JPH06342332A - Transparent drawing pad - Google Patents

Transparent drawing pad

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Publication number
JPH06342332A
JPH06342332A JP31297293A JP31297293A JPH06342332A JP H06342332 A JPH06342332 A JP H06342332A JP 31297293 A JP31297293 A JP 31297293A JP 31297293 A JP31297293 A JP 31297293A JP H06342332 A JPH06342332 A JP H06342332A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transparent
elastic layer
insulating
substrate
drawing pad
Prior art date
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Pending
Application number
JP31297293A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Matsuda
田 政 幸 松
Michio Komatsu
松 通 郎 小
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Original Assignee
Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd filed Critical Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd
Priority to JP31297293A priority Critical patent/JPH06342332A/en
Publication of JPH06342332A publication Critical patent/JPH06342332A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To improve light transmissivity by forming an insulating transparent elastic layer between transparent electrodes. CONSTITUTION:The transparent drawing pad 10 has a couple of transparent substrates 2a and 2b, and the transparent electrodes 3a and 3b are formed on one-side surfaces of the respective transparent substrates 2. Then the couple of transparent substrates 2a and 2b are arranged having the transparent electrodes 3a and 3b opposite each other. The insulating transparent elastic layer 4 is formed between the transparent electrodes 3a and 3b, which are adjusted to a certain interval through the insulating elastic layer 4. The Young's modulus of the insulating transparent elastic layer 4 is preferably 1X10<2>-1X10<6> dyne/cm<2>. Consequently, the transparent drawing pad 10 has the spacer only between the transparent electrodes 3a and 3b and is made superior to a conventional transparent drawing pad which has an air layer present between transparent electrodes.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の技術分野】本発明は、手書き画像入力用として
好適な透明描画パッドに関し、特に光透過性に優れた透
明描画パッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent drawing pad suitable for inputting a handwritten image, and more particularly to a transparent drawing pad excellent in light transmittance.

【0002】[0002]

【発明の技術的背景】従来より図3に示すような透明描
画パッドが知られている。この透明描画パッド1は、透
明基板2a、2bを有し、透明基板2a、2bの片面に
はそれぞれ透明電極3a、3bが形成されている。そし
て、これら一対の透明基板2a、2bは、透明電極3
a、3b面が互いに対向するように配置されている。さ
らに、透明電極3a、3b面の少なくとも一方には、ほ
ぼ同じ高さを有する複数のドットスペーサー5が点在し
て固定され、このドットスペーサー5を介して透明電極
3a、3b間が一定間隔に調整されている。上記透明基
板2a、2bとしては、それぞれ、通常、ガラス板、プ
ラスチックフィルム等のような透明基板が用いられてい
る。また、透明電極3a、3bとしては、それぞれ、通
常、ITOなどの透明導電性被膜が用いられている。さ
らに、上記一対の透明基板2a、2bのうち、少なくと
も一方は可撓性を有している。
2. Description of the Related Art Conventionally, a transparent drawing pad as shown in FIG. 3 has been known. The transparent drawing pad 1 has transparent substrates 2a and 2b, and transparent electrodes 3a and 3b are formed on one surface of each of the transparent substrates 2a and 2b. Then, the pair of transparent substrates 2a and 2b is formed by the transparent electrode 3
The a and 3b surfaces are arranged so as to face each other. Further, a plurality of dot spacers 5 having substantially the same height are scattered and fixed on at least one of the surfaces of the transparent electrodes 3a, 3b, and the transparent electrodes 3a, 3b are spaced at regular intervals via the dot spacers 5. Has been adjusted. As the transparent substrates 2a and 2b, transparent substrates such as glass plates and plastic films are usually used. As the transparent electrodes 3a and 3b, a transparent conductive film such as ITO is usually used. Further, at least one of the pair of transparent substrates 2a and 2b has flexibility.

【0003】このような透明描画パッドでは、入力側透
明基板2a上を入力ペンで押圧すると、この押圧部に撓
みまたは歪みが生じ、この押圧部で両透明基板2a、2
b上に形成された透明電極同士が接触する。従って、入
力側透明基板2a上に入力ペンで文字、図形等を描く
と、入力ペンが摺動した軌跡に従って両透明基板2a、
2b上に形成された透明電極3a、3b同士が接触す
る。そして、この摺動軌跡に沿った位置座標(x,y)
が電気的に検出され、例えば透明描画パッドに接続され
た画像表示装置に画像が表示される。
In such a transparent drawing pad, when the input side transparent substrate 2a is pressed by the input pen, the pressing portion is bent or distorted, and the transparent portions 2a, 2
The transparent electrodes formed on b contact each other. Therefore, when a character, a figure or the like is drawn on the input side transparent substrate 2a by the input pen, both transparent substrates 2a,
The transparent electrodes 3a and 3b formed on 2b contact each other. And the position coordinates (x, y) along this sliding locus
Is electrically detected, and an image is displayed on an image display device connected to the transparent drawing pad, for example.

【0004】このような透明描画パッドを画像表示装置
の前面板上に付設する場合には、透明描画パッドの光透
過率が高く、透明描画パッドを通して画像表示装置の表
示画面に表示された微細な文字、細線等がはっきり読み
取れることが好ましい。
When such a transparent drawing pad is provided on the front plate of the image display device, the light transmittance of the transparent drawing pad is high, and the fine drawing displayed on the display screen of the image display device through the transparent drawing pad. It is preferable that characters, thin lines, etc. can be clearly read.

【0005】しかしながら、図3に示す従来の透明描画
パッド1では透明電極3a、3b間に空気層7が存在し
ており、透明電極3a、3bの屈折率は一般的に空気層
7の屈折率よりも高く、しかも両者の屈折率差が大き
い。このような空気層7のために、例えば透明基板2a
から入射した光の反射率が大きくなり、その結果、透明
基板2bを通過する光の透過率が減少する。従って、従
来の透明描画パッド1を画像表示装置の前面板上に付設
した場合には、透明描画パッドを通して画像表示装置の
表示画面に表示された微細な文字、細線等がはっきりと
読み取れない場合があるという問題点があった。
However, in the conventional transparent drawing pad 1 shown in FIG. 3, the air layer 7 exists between the transparent electrodes 3a and 3b, and the refractive index of the transparent electrodes 3a and 3b is generally the refractive index of the air layer 7. And the difference in refractive index between the two is large. For such an air layer 7, for example, the transparent substrate 2a
The reflectance of the light incident on the substrate increases, and as a result, the transmittance of the light passing through the transparent substrate 2b decreases. Therefore, when the conventional transparent drawing pad 1 is attached to the front plate of the image display device, fine characters, fine lines, etc. displayed on the display screen of the image display device may not be clearly read through the transparent drawing pad. There was a problem.

【0006】[0006]

【発明の目的】本発明は、上記従来技術の問題点を克服
するためになされたもので、従来の透明描画パッドより
も光透過性に優れた透明描画パッドを提供することを目
的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to overcome the above problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a transparent drawing pad having a higher light transmittance than the conventional transparent drawing pad.

【0007】[0007]

【発明の概要】本発明に係る透明描画パッドは、透明電
極が一方の面に形成された2枚の透明基板をそれぞれの
透明電極が対向するように配置してなる透明描画パッド
であって、前記透明電極間に絶縁性透明弾性層が形成さ
れてなることを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION A transparent drawing pad according to the present invention is a transparent drawing pad in which two transparent substrates having transparent electrodes formed on one surface are arranged so that the respective transparent electrodes face each other. An insulating transparent elastic layer is formed between the transparent electrodes.

【0008】上記本発明に係る透明描画パッドでは、絶
縁性透明弾性層のヤング率が1×102 〜1×106
yne/cm2 であることが好ましい。
In the transparent drawing pad according to the present invention, the Young's modulus of the insulating transparent elastic layer is 1 × 10 2 to 1 × 10 6 d.
It is preferably yne / cm 2 .

【0009】[0009]

【発明の具体的説明】以下本発明に係る透明描画パッド
について図面を用いて具体的に説明する。図1に本発明
に係る透明描画パッドの1例を示す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The transparent drawing pad according to the present invention will be specifically described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows an example of a transparent drawing pad according to the present invention.

【0010】この透明描画パッド10は、一対の透明基
板2a、2bを有し、それぞれの透明基板2の片面には
透明電極3a、3bが形成されている。そして、これら
一対の透明基板2a、2bは透明電極3a、3b面が互
いに対向するように配置されている。透明電極3a、3
b間には絶縁性透明弾性層4が形成され、この絶縁性透
明弾性層4を介して透明電極3a、3b間が一定間隔に
調整されている。
The transparent drawing pad 10 has a pair of transparent substrates 2a and 2b, and transparent electrodes 3a and 3b are formed on one surface of each transparent substrate 2. The pair of transparent substrates 2a and 2b are arranged so that the surfaces of the transparent electrodes 3a and 3b face each other. Transparent electrodes 3a, 3
The insulating transparent elastic layer 4 is formed between the transparent electrodes b, and the transparent electrodes 3a and 3b are adjusted to have a constant interval via the insulating transparent elastic layer 4.

【0011】上記一対の透明基板2a、2bのうちの一
方、例えば透明基板2aは、可撓性を有する材料、たと
えばポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、PE
Tフィルムという。)のような透明プラスチックフィル
ムからなっている。また、この透明基板2aの片面に
は、例えばITO薄膜などの透明導電性薄膜からなる透
明電極3aが形成されている。この透明基板2aの表面
に入力用ペンで文字、図形などの画像を描画することに
より、描画パッドを通して例えば画像表示装置(不図
示)に画像が表示される。
One of the pair of transparent substrates 2a and 2b, for example the transparent substrate 2a, is made of a flexible material such as polyethylene terephthalate film (hereinafter PE).
It is called T film. ) Like a transparent plastic film. A transparent electrode 3a made of a transparent conductive thin film such as an ITO thin film is formed on one surface of the transparent substrate 2a. By drawing an image of characters, figures, etc. on the surface of the transparent substrate 2a with an input pen, the image is displayed on, for example, an image display device (not shown) through the drawing pad.

【0012】この透明基板2aの好ましい厚さは、ペン
入力の点から透明電極3aの厚さを含めて50μm〜1
mmである。また透明基板2bは、可撓性であっても剛
直であってもよい透明基板、例えばガラス基板からなっ
ている。また、この透明基板2bの片面には、たとえば
ITO薄膜などの透明導電性薄膜からなる透明電極3b
が形成されている。
The thickness of the transparent substrate 2a is preferably 50 μm to 1 including the thickness of the transparent electrode 3a from the viewpoint of pen input.
mm. The transparent substrate 2b is a transparent substrate that may be flexible or rigid, for example, a glass substrate. Further, on one surface of the transparent substrate 2b, a transparent electrode 3b made of a transparent conductive thin film such as an ITO thin film is provided.
Are formed.

【0013】図1で示された透明描画パッド10におい
て、絶縁性透明弾性層4は、空気よりも高い屈折率を有
し、透明電極3aおよび3bと隙間なく密着している。
すなわち、透明電極3a、3b間には空気よりも高い屈
折率を有する透明弾性物質が充填され、この透明弾性物
質によって絶縁性透明弾性層4が形成されている。この
ため、絶縁性透明弾性層4と透明電極3a、3bとの屈
折率差が空気と透明電極3a、3bとの屈折率差よりも
小さくなる。従って、透明電極3a、3b間に空気層が
存在する従来の描画パッドに比較して、上記屈折率差に
起因する透明描画パッド内部での光反射が大幅に減少
し、これにより透明描画パッドの光透過性が飛躍的に増
大する。この結果、絶縁性透明弾性層4を有する透明描
画パッド10を表示装置の前面板上に付設すると、透明
描画パッド10を通して表示装置の表示画面に表示され
た画像のコントラストがほとんど低下することなく、し
かも表示画面に表示された微細な文字、細線等がはっき
りと読み取れるようになる。
In the transparent drawing pad 10 shown in FIG. 1, the insulating transparent elastic layer 4 has a refractive index higher than that of air and is in close contact with the transparent electrodes 3a and 3b without any gap.
That is, a transparent elastic material having a higher refractive index than air is filled between the transparent electrodes 3a and 3b, and the transparent elastic material forms the insulating transparent elastic layer 4. Therefore, the difference in refractive index between the insulating transparent elastic layer 4 and the transparent electrodes 3a, 3b is smaller than the difference in refractive index between air and the transparent electrodes 3a, 3b. Therefore, as compared with the conventional drawing pad having an air layer between the transparent electrodes 3a and 3b, the light reflection inside the transparent drawing pad due to the difference in the refractive index is significantly reduced, whereby the transparent drawing pad has The light transmittance is dramatically increased. As a result, when the transparent drawing pad 10 having the insulating transparent elastic layer 4 is attached on the front plate of the display device, the contrast of the image displayed on the display screen of the display device through the transparent drawing pad 10 is hardly lowered, Moreover, fine characters and fine lines displayed on the display screen can be clearly read.

【0014】すなわち、透明描画パッド10の光透過性
を高めるためには、絶縁性透明弾性層4自体の光透過率
が高く、しかも透明電極3a、3bと該絶縁性透明弾性
層4との屈折率差ができるだけ少ない方がよい。
That is, in order to increase the light transmittance of the transparent drawing pad 10, the insulating transparent elastic layer 4 itself has a high light transmittance, and the transparent electrodes 3a, 3b and the insulating transparent elastic layer 4 are refracted. The difference should be as small as possible.

【0015】また、この絶縁性透明弾性層は、所定の膜
厚を有する透明絶縁層であって、透明電極3a、3b間
のスペーサーとして機能し、透明電極3a、3b間の絶
縁性が保持されている。
The insulating transparent elastic layer is a transparent insulating layer having a predetermined film thickness, functions as a spacer between the transparent electrodes 3a and 3b, and maintains the insulating property between the transparent electrodes 3a and 3b. ing.

【0016】そして、透明基板2aを入力ペンで押圧す
ると、押圧部が変形して押圧部でのみ透明電極3a、3
b間が導通し、入力ペンを透明基板2aから離間させる
と変形した押圧部が元の状態に復元するような適度の絶
縁性、弾性および膜厚を有している。
When the transparent substrate 2a is pressed by the input pen, the pressing portion is deformed and the transparent electrodes 3a, 3
It has a proper insulating property, elasticity, and film thickness such that the b is electrically connected and the deformed pressing portion restores to its original state when the input pen is separated from the transparent substrate 2a.

【0017】上述したような機能を有する絶縁性透明弾
性層は、たとえばシリコーン系エラストマー、スチレン
系熱可塑性エラストマー、ウレタン系熱可塑性エラスト
マーなどの熱可塑性エラストマー、可撓性エポキシ樹脂
などの絶縁性透明弾性物質からなっている。
The insulative transparent elastic layer having the above-mentioned function is, for example, a thermoplastic elastomer such as a silicone elastomer, a styrene thermoplastic elastomer, a urethane thermoplastic elastomer, or an insulating transparent elastic resin such as a flexible epoxy resin. It is made of material.

【0018】さらに、透明基板2aを入力ペンで押圧す
ることにより変形した絶縁性透明弾性層4は、入力ペン
を透明基板2aから離間させた時にできるだけ速やかに
元の状態に復元することが望ましい。
Further, it is desirable that the insulating transparent elastic layer 4 deformed by pressing the transparent substrate 2a with the input pen restores the original state as quickly as possible when the input pen is separated from the transparent substrate 2a.

【0019】このためには、絶縁性透明弾性層4に、粘
性を有する樹脂、油状物質、溶剤などの物質を添加し
て、多少の粘性を付与することが好ましい。これらの粘
性物質の添加量は、絶縁性透明弾性物質100重量部当
り10〜1,000重量部が好ましい。
To this end, it is preferable to add a viscous resin, an oily substance, a solvent or the like to the insulative transparent elastic layer 4 so as to impart some viscosity. The addition amount of these viscous substances is preferably 10 to 1,000 parts by weight per 100 parts by weight of the insulating transparent elastic substance.

【0020】このことから明らかなように、本願発明で
は、絶縁性透明弾性層は、これらの粘性物質を含む絶縁
性透明粘弾性層を包含している。本発明では前記絶縁性
透明弾性物質は、圧縮時のヤング率が1×102 〜1×
106 dyne/cm2、特に1×103 〜1×106 dyne/cm2
であることが好ましい。このヤング率が1×102 dyne
/cm2未満である場合は、絶縁性透明弾性層が柔らか過ぎ
るために極めて小さな荷重でこの弾性層が変形して透明
電極3a、3b間に導通が生じ、誤動作の原因となるの
で好ましくない。逆に上記ヤング率が1×106 dyne/c
m2を越える場合は、透明電極3a、3b間に導通を生じ
させて画像入力を行なうのに必要な入力荷重が大きくな
り過ぎ、画像入力が困難になるので好ましくない。
As is apparent from this, in the present invention, the insulating transparent elastic layer includes the insulating transparent viscoelastic layer containing these viscous substances. In the present invention, the insulating transparent elastic material has a Young's modulus of 1 × 10 2 to 1 × when compressed.
10 6 dyne / cm 2 , especially 1 × 10 3 to 1 × 10 6 dyne / cm 2
Is preferred. This Young's modulus is 1 × 10 2 dyne
If it is less than / cm 2 , the insulating transparent elastic layer is too soft, and this elastic layer is deformed by an extremely small load to cause conduction between the transparent electrodes 3a and 3b, which is not preferable. Conversely, the Young's modulus is 1 × 10 6 dyne / c
When it exceeds m 2 , the input load necessary for conducting the image between the transparent electrodes 3a and 3b to input an image becomes too large, which makes the image input difficult, which is not preferable.

【0021】また、本発明では前記絶縁性透明弾性層の
体積抵抗率の範囲は2×108 〜1×1015Ω・cmで
あることが好ましい。本発明では上記のようなヤング率
および体積抵抗率を有する絶縁性透明弾性層の厚さは約
0.1〜5.0μmであることが好ましい。
In the present invention, the volume resistivity of the insulating transparent elastic layer is preferably 2 × 10 8 to 1 × 10 15 Ω · cm. In the present invention, the thickness of the insulating transparent elastic layer having Young's modulus and volume resistivity as described above is preferably about 0.1 to 5.0 μm.

【0022】上記のような絶縁性透明弾性層4を有する
透明描画パッド10は、例えば次のようにして製造する
ことができる。 1)まず、透明基板2aおよび2bの表面に、たとえば
蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法な
どの方法でITO薄膜などの透明導電性薄膜からなる透
明電極3aおよび3bを形成する。
The transparent drawing pad 10 having the insulating transparent elastic layer 4 as described above can be manufactured, for example, as follows. 1) First, the transparent electrodes 3a and 3b made of a transparent conductive thin film such as an ITO thin film are formed on the surfaces of the transparent substrates 2a and 2b by, for example, a vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method or the like.

【0023】2)次いで、この透明基板2b上に形成さ
れた透明電極3b(または透明基板2a上に形成された
透明電極3a)の表面上に、上記のような絶縁性透明弾
性物質またはその硬化前駆体、またはこれらとシリコー
ンオイル等の粘性物質との混合物を必要に応じて有機溶
媒などで希釈した後、バーコーター、スピナー、ロール
コーター、ディッピング等の塗布手段で塗布し、次い
で、加熱する等、適宜の手段で硬化することにより絶縁
性透明弾性層4を形成する。
2) Next, on the surface of the transparent electrode 3b (or the transparent electrode 3a formed on the transparent substrate 2a) formed on the transparent substrate 2b, the insulating transparent elastic substance as described above or its curing is formed. The precursor or a mixture of these and a viscous substance such as silicone oil is diluted with an organic solvent as necessary, and then applied with a coating means such as a bar coater, a spinner, a roll coater, or dipping, and then heated, etc. The insulating transparent elastic layer 4 is formed by curing by an appropriate means.

【0024】3)次いで透明基板2aの透明電極3a部
位(または透明基板2bの透明電極3b部位)を、上記
2)の工程で得られた絶縁性透明弾性層4上に貼着する
ことにより透明描画パッド10が製造される。この際、
透明電極3a(または3b)と絶縁性透明弾性層4との
間に空気層が存在しないように透明電極3a(または3
b)と絶縁性透明弾性層4とを充分に密着する。
3) Then, the transparent electrode 3a portion of the transparent substrate 2a (or the transparent electrode 3b portion of the transparent substrate 2b) is attached onto the insulating transparent elastic layer 4 obtained in the above step 2) to be transparent. The drawing pad 10 is manufactured. On this occasion,
The transparent electrode 3a (or 3b) so that an air layer does not exist between the transparent electrode 3a (or 3b) and the insulating transparent elastic layer 4
b) and the insulating transparent elastic layer 4 are sufficiently adhered.

【0025】このため、上記絶縁性透明弾性層4を形成
する際に用いられる絶縁性透明弾性層物質は、多少の粘
着性を有することが好ましく、また、絶縁性透明弾性層
4の表面は平坦であることが好ましい。
For this reason, the insulating transparent elastic layer material used when forming the insulating transparent elastic layer 4 preferably has some stickiness, and the surface of the insulating transparent elastic layer 4 is flat. Is preferred.

【0026】以上のようにして製造された透明描画パッ
ド10は、絶縁性透明弾性層4を介して透明電極3a、
3b間が所定間隔に調整され、これにより透明電極3
a、3b間が絶縁性に保持されている。
The transparent drawing pad 10 manufactured as described above includes the transparent electrode 3a, the transparent electrode 3a and the transparent transparent elastic layer 4 interposed therebetween.
3b is adjusted to a predetermined interval, whereby the transparent electrode 3
Insulating property is maintained between a and 3b.

【0027】このような構成の透明描画パッド10の基
板2a表面を入力ペン6で押圧する際、絶縁性透明弾性
層4が弾性を有しているため、この入力荷重が所定量を
越えると図2に実線で示すように基板2a、透明電極3
aおよび絶縁性透明弾性層4がともに変形し、この変形
部位で絶縁性透明弾性層4の膜厚が減少する。この膜厚
の減少量は、上記入力荷重が大きくなればなる程大きく
なる。このようにして絶縁性透明弾性層4の厚さが減少
すると、この絶縁性透明弾性層4の膜厚にほぼ比例して
絶縁性透明弾性層4の抵抗値が低下する。そして、絶縁
性透明弾性層4の膜厚が所定値よりも小さくなった時に
透明電極3a、3b間に導通が生じる。従って所定量を
越えた入力荷重をかけながら透明描画パッド10の透明
基板2a表面に入力ペン6で描画すると、描画により作
成された画像が、例えば透明描画パッドを通して画像表
示装置に表示される。
When the input pen 6 presses the surface of the substrate 2a of the transparent drawing pad 10 having such a structure, the insulating transparent elastic layer 4 has elasticity. 2, the substrate 2a and the transparent electrode 3 are shown by the solid line.
a and the insulative transparent elastic layer 4 both deform, and the film thickness of the insulative transparent elastic layer 4 decreases at this deformed portion. The amount of decrease in the film thickness increases as the input load increases. When the thickness of the insulative transparent elastic layer 4 is reduced in this way, the resistance value of the insulative transparent elastic layer 4 is reduced in proportion to the thickness of the insulative transparent elastic layer 4. Then, when the film thickness of the insulating transparent elastic layer 4 becomes smaller than a predetermined value, conduction occurs between the transparent electrodes 3a and 3b. Therefore, when the input pen 6 draws on the surface of the transparent substrate 2a of the transparent drawing pad 10 while applying an input load exceeding a predetermined amount, the image created by drawing is displayed on the image display device through the transparent drawing pad, for example.

【0028】また、絶縁性透明弾性層4が弾性を有して
いるため、入力ペン6が透明基板2a表面から移動する
と、図2に破線で示すように変形していた透明電極3a
付基板2aおよび絶縁性透明弾性層4が元の状態に復元
し、再び透明電極3a、3b間が所定間隔に調整され、
これにより透明電極3a、3b間が絶縁される。
Since the insulating transparent elastic layer 4 has elasticity, when the input pen 6 moves from the surface of the transparent substrate 2a, the transparent electrode 3a which has been deformed as shown by the broken line in FIG.
The attached substrate 2a and the insulative transparent elastic layer 4 are restored to their original state, and the transparent electrodes 3a and 3b are adjusted to a predetermined distance again,
Thereby, the transparent electrodes 3a and 3b are insulated from each other.

【0029】この際、絶縁性透明弾性層が弾性と粘性と
を同時に備えた絶縁性透明粘弾性層である場合には、入
力ペン等で押圧することにより収縮した絶縁性透明粘弾
性層が、この押圧を解除すると弾性層の時よりもより速
やかに元の状態に復元する。したがって、絶縁性透明弾
性層が絶縁性透明粘弾性層である場合には、入力ペンの
入力跡、いわゆる筆記跡が透明描画パッド内にいつまで
も残存しないという特長がある。
At this time, when the insulating transparent elastic layer is an insulating transparent viscoelastic layer having elasticity and viscosity at the same time, the insulating transparent viscoelastic layer contracted by pressing with an input pen or the like is When this pressure is released, the original state is restored more quickly than when the elastic layer is used. Therefore, when the insulative transparent elastic layer is an insulative transparent viscoelastic layer, there is a feature that an input trace of the input pen, that is, a writing trace does not remain in the transparent drawing pad forever.

【0030】本発明では絶縁性透明弾性層を形成する場
合、絶縁性透明弾性層を塗布する透明電極3b(または
3a)の表面に予め微細な突起を設けてもよい。このよ
うな突起を設けた透明電極表面には上記のような画像入
力に適した平坦な絶縁性透明弾性層が容易に形成できる
という特長がある。
In the present invention, when the insulating transparent elastic layer is formed, fine projections may be provided in advance on the surface of the transparent electrode 3b (or 3a) to which the insulating transparent elastic layer is applied. There is a feature that a flat insulating transparent elastic layer suitable for image input as described above can be easily formed on the surface of the transparent electrode provided with such protrusions.

【0031】このように透明電極表面に微細な突起を設
ける方法は特に制限されないが、例えば次のような方法
が挙げられる。 a)透明基板2b(または2a)の表面に、適宜な手段
で突起を形成し、次いでこの突起が形成された透明基板
2b(または2a)の表面に、蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレーティング法などの方法でITO薄膜な
どの透明導電性薄膜からなる透明電極3b(または3
a)を形成する。
The method for providing the fine projections on the surface of the transparent electrode in this way is not particularly limited, but the following method may be mentioned, for example. a) Protrusions are formed on the surface of the transparent substrate 2b (or 2a) by an appropriate means, and then a vapor deposition method, a sputtering method or an ion plating method is applied to the surface of the transparent substrate 2b (or 2a) on which the protrusions are formed. The transparent electrode 3b (or 3 made of a transparent conductive thin film such as an ITO thin film)
a) is formed.

【0032】b)まず透明基板2b(または2a)の表
面に透明電極3b(または3a)を形成し、次いでこの
透明電極3b(または3a)の表面に適宜な手段で導電
性突起を形成する。
B) First, the transparent electrode 3b (or 3a) is formed on the surface of the transparent substrate 2b (or 2a), and then the conductive protrusion is formed on the surface of the transparent electrode 3b (or 3a) by an appropriate means.

【0033】上記a)で透明基板の表面に突起を形成す
る方法としては、例えばシリカ等の微粒子とバインダー
とが水および/または有機溶媒に分散または溶解した塗
布液を透明基板の表面に塗布・乾燥する方法などが挙げ
られる。
As the method for forming the protrusions on the surface of the transparent substrate in the above a), for example, a coating liquid in which fine particles such as silica and a binder are dispersed or dissolved in water and / or an organic solvent is applied to the surface of the transparent substrate. Examples of the method include drying.

【0034】また、上記b)で透明電極の表面に導電性
突起を形成する方法としては、例えば導電性微粒子とバ
インダーとが水および/または有機溶媒に分散または溶
解した塗布液を透明電極付基板の透明電極表面に塗布・
乾燥する方法、あるいは導電性微粒子とアルコキシシラ
ンの部分加水分解物のようなマトリックス形成成分とを
含む塗布液を予め加熱した透明電極付基板の透明電極表
面にスプレー法で塗布し、次いで乾燥することによりリ
ング状の突起を透明電極付基板の透明電極表面に形成す
る方法などが挙げられる。
As the method for forming the conductive protrusions on the surface of the transparent electrode in the above b), for example, a coating liquid in which conductive fine particles and a binder are dispersed or dissolved in water and / or an organic solvent is used as a substrate with a transparent electrode. Apply to the transparent electrode surface of
A method of drying, or a coating solution containing conductive fine particles and a matrix-forming component such as a partial hydrolyzate of an alkoxysilane is sprayed on the transparent electrode surface of a substrate with a transparent electrode preheated, and then dried. And a method of forming a ring-shaped protrusion on the transparent electrode surface of the substrate with a transparent electrode.

【0035】次いで絶縁性透明弾性層は、例えば上記
a)、b)の方法に従って、上記のようにして形成され
た突起を有する透明電極3a、3b間に形成される。本
発明に係る描画パッドでは、上記絶縁性透明弾性層がス
ペーサの役割を果たしているので、必ずしも従来用いら
れていたスペーサーは必要でないが、透明電極3a、3
b間にスペーサーと絶縁性透明弾性層とを併用してもよ
い。
Next, the insulative transparent elastic layer is formed between the transparent electrodes 3a and 3b having the projections formed as described above, for example, according to the methods a) and b). In the drawing pad according to the present invention, since the insulating transparent elastic layer plays the role of a spacer, the spacer used heretofore is not necessarily required, but the transparent electrodes 3a, 3
A spacer and an insulating transparent elastic layer may be used together between b.

【0036】この場合、スペーサーは、従来法に従って
球状その他の形状を有するドットスペーサーを透明電極
3b(または3a)の表面に所定高さを有し、かつドッ
ト間が所定間隔を有するように形成することによって得
られる。次いでこのドットスペーサーが形成された透明
電極3b(または3a)の表面に上記方法で絶縁性透明
弾性層を形成することにより透明電極3a、3b間にド
ットスペーサーと絶縁性透明弾性層とが併用された描画
パッドが得られる。
In this case, as the spacer, a dot spacer having a spherical shape or another shape is formed on the surface of the transparent electrode 3b (or 3a) according to a conventional method so as to have a predetermined height and a predetermined interval between dots. Obtained by Next, an insulating transparent elastic layer is formed on the surface of the transparent electrode 3b (or 3a) on which the dot spacers are formed by the above method, so that the dot spacer and the insulating transparent elastic layer are used together between the transparent electrodes 3a and 3b. A drawing pad is obtained.

【0037】このドットスペーサーと絶縁性透明弾性層
とが併用された描画パッドでは、絶縁性透明弾性層の厚
さを、ドットスペーサーの高さとほぼ同じにするか、あ
るいはドットスペーサーの高さより若干厚くするのが望
ましい。
In the drawing pad in which the dot spacer and the insulative transparent elastic layer are used together, the thickness of the insulative transparent elastic layer is made substantially the same as the height of the dot spacer or slightly thicker than the height of the dot spacer. It is desirable to do.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係る透明描画パッドは、透明描画パッドの透明電極間
に絶縁性透明弾性層が形成されているので、スペーサー
が透明電極間に介在するのみで、透明電極間に空気層が
存在する従来の透明描画パッドに比較して光透過性に優
れているという特長がある。
As is clear from the above description, in the transparent drawing pad according to the present invention, since the insulating transparent elastic layer is formed between the transparent electrodes of the transparent drawing pad, the spacer is interposed between the transparent electrodes. However, there is a feature that it is superior in light transmittance as compared with the conventional transparent drawing pad in which an air layer exists between the transparent electrodes.

【0039】また、本発明に係る透明描画パッドでは、
描画パッドの入力側基板に誤って手や指が触れて該入力
側基板が押圧されたときに、上下電極間に導通が生じる
最低荷重(お手付き入力荷重)と、入力ペンで文字など
の画像を入力する際に必要な最低荷重(必要入力荷重)
との差が大きいので、ペンで入力する際に誤って指など
が触れた程度では入力されず、誤入力が防止される。
Further, in the transparent drawing pad according to the present invention,
When the input board of the drawing pad is accidentally touched by the hand or finger and the input board is pressed, the minimum load (input load with your hand) that causes conduction between the upper and lower electrodes and images such as characters with the input pen are displayed. Minimum load required for input (required input load)
Since there is a large difference between the input and the input, it is possible to prevent an erroneous input when the input with the pen is made only when the finger or the like touches it by mistake.

【0040】また、本発明に係る透明描画パッドでは、
透明描画パッドの透明電極間に絶縁性透明弾性層が形成
されているので、入力ペンで入力を多数回繰り返しても
透明電極が損傷することなはない。すなわち、本発明に
係る透明描画パッドは、繰り返し耐久性に優れていると
いう特長もある。
Further, in the transparent drawing pad according to the present invention,
Since the insulating transparent elastic layer is formed between the transparent electrodes of the transparent drawing pad, the transparent electrode is not damaged even if the input is repeated many times with the input pen. That is, the transparent drawing pad according to the present invention also has a feature that it is excellent in repeated durability.

【0041】さらに、前記絶縁性透明弾性層が絶縁性透
明粘弾性層である場合、入力ペンによる絶縁性透明粘弾
性層への押圧を解除すると、この押圧箇所が速やかに押
圧前の状態に復元するので、透明描画パッド内にいわゆ
る筆記跡がいつまでも残らず、繰り返し耐久性に一層優
れているという特長がある。
Further, when the insulating transparent viscoelastic layer is an insulating transparent viscoelastic layer, when the pressing of the insulating transparent viscoelastic layer by the input pen is released, the pressed portion is promptly restored to the state before pressing. As a result, so-called handwriting traces do not remain in the transparent drawing pad forever, and there is the advantage that the durability is further excellent.

【0042】以下本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0043】[0043]

【実施例】(1)基材Aの作成 5重量%の酸化錫を含む酸化インジウム成型物を、2k
Wの電子銃を用いて、酸素分圧3×10-4torr、蒸
着速度3オングストローム/secで、100℃に予熱
された厚さ125μmのポリエチレンテレフタレート
(PET)フィルム上に蒸着してPETフィルムの片面
に厚さ0.1μmのITO導電膜からなる透明電極層が
形成されてなる基材Aを作成した。(2)基材aの作成 PETフィルムに代えて厚さ1.1mmのガラス基板を
用い、ガラス基板を400℃に予熱した以外は上記
(1)と同様にして透明電極付ガラス基板からなる基材
Bを作成した。
Examples (1) Preparation of Substrate A 2 k of indium oxide molding containing 5% by weight of tin oxide was prepared.
Using a W electron gun, an oxygen partial pressure of 3 × 10 −4 torr and a vapor deposition rate of 3 Å / sec were used to vapor-deposit on a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 125 μm preheated to 100 ° C. A base material A having a transparent electrode layer made of an ITO conductive film having a thickness of 0.1 μm formed on one surface was prepared. (2) Preparation of Base Material a Substrate made of a glass substrate with a transparent electrode in the same manner as in (1) above except that a 1.1 mm thick glass substrate was used instead of the PET film and the glass substrate was preheated to 400 ° C. Material B was prepared.

【0044】上記基材Bの透明電極層表面上に、シリコ
ーン系エラストマー(東レ ダウコーニング シリコー
ン(株)製シリコーンゲルSE1887)100重量部
とヘキサン500重量部との混合物を、スクリーン印刷
機で塗布した後、70℃で30分間加熱硬化して、その
表面がほぼ平坦で、ガラス基板からの厚さが平均0.4
μmの絶縁性透明弾性層が表面に形成された基材aを作
成した。
A mixture of 100 parts by weight of a silicone-based elastomer (silicon gel SE1887 manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) and 500 parts by weight of hexane was applied on the surface of the transparent electrode layer of the base material B by a screen printing machine. Then, it is heat-cured at 70 ° C. for 30 minutes, its surface is almost flat, and the average thickness from the glass substrate is 0.4.
A substrate a having an insulating transparent elastic layer of μm formed on its surface was prepared.

【0045】このようにして作成した基材aの絶縁性透
明弾性層は、圧縮時のヤング率が4×104 dyne/cm2
体積抵抗率が2×1014Ω・cmであった。(3)基材bの作成 オルガノシリカゾル(触媒化成工業(株)製オスカル、
平均粒径:8,000オングストローム、溶媒:イソプ
ロパノール)中の陽イオンおよび陰イオンをそれぞれ陽
イオン交換樹脂および陰イオン交換樹脂で除去した後、
このオルガノシリカゾルの溶媒をヘキシレングリコール
で溶媒置換して、濃度10重量%のシリカ粒子がヘキシ
レングリコール中に分散しているシリカコロイド分散液
を調製した。
The insulating transparent elastic layer of the substrate a thus prepared has a Young's modulus of 4 × 10 4 dyne / cm 2 when compressed,
The volume resistivity was 2 × 10 14 Ω · cm. (3) Preparation of base material b Organo silica sol (Oscar manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.,
Average particle size: 8,000 angstroms, solvent: isopropanol) after removing the cations and anions in the cation exchange resin and anion exchange resin respectively,
The solvent of this organosilica sol was replaced with hexylene glycol to prepare a silica colloidal dispersion in which silica particles having a concentration of 10% by weight were dispersed in hexylene glycol.

【0046】他方、テトラエトキシシラン(多摩化学工
業(株)製エチルシリケート40、シリカ換算で40重
量%)500g、酢酸1g、ヘキシレングリコール20
00gおよび純水60gを混合した後、この混合液を5
0℃で3時間攪拌してテトラエトキシシランの部分加水
分解物(ポリスチレン換算で分子量6000)を含む液
を調製した。
On the other hand, 500 g of tetraethoxysilane (ethyl silicate 40 manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd., 40% by weight in terms of silica), 1 g of acetic acid, 20 of hexylene glycol.
After mixing 00g and 60g of pure water, this mixed solution is mixed with 5g.
A liquid containing a partial hydrolyzate of tetraethoxysilane (molecular weight 6000 in terms of polystyrene) was prepared by stirring at 0 ° C. for 3 hours.

【0047】この液と予め調製した前記シリカコロイド
分散液0.5g、さらにイソプロパノール800g、ブ
タノール200gとを混合して、固形分が5.63重量
%、全固形分中に占めるコロイド粒子の割合が0.01
4重量%、イオン濃度が0.3mmol/リットルであ
る被膜形成用塗布液を調製した。
This liquid was mixed with 0.5 g of the above-prepared silica colloidal dispersion, 800 g of isopropanol and 200 g of butanol to give a solid content of 5.63% by weight, and the proportion of colloidal particles in the total solid content. 0.01
A coating liquid for forming a film having 4% by weight and an ion concentration of 0.3 mmol / liter was prepared.

【0048】この被膜形成用塗布液を厚さ1.1mmの
ガラス基板上にスピンコーターで塗布し、得られた塗膜
付ガラス基板を80℃で加熱乾燥し、次いで4000m
Jの紫外線を照射し、さらに300℃で1時間加熱処理
することにより、被膜表面に複数の粒状突起が突出して
いる被膜付ガラス基材を作成した。なお、このようにし
て得られた被膜の平均膜厚は、1500オングストロー
ムであり、粒状突起間の平均距離は50μmであった。
This coating solution for forming a coating film was applied onto a glass substrate having a thickness of 1.1 mm by a spin coater, the obtained glass substrate with a coating film was dried by heating at 80 ° C., and then 4000 m.
By irradiating the ultraviolet ray of J and further heat-treating at 300 ° C. for 1 hour, a glass substrate with a coating having a plurality of granular projections protruding on the surface of the coating was prepared. The average film thickness of the coating film thus obtained was 1500 Å, and the average distance between the granular projections was 50 μm.

【0049】次いで、この突起を有する被膜付ガラス基
材を400℃に予熱した状態で、この被膜付ガラス基材
の被膜表面上に、上記(2)と同様にしてITO導電膜
を蒸着法で形成し、ガラス基板上に突起を有する被膜お
よびITO導電膜からなる透明電極層が順次積層された
基材Cを作成した。得られた基材Cの透明電極層表面は
前記突起形状に隆起しており、ガラス基板からの平均隆
起高さは1.05μmであった。
Then, in the state where the coated glass substrate having the protrusions was preheated to 400 ° C., an ITO conductive film was formed on the coated surface of the coated glass substrate by the vapor deposition method in the same manner as in the above (2). A base material C was formed in which a coating film having protrusions and a transparent electrode layer made of an ITO conductive film were sequentially laminated on a glass substrate. The surface of the transparent electrode layer of the obtained base material C was raised in the above-mentioned protrusion shape, and the average height of protrusion from the glass substrate was 1.05 μm.

【0050】この基材Cの透明電極層表面上に、シリコ
ーン系エラストマー(東レ ダウコーニング シリコー
ン(株)製シリコーンゲルSE1886)100重量部
とトルエン100重量部との混合物を、スクリーン印刷
機で塗布した後、70℃で30分間、次いで120℃で
30分間加熱硬化して、その表面がほぼ平坦で、ガラス
基板からの厚さが平均1.15μmの絶縁性透明弾性層
が表面に形成された基材bを作成した。
On the surface of the transparent electrode layer of the base material C, a mixture of 100 parts by weight of a silicone elastomer (Silicone gel SE1886 manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) and 100 parts by weight of toluene was applied by a screen printing machine. Then, the substrate was heat-cured at 70 ° C. for 30 minutes and then at 120 ° C. for 30 minutes, and the surface thereof had a substantially flat surface and an insulating transparent elastic layer having an average thickness of 1.15 μm from the glass substrate was formed on the surface. Material b was created.

【0051】このようにして作成した基材bの絶縁性透
明弾性層は、圧縮時のヤング率が5×103 dyne/cm2
体積抵抗率が4×1014Ω・cmであった。(4)基材cの作成 上記(3)で得られた基材Cの透明電極層表面上に、エ
ポキシ樹脂(日本ペルノックス製ペルノックスME−1
13)100重量部、硬化剤(日本ペルノックス製ペル
キュアXH−1859−2)100重量部およびシクロ
ヘキサノン100重量部の混合物を、スクリーン印刷機
で塗布した後、120℃で2時間加熱硬化して、その表
面がほぼ平坦で、ガラス基板からの厚さが平均1.25
μmの絶縁性透明弾性層が表面に形成された基材cを作
成した。
The insulating transparent elastic layer of the substrate b thus prepared has a Young's modulus of 5 × 10 3 dyne / cm 2 when compressed,
The volume resistivity was 4 × 10 14 Ω · cm. (4) Preparation of Base Material c On the transparent electrode layer surface of the base material C obtained in (3) above, an epoxy resin (Pernox ME-1 manufactured by Nippon Pernox Co., Ltd.) was formed.
13) A mixture of 100 parts by weight, 100 parts by weight of a curing agent (Percure XH-1859-2 manufactured by Nippon Pernox) and 100 parts by weight of cyclohexanone was applied by a screen printing machine and then heat-cured at 120 ° C. for 2 hours, The surface is almost flat and the average thickness from the glass substrate is 1.25.
A substrate c having an insulating transparent elastic layer of μm formed on its surface was prepared.

【0052】このようにして作成した基材cの絶縁性透
明弾性層は、圧縮時のヤング率が2×105 dyne/cm2
体積抵抗率が2×1013Ω・cmであった。(5)基材dの作成 テトラエトキシシラン(多摩化学工業(株)製エチルシ
リケート40、シリカ換算で40重量%)50g、酢酸
1g、イソプロパノール3000gおよび純水60gを
混合した後、この混合液を50℃で3時間攪拌してテト
ラエトキシシランの部分加水分解物(ポリスチレン換算
で分子量6000)を含む液を調製した。
The insulating transparent elastic layer of the base material c thus prepared has a Young's modulus of 2 × 10 5 dyne / cm 2 when compressed,
The volume resistivity was 2 × 10 13 Ω · cm. (5) Preparation of Substrate d Tetraethoxysilane (Ethyl silicate 40 manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd., 40 wt% in terms of silica) 50 g, acetic acid 1 g, isopropanol 3000 g, and pure water 60 g were mixed, and then this mixed solution was mixed. A liquid containing a partial hydrolyzate of tetraethoxysilane (molecular weight 6000 in terms of polystyrene) was prepared by stirring at 50 ° C. for 3 hours.

【0053】この液と導電性微粒子分散ゾル(触媒化成
工業(株)製、商品名:エルコム、平均粒径:600オ
ングストローム、濃度:10重量%、溶媒:エタノー
ル)500gとを混合して、固形分が1.94重量%で
ある導電性被膜形成用塗布液を調製した。
This liquid was mixed with 500 g of conductive fine particle-dispersed sol (manufactured by Catalysts & Chemicals Industry Co., Ltd., trade name: Elcom, average particle size: 600 Å, concentration: 10% by weight, solvent: ethanol) to prepare a solid. A coating liquid for forming a conductive film having a content of 1.94% by weight was prepared.

【0054】上記(2)で得られた基材Bを80℃に予
熱し、次いでこの基材Bの透明電極層上に上記被膜形成
用塗布液をスプレー法で塗布し、得られた塗膜付ガラス
基板を200℃で1時間加熱乾燥することにより、基材
Bの透明電極層上に、リング平均直径30μm、平均高
さ1,500オングストロームのリング状突起が被膜表
面から突出している透明導電性被膜が形成された基材D
を得た。
The substrate B obtained in (2) above is preheated to 80 ° C., and then the transparent electrode layer of the substrate B is coated with the above coating solution by a spray method to obtain a coating film. By heating and drying the coated glass substrate at 200 ° C. for 1 hour, a transparent conductive layer in which ring-shaped protrusions having an average ring diameter of 30 μm and an average height of 1,500 angstroms are projected from the coating surface on the transparent electrode layer of the base material B. Base material D having a transparent coating formed thereon
Got

【0055】このようにして作成した基材Dの透明導電
性被膜表面上に、シリコーン系エラストマー(東レ ダ
ウコーニング シリコーン(株)製シリコーンゲルSE
1887)100重量部とヘキサン900重量部との混
合物を、スクリーン印刷機で塗布した後、70℃で30
分間加熱硬化して、その表面がほぼ平坦で、ガラス基板
からの厚さが平均0.42μmの絶縁性透明弾性層が表
面に形成された基材dを作成した。
Silicone elastomer (Toray Dow Corning Silicone Silicone Gel SE manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) was formed on the surface of the transparent conductive film of the substrate D thus prepared.
1887) After coating a mixture of 100 parts by weight and 900 parts by weight of hexane with a screen printing machine, 30 at 70 ° C.
After heat-curing for a minute, a substrate d having a substantially flat surface and an insulating transparent elastic layer having an average thickness of 0.42 μm from the glass substrate was formed on the surface.

【0056】得られた基材dの絶縁性透明弾性層は、圧
縮時のヤング率が4×104 dyne/cm2、体積抵抗率が2
×1014Ω・cmであった。(6)基材eの作成 アクリル樹脂(大日本インキ(株)製アクリディックA
−433)30重量部、メラミン樹脂(大日本インキ
(株)製スーパーベッカミンL−105)20重量部お
よびメチルエチルケトン960重量部の混合物を、80
℃に予熱された前記基材Cの表面に該基材上1mの高さ
からノズルで液流量20ミリリットル/分、圧力2kg
/cm2 で1.5分間噴霧した後、得られた塗膜付基材
を150℃で1時間加熱することにより、アクリル系樹
脂からなる半球状スペーサーが透明電極層表面に形成さ
れた基材Eを作成した。
The insulating transparent elastic layer of the obtained substrate d had a Young's modulus of 4 × 10 4 dyne / cm 2 and a volume resistivity of 2 when compressed.
It was × 10 14 Ω · cm. (6) Preparation of substrate e Acrylic resin (Acrydic A manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
433) 30 parts by weight, melamine resin (Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd. Super Beckamine L-105) 20 parts by weight, and a mixture of methyl ethyl ketone 960 parts by weight,
On the surface of the base material C preheated to ℃, the liquid flow rate from the height of 1 m above the base material by a nozzle is 20 ml / min, and the pressure is 2 kg.
/ Cm 2 sprayed for 1.5 minutes, then the resulting coated substrate is heated at 150 ° C for 1 hour to form a hemispherical spacer made of an acrylic resin on the transparent electrode layer surface Created E.

【0057】このようにして得られた基材Eの透明性被
膜表面上に、シリコーン系エラストマー(東レ ダウコ
ーニング シリコーン(株)製シリコーンゲルSE18
87)100重量部とヘキサン400重量部との混合物
を、スクリーン印刷機で塗布した後、70℃で30分間
加熱硬化して、その表面がほぼ平坦で、ガラス基板から
の厚さが平均2.05μmの絶縁性透明弾性層が表面に
形成された基材eを作成した。
On the transparent coating surface of the substrate E thus obtained, a silicone-based elastomer (Silicone Gel SE18 manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.)
87) A mixture of 100 parts by weight and 400 parts by weight of hexane was applied by a screen printing machine and then heat-cured at 70 ° C. for 30 minutes so that the surface was almost flat and the average thickness from the glass substrate was 2. A base material e having an insulating transparent elastic layer with a thickness of 05 μm formed on its surface was prepared.

【0058】得られた基材eの絶縁性透明弾性層は、圧
縮時のヤング率が4×104 dyne/cm2、体積抵抗率が2
×1014Ω・cmであった。(7)基材fの作成 ジビニルベンゼン樹脂からなる球状粒子(積水化学工業
(株)製ミクロパールSP、平均粒径:4.25μm)
3重量部、アクリル樹脂(大日本インキ(株)製アクリ
ディックA−405)30重量部、メラミン樹脂(大日
本インキ(株)製スーパーベッカミンL−105)20
重量部およびメチルエチルケトン960重量部の混合物
を、80℃に予熱された前記基材C表面に該基材上1m
の高さからノズルで3kgの圧力で1分間噴霧した後、
得られた塗膜付基材を150℃で1時間加熱することに
より、アクリル系樹脂で被覆された半球状のスペーサー
が透明電極層表面に形成された基材Fを作成した。
The insulating transparent elastic layer of the obtained substrate e had a Young's modulus of 4 × 10 4 dyne / cm 2 and a volume resistivity of 2 when compressed.
It was × 10 14 Ω · cm. (7) Preparation of substrate f Spherical particles made of divinylbenzene resin (Micropearl SP manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., average particle size: 4.25 μm)
3 parts by weight, acrylic resin (Akridic A-405 manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) 30 parts by weight, melamine resin (Super Beckamine L-105 manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) 20
A mixture of 1 part by weight and 960 parts by weight of methyl ethyl ketone was added to the surface of the base material C preheated to 80 ° C. for 1 m on the base material.
After spraying with a nozzle at a pressure of 3 kg from the height of 1 minute,
The obtained coated substrate was heated at 150 ° C. for 1 hour to prepare a substrate F in which hemispherical spacers coated with an acrylic resin were formed on the surface of the transparent electrode layer.

【0059】このようにして作成した基材Fの透明性被
膜表面上に、前記(6)と同様にして、その表面がほぼ
平坦で、ガラス基板からの厚さが平均6.25μmの絶
縁性透明弾性層が表面に形成された基材fを作成した。
On the surface of the transparent coating film of the base material F thus prepared, in the same manner as in the above (6), the surface is almost flat and the insulating property from the glass substrate is 6.25 μm on average. A base material f having a transparent elastic layer formed on its surface was prepared.

【0060】得られた基材fの絶縁性透明弾性層は、圧
縮時のヤング率が4×104 dyne/cm2、体積抵抗率が2
×1014Ω・cmであった。(8)基材gの作成 球状シリカ粒子(触媒化成工業(株)製眞絲球−SW、
平均粒径:6μm)の表面に平均厚さ0.05μmの銀
メッキを施した導電性粒子20重量部、アクリル樹脂
(大日本インキ(株)製アクリディックA−405−5
0)840重量部、メラミン樹脂(大日本インキ(株)
製スーパーベッカミンJ−820−60)245重量部
およびイソホロン450重量部の混合物からなる塗布液
を調製した。
The insulating transparent elastic layer of the obtained substrate f had a Young's modulus of 4 × 10 4 dyne / cm 2 and a volume resistivity of 2 when compressed.
It was × 10 14 Ω · cm. (8) Preparation of base material g Spherical silica particles (manufactured by Catalysts & Chemicals Co., Ltd. Masukyu-SW,
20 parts by weight of conductive particles having an average particle diameter of 6 μm and silver plating having an average thickness of 0.05 μm, acrylic resin (Acridic A-405-5 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
0) 840 parts by weight, melamine resin (Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
A coating solution consisting of a mixture of 245 parts by weight of Super Beckamine J-820-60) manufactured by K.K. and 450 parts by weight of isophorone was prepared.

【0061】このようにして得られた塗布液を前記基材
Bの透明電極層表面にスクリーン印刷機で塗布した後、
120℃で1時間加熱することにより、基材Bの透明電
極層表面に透明被膜で被覆された複数の導電性粒状突起
を有する基材Gを作成した。
The coating solution thus obtained was applied to the surface of the transparent electrode layer of the base material B by a screen printer,
By heating at 120 ° C. for 1 hour, a base material G having a plurality of conductive granular projections covered with a transparent coating on the surface of the transparent electrode layer of the base material B was prepared.

【0062】なお、上記透明導電性被膜の平均膜厚は、
粒状突起が突出していない部分で3μmであり、粒状突
起間の平均距離は100μmであった。このようにして
作成した基材Gの透明性被膜表面上に、上記(6)と同
様にして、その表面がほぼ平坦で、ガラス基板からの厚
さが平均6.6μmの絶縁性透明弾性層が表面に形成さ
れた基材gを作成した。
The average thickness of the transparent conductive coating is
The portion where the granular protrusions did not protrude was 3 μm, and the average distance between the granular protrusions was 100 μm. On the surface of the transparent coating film of the base material G thus prepared, the insulating transparent elastic layer having a substantially flat surface and an average thickness of 6.6 μm from the glass substrate was formed in the same manner as in the above (6). A base material g having a surface formed thereon was prepared.

【0063】得られた基材gの絶縁性透明弾性層は、圧
縮時のヤング率が4×104 dyne/cm2、体積抵抗率が5
×1014Ω・cmであった。(9)基材hの作成 球状シリカ粒子(触媒化成工業(株)製眞絲球−SW、
平均粒径:3μm)の表面に平均厚さ0.05μmの銀
メッキを施した導電性粒子2重量部、シリコーン系エラ
ストマー(東レ ダウコーニング シリコーン(株)製
シリコーンゲルSE1886A)270重量部およびト
ルエン970重量部を充分混合した後、得られた混合液
にシリコーン系エラストマー(東レ ダウコーニング
シリコーン(株)製シリコーンゲルSE1886B)2
70重量部を加えて混合し、塗布液を調製した。
The insulating transparent elastic layer of the obtained substrate g had a Young's modulus of 4 × 10 4 dyne / cm 2 and a volume resistivity of 5 when compressed.
It was × 10 14 Ω · cm. (9) Preparation of base material h Spherical silica particles (manufactured by Catalysts & Chemicals Co., Ltd. Masukyu-SW,
2 parts by weight of conductive particles having an average thickness of 0.05 μm and silver plating having an average thickness of 0.05 μm, 270 parts by weight of silicone elastomer (Silicone gel SE1886A manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) and toluene 970. After thoroughly mixing 1 part by weight, the resulting mixture is mixed with a silicone elastomer (Toray Dow Corning
Silicone gel SE1886B manufactured by Silicone Co., Ltd.) 2
A coating solution was prepared by adding 70 parts by weight and mixing.

【0064】このようにして得られた塗布液を上記基材
Bの透明電極層表面上に塗布し、120℃で30分間加
熱してシリコーン系エラストマーを硬化させることによ
り、その表面がほぼ平坦で、ガラス基板からの厚さが平
均4.1μmであって、その内部に導電性粒子が分散さ
れた絶縁性透明弾性層が表面に形成された基材hを作成
した。
The coating solution thus obtained is applied onto the surface of the transparent electrode layer of the base material B and heated at 120 ° C. for 30 minutes to cure the silicone elastomer, whereby the surface is almost flat. A substrate h having an average thickness of 4.1 μm from the glass substrate and having an insulating transparent elastic layer having conductive particles dispersed therein formed on the surface thereof was prepared.

【0065】得られた基材hの絶縁性透明弾性層は、圧
縮時のヤング率が1×105 dyne/cm2、体積抵抗率が5
×1014Ω・cmであった。(10)基材iの作成 上記基材Bの透明電極層表面上に、シリコーン系エラス
トマー(東レ ダウコーニング シリコーン(株)製シ
リコーンゲルSE1887)100重量部と、シリコー
ンオイル(東レ ダウコーニング シリコーン(株)製
シリコーンオイルSH200)50重量部と、ヘキサン
500重量部との混合物を、スクリーン印刷機で塗布し
た後、70℃で30分間加熱硬化して、その表面がほぼ
平坦で、ガラス基板からの厚さが平均0.45μmの粘
弾性を有する絶縁性透明弾性層が表面に形成された基材
iを作成した。
The insulating transparent elastic layer of the obtained substrate h had a Young's modulus of 1 × 10 5 dyne / cm 2 and a volume resistivity of 5 when compressed.
It was × 10 14 Ω · cm. (10) Preparation of Substrate i On the surface of the transparent electrode layer of the above substrate B, 100 parts by weight of a silicone elastomer (Silicone Gel SE1887 manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) and silicone oil (Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd. ) Silicone oil SH200) 50 parts by weight and a mixture of 500 parts by weight of hexane are applied by a screen printing machine and then heat-cured at 70 ° C. for 30 minutes so that the surface is almost flat and the thickness from the glass substrate is large. A base material i having an insulating transparent elastic layer having a viscoelasticity of 0.45 μm on the surface was prepared.

【0066】このようにして作成した基材iの絶縁性透
明弾性層は、圧縮時のヤング率が5×103 dyne/cm2
体積抵抗率が2×1014Ω・cmであった。(11)基材jの作成 上記基材Cの透明電極層表面上に、シリコーン系エラス
トマー(東レ ダウコーニング シリコーン(株)製シ
リコーンゲルSE1886)100重量部と、シリコー
ンオイル(信越化学工業(株)製シリコーンオイルKP
N−3504)60重量部と、トルエン100重量部と
の混合液を、スクリーン印刷機で塗布した後、70℃で
30分間、次いで120℃で30分間加熱硬化して、そ
の表面がほぼ平坦で、ガラス基板からの厚さが平均1.
20μmの粘弾性を有する絶縁性透明弾性層が表面に形
成された基材jを作成した。
The insulating transparent elastic layer of the base material i thus prepared has a Young's modulus of 5 × 10 3 dyne / cm 2 when compressed,
The volume resistivity was 2 × 10 14 Ω · cm. (11) Preparation of Substrate j On the surface of the transparent electrode layer of the above-mentioned substrate C, 100 parts by weight of a silicone elastomer (Silicone Gel SE1886 manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) and silicone oil (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Made silicone oil KP
N-3504) A mixed solution of 60 parts by weight and 100 parts by weight of toluene was applied by a screen printing machine and then heat-cured at 70 ° C. for 30 minutes and then at 120 ° C. for 30 minutes to give a substantially flat surface. The average thickness from the glass substrate is 1.
A base material j having an insulating transparent elastic layer having a viscoelasticity of 20 μm formed on its surface was prepared.

【0067】このようにして作成した基材jの絶縁性透
明弾性層は、圧縮時のヤング率が8×103 dyne/cm2
体積抵抗率が4×1014Ω・cmであった。(12)基材kの作成 上記基材Dの透明導電性被膜表面上に、シリコーン系エ
ラストマー(東レ ダウコーニング シリコーン(株)
製シリコーンゲルSE1887)100重量部と、シリ
コーンオイル(信越化学工業(株)製シリコーンオイル
KPN−3504)100重量部と、ヘキサン900重
量部との混合物を、スクリーン印刷機で塗布した後、7
0℃で30分間加熱硬化して、その表面がほぼ平坦で、
ガラス基板からの厚さが平均0.45μmの粘弾性を有
する絶縁性透明弾性層が表面に形成された基材kを作成
した。
The insulating transparent elastic layer of the substrate j thus prepared has a Young's modulus of 8 × 10 3 dyne / cm 2 when compressed,
The volume resistivity was 4 × 10 14 Ω · cm. (12) Preparation of Substrate k Silicone elastomer (Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) is formed on the surface of the transparent conductive film of the above substrate D.
Silicone gel SE1887) 100 parts by weight, silicone oil (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. silicone oil KPN-3504) 100 parts by weight, and a mixture of hexane 900 parts by weight were applied by a screen printer, and then 7
Heat cured at 0 ° C for 30 minutes, the surface is almost flat,
A base material k having an insulating transparent elastic layer having a viscoelasticity having an average thickness of 0.45 μm from a glass substrate formed on the surface was prepared.

【0068】得られた基材kの絶縁性透明弾性層は、圧
縮時のヤング率が3×103 dyne/cm2、体積抵抗率が2
×1014Ω・cmであった。
The insulating transparent elastic layer of the obtained substrate k had a Young's modulus of 3 × 10 3 dyne / cm 2 and a volume resistivity of 2 when compressed.
It was × 10 14 Ω · cm.

【0069】[0069]

【実施例1〜11】以上のようにして得られた基材Aの
透明電極層と、基材a〜kの絶縁性透明弾性層とをそれ
ぞれ貼着して基材Aにそれぞれ基材a〜kを積層し、か
つ検出回路を備えた実施例1〜11の透明描画パッドを
製造した。
Examples 1 to 11 The transparent electrode layer of the base material A and the insulating transparent elastic layers of the base materials a to k obtained as described above are attached to the base material A and the base material a, respectively. The transparent drawing pads of Examples 1 to 11 were manufactured by stacking layers to k and having a detection circuit.

【0070】実施例1〜11の透明描画パッドにつき、
下記特性を評価した。 (1)必要入力荷重 透明描画パッドの透明基板であるPETフィルムの上か
ら、先端の曲率半径Rが1mmおよび2mmのポリアセ
タール樹脂押圧子で、それぞれ該PETフィルムに垂直
な荷重を加えて押圧し、徐々に荷重を増加させながら、
上下両透明電極間の抵抗を測定し、この抵抗が2kΩ以
下になった時の荷重値を求め、この荷重値を透明描画パ
ッドの画面に入力用ペンで入力するのに必要な荷重値と
して評価した。
Regarding the transparent drawing pads of Examples 1 to 11,
The following characteristics were evaluated. (1) Required input load From above the PET film which is the transparent substrate of the transparent drawing pad, a vertical load is applied to each of the PET films with a polyacetal resin presser having a curvature radius R of 1 mm and 2 mm, While gradually increasing the load,
The resistance between the upper and lower transparent electrodes is measured, the load value when this resistance becomes 2 kΩ or less is obtained, and this load value is evaluated as the load value necessary for inputting with the input pen on the screen of the transparent drawing pad. did.

【0071】(2)お手付き入力荷重 透明描画パッドの透明基板であるPETフィルムの上か
ら、先端の曲率半径Rが10mmの硬度60のシリコー
ン樹脂押圧子で、該PETフィルムに垂直な荷重を加え
て押圧し、徐々に荷重を増加させながら、上下両透明電
極間の抵抗を測定し、この抵抗が2kΩ以下になった時
の荷重値を求め、この荷重値を、透明描画パッドの画面
に手を付きながら入力用ペンで入力した際にお手付きに
よって入力にノイズが発生する荷重値として評価した。
(2) Input load with care By applying a load perpendicular to the PET film, which is a transparent substrate of the transparent drawing pad, with a silicone resin presser having a hardness of 60 and a radius of curvature R of 10 mm. While pressing and gradually increasing the load, measure the resistance between the upper and lower transparent electrodes, find the load value when this resistance becomes 2 kΩ or less, and then use this load value on the screen of the transparent drawing pad. It was evaluated as a load value at which noise is generated in the input due to the touch when the input is performed with the input pen.

【0072】(3)耐久性 透明描画パッドの透明基板であるPETフィルムの上か
ら、300gの荷重で市販のボールペンで押圧しなが
ら、このボールペンを前記PETフィルム上で往復摺動
させ、描画パッドのリニアリティが不良になるまでの往
復回数を耐久性として評価した。
(3) Durability While pressing a commercially available ballpoint pen with a load of 300 g on the PET film which is a transparent substrate of the transparent drawing pad, this ballpoint pen was slid back and forth on the PET film to draw the drawing pad. The number of round trips until the linearity became defective was evaluated as the durability.

【0073】(4)入力状態 透明描画パッドの透明基板であるPETフィルムの上か
ら、300gの荷重で先端の曲率半径Rが2mmである
ポリアセタール押圧子で、PETフィルムに垂直な荷重
を加えて押圧し、文字、図形を入力した際の入力位置と
表示位置とのずれの状態および入力欠落箇所の有無を観
察し、入力位置と表示位置とにずれがなく、しかも入力
欠落箇所がない場合を良好と評価した。
(4) Input state From above the PET film, which is the transparent substrate of the transparent drawing pad, with a load of 300 g, a radius of curvature R at the tip of the polyacetal presser is 2 mm, and a load perpendicular to the PET film is applied and pressed. Then, observe the state of deviation between the input position and the display position when entering characters and figures, and the presence or absence of input missing parts. Good if there is no deviation between the input position and the display position and there are no input missing parts. It was evaluated.

【0074】(5)全光線透過率 スガ試験機製デジタルヘーズコンピューター(A−20
08)を用いて、透明描画パッドの透明基板であるPE
Tフィルム側から光を照射してこの透明描画パッドを透
過させ、この際の全光線透過率を測定・算出した。
(5) Total light transmittance Digital haze computer (A-20 manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.)
08) is used to form a transparent substrate for a transparent drawing pad, PE.
Light was irradiated from the T film side to pass through the transparent drawing pad, and the total light transmittance at this time was measured and calculated.

【0075】(6)筆記跡 透明描画パッドの透明基板であるPETフィルムの上か
ら、市販のボールペンを300gの荷重で押圧しながら
往復摺動させた直後の筆記跡(線状窪み)の有無を目視
観察した。
(6) Handwriting traces The presence or absence of writing marks (linear dents) immediately after the commercially available ballpoint pen was slid back and forth while being pressed with a load of 300 g on the PET film which is the transparent substrate of the transparent drawing pad. It was visually observed.

【0076】結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

【0077】[0077]

【比較例1】上記基材Bの透明電極層表面上に、絶縁ペ
ースト(十条化工(株)製1000メジウム)を、穴径
150μmφ、ピッチ5mmのスクリーン印刷板を用い
て印刷した後、120℃で乾燥させて透明電極層表面上
にドットスペーサーが形成された基材mを作成した。
Comparative Example 1 On the surface of the transparent electrode layer of the base material B, an insulating paste (1000 medium manufactured by Jujo Chemicals Co., Ltd.) was printed using a screen printing plate having a hole diameter of 150 μmφ and a pitch of 5 mm, and then 120 ° C. And dried to prepare a base material m having dot spacers formed on the surface of the transparent electrode layer.

【0078】以上のようにして得られた基材mのドット
スペーサーが形成された透明電極層表面上に、上記基材
Aを、その透明電極層がドットスペーサーと接触するよ
うに載置し、検出回路を備えた比較例1の透明描画パッ
ドを製造した。
On the surface of the transparent electrode layer of the base material m on which the dot spacers are formed, the base material A is placed so that the transparent electrode layer contacts the dot spacers. A transparent drawing pad of Comparative Example 1 including a detection circuit was manufactured.

【0079】こうして得られた比較例1の描画パッドに
つき、実施例1の描画パッドと同様にして必要入力荷
重、お手付き入力荷重、耐久性、入力状態、全光線透過
率および筆記跡を評価した。
With respect to the drawing pad of Comparative Example 1 thus obtained, the required input load, manual input load, durability, input state, total light transmittance and handwriting were evaluated in the same manner as the drawing pad of Example 1.

【0080】結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

【0081】[0081]

【比較例2】上記基材Bを60℃に予熱し、この基材B
の透明電極層表面上に、ポリエステル樹脂(東洋紡績
(株)製バイロン)40重量部とメチルエチルケトン9
60重量部とからなる混合溶液を該基材上1mの高さか
らノズルで液流量30ミリリットル/分、圧力2kg/
cm2 で1分間噴霧した後、得られた塗膜付基材を12
0℃の温度で1時間加熱することにより、ポリエステル
樹脂からなる半球状スペーサーが透明電極層表面に形成
された基材nを作成した。
Comparative Example 2 The base material B was preheated to 60 ° C.
40 parts by weight of polyester resin (Vylon manufactured by Toyobo Co., Ltd.) and methyl ethyl ketone 9 on the transparent electrode layer surface of
60 parts by weight of a mixed solution consisting of 60 parts by weight from a height of 1 m on the base material through a nozzle at a liquid flow rate of 30 ml / min and a pressure of 2 kg / min.
After spraying at cm 2 for 1 minute, the resulting coated substrate is
By heating at a temperature of 0 ° C. for 1 hour, a base material n having a hemispherical spacer made of a polyester resin formed on the surface of the transparent electrode layer was prepared.

【0082】この基材nのドットスペーサーが形成され
た透明電極層表面上に、上記基材Aを、その透明電極層
がドットスペーサーと接触するように載置し、検出回路
を備えた比較例2の透明描画パッドを製造した。
On the transparent electrode layer surface of the base material n on which the dot spacers are formed, the base material A is placed so that the transparent electrode layer contacts the dot spacers, and a comparative example equipped with a detection circuit is provided. Two transparent drawing pads were manufactured.

【0083】この比較例2の描画パッドにつき、実施例
1と同様にして必要入力荷重、お手付き入力荷重、耐久
性、入力状態、全光線透過率および筆記跡を評価した。
結果を表1に示す。
With respect to the drawing pad of Comparative Example 2, the required input load, manual input load, durability, input state, total light transmittance and handwriting were evaluated in the same manner as in Example 1.
The results are shown in Table 1.

【0084】[0084]

【表1】 [Table 1]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る描画パッドの1例を示す断面図FIG. 1 is a sectional view showing an example of a drawing pad according to the present invention.

【図2】図1に示す描画パッドの作用を説明するための
図面
FIG. 2 is a drawing for explaining the operation of the drawing pad shown in FIG.

【図3】従来の描画パッドを示す断面図FIG. 3 is a sectional view showing a conventional drawing pad.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、20、30、1 …透明描画パッド 2a、2b …透明基板 3a、3b …透明電極 4 …絶縁性透明弾性層 5 …透明ドットスペーサー 6 …入力ペン 7 …空気層 10, 20, 30, 1 ... Transparent drawing pad 2a, 2b ... Transparent substrate 3a, 3b ... Transparent electrode 4 ... Insulating transparent elastic layer 5 ... Transparent dot spacer 6 ... Input pen 7 ... Air layer

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透明電極が一方の面に形成された2枚の透
明基板をそれぞれの透明電極が対向するように配置して
なる透明描画パッドにおいて、 前記透明電極間に絶縁性透明弾性層が形成されてなるこ
とを特徴とする透明描画パッド。
1. A transparent drawing pad in which two transparent substrates having transparent electrodes formed on one surface are arranged so that the respective transparent electrodes face each other, wherein an insulating transparent elastic layer is provided between the transparent electrodes. A transparent drawing pad characterized by being formed.
【請求項2】前記絶縁性透明弾性層のヤング率が1×1
2 〜1×106 dyne/cm2である請求項1記載
の透明描画パッド。
2. The Young's modulus of the insulating transparent elastic layer is 1 × 1.
The transparent drawing pad according to claim 1, which has a density of 0 2 to 1 × 10 6 dyne / cm 2 .
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