JPH0636927Y2 - Ion flow control recording head - Google Patents

Ion flow control recording head

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JPH0636927Y2
JPH0636927Y2 JP5346388U JP5346388U JPH0636927Y2 JP H0636927 Y2 JPH0636927 Y2 JP H0636927Y2 JP 5346388 U JP5346388 U JP 5346388U JP 5346388 U JP5346388 U JP 5346388U JP H0636927 Y2 JPH0636927 Y2 JP H0636927Y2
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electrode
control
voltage
ion flow
flow control
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功 伊藤
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Description

【考案の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本考案はイオン流を用いて静電記録を行う記録装置に使
用されるイオン流制御記録ヘッドに係わり、特にその駆
動部の制御電圧を安定化したイオン流制御記録ヘッドに
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Industrial field of application" The present invention relates to an ion flow control recording head used in a recording device that performs electrostatic recording using an ion flow, and particularly stabilizes the control voltage of its drive unit. Ionized flow control recording head.

「従来の技術」 イオン流制御記録ヘッドは、イオンの流れを制御するこ
とにより記録媒体上に静電潜像を形成するために用いら
れるものである。
"Prior Art" An ion flow control recording head is used to form an electrostatic latent image on a recording medium by controlling the flow of ions.

第6図および第7図はこのイオン流制御記録ヘッドの動
作原理を説明するためのものである。(特開昭60-89373
号公報参照)。第6図に示す装置で断面コ字状のイオン
発生器11はその内部空間にコロナワイヤ12を張設してい
る。電源13によってイオン発生器11とコロナワイヤ12の
間に数キロボルトの高圧を発生させると、コロナ放電が
生じコロナワイヤ12からイオンが発生する。イオン発生
器11に対向して対向電極14を配置し、これを接地してお
く。すると、発生したイオンはイオン発生器11と対向電
極14によって形成される電界により、両者11、14の間に
配置されたイオン流制御孔15を通過して対向電極14の方
向に進行する。ここでイオン流制御孔15は、例えば直径
100〜500μm程度の孔である。
6 and 7 are for explaining the operating principle of this ion flow control recording head. (JP-A-60-89373
(See the official gazette). In the apparatus shown in FIG. 6, an ion generator 11 having a U-shaped cross section has a corona wire 12 stretched in its internal space. When a high voltage of several kilovolts is generated between the ion generator 11 and the corona wire 12 by the power supply 13, corona discharge occurs and ions are generated from the corona wire 12. A counter electrode 14 is arranged so as to face the ion generator 11 and is grounded. Then, the generated ions pass through the ion flow control hole 15 disposed between the ion generator 11 and the counter electrode 14 and proceed toward the counter electrode 14 due to the electric field formed by the both. Here, the ion flow control hole 15 has, for example, a diameter.
It is a hole of about 100 to 500 μm.

イオン流制御孔15に対するイオンの通過量は、上部制御
電極16と下部制御電極17によって形成される電界によっ
て制御される。電源18は、この制御のために用意された
ものである。すなわち、第6図に示すように電源18が接
続されていると、イオン発生器11とコロナワイヤ12によ
って形成される電界と、上部制御電極16と下部制御電極
17によって形成される電界が同一の方向に設定される。
この場合には、イオンはイオン流制御孔15を図示のイオ
ン流19のように通過し、対向電極14の手前に設けられた
記録媒体21上に電荷が蓄積される。
The amount of ions passing through the ion flow control hole 15 is controlled by the electric field formed by the upper control electrode 16 and the lower control electrode 17. The power supply 18 is provided for this control. That is, when the power source 18 is connected as shown in FIG. 6, the electric field formed by the ion generator 11 and the corona wire 12, the upper control electrode 16 and the lower control electrode
The electric fields formed by 17 are set in the same direction.
In this case, the ions pass through the ion flow control hole 15 like the ion flow 19 shown in the figure, and charges are accumulated on the recording medium 21 provided in front of the counter electrode 14.

一方、第7図に示すように上部制御電極16と下部制御電
極17に電源18を逆に接続すると、電界が逆となりイオン
はイオン流22のような形態をとる。従って、このときに
はイオン流制御孔15をイオンが通過せず、記録媒体21上
に電荷が蓄積されない。
On the other hand, as shown in FIG. 7, when the power source 18 is reversely connected to the upper control electrode 16 and the lower control electrode 17, the electric field is reversed and the ions take the form of the ion flow 22. Therefore, at this time, the ions do not pass through the ion flow control hole 15, and no charge is accumulated on the recording medium 21.

第6図および第7図に示す原理で、記録媒体21上に所望
のパターンで静電潜像の形成が行われることになる。
According to the principle shown in FIGS. 6 and 7, an electrostatic latent image is formed on the recording medium 21 in a desired pattern.

第8図は、以上のような原理のイオン流制御記録ヘッド
を用いた記録装置の要部を表わしたものである。(特開
昭59-190854号参照)。この提案された装置には、上部
および下部にスリット23、24が設けられたシールド25の
内部空間に、放電ワイヤ(コロナワイヤ)26が設けられ
ている。シールド25は導電体例えばステンレスによって
作られており、その下端部分には絶縁板27を介して基板
28が配置されている。基板28のシールド25と対向する面
には、所定の間隔で多数の電極を並設した電極アレイ29
が形成されている。電極アレイ29を構成する各電極はイ
オン制御用の制御回路31の出力側に接続されている。
FIG. 8 shows a main part of a recording apparatus using the ion flow control recording head having the above principle. (See JP-A-59-190854). In the proposed device, a discharge wire (corona wire) 26 is provided in the internal space of a shield 25 having slits 23, 24 at the upper and lower portions. The shield 25 is made of a conductor such as stainless steel, and the lower end portion of the shield 25 is covered with an insulating plate 27.
28 are arranged. An electrode array 29 in which a large number of electrodes are arranged in parallel at a predetermined interval on the surface of the substrate 28 facing the shield 25.
Are formed. Each electrode forming the electrode array 29 is connected to the output side of a control circuit 31 for ion control.

第9図は第8図に示した装置のII−II断面図である。こ
の図に示すようにシールド25は接地されており、放電ワ
イヤ26には電源33から正の電圧が印加されている。ま
た、基板28上に形成された電極アレイ29には、前記した
制御回路31によって選択的に所定のパルス電圧が印加さ
れるようになっている。
FIG. 9 is a sectional view taken along line II-II of the apparatus shown in FIG. As shown in this figure, the shield 25 is grounded, and a positive voltage is applied to the discharge wire 26 from a power source 33. Further, a predetermined pulse voltage is selectively applied to the electrode array 29 formed on the substrate 28 by the control circuit 31 described above.

このような装置で矢印34で示したようにシールド25のス
リット23からエアーが送り込まれると、このエアーはス
リット24を経て矢印35方向に所定量ずつ排出されること
になる。放電ワイヤ26には正の電圧が印加されているの
で、ここから正のイオン36が発生し、シールド25方向に
向かって流れる。このうちこれらの一部はエアーの流れ
と共にスリット24を通過し、矢印35方向に流出しようと
する。
When the air is sent from the slit 23 of the shield 25 as shown by the arrow 34 in such an apparatus, the air is discharged through the slit 24 in the direction of the arrow 35 by a predetermined amount. Since a positive voltage is applied to the discharge wire 26, positive ions 36 are generated from this and flow toward the shield 25. Some of them pass through the slit 24 along with the flow of air and try to flow out in the direction of arrow 35.

ところで、エアーの流出する方向には、絶縁体からなる
記録媒体37が配置されている。記録媒体37の背面には負
電源38に接続された対向電極39が配置されている。従っ
て、電極アレイ29の正の高電圧が印加された部分では、
イオン36がスリット24を通過せず、記録媒体37の対応す
る部分にはイオンの供給がない。これに対して電極アレ
イ29のこのような高電圧が印加されない部分では、イオ
ン36がスリット24を通過して記録媒体37の対応する部分
に供給される。記録媒体37が矢印41方向に所定の速度で
副走査されるものとすれば、これにより記録媒体37上に
所定の静電潜像が形成されることになる。
By the way, a recording medium 37 made of an insulating material is arranged in the air outflow direction. On the back surface of the recording medium 37, a counter electrode 39 connected to a negative power source 38 is arranged. Therefore, in the portion of the electrode array 29 to which the positive high voltage is applied,
The ions 36 do not pass through the slit 24, and no ions are supplied to the corresponding portion of the recording medium 37. On the other hand, in such a portion of the electrode array 29 to which such a high voltage is not applied, the ions 36 pass through the slit 24 and are supplied to the corresponding portion of the recording medium 37. If the recording medium 37 is sub-scanned in the direction of arrow 41 at a predetermined speed, a predetermined electrostatic latent image is formed on the recording medium 37.

さて、第8図および第9図は多数の電極が並設された電
極アレイ29によって主走査方向におけるイオン供給のコ
ントロールを行った。第10図は、これに対して第6図お
よび第7図にやや近い構造のイオン流制御記録ヘッドを
側面から見た断面図である。基板43上には、所定の間隔
でピンホール44が穿たれている。ピンホール44には、そ
の上部から下部に向けてイオン流45が流れるようになっ
ている。基板43の上面には、電極アレイ46が、また下面
にはイオン流の流れを整えるための電極47が配置されて
いる。電極アレイ46には、ピンホール44の形成されてい
ない方に、制御回路31が搭載されている。この制御回路
31は、電極アレイ46に絶縁層49を介して貼着された集積
回路51、これら全体を保護するためのモールド層53とか
ら構成されている。
8 and 9, the ion supply in the main scanning direction is controlled by the electrode array 29 in which a large number of electrodes are arranged in parallel. On the other hand, FIG. 10 is a cross-sectional view of an ion flow control recording head having a structure slightly closer to that of FIGS. 6 and 7 as viewed from the side. Pinholes 44 are formed on the substrate 43 at predetermined intervals. An ion flow 45 flows from the upper part to the lower part of the pinhole 44. An electrode array 46 is arranged on the upper surface of the substrate 43, and an electrode 47 for adjusting the flow of the ion current is arranged on the lower surface. The control circuit 31 is mounted on the electrode array 46 on the side where the pinhole 44 is not formed. This control circuit
An integrated circuit 51 is attached to the electrode array 46 via an insulating layer 49, and a mold layer 53 for protecting the whole.

以上第8図〜第10図で示した2種類のイオン流制御記録
ヘッドは、それぞれの画素に対応して設けられた電極を
制御回路31によって選択的に駆動して、イオン流の制御
を行うことになる。
In the two types of ion flow control recording heads shown in FIGS. 8 to 10, the electrodes provided corresponding to the respective pixels are selectively driven by the control circuit 31 to control the ion flow. It will be.

「考案が解決しようとする課題」 このように従来提案されたイオン流制御記録ヘッドで
は、制御電圧の保持を電極自身あるいは配線が有する静
電容量に頼っていた。すなわち従来のこのような制御回
路では各電極に対応して1つずつ薄膜トランジスタを配
置し、後に詳しく説明するセレクト信号によってそれぞ
れの薄膜トランジスタが選択された時点で画像信号に応
じてこれらの薄膜トランジスタを流れる電流を制御して
いた。そしてこの電流によって静電容量に電荷を蓄積さ
せ、その有無あるいは電荷蓄積量の多少によって各電極
に印加する電圧を制御していた。
[Problems to be Solved by the Invention] In the conventional ion flow control recording head thus proposed, the control voltage is held by the electrostatic capacity of the electrode itself or the wiring. That is, in such a conventional control circuit, one thin film transistor is arranged corresponding to each electrode, and when each thin film transistor is selected by a select signal which will be described in detail later, a current flowing through these thin film transistors according to an image signal. Was in control. Electric charges are accumulated in the electrostatic capacitance by this current, and the voltage applied to each electrode is controlled depending on the presence or absence of the electric charges or the amount of accumulated charges.

従って、このような制御回路では薄膜トランジスタの電
流リークによって静電容量に保持された電荷が消失して
いくと、各電極の制御電圧を所定の値に保つことができ
ないという問題があった。このように従来のイオン流制
御記録ヘッドでは、イオン流の制御が必ずしも理想的に
行われず、高品位な画質を実現することが困難であっ
た。
Therefore, in such a control circuit, there is a problem that the control voltage of each electrode cannot be maintained at a predetermined value when the charge held in the electrostatic capacity is lost due to the current leakage of the thin film transistor. As described above, in the conventional ion flow control recording head, the ion flow is not always ideally controlled, and it is difficult to realize high-quality image quality.

そこで本考案の目的は、制御回路の出力する制御電圧を
一定に保つことのできるイオン流制御記録ヘッドを提供
することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide an ion flow control recording head capable of keeping the control voltage output from the control circuit constant.

「課題を解決するための手段」 本考案では、電極アレイと制御回路とを同一の基板上に
形成し、それぞれ次のような構成とする。
[Means for Solving the Problem] In the present invention, the electrode array and the control circuit are formed on the same substrate, and each has the following configuration.

電極アレイは、非電極部を挟んで多数の電極を配置した
もので、これらの電極に印加する電圧を画素単位で制御
することでイオン流の通過を制御する。
The electrode array has a large number of electrodes arranged with a non-electrode portion sandwiched therebetween, and the voltage applied to these electrodes is controlled on a pixel-by-pixel basis to control passage of an ion current.

制御回路は、(i)各電極に対応して設けられたコンデ
ンサと、(ii)これらコンデンサと対応して設けられ画
信号に応じた電荷をこれらコンデンサに供給する充電電
圧制御用トランジスタ、(iii)この充電電圧制御用ト
ランジスタにそれぞれ対応して設けられたプルアップ抵
抗と、(iv)これらのプルアップ抵抗からソース・ドレ
イン間に流れる電流の供給を受けると共に前記したコン
デンサによってゲート電圧を制御され、これにより変化
するプルアップ抵抗との接続点の電圧を対応する電極に
印加する制御電圧印加用トランジスタと、(v)それぞ
れの充電電圧制御用トランジスタに駆動信号を供給する
マトリックス状に配置された配線パターンとから構成さ
れる。
The control circuit includes (i) capacitors provided corresponding to the respective electrodes, (ii) charging voltage control transistors provided corresponding to the capacitors and supplying charges corresponding to the image signals to the capacitors, (iii) ) Pull-up resistors provided respectively corresponding to the charging voltage control transistors, and (iv) receiving a current flowing between the source and drain from these pull-up resistors and controlling the gate voltage by the above-mentioned capacitor. , Arranged in a matrix for supplying a drive signal to the control voltage applying transistor for applying the voltage at the connection point with the pull-up resistor that changes thereby to the corresponding electrode, and (v) each charging voltage controlling transistor. It is composed of a wiring pattern.

このように本考案にれば、それぞれの電極に対応して2
種類のトランジスタを用意し、このうちの充電電圧制御
用トランジスタでコンデンサの充電電圧を制御し、この
充電電圧によって制御電圧印加用トランジスタを制御し
て対応する電極の印加電圧を制御する。本考案の制御回
路では、制御電圧印加用トランジスタのゲートが電流を
殆ど消費しない。従って、コンデンサの充電電圧は時間
と共に変化することがなく、各電極に印加される電圧を
安定にすることができる。
Thus, according to the present invention, two electrodes are provided for each electrode.
Different types of transistors are prepared, and the charging voltage controlling transistor controls the charging voltage of the capacitor, and the charging voltage controls the control voltage applying transistor to control the applied voltage to the corresponding electrode. In the control circuit of the present invention, the gate of the control voltage applying transistor consumes almost no current. Therefore, the charging voltage of the capacitor does not change with time, and the voltage applied to each electrode can be stabilized.

「実施例」 以下実施例につき本考案を詳細に説明する。[Examples] The present invention will be described in detail below with reference to examples.

第1図は本考案の一実施例におけるイオン流制御記録ヘ
ッドの要部を表わした断面図である。第9図と同一部分
には同一の符号を付して、これらの説明を適宜省略す
る。
FIG. 1 is a sectional view showing a main part of an ion flow control recording head according to an embodiment of the present invention. The same parts as those in FIG. 9 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be appropriately omitted.

さて、この実施例のイオン流制御記録ヘッドでも、絶縁
板27を介してシールド25に基板28が取りつけられてい
る。イオン流が流出する側と反対側には、基板28の上に
絶縁層71を介して駆動部72と配線パターン73とからなる
制御回路74が形成されている。駆動部72は、後に説明す
るように薄膜トランジスタやコンデンサによって形成さ
れており、配線パターン73と同様に周知の手法でいずれ
も数μmの厚さに形成されている。制御回路74は、配線
パターン73によって電極アレイ29に接続されており、こ
れを構成する多数の電極にそれぞれ制御電圧を印加する
ようになっている。
Now, also in the ion flow control recording head of this embodiment, the substrate 28 is attached to the shield 25 via the insulating plate 27. A control circuit 74 including a drive unit 72 and a wiring pattern 73 is formed on the substrate 28 via an insulating layer 71 on the side opposite to the side from which the ion flow flows. The drive section 72 is formed of a thin film transistor and a capacitor as described later, and is formed to have a thickness of several μm by a known method like the wiring pattern 73. The control circuit 74 is connected to the electrode array 29 by a wiring pattern 73, and applies a control voltage to each of a large number of electrodes forming the array.

第2図は、このイオン流制御記録ヘッドの制御回路の回
路構成図の一部を表わしたものである。
FIG. 2 shows a part of a circuit configuration diagram of the control circuit of the ion flow control recording head.

電極アレイ29の構成単位としての電極76は、1走査ライ
ン分の画素に対応して配置されており、記録密度に応じ
て通常2000〜3000本配置されている。本実施例のイオン
流制御ヘッドでは、記録密度と記録幅との関係から電極
76を基板28上に2880本用意した。それぞれの電極76に
は、1つずつ対応して駆動部72が用意されている。ここ
で駆動部72は、画信号に応じた制御電圧を出力する回路
部分である。
The electrodes 76 as a constituent unit of the electrode array 29 are arranged corresponding to the pixels for one scanning line, and usually 2000 to 3000 are arranged according to the recording density. In the ion flow control head of this embodiment, the electrode is used because of the relationship between the recording density and the recording width.
2880 pieces of 76 were prepared on the substrate 28. A drive unit 72 is prepared for each of the electrodes 76 one by one. Here, the drive unit 72 is a circuit portion that outputs a control voltage according to the image signal.

さて、電極76および駆動部72はそれぞれM個ずつNグル
ープに分けられている。駆動部72には、1つのグループ
に1種類ずつセレクト線S1〜SNが接続されている。それ
ぞれのグループにはM個の駆動部に1つずつ対応してM
本のデータ線D1からDMが接続されている。第2図では、
第1のグループを符号で、第2のグループを符号で
表している。第3〜第Nのグループについては、図示を
省略している。このように各駆動部72は、マトリックス
状に配置されたセレクト線S1〜SNおよびデータ線D1〜DM
の信号出力の組み合わせによって選択され、そのとき制
御電圧を電極76に対して出力するようになっている。本
実施例では、Nを60に設定し、電極76の総数の2880本と
の関係からMを48に設定した。
Now, each of the electrodes 76 and the driving section 72 is divided into N groups of M pieces. The select lines S1 to SN are connected to the driving unit 72 one by one for each group. Each group has M drive units, one for each M
The data lines D1 to DM of the book are connected. In Figure 2,
The first group is represented by a code and the second group is represented by a code. Illustrations of the third to Nth groups are omitted. In this way, each drive unit 72 includes the select lines S1 to SN and the data lines D1 to DM arranged in a matrix.
Are selected according to the combination of the signal outputs of the above, and the control voltage is output to the electrode 76 at that time. In this embodiment, N is set to 60, and M is set to 48 in consideration of the total number of the electrodes 76, 2880.

第6図は駆動部の具体的な構成を表わしたものである。
駆動部72は薄膜トランジスタとしての第1および第2の
トランジスタ81、82を備えている。第1のトランジスタ
81のゲートは第2図に示したセレクト線Sに接続されて
おり、セレクト信号83が供給されるようになっている。
第1のトランジスタ81がセレクト信号83によってオンと
なったとき、すなわち該当するグループのM個の電極76
が指定されたときには、データ線D1〜DM(第2図)に供
給されたデータ信号84の各状態に応じてコンデンサ85の
充電が制御される。コンデンサ85の充電電圧は第2のト
ランジスタ82のゲートに供給されるようになっている。
そして、これによる第2のトランジスタ82のオン・オフ
制御によって、プルアップ抵抗86と第2のトランジスタ
82の接続点の電位が変動し、これが制御電圧87として対
応する電極76に印加されることになる。
FIG. 6 shows a concrete structure of the drive unit.
The drive unit 72 includes first and second transistors 81 and 82 as thin film transistors. First transistor
The gate of 81 is connected to the select line S shown in FIG. 2, and the select signal 83 is supplied.
When the first transistor 81 is turned on by the select signal 83, that is, the M electrodes 76 of the corresponding group.
Is designated, the charging of the capacitor 85 is controlled according to each state of the data signal 84 supplied to the data lines D1 to DM (FIG. 2). The charging voltage of the capacitor 85 is supplied to the gate of the second transistor 82.
The pull-up resistor 86 and the second transistor 82 are controlled by the on / off control of the second transistor 82.
The potential at the connection point of 82 fluctuates, and this is applied to the corresponding electrode 76 as the control voltage 87.

例えば本実施例では画信号の状態に応じて、データ信号
84を0ボルトと5〜30ボルトのうちの所定の電圧の一方
に設定する。もしデータ信号84が0ボルトの場合には、
コンデンサ85が充電されず、その両端に電位差が発生し
ない。このため、第2のトランジスタ82もオフ状態を保
っており、プルアップ抵抗86に印加された電圧(この場
合には30ボルト)がそれぞれ対応する電極76に印加され
ることになる。
For example, in this embodiment, the data signal is changed according to the state of the image signal.
84 is set to one of the predetermined voltages of 0 and 5 to 30 volts. If the data signal 84 is 0 volts,
The capacitor 85 is not charged and no potential difference is generated across the capacitor 85. Therefore, the second transistor 82 is also kept off, and the voltage applied to the pull-up resistor 86 (30 volts in this case) is applied to the corresponding electrode 76.

一方、データ信号84が一例として5ボルトである場合に
は、これによってコンデンサ85の充電が行われる。この
充電電圧によって第2のトランジスタ82がオンする。こ
のため、プルアップ抵抗86は電位降下を生じて電極76に
印加する電圧が0ボルトとなる。
On the other hand, if the data signal 84 is, for example, 5 volts, this causes the capacitor 85 to be charged. This charging voltage turns on the second transistor 82. Therefore, the pull-up resistor 86 causes a potential drop and the voltage applied to the electrode 76 becomes 0 volt.

さて、セレクト信号83がオフとなるとこれが次にオンと
なるまで、コンデンサ85はその充電電圧の保持を良好に
行うことができる。なぜなら第2のトランジスタ82は薄
膜トランジスタの製法上で電界効果トランジスタとして
形成されているので、コンデンサ85からゲートを介して
放電する電力は無視できる程度に微小だからである。従
って電極76の電位は時間が経過してもほとんど低下せ
ず、イオン流制御記録ヘッドのイオン流に経時変化が生
じるのを防止することができる。
Now, when the select signal 83 is turned off, the capacitor 85 can well hold the charging voltage until it is turned on next time. This is because the second transistor 82 is formed as a field effect transistor in the manufacturing method of the thin film transistor, so that the electric power discharged from the capacitor 85 via the gate is negligibly small. Therefore, the potential of the electrode 76 hardly decreases with time, and it is possible to prevent the ion flow of the ion flow control recording head from changing with time.

以上説明した実施例のイオン流制御記録ヘッドでは、そ
の制御回路がマトリックス状に配置されたセレクト線S
およびデータ線Dを用いてグループ単位で駆動される。
従って、まず第1のセレクト線D1〜DMに画像データが供
給される。そして、これにより第2図に符号で示した
第1のグループについて静電潜像の形成作業が開始され
る。この後、次のタイミングで第1のセレクト線S1の指
定が解除され、代って第2のセレクト線S2の指定が行わ
れる。そして第1〜第Mのデータ線D1〜DMに第2グルー
プについての画像データが供給される。このとき、第1
のグループについてはそれぞれのコンデンサ85の充電状
態により、引続き静電潜像の形成作業が行われている。
In the ion flow control recording head of the embodiment described above, the control circuits are arranged in the select lines S arranged in a matrix.
And driven by the group using the data line D.
Therefore, first, the image data is supplied to the first select lines D1 to DM. Then, the operation of forming the electrostatic latent image is started for the first group indicated by the symbol in FIG. After that, the designation of the first select line S1 is canceled at the next timing, and the designation of the second select line S2 is performed instead. Then, the image data for the second group is supplied to the first to Mth data lines D1 to DM. At this time, the first
With respect to the group (2), the electrostatic latent image forming operation is continuously performed depending on the charged state of each capacitor 85.

以下同様にして、第3〜第Nのグループについて静電潜
像の形成のための作業が行われていく。このようにして
1主走査ラインについての静電潜像の形成作業が行わ
れ、これが1ラインずつ繰り返されることで潜像の形成
が進行していく。このとき、主走査速度を副走査速度に
較べて十分高速で行うことはもちろんである。
In the same manner, the work for forming the electrostatic latent images is performed on the third to Nth groups. In this way, an electrostatic latent image is formed on one main scanning line, and the latent image is formed by repeating this line by line. At this time, the main scanning speed is, of course, sufficiently higher than the sub-scanning speed.

「変形例」 第4図は本考案のイオン流制御記録ヘッドの変形例を説
明するためのものである。この変形例のイオン流制御記
録ヘッドは先の実施例と同様の回路構成と成っている
が、基板の構成に工夫が行われている。
"Modification" FIG. 4 is for explaining a modification of the ion flow control recording head of the present invention. The ion flow control recording head of this modification has the same circuit configuration as that of the previous embodiment, but the substrate configuration is devised.

すなわち、第4図に示すようにこのイオン流制御記録ヘ
ッドではガラス等の基板91の上に導体92を数μmの厚さ
で形成している。このような導体92の形成は、金属ペー
ストの焼成あるいは蒸着等によって実現することができ
る。導体92の上には、同じく数μmの厚さで、抵抗層93
が形成される。抵抗層93は、有機媒体中に金属、カーボ
ン等からなる導体粉を分散させ抵抗値を調整したもの
で、単位正方形当たりの表面抵抗としては103Ω/□な
いし103Ω/□が適当である。この範囲よりも抵抗値が
低いと、電極アレイの非電極部としての絶縁成を保てな
い。またこの範囲によりも高くなると、電極間がイオン
によって帯電されやすくなり、イオン流の流れが妨害さ
れてしまうからである。
That is, as shown in FIG. 4, in this ion flow control recording head, a conductor 92 is formed with a thickness of several μm on a substrate 91 such as glass. The formation of such a conductor 92 can be realized by firing or vapor deposition of a metal paste. On the conductor 92, a resistance layer 93 having a thickness of several μm is also used.
Is formed. The resistance layer 93 has a resistance value adjusted by dispersing a conductor powder made of metal, carbon or the like in an organic medium, and a surface resistance per unit square of 10 3 Ω / □ to 10 3 Ω / □ is suitable. If the resistance value is lower than this range, the insulation formation as the non-electrode portion of the electrode array cannot be maintained. Also, if the height is higher than this range, the gap between the electrodes is likely to be charged with ions, and the flow of the ion current is disturbed.

この変形例では、基板91としてガラスを使用し、導体92
としてアルミニウムを使用した。また抵抗層93として
は、ウレタン中にカーボンを分散させたものを使用し、
これを接地した。抵抗層93の上には、電極94のパターン
を形成した。
In this modification, glass is used as the substrate 91 and the conductor 92
Aluminum was used as. Further, as the resistance layer 93, one in which carbon is dispersed in urethane is used,
This was grounded. A pattern of electrodes 94 was formed on the resistance layer 93.

この第4図で示したように、この変形例では抵抗層93を
基板91上の一部に配置しているが、基板91の全面に配置
してもよい。第5図はこの場合の回路構成を表わしたも
のである。このようにこの場合には、電極76が抵抗95を
介して接地されることになる。ここで抵抗95とは、抵抗
層93の抵抗分に隣接間電極の抵抗分を加えたものであ
る。この場合であってもプルアップ抵抗86の抵抗値とこ
のプルアップ抵抗86に接続された電源の電圧を適当に選
択すれば、電極76に30ボルト程度の電圧を印加すること
は容易である。また、この変形例では非電極部のみに抵
抗層や導体層を取りつけるが、これは現状の微細加工技
術で特に困難とされるものではない。
As shown in FIG. 4, the resistance layer 93 is arranged on a part of the substrate 91 in this modification, but it may be arranged on the entire surface of the substrate 91. FIG. 5 shows a circuit configuration in this case. Thus, in this case, the electrode 76 is grounded via the resistor 95. Here, the resistance 95 is the resistance of the resistance layer 93 plus the resistance of the adjacent electrodes. Even in this case, if the resistance value of the pull-up resistor 86 and the voltage of the power supply connected to the pull-up resistor 86 are appropriately selected, it is easy to apply a voltage of about 30 V to the electrode 76. Further, in this modification, the resistance layer and the conductor layer are attached only to the non-electrode portion, but this is not particularly difficult in the current fine processing technology.

以上説明した変形例では、例えばガラス等からなる非電
極部の表面が、通過するイオンの影響によって帯電する
ことを有効に防止することができ、イオン流の通過に障
害を生じさせない。従って、この意味でも画質不良を防
止して高品位な画像の形成を行わせることが可能にな
る。
In the modified example described above, the surface of the non-electrode part made of glass or the like can be effectively prevented from being charged by the effect of passing ions, and the passage of the ion flow is not hindered. Therefore, also in this sense, it becomes possible to prevent the image quality from being defective and form a high-quality image.

「考案の効果」 このように本考案によれば薄膜トランジスタをそれぞれ
2段構成として電圧制御用にコンデンサを配置したの
で、比較的容量の少ないコンデンサであっても十分制御
電圧を安定化させることができ、この分だけ駆動部分の
応答性を良くすることができる。また、本考案では電極
をマトリックス状にグループ化したので、配線の総量を
減少させることができる。
[Advantage of Invention] As described above, according to the present invention, since the thin film transistors are configured in two stages and the capacitors are arranged for voltage control, the control voltage can be sufficiently stabilized even if the capacitors have a relatively small capacity. The responsiveness of the driving portion can be improved by this amount. In addition, since the electrodes are grouped in a matrix in the present invention, the total amount of wiring can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図〜第3図は本考案の一例を説明するためのもの
で、このうち第1図はイオン流制御記録ヘッドの側面を
示す断面図、第2図は制御回路の回路構成の一部を表わ
したブロック図、第3図は駆動部の具体的な構成を表わ
した回路図、第4図は変形例における基板の構造を示す
断面図、第5図は基板全面に抵抗層を配置した場合の駆
動部の具体的な構成を表わした回路図、第6図および第
7図はイオン流制御記録ヘッドの動作原理を示す原理
図、第8図は従来提案されたイオン流制御記録ヘッドの
要部を示す斜視図、第9図はイオン流制御記録ヘッドを
使用した記録装置の一部断面図、第10図は他のイオン流
制御原理を示す原理図である。 76……電極、83……配線パターン、 81……第1のトランジスタ(充電電圧制御用)、 82……第2のトランジスタ(制御電圧印加用)、 86……プルアップ抵抗、93……抵抗層。
1 to 3 are for explaining an example of the present invention, in which FIG. 1 is a sectional view showing a side surface of an ion flow control recording head, and FIG. 2 is a part of a circuit configuration of a control circuit. FIG. 3 is a block diagram showing the structure, FIG. 3 is a circuit diagram showing a concrete structure of the driving unit, FIG. 4 is a cross-sectional view showing the structure of the substrate in a modified example, and FIG. FIG. 6 and FIG. 7 are principle diagrams showing the operating principle of the ion flow control recording head, and FIG. 8 is a diagram of a conventionally proposed ion flow control recording head. FIG. 9 is a perspective view showing a main part, FIG. 9 is a partial sectional view of a recording apparatus using an ion flow control recording head, and FIG. 10 is a principle view showing another principle of ion flow control. 76 ... Electrode, 83 ... Wiring pattern, 81 ... First transistor (for charging voltage control), 82 ... Second transistor (for control voltage application), 86 ... Pull-up resistor, 93 ... Resistor layer.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】非電極部を挟んで多数の電極を配置しこれ
らの電極に印加する電圧を画素単位で制御することでイ
オン流の通過を制御する電極アレイと、 前記各電極に対応して設けられたコンデンサと、 これらコンデンサと対応して設けられ画信号に応じた電
荷をこれらコンデンサに供給する充電電圧制御用トラン
ジスタと、 この充電電圧制御用トランジスタにそれぞれ対応して設
けられたプルアップ抵抗と、 これらのプルアップ抵抗からソース・ドレイン間に流れ
る電流の供給を受けるとともに前記コンデンサによって
ゲート電圧を制御し、これにより変化する前記プルアッ
プ抵抗との接続点の電圧を対応する電極に印加する制御
電圧印加用トランジスタと、 それぞれの充電電圧制御用トランジスタに駆動信号を供
給するマトリックス状に配置された配線パターンとを有
し、 前記電極アレイと同一基板上に配置された制御回路 とを具備することを特徴とするイオン流制御記録ヘッ
ド。
1. An electrode array for controlling the passage of an ion current by arranging a large number of electrodes with a non-electrode portion interposed therebetween and controlling a voltage applied to these electrodes on a pixel-by-pixel basis. Capacitors provided, charging voltage control transistors that are provided corresponding to these capacitors and that supply charges according to image signals to these capacitors, and pull-up resistors that are provided corresponding to these charging voltage control transistors, respectively. And, the gate voltage is controlled by the capacitor while the current flowing between the source and the drain is supplied from these pull-up resistors, and the voltage at the connection point with the pull-up resistor that changes by this is applied to the corresponding electrode. A matrix-like transistor that supplies control signals and the drive signals to each charge voltage control transistor. And a placed wiring pattern, ion flow control recording head characterized by comprising a control circuit disposed on the electrode array on the same substrate.
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