JPH0678699U - Gas supply device - Google Patents
Gas supply deviceInfo
- Publication number
- JPH0678699U JPH0678699U JP1927493U JP1927493U JPH0678699U JP H0678699 U JPH0678699 U JP H0678699U JP 1927493 U JP1927493 U JP 1927493U JP 1927493 U JP1927493 U JP 1927493U JP H0678699 U JPH0678699 U JP H0678699U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- gas supply
- supply device
- pressure
- supplied
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 ガス供給装置２０は、カートリッジ形ユニッ
トであり、本体装置に対して着脱可能に設けられた１つ
のキャビネット３内に、１本のガスボンベ１と、上記ガ
スボンベ１から供給される高圧ガスの圧力を減圧し、本
体装置へのガスの供給量を制御するガス制御装置２とが
収納された構成である。
【効果】 本体装置へのガス供給が１系統で行われるた
め、複数ガスの混合による事故が発生することがなく、
安全性が高い。本体装置へ供給するガスの切り替えは、
ガス供給装置２０全体の交換というかたちで行われ、そ
の交換作業は、減圧弁４を通った二次側（低圧側）にお
いて行うことができ、危険性が低く、だれでも簡単に行
うことができる。
(57) [Summary] [Constitution] The gas supply device 20 is a cartridge type unit, and one gas cylinder 1 and the above gas cylinder 1 are provided in one cabinet 3 which is detachably attached to the main body device. The gas control device 2 is configured to reduce the pressure of the supplied high-pressure gas and control the supply amount of the gas to the main body device. [Effect] Since gas is supplied to the main unit by one system, an accident due to mixing of a plurality of gases does not occur,
High safety. Switching the gas supplied to the main unit is
The entire gas supply device 20 is replaced, and the replacement work can be performed on the secondary side (low pressure side) that passes through the pressure reducing valve 4, which is low in risk and can be easily performed by anyone. .
Description
【０００１】[0001]
本考案は、例えばイオン源等の本体装置にガスを供給するガス供給装置に関す るものである。 The present invention relates to a gas supply device that supplies gas to a main body device such as an ion source.
【０００２】[0002]
例えばイオン注入装置に用いられるイオン源においては、必要に応じてプラズ マチャンバ内に導入する動作ガスを変更する必要がある。このような場合、イオ ン源（本体装置）に動作ガスを供給するガス供給装置としては、従来、図４に示 すように、１つの容器の中に、異なった種類のガスを充填した複数のガスボンベ ５１…を配置すると共に、これら複数のガスボンベ５１…を、減圧弁５２…、自 動操作弁５３…、および自動流量調整器５４…を介して本体接続口の部分で一括 し、遠方操作によって自動操作弁５３…の開閉を切り換えることにより、複数の ガスを選択的に本体装置に供給できる構成のものが用いられて来た。尚、同図中 の５１ａはボンベ元弁、５１ｂはパージ口、５５はバイパス弁、５６はバイパス 元弁である。 For example, in an ion source used in an ion implantation apparatus, it is necessary to change the working gas introduced into the plasma chamber as needed. In such a case, as a gas supply device for supplying the working gas to the ion source (main device), conventionally, as shown in FIG. 4, one container is filled with different kinds of gas. The gas cylinders 51 of ... are arranged, and a plurality of these gas cylinders 51 ... are collectively operated at the connection port of the main body through the pressure reducing valve 52, the automatic operation valve 53, and the automatic flow rate controller 54, and operated remotely. The one having a configuration in which a plurality of gases can be selectively supplied to the main unit by switching the opening / closing of the automatic operation valves 53 ... Has been used. In the figure, 51a is a cylinder main valve, 51b is a purge port, 55 is a bypass valve, and 56 is a bypass main valve.
【０００３】 上記構成のガス供給装置では、供給ガスの切り替えの際に、配管内の残留ガス を放出するための時間を要するものの、自動操作弁５３…の開閉を制御するコン トロールパネルを操作するだけで、供給ガスの切り替えを容易に行うことができ る。In the gas supply device having the above configuration, when switching the supply gas, it takes time to discharge the residual gas in the pipe, but operates the control panel that controls opening / closing of the automatic operation valves 53. It is possible to easily switch the supply gas.
【０００４】[0004]
しかしながら、上記の構成では、配管内の残留ガスが全て放出されないうちに 、次のガスの弁が開かれたり、自動操作弁５３…に故障が発生するなどによって 配管内で複数の反応性ガスが混合する可能性がある。また、配管の継手部からあ る反応性ガスが漏洩した場合、漏洩ガスによる腐食は他のガス系統にも及び、複 数のガスが容器内で混合する可能性がある。このように、異なった種類のガスを 充填した複数のガスボンベ５１…を配管によって接続した従来のガス供給装置で は、使用されているガスによってはガスの混合による爆発等の大事故が起きる危 険性がある。 However, in the above configuration, while the residual gas in the pipe is not completely discharged, the valve of the next gas is opened, the automatic operation valve 53 is broken, and the plurality of reactive gases are discharged in the pipe. May be mixed. In addition, when reactive gas leaks from the joint part of the pipe, corrosion due to the leaked gas may spread to other gas systems and multiple gases may be mixed in the container. As described above, in a conventional gas supply device in which a plurality of gas cylinders 51 filled with different kinds of gas are connected by pipes, there is a risk that a large accident such as an explosion due to gas mixture may occur depending on the gas used. There is a nature.
【０００５】 そこで、このようなガスの混合による事故を防ぐためには、本体装置へのガス 供給ラインを１系統にし、１種類のガスのみを本体装置へ供給することが考えら れるが、この場合、供給ガスの切り替えを行う度に、ガスボンベを交換する必要 があり、供給ガスの切り替えに際しての作業者の負担が非常に大きく、また、ガ スボンベの交換に際しては、ガスボンベに接続されている配管内が高圧となって おり、危険性が伴うため、有識者（有資格者）でないと、その交換作業が行えな いなどの問題が生じる。Therefore, in order to prevent such an accident due to gas mixture, it is conceivable that the gas supply line to the main body device is set to one system and only one kind of gas is supplied to the main body device. It is necessary to replace the gas cylinder every time the supply gas is switched, which imposes a great burden on the operator when switching the supply gas, and the gas cylinder must be replaced in the pipe connected to the gas cylinder. Since there is a high pressure and there is a danger, there will be problems such as being unable to perform the replacement work unless you are an expert (qualified person).
【０００６】 本考案は、上記に鑑みなされたものであり、その目的は、万一、ガスの漏洩事 故が発生しても、他のガスと混合することはなく、比較的簡単な作業で本体装置 へ供給するガスの切り替えを行うことができるガス供給装置を提供することにあ る。The present invention has been made in view of the above, and an object thereof is to perform a relatively simple operation without mixing with another gas even if a gas leak occurs. It is intended to provide a gas supply device capable of switching the gas supplied to the main body device.
【０００７】[0007]
本考案に係るガス供給装置は、高圧ガス供給源、例えばガスボンベと、上記高 圧ガス供給源から供給される高圧ガスの圧力を減圧し、本体装置へのガスの供給 量を制御するガス制御装置とを有するものであって、上記の課題を解決するため に、以下の手段を講じたことを特徴としている。 The gas supply device according to the present invention is a high-pressure gas supply source, for example, a gas cylinder, and a gas control device for reducing the pressure of the high-pressure gas supplied from the high-pressure gas supply source and controlling the amount of gas supplied to the main device. In order to solve the above problems, the following measures are taken.
【０００８】 即ち、上記本体装置に対して着脱可能に設けられた筐体の内部に、上記１つの 高圧ガス供給源および上記ガス制御装置を収納する。That is, the one high-pressure gas supply source and the gas control device are housed inside a housing detachably attached to the main body device.
【０００９】[0009]
上記の構成によれば、筐体には１つの高圧ガス供給源のみが収納されており、 本体装置へのガス供給が１系統で行われるため、万一、ガスの漏洩事故が発生し ても、複数ガスの混合による事故は発生することがなく、安全性が高い。 According to the above configuration, since only one high-pressure gas supply source is housed in the housing, and gas is supplied to the main unit by one system, even if a gas leakage accident should occur. , Accidents due to mixing of multiple gases do not occur and safety is high.
【００１０】 また、本体装置へ供給するガスの切り替えは、高圧ガス供給源の交換ではなく 、ガス供給装置全体の交換というかたちで行われ、その交換作業は、ガス制御装 置によってガス圧が減圧された二次側（低圧側）において行うことができる。高 圧ガス供給源の交換の場合は、一次側（高圧側）での作業となるため、危険性も 高く、有識者（有資格者）でないとその交換作業が行えないが、ガス供給装置の 交換の場合は、２次側（低圧側）での作業となるため、危険性が低く、だれでも （無資格者でも）簡単に行うことができる。Further, switching of the gas supplied to the main body device is performed not by replacing the high-pressure gas supply source but by replacing the entire gas supply device. The replacement work involves reducing the gas pressure by the gas control device. Can be performed on the secondary side (low pressure side). When replacing the high-pressure gas supply source, the work is on the primary side (high-pressure side), so there is a high risk that only an expert (qualified person) can perform the replacement work, but the replacement of the gas supply device. In the case of, since the work is performed on the secondary side (low pressure side), the risk is low and anyone (even an unqualified person) can easily perform the work.
【００１１】[0011]
本考案の一実施例について図１ないし図３に基づいて説明すれば、以下の通り である。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 3.
【００１２】 本実施例に係るガス供給装置２０は、図３に示すように、イオン注入装置のイ オン源（本体装置）２１のプラズマチャンバ内に、所定のガスを供給するための ものである。As shown in FIG. 3, the gas supply device 20 according to the present embodiment is for supplying a predetermined gas into the plasma chamber of the ion source (main device) 21 of the ion implantation device. .
【００１３】 上記ガス供給装置２０は、カートリッジ形ユニットであり、図１に示すように 、基本的には、イオン源２１に対して着脱可能に設けられた１つのキャビネット （筐体）３内に、高圧ガス供給源としての１本のガスボンベ１と、上記ガスボン ベ１から供給される高圧ガスの圧力を減圧し、イオン源２１へのガスの供給量を 制御するガス制御装置２とが収納された構成である。The gas supply device 20 is a cartridge type unit, and as shown in FIG. 1, basically, it is provided in one cabinet (housing) 3 which is detachably provided to the ion source 21. A single gas cylinder 1 as a high-pressure gas supply source and a gas control device 2 for reducing the pressure of the high-pressure gas supplied from the gas cylinder 1 and controlling the amount of gas supplied to the ion source 21 are housed. It has a different structure.
【００１４】 上記ガス制御装置２は、二次側の圧力を一次側の圧力よりも低い一定圧力に自 動調整する減圧弁４と、遠隔操作によって開閉する自動操作弁５と、二次側の流 量が設定された流量になるように自動調整する自動流量調整器６と、バイパス弁 ７と、これらの各構成部材を接続する配管とによって構成されている。The gas control device 2 includes a pressure reducing valve 4 that automatically adjusts the pressure on the secondary side to a constant pressure lower than the pressure on the primary side, an automatic operation valve 5 that opens and closes by remote operation, and a secondary side. It is composed of an automatic flow rate regulator 6 that automatically adjusts the flow rate to a set flow rate, a bypass valve 7, and pipes that connect these components.
【００１５】 上記減圧弁４の弁入口（１次側）には上記ガスボンベ１のボンベ元弁１ａ（図 ２参照）が接続されていると共に、その弁出口（２次側）には上記自動操作弁５ が接続されている。また、この自動操作弁５の弁出口には上記自動流量調整器６ が接続されている。この自動流量調整器６の出口側の配管は、キャビネット３の 背面部に形成された貫通孔３ａから、キャビネット３外部へと延びており、その 先端には本体接続口８が形成されている。A cylinder main valve 1a (see FIG. 2) of the gas cylinder 1 is connected to a valve inlet (primary side) of the pressure reducing valve 4, and the valve outlet (secondary side) thereof is subjected to the automatic operation. Valve 5 is connected. The automatic flow regulator 6 is connected to the valve outlet of the automatic operation valve 5. The pipe on the outlet side of the automatic flow rate regulator 6 extends to the outside of the cabinet 3 from a through hole 3a formed in the back surface of the cabinet 3, and a main body connection port 8 is formed at the tip thereof.
【００１６】 また、上記自動操作弁５および自動流量調整器６をコントロールパネルに接続 するための制御用信号線９が、キャビネット３の底面部に形成された貫通孔３ｂ から、キャビネット３外部へと延びている。A control signal line 9 for connecting the automatic operation valve 5 and the automatic flow rate adjuster 6 to a control panel extends from a through hole 3b formed in the bottom surface of the cabinet 3 to the outside of the cabinet 3. It is extended.
【００１７】 また、上記ガス制御装置２は、減圧弁４、自動操作弁５および自動流量調整器 ６の何れかで閉塞状態となる故障が生じた際に、配管内の残留ガスを抜き取るた めのバイパスラインを有している。このバイパスラインは、上記ガスボンベ１と 減圧弁４とを接続する配管と、自動流量調整器６と本体接続口８とを接続する配 管とを接続するラインであり、このバイパスラインには上記バイパス弁７が設け られている。Further, the gas control device 2 extracts residual gas from the pipe when any one of the pressure reducing valve 4, the automatic operation valve 5 and the automatic flow rate regulator 6 is in a closed state and fails. It has a bypass line. This bypass line is a line that connects the pipe that connects the gas cylinder 1 and the pressure reducing valve 4 and the pipe that connects the automatic flow rate regulator 6 and the main body connection port 8 to each other. A valve 7 is provided.
【００１８】 上記キャビネット３の底面部には複数の滑車１０…が設けられていると共に、 その正面部には把手１１が設けられており、本ガス供給装置の移動を比較的容易 に行うことができるようになっている。A plurality of pulleys 10 ... Are provided on the bottom surface of the cabinet 3 and a handle 11 is provided on the front surface thereof, so that the gas supply device can be moved relatively easily. You can do it.
【００１９】 また、上記キャビネット３の正面部には、ガスボンベ１に充填されているガス の名称を示すガス名称表示部１２が形成されている。そして、上記キャビネット ３の上面部には、上記ガス名称表示部１２に示されているガスの名称と対応した 位置に、インターロック遮光板１３が設けられている。このインターロック遮光 板１３は、本ガス供給装置をイオン源２１に装着したときに、イオン源２１側に 設けられている発光素子および受光素子からなる光学式センサ（図示せず）の発 光素子から発された光を遮断するものであり、イオン注入装置の制御部は、上記 光学式センサの検出出力によって、装着されたガス供給装置の供給ガスの種類を 検知可能となっている。In addition, a gas name display section 12 that shows the name of the gas filled in the gas cylinder 1 is formed on the front surface of the cabinet 3. An interlock light-shielding plate 13 is provided on the upper surface of the cabinet 3 at a position corresponding to the gas name shown in the gas name display section 12. The interlock light shielding plate 13 is a light emitting element of an optical sensor (not shown) including a light emitting element and a light receiving element provided on the ion source 21 side when the gas supply device is attached to the ion source 21. The control unit of the ion implantation apparatus can detect the type of gas supplied by the attached gas supply apparatus by the detection output of the optical sensor.
【００２０】 また、上記キャビネット３の上面部には、図示しない排気装置の排気ダクトが 接続される排気孔３ｃが形成されている。ガス供給装置２０がイオン源２１に装 着された状態では、上記排気装置によってキャビネット３の内部が負圧に保持さ れ、キャビネット３内でガス漏洩事故が発生した際にも、構造物と漏洩ガスとの 接触が最小限に抑えられるようになっている。Further, an exhaust hole 3c to which an exhaust duct of an exhaust device (not shown) is connected is formed on the upper surface of the cabinet 3. When the gas supply device 20 is attached to the ion source 21, the inside of the cabinet 3 is maintained at a negative pressure by the exhaust device, and even when a gas leakage accident occurs in the cabinet 3, the structure leaks from the structure. Contact with gas is minimized.
【００２１】 上記の構成において、ガス供給装置２０のイオン源２１への着脱は、以下のよ うにして行われる。In the above configuration, the gas supply device 20 is attached to and detached from the ion source 21 as follows.
【００２２】 使用ガス種が選定されると、作業者は、そのガス種に応じたガス供給装置２０ をイオン源２１の所定の装着位置へと移動させて該装着位置に固定する。次に、 作業者は、制御用信号線９側のコネクタを、イオン注入装置側のコネクタに接続 すると共に、本体接続口８をイオン源２１のガス導入管（図示せず）に接続する 。以上により、ガス供給装置２０のイオン源２１への装着は完了する。When the type of gas to be used is selected, the operator moves the gas supply device 20 according to the type of gas to a predetermined mounting position of the ion source 21 and fixes it at the mounting position. Next, the operator connects the connector on the control signal line 9 side to the connector on the ion implantation device side, and also connects the main body connection port 8 to the gas introduction pipe (not shown) of the ion source 21. As described above, the mounting of the gas supply device 20 on the ion source 21 is completed.
【００２３】 尚、作業者は、ガス供給装置２０のガス名称表示部１２に記されているガスの 名称を示す文字（図柄）によって、ガスの種類を確認して、装着作業を行うこと になるが、このとき、万一、作業者がガス供給装置２０を取り間違えて装着した 場合にも、イオン源２１側に設けられている光学式センサによって、それが検出 され、インターロックがかかると共に、ガス供給装置２０の装着ミスを作業者に 知らせる警報動作が行われる。It should be noted that the worker confirms the type of gas by the letters (designs) indicating the name of the gas written in the gas name display section 12 of the gas supply device 20, and carries out the mounting work. However, at this time, even if the worker mistakenly wears the gas supply device 20, the optical sensor provided on the ion source 21 side detects it, and the interlock is applied. An alarm operation is performed to notify the operator of a mounting error of the gas supply device 20.
【００２４】 そして、ガス供給装置２０のイオン源２１への装着完了後は、コントロールパ ネルの操作によって自動操作弁５および自動流量調整器６を制御し、イオン源２ １へのガス供給量を調整する。After the gas supply device 20 is completely attached to the ion source 21, the control panel is operated to control the automatic operation valve 5 and the automatic flow rate regulator 6 to control the amount of gas supplied to the ion source 21. adjust.
【００２５】 上記イオン注入装置におけるイオン注入処理が終了した後、イオン源２１へ供 給するガスの切り替えを行う場合は、イオン源２１に現在装着されているガス供 給装置２０を取り外して、別のガス供給装置２０を装着する交換作業を行うこと になる。When the gas to be supplied to the ion source 21 is switched after the ion implantation process in the ion implantation apparatus is completed, the gas supply apparatus 20 currently attached to the ion source 21 is detached and another gas is supplied. The replacement work for mounting the gas supply device 20 will be performed.
【００２６】 通常、イオン注入装置では、イオン注入処理が終了した時点で、イオン源２１ のプラズマチャンバ内、プラズマチャンバに接続さているガス導入管内、および ガス導入管に接続されているガス供給装置２０の配管内が、真空排気されるよう になっている。このため、イオン注入処理の終了後、直ぐに、ガス供給装置２０ をイオン源２１から取り外すことが可能である。Normally, in the ion implantation apparatus, when the ion implantation process is completed, the inside of the plasma chamber of the ion source 21, the gas introduction pipe connected to the plasma chamber, and the gas supply unit 20 connected to the gas introduction pipe 20. The inside of the pipe is evacuated. Therefore, the gas supply device 20 1 can be removed from the ion source 21 immediately after the ion implantation process is completed.
【００２７】 ガス供給装置２０のイオン源２１からの取り外しは、装着時とは逆に、本体接 続口８とイオン源２１のガス導入管との接続を解除すると共に、制御用信号線９ 側のコネクタとイオン注入装置側のコネクタとの接続を解除した後、装着位置に 固定されているガス供給装置２０の固定を解除して装着位置から引き出すことに よってなされる。To remove the gas supply device 20 from the ion source 21, the connection between the main body connection port 8 and the gas introduction pipe of the ion source 21 is released and the control signal line 9 side This is done by releasing the connection between the connector and the connector on the side of the ion implantation device, then releasing the fixation of the gas supply device 20 fixed at the mounting position and pulling it out from the mounting position.
【００２８】 この後、別のガス供給装置２０を、上述の手順でガス供給装置２０に装着すれ ば、イオン源２１へ供給するガスの切り替えが完了する。After that, if another gas supply device 20 is attached to the gas supply device 20 in the above-described procedure, the switching of the gas supplied to the ion source 21 is completed.
【００２９】 以上のように、本実施例のガス供給装置２０は、本体装置としてのイオン源２ １に対して着脱可能に設けられたキャビネット３の内部に、高圧ガス供給源とし ての１本のガスボンベ１と、ガスボンベ１から供給される高圧ガスの圧力を減圧 し、イオン源２１へのガスの供給量を制御するガス制御装置２とが収納されてな る構成である。As described above, the gas supply device 20 according to the present embodiment is provided inside the cabinet 3 that is detachably attached to the ion source 21 as the main body device, and one gas supply source as the high pressure gas supply source. The gas cylinder 1 and the gas control device 2 for reducing the pressure of the high-pressure gas supplied from the gas cylinder 1 and controlling the amount of gas supplied to the ion source 21 are housed.
【００３０】 このように、本ガス供給装置２０では、イオン源２１へのガス供給が１系統で 行われるため、複数ガスの混合による事故は発生することがなく、安全性が高い 。As described above, in the present gas supply device 20, since gas supply to the ion source 21 is performed by one system, accidents due to mixing of a plurality of gases do not occur, and safety is high.
【００３１】 また、イオン源２１へ供給するガスの切り替えは、ガスボンベ１の交換ではな く、ガス供給装置２０全体の交換というかたちで行われ、その交換作業は、減圧 弁４を通った二次側（低圧側）において行うことができる。ガスボンベ１の交換 の場合は、一次側（高圧側）でのガスボンベ１の着脱作業となるため、危険性も 高く、有識者（有資格者）でないとその交換作業が行えないが、本ガス供給装置 ２０の交換の場合は、２次側（低圧側）での作業となるため、危険性が低く、だ れでも（無資格者でも）簡単に行うことができる。Further, the gas supplied to the ion source 21 is switched not by replacing the gas cylinder 1 but by replacing the entire gas supply device 20, and the replacement work is performed by the secondary passage through the pressure reducing valve 4. Side (low pressure side). When replacing the gas cylinder 1, the gas cylinder 1 is attached and detached on the primary side (high pressure side), so there is a high risk that only an expert (qualified person) can perform the replacement work. When replacing 20, the work is done on the secondary side (low pressure side), so there is little danger and anyone (even an unqualified person) can do it easily.
【００３２】 また、本実施例では、上記キャビネット３に滑車１０…や把手１１が設けられ ており、ガス供給装置２０の交換は、比較的軽微な作業で行える。多種類のガス を搭載した供給装置２０を準備しておけば、比較的軽微な作業で、多種類のガス をイオン源２１に供給することができる。Further, in this embodiment, the pulley 3 is provided in the cabinet 3 and the handle 11 is provided, and the replacement of the gas supply device 20 can be performed by a comparatively light work. If the supply device 20 equipped with various kinds of gases is prepared, it is possible to supply many kinds of gases to the ion source 21 with a relatively small work.
【００３３】 また、本実施例では、キャビネット３に、ガス名称表示部１２と共に、インタ ーロック遮光板１３が設けられており、選定されたガスを搭載したガス供給装置 ２０がイオン源２１に装着されなかったとき、光学式センサによってそれが検出 されるので、作業者の装着ミスを防止できる。Further, in this embodiment, the cabinet 3 is provided with the gas name display portion 12 and the interlock light-shielding plate 13, and the gas supply device 20 carrying the selected gas is attached to the ion source 21. If not, it is detected by the optical sensor, which prevents the operator from making a mistake in mounting.
【００３４】 尚、本実施例では、ガス供給装置２０に搭載されているガスの種類を認識する 手段として、ガス供給装置２０側にインターロック遮光板１３を設けると共に、 イオン源２１側に光学式センサを設けたが、これに限定されるものではなく、例 えば、ガス供給装置２０にバーコードを設け、イオン源２１にバーコードを読み 取る装置を設けてもよい。In this embodiment, as a means for recognizing the type of gas mounted on the gas supply device 20, an interlock light-shielding plate 13 is provided on the gas supply device 20 side and an optical type is provided on the ion source 21 side. Although the sensor is provided, the present invention is not limited to this. For example, the gas supply device 20 may be provided with a bar code, and the ion source 21 may be provided with a device for reading the bar code.
【００３５】 上記実施例は、あくまでも、本考案の技術内容を明らかにするものであって、 そのような具体例にのみ限定して狭義に解釈されるべきものではなく、本考案の 精神と実用新案登録請求の範囲内で、いろいろと変更して実施することができる ものである。The above-mentioned embodiments are intended to clarify the technical contents of the present invention, and should not be construed in a narrow sense by limiting to such specific examples. Various modifications can be implemented within the scope of the request for registration of a new model.
【００３６】[0036]
本考案に係るガス供給装置は、以上のように、高圧ガス供給源と、上記高圧ガ ス供給源から供給される高圧ガスの圧力を減圧し、本体装置へのガスの供給量を 制御するガス制御装置とを有するものであり、上記本体装置に対して着脱可能に 設けられた筐体の内部に、上記１つの高圧ガス供給源および上記ガス制御装置が 収納されている構成である。 As described above, the gas supply device according to the present invention reduces the pressure of the high-pressure gas supply source and the high-pressure gas supplied from the high-pressure gas supply source, and controls the gas supply amount to the main body device. A control device is provided, and the one high-pressure gas supply source and the gas control device are housed inside a casing that is detachably attached to the main body device.
【００３７】 それゆえ、万一、ガスの漏洩事故が発生しても、複数ガスの混合による事故は 発生することがなく、安全性が高い。また、本体装置へ供給するガスの切り替え は、ガス供給装置全体の交換というかたちで行われ、その交換作業は、ガス制御 装置によってガス圧が減圧された二次側（低圧側）において行うことができるた め、危険性が低く、だれでも（無資格者でも）簡単に行うことができるという効 果を奏する。Therefore, even if a gas leakage accident occurs, an accident due to mixing of a plurality of gases does not occur, and the safety is high. In addition, switching the gas supplied to the main unit is performed by replacing the entire gas supply unit, and the replacement work can be performed on the secondary side (low pressure side) where the gas pressure has been reduced by the gas control unit. Since it is possible, it has a low risk and can be easily performed by anyone (unqualified person).
【図１】本考案の一実施例を示すものであり、ガス供給
装置の概略の斜視図である。FIG. 1 shows an embodiment of the present invention, and is a schematic perspective view of a gas supply device.
【図２】上記ガス供給装置のガス配管系統図である。FIG. 2 is a gas piping system diagram of the gas supply device.
【図３】上記ガス供給装置が装着されるイオン源を備え
たイオン注入装置の要部を示す概略構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a main part of an ion implantation apparatus including an ion source to which the gas supply device is attached.
【図４】従来のガス供給装置のガス配管系統図である。FIG. 4 is a gas piping system diagram of a conventional gas supply device.
【符号の説明】 １ ガスボンベ（高圧ガス供給源） ２ ガス制御装置 ３ キャビネット（筐体） ４ 減圧弁 ５ 自動操作弁 ６ 自動流量調整器 ７ バイパス弁 ８ 本体接続口 ９ 制御用信号線 １０ 滑車 １１ 把手 １２ ガス名称表示部 １３ インターロック遮光板 ２０ ガス供給装置 ２１ イオン源（本体装置）[Explanation of symbols] 1 gas cylinder (high-pressure gas supply source) 2 gas control device 3 cabinet (housing) 4 pressure reducing valve 5 automatic operation valve 6 automatic flow rate regulator 7 bypass valve 8 main body connection port 9 control signal line 10 pulley 11 Handle 12 Gas name display 13 Interlock light shield 20 Gas supply device 21 Ion source (main unit)
Claims (1)
圧ガス供給源と、上記高圧ガス供給源から供給される高
圧ガスの圧力を減圧し、本体装置へのガスの供給量を制
御するガス制御装置とを有するガス供給装置において、 上記本体装置に対して着脱可能に設けられた筐体の内部
に、上記１つの高圧ガス供給源および上記ガス制御装置
が収納されてなることを特徴とするガス供給装置。1. A gas for supplying gas to a main body device, the pressure of a high pressure gas supply source and the high pressure gas supplied from the high pressure gas supply source is reduced, and the amount of gas supplied to the main body device is controlled. A gas supply device having a gas control device, characterized in that the one high-pressure gas supply source and the gas control device are housed inside a casing detachably provided to the main body device. Gas supply device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1927493U JPH0678699U (en) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | Gas supply device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1927493U JPH0678699U (en) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | Gas supply device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0678699U true JPH0678699U (en) | 1994-11-04 |
Family
ID=11994876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1927493U Pending JPH0678699U (en) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | Gas supply device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0678699U (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005054949A (en) * | 2003-08-07 | 2005-03-03 | Toyota Motor Corp | Tank system including two or more tanks and control method thereof |
| JP2010174916A (en) * | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Panasonic Corp | Gas security system |
| KR20130071366A (en) * | 2011-12-20 | 2013-06-28 | 다이요 닛산 가부시키가이샤 | Apparatus and method for supplying liquefied gas |
-
1993
- 1993-04-15 JP JP1927493U patent/JPH0678699U/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005054949A (en) * | 2003-08-07 | 2005-03-03 | Toyota Motor Corp | Tank system including two or more tanks and control method thereof |
| JP4552399B2 (en) * | 2003-08-07 | 2010-09-29 | トヨタ自動車株式会社 | Tank system comprising multiple tanks and control method thereof |
| JP2010174916A (en) * | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Panasonic Corp | Gas security system |
| KR20130071366A (en) * | 2011-12-20 | 2013-06-28 | 다이요 닛산 가부시키가이샤 | Apparatus and method for supplying liquefied gas |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6189369B1 (en) | Gas leakage detecting apparatus | |
| EP0893293B1 (en) | Gas fuel supply piping system | |
| US4383547A (en) | Purging apparatus | |
| AU2008201525A1 (en) | Mobile functional hospital unit for the temporary distribution of medical fluids | |
| EP1113977B1 (en) | Safety device for liquid aerating apparatus | |
| EP0082950B1 (en) | Liquid supply device for an endoscope | |
| KR200393355Y1 (en) | Alarm and Auto Purification Control System of Glove-box Antechamber | |
| JPH0678699U (en) | Gas supply device | |
| CA2226248C (en) | Containment and delivery apparatus for hazardous fluids | |
| JPH0242491B2 (en) | ||
| KR100594522B1 (en) | Bulk Chemical Delivery System | |
| US6029503A (en) | Leakage inspection device for a plurality of gas vessels | |
| KR0161450B1 (en) | Detecting method of gas leakage | |
| US5899225A (en) | Air tube connection state detecting apparatus | |
| EP0182258A2 (en) | Method and apparatus for shutting down the burner of a flame atomic absorption spectrophotometer | |
| JPH0517083Y2 (en) | ||
| JPH11190499A (en) | Cylinder cabinet | |
| JPH0596748U (en) | Leakage monitoring device for gas supply equipment | |
| CN219308003U (en) | Vacuum extraction device | |
| JP2000342926A (en) | Filter apparatus | |
| CN220152491U (en) | Intelligent gas safety conveying cabinet | |
| CN217466508U (en) | Mechanical strength test bed for pressure controller | |
| KR102175876B1 (en) | Injection apparatus and injection assembly for compressed air of pool door | |
| KR200365531Y1 (en) | Apparatus for suppling compressed gas | |
| KR870000103Y1 (en) | Opening and closing device of gas safety valve |