naphthol trisulfonic acid, aminonaphthol sulfonic acid, benzoylaminonaphthalene sulfonic acid, acetylnaphthalene sulfonic acid, nitronaphthol sulfonic acid and azonaphthalene sulfonic acid.

本発明において担体として用いる炭素質物質とは炭素の
同素体であり、はっきりした結晶状態を示さないもの、
もしくはグラファイトと同様の結晶格子を有するが、こ
の格子の乱雑な排列を持つ小結晶の集まりであるもの、
もしくはグラファイトのように結晶質炭素などであり、
具体的には、木材、木炭、果実殻、泥炭、草炭、亜炭、
褐炭、石炭、ピッチ、タール等の種々の原料から得られ
る活性炭、アセチレンブラック、カーボンブラック、骨
炭、グラファイト、木炭等である。
The carbonaceous material used as a carrier in the present invention is an allotrope of carbon and does not show a clear crystalline state,
Or it has a crystal lattice similar to graphite, but is a collection of small crystals with random arrangement of this lattice,
Or crystalline carbon such as graphite,
Specifically, wood, charcoal, fruit shells, peat, grass peat, lignite,
Examples include activated carbon obtained from various raw materials such as brown coal, coal, pitch and tar, acetylene black, carbon black, bone charcoal, graphite and charcoal.

また、担体および担持触媒の形態は粉末状、粒状等いず
れの形態でもよく、粒状の場合には棒状、円筒状、繊維
状、網目状等に成型したものや、破砕したものを使用す
ることも可能である。
In addition, the form of the carrier and the supported catalyst may be any form such as powder and granules, and in the case of granules, rod-shaped, cylindrical, fibrous, mesh-shaped or crushed ones may be used. It is possible.

本発明におけるアミンの硫酸塩の担持量は担体重量に対
して0.02重量%から100重量%の間であり好ましくは0.1
重量%から70重量%さらに好ましくは0.5重量%から50
重量%の間である。またこれらスルホン酸塩を炭素質物
質に担持させる際には1種または2種以上のスルホン酸
塩を担持してもかまわない。
The amount of the amine sulfate supported in the present invention is between 0.02% by weight and 100% by weight, preferably 0.1% by weight, based on the weight of the carrier.
Wt% to 70 wt%, more preferably 0.5 wt% to 50
Between% by weight. When these sulfonates are loaded on the carbonaceous material, one or more sulfonates may be loaded.

本発明において触媒として使用するアミン類のスルホン
酸塩を担体に担持させるには例えば以下の如き調製法を
採用する事が出来る。なお、本発明はもちろんこれらの
調製法に限定されるものではない。
In order to support the sulfonate of an amine used as a catalyst in the present invention on a carrier, the following preparation method can be adopted, for example. The present invention is of course not limited to these preparation methods.

(1)市販又は予め調製したアミン類のスルホン酸塩を
容器中で溶媒に溶かしこれに一定量の炭素質物質を加え
充分含浸させた後溶媒を常圧又は減圧で必要であるなら
ば加熱し留去し乾燥し担持する方法; (2)予め反応管へ一定量の炭素質物質を入れこれにア
ミン類のスルホン酸塩溶液を反応管中へ流入させ炭素質
物質と接触吸着させた後溶媒を除去し乾燥させて担持す
る方法; (3)アミン類のスルホン酸塩および炭素質物質を容器
中に入れた後スルホン酸塩に対する溶媒を加え撹拌し、
スルホン酸塩を溶解させた後溶媒を除去し乾燥し担持す
る方法; (4)アミン類のスルホン酸塩を容器中で溶媒に溶解さ
せこれに一定量の炭素質物質を加え撹拌した後、過
し、過物を乾燥させて担持する方法; (5)予め容器中に炭素質物質を入れ容気内を減圧状態
にした後アミンのスルホン酸溶液を注入し、その後過
又は溶媒を除去し、更に乾燥させて担持する方法; (6)その他スプレー法、混練法等の公知の担持法等で
ある。
(1) A commercially available or preliminarily prepared amine sulfonate is dissolved in a solvent in a container, a certain amount of carbonaceous substance is added thereto and sufficiently impregnated, and then the solvent is heated under normal pressure or reduced pressure if necessary. (2) A certain amount of carbonaceous substance is put in a reaction tube in advance, and a sulfonate solution of amines is allowed to flow into the reaction tube to be adsorbed on the carbonaceous substance, and then a solvent is added. (3) A sulfonate of amines and a carbonaceous substance are put in a container, a solvent for the sulfonate is added, and the mixture is stirred.
After dissolving the sulfonate, the solvent is removed, dried and supported; (4) The sulfonate of amines is dissolved in the solvent in a container, a certain amount of carbonaceous substance is added to the solvent, and the mixture is stirred. Then, the excess substance is dried and supported; (5) A carbonaceous substance is put in a container in advance to reduce the pressure in the atmosphere, and then a sulfonic acid solution of amine is injected, and then excess or solvent is removed, Further drying and supporting method: (6) Other known supporting methods such as a spray method and a kneading method.

これら担持触媒はそのままもしくは破砕、成型等の処理
をして用いる事ができる。
These supported catalysts can be used as they are or after being subjected to treatments such as crushing and molding.

本発明においては、以上のごとくして調整された、炭素
質物質に担持させたアミン類とスルホン酸類との反応生
成物を触媒とし、不均化反応を行う。
In the present invention, the disproportionation reaction is carried out using the reaction product of the amines and sulfonic acids supported on the carbonaceous material, which is prepared as described above, as a catalyst.

本発明にいる不均化反応とは、原料シラン類RnSiX(4-n)
から、よりXがリッチのシラン類と、よりRがリッチの
シラン類が生成する平衡反応をいう。たとえば、原料シ
ラン類がトリクロロシラン(R=H、X=l)の場合に
ついて述べれば、次の各反応を意味し、これらの組み合
わさったものである。
The disproportionation reaction in the present invention is a raw material silane RnSiX (4- n )
Therefore, it means an equilibrium reaction in which silanes richer in X and silanes richer in R are produced. For example, in the case where the starting silanes are trichlorosilane (R = H, X = 1), the following reactions are meant, and they are a combination thereof.

2SiHCl3SiH2Cl2+SiCl4 2SiH2Cl2SiH3Cl+SiHCl3 2SiH3ClSiH4+SiH2Cl2 すなわち、原料クロロシラン類からより塩素リッチのシ
ラン類とより水素リッチのシラン類が生成する平衡反応
である。
2SiHCl 3 SiH 2 Cl 2 + SiCl 4 2SiH 2 Cl 2 SiH 3 Cl + SiHCl 3 2SiH 3 ClSiH 4 + SiH 2 Cl 2 That is, an equilibrium reaction in which more chlorine-rich silanes and more hydrogen-rich silanes are produced from the raw chlorosilanes. .

本発明の担持触媒を用いた場合、不均化反応速度自体き
わめて速く短時間で平衡に達するが、平衡組成からいっ
て、温度は触媒の安定性が保持できる範囲で高い方が望
ましい。かかる観点から、本発明における不均化(もし
くは再分配)の反応温度は0〜300℃の間であり、好ま
しくは50〜200℃の範囲で行なうのが好ましい。
When the supported catalyst of the present invention is used, the disproportionation reaction rate itself is extremely fast and the equilibrium is reached in a short time. From the equilibrium composition, it is desirable that the temperature is as high as possible in the range where the stability of the catalyst can be maintained. From this viewpoint, the reaction temperature for disproportionation (or redistribution) in the present invention is 0 to 300 ° C, preferably 50 to 200 ° C.

次にシラン類を触媒と接触させ不均化反応を行なわしめ
る具体的な実施の態様について述べる。基本的には気相
−固相又は液相−固相に於ける常圧、加圧または減圧反
応のいずれの方法においても行なう事ができる。例えば
以下のような反応方法を実施し易い方法として採用でき
る。
Next, a specific mode of carrying out the disproportionation reaction by bringing silanes into contact with a catalyst will be described. Basically, it can be carried out by any method of atmospheric pressure, pressurization or reduced pressure reaction in gas phase-solid phase or liquid phase-solid phase. For example, the following reaction method can be adopted as a method that is easy to carry out.

(1)担持触媒および原料シラン類を容器中に入れ還流
状態にて常圧で撹拌加熱反応を行なう方法; (2)担持触媒および原料シラン類を耐圧容器中に入れ
加圧で撹拌加熱反応を行なう方法; (3)触媒を単管につめ原料シラン類を加圧、常圧また
は減圧で液体もしくは気体で連続的に触媒層へ流入させ
反応を行なう方法; 大量のシラン類を処理するには(3)の方法が望ましい
が本発明においてはもちろんこれら上記の方法のみに限
定されるものではない。
(1) A method in which the supported catalyst and the raw material silanes are placed in a container and a stirring and heating reaction is carried out under reflux at normal pressure; (2) The supported catalyst and the raw material silanes are placed in a pressure resistant vessel and the stirring and heating reaction is performed under a pressure. Method: (3) A catalyst is packed in a single tube and the raw material silanes are continuously flowed into the catalyst layer as a liquid or gas under pressure, atmospheric pressure or reduced pressure to carry out the reaction; To treat a large amount of silanes The method (3) is desirable, but the present invention is not limited to these above methods.

この反応に使用する原料のシラン類および生成物である
モノシラン、ハロゲン化シラン等のシラン類は活性であ
り、水分、アルコール、アルカリ水溶液等で容易に分解
する。更には酸素と激しく反応し、発火分解するものも
ありその為、反応は原料シラン類および生成物であるシ
ラン等に対して不活性な雰囲気下で行なう必要がある。
例えば充分に脱水乾燥および脱酸素した、ヘリウム、ア
ルゴン等の不活性ガスや水素、窒素等の雰囲気下に予め
反応系をした後反応を行なうことが好ましい。
Raw material silanes used for this reaction and silanes such as products such as monosilane and halogenated silanes are active and easily decomposed by water, alcohol, aqueous alkali solution or the like. Further, some of them react violently with oxygen to cause pyrolysis and decomposition. Therefore, the reaction needs to be carried out in an atmosphere inert to the raw material silanes and the product silane.
For example, it is preferable that the reaction system is preliminarily reacted in an atmosphere of an inert gas such as helium or argon, which has been sufficiently dehydrated and dried and deoxidized, or hydrogen or nitrogen, and then the reaction is performed.

〔発明による作用〕[Operation according to the invention]

本発明により従来優れたモノシランの製造法であるハロ
ゲン化シラン等を不均化する触媒反応法において非常な
欠点となっていた触媒自体が高価であること、触媒の熱
的不安定さによる劣化、したがって不均化反応において
生成物にとって有利となる(つまりは原料の高転化率を
もたらす(高温反応を行ない得ない等の欠点が本発明に
おける炭素質物質に担持させたアミン類とスルホン酸類
との反応生成物を新規ハロゲン化シラン等の不均化触媒
に用いる事によりスルホン酸塩の特質としてその熱的安
定性を有する事で劣化を防ぎ、加えて高反応転化率を得
られる高温域での反応を炭素質物質との相互作用により
極めて高活性で行なう事を可能ならしめた。加えて従来
の陰イオン交換樹脂型不均化触媒に比して本発明におけ
る触媒は極めて安価なものであり、従って該モノシラン
等を製造法する不均化方法において優れた有利性を有し
ており、該製造法がもたらす経済的効果は甚大である。
According to the present invention, the catalyst itself, which has been a great drawback in the catalytic reaction method for disproportionating halogenated silane, which is a conventional method for producing monosilane, is expensive, and deterioration due to thermal instability of the catalyst, Therefore, it is advantageous for the product in the disproportionation reaction (that is, it brings about a high conversion rate of the raw material (a drawback such as inability to carry out a high-temperature reaction, etc.) is caused by the amines and sulfonic acids supported on the carbonaceous material in the present invention. By using the reaction product as a disproportionation catalyst such as a novel halogenated silane, it is possible to prevent deterioration due to its thermal stability as a characteristic of sulfonate, and also to obtain a high reaction conversion rate in a high temperature range. In addition to the conventional anion exchange resin-type disproportionation catalyst, the catalyst of the present invention is extremely cheaper than the conventional anion exchange resin type disproportionation catalyst. Be such, therefore has excellent advantages in disproportionation process for the preparation of the monosilane or the like, economic effects which the process results are enormous.

〔実施例〕〔Example〕

以下本発明を実施例によって具体的に説明する。 The present invention will be specifically described below with reference to examples.

なお、以下の実施例、比較例において気相のシラン類を
使用する場合の分析は反応器出口を70℃に加温し70℃に
保ったガスクロ用恒温ガスサンプラーに生成ガスを流入
させ、ガスクロマトグラフによって気体状で組成分析を
行なった。分析値は反応が定常になった後の分析値であ
り、反応が定常に達するまでに要する時間は1時間以内
であることを確認した。
In the following Examples and Comparative Examples, when gas phase silanes were used, the analysis was carried out by heating the reactor outlet to 70 ° C. and letting the generated gas flow into a constant temperature gas sampler for gas chromatography maintained at 70 ° C. The composition was analyzed in a gaseous state by Totograph. The analytical value was an analytical value after the reaction became stationary, and it was confirmed that the time required for the reaction to reach stationary was within 1 hour.

実施例1 下表第1表に示すアミンのスルホン酸塩を活性炭(白サ
ギLc 8/32ヤシガラ炭武田薬品製)に活性炭に対して5
重量パーセントとなるように前記(1)の方法により水
を溶媒として担持した触媒を内径11mmφのパイレックス
ガラス管に50mm長充填した。(充填容積4.75ml)後反応
管をオイルバスで100℃に加熱し25g/hrの流入速度で純
度99.9%のトリクロロシランを供給し不均化反応を行な
った。結果は第1表に示したように各アミンの硫酸塩と
も生成ガス組成は100℃での平衡組成となり、数秒以内
の接触時間で不均化平衡に到達する極めて高活性触媒で
あった。
Example 1 The amine sulfonate shown in Table 1 below was added to activated carbon (white heron Lc 8/32 coconut husk charcoal manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) in an amount of 5 against the activated carbon.
A Pyrex glass tube having an inner diameter of 11 mmφ was filled with the catalyst having a length of 50 mm by carrying the catalyst in which water was used as a solvent by the method of the above (1) so that the weight ratio became 1%. (Filling volume 4.75 ml) After that, the reaction tube was heated to 100 ° C. in an oil bath and trichlorosilane having a purity of 99.9% was supplied at an inflow rate of 25 g / hr to carry out a disproportionation reaction. As shown in Table 1, the composition of the produced gas was equilibrium at 100 ° C. for each amine sulfate, and it was an extremely highly active catalyst that reached disproportionation equilibrium within a contact time of several seconds.

実施例2 p−トルエンスルホン酸トリエチルアンモニウムを活性
炭(白サギLc 8/32)に5重量パーセント担持したもの
を実施例1と同一の装置に同一量充填し、原料トリクロ
ロシラン流入速度および反応温度をかえて不均化反応を
行なった。
Example 2 Triethylammonium p-toluenesulfonate supported on activated carbon (white heron Lc 8/32) in an amount of 5% by weight was charged into the same apparatus as in Example 1 in the same amount, and the starting material trichlorosilane inflow rate and reaction temperature were adjusted. Instead, a disproportionation reaction was performed.

結果は第2表に示した通りであった。実施例1の結果も
一部併記した。
The results are as shown in Table 2. Some results of Example 1 are also shown.

以上の如く広範な温度においてトリクロロシランの流入
速度25g/hrでは反応平衡に達し、更にこれ以上の流入速
度でも非常に高い反応活性を示す触媒であり、加えて高
温使用に耐えうる触媒であることがわかった。
As mentioned above, the reaction equilibrium is reached at an inflow rate of trichlorosilane of 25 g / hr over a wide range of temperatures, and it is a catalyst that exhibits extremely high reaction activity even at an inflow rate of more than this, and in addition, a catalyst that can withstand high temperature use. I understood.

実施例3 p−トルエンスルホン酸−トリエチルアンモニウムを活
性炭(白サギLc 8/32)に各々50、10、5、0.5重量パー
セント担持したものを触媒として実施例1と同一の反応
装置、同一の触媒充填量で、100℃およびトリクロロシ
ランの流入速度25g/hrで不均化反応を行なった。結果は
下表第3表に示した通りであった。尚、実施例1の結果
も一部併記した。
Example 3 p-toluenesulfonic acid-triethylammonium was loaded on activated carbon (white heron Lc 8/32) at 50, 10, 5, and 0.5 weight percent, respectively, as a catalyst, and the same reactor and the same catalyst as in Example 1 were used. The disproportionation reaction was carried out at a filling amount of 100 ° C. and an inflow rate of trichlorosilane of 25 g / hr. The results were as shown in Table 3 below. The results of Example 1 are also partially shown.

実施例4 p−トルエンスルホン酸トリエチルアンモニウムを活性
炭SGL 8/30(東洋カルゴン社品、コール炭)、カーボン
ブラック:コンチネックスT(三井東圧化学社品)、カ
ーボンブラック:ケッチェンブラックEC(ライオン−ア
クゾ社品)およびグラファイト(純正化学品)に各々の
担体に対して5重量パーセント担持したものを触媒とし
て実施例1と同一の反応装置および触媒充填量でトリク
ロロシランの流入速度25g/hrおよび100℃で不均化反応
を行なった。
Example 4 Triethylammonium p-toluenesulfonate was used as activated carbon SGL 8/30 (product of Toyo Calgon Co., Ltd., coal coal), carbon black: Continex T (product of Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.), carbon black: Ketjen Black EC (Lion -Axo Co., Ltd.) and graphite (genuine chemical products) loaded with 5% by weight of each carrier as a catalyst with the same reactor and catalyst loading as in Example 1 with an inflow rate of trichlorosilane of 25 g / hr and The disproportionation reaction was carried out at 100 ° C.

結果は第4表に示すように各炭素質担体に担持した触媒
で優れた反応活性を示した。
As shown in Table 4, the catalyst supported on each carbonaceous carrier showed excellent reaction activity.

以上の如く、炭素質物質に担持させたものがそれぞれ極
めて高い活性を数秒以内の接触時間で示した。なお、活
性炭においてはその原料差による有意差が認められず充
分反応平衡に達していた。
As described above, each of the materials supported on the carbonaceous material exhibited extremely high activity within a contact time of several seconds. In activated carbon, a significant difference due to the difference in the raw materials was not observed, and the reaction equilibrium was sufficiently reached.

比較例1 p−トルエンスルホン酸トリエチルアンモニウムおよび
活性炭(白サギLc 8/32)をそれぞれ別々に実施例1と
同一の装置に実施例1の触媒充填量と同量固体状で充填
し、実施例4と同一の反応条件でトリクロロシランの不
均化反応を行なった。結果はp−トルエンスルホン酸ト
リエチルアンモニウムのみを充填した場合には不均化活
性はほとんど認められず、原料トリクロロシランを回収
したにとどまった。また活性炭のみを充填した場合には
初期トリクロロシランの転化率は6%であったが、30分
後には転化率は0となり、原料トリクロロシランを回収
するのみとなった。以上の結果から該不均化反応におい
て炭素質物質とアミンのスルホン酸塩とを、スルホン酸
塩を炭素質物質に担持させるという形態で両者を併用す
ることにより初めて触媒活性が発現する事が判明した。
Comparative Example 1 Triethylammonium p-toluenesulfonate and activated carbon (white heron Lc 8/32) were separately charged in the same apparatus as in Example 1 in the same amount as the catalyst loading amount of Example 1 in a solid state. The disproportionation reaction of trichlorosilane was carried out under the same reaction conditions as in No. 4. As a result, almost no disproportionation activity was observed when only p-toluenesulfonate triethylammonium was filled, and the raw material trichlorosilane was recovered. When only activated carbon was charged, the conversion rate of initial trichlorosilane was 6%, but after 30 minutes, the conversion rate became 0, and the raw material trichlorosilane was only recovered. From the above results, it was found that the catalytic activity is first expressed by using the carbonaceous substance and the sulfonate of amine in the disproportionation reaction in the form of supporting the sulfonate on the carbonaceous substance. did.

実施例5 実施例2と同一の触媒を用いて実施例1と同一の反応装
置および同一の触媒充填量でジクロロシランを20g/hrの
流入速度で各反応温度で不均化反応を行なった。結果は
第5表に示すとおり、短時間で極めて高転化率で不均化
反応が進行しモノシランが得られた。
Example 5 Using the same catalyst as in Example 2, the disproportionation reaction was carried out at the respective reaction temperatures at the inflow rate of 20 g / hr of dichlorosilane with the same reactor and the same catalyst loading as in Example 1. As shown in Table 5, the disproportionation reaction proceeded at a very high conversion rate in a short time to obtain monosilane.

実施例6 実施例2と同一の触媒を用いて、実施例1と同一の反応
装置および同一の触媒充填量で、トリクロロシランの流
入速度25g/hrおよび150℃で不均化反応を行なった。反
応開始後1時間および40時間後の反応生成物の分析を行
なった。結果は第6表に示したように触媒の活性低下は
認められなかった。
Example 6 Using the same catalyst as in Example 2, the disproportionation reaction was carried out at the same reactor and the same catalyst loading as in Example 1 at an inflow rate of trichlorosilane of 25 g / hr and at 150 ° C. The reaction products were analyzed 1 hour and 40 hours after the start of the reaction. As a result, as shown in Table 6, no decrease in catalyst activity was observed.

比較例2 実施例1と同一の反応装置を用いて、3級アミン型陰イ
オン交換樹脂であるアンバーリストA−21(ロームアン
ドハース社製)を触媒として実施例1と同量の触媒充填
量で不均化反応をトリクロロシランの流入速度25g/hrお
よび120℃で行ない1時間、および40時間経過した時点
での生成ガス組成を分析した。結果は第7表に示したよ
うに顕著な触媒活性の低下が認められた。この結果触媒
が劣化したことが明らかとなった。
Comparative Example 2 Using the same reaction apparatus as in Example 1, using the same amine as the tertiary amine type anion exchange resin, Amberlyst A-21 (manufactured by Rohm and Haas Co.) as a catalyst, the same amount of catalyst loading as in Example 1. The disproportionation reaction was carried out at an inflow rate of trichlorosilane of 25 g / hr and 120 ° C. for 1 hour, and the composition of the produced gas at the time of 40 hours was analyzed. As a result, as shown in Table 7, a remarkable decrease in catalytic activity was recognized. As a result, it became clear that the catalyst had deteriorated.

比較例3 実施例1と同一の反応装置を用いて、エタノールを溶媒
とする含浸法によりトリ−n−ブチルアミンを5重量パ
ーセント活性炭(白サギLc 8/32)に担持させこれを触
婦として実施例1と同一の触媒充填量で、実施例6およ
び比較例1と同様にトリクロロシランの流入速度を25g/
hrとし、反応温度を120℃で不均化反応を行ない1時間
および40時間経過後それぞれ生成ガスの組成分析を行な
った。結果は第8表に示したように、本発明における触
媒に比較して、(i)100℃での初期活性よりも低く
(実施例1、第1表)、(ii)加えて顕著な触媒活性の
経時劣化が認められた。
Comparative Example 3 Using the same reaction apparatus as in Example 1, tri-n-butylamine was carried on 5 weight percent activated carbon (white heron Lc 8/32) by an impregnation method using ethanol as a solvent, and this was carried out as a tentacle. With the same catalyst loading as in Example 1, the inflow rate of trichlorosilane was 25 g / m as in Example 6 and Comparative Example 1.
The disproportionation reaction was carried out at a reaction temperature of 120 ° C. for 1 hour, and the composition of the produced gas was analyzed after 1 hour and 40 hours. As shown in Table 8, the results are (i) lower than the initial activity at 100 ° C. (Example 1, Table 1), and (ii) in addition to the catalyst of the present invention, the remarkable catalyst Degradation of activity over time was observed.

実施例7 100mlのオートクレーブに実施例2と同一の触媒5.0gお
よびメチルジクロロシラン (CH3SiHCl2)40gを仕込み150℃で撹拌しながら2時間
反応させた後、反応液をガスクロマトグラフ法により組
成の分析を行なった。結果は以下のごとく高い不均化活
性を示した。
Example 7 Into a 100 ml autoclave, 5.0 g of the same catalyst as in Example 2 and 40 g of methyldichlorosilane (CH 3 SiHCl 2 ) were charged and reacted at 150 ° C. for 2 hours while stirring, and then the reaction solution was formed by gas chromatography. Was analyzed. The results showed high disproportionation activity as follows.

実施例8 100mlのオートクレーブに実施例2と同一の触媒5.0gお
よびメチルジクロロシラン(CH3SiHCl2)20.1gおよびト
リクロロシラン(SiHCl3)13.7gを仕込み(仕込組成メ
チルジクロロシラン63.4%、トリクロロシラン36.6
%)、150℃で撹拌しながら2時間反応させた後、反応
液の組成をガスクロマトグラフ法により分析した。結果
は以下の通り極めて高い活性を示した。
Example 8 A 100 ml autoclave was charged with 5.0 g of the same catalyst as in Example 2, 20.1 g of methyldichlorosilane (CH 3 SiHCl 2 ) and 13.7 g of trichlorosilane (SiHCl 3 ) (charge composition methyldichlorosilane 63.4%, trichlorosilane). 36.6
%), And after reacting for 2 hours with stirring at 150 ° C., the composition of the reaction solution was analyzed by gas chromatography. The results showed extremely high activity as follows.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式 RnSiX(4-n) (ここでnは1以上4以下の整数であり、Rは水素また
は炭化水素基であり、Xはハロゲン原子またはアルコキ
シ基である)であらわされるシラン類を、炭素質物質に
担持させた、アミン類とスルホン酸類との反応生成物と
接触させることを特徴とするシラン類の不均化方法。
1. A compound represented by the general formula RnSiX (4- n ), wherein n is an integer of 1 or more and 4 or less, R is a hydrogen or a hydrocarbon group, and X is a halogen atom or an alkoxy group. A method for disproportionating silanes, which comprises contacting silanes with a reaction product of amines and sulfonic acids supported on a carbonaceous material.
【請求項2】アミン類が水素化チッ素化合物である特許
請求の範囲第1項記載の方法。
2. The method according to claim 1, wherein the amines are hydrogenated nitrogen compounds.
【請求項3】水素化チッ素化合物がアンモニアまたはヒ
ドラジンである特許請求の範囲第2項に記載の方法。
3. The method according to claim 2, wherein the hydrogenated nitrogen compound is ammonia or hydrazine.
【請求項4】アミン類が脂肪族、芳香族または脂環式の
第1級、第2級または第3級のモノアミンまたはポリア
ミンである特許請求の範囲第1項に記載の方法。
4. The process according to claim 1, wherein the amines are aliphatic, aromatic or cycloaliphatic primary, secondary or tertiary monoamines or polyamines.
【請求項5】アミン類が縮合環を含む環状アミンであ
り、少なくとも1ケのチッ素原子が環骨格に含まれるモ
ノアミンまたはポリアミンである特許請求の範囲第1項
に記載の方法。
5. The method according to claim 1, wherein the amines are cyclic amines containing a condensed ring, and the amines are monoamines or polyamines having at least one nitrogen atom contained in the ring skeleton.
【請求項6】アミン類がアミノ酸類、アミド類、アルコ
ールアミン類、エーテルアミン類、イミド類またはラク
タム類等の含酸素アミンである特許請求の範囲第1項に
記載の方法。
6. The method according to claim 1, wherein the amines are oxygen-containing amines such as amino acids, amides, alcohol amines, ether amines, imides or lactams.
【請求項7】アミン類がO、S、Se等のヘテロ原子を有
する含ヘテロ元素アミン化合物である特許請求の範囲第
1項に記載の方法。
7. The method according to claim 1, wherein the amine is a hetero-element-containing amine compound having a hetero atom such as O, S or Se.
【請求項8】スルホン酸類が一般式R′−SO3Hで表わさ
れる(但しR′は脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素
基、芳香族炭化水素基および含酸素、含窒素、含硫黄等
含ヘテロ原子炭化水素基である)特許請求の範囲第1項
に記載の方法。
8. A sulfonic acid is represented by the general formula R'-SO 3 H (wherein R'is an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group and oxygen-containing, nitrogen-containing, and nitrogen-containing compounds). The method according to claim 1, which is a hydrocarbon group containing a hetero atom such as sulfur.
【請求項9】不均化温度が0℃以上300℃以下である特
許請求の範囲第1項に記載の方法。
9. The method according to claim 1, wherein the disproportionation temperature is 0 ° C. or higher and 300 ° C. or lower.
【請求項10】不均化温度が50℃以上200℃以下である
特許請求の範囲第1項に記載の方法。
10. The method according to claim 1, wherein the disproportionation temperature is 50 ° C. or higher and 200 ° C. or lower.
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