JPH0644395B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH0644395B2
JPH0644395B2 JP64000932A JP93289A JPH0644395B2 JP H0644395 B2 JPH0644395 B2 JP H0644395B2 JP 64000932 A JP64000932 A JP 64000932A JP 93289 A JP93289 A JP 93289A JP H0644395 B2 JPH0644395 B2 JP H0644395B2
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mosfet
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正貴 松井
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は半導体記憶装置、特に絶縁ゲート型電界効果ト
ランジスタ(MOSFET)でメモリセルを構成したスタティ
ック型メモリ(SRAM)に係り、内部電源降圧回路を有す
るスタティック型メモリのワード線駆動回路部を改良し
たものである。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a static type memory (SRAM) in which memory cells are composed of insulated gate field effect transistors (MOSFETs). The word line drive circuit portion of a static memory having an internal power supply voltage down circuit is improved.

(従来の技術) この種の半導体記憶装置において、MOSFETの微細化が進
展するにつれて、ゲート酸化膜の厚さが薄くなってくる
と、ゲート酸化膜の耐圧などの問題から今までのように
外部供給電圧5Vをそのまま、MOSFETのゲート・ソース
間に印加することができなくなり、IC外部供給電圧を
内部電源電圧降下回路を用いて降下させ、MOSFETの信頼
性を保証する必要がある。このように内部電源降圧回路
を用いなければならないのは、ゲート長0.6μm以下
とされる。このような場合を想定した従来のSRAMの
メモリセル周辺の回路の一例を第6図に示す。代表とし
て、1つのビット線上の1つのメモリセルを示した。M
Cはスタティック型メモリセルであり、交差結合したN
形MOSFETトランジスタQ,Qと内部電源電位VMM
接続された高抵抗負荷R,Rで構成されたフリップ
フロップで記憶素子が構成され、それが、ワード線WL
で選択制御される伝送用トランスファゲートQ,Q
を介してビット線対BL,▲▼に接続される。従っ
てフリップフロップの内部ノードN,Nには相補の
データが保持される。これは高抵抗負荷形スタティック
メモリセルと呼ばれる。ワード線WLは、ワード線駆動
回路Sを通じて駆動され、選択時に“1”の出力がで
る。ビット線BL,▲▼はビット線負荷Q,Q
でプルアップされている。ここでワード線駆動回路
,ビット線プルアップ負荷,高抵抗負荷,ならびに
一般に周辺回路全般には、内部電源電圧降下回路の出力
MMが供給されている。VMMの駆動はこの例では、内部
電源電位Vrefをゲート入力とし、ドレインを外部電源
電圧VCCに接続したソースフォロアNMOSトランジス
タQによって行なわれる。
(Prior Art) In this type of semiconductor memory device, when the thickness of the gate oxide film becomes thinner as the miniaturization of the MOSFET progresses, the problem such as the breakdown voltage of the gate oxide film is reduced to the external level. The supply voltage of 5 V cannot be applied as it is between the gate and source of the MOSFET, and it is necessary to lower the IC external supply voltage by using the internal power supply voltage drop circuit to ensure the reliability of the MOSFET. The reason why the internal power supply voltage down circuit must be used is that the gate length is 0.6 μm or less. FIG. 6 shows an example of a circuit around a memory cell of a conventional SRAM assuming such a case. As a representative, one memory cell on one bit line is shown. M
C is a static memory cell, and N is cross-coupled.
Type MOSFET transistors Q 3 and Q 4 and a flip-flop composed of high resistance loads R 1 and R 2 connected to the internal power supply potential V MM constitute a memory element, which is a word line WL.
Transfer gates Q 1 and Q 2 selectively controlled by
To the bit line pair BL, ▲ ▼. Therefore, complementary data is held in the internal nodes N 1 and N 2 of the flip-flop. This is called a high resistance load type static memory cell. The word line WL is driven through the word line drive circuit S 1 and outputs “1” when selected. Bit line BL, ▲ ▼ are bit line loads Q 5 , Q 6
It has been pulled up with. Here, the output V MM of the internal power supply voltage drop circuit is supplied to the word line drive circuit S 1 , the bit line pull-up load, the high resistance load, and generally all the peripheral circuits. In this example, V MM is driven by a source follower NMOS transistor Q L whose internal power supply potential V ref is used as a gate input and whose drain is connected to an external power supply voltage V CC .

(発明が解決しようとする課題) 一般的な内部電源降下回路の特性を第7図に示す。内部
参照電位Vrefは、外部電圧VCCがある電圧Vref0を越
えるとリミッタがかかり、外部電圧VCCにかかわらず一
定電位になる。これに応じて電圧VMMは、ソースフォロ
アの特性上トランジスタのしきい値Vだけ下がった
「VREF−V」の電圧になる。
(Problems to be Solved by the Invention) FIG. 7 shows the characteristics of a general internal power supply down circuit. Internal reference voltage V ref is consuming limiter exceeds a voltage V ref0 there is an external voltage V CC, a constant potential regardless of the external voltage V CC. Accordingly, the voltage V MM becomes a voltage of “V REF −V T ”, which is lowered by the threshold V T of the transistor due to the characteristics of the source follower.

従って従来例によるスタティック型メモリでは、内部電
源降下回路を用いない場合に比べて、Vref0より低い領
域ではワード線の電位の選択時の出力が、Vだけ低く
なる。ところで、一般的に第6図によるスタティック型
メモリセルの特性はワード線電圧に強く依存する。即
ち、第6図の例で内部ノードNが高電位,Nが低電
位の場合を考えると、書き込み時の内部ノードNの電
位Vはワード線電位をVWL,伝送ゲートQのしきい
値をVLLとすると V=VWL−VTT となる。これは高抵抗負荷R,Rの抵抗値が非常に
大きいためである。このVが低いと、これが低電位側
のドライバトランジスタQのしきい値VTDより低くな
ってしまい、トランジスタQがオンせず低電位側の電
位がでなくなり、フリップフロップとしての安全性が成
立しなくなり、セルMCがデータを保持できなくなる。
また、仮にV>VTDでも、その差が少なくなるとドラ
イバトランジスタQの駆動力が低くなり、セル電流を
引けなくなり、アクセスタイムの遅れが生ずる。従って
従来の方式では、セルの低電位側の電源電圧マージンが
小さくなり、内部電源降圧回路を用いない場合に比べて
動作最少電源電圧VCCminが悪化するという欠点があ
る。
Therefore, in the static memory according to the conventional example, the output at the time of selecting the potential of the word line becomes V T lower in the region lower than V ref0 , as compared with the case where the internal power supply down circuit is not used. By the way, generally, the characteristics of the static memory cell according to FIG. 6 strongly depend on the word line voltage. That is, considering the case where the internal node N 2 has a high potential and N 1 has a low potential in the example of FIG. 6, the potential V H of the internal node N 2 at the time of writing is the word line potential V WL , the transmission gate Q 2 the V H = V WL -V TT when the threshold to V LL. This is because the resistance values of the high resistance loads R 1 and R 2 are very large. When this V H is low, it becomes lower than the threshold value V TD of the driver transistor Q 3 on the low potential side, the transistor Q 3 does not turn on, the potential on the low potential side disappears, and the safety as a flip-flop is achieved. Is not established and the cell MC cannot hold data.
Further, even if V H > V TD , if the difference is small, the driving force of the driver transistor Q 3 becomes low, the cell current cannot be drawn, and the access time is delayed. Therefore, the conventional method has a drawback that the power supply voltage margin on the low potential side of the cell becomes small and the minimum operating power supply voltage V CC min becomes worse than in the case where the internal power supply voltage down circuit is not used.

本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、内部電源降
下回路を用いても動作最少電圧を悪化させない半導体記
憶装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device in which the minimum operating voltage is not deteriorated even when an internal power supply down circuit is used.

[発明の構成] (課題を解決するための手段と作用) 本発明は、フリップフロップを記憶要素とし上記フリッ
プフロップの相補のデータを保持する入出力端子対がワ
ード線により選択制御される伝送ゲートを通じてビット
線対に接続されたスタティック型メモリセルと、上記ワ
ード線を駆動するワード線駆動回路と、外部印加電源電
位を降圧し半導体チップ内の回路の内部電源電位として
供給する電源電圧降下回路と、上記ワード線に内部電源
電位を印加した上記スタティック型メモリセルのビット
線駆動電流をモニターするダミーセル構成のセル電流モ
ニター回路と、上記ダミーセルの駆動電流が一定の値以
上の時は内部電源電位を、上記一定の値以下の値の時は
外部印加電源電位を上記ワード線駆動回路に供給する供
給電源切り替え回路とを具備したことを特徴とする半導
体記憶装置である。
[Configuration of the Invention] (Means and Actions for Solving the Problems) The present invention relates to a transmission gate in which a pair of input / output terminals holding flip-flops as storage elements for holding complementary data of the flip-flops are selectively controlled by word lines. A static type memory cell connected to a bit line pair through a word line drive circuit for driving the word line, and a power supply voltage drop circuit for stepping down an externally applied power supply potential and supplying it as an internal power supply potential of a circuit in a semiconductor chip. , A cell current monitor circuit of a dummy cell configuration for monitoring the bit line drive current of the static type memory cell in which an internal power supply potential is applied to the word line, and the internal power supply potential when the drive current of the dummy cell is a certain value or more. , When the value is equal to or less than the certain value, the power supply switching circuit that supplies the externally applied power supply potential to the word line drive circuit A semiconductor memory device characterized by being provided and.

即ち本発明は、セルの低電位側のセル引き込み電流をモ
ニターするダミーセルを用いて、このダミーセルのセル
引き込み電流がある一定の値以下になったことを検出し
てワード線駆動回路の供給電圧を内部降下電圧VMMから
外部電圧VCCに切り換えることで、ワード線電位を外部
電位VCCにし、動作最少電圧を悪化させないことを特徴
とする。
That is, the present invention uses a dummy cell that monitors the cell pull-in current on the low potential side of the cell, detects that the cell pull-in current of this dummy cell is below a certain value, and determines the supply voltage of the word line drive circuit. By switching from the internal voltage drop V MM to the external voltage V CC , the word line potential is set to the external potential V CC and the minimum operating voltage is not deteriorated.

(実施例) 以下図面を参照して本発明の一実施例を説明する。第1
図は同実施例の回路図であるが、これは第6図のものと
対応させた場合の例であるから、同一個所には同一符号
を付して説明を省略し、特徴とする点のみを抽出して説
明する。即ち、ワード線駆動回路Sの供給電圧VWDRV
は、ゲート入力を内部参照電位Vrefとするソースフォ
ロア接続されたNMOSトランジスタQL2と、それと並
列に接続されたPMOSトランジスタQL3によって供給
される。このトランジスタQL3のゲートには、内部電源
電位VMMがワード線WLに印加された時に、メモリセル
の低電位側のセル引き込み電流Icellをモニターするセ
ル電流モニター回路1の出力VMONの反転電位 が入力されている。この電位VMONはセル引き込み電流
cellが読み出し動作に不充分なほど小さかったことを
検出して、“1”出力が出るように制御されている。
Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. First
The figure is a circuit diagram of the same embodiment, but since this is an example of a case corresponding to that of FIG. 6, the same parts are designated by the same reference numerals and description thereof is omitted, and only the characteristic points are shown. Will be explained. That is, the supply voltage V WDRV of the word line drive circuit S 1
Is supplied by a source follower-connected NMOS transistor Q L2 whose gate input is the internal reference potential V ref, and a PMOS transistor Q L3 connected in parallel with it. The gate of the transistor Q L3, when the internal power supply potential V MM is applied to the word line WL, and the inverted output V MON cell current monitor circuit 1 for monitoring the cell current draw I cell of the low potential side of the memory cell potential Has been entered. The potential V MON is controlled so as to output "1" by detecting that the cell pull-in current I cell is small enough for the read operation.

第2図に本発明によるセル電流モニター回路の一実施例
を示す。トランジスタQ′,Q′はセル伝送ゲート
と同等のサイズをもち、トランジスタQ′はセルドラ
イバトランジスタQ,Qと同等のサイズをもつ。Q
′,Q′には内部電源電位VMMが供給され、Q
のソースは抵抗Rを介して接地されている。Q′の
ドレインは抵抗Rを介して内部電源電位VMMに、
′のドレインはVMMに直接接続されている。抵抗R
を十分大きくすることにより、ノードN′はセルの
書き込み時の高電位側の内部ノードVと同じかあるい
は若干低い電圧V′が出るため、これによってトラン
ジスタQ′はオンして、ノードN′が低電位制の内
部ノードを模擬することになる。これによりトランジス
タQ′,Q′,Q′,Rでダミーセルを構成す
る。低抗RをVMM/Rがセルの引き込み電流Icell
が読み出しにとって不十分な値となる境界値Icellcrit
icalになるように設定しておく。こうすることにより、
MMが低くなってきてセルの引き込み電流が不十分にな
る電圧VMMCになると、モニター電圧の出力VMONはVMM
にプルアップされる。反対にVMMが高くセル引き込み電
流Icellが十分になると、VMONは接地電位に落ちる。
FIG. 2 shows an embodiment of the cell current monitor circuit according to the present invention. The transistors Q 1 ′ and Q 2 ′ have the same size as the cell transmission gate, and the transistor Q 3 ′ has the same size as the cell driver transistors Q 3 and Q 4 . Q
Internal power supply potential V MM is supplied to 1 ′ and Q 2 ′, and Q 2
Is grounded via a resistor R N. The drain of Q 1 ′ is connected to the internal power supply potential V MM via the resistor R M ,
The drain of Q 2 'is directly connected to V MM . Resistance R
By making N large enough, the voltage V H ′ at the node N 2 ′, which is the same as or slightly lower than the internal node V H on the high potential side at the time of writing of the cell, appears, so that the transistor Q 3 ′ is turned on. , The node N 1 ′ imitates a low potential internal node. Thus, the transistors Q 1 ′, Q 2 ′, Q 3 ′, and R N form a dummy cell. Low anti- RM is V MM / RM is cell draw current I cell
Is an inadequate value for reading I cell crit
Set it to be ical. By doing this,
When the current draw of V MM is becoming lower cell becomes the voltage V MMC become insufficient, the output V MON monitor voltage V MM
Is pulled up to. On the contrary, when V MM is high and the cell pull-in current I cell is sufficient, V MON drops to the ground potential.

この様子を第3図に示す。このような特性をもつセル電
流モニター回路を用いることにより、ダミーセルの駆動
電流が不十分な状態になると、インバータSの出力 が“0”になり、PMOSトランジスタQL3がオンしてV
WDRVを外部電位VCCにプルアップする。これによってワ
ード線電位が内部降圧電位VMMから外部電位VCCに上る
ため、セルMCの安定性が増し、読み出し可能な状態に
なる。第4図に本発明第2図,第3図の実施例によるワ
ード線供給電位VWDRVの外部電圧VCC依存性を示した。
A点でセル電流モニター回路1の出力VMONが“1”に
なり、VWDRVを外部電圧VCCにプルアップする。これに
より、従来方式に比べて最少動作電圧が、QL2のしきい
値電圧V1V程度良くなるという効果がある。ま
た、このようにダミーセルを用いてメモリセルの典型的
な特性をモニターすることにより、プロセスの変動に対
するメモリセル特性の変動をキャンセルすることができ
る。また、周囲温度の変動によるメモリセル特性の変化
もキャンセルすることができるという効果がある。
This is shown in FIG. By using the cell current monitor circuit having such characteristics, when the drive current of the dummy cell becomes insufficient, the output of the inverter S 2 is output. Becomes "0", the PMOS transistor Q L3 turns on and V
WDRV is pulled up to the external potential V CC . As a result, the word line potential rises from the internal step-down potential V MM to the external potential V CC , so that the stability of the cell MC is increased and the cell can be read. FIG. 4 shows the dependency of the word line supply potential V WDRV on the external voltage V CC according to the embodiment of FIGS. 2 and 3 of the present invention.
At point A, the output V MON of the cell current monitor circuit 1 becomes "1", pulling up V WDRV to the external voltage V CC . As a result, the minimum operating voltage is improved by about the threshold voltage V T 1V of Q L2 as compared with the conventional method. Further, by monitoring the typical characteristics of the memory cell using the dummy cell in this way, it is possible to cancel the fluctuation of the memory cell characteristics due to the fluctuation of the process. Further, there is an effect that it is possible to cancel the change in the memory cell characteristic due to the change in the ambient temperature.

第5図に本発明の他の実施例として、内部電源VMM駆動
回路として、ソースフォロア接続のNMOSFET の替わり
に、エミッタフォロア接続のNPNバイポーラトランジ
スタQ′を用いた場合を示す。この場合、動作は第1
図の例と同じであるが、Vref−VMMはバイポーラトラ
ンジスタの順方向電圧V(0.8V)となる。
As another embodiment of the present invention, FIG. 5 shows a case where an emitter follower-connected NPN bipolar transistor Q L ′ is used as an internal power source V MM drive circuit instead of a source follower-connected NMOSFET. In this case, the operation is the first
Although it is the same as the example in the figure, V ref −V MM becomes the forward voltage V f (0.8 V) of the bipolar transistor.

このような半導体記憶装置によれば、セルの低電位側の
セル引き込み電流Icellをモニターするダミーセル1を
用いて、このダミーセルのセル引き込み電流がある一定
の値以下になったことを検出してワード線駆動回路S
の供給電圧を内部降下電圧VMMから外部電圧VCCに切換
えることで、ワード線電位VWLをVCCにすることによ
り、ワード線電位の内部電位降下回路の駆動トランジス
タのしきい値電圧Vによる降下による最少動作電圧の
悪化がなくなり、従来の内部電源電圧降下回路を用いた
スタティック形メモリに比べて最少動作電圧がVすな
わち約1Vだけ向上するものである。
According to such a semiconductor memory device, by using the dummy cell 1 that monitors the cell pull-in current I cell on the low potential side of the cell, it is detected that the cell pull-in current of this dummy cell is below a certain value. Word line drive circuit S 1
By switching the supply voltage of the internal voltage drop V MM from the external voltage V CC to set the word line potential V WL to V CC , the threshold voltage V T of the drive transistor of the internal potential drop circuit of the word line potential As a result, the minimum operating voltage is prevented from being deteriorated due to the drop due to the voltage drop, and the minimum operating voltage is improved by V T, that is, about 1 V, as compared with the conventional static type memory using the internal power supply voltage dropping circuit.

[発明の効果] 以上説明した如く本明によれば、内部電源降下回路を用
いた場合でもメモリ動作最少電圧が悪化しない半導体記
憶装置が提供できるものである。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor memory device in which the minimum voltage for memory operation does not deteriorate even when an internal power supply down circuit is used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す回路図、第2図は同回
路の一部詳細図、第3図はその電圧特性図、第4図は同
回路のワード線駆動回路の供給電源電圧依存性を示す特
性図、第5図は本発明の他の実施例の回路図、第6図は
従来例の回路図、第7図は同回路の内部電源降下回路の
電圧特性図である。 Q,Q……メモリセルの伝送ゲート、Q,Q
…メモリセルのドライバトランジスタ、R,R……
メモリセルの高抵抗負荷、Q,Q……ビット線プル
アップ用PMOSFET 、Q……内部電源駆動用ソースフォ
ロアNMOSFET 、QL2……ワード線供給電源駆動用ソース
フォロアNMOSFET 、QL3……ワード線供給電源駆動用PM
OSFET 、S……ワード線駆動回路、MC……メモリセ
ル、WL……ワード線、BL,▲▼……ビット線、
MM……内部電源電位、 ……セル電流モニタ出力、Vref……内部参照電位、V
WDRV……ワード線駆動回路供給電位、▲▼……ロー
デコーダ出力、Q′……内部電源駆動用エミッタフォ
ロアNPNバイポーラトランジスタ、QL2′……ワード
線駆動回路供給電源駆動用エミッタフォロワNPNバイ
ポーラトランジスタ、1……セル電流モニター回路(ダ
ミーセル)。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a partial detailed view of the same circuit, FIG. 3 is its voltage characteristic diagram, and FIG. 4 is a power supply for a word line drive circuit of the same circuit. FIG. 5 is a characteristic diagram showing voltage dependence, FIG. 5 is a circuit diagram of another embodiment of the present invention, FIG. 6 is a circuit diagram of a conventional example, and FIG. 7 is a voltage characteristic diagram of an internal power supply down circuit of the circuit. . Q 1, Q 2 transmission gate of ...... memory cell, Q 3, Q 4 ...
... Memory cell driver transistors, R 1 , R 2 ...
High resistance load memory cell, Q 5, Q 6 ...... bit line pull-up PMOSFET, Q L ...... internal supply voltage driving source follower NMOSFET, Q L2 ...... word line power supply for driving the source follower NMOSFET, Q L3 ... … Word line power supply drive PM
OSFET, S 1 ... word line drive circuit, MC ... memory cell, WL ... word line, BL, ▲ ▼ ... bit line,
V MM ... internal power supply potential, …… Cell current monitor output, V ref …… Internal reference potential, V
WDRV ...... word line drive circuit supply potential, ▲ ▼ ...... row decoder output, Q L '...... internal supply voltage driving the emitter follower NPN bipolar transistor, Q L2' ...... word line drive circuit supplies power for driving the emitter follower NPN bipolar Transistor, 1 ... Cell current monitor circuit (dummy cell).

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】フリップフロップを記憶要素とし上記フリ
ップフロップの相補のデータを保持する入出力端子対が
ワード線により選択制御される伝送ゲートを通じてビッ
ト線対に接続されたスタティック型メモリセルと、上記
ワード線を駆動するワード線駆動回路と、外部印加電源
電位を降圧し半導体チップ内の回路の内部電源電位とし
て供給する電源電圧降下回路と、上記ワード線に内部電
源電位を印加した上記スタティック型メモリセルのビッ
ト線駆動電流をモニターするダミーセル構成のセル電流
モニター回路と、上記ダミーセルの駆動電流が一定の値
以上の時は内部電源電圧を、上記一定の値以下の値の時
は外部印加電源電位を上記ワード線駆動回路に供給する
供給電源切り替え回路とを具備したことを特徴とする半
導体記憶装置。
1. A static memory cell having a flip-flop as a storage element and a pair of input / output terminals for holding complementary data of the flip-flop connected to a bit line pair through a transmission gate selectively controlled by a word line, A word line drive circuit for driving a word line, a power supply voltage dropping circuit for stepping down an externally applied power supply potential and supplying it as an internal power supply potential of a circuit in a semiconductor chip, and the static memory in which the internal power supply potential is applied to the word line. A cell current monitor circuit of a dummy cell configuration that monitors the bit line drive current of the cell, and an internal power supply voltage when the dummy cell drive current is a certain value or more, and an externally applied power supply potential when the dummy cell drive current is a certain value or less. And a power supply switching circuit that supplies the word line drive circuit to the semiconductor memory device.
【請求項2】上記フリップフロップとして、ソースを接
地した第1のドライバMOSFETと、ソースを接地しゲート
を第1のドライバMOSFETのドレインに、ドレインを第1
のドライバMOSFETのゲートに接続した第2のドライバMO
SFETと、上記第1のドライバMOSFETのドレインと内部電
源電位との間に接続した第1の負荷抵抗と、第2のドラ
イバMOSFETのドレインと内部電源電位との間に接続した
第2の負荷抵抗からなる高抵抗負荷型フリップフロップ
を用いることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶
装置。
2. As the flip-flop, a first driver MOSFET whose source is grounded, a source is grounded, a gate is a drain of the first driver MOSFET, and a drain is a first
Second driver MO connected to the gate of the driver MOSFET of
SFET, a first load resistor connected between the drain of the first driver MOSFET and the internal power supply potential, and a second load resistor connected between the drain of the second driver MOSFET and the internal power supply potential 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a high resistance load type flip-flop consisting of is used.
【請求項3】上記ダミーセルとして、上記第1,第2の
ドライバMOSFETと同等のデイメンジョンを有しソースを
接地したダミードライバMOSFETと、上記伝送ゲートと同
等のデイメンジョンを有しソースを上記ダミードライバ
MOSFETのゲートにゲートを内部電源電位にドレインを内
部電源電位に接続した第1のダミー伝送ゲート用MOSFET
と、ソースを上記ダミードライバMOSFETのドレインにゲ
ートを内部電源電位に接続した第2のダミー伝送ゲート
用ゲートMOSFETと、上記第1のダミー伝送ゲート用MOSF
ETのソースと接地電位の間に接続したプルダウン抵抗
と、上記第2のダミー伝送ゲート用MOSFETのドレインと
内部電源電位との間に接続したプルアップ抵抗を有し、
上記第2のダミー伝送ゲート用MOSFETの電位を出力モニ
ター電位とした回路を用いることを特徴とする請求項2
に記載の半導体記憶装置。
3. A dummy driver MOSFET having the same dimensions as those of the first and second driver MOSFETs and having a source grounded, and a source having the same dimension as the transmission gate as the dummy cell. Above dummy driver
First dummy transmission gate MOSFET in which the gate is connected to the gate of the MOSFET and the drain is connected to the internal power potential
A second dummy transmission gate gate MOSFET having a source connected to the drain of the dummy driver MOSFET and a gate connected to an internal power supply potential; and the first dummy transmission gate MOSF.
It has a pull-down resistor connected between the source of ET and the ground potential, and a pull-up resistor connected between the drain of the second dummy transmission gate MOSFET and the internal power supply potential,
3. A circuit using the potential of the second dummy transmission gate MOSFET as an output monitor potential is used.
The semiconductor memory device according to 1.
【請求項4】上記ワード線駆動回路の供給電源切り替え
回路として、上記モニター回路出力をゲート入力とし、
外部供給電位をソースに、ワード線駆動回路の電源電位
をドレインに接続したP型MOSFETと、ゲートに内部電源
参照電位、ドレインを外部供給電位、ソースをワード線
駆動回路の電源電位に接続したN型MOSFETからなる回路
を用いることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶
装置。
4. A monitor circuit output is used as a gate input as a power supply switching circuit of the word line drive circuit,
A P-type MOSFET in which an external supply potential is connected to a source and a power supply potential of a word line drive circuit is connected to a drain, an internal power supply reference potential is connected to a gate, a drain is connected to an external supply potential, and a source is connected to a power supply potential of a word line drive circuit. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a circuit including a MOSFET is used.
【請求項5】上記ワード線駆動回路の供給電源切り替え
回路として、上記モニター回路出力をゲート入力とし外
部供給電位をソースに、ワード線駆動回路の電源電位を
ドレインに接続したP型MOSFETと、ベースを内部電源参
照電位、コレクタを外部供給電位、エミッタをワード線
駆動回路の電源電位に接続したNPN型バイポーラトラ
ンジスタからなる回路を用いることを特徴とする請求項
1に記載の半導体記憶装置。
5. A P-type MOSFET in which the monitor circuit output is used as a gate input and the external supply potential is connected to the source and the power supply potential of the word line drive circuit is connected to the drain, as a supply power switching circuit of the word line drive circuit, and a base. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a circuit composed of an NPN bipolar transistor in which is connected to an internal power supply reference potential, a collector is connected to an external supply potential, and an emitter is connected to a power supply potential of a word line drive circuit is used.
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