JPH0678128B2 - Object transfer device - Google Patents

Object transfer device

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JPH0678128B2
JPH0678128B2 JP62288075A JP28807587A JPH0678128B2 JP H0678128 B2 JPH0678128 B2 JP H0678128B2 JP 62288075 A JP62288075 A JP 62288075A JP 28807587 A JP28807587 A JP 28807587A JP H0678128 B2 JPH0678128 B2 JP H0678128B2
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tank
plated
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processed
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鎭浩 山田
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YAMADA METSUKI KOGYOSHO KK
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、複数の処理槽から成る処理ラインに沿って被
処理物を搬送する搬送装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Object of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to a transfer device for transferring an object to be processed along a processing line composed of a plurality of processing tanks.

(従来の技術) 例えばメッキ処理は周知の通り多種の処理工程を繰返し
て実行されるため、処理ラインは各処理工程のための多
数の専用処理槽を一列に並べね構成されている。従っ
て、被メッキ物は搬送装置により各処理槽毎に順次移送
される。この被メッキ物搬送装置の具体例としては、次
に述べるエレベーター方式と称される一括搬送装置があ
る。
(Prior Art) For example, a plating process is performed by repeating various kinds of processing steps, as is well known, so that a processing line is configured by arranging a large number of dedicated processing tanks for each processing step in a line. Therefore, the object to be plated is sequentially transferred to each processing tank by the transfer device. As a specific example of the object-to-be-plated conveying apparatus, there is a batch conveying apparatus called an elevator system described below.

このものは、被メッキ物は処理槽の両側縁部間に掛渡し
たキャリヤーバーに吊下げた状態で処理槽内に浸漬され
ており、処理ラインに沿うようにして処理槽の両側部に
一対の長尺なエレベーターフレームが設けられている。
このエレベーターフレームは昇降可能に設けられ、上昇
するとキャリヤーバーの両端部を持上げることにより、
被メッキ物を処理槽内から引上げるようになっている。
また、このエレベーターフレームのうちキャリヤーバー
を支持する部分は横方向(処理ラインに沿った方向)に
移動可能であって、被メッキ物を次の処理槽の上方に移
動させ、その後、被メッキ物を処理槽内に下降させるよ
うになっている。
In this product, the object to be plated is immersed in the treatment tank in a state of being suspended from a carrier bar that is hung between both side edges of the treatment tank. There is a long elevator frame.
This elevator frame is provided so that it can be raised and lowered, and by raising both ends of the carrier bar when it rises,
The object to be plated is pulled up from the processing tank.
In addition, the portion of the elevator frame that supports the carrier bar is movable in the lateral direction (the direction along the processing line) so that the object to be plated is moved above the next processing tank, and then the object to be plated is moved. Is lowered into the processing tank.

上述のエレベーター方式では、エレベーターフレームが
上昇・横移動・下降の1サイクルだけ動作すると、その
配置領域にある全ての被メッキ物が一括して移送される
ことになるから、移送効率に優れ、特に少品種大量生産
に好適する。ところが、次の欠点も有している。まず、
送りピッチは常にどの位置においても一定であるから、
長い処理時間を必要とする処理槽はその処理時間に比例
して長さ方向に大形なり、その結果、処理ライン全体が
極めて大掛りとなってしまう。また、被メッキ物によっ
ては、一部の処理工程を省略したい場合があるが、上述
の如く一括移送であるから、工程の一部省略は困難であ
る。
In the above elevator system, if the elevator frame operates for only one cycle of ascending, lateral movement, and descending, all the objects to be plated in the arrangement area will be transferred at one time, which is excellent in transfer efficiency. Suitable for mass production of small variety. However, it also has the following drawbacks. First,
Since the feed pitch is always constant at any position,
A processing tank that requires a long processing time becomes large in the length direction in proportion to the processing time, and as a result, the entire processing line becomes extremely large. Depending on the object to be plated, it may be desired to omit some processing steps, but since it is batch transfer as described above, it is difficult to omit some processing steps.

一方、エレベーター方式とは全く異なるキャリヤー方式
と称される単位搬送装置も提供されている。これは、処
理ラインに走行レールを配置し、この走行レールに沿っ
て任意の位置に走行可能な移送機構を設けた構成で、こ
の単位搬送装置は処理槽から被メッキ物を吊上げて次の
処理を行う処理槽上に走行し、そこで被メッキ物を当該
処理槽内に下降させるようになっている。
On the other hand, there is also provided a unit transport device called a carrier system, which is completely different from the elevator system. This is a configuration in which a traveling rail is arranged in the processing line and a transfer mechanism that can travel at any position along the traveling rail is provided.This unit transport device lifts the object to be plated from the processing tank and performs the next processing. The object to be plated is moved down into the processing tank for carrying out the process.

このキャリアー方式によれば、被メッキ物を任意の処理
槽に移送して任意の時間だけ処理槽内に浸漬しておくこ
とができるので、処理ラインの長さを短縮できるという
利点がある。しかし、反面、これは被メッキ物を1単位
ずつしか移動できないため、移送効率に劣るという欠点
がある。
According to this carrier method, the object to be plated can be transferred to an arbitrary processing tank and immersed in the processing tank for an arbitrary time, so that there is an advantage that the length of the processing line can be shortened. However, on the other hand, this has the drawback of being inferior in transfer efficiency because the object to be plated can be moved only one unit at a time.

(発明が解決しようとする問題点) 以上のように、従来のエレベーター方式の一括搬送装置
では、移送効率に優れる反面、各処理工程にある被処理
物を一括して搬送するものであるから、長い処理時間を
必要とする処理槽の長さが長くなると共に、処理工程を
一部省略することができないという欠点があり、またキ
ャリヤー方式の単位搬送装置では、長い処理時間を必要
とする処理部であってもその短縮化を図ることができる
と共に、処理工程の一部省略が可能である反面、移送効
率に劣るという欠点があった。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, in the conventional elevator type batch transfer apparatus, while the transfer efficiency is excellent, the objects to be processed in each processing step are collectively transferred, There is a drawback that the length of the processing tank that requires a long processing time becomes long and that some of the processing steps cannot be omitted. Further, in the carrier type unit transfer device, a processing unit that requires a long processing time is required. However, it is possible to shorten the processing time, and it is possible to omit some of the processing steps, but there is a drawback that the transfer efficiency is poor.

そこで、本発明の目的は、移送効率に優れながら、処理
ラインの短縮化及び処理工程の一部省略も可能である
等、処理工程の組合わせの柔軟性に優れる搬送装置を提
供するにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a transfer device which is excellent in flexibility of combination of processing steps such that the processing line can be shortened and a part of the processing steps can be omitted while having excellent transfer efficiency.

[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本発明の搬送装置は、被処理物を支持すると共に処理槽
内に浸漬されたまま横送りする機構から成る槽内搬送装
置と、所定の領域の複数の処理槽内に前記被処理物を一
括して浸漬したり或いは引き上げたりするために上下動
する機構と前記被処理物を引き上げたときに被処理物を
次の処理槽の位置に一括して送ることのできる往復移送
機構とから成る一括搬送装置とを具備する、複数の処理
槽から成る処理ラインに沿って被処理物を搬送する装置
において、前記両搬送装置は前記槽内搬送処理の搬送領
域の終端部の下に前記一括搬送装置の搬送領域の始端部
が位置し、且つ前記一括搬送装置が上昇したとき前記終
端部の横送り機構に支持されている被処理物を前記始端
部の往復移送機構が接受することのできる構成を有し、
前記一括搬送装置の所定の位置には一括搬送装置が下降
したときに一部の被処理物を浸漬しない位置に保持する
機構を有する上下動可能な支持装置を有するものであ
る。
[Structure of the Invention] (Means for Solving Problems) A transfer device according to the present invention is a transfer device in a tank, which is configured to support an object to be processed and laterally feed while being immersed in a processing tank; The mechanism for moving up and down in order to collectively immerse or pull up the object to be treated in a plurality of treatment tanks in the region of (1) and the position of the next object to be treated when the object to be treated is pulled up. A batch transfer device including a reciprocating transfer mechanism capable of collectively sending to the substrate, a device for transferring an object to be processed along a processing line including a plurality of processing tanks, wherein both the transfer devices are in the tank. When the start end of the transfer region of the batch transfer device is located below the end of the transfer region of the transfer process, and when the batch transfer device is raised, the workpiece supported by the transverse feed mechanism at the end is The reciprocating transfer mechanism at the starting end is connected Has a configuration which can be,
At a predetermined position of the batch transport device, there is provided a vertically movable support device having a mechanism for holding a part of the objects to be processed when the batch transport device is lowered.

(作用) 他の処理工程よりも長い処理時間を必要とする処理工程
については、槽内搬送装置を使用して被処理物を搬送
し、処理時間が同じ処理工程については一括搬送装置を
使用して被処理物を搬送する。そして、両搬送装置間で
被処理物の授受を行う。一括搬送装置の搬送領域に存す
る複数の処理槽中に省略すべき処理槽が存在する場合に
は、支持装置を上昇させておくことにより、被処理物を
省略する処理槽に浸漬しない位置に保持することができ
る。
(Function) For processing steps that require a longer processing time than other processing steps, the in-tank transfer device is used to transfer the object to be processed, and for processing steps that have the same processing time, the batch transfer device is used. To convey the object to be processed. Then, the object to be processed is transferred between the two transfer devices. When there are processing tanks to be omitted among the processing tanks in the transfer area of the batch transfer device, the support device is raised to keep the object to be processed in a position where it will not be immersed in the omitted processing tank. can do.

(実施例) 以下、本発明をメッキ工場における被メッキ物の搬送装
置に適用した一実施例につき図面を参照して説明する。
(Embodiment) An embodiment in which the present invention is applied to a device for transporting an object to be plated in a plating factory will be described below with reference to the drawings.

まず、第1図はメッキの前処理ライン1の一部を示して
おり、ここで2〜10は処理部に相当する処理槽で、第2
図に示すように順に薬液、水洗、水洗、薬液、水洗、水
洗、薬液、水洗、及び水洗の各処理のためのものであ
る。そして、最後の水洗用の処理槽10に続いて、メッキ
処理槽11が設けられ、更に図示はしないがこのメッキ処
理槽11に続いて水洗処理用の各処理槽が設けられてい
る。一方、被処理物に相当する被メッキ物12は、第3図
に示すようにキャリヤーバー13に吊下げられており、こ
のキャリヤーバー13の両端部が全処理槽の両側部に沿っ
て設けたキャリヤーバーインサレーター14の受け溝(図
示せず)に受けられて被メッキ物12が処理槽内に浸漬さ
れるようになっている。
First, FIG. 1 shows a part of the pretreatment line 1 for plating, wherein 2 to 10 are treatment tanks corresponding to the treatment section,
As shown in the figure, the treatment is performed in order of chemical solution, water washing, water washing, chemical solution, water washing, water washing, chemical solution, water washing, and water washing. Then, a plating treatment tank 11 is provided following the last treatment tank 10 for water washing, and although not shown, each treatment tank for water washing treatment is provided subsequent to the plating treatment tank 11. On the other hand, the object to be plated 12, which corresponds to the object to be processed, is suspended on the carrier bar 13 as shown in FIG. 3, and both ends of the carrier bar 13 are provided along both sides of the entire processing tank. The object 12 to be plated is received in a receiving groove (not shown) of the carrier bar insulator 14 and immersed in the processing tank.

さて、15は一対の走行用レールで、これは処理ライン1
に沿ってその上方に高架状に設けられている。16は走行
体であり、これは走行用レール15上を転動する車輪17及
び図示しない自走装置を備え、走行用レール15が架設さ
れた範囲内で予め定められた所望の位置へ走行できるよ
うになっている。18はキャリヤー昇降体で、これは走行
体16にチェーン19を介して吊下げられ、走行体16内に設
けた図示しない昇降装置を作動させることにより第3図
において実線で示す上限位置と二点鎖線で示す下限位置
との間で昇降する。尚、キャリヤー昇降体18は、走行体
16の両側部に昇降用ガイドレールを設けてこれに上下動
を案内させるようにしても良い。このキャリヤー昇降体
18の両側部には、例えば3対のフックアーム20が突設さ
れ、その下端内側に第5図に示すようなキャリヤーフッ
ク21が設けられている。上述した走行体16、キャリヤー
昇降体18及びその関連機構は昇降機能付搬送装置として
の単位搬送装置22を構成するものであり、キャリヤー昇
降体18を下限位置に下降させた状態で走行体16を予め定
められた処理槽の位置まで走行させ、続いて上限位置に
上昇させることによりキャリヤーバー13の両端部をキャ
リヤーフック21に引掛けて1単位(例えば3個)の被メ
ッキ物12を処理槽から吊り上げることができる。更に、
その状態で走行体16を次の処理工程を行う処理槽の上方
まで走行させ、そこでキャリヤー昇降体18を下限位置に
下降させると、キャリヤーバー13の両端部が第3図に二
点鎖線で示すようにキャリヤーバーインサレータ14に受
けられて被メッキ物12が当該処理槽内に位置することに
なる。このような単位搬送装置22の移動可能領域即ち処
理ライン1における走行用レール15の敷設領域は、処理
ライン1の全域となっているが、本実施例のメッキ処理
の場合には、実際に移動する範囲は薬液処理槽2の手前
のロード位置から薬液処理槽2、水洗処理槽3及び4を
経て次の薬液処理槽5の図示左側部分までの間に設定さ
れている。
By the way, 15 is a pair of traveling rails, which is a processing line 1
It is provided in an elevated shape along the above. Reference numeral 16 denotes a traveling body, which is provided with wheels 17 rolling on the traveling rail 15 and a self-propelled device (not shown), and can travel to a predetermined desired position within a range where the traveling rail 15 is installed. It is like this. Reference numeral 18 denotes a carrier lifting body, which is hung from the running body 16 via a chain 19 and is operated by a lifting device (not shown) provided in the running body 16 so that the upper limit position shown by a solid line in FIG. Move up and down to the lower limit position indicated by the chain line. The carrier lifting body 18 is a traveling body.
Elevating guide rails may be provided on both sides of 16 to guide the vertical movement. This carrier lift
For example, three pairs of hook arms 20 are projectingly provided on both sides of 18, and a carrier hook 21 as shown in FIG. The traveling body 16, the carrier lifting / lowering body 18, and the related mechanism thereof constitute a unit conveying device 22 as a conveying device with a lifting function, and the traveling body 16 is lowered in a state where the carrier lifting / lowering body 18 is lowered to the lower limit position. By traveling to a predetermined position of the processing tank and then raising it to the upper limit position, both ends of the carrier bar 13 are hooked on the carrier hooks 21 and 1 unit (for example, 3) of the object to be plated 12 is processed in the processing tank. Can be lifted from. Furthermore,
In this state, the traveling body 16 is moved to a position above the processing tank for the next processing step, and when the carrier lifting / lowering body 18 is lowered to the lower limit position, both ends of the carrier bar 13 are shown by a chain double-dashed line in FIG. Thus, the object 12 to be plated is received by the carrier bar insulator 14 and is positioned in the processing tank. The movable area of the unit transfer device 22, that is, the laying area of the traveling rail 15 in the processing line 1 is the entire area of the processing line 1. However, in the case of the plating processing of the present embodiment, it is actually moved. The range to be set is set from the load position before the chemical solution treatment tank 2 to the left side portion in the figure of the next chemical solution treatment tank 5 via the chemical solution treatment tank 2, the washing treatment tanks 3 and 4.

次に、第1図及び第4図における23はエレベーターフレ
ームで、これは薬液処理槽5の図示右端部分から最終の
水洗処理槽10までの全体にわたるように、その両側部に
キャリヤーバーインサレーター14の外側に位置して設け
られ、処理ライン1の上方に設けたエレベーター昇降装
置24により第1図及び第4図に実線で示す下限位置と二
点鎖線で示す上限位置との間で昇降されるようになって
いる。25はエレベーターフレーム23上に移動可能に設け
られたエレベーターフレーム23と略同等長さのスライド
バーで、これの下面には第6図に示すようにラック25a
が形成され、このラック25aに噛合するピニオン26がエ
レベーターフレーム23に設けられている。そして、この
ピニオン26は図示しない駆動装置により回転駆動され、
当該ピニオン26の回転によってスライドバー25をエレベ
ーターフレーム23に沿って往復移動させることができる
ようになっている。このスライドバー25の上面には、バ
ー受け27が例えば3個1組にして複数組設けられてい
る。これら各組のバー受け27は、薬液処理槽5,水洗処理
槽6,7、薬液処理槽8、水洗処理槽9,10に対応位置して
いる。以上述べたエレベーターフレーム23、エレベータ
ー昇降装置24は被メッキ物12を一括して浸漬したり引き
上げたりするために上下動する機構を構成し、スライド
バー25、ラック25a、ピニオン26及びこれらの関連機構
は被メッキ物12を次の処理槽に一括して送る往復移送機
構を構成しており、これら上下動機構と往復移送機構と
で一括搬送機構28が構成されている。そして、エレベー
ターフレーム23を下限位置から上昇させるとスライドバ
ー25の配置領域内,即ち薬液処理槽5の右端側及び各処
理槽6〜10内にある全てのキャリヤーバー13の両端部が
スライドバー25のバー受け27に引掛け支持されてそれら
のキャリヤーバー13ひいては被メッキ物12が一括して上
昇し、そしてその被メッキ物12はスライドバー25の移動
により次の処理工程側に送られるようになっている。
Next, in FIG. 1 and FIG. 4, 23 is an elevator frame, which has carrier bar insulators 14 on both sides thereof so as to extend from the right end portion of the chemical treatment tank 5 to the final washing treatment tank 10. The elevator lifting device 24 provided outside the processing line 1 and positioned above the processing line 1 moves between the lower limit position shown by the solid line and the upper limit position shown by the chain double-dashed line in FIGS. It is like this. Reference numeral 25 is a slide bar that is movably provided on the elevator frame 23 and has a length substantially equal to that of the elevator frame 23. The lower surface of the slide bar is a rack 25a as shown in FIG.
The elevator frame 23 is provided with a pinion 26 that meshes with the rack 25a. Then, this pinion 26 is rotationally driven by a drive device (not shown),
The rotation of the pinion 26 allows the slide bar 25 to reciprocate along the elevator frame 23. On the upper surface of the slide bar 25, a plurality of bar receivers 27 are provided, for example, one set of three bars. The bar receivers 27 of each of these sets are located corresponding to the chemical solution treatment tank 5, the water washing treatment tanks 6, 7, the chemical solution treatment tank 8, and the water washing treatment tanks 9, 10. The elevator frame 23 and the elevator lifting device 24 described above constitute a mechanism that moves up and down in order to immerse or pull up the objects to be plated 12 collectively, and the slide bar 25, the rack 25a, the pinion 26, and their related mechanisms. Composes a reciprocating transfer mechanism that collectively sends the objects to be plated 12 to the next processing tank, and the up-and-down moving mechanism and the reciprocating transfer mechanism compose a collective conveying mechanism 28. Then, when the elevator frame 23 is lifted from the lower limit position, both ends of all the carrier bars 13 in the arrangement area of the slide bar 25, that is, the right end side of the chemical treatment tank 5 and the respective treatment tanks 6 to 10 are slid bar 25. The carrier bars 13 and thus the objects to be plated 12 are collectively lifted by being supported by the bar receivers 27 of the above, and the objects to be plated 12 are sent to the next processing step side by the movement of the slide bar 25. Has become.

ところで、各処理槽での処理時間は、第2図に示すよう
に、例えば1番目の薬液処理槽2で15秒、次の水洗処理
槽3及び4では夫々5秒、薬液処理槽5では3分、それ
以降の各処理槽6〜10では夫々1分に定められている。
また、被メッキ物12の種類によっては、3回目の薬液処
理(薬液処理槽8)は省略されるようになっている。そ
して、処理時間が他の処理槽よりも長い薬液処理槽5に
おいては、被メッキ物12を当該薬液処理槽5に浸漬させ
たまま搬送するための槽内搬送装置29が設けられ、また
一括搬送装置28の所定の位置、すなわち処理を省略され
る場合のある薬液処理槽8に対応する位置には、被メッ
キ物12を当該薬液処理槽8に浸漬させることなくその上
方に保持する機構として支持装置30が設けられている。
By the way, as shown in FIG. 2, the treatment time in each treatment tank is, for example, 15 seconds in the first chemical liquid treatment tank 2, 5 seconds in each of the next water washing treatment tanks 3 and 4, and 3 seconds in the chemical liquid treatment tank 5. Minutes, and each of the processing tanks 6 to 10 thereafter is set to 1 minute.
Further, depending on the type of the object to be plated 12, the third chemical treatment (chemical treatment tank 8) is omitted. Further, in the chemical liquid processing tank 5 having a longer processing time than other processing tanks, an in-tank transfer device 29 for transferring the object 12 to be plated while being immersed in the chemical liquid processing tank 5 is provided, and batch transfer is also performed. At a predetermined position of the apparatus 28, that is, at a position corresponding to the chemical treatment tank 8 where treatment may be omitted, it is supported as a mechanism for holding the plated object 12 above the chemical treatment tank 8 without immersing it. A device 30 is provided.

さて、上記槽内搬送装置29は、第7図にも示すように、
駆動及び従動の両スプロケット31及び32間に掛渡された
一対のチェーン33を薬液処理槽5の両側に当該薬液処理
槽5の上面と略面一となるように配設し、そしてそのチ
ェーン33に一定の間隔で複数個のバー受け34を取付けて
成るもので、駆動スプロケット31は図示しないモータに
より回転させるようになっている。これらチェーン33、
バー受け34、モータにより回転される駆動スプロケット
31は被メッキ物12を処理槽15内に浸漬したまま横送りす
る機構を構成している。そして、槽内搬送装置29の終端
部(右端部)の下に一括搬送装置28の始端部が位置し、
一括搬送装置28が上昇するとき、槽内搬送装置29の終端
部に存するバー受け34に支持されている被メッキ物12が
一括搬送装置28のスライドバー25の始端側のバー受け27
に接受されるようになっている。
Now, as shown in FIG. 7, the in-tank transfer device 29 is
A pair of chains 33 suspended between the driven and driven sprockets 31 and 32 are arranged on both sides of the chemical treatment tank 5 so as to be substantially flush with the upper surface of the chemical treatment tank 5, and the chain 33 A plurality of bar receivers 34 are mounted at regular intervals, and the drive sprocket 31 is rotated by a motor (not shown). These chains 33,
Bar receiver 34, drive sprocket rotated by a motor
Reference numeral 31 constitutes a mechanism for laterally feeding the object to be plated 12 while being immersed in the processing tank 15. Then, the start end of the batch transfer device 28 is located below the end (right end) of the in-tank transfer device 29,
When the batch transfer device 28 rises, the object to be plated 12 supported by the bar receiver 34 existing at the terminal end of the in-tank transfer device 29 has the bar receiver 27 on the start end side of the slide bar 25 of the batch transfer device 28.
Are being accepted by.

一方、前記支持装置30は、第4図に示すように、薬液処
理槽8の両側部に設けられ、空圧シリンダ35のロッド35
aにより上下動される一対の支持板36から成り、その支
持板36にはバー受け37が取付けられている。そして、こ
の支持板36は、被メッキ物12を薬液処理槽8に浸漬させ
る場合には、空圧シリンダ35により当該薬液処理槽8の
上面より低い位置に下げられ、薬液処理槽8での処理を
省略する場合には、空圧シリンダ35により一括搬送装置
28のエレベーターフレーム23の上限位置よりもやや低い
位置に上昇されるようになっている。
On the other hand, as shown in FIG. 4, the supporting devices 30 are provided on both sides of the chemical liquid processing tank 8 and are provided on the rod 35 of the pneumatic cylinder 35.
It is composed of a pair of support plates 36 that are moved up and down by a, and a bar receiver 37 is attached to the support plates 36. When the object 12 to be plated is immersed in the chemical treatment tank 8, the support plate 36 is lowered to a position lower than the upper surface of the chemical treatment tank 8 by the pneumatic cylinder 35, and the treatment in the chemical treatment tank 8 is performed. If omitted, the pneumatic cylinder 35 can be used as a batch transfer device.
It is designed to be lifted to a position slightly lower than the upper limit position of the 28 elevator frames 23.

次に上記構成の作用を説明する。尚、ここでは薬液処理
槽8での処理を省略すために、支持板36が空圧シリンダ
35により押上げられているものとする。
Next, the operation of the above configuration will be described. Here, in order to omit the processing in the chemical liquid processing tank 8, the support plate 36 is a pneumatic cylinder.
It is assumed to have been pushed up by 35.

さて、今、第1図に二点鎖線で示すように、薬液処理槽
2内に1単位(3個)の被メッキ物12(以下、被メッキ
物12群という)が浸漬され、またその次の水洗処理槽3,
4には被メッキ物12はなく、薬液処理槽5には被メッキ
物12群が3群所定の間隔をもって浸漬され、それ以降の
水洗処理槽6,7,9,10には被メッキ物12群が夫々1群ずつ
浸漬され、また薬液処理槽8には被メッキ物12は浸漬さ
れておらず、その上方の支持板36に被メッキ物12が1群
支持されているものとする。さて、各処理槽6,7,9,10に
被メッキ物12が浸漬されてから1分経過すると、一括搬
送装置28のエレベーターフレーム23が下限位置から上昇
される。これにより、薬液処理槽5内にある3群の被メ
ッキ物12群のうち右端側(終端部)の被メッキ物12群、
各水洗処理槽6,7,9,10に浸漬されている被メッキ物12群
のキャリヤーバー13の両端部がバー受け27に引掛けられ
てそれらの被メッキ部12群が一括して上昇する。そし
て、その後、エレベーターフレーム23が支持板36よりも
高い位置まで上昇することにより、該支持板36に支持さ
れている被メッキ物12群もバー受け27により受けられて
上昇する。そして、エレベーターフレーム23が上限位置
まで上昇したところで、ピニオン26が一方向に回転駆動
されてスライドバー25を図示右方に1ピッチ移動させる
ため、スライドバー25上の全ての被メッキ物12群が次の
処理工程側に送られ、その後、エレベーターフレーム23
は再び下限位置まで下降する。このエレベーターフレー
ム23の下降に伴い、まず支持板36のバー受け37がそれま
で水洗処理槽7に浸漬されていた被メッキ物12群を受け
支持する。そして、エレベーターフレーム23は、その被
メッキ物12を支持板36に残したまま下限位置まで下降
し、これによりその他の被メッキ物12群のキャリヤーバ
ー13が再びキャリヤーバーインサレーター14に受けられ
るようになって、被メッキ物12群が処理槽6,7,9,10及び
メッキ処理槽11に浸される。この後、ピニオン26が逆方
向に回転駆動されてスライドバー25が元の位置に戻る。
従って、以上の一括搬送装置28の1動作サイクルによ
り、被メッキ物12群は夫々処理槽に移送されるが、薬液
処理槽8については被メッキ物12群が支持板36に支持さ
れて浸漬されなくなることにより、該薬液処理槽8によ
る処理は省略されることとなる。一方、このようにして
一括搬送装置28が一動作サイクルを完了するまでに、槽
内搬送装置29のチェーン33は図示しないモータにより1
ビッチ分移動されて、中間部の被メッキ物12群を右端側
に、左端側の被メッキ物12群を中間部へと夫々1ピッチ
移送する。また、上記の如く一括搬送装置28が一動作サ
イクルを完了するまでに、単位搬送装置22は、薬液処理
槽2に被メッキ物12群を15秒間浸した後、該被メッキ物
12を薬液処理槽2から引上げ、そして水洗処理槽3に移
送してこれに5秒間浸漬し、その後、水洗処理槽3から
引上げて水洗処理槽4に移送してこれに5秒間浸漬し、
然る後、水洗処理槽4から引上げ、そして槽内搬送装置
29のチェーン33の1ピッチ分の移動により空になった薬
液処理槽5の左端側に被メッキ物12群を浸漬して、その
キャリヤーバー13をチェーン33のバー受け34に受け支持
させる。その後、単位搬送装置22はロード位置に戻って
新たにロードされた被メッキ物12群を薬液処理槽2に浸
漬させる。
Now, as shown by a chain double-dashed line in FIG. 1, one unit (three pieces) of the plated objects 12 (hereinafter referred to as a group of plated objects 12) is immersed in the chemical solution treatment tank 2 and then Water washing tank 3,
There is no object to be plated 4 and the group 12 to be plated is immersed in the chemical solution treatment tank 5 at a predetermined interval of 3 groups, and the objects 12 to be plated are provided in the subsequent washing treatment tanks 6, 7, 9, and 10. It is assumed that the groups are immersed in groups one by one, and the objects to be plated 12 are not immersed in the chemical solution treatment tank 8, but the objects to be plated 12 are supported by the supporting plate 36 above the groups. Now, one minute after the object 12 to be plated is dipped in each of the processing tanks 6, 7, 9 and 10, the elevator frame 23 of the batch transfer device 28 is lifted from the lower limit position. As a result, of the three groups 12 to be plated in the chemical treatment tank 5, the group 12 to be plated on the right end side (terminal part),
Both ends of the carrier bar 13 of the plated object 12 group immersed in each of the washing treatment tanks 6, 7, 9, 10 are hooked on the bar receiver 27, and the plated part 12 group collectively rises. . Then, after that, the elevator frame 23 rises to a position higher than the support plate 36, and the group 12 of objects to be plated supported by the support plate 36 is also received by the bar receiver 27 and rises. Then, when the elevator frame 23 rises to the upper limit position, the pinion 26 is rotationally driven in one direction to move the slide bar 25 one pitch to the right in the figure, so that all the plated objects 12 groups on the slide bar 25 are moved. It is sent to the next processing step side, and then the elevator frame 23
Again descends to the lower limit position. As the elevator frame 23 descends, first, the bar receiver 37 of the support plate 36 receives and supports the group of objects 12 to be plated, which has been immersed in the water washing treatment tank 7 until then. Then, the elevator frame 23 descends to the lower limit position while leaving the object 12 to be plated on the support plate 36, so that the carrier bars 13 of the other group 12 of the objects 12 to be plated are again received by the carrier bar insulator 14. Then, the group of objects to be plated 12 is immersed in the processing tanks 6, 7, 9, 10 and the plating processing tank 11. After that, the pinion 26 is rotationally driven in the opposite direction, and the slide bar 25 returns to the original position.
Therefore, by the above-described one operation cycle of the batch transfer device 28, the group 12 of the objects to be plated is transferred to the processing tanks respectively, but in the chemical solution processing tank 8, the group 12 of the objects to be plated is supported by the support plate 36 and immersed. By the elimination, the treatment by the chemical treatment bath 8 is omitted. On the other hand, in this way, the chain 33 of the in-tank transfer device 29 is operated by the motor (not shown) until the batch transfer device 28 completes one operation cycle.
The group of objects to be plated 12 at the middle portion is moved to the right end side, and the group of objects to be plated 12 at the left end side is moved to the middle portion by one pitch, respectively, by one bit pitch. In addition, as described above, by the time the batch transfer device 28 completes one operation cycle, the unit transfer device 22 immerses the group 12 of the objects to be plated in the chemical treatment tank 2 for 15 seconds, and then the object to be plated
12 is pulled up from the chemical solution treatment tank 2 and transferred to the water washing treatment tank 3 and immersed therein for 5 seconds, then, pulled up from the water washing treatment tank 3 transferred to the water washing treatment tank 4 and immersed therein for 5 seconds,
After that, it is lifted from the water washing treatment tank 4 and then transferred into the tank.
The group 12 of objects to be plated is immersed in the left end side of the chemical treatment tank 5 which has become empty by the movement of 29 chains 33 by one pitch, and the carrier bar 13 thereof is received and supported by the bar receiver 34 of the chain 33. After that, the unit transfer device 22 returns to the loading position and the newly loaded group of plated objects 12 is dipped in the chemical liquid processing tank 2.

以上のことから理解されるように、薬液処理槽5に関し
被メッキ物12群は、一括搬送装置28の一動作サイクル中
に単位搬送装置22によって薬液処理槽5に浸漬され、そ
して槽内搬送装置29により、一括搬送装置28の次の一動
作サイクル中に1ピッチ移送され、更にその次の一括搬
送装置28の一動作サイクル中に1ピッチ移送され、そし
てその後の一括搬送装置28の一動作サイクルの開始に伴
って薬液処理槽5から引上げられるようになる。従っ
て、被メッキ物12群は、一括搬送装置28の第1回目の動
作サイクル中に薬液処理槽5に浸漬され、そして第2回
目の動作サイクル中に中間部に移送され、第3回目の動
作サイクルで右端側に移送され、第4回目の動作サイク
ルの開始に伴って薬液処理槽5から引上げられることと
なり、これにて薬液処理槽5の浸漬時間が3分となるも
のである。
As can be understood from the above, with respect to the chemical liquid treatment tank 5, the group of objects 12 to be plated is immersed in the chemical liquid treatment tank 5 by the unit transport device 22 during one operation cycle of the batch transport device 28, and then the in-tank transport device. By 29, it is transferred by one pitch during one operation cycle of the batch transfer device 28, further by one pitch during one operation cycle of the next batch transfer device 28, and then by one operation cycle of the batch transfer device 28. With the start of the above, the chemical liquid treatment tank 5 is pulled up. Therefore, the group of objects 12 to be plated is immersed in the chemical treatment tank 5 during the first operation cycle of the batch transfer device 28, and transferred to the intermediate portion during the second operation cycle, and the third operation is performed. The liquid is transferred to the right end side in the cycle and is pulled up from the chemical liquid processing tank 5 with the start of the fourth operation cycle, whereby the immersion time of the chemical liquid processing tank 5 becomes 3 minutes.

尚、被メッキ物12の種類によっては、これを薬液処理槽
8に浸漬させる場合があるが、この場合には、支持板36
を薬液処理槽8の上面よりも下げておくものであり、こ
れにより被メッキ物12群は薬液処理槽8にも浸漬される
ようになる。
Incidentally, depending on the type of the object 12 to be plated, it may be immersed in the chemical treatment tank 8. In this case, the support plate 36
Is set lower than the upper surface of the chemical liquid processing bath 8, whereby the group of objects 12 to be plated is also immersed in the chemical liquid processing bath 8.

このように本実施例によれば、被メッキ物12群を単位搬
送装置22から槽内搬送装置29に渡し、そしてこの槽内搬
送装置29から一括搬送装置28に渡すようにしたので、薬
液処理槽5での浸漬時間を他の処理槽のそれよりも長く
することができる。この場合において、槽内搬送装置29
により1ピッチ当りの移送長さを極力短くすることによ
り、薬液処理槽5の長さをそれ程長くせずとも済み、処
理ライン全体の短縮化を図ることができる。
As described above, according to the present embodiment, the group of objects 12 to be plated is transferred from the unit transfer device 22 to the in-vessel transfer device 29, and then from the in-vessel transfer device 29 to the batch transfer device 28. The immersion time in the bath 5 can be set longer than that in other treatment baths. In this case, the in-tank transfer device 29
Thus, by shortening the transfer length per pitch as much as possible, the length of the chemical treatment tank 5 does not have to be so long, and the entire processing line can be shortened.

また、被メッキ物12群を一括搬送装置28から支持装置30
に渡し、そして支持装置30から一括搬送装置28に渡すよ
うにしたので、薬液処理槽8での処理を省略する被メッ
キ物12群については、該薬液処理槽8に浸漬させずに済
ますことができる。
In addition, the group 12 of plated objects is transferred from the batch transfer device 28 to the support device 30.
Since it is passed to the batch transfer device 28 from the supporting device 30 to the batch transfer device 28, it is not necessary to immerse the 12 groups of plated objects for which the processing in the chemical liquid processing tank 8 is omitted, into the chemical liquid processing tank 8. it can.

そして、単位搬送装置22及び槽内搬送装置29以外は全て
の被メッキ物12群が一括搬送装置28により一括に搬送さ
れるので、搬送効率にも優れる。
Then, all the groups 12 of the objects to be plated except the unit transport device 22 and the in-tank transport device 29 are collectively transported by the batch transport device 28, and therefore, the transport efficiency is also excellent.

尚、槽内搬送装置が設けられた処理部について、その内
に液を入れずに空にし、当該槽内搬送装置及び処理部を
被処理物のストック用に利用したり、或は当該槽内搬送
装置の両側に設けられている別の搬送装置間での被処理
物の授受のタイミング合わせに使用したりすることもで
きる。
Regarding the processing section provided with the in-tank transfer device, the liquid is not put into the processing section and the inside of the tank is emptied, and the in-tank transfer apparatus and processing section are used for stocking of the object to be processed, or It can also be used for the timing adjustment of the transfer of an object to be processed between other transfer devices provided on both sides of the transfer device.

[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、槽内搬送装置と一
括搬送装置との間で被処理物の授受を行って、該被処理
物を処理ラインに沿って搬送するようにしたので、処理
時間が他の処理工程よりも長い処理工程を含んでいて
も、その処理時間の長い処理部の長さをそれほど長くせ
ずとも済み処理ラインの短縮化を図ることができると共
に、一括搬送装置の所定の位置に、該一括搬送装置が下
降したときに一部の被処理物を浸漬しない位置に保持す
る上下動可能な支持装置を有しているので処理工程の一
部を省略することも可能で、処理工程の組合わせの柔軟
性に優れ、しかも搬送効率にも優れる等の種々の効果を
得ることができるものである。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, the object to be processed is transferred between the in-tank carrier device and the batch carrier device to carry the object to be treated along the processing line. Therefore, even if the processing time includes a processing step whose processing time is longer than other processing steps, it is possible to shorten the processing line without increasing the length of the processing section having the long processing time. Since a support device that can move up and down is held at a predetermined position of the batch transport device so as not to immerse some of the objects to be processed when the batch transport device descends, a part of the treatment process can be performed. It can be omitted, and various effects such as excellent flexibility in combination of processing steps and excellent transport efficiency can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

図面は本発明の一実施例を示すもので、第1図は処理ラ
インの側面図、第2図は処理ラインの工程図、第3図は
第1図のIII−III線に沿う縦断正面図、第4図は第1図
のIV−IV線に沿う縦断正面図、第5図はフックアームの
拡大斜視図、第6図は一括搬送装置の部分拡大側面図、
第7図は槽内搬送装置の拡大斜視図である。 図中、1は処理ライン、2〜11は処理槽、12は被メッキ
物(被処理物)、15は走行用レール、16は走行体、18は
キャリヤー昇降体、22は単位搬送装置、23はエレベータ
ーフレーム、24はエレベーター昇降装置、28は一括搬送
装置、29は槽内搬送装置、30は支持装置、33はチェー
ン、35は空圧シリンダ、36は支持板である。
The drawings show one embodiment of the present invention. Fig. 1 is a side view of a processing line, Fig. 2 is a process drawing of the processing line, and Fig. 3 is a vertical sectional front view taken along the line III-III of Fig. 1. FIG. 4 is a vertical sectional front view taken along the line IV-IV of FIG. 1, FIG. 5 is an enlarged perspective view of a hook arm, and FIG. 6 is a partially enlarged side view of a batch transfer device.
FIG. 7 is an enlarged perspective view of the in-tank carrier device. In the figure, 1 is a processing line, 2 to 11 are processing tanks, 12 is an object to be plated (object to be processed), 15 is a traveling rail, 16 is a traveling body, 18 is a carrier lifting body, 22 is a unit transfer device, and 23 Is an elevator frame, 24 is an elevator lifting device, 28 is a batch transfer device, 29 is a tank transfer device, 30 is a support device, 33 is a chain, 35 is a pneumatic cylinder, and 36 is a support plate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】被処理物を支持すると共に処理槽内に浸漬
されたまま横送りする機構から成る槽内搬送装置と、所
定の領域の複数の処理槽内に前記被処理物を一括して浸
漬したり或いは引き上げたりするために上下動する機構
と前記被処理物を引き上げたときに被処理物を次の処理
槽の位置に一括して送ることのできる往復移送機構とか
ら成る一括搬送機構とを具備する、複数の処理槽から成
る処理ラインに沿って被処理物を搬送する装置におい
て、前記両搬送装置は前記槽内搬送装置の搬送領域の終
端部の下に前記一括搬送装置の搬送領域の始端部が位置
し、且つ前記一括搬送装置が上昇したとき前記終端部の
横送り機構に支持されている被処理物を前記始端部の往
復移送機構が接受することのできる構成を有し、前記一
括搬送装置の所定の位置には一括搬送装置が下降したと
きに一部の被処理物を浸漬しない位置に保持する機構を
有する上下動可能な支持装置を有する前記搬送装置。
1. An in-tank transporting device comprising a mechanism for supporting an object to be processed and laterally feeding it while being immersed in the processing tank, and collectively treating the object to be processed in a plurality of processing tanks in a predetermined region. A batch transfer mechanism including a mechanism that moves up and down for immersion or pulling up, and a reciprocating transfer mechanism that can collectively send the processing object to the position of the next processing tank when the processing object is pulled up. An apparatus for transporting an object to be processed along a processing line consisting of a plurality of processing tanks, wherein both of the transportation apparatuses are under the end of the transportation area of the in-tank transportation apparatus A structure is provided in which the reciprocating transfer mechanism at the starting end portion can receive the object to be processed which is located at the starting end portion of the region and is supported by the transverse feed mechanism at the terminal end portion when the batch conveying device is raised. , The specified batch transfer device The conveying device having a vertically movable support device having a mechanism for holding a position not immersed part of the object when the bundle conveyance device was lowered to location.
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