JPH0645878Y2 - Slit device for polar figure measuring device - Google Patents

Slit device for polar figure measuring device

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JPH0645878Y2
JPH0645878Y2 JP7482988U JP7482988U JPH0645878Y2 JP H0645878 Y2 JPH0645878 Y2 JP H0645878Y2 JP 7482988 U JP7482988 U JP 7482988U JP 7482988 U JP7482988 U JP 7482988U JP H0645878 Y2 JPH0645878 Y2 JP H0645878Y2
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JP
Japan
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ray
slit
polar
small hole
transmission method
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JP7482988U
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正雄 中山
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理学電機株式会社
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Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 多結晶試料の結晶配向をX線回折によって調べるための
装置として、ディフラクトメータに取り付ける極図形測
定装置が知られているが、この考案は、この極図形測定
装置に用いるスリット装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial application] A polarographic measuring device attached to a diffractometer is known as a device for examining the crystal orientation of a polycrystalline sample by X-ray diffraction. The present invention relates to a slit device used in this polar figure measuring device.

[従来の技術] 多結晶試料板の結晶配向を調べるための極図形測定方法
について簡単に説明する。極図形は、反射法による測定
結果と透過法による測定結果とを合成することによって
完成するものであるが、反射法と透過法では測定装置の
構成が大きく異なっている。
[Prior Art] A polar figure measuring method for examining the crystal orientation of a polycrystalline sample plate will be briefly described. The polar figure is completed by synthesizing the measurement result by the reflection method and the measurement result by the transmission method, but the configuration of the measuring device is largely different between the reflection method and the transmission method.

第4図は反射法の測定装置を示す。X線源には点焦点52
を使い、試料板54の表面でX線を回折させて、その回折
X線をカウンタ56で検出する。試料板54に入射するX線
は、試料板54の横幅をカバーできるように、発散スリッ
ト58で適度に発散させて、回折X線の強度をかせいでい
る。受光スリット60は集中法を満足する位置に配置して
ある。実際には、入射X線の上下方向の発散を防ぐため
に、試料板54の手前に縦発散制限スリットを配置してあ
る。また、受光スリット60の手前または後ろに、回折X
線の上下方向の発散を防ぐソーラスリットを配置してあ
る。
FIG. 4 shows a measuring apparatus of the reflection method. Point focus 52 for X-ray source
Is used to diffract X-rays on the surface of the sample plate 54 and the diffracted X-rays are detected by the counter 56. The X-rays incident on the sample plate 54 are appropriately diverged by the divergence slit 58 so that the lateral width of the sample plate 54 can be covered, thereby obtaining the intensity of the diffracted X-rays. The light receiving slit 60 is arranged at a position satisfying the concentration method. In practice, a vertical divergence limiting slit is arranged in front of the sample plate 54 in order to prevent divergence of incident X-rays in the vertical direction. In addition, before or after the light receiving slit 60, the diffraction X
A solar slit is placed to prevent the line from diverging vertically.

ゴニオメータ上のカウンタ56は、試料板の特定の格子面
からの回折X線がやって来る位置に固定しておく。試料
板54は、ゴニオメータに取り付けた極図形測定装置によ
って、所定の方法で回転させる。そして、それぞれの回
転位置での回折X線強度を、カウンタ56で測定する。試
料板54の回転を説明すると、試料板54は、試料面内を通
過するAA軸を中心としてα回転させ、また試料面の法線
であるB軸を中心としてβ回転させる。角度αは、回折
格子面の法線に対する試料面の角度として定義される。
角度αと、角度βと、X線回折強度とを、ポーラネット
上に記入すれば、目的の格子面に対する極図形が得られ
る。この反射法では、α=40〜90度の範囲すなわち極図
形の内側部分をカバーできる。
The counter 56 on the goniometer is fixed at a position where diffracted X-rays from a specific lattice plane of the sample plate come. The sample plate 54 is rotated in a predetermined manner by the polarographic measuring device attached to the goniometer. Then, the counter 56 measures the diffracted X-ray intensity at each rotational position. The rotation of the sample plate 54 will be described. The sample plate 54 is rotated by α around the AA axis passing through the sample surface, and is rotated by β around the B axis which is the normal to the sample surface. The angle α is defined as the angle of the sample surface with respect to the normal to the diffraction grating surface.
By writing the angle α, the angle β, and the X-ray diffraction intensity on the polar net, a polar figure for the target lattice plane can be obtained. This reflection method can cover the range of α = 40 to 90 degrees, that is, the inner portion of the polar figure.

第5図は透過法の測定装置を示す。この場合は、X線源
には線焦点62を使い、試料板54を透過するX線を回折さ
せて、その回折X線をカウンタ56で検出する。試料板54
に入射するX線は、平行ビームまたは発散ビームであ
る。透過法では、線焦点のX線を使うことにより、回折
X線強度をかせいでいる。実際の装置では、受光スリッ
ト64の手前または後ろには、回折X線の上下方向の発散
を防ぐソーラスリットを配置してある。
FIG. 5 shows a measuring device of the transmission method. In this case, a line focus 62 is used as the X-ray source, the X-ray transmitted through the sample plate 54 is diffracted, and the diffracted X-ray is detected by the counter 56. Sample plate 54
The X-rays incident on are parallel or divergent beams. In the transmission method, the diffracted X-ray intensity is obtained by using the X-ray of the line focus. In an actual device, a solar slit that prevents vertical diffusion of diffracted X-rays is arranged in front of or behind the light receiving slit 64.

透過法では、第4図は反射法とは違って、第5図に示す
ように前記AA軸を垂直に配置している。試料板54は、反
射法と同様に、AA軸を中心としてα回転させ、B軸を中
心としてβ回転させる。この透過法の測定結果について
も、反射法と同様に、ポーラネット上に記入する。透過
法では、α=0〜50度の範囲すなわち極図形の外側部分
をカバーできる。
In the transmission method, unlike the reflection method in FIG. 4, the AA axis is vertically arranged as shown in FIG. Similar to the reflection method, the sample plate 54 is rotated by α around the AA axis and is rotated by β around the B axis. Similar to the reflection method, the measurement result of the transmission method is also written on the polar net. The transmission method can cover the range of α = 0 to 50 degrees, that is, the outer portion of the polar figure.

[考案が解決しようとする課題] 以上説明したように、反射法と透過法では測定装置の構
成が異なっている。特に大きな相違点は、反射法では点
焦点のX線源を使い、透過法では線焦点のX線源を使う
ことである。そのため、ひとつの極図形を完成させるの
には、X線源を交換する必要があり、大変な手間がかか
ることになる。
[Problems to be Solved by the Invention] As described above, the configuration of the measuring device is different between the reflection method and the transmission method. A particularly big difference is that the reflection method uses a point focus X-ray source and the transmission method uses a line focus X-ray source. Therefore, in order to complete one polar figure, it is necessary to replace the X-ray source, which is very troublesome.

そこで、従来、X線源の交換をしない簡略測定法が採用
されている。すなわち、X線源として線焦点だけを使
い、スリット系の切り替えだけで反射法と透過法に対処
するものである。この場合、透過法のときは、第5図に
示すのと同じ構成で測定が可能である。ただし、反射法
のときは、受光スリットのところで、線焦点X線の上下
方向の長さをほとんどカットして、中心部分だけを使う
ことになる。線焦点X線は点焦点X線に比べて単位断面
積当たりのX線強度が弱いので、線焦点X線をこのよう
にカットすると、カウンタで検出される回折X線強度が
弱くなるのは避けられない。もし、強度をかせぐために
縦制限を広めにすれば、回折ピークが拡がって、分解能
が低下することになる。
Therefore, conventionally, a simple measurement method without replacing the X-ray source has been adopted. That is, only the line focus is used as the X-ray source, and the reflection method and the transmission method are dealt with only by switching the slit system. In this case, in the transmission method, the measurement can be performed with the same configuration as shown in FIG. However, in the case of the reflection method, the vertical length of the line focus X-ray is almost cut at the light receiving slit, and only the central portion is used. Since the line focus X-ray has a weaker X-ray intensity per unit cross-sectional area than the point focus X-ray, cutting the line focus X-ray in this way avoids that the diffracted X-ray intensity detected by the counter becomes weak. I can't. If the vertical limit is widened to gain strength, the diffraction peak will widen and the resolution will decrease.

また、X線源として点焦点だけを使う簡略測定法もあ
る。この場合はX線コリメータを使用するので、スリッ
ト交換をする必要はない。しかし、コリメータ使用のた
め、特に透過法では、X線強度が弱くなるのは避けられ
ない。
There is also a simplified measurement method that uses only a point focus as an X-ray source. In this case, since the X-ray collimator is used, it is not necessary to replace the slit. However, since the collimator is used, it is inevitable that the X-ray intensity becomes weak especially in the transmission method.

この考案は、X線源として点焦点だけを使う上記簡略測
定法を改良したものであり、その目的はX線強度をあま
り低下させることなく、反射法と透過法の両方に使用で
きるスリット装置を提供することにある。
This invention is an improvement of the above-mentioned simplified measurement method that uses only a point focus as an X-ray source, and its purpose is to provide a slit device that can be used for both the reflection method and the transmission method without significantly reducing the X-ray intensity. To provide.

[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために、この考案に係るスリット装
置は、X線が入射する小孔と、この小孔から光軸方向に
所定距離だけ隔てられた、X線が出射する細長い開口と
を設けてある。そして、細長い開口を光軸の回りに少な
くとも90度回転できるようにしてある。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, a slit device according to the present invention is provided with a small hole into which an X-ray is incident and an X-hole separated from the small hole by a predetermined distance in the optical axis direction. And an elongated opening through which the line exits. The elongated aperture can be rotated at least 90 degrees around the optical axis.

[作用] 反射法の場合は、スリット装置の細長い開口を、ディフ
ラクトメータ円を含む面内に配置する。透過法に変更す
る場合は、この細長い開口を、光軸の回りに90度回転さ
せて、ディフラクトメータ円を含む面に対して垂直に配
置する。これにより、いずれの場合も、細長い開口から
出射されるX線を有効に回折測定に利用できる。しか
も、スリット装置の切り替えは、細長い開口を単に90度
回転させるだけでよい。
[Operation] In the case of the reflection method, the elongated opening of the slit device is arranged in the plane including the diffractometer circle. When changing to the transmission method, the elongated aperture is rotated 90 degrees around the optical axis and is arranged perpendicular to the plane containing the diffractometer circle. Thereby, in any case, the X-ray emitted from the elongated aperture can be effectively used for the diffraction measurement. Moreover, the switching of the slit device can be achieved by simply rotating the elongated opening by 90 degrees.

[実施例] 次に、図面を参照してこの考案の実施例を説明する。[Embodiment] Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図はこの考案に係るスリット装置の一実施例の、一
部を切断した斜視図である。このスリット装置10は、全
体として、断面が長方形の略四角錐台の形状をしてい
る。その一端は、小さな正方形の端面12となっており、
他端は細長い長方形の端面14となっている。正方形の端
面12には、内径1mmの小孔16が形成してある。長方形の
端面14には、寸法が1mm×10mmの細長い開口18が形成し
てある。正方形の端面12から長方形の端面14に至る通路
は、徐々に拡大する長方形断面となっている。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view of an embodiment of the slit device according to the present invention. The slit device 10 has a substantially rectangular truncated pyramid shape having a rectangular cross section as a whole. One end is a small square end face 12,
The other end is an elongated rectangular end surface 14. A small hole 16 having an inner diameter of 1 mm is formed in the square end face 12. The rectangular end surface 14 is formed with an elongated opening 18 having a size of 1 mm × 10 mm. The passage from the square end face 12 to the rectangular end face 14 has a gradually expanding rectangular cross section.

小孔16および細長い開口18の寸法は、上記の値以外とす
ることも可能である。たとえば開口18の寸法を1mm×5mm
とすることができる。
The dimensions of the small holes 16 and the elongated openings 18 can be other than the above values. For example, the size of the opening 18 is 1 mm × 5 mm
Can be

この実施例では、小孔16から細長い開口18までの距離L
は、試料面上でX線照射の長さが約20mmとなるように設
計している。この距離Lは、細長い開口18の長さ寸法
や、小孔16の内径寸法や、X線焦点とスリット装置と試
料との相互距離に依存する。通常は、上記距離Lは、X
線焦点から試料までの距離の1/2から4/5までの範囲の値
としている。
In this embodiment, the distance L from the small hole 16 to the elongated opening 18
Is designed so that the X-ray irradiation length on the sample surface is about 20 mm. This distance L depends on the length dimension of the elongated opening 18, the inner diameter dimension of the small hole 16, and the mutual distance between the X-ray focal point, the slit device, and the sample. Usually, the distance L is X
The value ranges from 1/2 to 4/5 of the distance from the line focus to the sample.

次に、この実施例の使用方法を説明する。まず、反射法
で使う場合は、第4図の発散スリット58の代わりに、こ
のスリット装置10を、第2図に示す状態でX線経路の途
中に配置する。すなわち、細長い開口が、ディフラクト
メータ円を含む面(第4図の配置では水平面)内にくる
ように配置する。点焦点20から発射されたX線は、所定
の発散角で小孔16に入射し、細長い開口を出るときは、
水平面内で所定の発散角を有する。縦方向には、細長い
開口によって発散が制限されている。すなわち、X線
は、第4図の場合とほぼ同様に試料板に入射する。
Next, a method of using this embodiment will be described. First, when the reflection method is used, the slit device 10 is arranged in the middle of the X-ray path in the state shown in FIG. 2 instead of the divergence slit 58 shown in FIG. That is, the elongated opening is arranged so as to be in the plane including the diffractometer circle (horizontal plane in the arrangement of FIG. 4). The X-ray emitted from the point focus 20 enters the small hole 16 at a predetermined divergence angle, and when exiting the elongated aperture,
It has a certain divergence angle in the horizontal plane. In the longitudinal direction, divergence is limited by elongated openings. That is, the X-rays are incident on the sample plate almost as in the case of FIG.

透過法で使う場合は、第2図の状態のスリット装置10
を、矢印22で示すように光軸の回りに90度回転させて、
第3図に示す状態にする。すなわち、細長い開口は、デ
ィフラクトメータ円を含む面に対して垂直に配置され
る。点焦点20から発射されたX線は、所定の発散角で小
孔16に入射し、細長い開口を出るときは、上下方向に所
定の発散角を有する。水平方向の発散は制限されてい
る。
When using the transmission method, the slit device 10 in the state shown in FIG.
By rotating 90 degrees around the optical axis as shown by arrow 22,
The state shown in FIG. 3 is obtained. That is, the elongated openings are arranged perpendicular to the plane containing the diffractometer circle. The X-ray emitted from the point focus 20 enters the small hole 16 at a predetermined divergence angle, and has a predetermined divergence angle in the vertical direction when exiting the elongated aperture. Horizontal divergence is limited.

以上の反射法と透過法では、いずれの場合も、点焦点か
らのX線は、小孔と細長い開口とを通過することによ
り、線状のX線ビームとなってスリット装置を出てい
く。したがって、点焦点からのX線を、測定法に合わせ
て有効に利用できる。
In both the reflection method and the transmission method described above, the X-rays from the point focus pass through the small holes and the elongated openings to form a linear X-ray beam and exit the slit device. Therefore, the X-ray from the point focus can be effectively used according to the measuring method.

なお、上述の実施例では、一体のスリット装置に小孔と
細長い開口とを形成してあるが、小孔と細長い開口と
を、別個の部品に形成することもできる。この場合は、
小孔を形成した部品を固定しておいて、細長い開口を形
成した部品だけを回転できるようにしておけばよい。
In addition, in the above-described embodiment, the small hole and the elongated opening are formed in the integrated slit device, but the small hole and the elongated opening may be formed in separate parts. in this case,
It suffices that the component having the small hole is fixed and only the component having the elongated opening can be rotated.

[考案の効果] 以上説明したようにこの考案に係る極図形測定装置用ス
リット装置は、X線が入射する小孔と、X線が出射する
細長い開口とを設けてあって、細長い開口を光軸の回り
に少なくとも90度回転できるようにしたので、反射法と
透過法とに対して、細長い開口を90度回転させるだけで
対応でき、X線強度もそれほど低下することがない。
[Effects of the Invention] As described above, the slit device for polarographic measuring apparatus according to the present invention is provided with a small hole into which an X-ray is incident and an elongated opening from which the X-ray is emitted, and the elongated opening is used as a light source. Since it can be rotated at least 90 degrees around the axis, the reflection method and the transmission method can be dealt with only by rotating the elongated aperture by 90 degrees, and the X-ray intensity does not decrease so much.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの考案の一実施例の一部を切断した斜視図、 第2図はこの実施例を反射法で使用している状態を示す
斜視図、 第3図はこの実施例を透過法で使用している状態を示す
斜視図、 第4図は反射法の従来の装置構成を示す斜視図、 第5図は透過法の従来の装置構成を示す斜視図である。 10……スリット装置 16……X線が入射する小孔 18……X線が出射する細長い開口 20……点焦点のX線源
FIG. 1 is a perspective view in which a part of an embodiment of the present invention is cut away, FIG. 2 is a perspective view showing a state in which this embodiment is used in a reflection method, and FIG. 3 is a transmission method in this embodiment. FIG. 4 is a perspective view showing a conventional apparatus configuration of the reflection method, and FIG. 5 is a perspective view showing a conventional apparatus configuration of the transmission method. 10 …… Slit device 16 …… Small hole for X-ray incidence 18 …… Slender opening for X-ray emission 20 …… Point-focus X-ray source

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】点焦点のX線源から極図形測定装置上の試
料に至るX線経路の途中に配置するためのスリット装置
において、 X線が入射する小孔と、この小孔から光軸方向に所定距
離だけ隔てられた、X線が出射する細長い開口とを、こ
のスリット装置に設け、前記細長い開口を光軸の回りに
少なくとも90度回転できるようにしたことを特徴とする
極図形測定装置用スリット装置。
1. A slit device for arranging in the middle of an X-ray path from a point-focus X-ray source to a sample on a polarographic measuring device, wherein a small hole into which an X-ray is incident and an optical axis from this small hole are provided. A polarographic measurement characterized in that an elongated opening for emitting X-rays, which is separated by a predetermined distance in the direction, is provided in this slit device so that the elongated opening can be rotated at least 90 degrees around the optical axis. Slit device for equipment.
JP7482988U 1988-06-07 1988-06-07 Slit device for polar figure measuring device Expired - Lifetime JPH0645878Y2 (en)

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