JPH0679673B2 - Crushing equipment - Google Patents

Crushing equipment

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JPH0679673B2
JPH0679673B2 JP27072888A JP27072888A JPH0679673B2 JP H0679673 B2 JPH0679673 B2 JP H0679673B2 JP 27072888 A JP27072888 A JP 27072888A JP 27072888 A JP27072888 A JP 27072888A JP H0679673 B2 JPH0679673 B2 JP H0679673B2
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particles
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plate
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充 池田
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Ube Industries Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、粉砕や母体物質の粒子表面に子物質が付着し
ている被処理粒体から該子物質を剥離させる粒体の表面
改質を行なうための粉砕処理装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention relates to surface modification of a granular material for pulverizing or exfoliating the sub-substance from particles to be treated in which the sub-substance is adhered to the particle surface of the parent substance. The present invention relates to a pulverization processing device for carrying out.

[従来の技術] 従来、粒体の表面改質方法として、篩分け法のほか、慣
性力利用分級機や回転ドラム型分級機などを用いた方法
が知られている。第3図〜第5図は従来公知の改質方法
の説明図であり、第3図は篩分け法による概略的な斜視
図である。符号40は篩であって、篩上に被処理粒体を供
給し、篩上で被処理粒体を上下または前後にそれぞれ揺
動や振動を加えて、被処理粒体同志を擦り合せながら母
体物質と子物質に分離し、分離後は母体物質を篩上残分
として、子物質を篩下としてそれぞれ回収する。第4図
は慣性力利用分級機を利用した場合の改質方法の模式図
であって、被処理粒体を壁面に向かって高速で噴出させ
ると被処理粒体が得た運動エネルギで壁面に衝突し、こ
の衝突時の衝撃により子物質が剥離される。この時、同
時に壁面と平行に下方から上方に向かって空気を流して
おけば、母体物質は空気の流れに抗して落下し、子物質
は空気に同伴されて上方へ搬出される。第5図は回転ド
ラム型分級機を利用した場合の改質方法であって、回転
円筒41を適度な角度をもたせた状態で回転させながら、
回転円筒41下方から上方に向かって空気を流し、逆に回
転円筒41上方に配したシュート42から回転円筒41上部に
被処理粒体を供給すると、回転円筒41内で被処理粒体同
志が擦れながら回転円筒41下部に向かって搬送され、母
体物質は空気に抗して回転円筒41下部に流下し、また子
物質は回転円筒41上部から空気に同伴されて搬出され、
それぞれ分離される。
[Prior Art] Conventionally, as a method for modifying the surface of granules, in addition to a sieving method, a method using an inertial force classifier, a rotating drum type classifier, or the like is known. 3 to 5 are explanatory views of a conventionally known reforming method, and FIG. 3 is a schematic perspective view by a sieving method. Reference numeral 40 denotes a sieve, and the particles to be treated are supplied onto the sieve, and the particles to be treated are oscillated or vibrated up and down or back and forth respectively on the sieve to rub the particles to be treated with each other. The substance is separated into a child substance, and after the separation, the mother substance is collected as a residue on the sieve and the child substance is collected under the sieve. Fig. 4 is a schematic diagram of the reforming method using an inertial force classifier. When the particles to be treated are ejected at high speed toward the wall surface, the kinetic energy obtained by the particles to be treated is applied to the wall surface. Collision occurs, and the child matter is separated by the impact at the time of collision. At this time, if air is made to flow from the lower side to the upper side in parallel with the wall surface at the same time, the base substance falls against the flow of air, and the child substance is carried along with the air and carried out upward. FIG. 5 shows a reforming method in the case of using a rotary drum type classifier, while rotating the rotary cylinder 41 with an appropriate angle,
When the particles to be treated are supplied to the upper part of the rotating cylinder 41 from the chute 42 arranged above the rotating cylinder 41, the particles to be treated rub against each other in the rotating cylinder 41. While being conveyed toward the lower part of the rotating cylinder 41, the base substance flows down to the lower part of the rotating cylinder 41 against the air, and the child substance is carried out from the upper part of the rotating cylinder 41 along with the air.
Each is separated.

ところで、次の如き回転皿および固定環を有する遠心流
動粉砕装置を応用した表面改質装置を、本出願人は最近
開発して、特願昭63-220246号として特許出願した。
By the way, the present applicant has recently developed a surface modification device to which a centrifugal fluidized crushing device having a rotary plate and a fixed ring as described below is applied, and filed a patent application as Japanese Patent Application No. 63-220246.

この回転皿は、回転軸心が縦方向に向いていて、少なく
とも中央部分が下方に向かって拡径する皿面を有し、か
つ該皿面の縦断面が凹状に湾曲している形状の回転自在
な円状のものである。
This rotating dish has a rotation axis oriented in the vertical direction, at least a central portion of which has a dish surface whose diameter is expanded downward, and a vertical cross section of the dish surface is concavely curved. It has a free circular shape.

固定環は、少なくとも上部が上方に向かって縮径する内
壁面を有し、該内壁面の縦断面が凹状に湾曲している形
状であり、前記回転皿と同軸的に周設されて静止してい
る。
The stationary ring has an inner wall surface with at least an upper portion having a diameter reduced upward, and has a shape in which a vertical cross section of the inner wall surface is curved in a concave shape. ing.

そして、その表面改質装置は、前記回転皿の皿面と固定
環の内壁面とが、回転皿と固定環との間の微小隙間を除
いて、連続的な円滑面に形成されている。
In the surface modification device, the dish surface of the rotary dish and the inner wall surface of the fixed ring are formed into a continuous smooth surface except for a minute gap between the rotary dish and the fixed ring.

[発明が解決しようとする課題] ところが、前述したような表面改質装置において、比重
の大きい、いわゆる高比重の母体物質の粒子表面に子物
質が付着している被処理粒体から該子物質を剥離させる
粒体の表面改質を行なう場合に、回転皿の皿面は全体と
して凹状に湾曲し、さらに回転皿と固定環の隙間から該
皿面底部までの高さが高い状態下では、表面改質装置内
に供給された改質媒体と被処理粒体のうち、回転皿の皿
面に保有される改質媒体および被処理粒体量の割合が増
え、この結果、該皿面部の上層部には、表面改質された
母体物質が堆積し、さらに下層部には、投入時の表面改
質原料のままで堆積するといった2分層を形成すること
になる。このため、前記上層部および下層部の両層は、
表面改質装置を一定速度で駆動しているにもかかわらず
流動しない一種のデッドスペースの状態を呈することに
なり、表面改質装置内部の改質室は、実質的にはデッド
スペース分だけ有効処理容積が減少するとともに、その
表面改質装置が特徴としている被処理粒体および改質媒
体の遠心流動運動も変則的になるなど、母体物質から一
旦剥離された子物質が母体物質とともに回転皿の皿面凹
部に長時間滞留し、このため、子物質が排出されないた
めに結果として電力原単位が悪くなったり、あるいは装
置全体として改質による単位時間当りの処理量が減少
し、回転皿の皿面上に堆積された原料は、最終的には、
改質されないまま排出されるため、原料の表面改質効率
が低下するなどの欠点を有していた。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the surface reforming apparatus as described above, a child substance is attached to the particle surface of a mother substance having a large specific gravity, that is, a so-called high specific gravity When performing surface modification of the granules for peeling, the dish surface of the rotating dish is curved in a concave shape as a whole, and further under the condition that the height from the gap between the rotating dish and the fixed ring to the dish surface bottom is high, Of the reforming medium and the particles to be treated supplied in the surface reforming device, the ratio of the amount of the reforming medium and the amount of particles to be treated held on the dish surface of the rotary dish increases, and as a result, the dish surface portion A surface-modified base substance is deposited on the upper layer portion, and further, a dichotomous layer is formed on the lower layer portion in which the surface-modified raw material at the time of charging is deposited as it is. Therefore, the upper layer and the lower layer,
Although the surface reforming device is driven at a constant speed, it will show a kind of dead space that does not flow, and the reforming chamber inside the surface reforming device is effectively effective for the dead space. As the processing volume decreases, the centrifugal flow motion of the particles to be treated and the reforming medium, which is characteristic of the surface reforming device, becomes irregular. The product stays in the dish surface concave part of the unit for a long time, and as a result, the basic substance of electric power becomes worse because the sub-substances are not discharged, or the processing amount per unit time due to the reforming of the entire device decreases, and The raw material deposited on the plate surface is finally
Since it is discharged without being modified, it has a drawback that the surface modification efficiency of the raw material is lowered.

[課題を解決するための手段] 本発明においては、前記欠点をなくすために、回転軸心
が縦方向に向いていて、少なくとも中央部分が下方に向
って拡径する皿面を有し、かつ該皿面の縦断面が凹状に
湾曲している形状の回転自在な円状の回転皿と、少なく
とも上部が上方に向かって縮径する内壁面を有し、該内
壁面の縦断面が凹状に湾曲している形状であり、前記回
転皿と同期的に周設されて静止している固定環とを具備
し、前記回転皿の皿面と固定環の内壁面とが、回転皿と
固定環との間の微小隙間を除いて、連続的な円滑面に形
成されている遠心流動装置において、該回転皿と固定環
の隙間から皿面までの高さと回転皿最大内径の比率を0.
03〜0.05に構成し、さらに、皿面部を略々水平に、か
つ、広い平面を有した凹状を形成している構成にした。
[Means for Solving the Problems] In the present invention, in order to eliminate the above-mentioned drawbacks, the rotation axis is oriented in the vertical direction, and at least the central portion has a dish surface whose diameter is expanded downward, and The dish has a rotatable circular rotating dish whose longitudinal cross section is curved in a concave shape, and at least the upper portion has an inner wall surface whose diameter decreases upward, and the inner wall surface has a concave vertical cross section. A stationary ring having a curved shape, which is circumferentially provided in synchronization with the rotary plate and is stationary, and the plate surface of the rotary plate and the inner wall surface of the fixed ring have a rotary plate and a fixed ring. In a centrifugal flow device formed on a continuous smooth surface, except for a minute gap between and, the ratio of the height from the gap between the rotary plate and the fixed ring to the plate surface and the maximum inner diameter of the rotary plate is 0.
In addition, the dish surface portion is configured to be substantially horizontal, and a concave shape having a wide flat surface is formed.

[作用] 回転皿の皿面と固定環の内壁面とで囲まれる処理室内に
被処理粒体と改質媒体とを収容し、回転皿の皿面を広く
平らにし、さらに回転皿と固定環の隙間から該皿面まで
の高さ(H)と回転皿最大内径(D)との比率(H/D)
を0.03〜0.05に構成された装置を駆動させることで、被
処理粒体や改質媒体は皿面上を互いに摩砕されながら遠
心力により回転皿の外周面に強く押しつけられ、さら
に、被処理粒体や改質媒体は回転皿の回転速度よりも遅
い速度で円周方向に公転しながら、皿面と内壁面を循環
する上下方向の円運動をも行ない、これら二つの運動を
合成した縄を綯うような螺旋進行運動(この運動は遠心
流動と通称されている。)を行なう。これにより、被処
理粒体同志または被処理粒体と改質媒体とが擦れ合い、
被処理粒体が粉砕(特に摩砕)されたり、被処理粒体の
表面から子物質が剥離されたりする。
[Operation] The particles to be treated and the reforming medium are housed in the processing chamber surrounded by the plate surface of the rotary plate and the inner wall surface of the fixed ring, and the plate surface of the rotary plate is made wide and flat. Ratio (H / D) between the height (H) from the gap of the plate to the plate surface and the maximum inner diameter (D) of the rotating plate
By driving the device configured to 0.03 to 0.05, the particles to be treated and the reforming medium are strongly pressed against the outer peripheral surface of the rotating dish by centrifugal force while being ground on each other on the dish surface. The granules and the reforming medium revolve in the circumferential direction at a slower speed than the rotation speed of the rotating dish, and also make a circular movement in the up-and-down direction that circulates on the dish surface and the inner wall surface. Performs a spiral-like movement (this movement is commonly called centrifugal flow). As a result, the particles to be treated or the particles to be treated and the modifying medium rub against each other,
The particles to be treated may be crushed (especially ground), or the child substance may be separated from the surface of the particles to be treated.

本発明で採用している表面改質などの粉砕処理装置は、
被処理粒体や改質媒体を遠心流動させるものであり、被
処理粒体の摩砕作用が顕著である。このため、短時間の
うちに微粉砕または表面改質が行なわれる。そして、導
入される気体により子物質である細粉が速やかに排出さ
れるので、子物質の再凝集または母体改質への再付着を
防止でき効率よく分離できる。
The pulverization processing device such as surface modification adopted in the present invention is
The particles to be treated and the reforming medium are centrifugally flowed, and the grinding action of the particles to be treated is remarkable. Therefore, fine pulverization or surface modification is performed within a short time. Then, since the fine powder, which is a child substance, is quickly discharged by the introduced gas, re-aggregation of the child substance or re-adhesion to the matrix reforming can be prevented, and efficient separation can be achieved.

また、摩砕される被処理粒体の硬度がロット毎に異なる
場合であっても、装置内での原料の滞留時間を変えるだ
けで容易に対処できる。
Further, even when the hardness of the particles to be ground to be ground is different for each lot, it can be easily dealt with by simply changing the residence time of the raw material in the apparatus.

母体物質が軟らかくて子物質が硬い被処理粒体を表面改
質する場合、あるいは、母体物質が硬くて子物質が軟ら
かい被処理粒体を表面改質する場合でも、装置内での被
処理粒体の滞留時間を変えて、被処理粒体同志または被
処理粒体と改質媒体との擦れ合いの程度を変えるだけで
容易に対処できる。
Even when surface-modifying the particles to be treated that the parent material is soft and the child material is hard, or if the particles to be treated that the parent material is hard and the child material is soft are to be surface-modified, the particles to be treated in the equipment This can be easily dealt with by simply changing the residence time of the body and changing the degree of friction between the particles to be treated or the particles to be treated and the modifying medium.

さらに、小径の粒体についても確実に細粉にまで粉砕し
たり、子物質を剥離できる。
Furthermore, even small-diameter particles can be reliably crushed into fine powder, and the child substance can be peeled off.

[実施例] 以下、図面を参照して実施例について説明する。Embodiments Embodiments will be described below with reference to the drawings.

第2図は本発明方法を実施するに好適な表面改質用の粉
砕処理装置の全体側面図、第1図は要部縦断面図であ
る。
FIG. 2 is an overall side view of a pulverizing apparatus for surface modification suitable for carrying out the method of the present invention, and FIG. 1 is a longitudinal sectional view of an essential part.

符号1は固定環、2は回転皿である。固定環1は底面が
プレート3で封じられたドラム状ケーシング4の上側に
固設され、該プレート3は脚柱5により支承されてい
る。回転皿2には支持ブロック6が固設され、該支持ブ
ロック6はベアリング装置7を介して前記プレート3に
支持されている。すなわち、プレート3の中央部分には
開口8が穿設され、ベアリングハウジング9のフランジ
部10が該開口8の縁部に係止され、ボルト11により固定
されている。支持ブロック6の下側には駆動軸12が連結
されており、該駆動軸12は継手13を介して減速機14の出
力軸15に連結されている。符号17は駆動用の可変速型の
モータであり、減速機14に連結されている。
Reference numeral 1 is a fixed ring, and 2 is a rotary dish. The fixed ring 1 is fixed to the upper side of a drum-shaped casing 4 whose bottom surface is sealed by a plate 3, and the plate 3 is supported by a pedestal 5. A support block 6 is fixedly mounted on the rotary plate 2, and the support block 6 is supported by the plate 3 via a bearing device 7. That is, an opening 8 is formed in the central portion of the plate 3, and the flange portion 10 of the bearing housing 9 is locked to the edge portion of the opening 8 and fixed by the bolt 11. A drive shaft 12 is connected to the lower side of the support block 6, and the drive shaft 12 is connected to an output shaft 15 of a speed reducer 14 via a joint 13. Reference numeral 17 is a variable speed motor for driving, and is connected to the speed reducer 14.

回転皿2の上側には蓋部材18が取り付けられている。該
蓋部材18はその下端外周にフランジ19を備えており、該
フランジ19が固定環1の上端外周縁に突設されたフラン
ジ20上に載置され、ボルト21により固定されている。蓋
部材18の中央には排出管22が設置され、該排出管22内は
固定環1,回転皿2および蓋部材18で囲まれる粉砕または
改質のための処理室23内に連通している。蓋部材18には
投入管24が設けられており、該投入管24内は処理室23内
に連通している。
A lid member 18 is attached to the upper side of the rotary plate 2. The lid member 18 is provided with a flange 19 on the outer periphery of the lower end thereof, and the flange 19 is mounted on a flange 20 projecting from the outer peripheral edge of the upper end of the fixed ring 1 and fixed by a bolt 21. A discharge pipe 22 is installed in the center of the lid member 18, and the inside of the discharge pipe 22 communicates with a processing chamber 23 for crushing or reforming which is surrounded by the stationary ring 1, the rotary plate 2 and the lid member 18. . The lid member 18 is provided with a charging pipe 24, and the inside of the charging pipe 24 communicates with the processing chamber 23.

つぎに、第1図を参照して固定環1および回転皿2の構
成について詳細に説明する。
Next, the configurations of the fixed ring 1 and the rotary plate 2 will be described in detail with reference to FIG.

固定環1は、軸心方向を鉛直方向にして設置された環形
状のものであり、高さ方向の中途部分(以下、中部とい
う。)1bが最も拡径している。固定環1は、該中部1bか
ら下方部分(以下、下部という。)1cが下方に向かって
わずかに縮径し、該中部から上方部分(以下、上部とい
う。)1aは上方に向かって縮径している。したがって、
該固定環1の内壁面1Aは下部1cから中部1bに向かってわ
ずかに拡径し、中部1bは略鉛直であり、中部1bから上部
1aに向かって縮径する形状であり、かつ該内壁面1Aは縦
断面が凹状に湾曲している。なお、固定環1の中部1bの
外周面にはフランジ25が突設され、該フランジ25がケー
シング3の上端外周に突設されたフランジ26に載置さ
れ、ボルト27により固定されている。
The fixed ring 1 has a ring shape installed with the axial direction being the vertical direction, and the diameter in the middle part in the height direction (hereinafter referred to as the middle part) 1b is the largest. In the fixed ring 1, a lower portion (hereinafter, referred to as a lower portion) 1c is slightly reduced in diameter from the middle portion 1b, and an upper portion (hereinafter, referred to as an upper portion) 1a is reduced in diameter from the middle portion. is doing. Therefore,
The inner wall surface 1A of the fixed ring 1 is slightly expanded in diameter from the lower portion 1c toward the middle portion 1b, the middle portion 1b is substantially vertical, and the middle portion 1b is located at the upper portion.
The diameter is reduced toward 1a, and the inner wall surface 1A is curved in a vertical cross section. A flange 25 is provided on the outer peripheral surface of the middle portion 1b of the fixed ring 1, and the flange 25 is mounted on a flange 26 provided on the outer periphery of the upper end of the casing 3 and fixed by a bolt 27.

回転皿2の皿面2Aは、中央部分2aでは下方に向かって拡
径する形状であり、該中央部分にひき続く中間部分2bで
は略々水平であって、かつ、中間部分2b(M)と回転皿
最大内径(D)との比率(M/D)を例えば0.1〜0.3に構
成させた広い平面を有しており、該中間部分2bにひき続
く外周部分2cでは上方に向かって拡径する形状である。
この皿面2Aは全体として比較的浅い凹状に湾曲してお
り、前記固定環1の内壁面1Aと該皿面2Aとは固定環1と
回転皿2との間の微小な隙間29を除いて連続的な円滑面
を形成している。
The dish surface 2A of the rotary dish 2 has a shape in which the diameter is expanded downward in the central portion 2a, is substantially horizontal in the intermediate portion 2b that follows the central portion, and is intermediate with the intermediate portion 2b (M). It has a wide flat surface whose ratio (M / D) to the maximum inner diameter (D) of the rotating dish is set to, for example, 0.1 to 0.3, and the outer peripheral portion 2c following the intermediate portion 2b expands upward. The shape.
The dish surface 2A is curved in a relatively shallow concave shape as a whole, and the inner wall surface 1A of the fixed ring 1 and the dish surface 2A except for a minute gap 29 between the fixed ring 1 and the rotary dish 2. It forms a continuous smooth surface.

回転皿2の中央部分には尖頭のキャップ30が装着され、
ボルト31により止め付けられている。回転皿2の中央部
分には軸孔32が穿設され、前記支持ブロック6の上端が
該軸孔32に嵌入されている。上記ボルト31の下端は該支
持ブロック6の上端に設けられたピース33に螺合されて
いる。
A pointed cap 30 is attached to the central portion of the rotary plate 2,
It is fixed by bolts 31. A shaft hole 32 is formed in the central portion of the rotary plate 2, and the upper end of the support block 6 is fitted in the shaft hole 32. The lower end of the bolt 31 is screwed into a piece 33 provided on the upper end of the support block 6.

なお、図示はしないが、固定環1の内壁面1Aと回転皿2
の皿面2Aにはそれぞれライナが装着されている。
Although not shown, the inner wall surface 1A of the fixed ring 1 and the rotary plate 2
A liner is attached to each of the dish surfaces 2A.

前記プレート3には空気などの気体の導入口34が穿設さ
れ、配管35を介して気体をケーシング3内の気体室36に
導入可能としてある。
An inlet 34 for introducing a gas such as air is formed in the plate 3 so that the gas can be introduced into a gas chamber 36 in the casing 3 through a pipe 35.

また、前記排出管22にはバッグフィルタなどの粉体捕集
手段(図示略)が接続されている。
Further, a powder collecting means (not shown) such as a bag filter is connected to the discharge pipe 22.

このように構成された表面改質用の粉砕処理装置による
粒体の表面改質方法の一例についてつぎに説明する。
An example of the surface modification method of the granules by the crushing apparatus for surface modification configured as above will be described below.

あらかじめ、処理室23内には例えば球状のボールからな
る改質媒体が多数装入されている。まず、例えば、母体
物質の粒子表面にこの母体物質とは異質の子物質が付着
している被処理粒体を投入管24から装置内に投入する。
回転皿2の回転に伴って被処理粒体および改質媒体は固
定環1の内壁面1Aと皿面2Aとを循環する円運動(矢印
S)と、回転皿2の軸心回りの公転運動との合成による
縄を綯うような螺旋運動(遠心流動)を行ない、その間
で被処理粒体の粒子表面の摩砕または剥ぎ取りを行な
う。
A large number of reforming media such as spherical balls are loaded in the processing chamber 23 in advance. First, for example, the particles to be treated in which the child substance different from the mother substance is attached to the surface of the mother substance particles are charged into the apparatus through the charging pipe 24.
The granules to be treated and the reforming medium circulate between the inner wall surface 1A of the fixed ring 1 and the dish surface 2A as the rotating dish 2 rotates (arrow S), and the orbital motion of the rotating dish 2 around the axis. Performs a spiral movement (centrifugal flow) like a rope due to the synthesis of and, during which the surface of the particles of the particles to be treated is ground or stripped.

すなわち、回転皿2を回転させると、改質媒体は遠心力
により外周方向に移動され、この速度エネルギによって
固定環1の内壁面1Aを這い上り、その這い上る力が重力
より小さくなったら次いで該内壁面1Aから離れて回転皿
2の皿面2A上に落下する。皿面2A上に移動した改質媒体
は、この皿面2Aに沿って外周方向に転動しながら移動
し、再び固定環1へ向けて移動される。
That is, when the rotating dish 2 is rotated, the reforming medium is moved in the outer peripheral direction by the centrifugal force, and the velocity energy crawls up the inner wall surface 1A of the fixed ring 1, and when the climbing force becomes smaller than gravity, then It separates from the inner wall surface 1A and falls onto the plate surface 2A of the rotary plate 2. The reforming medium that has moved onto the dish surface 2A moves along the dish surface 2A while rolling in the outer peripheral direction, and is again moved toward the fixed ring 1.

また、回転皿2を回転させると、改質媒体は回転皿2の
回転速度よりも遅い速度で円周方向に公転する。したが
って、改質媒体は、前述のように皿面2Aと内壁面1Aを循
環する上下方向の円運動Sの他に、回転皿2の軸心回り
を回転する公転運動をも行ない、これらの二つの運動を
合成した縄を綯うような螺旋進行運動(遠心流動)を行
なう。
When the rotating dish 2 is rotated, the reforming medium revolves in the circumferential direction at a speed lower than the rotation speed of the rotating dish 2. Therefore, the reforming medium, in addition to the vertical circular motion S circulating in the dish surface 2A and the inner wall surface 1A as described above, also performs an orbital motion of rotating about the axis of the rotary plate 2, Performs a spiral movement (centrifugal flow) that twists a rope that combines two movements.

このように、改質媒体は回転皿2の円周方向への運動を
維持しつつ内壁面1Aを這い上る運動を行なうのである
が、この内壁面1Aが固定されているとき、改質媒体の円
周方向速度(公転速度)および改質媒体の這い上り速度
との合成速度がそのまま内壁面1Aと改質媒体の速度差に
なる。したがって、改質媒体と内壁面1Aとの速度差は極
めて大きなものとなり、内壁面1A上を移動する際の改質
媒体の作用による摩砕作用は著しく強いものとなる。
In this way, the reforming medium moves up the inner wall surface 1A while maintaining the movement of the rotary dish 2 in the circumferential direction. When the inner wall surface 1A is fixed, the reforming medium The combined speed of the circumferential speed (revolution speed) and the creeping speed of the reforming medium directly becomes the speed difference between the inner wall surface 1A and the reforming medium. Therefore, the speed difference between the reforming medium and the inner wall surface 1A becomes extremely large, and the grinding action by the action of the reforming medium when moving on the inner wall surface 1A becomes extremely strong.

さらに、内壁面1Aから離脱して皿面2A上に着床した改質
媒体は、この皿面2Aに沿って外周方向に滑らかに転がり
ながら移動するので、皿面2A上を転動する際の運動によ
り、内壁面1Aを駆け上る際に得た位置エネルギを半径方
向への運動エネルギに交換することができるから、改質
媒体に一旦付与されたエネルギをいたずらに消費するこ
となく、剥離作用に有効に利用することができる。さら
に、皿面2Aに沿って降下する際は、改質媒体はこの皿面
2A上を遠心力によって外周方向に向かってスムースに転
動するから、この転動運動中においても子物質の剥離が
行なわれる。
Furthermore, since the reforming medium that has left the inner wall surface 1A and has landed on the dish surface 2A moves smoothly while rolling in the outer circumferential direction along the dish surface 2A, when rolling on the dish surface 2A. Due to the movement, the potential energy obtained when running up the inner wall surface 1A can be exchanged for the kinetic energy in the radial direction, so that the energy once applied to the reforming medium is not consumed unnecessarily, and the peeling action is performed. It can be used effectively. Furthermore, when descending along the dish surface 2A, the reforming medium is
Since 2A smoothly rolls toward the outer peripheral direction by the centrifugal force, the child substance is separated even during this rolling motion.

このように、改質媒体と被処理粒体が部分的に流動不可
能な状態に陥ることもなく、全体的に遠心流動状態を呈
することができるように、回転皿2と固定環1の隙間29
から皿面の中間部分2bまでの高さ(H)と回転皿最大内
径(D)との比率(H/D)を0.03〜0.05に構成してあ
る。ところが、H/Dを0.05以上にした場合の深底タイプ
の回転皿を有した粉砕処理装置については従来技術で述
べた通りであるが、H/Dを0.03以下にした浅底タイプの
回転皿を有した粉砕処理装置では、回転皿2と固定環1
の隙間29から皿面中間部分2bまでの高さ(H)が小さく
なるとともに、回転皿の皿面中間部分2bにひき続く上方
に向かって拡径する形状の外周部分2cがなくなる結果、
皿面2Aと内壁面1Aを循環する上下方向の円運動Sに大き
く寄与している被処理粒体および改質媒体の皿面2Aから
内壁面1Aへの綯い上りに必要な助走区間としての役割が
なくなり、局部的に遠心流動が生じるものの全体として
は被処理粒体および改質媒体が回転皿上に着床したまま
回転皿と一緒に回転するといった現象を呈することにな
り、改質作用は行なわれないことになる。
As described above, the clearance between the rotary plate 2 and the stationary ring 1 is such that the reforming medium and the particles to be treated do not partially fall into a non-flowable state and can be in a centrifugal flow state as a whole. 29
The ratio (H / D) of the height (H) from the plate to the intermediate portion 2b of the plate surface and the maximum inner diameter (D) of the rotating plate is 0.03 to 0.05. However, as for the pulverization processing device having a deep-bottom type rotating dish when H / D is 0.05 or more, it is as described in the prior art, but a shallow-type rotating dish with H / D of 0.03 or less. In the pulverization processing device having a rotary plate 2 and a stationary ring 1.
As a result that the height (H) from the gap 29 to the dish surface intermediate portion 2b becomes smaller, and the outer peripheral portion 2c of the rotating dish which is shaped to expand upwardly following the dish surface intermediate portion 2b disappears,
The role of the run-up section required for the rising of the granules to be treated and the reforming medium that greatly contribute to the vertical circular motion S circulating between the dish surface 2A and the inner wall surface 1A from the dish surface 2A to the inner wall surface 1A However, although the centrifugal flow occurs locally, as a whole, the particles to be treated and the reforming medium exhibit the phenomenon of rotating together with the rotary dish while remaining on the rotary dish. It will not be done.

配管36,気体室36および間隙29から処理室23内に適当量
の空気を導入しておき、前記したような遠心流動を一定
時間継続すると、被処理粒体の表皮の子物質が摩砕ある
いは剥ぎ取りにより剥離され、剥離された子物質は空気
とともに排出管22から搬出される。こうして被処理粒体
は子物質と母体物質とに分離される。
If a suitable amount of air is introduced into the processing chamber 23 through the pipe 36, the gas chamber 36 and the gap 29, and the centrifugal flow as described above is continued for a certain period of time, the child matter of the epidermis of the particles to be treated is ground or The child substance that has been peeled off by peeling and is peeled off is carried out from the discharge pipe 22 together with air. In this way, the particles to be treated are separated into a child substance and a mother substance.

なお、遠心流動している被処理粒体および改質媒体中に
隙間29から気体が吹き込まれるので、被処理粒体から剥
離された子物質は直ちに気流搬送されて排出される。こ
のため、一旦剥離された子物質が再び母体物質に付着す
ることがない。
In addition, since gas is blown into the particles to be centrifugally flowed and the reforming medium through the gap 29, the child substance separated from the particles to be treated is immediately conveyed by airflow and discharged. Therefore, the separated child substance does not adhere to the base substance again.

勿論、処理室23内への空気の導入は、配管35からの空気
の吹き込みで行なう代りに排出管22からの吸引で行なう
こともできる。
Needless to say, the introduction of air into the processing chamber 23 can be performed by suction from the discharge pipe 22 instead of by blowing air from the pipe 35.

このようにして、被処理粒体の表面から子物質を確実に
剥離することができ、高純度の母体物質または子物質を
効率良く得ることができる。また、この母体物質は、実
質的に表皮の子物質のみが剥離されたものであり、圧潰
作用などは殆ど受けず、ほぼ原型を有するものであり、
粒子形状の好適な母体物質を回収できる。
In this way, the child substance can be reliably peeled from the surface of the particles to be treated, and the high-purity mother substance or child substance can be efficiently obtained. In addition, this matrix substance is one in which substantially only the child substance of the epidermis has been peeled off, has almost no crushing effect, and has a substantially original shape,
It is possible to recover a base material having a suitable particle shape.

本発明方法によると、各種の物質を母体物質とする粒子
表面から通常は異質な子物質を、場合によっては同質の
子物質を剥離することができるが、本発明は特に、鉄,
銅,ニッケル,コバルト,アルミニウムなどの金属(純
金属または合金)の粒子表面から酸化物,窒化物,炭化
物などよりなる子物質を剥離する場合に好適である。
According to the method of the present invention, a heterogeneous child substance, and in some cases, a homogeneous child substance, can be peeled from the surface of a particle having various substances as a base substance.
It is suitable for exfoliating a child substance made of an oxide, a nitride, or a carbide from the particle surface of a metal (pure metal or alloy) such as copper, nickel, cobalt, or aluminum.

例えば、本発明は純鉄の粒子表面に付着したスラグを剥
離する場合に好適に採用できる。金属粒子の表面からス
ラグを剥離する場合、通常、被処理粒体が10mm以上の場
合は、前記の従来技術方法においても、割りと表面改質
効率の高い処理のできることが多いが、被処理粒体が1m
m以下になると、表面改質効率が著しく低下し、事業ベ
ースとしての採算が合わず、やむなく未処理のまま埋め
立てなどに使用するか、あるいは、付加価値の低いもの
に利用方法するしかないのが実状である。
For example, the present invention can be preferably used when peeling slag adhering to the surface of pure iron particles. When peeling the slag from the surface of the metal particles, usually, if the particles to be treated is 10 mm or more, even in the above-mentioned prior art method, it is often possible to perform a treatment with high surface modification efficiency, Body is 1m
If it is less than m, the surface modification efficiency will be significantly reduced and the profitability as a business base will not be met, so it is unavoidable to use it for landfill etc. as untreated, or to use it for low added value. It is the actual situation.

ところが、本発明における粉砕処理装置を用いると、特
に、被処理粒体が1mm以下の小粒径の場合であっても、
表面改質効率が著しく向上するとともに、十分事業ベー
スとしての採算にのり、さらに、母体物質の有価回収お
よび子物質の回収が容易にできる。
However, using the crushing apparatus in the present invention, especially, even when the particles to be treated have a small particle diameter of 1 mm or less,
The surface modification efficiency is remarkably improved, the profit is sufficiently profitable as a business base, and the valuable recovery of the parent substance and the recovery of the child substance can be facilitated.

本発明方法では、改質媒体または被処理粒体のうちで改
質媒体の役目を果たすものを用いることにより子物質の
剥離を促進できる。改質媒体としては、被処理粒体の母
体物質と同材質の粒子が好適であるが、硬質粒子(例え
ば、鋼球や、コランダム,ジルコニアなどのセラミック
ボール)であれば被処理粒体と改質媒体とは異なる材質
のものであっても良い。媒体の表面をポリアミド樹脂
(商品名ナイロン)などで被覆しても良い。
In the method of the present invention, the use of the modifying medium or the particles to be treated, which functions as the modifying medium, can promote the exfoliation of the child substance. As the reforming medium, particles of the same material as the base material of the particles to be treated are suitable, but if the particles are hard particles (for example, steel balls, ceramic balls such as corundum, zirconia, etc.), they are modified with the particles to be treated. A material different from the quality medium may be used. The surface of the medium may be covered with a polyamide resin (trade name: nylon) or the like.

また、改質媒体は10mm程度の直径のものが摩砕に好適で
あるが、より効率のよい摩砕を行なうには、被処理粒体
の径が改質媒体の径の5〜20%となるようにするのが良
い。なお、被処理粒体をあらかじめある程度一定粒径以
下に破砕しておくか、または、未粉砕物であれば最初か
ら前記した条件に合う粒子径のものを準備しておくこと
もできる。
Further, the reforming medium having a diameter of about 10 mm is suitable for milling, but for more efficient milling, the diameter of the particles to be treated should be 5 to 20% of the diameter of the reforming medium. It is better to be It should be noted that the particles to be treated may be crushed to a certain size or less in advance, or if they are unpulverized, particles having a particle diameter that meets the above-mentioned conditions may be prepared from the beginning.

つぎに、上記粉砕処理装置により粉砕を行なう場合の作
動について説明する。
Next, the operation when crushing is performed by the above crushing apparatus will be described.

粉砕を行なう場合は、処理室23内に原料と粉砕媒体とを
装入し、回転皿を回転させる。そうすると、粉砕媒体は
前述した改質媒体と同様に遠心流動する。そして、この
遠心流動時における粉砕媒体と内壁面1Aとの速度差が極
めて大きく、内壁面1A上を移動する際の粉砕媒体による
粉砕ないしは摩砕作用は著しく強いものになる。
When pulverizing, the raw material and the pulverizing medium are loaded into the processing chamber 23, and the rotary dish is rotated. Then, the grinding medium centrifugally flows like the reforming medium described above. The speed difference between the grinding medium and the inner wall surface 1A during this centrifugal flow is extremely large, and the grinding or grinding action by the grinding medium when moving on the inner wall surface 1A becomes extremely strong.

この粉砕の場合、表面改質の場合と同様に、粉砕媒体の
運動エネルギおよび位置エネルギの無駄な消費が少な
い。また、皿面2A上を粉砕媒体が転動しながら遠心方向
に移動する際にも原料の粉砕が行なわれる。
In the case of this crushing, as in the case of the surface modification, wasteful consumption of kinetic energy and potential energy of the crushing medium is small. The raw material is also crushed when the crushing medium moves in the centrifugal direction while rolling on the dish surface 2A.

なお、この粉砕の場合も隙間29からの空気の導入を行な
うことにより、製品粒度にまで達した細粉は気流搬送さ
れて排出管22から搬出され、捕集手段にて捕集される。
このように、細粉を連続的に排出することができるの
で、原料の過粉砕が防止される。
Even in the case of this pulverization, by introducing air from the gap 29, the fine powder that has reached the product particle size is conveyed by air flow, is discharged from the discharge pipe 22, and is collected by the collecting means.
In this way, the fine powder can be continuously discharged, so that over-milling of the raw material is prevented.

かかる粉砕処理装置による粉砕方法は、各種の鉱物や金
属,有機物質の粉砕にも適用できる。粉砕処理装置を用
いて粉砕を行なう場合、原料の粒径は1mm以下におい
て、特に別の粉砕方法に比べて著しい効果が発生する。
The crushing method using the crushing apparatus can be applied to crushing various minerals, metals, and organic substances. When crushing is performed using a crushing apparatus, when the particle size of the raw material is 1 mm or less, a remarkable effect is generated especially as compared with another crushing method.

粉砕媒体としては、硬質の鋼球やコランダム,ジルコニ
アなどのセラミックボールが好適である。
As the grinding medium, hard steel balls and ceramic balls such as corundum and zirconia are suitable.

また、ボール表面をポリアミド樹脂(商品名ナイロン)
などで被覆しても良い。粉砕媒体の直径は3〜50mm、と
りわけ5〜10mm程度のものが好適である。
In addition, the ball surface is made of polyamide resin (trade name nylon)
You may coat with. The diameter of the grinding medium is preferably 3 to 50 mm, especially 5 to 10 mm.

なお、粉砕および表面改質のいずれの場合であっても回
転皿2は、例えば50〜1000rpm程度で回転される。
In both cases of crushing and surface modification, the rotating dish 2 is rotated at, for example, about 50 to 1000 rpm.

本発明において、前記隙間から吹き込む気体は、通常の
場合、空気が用いられるが、例えば酸化され易い金属を
粉砕または表面改質する場合には、窒素など空気以外の
気体を用いても良い。
In the present invention, air is usually used as the gas blown from the gap, but when crushing or surface-modifying a metal that is easily oxidized, a gas other than air such as nitrogen may be used.

なお、本発明方法を実施する場合においては、回転皿の
回転速度は一定としても良いのであるが、規則的ないし
は不規則的に変動させても良い。回転数を変動させるこ
とにより、媒体や原料の運動に不規則性が与えられ、摩
砕作用が向上される。
In the case of carrying out the method of the present invention, the rotation speed of the rotary dish may be constant, but it may be changed regularly or irregularly. By varying the rotation speed, irregularity is given to the movement of the medium and the raw material, and the grinding action is improved.

[発明の効果] 以上の実施例からも明らかな通り、本発明は、被処理粒
体を遠心流動させながら表面改質し、かつ装置内に気体
を導入することにより、生じた子物質である細粉をすみ
やかに排出するものであるので、効率の良い表面改質を
行なうことができる。このため、剥離した子物質が再び
母体物質に結合したり、剥離した子物質同志が結合し合
うこともなく、短時間で効率良く、かつ確実容易に子物
質を剥離でき、確実容易に子物質を取り出すことができ
る。特に、本発明によると、従来法では表面改質できな
かった高比重の被処理粒体の改質をスケールアップされ
た大処理量用の装置にて行なう場合でも、改質媒体およ
び被処理粒体が部分的に流動しないスポットいわゆるデ
ッドスペースが生じることもなく、また、子物質および
母体物質のいずれを製品とする場合であっても、それら
を高収率にて回収できる。また、デッドスペースとして
被処理粒体が堆積することがないため表面改質率が低下
することもなく、電力原単位が著しく小さくなり、表面
改質の処理コストの低減が図れる。
[Effects of the Invention] As is clear from the above examples, the present invention is a child substance produced by surface-modifying the particles to be treated while centrifugally flowing and introducing gas into the apparatus. Since fine powder is quickly discharged, efficient surface modification can be performed. Therefore, the exfoliated child substance does not bond again to the parent substance, and the exfoliated child substances do not bond to each other, and the child substance can be exfoliated efficiently and reliably easily in a short time, and the child substance can be easily and easily formed. Can be taken out. In particular, according to the present invention, even when the high-specific-gravity target particles that could not be surface-modified by the conventional method are modified with a scaled-up apparatus for a large throughput, the modified medium and the target particles are treated. A spot where the body does not partially flow, that is, a so-called dead space does not occur, and both the child substance and the mother substance can be recovered in a high yield regardless of the product. Further, since the particles to be treated are not deposited as dead space, the surface modification rate does not decrease, the power consumption rate becomes significantly small, and the surface modification treatment cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は実施例装置の要部縦断面図、第2図は表面改質
用の処理装置の全体側面図、第3図,第4図および第5
図は従来例の説明図である。 1……固定環、2……回転皿、 1A……内壁面、2A……皿面、 3……プレート、4……ケーシング、 14……減速機、17……モータ、 18……蓋部材、22……排出管、 23……処理室、24……投入管、 29……隙間。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a main part of the apparatus of the embodiment, FIG. 2 is an overall side view of a processing apparatus for surface modification, and FIGS. 3, 4 and 5
The figure is an illustration of a conventional example. 1 ... Stationary ring, 2 ... Rotating pan, 1A ... Inner wall surface, 2A ... Plate surface, 3 ... Plate, 4 ... Casing, 14 ... Reducer, 17 ... Motor, 18 ... Lid member , 22 …… discharge pipe, 23 …… processing chamber, 24 …… input pipe, 29 …… gap.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】回転軸心が縦方向に向いていて、少なくと
も中央部分が下方に向って拡径する皿面を有し、かつ該
皿面の縦断面が凹状に湾曲している形状の回転自在な円
状の回転皿と、 少なくとも上部が上方に向かって縮径する内壁面を有
し、該内壁面の縦断面が凹状に湾曲している形状であ
り、前記回転皿と同軸的に周設されて静止している固定
環とを具備し、 前記回転皿の皿面と固定環の内壁面とが、回転皿と固定
環との間の微小隙間を除いて、連続的な円滑面に形成さ
れている遠心流動型の粉砕処理装置において、 該回転皿と固定環の隙間から皿面までの高さと回転皿最
大内径の比率を0.03〜0.05に構成し、さらに、皿面部を
略々水平に、かつ、広い平面を有した凹状を形成してい
ることを特徴とした粉砕処理装置。
1. A rotation having a shape in which a rotation axis is oriented in a vertical direction, at least a central portion has a dish surface whose diameter is expanded downward, and a longitudinal cross section of the dish surface is curved concavely. It has a freely rotatable circular dish and at least an upper part of which has an inner wall surface that reduces in diameter upward, and the inner wall surface has a shape in which a vertical cross section is curved in a concave shape. A stationary ring that is installed and stationary, and the plate surface of the rotary plate and the inner wall surface of the fixed ring form a continuous smooth surface except for a minute gap between the rotary plate and the fixed ring. In the centrifugal flow type pulverization processing device that is formed, the ratio of the height from the gap between the rotary plate and the fixed ring to the plate surface and the maximum inner diameter of the rotary plate is set to 0.03 to 0.05, and the plate surface is approximately horizontal. In addition, the crushing apparatus is characterized by forming a concave shape having a wide flat surface.
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