JPH06310049A - Color picture tube - Google Patents

Color picture tube

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Publication number
JPH06310049A
JPH06310049A JP9172193A JP9172193A JPH06310049A JP H06310049 A JPH06310049 A JP H06310049A JP 9172193 A JP9172193 A JP 9172193A JP 9172193 A JP9172193 A JP 9172193A JP H06310049 A JPH06310049 A JP H06310049A
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JP
Japan
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electron beam
shadow mask
horizontal
hole
axis
Prior art date
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Pending
Application number
JP9172193A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobuyuki Tai
伸幸 田井
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH06310049A publication Critical patent/JPH06310049A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To easily form a phosphor screen, and to prevent absence of an electron beam by making the horizontal diameter of an electron beam passing hole wider as the horizontal end part is closer and smaller as the vertical end part is closer. CONSTITUTION:The electron beam passing hole 20 of a shadow mask is opened wide in a phosphor screen side, and is formed into longitudinal rearly rectangular shape having a minimum diameter part for determining the hole diameter on the inside closer to the surface in the side of an electron gun. A plurality of the rectangular electron beam passing holes 20 are formed in line through a bridge 21 vertically in the direction of Y, while a plurality of holes are provided horizontally in the direction X at a predetermined pitch. The horizontal diameter D of the minimum diameter part 22 of the electron beam passing hole 20 is larger as the hole is closer to the horizontal end part from the vertical axis or Y axis passing the center of the shadow mask, and is smaller as the hole is closer to the vertical end part from the horizontal axis or X axis passing the center of the shadow mask.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、カラー受像管に係
り、特にシャドウマスクの電子ビーム通過孔がほぼ矩形
状をなすカラー受像管に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color picture tube, and more particularly to a color picture tube in which an electron beam passage hole of a shadow mask has a substantially rectangular shape.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にカラー受像管は、パネル内面に形
成された青、緑、赤に発光する3色蛍光体層からなる蛍
光体スクリーンに対向かつ所定間隔離間して、多数の電
子ビーム通過孔を有するシャドウマスクが配置されてい
る。そして電子銃から放出される3電子ビームを偏向ヨ
ークの発生する磁界により偏向し、シャドウマスクを介
して上記蛍光体スクリーンを水平、垂直走査することに
より、カラー画像を表示する構造に形成されている。そ
のシャドウマスクは、3電子ビームを3色蛍光体層に正
しく入射させる選別機能を有する。
2. Description of the Related Art Generally, a color picture tube is provided with a large number of electron beam passage holes which face a phosphor screen formed of a three-color phosphor layer which emits blue, green and red lights formed on the inner surface of a panel and are spaced apart from each other by a predetermined distance. A shadow mask having is arranged. Then, the three electron beams emitted from the electron gun are deflected by the magnetic field generated by the deflection yoke, and the phosphor screen is horizontally and vertically scanned through the shadow mask to form a structure for displaying a color image. . The shadow mask has a selection function of allowing the three electron beams to correctly enter the three-color phosphor layer.

【0003】このようなカラー受像管において、蛍光体
スクリーンを、図5に示すように、垂直方向に長いブラ
ックストライプ1 が水平方向に所定ピッチで並列形成さ
れ、そのブラックストライプ1 間に埋込むように3色蛍
光体層2B,2G,2Rが形成された構造にし、電子銃を同一
水平面上を通る一列配置の3電子ビームを放出する電子
銃としたインライン型カラー受像管が普及している。
In such a color picture tube, as shown in FIG. 5, in the phosphor screen, black stripes 1 which are long in the vertical direction are formed in parallel at a predetermined pitch in the horizontal direction and embedded between the black stripes 1. An in-line type color picture tube having a structure in which three-color phosphor layers 2B, 2G, and 2R are formed in the electron gun, and the electron gun is an electron gun that emits three electron beams arranged in a row passing on the same horizontal plane is widely used.

【0004】このカラー受像管では、図6に示すよう
に、シャドウマスクの電子ビーム通過孔4 は、蛍光体ス
クリーン側に大きく開口し、反対側の電子銃側の面に近
い内側にその孔径を決定する最小径部5 をもつ縦長のほ
ぼ矩形状に形成されている。そしてこの電子ビーム通過
孔4 が垂直方向(Y方向)にブリッジ部6 を介して直線
状に複数個配列され、この垂直方向の配列が水平方向
(X方向)に複数列配列された構造に形成されている。
In this color picture tube, as shown in FIG. 6, the electron beam passage hole 4 of the shadow mask has a large opening on the phosphor screen side, and the hole diameter is set to the inner side near the opposite side to the electron gun side. It is formed in a vertically long substantially rectangular shape having a minimum diameter portion 5 to be determined. The electron beam passage holes 4 are arranged in a straight line in the vertical direction (Y direction) via the bridge portion 6, and the vertical arrangement is formed in a plurality of rows arranged in the horizontal direction (X direction). Has been done.

【0005】その電子ビーム通過孔4 の最小径部5 の水
平方向の孔径Dおよび水平方向の配列ピッチPH は、配
列ピッチPH については、電子ビームの水平偏向角度が
大きくなる周辺部になるにしたがって、3色蛍光体層に
対するランディング余裕が小さくなるため、電子ビーム
が他色蛍光体層にランディングしないように大きくし
て、幅寸法の大きいブラックストライプを形成しうるよ
うになっている。また最小径部5 の水平方向の孔径Dに
ついては、周辺部になるにしたがってビームスポットを
大きくし、蛍光体層に対する電子ビームのランディング
がずれて発光しない部分(電子ビームの欠け)ができな
いように大きくしている。
The horizontal hole diameter D of the minimum diameter portion 5 of the electron beam passage hole 4 and the horizontal arrangement pitch PH are such that the arrangement pitch PH becomes closer to the peripheral portion where the horizontal deflection angle of the electron beam increases. Since the landing margin with respect to the three-color phosphor layer is reduced, the electron beam can be made large so as not to land on the other-color phosphor layers to form a black stripe having a large width dimension. Regarding the horizontal hole diameter D of the minimum diameter portion 5, the beam spot is increased toward the peripheral portion so that the landing of the electron beam with respect to the phosphor layer is deviated so that a portion which does not emit light (lack of electron beam) cannot be formed. Making it big.

【0006】つまり、上記インライン形カラー受像管の
シャドウマスクの電子ビーム通過孔4 の最小径部5 の孔
寸法は、3色蛍光体層が垂直方向に長いストライプ状で
あるため、垂直方向については考慮する必要はなく、水
平方向については、シャドウマスクを露光用マスクとし
て写真印刷法により蛍光体スクリーンを形成するとき、
および3色蛍光体層に対する電子ビームのランディン
グ、特に電子ビームの欠け対策として、最小径部5 の水
平方向の孔径Dを考慮すればよく、この水平方向の孔径
Dは、Xの関数で表される。
That is, the hole size of the minimum diameter portion 5 of the electron beam passage hole 4 of the shadow mask of the above-mentioned in-line type color picture tube is the stripe shape in which the three-color phosphor layer is long in the vertical direction. There is no need to consider the horizontal direction, when forming a phosphor screen by a photo printing method using a shadow mask as an exposure mask,
And, as a countermeasure against the landing of the electron beam on the three-color phosphor layer, especially the lack of the electron beam, the horizontal hole diameter D of the minimum diameter portion 5 may be taken into consideration. This horizontal hole diameter D is expressed by a function of X. It

【0007】しかしシャドウマスクを上記のように構成
しても、カラー受像管の偏向中心からみたシャドウマス
クの電子ビーム通過孔4 の最小径部5 の水平方向の孔径
DAPP は、パネルの内面の曲率に応じてシャドウマスク
の曲率が変化する場合、水平軸端での電子ビーム8 とシ
ャドウマスク 9とのなす角度θmHと、対角軸端での電子
ビーム8 とシャドウマスク 9とのなす角度θmDとは、 θmD>θmH となる。そのため、電子ビーム通過孔の最小径部の水平
方向の孔径DAPP は、対角軸端よりも水平軸端の方が小
さくなり、前述した所要の蛍光体スクリーンの形成およ
び電子ビームの欠け防止に対して逆の結果をもたらす。
However, even if the shadow mask is constructed as described above, the horizontal hole diameter DAPP of the minimum diameter portion 5 of the electron beam passage hole 4 of the shadow mask as seen from the deflection center of the color picture tube is not equal to the curvature of the inner surface of the panel. When the curvature of the shadow mask changes depending on the angle, the angle θmH formed by the electron beam 8 and the shadow mask 9 at the horizontal axis end and the angle θmD formed by the electron beam 8 and the shadow mask 9 at the diagonal axis end are Is θmD> θmH. Therefore, the hole diameter DAPP in the horizontal direction of the minimum diameter portion of the electron beam passage hole is smaller at the horizontal axis end than at the diagonal axis end, which is required for the formation of the required phosphor screen and prevention of electron beam chipping as described above. Produces the opposite result.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上記のように、インラ
イン型カラー受像管のシャドウマスクの電子ビーム通過
孔は、縦長のほぼ矩形状に形成され、この電子ビーム通
過孔が垂直方向にブリッジ部を介して直線状に複数個配
列され、この垂直方向の配列が水平方向に複数列配列さ
れた構造に形成されている。そしてこの電子ビーム通過
孔の最小径部の水平方向の孔径Dおよび水平方向の配列
ピッチPH が、配列ピッチPH については、電子ビーム
の水平偏向角度が大きくなる周辺部になるにしたがって
3色蛍光体層に対するランディング余裕が小さくなるた
め、電子ビームが他色蛍光体層にランディングしないよ
うに大きくして、幅寸法の大きいブラックストライプを
形成しうるようになっている。また最小径部の水平方向
の孔径Dについては、周辺部になるにしたがってビーム
スポットを大きくして、蛍光体層に対する電子ビームの
ランディングがずれて発光しない部分、すなわち電子ビ
ームの欠けができないように大きくしている。
As described above, the electron beam passage hole of the shadow mask of the in-line type color picture tube is formed in a vertically long substantially rectangular shape, and the electron beam passage hole has a bridge portion in the vertical direction. A plurality of them are arranged in a straight line through this, and the arrangement in the vertical direction is formed in a structure in which a plurality of rows are arranged in the horizontal direction. Regarding the horizontal hole diameter D and the horizontal arrangement pitch PH of the minimum diameter portion of the electron beam passage hole, with respect to the arrangement pitch PH, the three-color phosphor becomes closer to the peripheral portion where the horizontal deflection angle of the electron beam becomes larger. Since the landing margin with respect to the layer becomes small, the electron beam can be made large so as not to land on the phosphor layer of another color to form a black stripe having a large width dimension. Regarding the horizontal hole diameter D of the minimum diameter portion, the beam spot is increased toward the peripheral portion so that the landing of the electron beam with respect to the phosphor layer is deviated, that is, the electron beam is not chipped. Making it big.

【0009】しかしシャドウマスクを上記のように構成
しても、カラー受像管の偏向中心からみたシャドウマス
クの電子ビーム通過孔の最小径部の水平方向の孔径DAP
P は、パネルの内面の曲率に応じてシャドウマスクの曲
率が変化する場合、水平軸端での電子ビームとシャドウ
マスクとのなす角度θmHと、対角軸端での電子ビームと
シャドウマスクとのなす角度θmDとは、 θmD>θmH となるため、電子ビーム通過孔の最小径部の水平方向の
孔径DAPP は、対角軸端よりも水平軸端の方が小さくな
り、所要の蛍光体スクリーンの形成および電子ビームの
欠け防止に対して逆の結果をもたらす。
However, even if the shadow mask is constructed as described above, the hole diameter DAP in the horizontal direction of the minimum diameter portion of the electron beam passage hole of the shadow mask viewed from the deflection center of the color picture tube.
When the curvature of the shadow mask changes according to the curvature of the inner surface of the panel, P is the angle θmH between the electron beam and the shadow mask at the horizontal axis end, and the angle between the electron beam and the shadow mask at the diagonal axis end. Since the formed angle θmD is such that θmD> θmH, the horizontal hole diameter DAPP of the minimum diameter portion of the electron beam passage hole becomes smaller at the horizontal axis end than at the diagonal axis end, and the required phosphor screen It has the opposite effect on formation and electron beam chipping prevention.

【0010】この発明は、上記問題点に鑑みてなされた
ものであり、インライン型カラー受像管のシャドウマス
クの電子ビーム通過孔を、蛍光体スクリーンの形成を容
易にし、かつ電子ビームの欠け防止に必要な大きさにす
ることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and facilitates formation of a phosphor screen through an electron beam passage hole of a shadow mask of an in-line type color picture tube and prevention of chipping of the electron beam. The purpose is to make it the required size.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】蛍光体スクリーンと所定
間隔離間して多数の電子ビーム通過孔を有するシャドウ
マスクが配置され、このシャドウマスクの電子ビーム通
過孔がほぼ矩形状に形成されかつ水平方向に所定ピッチ
で配列されてなるカラー受像管において、その電子ビー
ム通過孔の水平方向の孔径をシャドウマスクの中心を通
る垂直軸から水平方向端部に近いほど大きく、かつシャ
ドウマスクの中心を通る水平軸から垂直方向端部に近い
ほど小さくした。
A shadow mask having a large number of electron beam passage holes is arranged at a predetermined distance from a phosphor screen, and the electron beam passage holes of the shadow mask are formed in a substantially rectangular shape and in a horizontal direction. In a color picture tube arranged at a predetermined pitch, the horizontal hole diameter of the electron beam passage hole is larger from the vertical axis passing through the center of the shadow mask toward the horizontal end, and is horizontal passing through the center of the shadow mask. The smaller the distance from the axis to the end in the vertical direction, the smaller.

【0012】[0012]

【作用】上記のように、シャドウマスクの電子ビーム通
過孔の水平方向の孔径をシャドウマスクの中心を通る垂
直軸から水平方向端部に近いほど大きく、かつシャドウ
マスクの中心を通る水平軸から垂直方向端部に近いほど
小さくすると、偏向中心からみた電子ビーム通過孔の水
平方向の孔径を、シャドウマスクの対角軸端よりも水平
軸端の方を大きくすることができる。したがってそれに
より、蛍光体スクリーンの形成を容易にし、かつ蛍光体
スクリーン周辺部での電子ビームの欠けを防止すること
ができる。
As described above, the hole diameter in the horizontal direction of the electron beam passage hole of the shadow mask is larger as it is closer to the horizontal end from the vertical axis passing through the center of the shadow mask, and is vertical from the horizontal axis passing through the center of the shadow mask. By making the diameter smaller toward the end in the direction, the hole diameter in the horizontal direction of the electron beam passage hole seen from the deflection center can be made larger at the horizontal axis end than at the diagonal axis end of the shadow mask. Therefore, it is possible to facilitate the formation of the phosphor screen and prevent the electron beam from being chipped around the phosphor screen.

【0013】[0013]

【実施例】以下、図面を参照してこの発明を実施例に基
づいて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will now be described based on embodiments with reference to the drawings.

【0014】図2にその一実施例であるカラー受像管を
示す。このカラー受像管は、内面が所定曲率の曲面から
なるパネル10およびこのパネル10に一体に接合されたフ
ァンネル11からなる外囲器を有し、そのパネル10の内面
に、垂直方向に細長いブラックストライプが水平方向に
所定ピッチで並列形成され、このブラックストライプ間
に青、緑、赤に発光するストライプ状の3色蛍光体層が
形成された蛍光体スクリーン12が設けられている。そし
てこの蛍光体スクリーン12に対向かつ所定間隔離間し
て、上記パネル10の内面の曲率に対応した曲面13からな
る後述する多数の電子ビーム通過孔の形成されたシャド
ウマスク14が配置されている。一方、ファンネル11のネ
ック15内に、同一水平面上を通る一列配置の3電子ビー
ム16を放出する電子銃17が配置されている。そして、こ
の電子銃17から放出される3電子ビーム16をファンネル
11の外側に装着された偏向ヨーク18の発生する磁界によ
り偏向し、上記シャドウマスク14を介して蛍光体スクリ
ーン12を水平、垂直走査することにより、カラー画像を
表示する構造に形成されている。
FIG. 2 shows a color picture tube which is an embodiment of the present invention. This color picture tube has an envelope composed of a panel 10 whose inner surface is a curved surface having a predetermined curvature and a funnel 11 integrally joined to the panel 10. The inner surface of the panel 10 has a vertically elongated black stripe. Are arranged in parallel in the horizontal direction at a predetermined pitch, and a phosphor screen 12 in which stripe-shaped three-color phosphor layers emitting blue, green, and red are formed between the black stripes is provided. A shadow mask 14 having a large number of electron beam passage holes, which will be described later, formed of a curved surface 13 corresponding to the curvature of the inner surface of the panel 10 is arranged facing the phosphor screen 12 and separated by a predetermined distance. On the other hand, in the neck 15 of the funnel 11, an electron gun 17 that emits the three electron beams 16 arranged in a row passing through the same horizontal plane is arranged. The three electron beam 16 emitted from the electron gun 17 is funneled.
The fluorescent screen 12 is deflected by a magnetic field generated by a deflection yoke 18 mounted on the outside of the mirror 11, and the phosphor screen 12 is horizontally and vertically scanned through the shadow mask 14 to form a color image display structure.

【0015】上記シャドウマスク14の電子ビーム通過孔
は、蛍光体スクリーン12側に大きく開口し、電子銃17側
の面に近い内側に孔径を決定する最小径部をもつ縦長の
ほぼ矩形状に形成され(図6参照)、図1に示すよう
に、そのほぼ矩形状の電子ビーム通過孔20が垂直方向
(Y方向)にブリッジ21を介して直線状に複数個配置さ
れ、この垂直方向の配列が水平方向(X方向)に所定ピ
ッチで複数列配列されている。しかもその電子ビーム通
過孔20の最小径部22の水平方向の孔径Dがシャドウマス
クの中心を通る垂直軸(Y軸)から水平方向端部に近い
ほど大きく、かつシャドウマスクの中心を通る水平軸
(X軸)から垂直方向端部に近いほど小さく形成されて
いる。
The electron beam passage hole of the shadow mask 14 is formed in a vertically long substantially rectangular shape having a large opening on the side of the phosphor screen 12 and having a minimum diameter portion for determining the hole diameter on the inner side close to the surface on the side of the electron gun 17. As shown in FIG. 1, as shown in FIG. 1, a plurality of substantially rectangular electron beam passage holes 20 are linearly arranged in the vertical direction (Y direction) via the bridge 21. Are arranged in a plurality of columns in the horizontal direction (X direction) at a predetermined pitch. In addition, the horizontal hole diameter D of the minimum diameter portion 22 of the electron beam passage hole 20 increases from the vertical axis (Y axis) passing through the center of the shadow mask to the horizontal end, and the horizontal axis passing through the center of the shadow mask. The smaller the distance from the (X axis) toward the end in the vertical direction, the smaller the size.

【0016】今、図3に示すシャドウマスク14上の任意
の点Aについて考えると、点Aは、シャドウマスク14の
中心軸すなわち管軸(Z軸)(図2参照)およびこの管
軸上の点Oで直交する水平、垂直軸からの距離の関数A
(x,y,z)で表される。ここで、点Oと点Aを結ぶ
線OAが垂直軸となす角度をθf 、点Oから点Aまでの
距離をRf とし、図4に示すように、点Aにおけるシャ
ドウマスク14の落込み量をΔzとすると、点Aをそれら
の関数A(Rf ,θf ,Δz)で与えることができる。
Now, considering an arbitrary point A on the shadow mask 14 shown in FIG. 3, the point A is the central axis of the shadow mask 14, that is, the tube axis (Z axis) (see FIG. 2) and the tube axis. Function A of the distance from the horizontal and vertical axes orthogonal to the point O
It is represented by (x, y, z). Here, the angle formed by the line OA connecting the point O and the point A with the vertical axis is θf, and the distance from the point O to the point A is Rf. As shown in FIG. Is Δz, the point A can be given by those functions A (Rf, θf, Δz).

【0017】そこで、偏向中心DC で偏向されて点Aに
入射する電子ビーム16とシャドウマスク14とのなす角
度、すなわち電子ビーム16の点Aにおけるシャドウマス
ク14への入射角をθm とすると、電子ビーム16の入射角
θm の水平方向成分θmxは偏向中心DC からパネル10内
面までの距離をL0 、パネル10中心におけるパネル10と
シャドウマスク13との間隔をq0 とするとき、数1で表
され、
Therefore, when the angle between the electron beam 16 deflected at the deflection center DC and incident on the point A and the shadow mask 14, that is, the incident angle of the electron beam 16 on the shadow mask 14 at the point A is θ m, the electrons are The horizontal component θmx of the incident angle θm of the beam 16 is expressed by Equation 1 where L 0 is the distance from the deflection center DC to the inner surface of the panel 10 and q 0 is the distance between the panel 10 and the shadow mask 13 at the center of the panel 10. Is

【数1】 偏向中心DC から見た点Aでの電子ビーム通過孔の最小
径部の水平方向の孔径DAPP は、数2となる。
[Equation 1] The hole diameter DAPP in the horizontal direction of the minimum diameter portion of the electron beam passage hole at the point A viewed from the deflection center DC is given by

【0018】[0018]

【数2】 すなわち、偏向中心DC から見た電子ビーム通過孔の最
小径部の水平方向の孔径DAPP は、垂直軸から遠ざかる
にしたがって大きくなるように設定される。
[Equation 2] That is, the hole diameter DAPP in the horizontal direction of the minimum diameter portion of the electron beam passage hole viewed from the deflection center DC is set to increase as the distance from the vertical axis increases.

【0019】また一般に、シャドウマスク14の中心Oか
ら水平方向の距離xを一定として、垂直方向の距離yの
絶対値|y|を大きくしてゆくと、数3は増加し、数4
は減少する。
In general, when the horizontal distance x from the center O of the shadow mask 14 is kept constant and the absolute value | y | of the vertical distance y is increased, the number 3 increases and the number 4 increases.
Decreases.

【0020】[0020]

【数3】 [Equation 3]

【数4】 しかし数3の増加は、数4の減少を上回るため、xを一
定として|y|を大きくしてゆくと、θmxは増加する。
すなわち偏向中心DC から見た電子ビーム通過孔の最小
径部の水平方向の孔径DAPP は、xが一定のとき、水平
軸から遠ざかるにしたがって大きくなる。
[Equation 4] However, since the increase of the equation 3 exceeds the decrease of the equation 4, θmx increases when x is kept constant and | y | is increased.
That is, the horizontal hole diameter DAPP of the minimum diameter portion of the electron beam passage hole viewed from the deflection center DC increases as the distance from the horizontal axis increases when x is constant.

【0021】この場合、水平軸端での孔径DAPP と対角
軸端での孔径DAPP とでは、対角軸端での孔径DAPP の
方が大きい。そのため、蛍光体スクリーンの対角軸端部
で電子ビームが他色蛍光体層をランディングしたり、水
平軸端部で電子ビームの欠けが発生する原因となる。ま
た蛍光体スクリーンの形成時には、蛍光体スクリーンの
対角軸端部よりも水平軸端部のブラックストライプの幅
が小さくなり、シャドウマスクを露光マスクとして写真
印刷法によりブラックストライプを形成するときの光量
補正フィルタによる調整を困難にする方向にある。
In this case, of the hole diameter DAPP at the horizontal axis end and the hole diameter DAPP at the diagonal axis end, the hole diameter DAPP at the diagonal axis end is larger. Therefore, the electron beam may land on the phosphor layer of another color at the end of the diagonal axis of the phosphor screen, or the electron beam may be chipped at the end of the horizontal axis. Also, when the phosphor screen is formed, the width of the black stripe at the end of the horizontal axis becomes smaller than the end of the diagonal axis of the phosphor screen, and the amount of light when forming the black stripe by the photo printing method using the shadow mask as the exposure mask. Adjustment tends to be difficult with the correction filter.

【0022】そこで、シャドウマスク14の電子ビーム通
過孔20の最小径部の水平方向の孔径Dを水平方向ばかり
でなく、垂直方向にも変化させ、偏向中心DC から見た
電子ビーム通過孔の最小径部の水平方向の孔径DAPP を
垂直軸から遠ざかるにしたがって(水平方向端部に近ず
くほど)大きくするとともに、水平軸から遠ざかるにし
たがって(垂直方向端部に近ずくほど)小さくするかも
しくは等しくすることにより、蛍光体スクリーンの対角
軸端部における電子ビームの他色蛍光体層のランディン
グを防止することができ、また水平軸端部で電子ビーム
の欠けの発生を防止することができる。また所要の蛍光
体スクリーンを容易に形成することができるようにな
る。
Therefore, the horizontal hole diameter D of the minimum diameter portion of the electron beam passage hole 20 of the shadow mask 14 is changed not only in the horizontal direction but also in the vertical direction, and the maximum diameter of the electron beam passage hole seen from the deflection center DC is obtained. The hole diameter DAPP in the horizontal direction of the small diameter part increases with increasing distance from the vertical axis (closer to the horizontal end), and decreases or equals with increasing distance from the horizontal axis (closer to the vertical end). By doing so, it is possible to prevent the landing of the other-color phosphor layer of the electron beam at the diagonal axis end portion of the phosphor screen, and to prevent the electron beam chipping at the horizontal axis end portion. Further, it becomes possible to easily form a required phosphor screen.

【0023】[0023]

【発明の効果】シャドウマスクのほぼ矩形状の電子ビー
ム通過孔の水平方向の孔径をシャドウマスクの中心を通
る垂直軸から水平方向端部に近いほど大きく、かつシャ
ドウマスクの中心を通る水平軸から垂直方向端部に近い
ほど小さくすると、偏向中心からみた電子ビーム通過孔
の水平方向の孔径を、シャドウマスクの対角軸端よりも
水平軸端の方を大きくすることができ、蛍光体スクリー
ンの対角軸端部における電子ビームの他色蛍光体層のラ
ンディングを防止することができ、また蛍光体スクリー
ンの水平軸端での電子ビームの欠けを防止することがで
きる。さらに蛍光体スクリーンの形成が容易になる。
The hole diameter in the horizontal direction of the substantially rectangular electron beam passage hole of the shadow mask is larger from the vertical axis passing through the center of the shadow mask toward the horizontal end, and from the horizontal axis passing through the center of the shadow mask. By making it smaller toward the vertical end, the horizontal hole diameter of the electron beam passage hole seen from the deflection center can be made larger at the horizontal axis end than at the diagonal axis end of the shadow mask. It is possible to prevent landing of the other-color phosphor layer of the electron beam at the end of the diagonal axis, and to prevent chipping of the electron beam at the end of the horizontal axis of the phosphor screen. Further, the phosphor screen can be easily formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例に係るシャドウマスクの構
造を説明するための図である。
FIG. 1 is a diagram for explaining the structure of a shadow mask according to an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の一実施例であるカラー受像管の構成
を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a color picture tube which is an embodiment of the present invention.

【図3】上記シャドウマスクの電子ビーム通過孔の水平
方向の孔径を説明するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a horizontal hole diameter of an electron beam passage hole of the shadow mask.

【図4】同じく上記シャドウマスクの電子ビーム通過孔
の水平方向の孔径を説明するための図である。
FIG. 4 is a view for explaining the horizontal hole diameter of the electron beam passage hole of the shadow mask.

【図5】ブラックストライプを有する蛍光体スクリーン
の構成を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a phosphor screen having a black stripe.

【図6】図6(a)は従来のシャドウマスクの電子ビー
ム通過孔の配列を示す平面図、図6(b)はそのB−B
断面図、図6(c)はそのC−C断面図である。
6 (a) is a plan view showing an arrangement of electron beam passage holes of a conventional shadow mask, and FIG. 6 (b) is its BB line.
Sectional drawing, FIG.6 (c) is CC sectional drawing.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…パネル 12…蛍光体スクリーン 13…曲面 14…シャドウマスク 16…3電子ビーム 17…電子銃 18…偏向ヨーク 20…電子ビム通過孔 21…ブリッジ 22…最小径部 10 ... Panel 12 ... Phosphor screen 13 ... Curved surface 14 ... Shadow mask 16 ... 3 Electron beam 17 ... Electron gun 18 ... Deflection yoke 20 ... Electron beam passage hole 21 ... Bridge 22 ... Minimum diameter part

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 蛍光体スクリーンと所定間隔離間して多
数の電子ビーム通過孔を有するシャドウマスクが配置さ
れ、このシャドウマスクの電子ビーム通過孔がほぼ矩形
状に形成されかつ水平方向に所定ピッチで配列されてな
るカラー受像管において、 上記電子ビーム通過孔は水平方向の孔径が上記シャドウ
マスクの中心を通る垂直軸から水平方向端部に近いほど
大きく、かつ上記シャドウマスクの中心を通る水平軸か
ら垂直方向端部に近いほど小さいことを特徴とするカラ
ー受像管。
1. A shadow mask having a large number of electron beam passage holes is arranged at a predetermined distance from a phosphor screen, and the electron beam passage holes of the shadow mask are formed in a substantially rectangular shape and horizontally at a predetermined pitch. In the arranged color picture tube, the electron beam passage hole is larger in the horizontal hole diameter from the vertical axis passing through the center of the shadow mask to the horizontal end, and from the horizontal axis passing through the center of the shadow mask. A color picture tube characterized by being smaller as it gets closer to the vertical end.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2741747A1 (en) * 1995-11-14 1997-05-30 Thomson Consumer Electronics COLOR IMAGE TUBE HAVING A HOLIDAY MASK WITH IMPROVED OPENING SHAPES
WO1998020514A1 (en) * 1996-11-05 1998-05-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Color cathode-ray tube

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