JPH0674921A - Cut surface inspecting system - Google Patents

Cut surface inspecting system

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Publication number
JPH0674921A
JPH0674921A JP3005227A JP522791A JPH0674921A JP H0674921 A JPH0674921 A JP H0674921A JP 3005227 A JP3005227 A JP 3005227A JP 522791 A JP522791 A JP 522791A JP H0674921 A JPH0674921 A JP H0674921A
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JP
Japan
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sample
cut surface
inspection
surface inspection
angle
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JP3005227A
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Japanese (ja)
Inventor
Kiyoshi Mase
精士 間瀬
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MC SCI KK
MC SCIENCE KK
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MC SCI KK
MC SCIENCE KK
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Publication date
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Publication of JPH0674921A publication Critical patent/JPH0674921A/en
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Abstract

PURPOSE:To dispense with labour to repeat adjustment of beam width with every sample, and improve processing efficiency by arranging exclusive inspecting devices respectively for setting a direction of a sample and for detecting an angle of a cut surface. CONSTITUTION:Exclusive inspecting devices 11 and 12 by means of an X-ray are arranged respectively for setting a direction of a cut surface 17a of a sample 17 and for detecting an angle between the cut surface 17a and a crystal lattice surface. Thereby, labour such as to set and change beam width of an incident X-ray with every sample 17 being inspected can be dispensed with. When the sample 17 whose processing is finished in the first cut surface inspecting device 11 by a carrying means 27 of a sample carrying device 14 is sent to the second cut surface inspecting device 12, a new sample 17 is sent simultaneously to the first cut surface inspecting device 11 from a sample supply device 10 by a carrying means 26. In this way, detecting processing of the angle between the cut surface 17a and the crystal lattice surface and setting processing of the direction of the sample 17 can be carried forward in parallel with each other.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業業上の利用分野】本発明は、試料供給装置によっ
て定位置に搬送されてくる結晶性の試料に対して、該試
料におけるカット面と結晶格子面とのなす角度を調べる
カット面検査を実行するカット面検査システムに関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cut surface inspection for examining an angle between a cut surface and a crystal lattice surface of a crystalline sample conveyed to a fixed position by a sample supply device. The present invention relates to a cut surface inspection system to be executed.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、基準発振器等に用いられる水晶
振動子(水晶ウエハ)は、結晶塊を切断して薄板状に切
り出すことによって得るが、その場合に、切り出した水
晶振動子においては、カット面(切断面)と結晶格子面
とが用途に応じた所定の角度関係になっていることが必
要とされる。
2. Description of the Related Art For example, a crystal oscillator (quartz wafer) used for a reference oscillator or the like is obtained by cutting a crystal ingot and cutting it into a thin plate shape. It is necessary that the plane (cut plane) and the crystal lattice plane have a predetermined angular relationship according to the application.

【0003】従って、一般に、切り出した水晶振動子に
ついては、カット面検査装置を使って、そのカット面と
結晶格子面との間の角度が所定の角度であるか否かを調
べるカット面検査を実施する。このカット面検査は、図
2に示すように、カット面検査装置の試料保持台1に設
置した水晶振動子2の表面(カット面)2aに一定の波
長のX線を入射させ、それによって回折X線3が得られ
る場合に、その時の入射X線4とカット面2aとのなす
角度(入射角)θを求めることによって、試料2のカッ
ト面2aと結晶格子面2bとの間の角度αを求めるもの
である。なお、図2において、符号6は入射X線4を試
料である水晶振動子2に導くために前記試料保持台1に
あけた穴であり、符号7は回折X線4をX線検出器8に
到達させるために試料保持台1にあけた穴であり、符号
9は試料2を定位置に位置決めするための部材である。
Therefore, in general, for a crystal oscillator cut out, a cut surface inspection apparatus is used to check whether or not the angle between the cut surface and the crystal lattice surface is a predetermined angle. carry out. In this cut surface inspection, as shown in FIG. 2, X-rays having a constant wavelength are made incident on the surface (cut surface) 2a of the crystal unit 2 installed on the sample holder 1 of the cut surface inspection apparatus, and diffraction is performed by the X-rays. When the X-ray 3 is obtained, the angle (incident angle) θ formed by the incident X-ray 4 and the cut surface 2a at that time is calculated to obtain the angle α between the cut surface 2a of the sample 2 and the crystal lattice surface 2b. Is to seek. In FIG. 2, reference numeral 6 is a hole formed in the sample holder 1 in order to guide the incident X-ray 4 to the crystal oscillator 2 which is a sample, and reference numeral 7 is a diffraction X-ray 4 for the X-ray detector 8. Is a hole formed in the sample holder 1 in order to reach the position 2 and the reference numeral 9 is a member for positioning the sample 2 at a fixed position.

【0004】ところで、前述したカット面検査を行う場
合には、予め、試料2が試料保持台1上に正しい向きで
設置されているか否かを調べ、正しい向きでないときに
は、正しい向きに置き直さなければならない。ここに、
正しい向きとは、図3に示すように、試料2における結
晶格子面2bの並ぶ方向が入射X線の入射方向イに沿っ
た方向となる場合である。試料2が正しい向きで設置さ
れているか否かは、試料保持台1上に載置された試料2
のカット面2aにX線を照射してみて、所定の方位(図
3においては、前記矢印イの延長方向)に回折X線が出
力されているかどうかで判断する。所定の方位に回折X
線が出ている場合には、正しい向きである。正しい向き
でないと判断された場合は、試料保持台1上の試料2の
向きを変えて、同様の処理(回折X線の検出)を繰り返
す。
By the way, when the above-mentioned cut surface inspection is performed, it is checked in advance whether or not the sample 2 is installed on the sample holder 1 in the correct direction. I have to. here,
The correct orientation is, as shown in FIG. 3, a case where the crystal lattice planes 2b of the sample 2 are aligned along the incident direction a of the incident X-ray. Whether or not the sample 2 is installed in the correct orientation depends on whether the sample 2 placed on the sample holder 1
The cut surface 2a is irradiated with X-rays, and it is determined whether or not the diffracted X-rays are output in a predetermined direction (in FIG. 3, the extension direction of the arrow A). Diffract X in a predetermined direction
If the line is visible, it is the correct orientation. When it is determined that the orientation is not correct, the orientation of the sample 2 on the sample holder 1 is changed and the same process (detection of diffracted X-rays) is repeated.

【0005】ところで、前述した試料2における結晶格
子面2bとカット面2aとのなす角度αを検出するため
の処理と、試料2の保持台1上での向きが正しいか否か
を判断するための処理とでは、前者の方では検出精度を
高めるためにビーム幅の狭いX線を使用し、後者の方で
は処理を効率化するためにビーム幅の広いX線を使用す
るという違いがあるが、その点を除けば、装置環境は共
通する。
By the way, in order to detect the angle α formed between the crystal lattice plane 2b and the cut surface 2a in the sample 2 and to judge whether the sample 2 is correctly oriented on the holding table 1. There is a difference between the former method and the latter method that the narrow beam width X-rays are used to improve the detection accuracy and the latter method uses the wider beam width X-rays to improve the processing efficiency. Apart from that, the device environment is common.

【0006】そこで、従来では、カット面検査装置に入
射X線4のビーム幅を調整する機構を装備しておいて、
まず、ビーム幅を広げた状態にして試料2の向きの設定
処理を行い、次いで、ビーム幅を絞って試料2における
角度αの検出処理を行うこととしてきた。
Therefore, conventionally, the cut surface inspection apparatus is equipped with a mechanism for adjusting the beam width of the incident X-ray 4.
First, the setting process of the orientation of the sample 2 is performed with the beam width widened, and then the angle α of the sample 2 is detected by narrowing the beam width.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところが、試料2の向
きの設定と試料2における角度αの検出とを同一の装置
上で行う場合では、試料の一つ一つについて、X線ビー
ム幅の拡大操作と縮小操作とを繰り返さなければなら
ず、X線ビーム幅の調整のために、処理効率が大幅に低
下するという問題があった。
However, when the orientation of the sample 2 and the detection of the angle α in the sample 2 are performed on the same device, the X-ray beam width of each sample is expanded. Since the operation and the reduction operation have to be repeated, there is a problem that the processing efficiency is significantly reduced due to the adjustment of the X-ray beam width.

【0008】また、面倒なビーム幅の調整を頻繁に繰り
返すために、ビーム幅を誤操作して検査を進めるといっ
た不都合が発生する虞れもあった。
Further, since the troublesome adjustment of the beam width is frequently repeated, there is a possibility that the beam width may be erroneously manipulated to proceed with the inspection.

【0009】本発明は、前記事情に鑑みてなされたもの
で、検査する結晶性の試料の一つ一つについてビーム幅
の調整を繰り返すといった不都合をなくし、処理効率を
大幅に改善することのできるカット面検査システムを提
供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and can eliminate the inconvenience of repeating the adjustment of the beam width for each crystalline sample to be inspected and greatly improve the processing efficiency. The purpose is to provide a cut surface inspection system.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載のカット
面検査システムは、試料供給装置によって定位置に搬送
されてくる結晶性の試料に対して、該試料におけるカッ
ト面と結晶格子面とのなす角度を調べるカット面検査を
実行するもので、前記試料を載置する方向検査基台を有
し、該方向検査基台上に載置された試料のカット面に比
較的に幅の広いX線ビームを照射する一方で、試料から
の回折X線を監視することにより、前記方向検査基台上
の試料の向きの正否を判断する第1のカット面検査装置
と、前記試料を載置する角度検査基台を有し、該角度検
査基台上に載置された試料のカット面に比較的に幅の狭
いX線ビームを照射する一方で試料からの回折X線を検
出し、回折X線検出時における前記カット面へのX線の
入射角度を求めることにより、前記試料のカット面と結
晶格子面とのなす角度を求める第2のカット面検査装置
と、前記第2のカット面検査装置での検査を済ませた試
料を収容するための試料収容装置と、前記試料供給装置
によって試料が運び込まれる定位置から前記第1のカッ
ト面検査装置の方向検査基台上に試料を運ぶ第1の搬送
手段と、前記方向検査基台から前記第2のカット面検査
装置の角度検査基台上に試料を運ぶ第2の搬送手段と、
前記角度検査基台から前記試料収容装置に試料を運ぶ第
3の搬送手段とを具備した試料搬送装置とを具備し、か
つ、前記試料搬送装置における第1乃至第3の搬送手段
の搬送動作を同期させることによって、前記第1のカッ
ト面検査装置と第2のカット面検査装置とへの試料の搬
入・搬出時期を揃えたことを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a cut surface inspection system for a crystalline sample conveyed to a fixed position by a sample supply device, wherein a cut surface and a crystal lattice surface of the sample are provided. Is to carry out a cut surface inspection for checking the angle formed by, and has a direction inspection base on which the sample is mounted, and the cut surface of the sample mounted on the direction inspection base is relatively wide. While irradiating an X-ray beam, a first cut surface inspection device that determines whether the orientation of the sample on the direction inspection base is correct by monitoring the diffracted X-rays from the sample, and mounting the sample. And an X-ray beam having a relatively narrow width is applied to the cut surface of the sample placed on the angle inspection base while detecting a diffracted X-ray from the sample and diffracting it. Obtain the angle of incidence of X-rays on the cut surface during X-ray detection A second cut surface inspection device for obtaining an angle between the cut surface of the sample and a crystal lattice surface, and a sample storage device for storing the sample that has been inspected by the second cut surface inspection device. A first transport means for carrying the sample from a fixed position where the sample is carried by the sample supply device onto the directional inspection base of the first cut surface inspection device; and the second cut from the directional inspection base. Second transportation means for transporting the sample onto the angle inspection base of the surface inspection device;
A sample transfer device having a third transfer means for transferring a sample from the angle inspection base to the sample storage device, and a transfer operation of the first to third transfer means in the sample transfer device. By synchronizing, the loading and unloading timings of the sample to and from the first cut surface inspection apparatus and the second cut surface inspection apparatus are aligned.

【0011】請求項2に記載のカット面検査システム
は、請求項1に記載のものにさらに構成を付加したもの
で、前記第2のカット面検査装置が試料のカット面と結
晶格子面とのなす角度を求めた場合に、その求めた値を
基準値と比較して、検査した試料を等級付けする品位判
定機能をシステム上に備え、前記試料収容装置は、前記
品位判定機能の判定結果に基づいて、搬入されてくる試
料を分類保管することを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a cut surface inspection system in which a configuration is further added to that of the first aspect. When the angle to be formed is calculated, the calculated value is compared with a reference value, and a quality judgment function for grading the inspected sample is provided on the system, and the sample storage device is a judgment result of the quality judgment function. Based on the above, the feature is that the incoming samples are sorted and stored.

【0012】請求項3に記載のカット面検査システム
は、請求項1または請求項2に記載のものにさらに構成
を付加したもので、前記第1のカット面検査装置で試料
に照射する入射X線および第2のカット面検査装置で試
料に照射する入射X線は、共通の1本のX線管より得る
ことを特徴とする。
A cut surface inspection system according to a third aspect of the present invention is the system according to the first or second aspect of the present invention in which a configuration is further added, and an incident X for irradiating a sample with the first cut surface inspection apparatus. The X-ray and the incident X-ray that irradiates the sample with the second cut surface inspection apparatus are obtained from a common X-ray tube.

【0013】[0013]

【作用】本発明に係るカット面検査システムは、換言す
れば、試料のカット面の向きの設定用と、試料のカット
面と結晶格子面とのなす角度の検出用とに、それぞれ専
用のX線による検査装置を設置したもので、検査する試
料の一つ毎に入射X線のビーム幅を設定変更するような
手間が不要になる。しかも、試料搬送装置の搬送手段に
よって第1のカット面検査装置での処理を済ませた試料
を第2のカット面検査装置に送る場合には、同時に、搬
送手段によって試料供給装置から新しい試料を第1のカ
ット面検査装置に送ることができ、カット面と結晶格子
面とのなす各の検出処理と試料の向きの設定処理とを並
行して進行させることができる。
In other words, the cut surface inspection system according to the present invention is dedicated to setting the orientation of the cut surface of the sample and detecting the angle between the cut surface of the sample and the crystal lattice plane. Since the inspection apparatus using the X-ray is installed, the trouble of changing the setting of the beam width of the incident X-ray for each one of the samples to be inspected becomes unnecessary. In addition, when the sample that has been processed by the first cut surface inspection device by the transfer means of the sample transfer device is sent to the second cut surface inspection device, at the same time, a new sample is sent from the sample supply device by the transfer means. It can be sent to one cut surface inspection device, and each detection processing made by the cut surface and the crystal lattice surface and the setting processing of the orientation of the sample can proceed in parallel.

【0014】従って、従来の装置と比較すると、大幅に
処理効率を高めることができる。また、請求項2に記載
のように、カット面検査時に試料に等級付けをして、そ
の等級付けに基づいて試料収容装置に自動的に分類する
構成とすることによって、検査処理後の試料の管理も、
大幅に省力化することができる。また、請求項3に記載
のように、一つのX線管を2台のカット面検査装置で共
用する構成では、部品点数の削減による装置コストの低
価格化を促進することができる。
Therefore, compared with the conventional device, the processing efficiency can be greatly improved. Further, as described in claim 2, the sample is graded at the time of inspecting the cut surface, and the sample accommodating apparatus is automatically classified based on the grade. Management
It can save a lot of labor. Further, as described in claim 3, in a configuration in which one X-ray tube is shared by two cut surface inspection apparatuses, it is possible to promote the reduction of the apparatus cost due to the reduction of the number of parts.

【0015】[0015]

【実施例】図1および図4は、本発明の一実施例のカッ
ト面検査システムの構成を示したものである。このカッ
ト面検査システムは、水晶振動子(水晶ウエハ)等の結
晶性の試料に対してカット面検査を行うものである。以
下、図1および図4に基づいて、一実施例のシステムを
詳述する。
1 and 4 show the configuration of a cut surface inspection system according to an embodiment of the present invention. This cut surface inspection system performs a cut surface inspection on a crystalline sample such as a crystal oscillator (crystal wafer). Hereinafter, a system according to an embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 1 and 4.

【0016】この一実施例のシステムは、概略的には、
試料供給装置10と、第1のカット面検査装置11と、
第2のカット面検査装置12と、試料収容装置13と、
試料搬送装置14と、制御装置15とからなる。前記試
料供給装置10は、結晶性の試料17を、定位置に搬送
する装置である。
The system of this one embodiment is roughly
A sample supply device 10, a first cut surface inspection device 11,
A second cut surface inspection device 12, a sample storage device 13,
It comprises a sample transport device 14 and a control device 15. The sample supply device 10 is a device that conveys the crystalline sample 17 to a fixed position.

【0017】また、前記第1のカット面検査装置11
は、前記試料17が載置される試料保持台である方向検
査基台11aを有し、該方向検査基台11a上に載置さ
れた試料17のカット面17aに比較的に幅の広いX線
ビーム18aを照射する一方で、試料17からの回折X
線18bを監視する。そして、X線検出器19によって
回折X線18bを検出することができた場合には、前記
基台11a上の試料17の向きが正しいと判断し、その
判断結果を前記制御装置15に出力する。また、X線検
出器19において回折X線18bを検出できない場合に
は、試料17の向きが正しくないと判断して、その判断
結果を制御装置15に出力する。
Further, the first cut surface inspection device 11
Has a direction inspection base 11a, which is a sample holder on which the sample 17 is placed, and a relatively wide X on the cut surface 17a of the sample 17 placed on the direction inspection base 11a. While irradiating the line beam 18a, the diffraction X from the sample 17
Monitor line 18b. Then, when the diffracted X-ray 18b can be detected by the X-ray detector 19, it is determined that the orientation of the sample 17 on the base 11a is correct, and the determination result is output to the control device 15. . If the X-ray detector 19 cannot detect the diffracted X-rays 18b, it judges that the orientation of the sample 17 is not correct and outputs the judgment result to the controller 15.

【0018】前記第2のカット面検査装置12は、前記
試料17が載置される試料保持台である角度検査基台1
2aを有し、該角度検査基台17上に載置された試料1
7のカット面17aに比較的に幅の狭いX線ビーム21
aを照射する一方で試料17からの回折X線21bをX
線検出器22によって検出し、回折X線21b検出時に
おける前記カット面17aへのX線の入射角度(図2の
角度θ)を求めることにより、前記試料17のカット面
と結晶格子面とのなす角度(図2の角度α)を求める。
The second cut surface inspection device 12 is an angle inspection base 1 which is a sample holder on which the sample 17 is placed.
Sample 1 having 2a and placed on the angle inspection base 17
7 has a relatively narrow X-ray beam 21 on the cut surface 17a.
While irradiating a, the diffraction X-ray 21b from the sample 17 is X-rayed.
By detecting the incident angle (angle θ in FIG. 2) of the X-rays on the cut surface 17a at the time of detecting the diffracted X-rays 21b by the line detector 22, the cut surface of the sample 17 and the crystal lattice plane are separated. The angle formed (angle α in FIG. 2) is determined.

【0019】この一実施例のシステム上には、この検査
装置12の求めた角度αを予め設定しておいた基準値と
比較して、検査した試料を等級付けする品位判定機能が
装備されていて、算出した等級は、制御装置15を介し
て、試料収容装置13に通知される。なお、前記品位判
定機能は、検査装置12内に装備される演算処理部(図
示略)あるいは前記制御装置15内に設けると良い。ま
た、この一実施例では、前述した前記第1のカット面検
査装置11における入射X線18aおよび第2のカット
面検査装置12における入射X線21aは、共通の1本
のX線管24から得ている。
The system of this embodiment is equipped with a quality judgment function for grading an inspected sample by comparing the angle α obtained by the inspection device 12 with a preset reference value. Then, the calculated grade is notified to the sample storage device 13 via the control device 15. The quality determination function may be provided in an arithmetic processing unit (not shown) provided in the inspection device 12 or the control device 15. Further, in this embodiment, the incident X-ray 18a in the first cut surface inspection apparatus 11 and the incident X-ray 21a in the second cut surface inspection apparatus 12 described above are transmitted from one common X-ray tube 24. It has gained.

【0020】前記試料収容装置13は、前記第2のカッ
ト面検査装置12での検査を済ませた試料17を収容す
るためのもので、区画された複数の保管室13aを有し
ており、前記品位判定機能の判定結果に基づいて、試料
投入口(シュート)13bに搬入されてくる試料17を
分類保管する。前記投入口13b、第2のカット面検査
装置12、第1のカット面検査装置11、および試料供
給装置10上の定位置Tのそれぞれは、一直線上に並ん
でいる。
The sample storage device 13 is for storing the sample 17 that has been inspected by the second cut surface inspection device 12, and has a plurality of partitioned storage chambers 13a. The sample 17 carried into the sample inlet (chute) 13b is classified and stored based on the determination result of the quality determination function. Each of the inlet 13b, the second cut surface inspection device 12, the first cut surface inspection device 11, and the fixed position T on the sample supply device 10 are aligned on a straight line.

【0021】前記試料搬送装置14は、前記試料供給装
置110よって試料17が運び込まれる定位置Tから前
記第1のカット面検査装置11の方向検査基台11a上
に試料17を運ぶ第1の搬送手段26と、前記方向検査
基台11aから前記第2のカット面検査装置12の角度
検査基台12a上に試料17を運ぶ第2の搬送手段27
と、前記角度検査基台12aから前記試料収容装置13
の試料投入口13bに試料17を運ぶ第3の搬送手段2
8とを具備している。
The sample carrying device 14 carries the sample 17 from the fixed position T, where the sample 17 is carried by the sample supplying device 110, onto the direction inspection base 11a of the first cut surface inspection device 11. Means 26 and second transport means 27 for carrying the sample 17 from the direction inspection base 11a onto the angle inspection base 12a of the second cut surface inspection device 12.
From the angle inspection base 12a to the sample storage device 13
Third transport means 2 for transporting the sample 17 to the sample input port 13b of
8 and.

【0022】各搬送手段26,27,28には、試料1
7を吸着により把持することのできる保持部Hと、矢印
ロで示すように該保持部Hを試料17の載置位置まで昇
降させる昇降機構Sとが装備されている。また、前記搬
送手段27は、保持部Hを矢印ハに示す方向に回転させ
る機構が組み込まれている。この回転機構は、試料17
の向きを変えるために使用される。なお、搬送手段2
6,28には保持部Hの回転機構を装備していないが、
搬送手段26と同様に装備することとしても良い。ま
た、それぞれの搬送手段26,27,28は、前記投入
口13b、第2のカット面検査装置12、第1のカット
面検査装置11、および試料供給装置10のの定位置T
等の直上を一直線に走るガイドによって試料の搬送方向
(図の矢印ニ方向)に沿って直線的に進退可能にされて
いる。さらに、各搬送手段26,27,28は、前記第
1のカット面検査装置と第2のカット面検査装置とへの
試料の搬入・搬出時期が一致するように、互いに同期し
て一緒に進退移動させるようにしてある。
The sample 1 is attached to each of the transporting means 26, 27 and 28.
A holding unit H capable of gripping 7 by suction and an elevating mechanism S for moving the holding unit H up and down to the mounting position of the sample 17 as indicated by arrow B are provided. Further, the carrying means 27 has a built-in mechanism for rotating the holding portion H in the direction shown by the arrow C. This rotating mechanism
Used to change the orientation of. The transport means 2
6, 28 is not equipped with a rotation mechanism for the holding portion H,
It may be equipped in the same manner as the transporting means 26. Further, the respective transporting means 26, 27, 28 have fixed positions T of the inlet 13b, the second cut surface inspection device 12, the first cut surface inspection device 11 and the sample supply device 10.
A guide running straight above the above-mentioned device allows the sample to move back and forth linearly in the sample transport direction (the direction of arrow D in the figure). Further, the respective transporting means 26, 27, 28 advance and retreat together in synchronization with each other so that the time of loading and unloading of the sample to and from the first cut surface inspection apparatus and the second cut surface inspection apparatus coincide with each other. It is designed to be moved.

【0023】前述した一実施例のカット面検査システム
は、換言すれば、試料17のカット面17aの向きの設
定用と、試料17のカット面と結晶格子面とのなす角度
の検出用とに、それぞれ専用のX線による検査装置1
1,12を設置したもので、検査する試料の一つ毎に入
射X線のビーム幅を設定変更するような手間が不要にな
る。しかも、試料搬送装置14の搬送手段27によって
第1のカット面検査装置11での処理を済ませた試料1
7を第2のカット面検査装置12に送る場合には、同時
に、搬送手段26によって試料供給装置10から新しい
試料17を第1のカット面検査装置11に送ることがで
き、カット面と結晶格子面とのなす各の検出処理と試料
17の向きの設定処理とを並行して進行させることがで
きる。
In other words, the cut surface inspection system of the above-described embodiment is used for setting the orientation of the cut surface 17a of the sample 17 and for detecting the angle formed by the cut surface of the sample 17 and the crystal lattice plane. , Each dedicated X-ray inspection device 1
Since 1 and 12 are installed, it is not necessary to change the beam width of the incident X-ray for each sample to be inspected. Moreover, the sample 1 that has been processed by the first cut surface inspection apparatus 11 by the transfer means 27 of the sample transfer apparatus 14
When 7 is sent to the second cut surface inspection device 12, at the same time, a new sample 17 can be sent from the sample supply device 10 to the first cut surface inspection device 11 by the transport means 26, and the cut surface and the crystal lattice Each detection process performed by the surface and the setting process of the orientation of the sample 17 can proceed in parallel.

【0024】従って、従来の装置と比較すると、大幅に
処理効率を高めることができる。また、この一実施例の
場合では、カット面検査時に試料17に等級付けをし
て、その等級付けに基づいて、試料収容装置13に自動
的に分類することができるため、検査処理後の試料の管
理も、大幅に省力化することができる。また、一つのX
線管24を2台のカット面検査装置11,12で共用す
る構成としたため、部品点数の削減による装置コストの
低価格化を促進することもできる。
Therefore, compared with the conventional device, the processing efficiency can be greatly improved. Further, in the case of this embodiment, the sample 17 can be graded at the time of inspecting the cut surface, and can be automatically classified into the sample storage device 13 based on the grade. The management of can also be greatly labor-saving. Also, one X
Since the wire tube 24 is configured to be shared by the two cut surface inspection devices 11 and 12, it is possible to promote a reduction in the cost of the device by reducing the number of parts.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明に係るカット面検査システムは、
換言すれば、試料のカット面の向きの設定用と、試料の
カット面と結晶格子面とのなす角度の検出用とに、それ
ぞれ専用のX線による検査装置を設置したもので、検査
する試料の一つ毎に入射X線のビーム幅を設定変更する
ような手間が不要になる。しかも、試料搬送装置の搬送
手段によって第1のカット面検査装置での処理を済ませ
た試料を第2のカット面検査装置に送る場合には、同時
に、搬送手段によって試料供給装置から新しい試料を第
1のカット面検査装置に送ることができ、カット面と結
晶格子面とのなす各の検出処理と試料の向きの設定処理
とを並行して進行させることができる。
The cut surface inspection system according to the present invention is
In other words, a dedicated X-ray inspection device is installed for setting the orientation of the cut surface of the sample and for detecting the angle between the cut surface of the sample and the crystal lattice plane. No need to change the setting of the beam width of the incident X-ray for each of the above. In addition, when the sample that has been processed by the first cut surface inspection device by the transfer means of the sample transfer device is sent to the second cut surface inspection device, at the same time, a new sample is sent from the sample supply device by the transfer means. It can be sent to one cut surface inspection device, and each detection processing made by the cut surface and the crystal lattice surface and the setting processing of the orientation of the sample can proceed in parallel.

【0026】従って、従来の装置と比較すると、大幅に
処理効率を高めることができる。また、請求項2に記載
のように、カット面検査時に試料に等級付けをして、そ
の等級付けに基づいて試料収容装置に自動的に分類する
構成とすることによって、検査処理後の試料の管理も、
大幅に省力化することができる。また、請求項3に記載
のように、一つのX線管を2台のカット面検査装置で共
用する構成では、部品点数の削減による装置コストの低
価格化を促進することができる。
Therefore, compared with the conventional device, the processing efficiency can be greatly improved. Further, as described in claim 2, the sample is graded at the time of inspecting the cut surface, and the sample accommodating apparatus is automatically classified based on the grade. Management
It can save a lot of labor. Further, as described in claim 3, in a configuration in which one X-ray tube is shared by two cut surface inspection apparatuses, it is possible to promote the reduction of the apparatus cost due to the reduction of the number of parts.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の正面図である。FIG. 1 is a front view of an embodiment of the present invention.

【図2】カット面検査の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a cut surface inspection.

【図3】カット面検査時の試料の向きの説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of the orientation of a sample at the time of inspecting a cut surface.

【図4】本発明の一実施例の平面図である。FIG. 4 is a plan view of an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 試料供給装置 11 第1のカット面検査装置 12 第2のカット面検査装置 13 試料収容装置 14 試料搬送装置 26 搬送手段 27 搬送手段 28 搬送手段 10 sample supply device 11 first cut surface inspection device 12 second cut surface inspection device 13 sample storage device 14 sample transfer device 26 transfer means 27 transfer means 28 transfer means

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 試料供給装置によって定位置に搬送され
てくる結晶性の試料に対して、該試料におけるカット面
と結晶格子面とのなす角度を調べるカット面検査を実行
するカット面検査システムであって、 前記試料を載置する方向検査基台を有し、該方向検査基
台上に載置された試料のカット面に比較的に幅の広いX
線ビームを照射する一方で、試料からの回折X線を監視
することにより、前記方向検査基台上の試料の向きの正
否を判断する第1のカット面検査装置と、 前記試料を載置する角度検査基台を有し、該角度検査基
台上に載置された試料のカット面に比較的に幅の狭いX
線ビームを照射する一方で試料からの回折X線を検出
し、回折X線検出時における前記カット面へのX線の入
射角度を求めることにより、前記試料のカット面と結晶
格子面とのなす角度を求める第2のカット面検査装置
と、 前記第2のカット面検査装置での検査を済ませた試料を
収容するための試料収容装置と、 前記試料供給装置によって試料が運び込まれる定位置か
ら前記第1のカット面検査装置の方向検査基台上に試料
を運ぶ第1の搬送手段と、前記方向検査基台から前記第
2のカット面検査装置の角度検査基台上に試料を運ぶ第
2の搬送手段と、前記角度検査基台から前記試料収容装
置に試料を運ぶ第3の搬送手段とを具備した試料搬送装
置とを具備し、 かつ、前記試料搬送装置における第1乃至第3の搬送手
段の搬送動作を同期させることによって、前記第1のカ
ット面検査装置と第2のカット面検査装置とへの試料の
搬入・搬出時期を揃えたことを特徴とするカット面検査
システム。
1. A cut surface inspection system for performing a cut surface inspection on a crystalline sample conveyed to a fixed position by a sample supply device to check an angle formed between the cut surface and the crystal lattice surface of the sample. And has a direction inspection base on which the sample is placed, and a relatively wide X on the cut surface of the sample placed on the direction inspection base.
A first cut surface inspection apparatus that determines whether the orientation of the sample on the directional inspection base is correct by monitoring the diffracted X-rays from the sample while irradiating a line beam, and mounting the sample X having a relatively narrow width on the cut surface of the sample placed on the angle inspection base, which has an angle inspection base.
Forming the cut surface of the sample and the crystal lattice plane by detecting the diffracted X-ray from the sample while irradiating the beam and obtaining the incident angle of the X-ray to the cut surface at the time of detecting the diffracted X-ray. A second cut surface inspection device for obtaining an angle, a sample storage device for storing a sample that has been inspected by the second cut surface inspection device, and a fixed position from which a sample is carried by the sample supply device. A first transport means for carrying the sample onto the direction inspection base of the first cut surface inspection device and a second carrying means for carrying the sample from the direction inspection base onto the angle inspection base of the second cut surface inspection device. And a sample transfer device including a third transfer device for transferring a sample from the angle inspection base to the sample storage device, and the first to third transfer devices in the sample transfer device. Synchronize the transport operation of the means By Rukoto, the first cut surface inspection device and the cut surface inspection system characterized by having uniform loading and unloading time of the sample into the second cut surface inspection apparatus.
【請求項2】 前記第2のカット面検査装置が試料のカ
ット面と結晶格子面とのなす角度を求めた場合に、その
求めた値を基準値と比較して、検査した試料を等級付け
する品位判定機能をシステム上に備え、 前記試料収容装置は、前記品位判定機能の判定結果に基
づいて、搬入されてくる試料を分類保管することを特徴
とする請求項1に記載のカット面検査システム。
2. When the second cut surface inspection apparatus obtains the angle formed by the cut surface of the sample and the crystal lattice plane, the obtained value is compared with a reference value to classify the inspected sample. The cut surface inspection according to claim 1, wherein the sample storage device classifies and stores the sample to be carried in based on the determination result of the quality determination function. system.
【請求項3】 前記第1のカット面検査装置で試料に照
射する入射X線および第2のカット面検査装置で試料に
照射する入射X線は、共通の1本のX線管より得ること
を特徴とした請求項1または請求項2に記載のカット面
検査システム。
3. The X-ray incident on the sample by the first cut surface inspection apparatus and the X-ray incident on the sample by the second cut surface inspection apparatus are obtained from a common X-ray tube. The cut surface inspection system according to claim 1 or 2.
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