JPH065668A - Manufacture of semiconductor chip - Google Patents

Manufacture of semiconductor chip

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Publication number
JPH065668A
JPH065668A JP16577592A JP16577592A JPH065668A JP H065668 A JPH065668 A JP H065668A JP 16577592 A JP16577592 A JP 16577592A JP 16577592 A JP16577592 A JP 16577592A JP H065668 A JPH065668 A JP H065668A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor chips
semiconductor chip
wafer
defective
wafer sheet
Prior art date
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Pending
Application number
JP16577592A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Satoru Nakatsuka
悟 中塚
Tetsuo Oki
哲郎 沖
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP16577592A priority Critical patent/JPH065668A/en
Publication of JPH065668A publication Critical patent/JPH065668A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To enable a semiconductor chip to be lessened in manufacturing cost and enhanced in yield when non-defective semiconductor chips are manufactured from a wafer. CONSTITUTION:A wafer sheet B is pasted on the rear of a wafer A, the wafer A is cut into separate semiconductor chips, then the wafer sheet B is biaxially oriented, wax 2a and 2b are applied onto the semiconductor chips 1a defective in shape and the defective semiconductor chips out of the semiconductor chips 1, and the semiconductor chips 1 are dipped into chemical liquid to separate the wafer sheet B and then screened.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、トランジスター又はI
C等の半導体部品に使用される半導体チップを製造する
方法に関するものである。
The present invention relates to a transistor or I
The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor chip used for a semiconductor component such as C.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の半導体チップは、一般的に言っ
て、図1に示すように、当該半導体チップの多数個を、
一枚のウエハーAの表面に対して、ホォトレジ等の各種
の工程を経て形成し、このウエハーAの裏面に、軟質合
成樹脂製のウエハーシートBを貼着し、次いで、前記ウ
エハーAを、各半導体チップ1の相互間を区画する縦横
の筋面線に沿って回転式ブレードにて切断したのち、前
記ウエハーシートAをX軸方向と、Y軸方向との二軸方
向に延伸することによって、各半導体チップごとに分離
し、そして、その全体を、アセトンとエタノールとを混
合した薬液に浸漬する等を行うことによって、各半導体
チップ1を、ウエハーシートBから剥離すると言う方法
にて製造するようにしている。
2. Description of the Related Art Generally, a semiconductor chip of this type has a large number of semiconductor chips, as shown in FIG.
The surface of one wafer A is formed through various processes such as photolithography, and a wafer sheet B made of a soft synthetic resin is attached to the back surface of this wafer A, and then the wafer A is After cutting with a rotary blade along the vertical and horizontal stripes that divide the semiconductor chips 1 from each other, the wafer sheet A is stretched in the biaxial directions of the X-axis direction and the Y-axis direction. Each semiconductor chip is separated and then the whole is immersed in a chemical solution in which acetone and ethanol are mixed to manufacture each semiconductor chip 1 by a method of peeling from the wafer sheet B. I have to.

【0003】ところで、前記の方法において、ウエハー
シートBに貼着されている各半導体チップ1には、その
形状の一部が欠けていて形状不完全な半導体チップ1
a、及び所定の形状であっても所定の性能を有していな
い不良品の半導体チップ1bが存在する。そこで、従来
は、ウエハーシートBに貼着されている各半導体チップ
を、ウエハーシートBより剥離する以前において、図2
に示すように、ウエハーシートBには、完全な半導体チ
ップ1のみを残して、形状不完全な各半導体チップ1
a、及び不良品の各半導体チップ1bを、ウエハーシー
トBから除去したのち、完全な各半導体チップ1をウエ
ハーシートBより、前記薬液への浸漬等の適宜手段にて
剥離するようにしている。
By the way, in the above-mentioned method, each semiconductor chip 1 attached to the wafer sheet B has a partially defective shape, and the semiconductor chip 1 has an imperfect shape.
a, and a defective semiconductor chip 1b that does not have a predetermined performance even if it has a predetermined shape. Therefore, conventionally, before peeling each semiconductor chip attached to the wafer sheet B from the wafer sheet B, as shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the wafer sheet B has only the complete semiconductor chip 1 and each semiconductor chip 1 having an incomplete shape.
After removing a and each defective semiconductor chip 1b from the wafer sheet B, the complete semiconductor chip 1 is peeled from the wafer sheet B by an appropriate means such as immersion in the chemical solution.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記ウエハー
シートBから形状不完全な各半導体チップ1a及び不良
品の各半導体チップ1bを除去するに際しては、作業者
がピンセットを使用して、一個ずつ除去するようにしな
ければならないから、これに多大の手数を必要として、
コストが大幅にアップすると言う問題があり、しかも、
形状不完全な各半導体チップ1a及び不良品の各半導体
チップ1bをピンセットにて除去するに際して、これに
隣接している良品の半導体チップ1を損傷することを招
来すると言った問題もあった。
However, when removing each incompletely shaped semiconductor chip 1a and each defective semiconductor chip 1b from the wafer sheet B, an operator uses tweezers to remove them one by one. It requires a lot of trouble,
There is a problem that the cost will increase significantly, and moreover,
There is also a problem that when the semiconductor chips 1a having an incomplete shape and the defective semiconductor chips 1b are removed by tweezers, the non-defective semiconductor chip 1 adjacent thereto is damaged.

【0005】本発明は、これらの問題を解消できるよう
にした方法を提供することを技術的課題とするものであ
る。
The present invention has a technical object to provide a method capable of solving these problems.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この技術的課題を達成す
るため本発明は、半導体チップの多数個を形成したウエ
ハーの裏面に、ウエハーシートを貼着し、次いで、前記
ウエハーを各半導体チップの相互間を区画する筋目線に
沿って切断したのち、前記各半導体チップのうち良品の
各半導体チップを除くその他の形状不完全な各半導体チ
ップ及び不良品の各半導体チップに対してのみ、ワック
ス又は合成樹脂液を、当該ワックス又は合成樹脂液が形
状不完全な各半導体チップ及び不良品の各半導体チップ
よりはみ出すように塗布して硬化し、そして、薬液への
浸漬にてウエハーシートから剥離したのち、選別を行う
ことにした。
In order to achieve this technical object, the present invention is to attach a wafer sheet to the back surface of a wafer on which a large number of semiconductor chips are formed, and then attach the wafer to each semiconductor chip. After cutting along the line of lines that separates each other, wax or wax is applied only to each of the defective semiconductor chips and the defective semiconductor chips other than the good semiconductor chips of the semiconductor chips. After the synthetic resin liquid is applied and cured so that the wax or synthetic resin liquid protrudes from each semiconductor chip having an imperfect shape and each defective semiconductor chip, and then peeled from the wafer sheet by immersion in a chemical liquid. , Decided to sort.

【0007】[0007]

【作 用】このように、ウエハーシートに貼着されて
いる各半導体チップのうち良品の各半導体チップを除く
その他の形状不完全な各半導体チップ及び不良品の各半
導体チップに対してのみ、ワックス又は合成樹脂液を、
当該ワックス又は合成樹脂液が形状不完全な各半導体チ
ップ及び不良品の各半導体チップよりはみ出すように塗
布して硬化することにより、前記形状不完全な各半導体
チップ及び不良品の各半導体チップの大きさは、これに
対するワックス又は合成樹脂液の塗布によって、良品の
各半導体チップにおける大きさよりも大きくなる。
[Operation] In this way, only the semiconductor chips attached to the wafer sheet except the non-defective semiconductor chips are imperfectly shaped and the defective semiconductor chips are waxed only. Or synthetic resin liquid,
The size of the incompletely shaped semiconductor chips and the defective semiconductor chips is obtained by applying the wax or the synthetic resin liquid so as to protrude from the incompletely shaped semiconductor chips and the defective semiconductor chips, and then curing the wax or the synthetic resin liquid. By applying the wax or the synthetic resin liquid to this, the size becomes larger than the size of each good semiconductor chip.

【0008】そこで、薬液への浸漬にてウエハーシート
から剥離したのち、選別を行うことにより、良品の各半
導体チップのみを選択的に取り出すことができるのであ
る。
Therefore, by separating the wafer sheet from the wafer sheet by immersion in a chemical solution and then selecting it, only good semiconductor chips can be selectively taken out.

【0009】[0009]

【発明の効果】従って、本発明によると、半導体チップ
の製造に際して、前記従来のように、形状不完全な各半
導体チップ及び不良品の各半導体チップのみを選択的に
ピンセットで一個ずつ取り除くことを必要としないか
ら、製造工程が簡単になって、コストを大幅に低減でき
ると共に、良品の半導体チップの損傷を招来することが
なくて、歩留り率を向上できる効果を有する。
As described above, according to the present invention, when manufacturing a semiconductor chip, it is possible to selectively remove only one defective semiconductor chip and one defective semiconductor chip one by one with tweezers as in the prior art. Since it is not necessary, the manufacturing process can be simplified, the cost can be significantly reduced, and the yield rate can be improved without damaging a good semiconductor chip.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の実施例を、図3及び図4の図
面について説明する。図3は、一枚のウエハーAの表面
に多数個の半導体チップをホォトレジ等の各種の工程を
経て形成し、このウエハーAの裏面に、軟質合成樹脂製
のウエハーシートBを貼着し、次いで、前記ウエハーA
を、各半導体チップの相互間を区画する縦横の筋面線に
沿って回転式ブレードにて切断したのち、前記ウエハー
シートAをX軸方向と、Y軸方向との二軸方向に延伸す
ることによって、各半導体チップごとに分離した状態を
示すものであり、このウエハーシートBにおける各半導
体チップのうち、良品の各半導体チップ1を除くその他
の形状不完全な各半導体チップ1a及び不良品の各半導
体チップ1bに対してのみ、ワックス2a,2bを、液
体の状態で、当該ワックス2a,2bが形状不完全な各
半導体チップ1a及び不良品の各半導体チップ1bより
はみ出すように塗布して硬化するか、或いは、紫外線硬
化合成樹脂液を、当該紫外線硬化合成樹脂液形状不完全
な各半導体チップ1a及び不良品の各半導体チップ1b
よりはみ出すように塗布したのち紫外線の照射によって
硬化する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings of FIGS. In FIG. 3, a large number of semiconductor chips are formed on the front surface of one wafer A through various processes such as photolithography, and a wafer sheet B made of a soft synthetic resin is attached to the back surface of the wafer A, , The wafer A
Is cut by a rotary blade along vertical and horizontal streak lines dividing each semiconductor chip from each other, and then the wafer sheet A is stretched biaxially in the X-axis direction and the Y-axis direction. Shows the separated state for each semiconductor chip. Of the semiconductor chips on the wafer sheet B, the semiconductor chips 1a other than the non-defective semiconductor chips 1 and the defective semiconductor chips 1a and defective ones Waxes 2a and 2b are applied and cured in a liquid state only on the semiconductor chip 1b so that the waxes 2a and 2b extend beyond the imperfectly shaped semiconductor chips 1a and the defective semiconductor chips 1b. Alternatively, the ultraviolet-curable synthetic resin liquid is used for the semiconductor chips 1a each having an incomplete shape of the ultraviolet-curable synthetic resin liquid and each defective semiconductor chip 1b.
It is applied so that it protrudes further and then cured by irradiation with ultraviolet rays.

【0011】すると、前記形状不完全な各半導体チップ
1a及び不良品の各半導体チップ1bの大きさが、これ
に対するワックス2a,2b又は合成樹脂の塗布によっ
て、良品の各半導体チップ1よりも大きくなる。そこ
で、図4に示すように、アセトンとエタノールとを混合
した薬液3を入れた薬液槽4内に、前記良品の半導体チ
ップ1のみが通過する網目した内網籠5と、該内網籠5
より網目を小さくした外網籠6とを挿入して、前記内網
籠5内に、前記図3に示すように、ワックス2a,2b
を塗布して硬化したウエハーシートBの全体を浸漬し
て、当該ウエハーシートBの全ての半導体チップを当該
ウエハーシートBより剥離することにより、良品の半導
体チップ1は、内網籠5の網目を通過して外網籠6内に
溜まる一方、ワックス2a,2bの塗布・硬化にて大き
くなった形状不完全な各半導体チップ1a及び不良品の
各半導体チップ1b、並びに前記ウエハーシートBは、
前記内網籠5内に残ることになるから、前記内網籠5及
び外網籠6の両方を、薬液槽4内から引き上げることに
より、前記外網籠6内より、良品の各半導体チップ1の
みを、当該良品の半導体チップ1を損傷することなく、
選択的に取得することができるのである。
Then, the size of each of the defective semiconductor chips 1a and each defective semiconductor chip 1b becomes larger than that of each non-defective semiconductor chip 1 by applying the wax 2a, 2b or the synthetic resin thereto. . Therefore, as shown in FIG. 4, a meshed inner net basket 5 through which only the non-defective semiconductor chip 1 passes, and the inner net basket 5 are placed in a chemical liquid tank 4 containing a chemical liquid 3 in which acetone and ethanol are mixed.
An outer net basket 6 having a smaller mesh is inserted into the inner net basket 5, and as shown in FIG.
By dipping the entire wafer sheet B, which has been applied and cured, and peeling off all the semiconductor chips of the wafer sheet B from the wafer sheet B, the non-defective semiconductor chip 1 becomes While passing through the outer net basket 6 and accumulating in the outer net basket 6, the incompletely shaped semiconductor chips 1a and the defective semiconductor chips 1b, which are enlarged by applying and curing the waxes 2a and 2b, and the wafer sheet B are
Since the inner net cage 5 remains in the inner net basket 5, both the inner net basket 5 and the outer net basket 6 are pulled up from the chemical solution tank 4, so that each of the good semiconductor chips 1 from the inside of the outer net basket 6 is removed. Without damaging the non-defective semiconductor chip 1.
It can be acquired selectively.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】複数個の半導体チップを形成したウエハーを貼
着したウエハーシートを二軸方向に延伸した状態の斜視
図である。
FIG. 1 is a perspective view of a wafer sheet having a plurality of semiconductor chips formed thereon and a wafer attached thereto, which is biaxially stretched.

【図2】従来の方法において、ウエハーシートから形状
不完全な各半導体チップ及び不良品の各半導体チップを
取り除いた状態の斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a state in which semiconductor chips having imperfect shapes and defective semiconductor chips are removed from a wafer sheet in a conventional method.

【図3】本発明の方法において、ウエハーシートにおけ
る形状不完全な各半導体チップ及び不良品の各半導体チ
ップに対してワックスを塗布した状態の斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a state in which a wax is applied to each semiconductor chip having an imperfect shape and each defective semiconductor chip in the wafer sheet in the method of the present invention.

【図4】ウエハーシートから各半導体チップを剥離する
ための薬液槽の縦断正面図である。
FIG. 4 is a vertical cross-sectional front view of a chemical liquid tank for peeling each semiconductor chip from a wafer sheet.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A ウエハー B ウエハーシート 1 良品の半導体チップ 1a 形状不完全な半導体チップ 1b 不良品の半導体チップ 2a,2b ワックス 3 薬液 4 薬液槽 5 内網籠 6 外網籠 A wafer B wafer sheet 1 good semiconductor chip 1a defective semiconductor chip 1b defective semiconductor chip 2a, 2b wax 3 chemical liquid 4 chemical liquid tank 5 inner net basket 6 outer net basket

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体チップの多数個を形成したウエハー
の裏面に、ウエハーシートを貼着し、次いで、前記ウエ
ハーを各半導体チップの相互間を区画する筋目線に沿っ
て切断したのち、前記各半導体チップのうち良品の各半
導体チップを除く他の形状不完全な各半導体チップ及び
不良品の各半導体チップに対してのみ、ワックス又は合
成樹脂液を、当該ワックス又は合成樹脂液が形状不完全
な各半導体チップ及び不良品の各半導体チップよりはみ
出すように塗布して硬化し、そして、薬液への浸漬にて
ウエハーシートから剥離したのち、選別を行うことを特
徴とする半導体チップの製造方法。
1. A wafer sheet is attached to the back surface of a wafer on which a large number of semiconductor chips are formed, and then the wafer is cut along a score line that separates the semiconductor chips from each other. Other than the good semiconductor chips among the semiconductor chips, the wax or the synthetic resin liquid is used only for the defective semiconductor chips and the defective semiconductor chips only. A method for manufacturing a semiconductor chip, which comprises: coating so as to protrude from each semiconductor chip and each semiconductor chip of a defective product, curing, and peeling from a wafer sheet by immersion in a chemical solution;
JP16577592A 1992-06-24 1992-06-24 Manufacture of semiconductor chip Pending JPH065668A (en)

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JP16577592A JPH065668A (en) 1992-06-24 1992-06-24 Manufacture of semiconductor chip

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JP (1) JPH065668A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6972202B2 (en) 2003-03-20 2005-12-06 Renesas Technology Corp. Method of manufacturing and testing a semiconductor device
JP2010093004A (en) * 2008-10-07 2010-04-22 Disco Abrasive Syst Ltd Mill ends recovering method

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