JPH0644210A - Method for finding band gap of crystal - Google Patents

Method for finding band gap of crystal

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JPH0644210A
JPH0644210A JP21731192A JP21731192A JPH0644210A JP H0644210 A JPH0644210 A JP H0644210A JP 21731192 A JP21731192 A JP 21731192A JP 21731192 A JP21731192 A JP 21731192A JP H0644210 A JPH0644210 A JP H0644210A
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JP
Japan
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band gap
crystal
cluster
calculation
atoms
Prior art date
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Application number
JP21731192A
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Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Kimura
仁史 木村
Toshiharu Imanaga
俊治 今永
Takanori Hayafuji
貴範 早藤
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To precisely find out the band gap of crystal of various materials including an unknown material in a short time without actually manufacturing the crystal. CONSTITUTION:Cluster calculation is carried out by using a molecule track method by a DV-Xalpha method (discrete calculus of variation for local density approximating method) for a cluster selected for the crystal whose band gap is to be found, thereby finding the band gap of the crystal. For this cluster calculation, it is considered that all atoms of the same kind in the cluster are equivalent in charge density distribution and when an atom track function as the base function of the molecule track method by the DV-Xalpha method is found, the value of the coefficient alpha of a term of electron-electron exchanging operation is adjusted.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、結晶のバンドギャッ
プを求める方法に関し、例えば新物質のバンドギャップ
を予測する場合などに適用して好適なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for determining the band gap of a crystal, and is suitable for use in, for example, predicting the band gap of a new substance.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、新物質のバンドギャップを求める
場合には、実際にその物質を作製して光吸収法によりバ
ンドギャップを直接測定したり、第一原理バンド計算や
クラスター計算などによりバンドギャップを計算したり
していた。
2. Description of the Related Art Conventionally, when a band gap of a new substance is obtained, the substance is actually prepared and the band gap is directly measured by an optical absorption method, or the band gap is calculated by the first principle band calculation or cluster calculation. Was calculated.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上述の光吸収法により
バンドギャップを実際に測定する方法は、バンドギャッ
プを正確に求めることができるが、測定に先立ってその
物質を高純度かつ清浄な結晶として作製する必要がある
ため、時間がかかり、費用も高くつく。特に、ある特性
を有する物質を探索する場合には、多くの物質について
試作する場合もあるため、膨大な時間と費用とを要す
る。
The method for actually measuring the bandgap by the above-mentioned optical absorption method can accurately determine the bandgap, but prior to the measurement, the substance is converted into a highly pure and clean crystal. Since it needs to be manufactured, it is time-consuming and expensive. In particular, when searching for a substance having a certain property, many substances may be trial-produced, which requires a huge amount of time and cost.

【0004】また、上述の第一原理バンド計算によりバ
ンドギャップを計算する方法は、周期的境界条件を用い
てバンド構造自体を求めることができるが、計算量が膨
大になるため、現在のコンピュータの能力では計算に要
する時間が著しく長くなってしまう。その上、バンドギ
ャップの値そのものに50%程度もの誤差が生じてしま
う。
In addition, in the method of calculating the band gap by the above-mentioned first principle band calculation, the band structure itself can be obtained by using the periodic boundary condition, but the amount of calculation becomes enormous, so that the current computer With the ability, the time required for the calculation becomes remarkably long. Moreover, an error of about 50% occurs in the band gap value itself.

【0005】さらに、上述のクラスター計算によりバン
ドギャップを計算する方法は、バンドギャップを求める
べき結晶の一部を切り出して仮想的な分子(クラスタ
ー)とみなし、分子軌道計算を行うことによりバンドギ
ャップを求めるものであるが、この計算をまともに行う
と、多くの場合、クラスターサイズを極めて大きくしな
いと、求められるバンドギャップは実際のバンドギャッ
プよりも大きくなってしまう。例えば、シリコン(S
i)の場合には、クラスターサイズを1000原子程度
にしないと、実際のバンドギャップに近いバンドギャッ
プは得られない。しかし、現在のコンピュータの能力で
は、クラスターサイズが100〜200原子程度までの
計算が限界であるため、この方法によりバンドギャップ
を正確に求めることは困難である。
Further, in the method of calculating the band gap by the above cluster calculation, a part of the crystal for which the band gap is to be obtained is cut out and regarded as a virtual molecule (cluster), and the molecular orbital calculation is performed to calculate the band gap. As expected, if this calculation is done properly, in many cases, the required band gap will be larger than the actual band gap unless the cluster size is made extremely large. For example, silicon (S
In the case of i), a band gap close to the actual band gap cannot be obtained unless the cluster size is set to about 1000 atoms. However, it is difficult to accurately determine the band gap by this method because the current computer capacity is limited to the calculation of cluster sizes up to about 100 to 200 atoms.

【0006】従って、この発明の目的は、未知物質を含
む各種の物質の結晶のバンドギャップを、実際にその結
晶を作製することなく、短時間でしかも精度良く求める
ことができる結晶のバンドギャップを求める方法を提供
することにある。
Therefore, an object of the present invention is to obtain a crystal band gap of a crystal of various substances including an unknown substance, which can be accurately obtained in a short time without actually producing the crystal. It is to provide a method of seeking.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明は、バンドギャップを求めるべき結晶に対
して選ばれたクラスターについて離散変分局所密度近似
法による分子軌道法を用いてクラスター計算を行うこと
により結晶のバンドギャップを求めるようにした結晶の
バンドギャップを求める方法であって、クラスター計算
を行うに当たり、クラスター中の全ての同一種類の原子
の電荷密度分布が等価であるとみなすとともに、離散変
分局所密度近似法による分子軌道法における基底関数と
なる原子軌道関数を求める際に電子−電子の交換相互作
用の項の係数の値を調節するようにしたものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a cluster calculation using a molecular orbital method by a discrete variation local density approximation method for a cluster selected for a crystal whose band gap is to be obtained. This is a method for determining the band gap of a crystal by performing the above, and when performing the cluster calculation, it is considered that the charge density distributions of all the atoms of the same type in the cluster are equivalent. , The value of the coefficient of the term of the electron-electron exchange interaction is adjusted when the atomic orbital function which is the basis function in the molecular orbital method by the discrete variational local density approximation method is obtained.

【0008】[0008]

【作用】上述のように構成されたこの発明による結晶の
バンドギャップを求める方法によれば、計算によりバン
ドギャップを求めるようにしているので、実際に結晶を
作製する必要がない。また、離散変分局所密度近似法に
よる分子軌道法を用いてクラスター計算を行うようにし
ていることから、バンド計算によりバンドギャップを計
算する場合のように多くの波数空間についてそれぞれ計
算を行う必要がないため計算に要する時間は少なくて済
み、しかも精度良くバンドギャップを求めることができ
る。
According to the method of obtaining the band gap of the crystal according to the present invention having the above-described structure, the band gap is obtained by calculation, so that it is not necessary to actually produce the crystal. In addition, since the cluster calculation is performed by using the molecular orbital method based on the discrete variational local density approximation method, it is necessary to perform the calculation for each of many wave number spaces like the case of calculating the band gap by the band calculation. Since there is no such calculation, the time required for calculation is short, and the band gap can be obtained with high accuracy.

【0009】[0009]

【実施例】以下、この発明の一実施例について図面を参
照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0010】この実施例においては、分子軌道法として
離散変分(Discrete Variational)局所密度近似法(以
下「DV−Xα法」という)を用いてクラスター計算を
行うことにより半導体材料のバンドギャップを求める。
In this embodiment, a band gap of a semiconductor material is obtained by performing cluster calculation using a discrete variational local density approximation method (hereinafter referred to as "DV-Xα method") as a molecular orbital method. .

【0011】このDV−Xα法は、一般的な第一原理分
子軌道法と異なり、電子−電子の交換相互作用の部分に
局所密度近似を用いることにより計算量を少なくした分
子軌道法であり、半導体、遷移金属、希土類元素などを
含む化合物の電子状態を計算することができるものであ
る。このDV−Xα法については、足立裕彦著「量子材
料化学入門―DV−Xα法からのアプローチ―」(三共
出版、1991年)やJ. Chem. Phys., vol. 65(1976)3
629 などで解説されているが、その概略を示すと図4の
ようになる。図4中、行列要素の計算のステップにおけ
るHijは共鳴積分、Sijは重なり積分、ω(rk )はサ
ンプル点rk の重み、φi (rk )は基底関数(原子軌
道関数)、H(rk )はハミルトニアンであり、また永
年方程式の計算におけるHはHijを要素とする行列、S
はSijを要素とする行列、Cは分子軌道を基底関数の線
形結合で表したときの各基底関数の係数を成分とするベ
クトルである。
Unlike the general first-principles molecular orbital method, the DV-Xα method is a molecular orbital method in which the calculation amount is reduced by using the local density approximation in the part of the electron-electron exchange interaction, The electronic states of compounds containing semiconductors, transition metals, rare earth elements, etc. can be calculated. Regarding this DV-Xα method, Hirohiko Adachi “Introduction to Quantum Material Chemistry-Approach from DV-Xα Method” (Sankyo Publishing, 1991) and J. Chem. Phys., Vol. 65 (1976) 3
As explained in 629, etc., its outline is shown in Fig. 4. In FIG. 4, H ij is the resonance integral, S ij is the overlap integral, ω (r k ) is the weight of the sample point r k , and φ i (r k ) is the basis function (atomic orbital function) in the step of calculating the matrix elements. , H (r k ) is a Hamiltonian, and H in the calculation of the secular equation is a matrix whose elements are H ij , S
Is a matrix having S ij as an element, and C is a vector having a coefficient of each basis function when the molecular orbital is represented by a linear combination of basis functions.

【0012】この実施例においては、クラスターモデル
に基づいてバンドギャップの計算を行うが、この際にク
ラスターの末端部分をどのように処理するかが問題にな
る。この末端部分は水素(H)原子によってターミネー
トするのが一般的であり、この実施例においてもそのよ
うにする(図1参照)。
In this embodiment, the band gap is calculated based on the cluster model, but at this time, the problem is how to process the end portion of the cluster. This terminal portion is generally terminated by a hydrogen (H) atom, and this is the case in this example (see FIG. 1).

【0013】このクラスターモデルに基づく計算を行う
際には、以下の(1)、(2)の仮定をする。
When performing the calculation based on this cluster model, the following assumptions (1) and (2) are made.

【0014】(1)クラスター中の全ての同一種類の原
子の電荷密度分布あるいは電子のポピュレーション(占
有数)を等価に扱う。具体的に言えば、例えばSiの場
合には、1s、2s、2p、3s、3p軌道のそれぞれ
の電子数をクラスター中の全てのSi原子について連動
して変化させていく。また、クラスターの末端部分をタ
ーミネートするH原子の1s軌道の電子数についても、
全てのH原子について連動して変化させる。
(1) The charge density distribution of all atoms of the same kind in a cluster or the population (occupation number) of electrons is treated equivalently. Specifically, for example, in the case of Si, the number of electrons in each of 1s, 2s, 2p, 3s, and 3p orbits is changed in association with all Si atoms in the cluster. Also, regarding the number of electrons in the 1s orbit of the H atom that terminates the terminal part of the cluster,
Change all H atoms in tandem.

【0015】(2)DV−Xα法により分子軌道計算を
行う場合、電子−電子の交換相互作用の項の係数αの値
は通常は全て0.7とおいて計算を行っているが、この
実施例におけるクラスターモデルでは、基底関数となる
原子軌道関数を求める際に、αの値として0.7よりも
やや大きい値を用いる。具体的には、クラスター中の各
原子について、Xα法により計算した全エネルギーの値
がハートリー・フォック(Hartree-Fock)法により計算
した全エネルギーの値と等しくなるように決めたαの値
を用いる。このようなαの値は、周期律表上のほとんど
の原子について求められており、H原子で0.9780
4、ヘリウム(He)原子で0.77298、リチウム
(Li)原子で0.78147となり、その後原子番号
が大きくなるにつれて徐々に減少していき、Si原子で
は0.72751となり、より重い原子では2/3に近
づく。
(2) When the molecular orbital calculation is performed by the DV-Xα method, the coefficient α of the term of the electron-electron exchange interaction is usually set to 0.7, but this calculation is performed. In the cluster model in the example, a value slightly larger than 0.7 is used as the value of α when obtaining the atomic orbital function that is the basis function. Specifically, for each atom in the cluster, the value of α determined so that the value of total energy calculated by the Xα method is equal to the value of total energy calculated by the Hartree-Fock method is To use. Such a value of α has been obtained for most of the atoms on the periodic table, and is 0.9780 for H atoms.
4, helium (He) atoms are 0.77298, lithium (Li) atoms are 0.78147, and then gradually decrease as the atomic number increases, becoming 0.72751 for Si atoms and 2 for heavier atoms. It approaches / 3.

【0016】具体例 Specific example

【0017】図1に示すような71個のSi原子及び6
0個のH原子から成るSi7160クラスターについて、
最適化を行った後のSi原子及びH原子の電子のポピュ
レーション分布を計算したところ、以下のような結果が
得られた。
71 Si atoms and 6 as shown in FIG.
For a Si 71 H 60 cluster consisting of 0 H atoms,
When the population distribution of electrons of Si atoms and H atoms after the optimization was calculated, the following results were obtained.

【0018】 ─────────────────────── 原子 原子軌道 電子のポピュレーション ─────────────────────── Si 1s 2.000 2s 2.000 2p 6.001 3s 1.376 3p 2.530 H 1s 1.110 ────────────────────────────────────────────── Atomic atomic orbital Electron population ────────────────── ────── Si 1s 2.000 2s 2.000 2p 6.001 3s 1.376 3p 2.530 H 1s 1.110 ─────────────────── ─────

【0019】上表の電子のポピュレーションの値は、S
7160クラスター中の全てのSi原子及びH原子につ
いて連動して変化させた。そして、この条件の下でさら
に電子−電子の交換相互作用の項の係数αの値を以下の
(a)、(b)の二通りに変化させ、その電子状態につ
いて調べた。
The value of the electron population in the above table is S
All Si and H atoms in the i 71 H 60 cluster were changed in a coordinated manner. Then, under this condition, the value of the coefficient α of the term of the electron-electron exchange interaction was further changed in the following two ways (a) and (b), and the electronic state was investigated.

【0020】(a)αの値を全て0.7とする。すなわ
ち、Si原子に対してα=0.7、H原子に対してα=
0.7、分子軌道(MO)に対してα=0.7とする。
(A) All values of α are set to 0.7. That is, α = 0.7 for Si atoms and α = for H atoms.
0.7, and α = 0.7 with respect to the molecular orbital (MO).

【0021】(b)原子軌道を求める際に、全エネルギ
ーの値がハートリー・フォック法により計算した場合に
得られる全エネルギーの値と等しくなるようなαの値を
用いる。すなわち、Si原子に対してα=0.7275
1、H原子に対してα=0.97804、MOに対して
α=0.7である。
(B) When obtaining the atomic orbital, a value of α is used so that the total energy value becomes equal to the total energy value obtained when the calculation is performed by the Hartree-Fock method. That is, α = 0.7275 for Si atom
1, α = 0.97804 for H atoms and α = 0.7 for MO.

【0022】上記(a)、(b)の場合について計算に
より得られたエネルギーレベルを図2に示す。
FIG. 2 shows the energy levels obtained by calculation in the cases (a) and (b) above.

【0023】図2の(a)の場合、HOMO(最高占有
軌道)とLUMO(最低空軌道)とのエネルギー差Eg
(結晶のバンドギャップに相当する)は3.74eVで
あるが、実際のSi結晶に対するEg の実測値は1.1
eVであるから、このクラスター計算で得られるE
g は、Si結晶に対するEg の実測値に比べて3倍以上
も大きいことがわかる。これに対して、図2の(b)の
場合には、Eg の値は1.12eVとなり、Si結晶に
対するEg の実測値1.1eVと非常に良く一致してい
ることがわかる。
In the case of FIG. 2 (a), the energy difference E g between the HOMO (highest occupied orbital) and the LUMO (lowest unoccupied orbital) E g
(Corresponding to the band gap of the crystal) is 3.74 eV, but the measured value of E g for the actual Si crystal is 1.1.
eV, so E obtained by this cluster calculation
It can be seen that g is more than three times larger than the measured value of E g for Si crystal. On the other hand, in the case of FIG. 2B, the value of E g is 1.12 eV, which is very close to the measured value of E g of 1.1 eV for Si crystal.

【0024】以上に説明したクラスター計算において
は、Si7160クラスター中の全てのSi原子及びH原
子についてそれぞれ電子のポピュレーション分布を連動
して変化させたが、次に、クラスターの形状を考慮した
対称性(Cs(鏡映)対称)における等価な位置の原子
同士についてだけ電子のポピュレーション分布を連動し
て変化させて再度電子状態計算を行った(この場合の原
子の種類は79)。ここで、電子−電子の交換相互作用
の項の係数αの値は上記の(a)、(b)と同様に設定
し、それぞれの場合について計算によりエネルギーレベ
ルを求めた。その結果を図3に示す。
In the cluster calculation described above, the electron population distributions of all Si atoms and H atoms in the Si 71 H 60 cluster were changed in conjunction with each other. Next, the shape of the cluster was considered. The electronic state calculation was performed again by changing the electron population distribution in conjunction only with the atoms at the equivalent positions in the symmetry (Cs (mirror) symmetry) (the number of atoms in this case is 79). Here, the value of the coefficient α of the term of the electron-electron exchange interaction was set in the same manner as in the above (a) and (b), and the energy level was calculated for each case. The result is shown in FIG.

【0025】図3の(a)の場合には、Eg =4.09
eVとなり、Si7160クラスター中の全てのSi原子
及びH原子について電子のポピュレーション分布を連動
して変化させた場合の結果(3.74eV(図2の
(a)参照))に比べてやや大きな値となっている。ま
た、図3の(b)の場合、すなわちαの値を上記(b)
のように設定した場合には、Eg =3.92eVとな
り、図3の(a)の場合と比べてほとんど変化していな
いことがわかる。
In the case of FIG. 3A, E g = 4.09
eV, which is higher than the result (3.74 eV (see (a) in FIG. 2)) when the electron population distribution is changed in conjunction with all Si atoms and H atoms in the Si 71 H 60 cluster. It is a relatively large value. In the case of (b) of FIG. 3, that is, the value of α is
When set as above, E g = 3.92 eV, which means that there is almost no change compared with the case of FIG.

【0026】以上の結果をまとめると、上記(1)、
(2)の条件を同時に満足した場合にのみ、実際のSi
結晶に対するバンドギャップの実測値と非常に良く一致
したバンドギャップを求めることができることがわか
る。
Summarizing the above results, the above (1),
Only if the condition (2) is satisfied at the same time, the actual Si
It can be seen that it is possible to obtain a bandgap that matches the measured value of the bandgap for the crystal very well.

【0027】以上のように、この実施例によれば、バン
ドギャップを求めるべき半導体材料の結晶に対して選ば
れたクラスター中の全ての同一種類の原子の電荷密度分
布あるいは電子のポピュレーションが等価であるとみな
し、さらに分子軌道法における基底関数となる原子軌道
関数を求める際に電子−電子の交換相互作用の項の係数
αの値を調節してDV−Xα法による分子軌道法を用い
たクラスター計算を行うことによりバンドギャップを求
めるようにしているので、結晶のバンドギャップを、こ
の結晶を実際に作製することなく、精度良く求めること
ができる。しかも、バンド計算によりバンドギャップを
求める場合のように多くの波数空間についてそれぞれ計
算する必要がないので、計算に要する時間は短くて済
む。
As described above, according to this embodiment, the charge density distribution of all atoms of the same kind in the cluster selected for the crystal of the semiconductor material whose band gap is to be determined or the electron population is equivalent. In addition, the molecular orbital method by the DV-Xα method was used by adjusting the coefficient α of the term of the electron-electron exchange interaction in obtaining the atomic orbital function which is the basis function in the molecular orbital method. Since the band gap is obtained by performing the cluster calculation, the band gap of the crystal can be obtained accurately without actually producing the crystal. In addition, since it is not necessary to calculate each of many wave number spaces unlike the case of obtaining the band gap by band calculation, the time required for the calculation can be short.

【0028】この実施例による手法は、特に新物質の結
晶のバンドギャップを知りたい場合などに適用して好適
なものである。
The method according to this embodiment is particularly suitable for application when it is desired to know the band gap of a crystal of a new substance.

【0029】以上、この発明の一実施例につき具体的に
説明したが、この発明は、上述の実施例に限定されるも
のではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変形
が可能である。
Although one embodiment of the present invention has been specifically described above, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made based on the technical idea of the present invention. .

【0030】例えば、上述の実施例においてSi結晶の
バンドギャップを計算する際に用いたSi7160クラス
ターは単なる一例に過ぎず、他のクラスターを用いるこ
とも可能である。
For example, the Si 71 H 60 cluster used in calculating the band gap of the Si crystal in the above-mentioned embodiment is merely an example, and other clusters can be used.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、未知物質を含む各種の物質の結晶のバンドギャップ
を、実際にその結晶を作製することなく、短時間でしか
も精度良く求めることができる。
As described above, according to the present invention, the band gaps of crystals of various substances including unknown substances can be accurately obtained in a short time without actually producing the crystals. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例においてクラスターとして
用いられるSi7160クラスターを示す略線図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a Si 71 H 60 cluster used as a cluster in one embodiment of the present invention.

【図2】この発明の一実施例においてクラスターとして
用いられるSi7160クラスター中の全てのSi原子及
びH原子の電荷密度分布が等価であるとみなしてDV−
Xα法による分子軌道法を用いたクラスター計算を行う
ことにより求められたMOのエネルギーレベルを示す図
である。
FIG. 2 shows that the charge density distributions of all Si atoms and H atoms in a Si 71 H 60 cluster used as a cluster in one embodiment of the present invention are regarded as equivalent DV-
It is a figure which shows the energy level of MO calculated | required by performing the cluster calculation using the molecular orbital method by X (alpha) method.

【図3】Cs対称性によって決められた等価原子の電荷
密度分布が等価であるとみなしてDV−Xα法による分
子軌道法を用いたクラスター計算を行うことにより求め
られたMOのエネルギーレベルを示す図である。
FIG. 3 shows the energy level of MO obtained by performing cluster calculation using the molecular orbital method by the DV-Xα method, assuming that the charge density distribution of equivalent atoms determined by Cs symmetry is equivalent. It is a figure.

【図4】DV−Xα法による分子軌道法の概略を示すフ
ローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart showing an outline of a molecular orbital method based on the DV-Xα method.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 バンドギャップを求めるべき結晶に対し
て選ばれたクラスターについて離散変分局所密度近似法
による分子軌道法を用いてクラスター計算を行うことに
より結晶のバンドギャップを求めるようにした結晶のバ
ンドギャップを求める方法であって、 上記クラスター計算を行うに当たり、上記クラスター中
の全ての同一種類の原子の電荷密度分布が等価であると
みなすとともに、上記離散変分局所密度近似法による分
子軌道法における基底関数となる原子軌道関数を求める
際に電子−電子の交換相互作用の項の係数の値を調節す
るようにしたことを特徴とする結晶のバンドギャップを
求める方法。
1. A crystal band gap of a crystal for which a band gap of the crystal is to be obtained by performing cluster calculation on a cluster selected for a crystal for which a band gap is to be obtained by using a molecular orbital method by a discrete variational local density approximation method. A method of obtaining a band gap, which is considered to be equivalent to the charge density distributions of all the atoms of the same kind in the cluster in performing the cluster calculation, and the molecular orbital method based on the discrete variational local density approximation method. A method for obtaining a band gap of a crystal, characterized in that a value of a coefficient of an electron-electron exchange interaction term is adjusted when obtaining an atomic orbital function which is a basis function in.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6225860B1 (en) 1997-10-27 2001-05-01 Kondenshi Corporation Source voltage detecting circuit
CN112992290A (en) * 2021-03-17 2021-06-18 华北电力大学 Perovskite band gap prediction method based on machine learning and cluster model

Cited By (3)

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