JPH06305858A - Method for modifying surface of carbon material - Google Patents

Method for modifying surface of carbon material

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JPH06305858A
JPH06305858A JP9440293A JP9440293A JPH06305858A JP H06305858 A JPH06305858 A JP H06305858A JP 9440293 A JP9440293 A JP 9440293A JP 9440293 A JP9440293 A JP 9440293A JP H06305858 A JPH06305858 A JP H06305858A
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carbon material
contact
vinyl
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fluorine gas
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Japanese (ja)
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Yasuo Tanabe
康雄 田邉
Yasuyuki Sasaki
康之 佐々木
Hidehiko Obara
秀彦 小原
Sunao Imaki
直 今木
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Mitsubishi Kasei Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
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Publication date
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    • C04B41/52Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
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Abstract

PURPOSE:To enable modification of the surfaces of carbon materials of various kinds by a simple process under a mild condition without requiring a specific device by bringing fluorine gas into contact with the surface of a carbon material and then bringing a prescribed monomer to the surface of the carbon material. CONSTITUTION:0.1-50% fluorine gas diluted with an inert gas such as nitrogen or helium is brought into contact with the surface of a carbon material under 1Torr to 2 atmospheric pressure at -70 to 200 deg.C for 1 second to 10 days, then one or more monomers having Alfrey-Price's (e) value of 1.7>(e)>-1.0 handleable in a gaseous state is brought into contact with the surface of the carbon material to cause polymerization reaction on the surface of the carbon material to form a polymer film having several Angstrom to several 100 micron thickness. Optionally, various gases are brought into contact with the end of the polymer to stop the polymerization or further another monomer is brought into contact with the surface of the carbon material and a different polymer layer is formed to give a carbon material having a modified surface of high water repellency and maintaining surface characteristics of >=100 deg. contact angle with water.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、炭素材料表面の改質方
法およびそれによって製造される新規炭素材料に関する
ものであり、詳しくは、炭素材料表面を、官能基を有す
るポリマーでコーティングする合成樹脂表面の改質方法
および従来にない大きな撥水性を示す新規な炭素材料に
関するものである。本発明の炭素材料表面の改質方法
は、含フッ素、含酸素もしくは含窒素官能基またはそれ
らを経由して得られる種々の官能基を炭素材料表面に導
入することにより、撥水・撥油性能、摺動性能、親水・
親油性能、耐薬品性、耐熱性、電気伝導性、電気絶縁性
等、炭素材料表面に新たな機能を付与する方法として有
用である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for modifying a surface of a carbon material and a novel carbon material produced by the method, and more specifically, a synthetic resin for coating the surface of the carbon material with a polymer having a functional group. The present invention relates to a method for modifying the surface and a novel carbon material exhibiting unprecedentedly large water repellency. The method for modifying the surface of a carbon material of the present invention is to introduce a fluorine-containing, oxygen-containing or nitrogen-containing functional group or various functional groups obtained via the functional group into the surface of the carbon material to obtain water / oil repellent performance. , Sliding performance, hydrophilic
It is useful as a method for imparting a new function to the surface of the carbon material such as lipophilicity, chemical resistance, heat resistance, electric conductivity, and electric insulation.

【0002】[0002]

【従来の技術】炭素材料表面に、ポリマーを形成させる
方法としては、塗布によるコーティング法や、プラズマ
処理等の物理的エネルギーを用いた物理的改質法、γ−
線などの放射線や光照射によりラジカルを形成させ、グ
ラフト鎖を生成させる化学的改質法などが知られてい
る。
2. Description of the Related Art As a method for forming a polymer on the surface of a carbon material, a coating method by coating, a physical modification method using physical energy such as plasma treatment, γ-
There is known a chemical modification method in which radicals are formed by irradiation with radiation such as rays or light to generate graft chains.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プラズ
マ処理法では真空条件を必要とするため大型材料の連続
処理が困難であり、更に、装置コストが高く簡便な汎用
的処理法としては不適切である。塗布によるコーティン
グ法では十分な接着性が得られにくかったり、薄膜化処
理が困難であったり、湿式処理に起因して洗浄、乾燥工
程等を必要としてプロセスが複雑である。
However, since the plasma processing method requires vacuum conditions, it is difficult to continuously process a large-sized material, and further, it is unsuitable as a general-purpose processing method which requires high equipment cost and is simple. . In the coating method by coating, it is difficult to obtain sufficient adhesiveness, it is difficult to form a thin film, and cleaning and drying steps are required due to wet processing, and the process is complicated.

【0004】更に、放射線や光照射による方法は、種々
の形状を有する炭素基材表面に均一に照射することは困
難であり、装置コストが高いことなども難点として挙げ
られる。本発明は、上記実情に鑑みなされたものであ
り、その目的は、特殊な装置を必要とせずに簡便なプロ
セスにより、しかも、温和な条件の作用により、広範囲
の種類の炭素材料表面に、任意の膜厚の均一な種々の官
能基を有するポリマーをコーティングすることができる
炭素材料表面の改質方法を提供することにある。
Furthermore, it is difficult to uniformly irradiate the surface of the carbon substrate having various shapes with the method using radiation or light, and the cost of the apparatus is high. The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a wide range of types of carbon material surface by a simple process that does not require a special device, and by the action of mild conditions. Another object of the present invention is to provide a method for modifying the surface of a carbon material, which is capable of coating a polymer having various functional groups with a uniform film thickness.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の要旨
は、炭素材料表面にフッ素ガスを接触させた後、モノマ
ーの反応性の尺度となるアルフレイ−プライスのe値
が、1.7>e>−1.0であるモノマーを接触させて
炭素材料表面に新たなポリマー層を形成させることを特
徴とする炭素材料表面の改質方法に存する。
That is, the gist of the present invention is that after the fluorine gas is brought into contact with the carbon material surface, the Alfrey-price e value, which is a measure of the reactivity of the monomer, is 1.7> e. A method of modifying a surface of a carbon material is characterized in that a new polymer layer is formed on the surface of the carbon material by contacting a monomer having a ratio of> -1.0.

【0006】以下、本発明を詳細に説明する。本発明を
適用し得る炭素材料としては、フッ素ガスと反応しうる
炭化水素部位を持つものが好ましいが、例えば酸化処理
のような表面処理を施したものでもよく、以下のような
ものが挙げられる。 (1)炭素繊維類(ピッチ系、PAN系、レーヨン系な
ど) (2)ピッチ類(等方性、異方性ピッチなど) (3)カーボンブラック、活性炭、C60など (4)黒鉛(等方性、異方性) (5)ガラス状炭素 など 炭素材料の形態は、フィルム、板、粉体、繊維あるいは
成形体(管類、容器など)など任意に選ぶことができ
る。
The present invention will be described in detail below. As the carbon material to which the present invention can be applied, those having a hydrocarbon moiety capable of reacting with fluorine gas are preferable, but those subjected to a surface treatment such as oxidation treatment may be used, and the following are exemplified. . (1) Carbon fibers (pitch-based, PAN-based, rayon-based, etc.) (2) Pitches (isotropic, anisotropic pitch, etc.) (3) Carbon black, activated carbon, C60, etc. (4) Graphite (isotropic) Properties, anisotropy) (5) Glassy carbon, etc. The form of the carbon material can be arbitrarily selected such as a film, a plate, a powder, a fiber or a molded body (tubes, containers, etc.).

【0007】本発明においては、先ず、炭素材料表面に
フッ素ガスを接触させる。炭素材料表面に予めフッ素ガ
スを接触させる効果は、炭素材料とフッ素ガスとの反応
により、後述するモノマーの重合反応を開始させるため
のラジカル様の反応活性部位を形成させる点にある。従
って、フッ素ガスを接触させる条件は、直接フッ素化反
応処理の場合に比し、大幅に緩和された条件でよい。
In the present invention, first, fluorine gas is brought into contact with the surface of the carbon material. The effect of contacting the surface of the carbon material with the fluorine gas in advance is that the reaction between the carbon material and the fluorine gas forms a radical-like reaction active site for initiating the polymerization reaction of the monomer described later. Therefore, the conditions under which the fluorine gas is brought into contact may be conditions greatly relaxed as compared with the case of the direct fluorination reaction treatment.

【0008】フッ素ガスは、窒素あるいはヘリウム等の
不活性ガスで希釈して用いてもよく、その濃度は特に限
定されないが、0.1〜50%の範囲、好ましくは1〜
20%の範囲から選ばれる。かかるフッ素ガス濃度は、
直接フッ素化反応が優先的に進行することを防止でき、
しかも、取扱い上も安全である。フッ素ガスの接触圧力
は、減圧から加圧までのいずれの条件でも可能である。
そして、使用するフッ素ガスの濃度により異なるが、通
常1torrから2気圧の範囲から選ばれる。
Fluorine gas may be diluted with an inert gas such as nitrogen or helium, and the concentration thereof is not particularly limited, but is in the range of 0.1 to 50%, preferably 1 to 50%.
It is selected from the range of 20%. The fluorine gas concentration is
It is possible to prevent the direct fluorination reaction from proceeding preferentially,
Moreover, it is safe to handle. The contact pressure of the fluorine gas can be any condition from reduced pressure to increased pressure.
The pressure is usually selected from the range of 1 torr to 2 atm, though it depends on the concentration of the fluorine gas used.

【0009】フッ素ガスの接触温度は、直接フッ素化反
応が優先的に進行しない条件が選ばれるが、その範囲
は、通常−70〜200℃、好ましくは−70〜90
℃、もっとも好ましくは0〜80℃の範囲である。フッ
素ガスの接触時間は、広い範囲から適宜選ばれ、通常、
1秒から10日、好ましくは1分から3時間の間に行わ
れる。
The contact temperature of the fluorine gas is selected such that the direct fluorination reaction does not proceed preferentially, but the range is usually -70 to 200 ° C, preferably -70 to 90.
C., most preferably 0 to 80.degree. The contact time of the fluorine gas is appropriately selected from a wide range and is usually
It is carried out for 1 second to 10 days, preferably 1 minute to 3 hours.

【0010】なお、これらの範囲外でも、当業者の判断
によりそれらが実施可能であると思われる場合には、適
宜、条件を選択することができる。次いで、フッ素ガス
を接触させた炭素材料表面にモノマーの反応性の尺度と
なるアルフレイ−プライスのe値が1.7>e>−1.
0であるモノマーを接触させる。かかるモノマーの作用
により、炭素材料表面で重合反応が起こり、ポリマー膜
が形成される。
[0010] It should be noted that the conditions can be appropriately selected outside these ranges if it is considered practicable by those skilled in the art. Next, the Alfrey-price e value, which is a measure of the reactivity of the monomer on the surface of the carbon material in contact with fluorine gas, is 1.7>e> -1.
The monomer which is 0 is contacted. Due to the action of such a monomer, a polymerization reaction occurs on the surface of the carbon material to form a polymer film.

【0011】モノマーとしては気体状態で取り扱えるも
のが好ましい。本発明に用いられるモノマーとしては、
モノマーの反応性の尺度となるアルフレイ−プライスの
e値が1.7>e>−1.0に定義されているものが用
いられる。この1.7>e>−1.0に定義されるe値
を有するモノマーの例は、例えば、「ポリマーデータハ
ンドブック」(培風館、1986)等に示されており、
以下の様なモノマーが挙げられる。
The monomer that can be handled in a gas state is preferable. As the monomer used in the present invention,
An Alfrey-Price e value defined as 1.7>e> -1.0, which is a measure of the reactivity of the monomer, is used. Examples of the monomer having an e value defined as 1.7>e> −1.0 are shown in, for example, “Polymer Data Handbook” (Baifukan, 1986),
The following monomers may be mentioned.

【0012】(1)オレフィン類 アセナフチレン、エチレンスルホン酸ナトリウム、エチ
レンスルホン酸ブチル、p−オキサチエン、N−(2−
クロロエチル)エチレンスルホンアミド、クロロトリフ
ルオロエチレン、2−クロロ−1−プロピレン、3−ク
ロロ−1−プロピレン、シクロペンテン−1,3−ジオ
ン、2−ビニルナフタレン、1,3−ブタジエン−1−
カルボン酸、1,3−ブタジエン−1−カルボン酸2,
3−エポキシプロピル、tert−ブチルイソプロペニ
ルケトン、プロピレン、ヘキサクロロ−1,3−ブタジ
エン、1−ヘキセンなど
(1) Olefins acenaphthylene, sodium ethylenesulfonate, butyl ethylenesulfonate, p-oxathiene, N- (2-
(Chloroethyl) ethylenesulfonamide, chlorotrifluoroethylene, 2-chloro-1-propylene, 3-chloro-1-propylene, cyclopentene-1,3-dione, 2-vinylnaphthalene, 1,3-butadiene-1-
Carboxylic acid, 1,3-butadiene-1-carboxylic acid 2,
3-epoxypropyl, tert-butyl isopropenyl ketone, propylene, hexachloro-1,3-butadiene, 1-hexene, etc.

【0013】(2)含フッ素オレフィン テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、
フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、3,3,3−トリフ
ルオロプロピレン、1,3,3,3−テトラフルオロプ
ロピレン、オクタフルオロイソブチレン、ヘキサフルオ
ロ−1,3−ブタジエン、クロロトリフルオロエチレン
など
(2) Fluorine-containing olefin tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene,
Vinylidene fluoride, vinyl fluoride, 3,3,3-trifluoropropylene, 1,3,3,3-tetrafluoropropylene, octafluoroisobutylene, hexafluoro-1,3-butadiene, chlorotrifluoroethylene, etc.

【0014】(3)スチレンおよびその誘導体 p−アセトキシスチレン、p−アセチル−α−メチルス
チレン、α−アセトキシスチレン、o−クロロスチレ
ン、m−クロロスチレン、p−クロロスチレン、p−ク
ロロメチルスチレン、p−シアノスチレン、β,β−ジ
フルオロスチレン、α−(ジフルオロメチル)スチレ
ン、2,4−ジブロモスチレン、スチレンスルホン酸ブ
チル、シス−スチルベン、トランス−スチルベン、p−
ニトロスチレン、p−フェニルスチレン、p−フルオロ
スチレン、β−フルオロスチレン、p−tert−ブチ
ルスチレン、p−ブロモスチレン、p−ベンゾイルスチ
レン、2,3,4,6−クロロスチレン、2,3,4,
5,6−ペンタフルオロスチレン、p−ヨウドスチレン
など
(3) Styrene and its derivatives p-acetoxystyrene, p-acetyl-α-methylstyrene, α-acetoxystyrene, o-chlorostyrene, m-chlorostyrene, p-chlorostyrene, p-chloromethylstyrene, p-cyanostyrene, β, β-difluorostyrene, α- (difluoromethyl) styrene, 2,4-dibromostyrene, butyl styrenesulfonate, cis-stilbene, trans-stilbene, p-
Nitrostyrene, p-phenylstyrene, p-fluorostyrene, β-fluorostyrene, p-tert-butylstyrene, p-bromostyrene, p-benzoylstyrene, 2,3,4,6-chlorostyrene, 2,3,3. 4,
5,6-pentafluorostyrene, p-iodostyrene, etc.

【0015】(4)ハロゲン化ビニル 塩化ビニリデン、塩化ビニル、臭化ビニル、ヨウ化ビニ
ルなど (5)ビニルエステル類 安息香酸ビニル、イソシアン酸ビニル、イソシアン酸p
−ビニルフェニル、イソチオシアン酸ビニル、ギ酸ビニ
ル、p−クロロ安息香酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、ケ
イヒ酸ビニル、酢酸ビニル、p−シアノ安息香酸ビニ
ル、シュウ酸エチルビニル、ジクロロ酢酸ビニル、炭酸
ジビニル、トリクロロ酢酸ビニル、トリフルオロ酢酸ビ
ニル、p−ビニル安息香酸、p−ビニル安息香酸クロリ
ド、プロピオン酸ビニル、ペンタフルオロ酢酸ビニル、
α−メトキシ安息香酸ビニルなど
(4) Vinyl halides Vinylidene chloride, vinyl chloride, vinyl bromide, vinyl iodide, etc. (5) Vinyl esters Vinyl benzoate, vinyl isocyanate, p-isocyanate
-Vinylphenyl, vinyl isothiocyanate, vinyl formate, vinyl p-chlorobenzoate, vinyl chloroacetate, vinyl cinnamate, vinyl acetate, vinyl p-cyanobenzoate, ethyl vinyl oxalate, vinyl dichloroacetate, divinyl carbonate, vinyl trichloroacetate. , Trifluorovinyl acetate, p-vinylbenzoic acid, p-vinylbenzoic acid chloride, vinyl propionate, vinyl pentafluoroacetate,
α-Methoxybenzoate etc.

【0016】(6)ビニルピリジン類 2−イソプロペニルピリジン、2−ビニルピリジン、4
−ビニルピリジン、2−ビニルピリジンオキシドなど
(6) Vinyl pyridines 2-isopropenyl pyridine, 2-vinyl pyridine, 4
-Vinyl pyridine, 2-vinyl pyridine oxide, etc.

【0017】(7)アクリル酸誘導体 アクリルアミド、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸
エチル、アクリル酸2,3−エポキシプロピル、アクリ
ル酸オクタデシル、アクリル酸p−クレジル、アクリル
酸クロリド、アクリル酸2−クロロエチル、アクリル酸
p−クロロフェニル、アクリル酸シクロドデシル、アク
リル酸6,8−ジメチル−4−オキソクロマニメチル、
アクリル酸2,4,6−トリクロロフェニル、アクリル
酸ナトリウム、アクリル酸2−ニトロブチル、アクリル
酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸2−ヒドロキシプ
ロピル、アクリル酸フェニル、アクリル酸フェロセニル
メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸p−ブロモフェ
ニル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ベンジル、アク
リル酸メチル、1−アクリロイルアジリジン、N−アク
リロイルピロリドン、1−アクリロイル−2−ベンゾイ
ルヒドラジン、アクリロニトリル、アクロレイン、α−
アセトキシアクリル酸エチル、α−アセトキシアクリロ
ニトリル、α−エチルアクリル酸メチル、β−エトキシ
アクリル酸エチル、N−オクチルアクリルアミド、α−
クロロアクリル酸メチル、α−クロロアクリロニトリ
ル、α−クロロアクロレイン、3−(2−クロロエチ
ル)−6−アクロイルオキシピリダジノン、α−シアノ
アクリル酸メチル、N,N−ジブチルアクリルアミド、
N,N−ジメチルアクリルアミド、チオアクリル酸メチ
ル、N−(ヒドロキシメチル)アクリルアミド、α−フ
ルオロアクリル酸メチル、α−フルオロメチルアクリル
酸エチル、無水アクリル酸、α−メトキシアクリロニト
リルなど
(7) Acrylic acid derivative Acrylamide, isopropyl acrylate, ethyl acrylate, 2,3-epoxypropyl acrylate, octadecyl acrylate, p-cresyl acrylate, chloride chloride, 2-chloroethyl acrylate, acrylic acid p-chlorophenyl, cyclododecyl acrylate, 6,8-dimethyl-4-oxochromanimethyl acrylate,
2,4,6-Trichlorophenyl acrylate, sodium acrylate, 2-nitrobutyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, phenyl acrylate, ferrocenylmethyl acrylate, butyl acrylate, P-Bromophenyl acrylate, propyl acrylate, benzyl acrylate, methyl acrylate, 1-acryloylaziridine, N-acryloylpyrrolidone, 1-acryloyl-2-benzoylhydrazine, acrylonitrile, acrolein, α-
Ethyl acetoxy acrylate, α-acetoxy acrylonitrile, α-ethyl methyl acrylate, β-ethoxy acrylate, N-octyl acrylamide, α-
Methyl chloroacrylate, α-chloroacrylonitrile, α-chloroacrolein, 3- (2-chloroethyl) -6-acroyloxypyridazinone, methyl α-cyanoacrylate, N, N-dibutylacrylamide,
N, N-dimethyl acrylamide, methyl thioacrylate, N- (hydroxymethyl) acrylamide, α-fluoromethyl acrylate, ethyl α-fluoromethyl acrylate, acrylic anhydride, α-methoxyacrylonitrile, etc.

【0018】(8)メタクリル酸誘導体 1,2−ジメタクロイルオキシエタン、N−フェニルメ
タクリルアミド、無水メタクリル酸、メタクリルアミ
ド、メタクリル酸、メタクリル酸亜鉛、メタクリル酸2
−アセトキシエチル、メタクリル酸イソプロピル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸2,3−エポキシプロピ
ル、メタクリル酸オクタフルオロペンチル、メタクリル
酸クロリド、メタクリル酸2−クロロエチル、メタクリ
ル酸クロロメチル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル
酸2−ニトロプロピル、メタクリル酸シクロヘキシル、
メタクリル酸フェニル、メタクリル酸フルフリル、メタ
クリル酸フロリド、メタクリル酸プロピル、メタクリル
酸ベンジル、メタクリル酸メチル、メタクリロニトリ
ル、メタクロレイン、N−メチルメタクリルアミドなど
(8) Methacrylic acid derivative 1,2-dimethacryloyloxyethane, N-phenylmethacrylamide, methacrylic anhydride, methacrylamide, methacrylic acid, zinc methacrylate, methacrylic acid 2
-Acetoxyethyl, isopropyl methacrylate, ethyl methacrylate, 2,3-epoxypropyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, chloride chloride, 2-chloroethyl methacrylate, chloromethyl methacrylate, dodecyl methacrylate, 2-methacrylate Nitropropyl, cyclohexyl methacrylate,
Phenyl methacrylate, furfuryl methacrylate, fluoride fluoride, propyl methacrylate, benzyl methacrylate, methyl methacrylate, methacrylonitrile, methacrolein, N-methylmethacrylamide, etc.

【0019】(9)ジエン類 2−アセトキシ−3−メチル−1,3−ブタジエン、ブ
タジエン、イソプレン、クロロプレンなど
(9) Dienes 2-acetoxy-3-methyl-1,3-butadiene, butadiene, isoprene, chloroprene, etc.

【0020】(10)その他 アトロパ酸メチル、アトロポニトリル、N−アリルアセ
トアミド、アリルアルコール、2−アリルピロール、ア
リルフェニルエーテル、アリルベンゼン、N−アリルベ
ンツアミド、イソプロピルビニルケトン、イソプロペニ
ルフェニルケトン、イソプロペニルメチルケトン、イタ
コン酸、イタコン酸ジエチル、エチルイソプロペニルケ
トン、エチルビニルケトン、エチルビニルスルフィド、
エチルビニルスルホキシド、オクタデシルビニルエーテ
ル、クロトンアルデヒド、クロトン酸メチル、クロトン
ニトリル、N−(2−クロロエチル)イタコンイミド、
p−クロロケイヒ酸メチル、クロロ酢酸アリル、クロロ
プレン、クロロメチルビニルケトン、ケイヒ酸フェニ
ル、ケイヒ酸tert−ブチル、ケイヒ酸ベンジル、ケ
イヒ酸メチル、酢酸イソプロペニル、シンナモニトリ
ル、ジフェニルビニルホスフィン、ジフェニルビニルホ
スフィンオキシド、ソルビン酸メチル、ソルボニトリ
ル、炭酸ビニレン、トリエトキシビニルシラン、トリブ
チルビニルスズ、トリメチルビニルゲルマン、トリメチ
ルビニルシラン、トリメチル(p−ビニルフェニル)シ
ラン、5−ビニルイソオキサゾール、1−ビニルイミダ
ゾール、2−ビニルチオフェン、2−ビニルフェナント
レン、m−ビニルフェノール、p−ビニルベンゼンスル
ホンアミド、p−ビニルベンズアミド、ビニルリン酸ジ
エチル、フェニルビニルケトン、フェニルビニルスルホ
ン、α−フェニルビニルリン酸、フタル酸ジアリル、フ
マル酸ジエチル、フマル酸ジイソプロピル、ペンタフル
オロフェニルビニルスルフィド、ムコン酸、ムコン酸ジ
エチル、メサコン酸ジシクロヘキシル、メサコン酸ジフ
ェニル、メサコン酸ジメチル、メチルビニルスルホン、
2−メチレングルタル酸ジエチルなど。
(10) Others Methyl atropate, atroponitrile, N-allylacetamide, allyl alcohol, 2-allylpyrrole, allylphenyl ether, allylbenzene, N-allylbenzamide, isopropyl vinyl ketone, isopropenyl phenyl ketone, Isopropenyl methyl ketone, itaconic acid, diethyl itaconate, ethyl isopropenyl ketone, ethyl vinyl ketone, ethyl vinyl sulfide,
Ethyl vinyl sulfoxide, octadecyl vinyl ether, crotonaldehyde, methyl crotonate, crotonnitrile, N- (2-chloroethyl) itaconimide,
p-Methyl chlorocinnamate, allyl chloroacetate, chloroprene, chloromethyl vinyl ketone, phenyl cinnamate, tert-butyl cinnamate, benzyl cinnamate, methyl arsenate, isopropenyl acetate, cinnamonitrile, diphenylvinylphosphine, diphenylvinylphosphine. Oxide, methyl sorbate, sorbonitrile, vinylene carbonate, triethoxyvinylsilane, tributylvinyltin, trimethylvinylgermane, trimethylvinylsilane, trimethyl (p-vinylphenyl) silane, 5-vinylisoxazole, 1-vinylimidazole, 2-vinyl Thiophene, 2-vinylphenanthrene, m-vinylphenol, p-vinylbenzenesulfonamide, p-vinylbenzamide, diethyl vinylphosphate, phenylvinyl Ton, phenyl vinyl sulfone, α-phenyl vinyl phosphoric acid, diallyl phthalate, diethyl fumarate, diisopropyl fumarate, pentafluorophenyl vinyl sulfide, muconic acid, diethyl muconate, dicyclohexyl mesaconate, diphenyl mesaconate, dimethyl mesaconate, Methyl vinyl sulfone,
2-methylene glutarate diethyl etc.

【0021】通常、モノマーの重合反応性を示すアルフ
レイ−プライスのe値が1.7>e>−1.0の場合、
ラジカル重合しやすいとされており、一方、e>1.7
のモノマーはアニオン重合しやすいと考えられている。
従って、上記のモノマーはフッ素ガスの作用によって形
成された活性化部位との反応性が高く、良好に重合膜が
形成されるものと考えられる。該モノマーの中でも特
に、eの値が比較的、正に大であるテトラフルオロエチ
レン、アクリル酸、アクリル酸メチルやアクリロニトリ
ルなどが好ましい。
Usually, when the Alfrey-price e value showing the polymerization reactivity of the monomer is 1.7>e> -1.0,
It is said that radical polymerization is easy, while e> 1.7.
It is considered that the monomer (1) is easily anionically polymerized.
Therefore, it is considered that the above-mentioned monomer has a high reactivity with the activated site formed by the action of the fluorine gas, and a polymerized film is satisfactorily formed. Among these monomers, tetrafluoroethylene, acrylic acid, methyl acrylate, acrylonitrile, etc., in which the value of e is relatively large, are particularly preferable.

【0022】また、これらのモノマーは1種で用いて
も、2種以上使用して共重合させても良い。種々の官能
器を有するモノマーの接触圧力は、減圧から加圧までの
何れの条件でも可能で、通常、1torrから10気圧
の範囲が選ばれる。反応装置、生産性等を考慮して本発
明方法を工業的有利に実施し、かつ、爆発の危険を避け
るためには、0.5〜2気圧の範囲が好ましい。
These monomers may be used alone or in a combination of two or more. The contact pressure of the monomer having various functional units can be any condition from reduced pressure to increased pressure, and normally, the range of 1 torr to 10 atm is selected. In order to industrially advantageously carry out the method of the present invention in consideration of the reactor, productivity, etc., and to avoid the risk of explosion, the range of 0.5 to 2 atm is preferable.

【0023】モノマーの接触温度は、使用するモノマー
により異なるが、通常、0〜200℃、好ましくは、2
0〜90℃の範囲から選ばれる。モノマーの接触時間
は、広い範囲から適宜選ばれ、通常、1秒から10日、
好ましくは1分から5時間の範囲とされる。これらの範
囲外でも、当業者の判断によりそれらが実施可能である
と思われる場合には、適宜、条件を選択することが可能
である。
The contact temperature of the monomer varies depending on the monomer used, but is usually 0 to 200 ° C., preferably 2
It is selected from the range of 0 to 90 ° C. The contact time of the monomer is appropriately selected from a wide range and is usually 1 second to 10 days,
It is preferably in the range of 1 minute to 5 hours. Even outside these ranges, the conditions can be appropriately selected when it is considered practicable by those skilled in the art.

【0024】本発明においては重合反応後、重合末端を
種々のガスと接触させることにより重合停止させること
ができる。その際の反応条件は、前記したフッ素ガス作
用条件と同様の条件を選ぶことができ、更に、他のモノ
マーガスを用いて異なるポリマー層を形成させることも
可能である。形成される官能器を有するポリマーの膜厚
は、作用させるモノマーの圧力、温度、作用時間等の因
子により制御しうるが、通常数オングストロームから数
100ミクロンのポリマー層を形成することができる。
In the present invention, after the polymerization reaction, the polymerization can be terminated by bringing the polymerization terminals into contact with various gases. The reaction conditions at that time can be the same as the above-mentioned fluorine gas action conditions, and it is also possible to form different polymer layers by using other monomer gas. The film thickness of the polymer having a functional unit to be formed can be controlled by factors such as the pressure of the monomer to be acted, the temperature, and the action time, but a polymer layer of several angstroms to several hundreds of microns can be usually formed.

【0025】そして、本発明における表面を改質された
炭素材料は、非常に優れた撥水性を有し、具体的には、
水との接触角(水滴接触角)が100°以上である表面
性能を保持させることができる。このように本発明にお
ける炭素材料の改質方法は温和な条件で実施されてい
る。すなわち、フッ素ガスの接触条件は、濃度、温度お
よび時間の何れも大幅に緩和された温和な条件で十分で
あり、モノマーガスの接触条件も敢えて加圧を必要とし
ない。そして、本発明によれば、温和な条件の採用によ
って次の(1)〜(3)の利点がある。
The surface-modified carbon material according to the present invention has extremely excellent water repellency, and specifically,
It is possible to maintain the surface performance in which the contact angle with water (water droplet contact angle) is 100 ° or more. As described above, the method for modifying a carbon material according to the present invention is carried out under mild conditions. That is, it is sufficient that the fluorine gas contact condition is a mild condition in which all of the concentration, temperature and time are greatly relaxed, and the monomer gas contact condition does not need to pressurize. Further, according to the present invention, there are the following advantages (1) to (3) by adopting mild conditions.

【0026】(1)危険性の高い高濃度のフッ素ガスを
使用する必要がないため、操作上の安全性が得られる。 (2)100℃以下の低温でも表面改質が出来る。 (3)常温以下の圧力条件を採用し得るため、加圧下で
は爆発の危険性があるテトラフルオロエチレンガス等に
ついても安全な条件下で使用し得る。加圧条件の回避
は、反応装置、生産性の観点からも有利である。
(1) Since it is not necessary to use highly dangerous fluorine gas of high concentration, operational safety can be obtained. (2) Surface modification is possible even at a low temperature of 100 ° C. or lower. (3) Since it is possible to adopt a pressure condition at room temperature or lower, it is possible to use tetrafluoroethylene gas or the like, which may explode under pressure, under safe conditions. Avoiding pressurization conditions is also advantageous from the viewpoint of reactor and productivity.

【0027】[0027]

【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実
施例によって限定されるものではない。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples unless it exceeds the gist.

【0028】実施例1 フッ素に対し耐性を有する反応器内に2500℃焼成の
炭素繊維試料を入れ、真空排気後、窒素で5%に希釈し
たフッ素ガスを導入して210torrとした。室温で
20分間静置後、フッ素ガスを真空排気し、次いで、テ
トラフルオロエチレンガスを導入して760torrと
した。2℃/minで昇温し、80℃で1時間静置した
後、室温に戻し、未反応のテトラフルオロエチレンガス
を窒素ガスにより置換した。再度、窒素ガスを真空排気
後、重合末端をフッ素置換するため、窒素で5%に希釈
したフッ素ガスを導入して100torrとし、5分間
静置した。最後に、フッ素ガスを窒素で置換後、試料を
取り出し、表面に形成された膜を分析した。
Example 1 A carbon fiber sample calcined at 2500 ° C. was placed in a reactor having resistance to fluorine, and after evacuation, fluorine gas diluted to 5% with nitrogen was introduced to 210 torr. After standing at room temperature for 20 minutes, the fluorine gas was evacuated and then tetrafluoroethylene gas was introduced to adjust the pressure to 760 torr. The temperature was raised at 2 ° C./min, the mixture was allowed to stand at 80 ° C. for 1 hour, then returned to room temperature, and unreacted tetrafluoroethylene gas was replaced with nitrogen gas. After evacuation of the nitrogen gas again, in order to replace the fluorine at the polymerization end, fluorine gas diluted with nitrogen to 5% was introduced to 100 torr and left standing for 5 minutes. Finally, after replacing the fluorine gas with nitrogen, the sample was taken out and the film formed on the surface was analyzed.

【0029】ウイルヘルミイ法による水に対する接触角
θ110°であり、試料表面(θ=97°)上に撥水性
膜が形成されていることはSEM観察からも確認され
た。XPS分析の結果、(CF2 n に帰属されるピー
ク(292eV)が観測されたことから、形成された撥
水性膜はポリテトラフルオロエチレン構造を有し、その
膜厚は50Å以上であることが確認された
It was also confirmed by SEM observation that the contact angle to water by the Wilhelmy method was θ110 ° and the water-repellent film was formed on the sample surface (θ = 97 °). As a result of XPS analysis, a peak (292 eV) attributed to (CF 2 ) n was observed, and thus the formed water-repellent film has a polytetrafluoroethylene structure and its film thickness is 50 Å or more. Was confirmed

【0030】実施例2 フッ素に対し耐性を有する反応器内に2500℃焼成の
炭素繊維試料を入れ、真空排気後、窒素で10%に希釈
したフッ素ガスを導入して210torrとした。室温
で20分間静置後、フッ素ガスを真空排気し、次いで、
テトラフルオロエチレン(TFE)とヘキサフルオロプ
ロピレン(HFP)の混合ガス(TFE/HFP=36
0/400torr)を導入し760torrとした。
2℃/minで昇温し、80℃で1時間静置した後、室
温に戻し、未反応の混合ガスを窒素ガスにより置換し
た。再度、窒素ガスを真空排気後、重合末端をフッ素置
換するため窒素で10%に希釈したフッ素ガスを導入し
て100torrとし、5分間静置した。最後に、フッ
素ガスを窒素で置換後、試料を取り出し、表面に形成さ
れた膜を分析した。
Example 2 A carbon fiber sample calcined at 2500 ° C. was placed in a reactor having resistance to fluorine, and after evacuation, a fluorine gas diluted with nitrogen to 10% was introduced to 210 torr. After standing at room temperature for 20 minutes, the fluorine gas was evacuated, and then
Mixed gas of tetrafluoroethylene (TFE) and hexafluoropropylene (HFP) (TFE / HFP = 36
0/400 torr) was introduced to make 760 torr.
The temperature was raised at 2 ° C./min, the mixture was allowed to stand at 80 ° C. for 1 hour, then returned to room temperature, and the unreacted mixed gas was replaced with nitrogen gas. After evacuation of the nitrogen gas again, a fluorine gas diluted with nitrogen to 10% in order to replace the polymerization terminal with fluorine was introduced to 100 torr and left standing for 5 minutes. Finally, after replacing the fluorine gas with nitrogen, the sample was taken out and the film formed on the surface was analyzed.

【0031】ウイルヘルミイ法による水に対する接触角
θは110°であり、試料表面(θ=97°)上に撥水
性膜が形成されていることはSEM観察からも確認され
た。XPS分析の結果、(CF2 n に帰属されるピー
ク(292eV)とCF3に帰属されるピーク(293
eV)が観測され、その強度比からHFP/TFE=
0.16の共重合膜が形成されていることが確認され
た。
The contact angle θ with water according to the Wilhelmy method was 110 °, and it was confirmed by SEM observation that the water-repellent film was formed on the sample surface (θ = 97 °). As a result of XPS analysis, a peak (292 eV) assigned to (CF 2 ) n and a peak (293 assigned to CF 3 )
eV) was observed, and HFP / TFE =
It was confirmed that a 0.16 copolymer film was formed.

【0032】実施例3 フッ素に対し耐性を有する反応器内に1500℃焼成の
炭素繊維試料を入れ、真空排気後、窒素で10%に希釈
したフッ素ガスを導入して120torrとした。室温
で20分間静置後、フッ素ガスを真空排気し、次いで、
アクリロニトリルガスを140torr導入し、窒素ガ
スを加えて一気圧にした。室温で1時間静置した後、未
反応のアクリロニトリルガスを窒素ガスにより置換して
試料を取り出し、表面に形成された膜を分析した。ウイ
ルヘルミイ法による水に対する接触角θは75°であ
り、試料表面(θ=96°)上にアクリロニトリル膜が
形成された。XPS分析の結果、−CNに帰属されるピ
ーク(401eV)が観測されたことから、形成膜はア
クリロニトリル構造を有し、その膜厚は50Å以上であ
ることが確認された。
Example 3 A carbon fiber sample calcined at 1500 ° C. was placed in a reactor having resistance to fluorine, and after evacuation, a fluorine gas diluted with nitrogen to 10% was introduced to 120 torr. After standing at room temperature for 20 minutes, the fluorine gas was evacuated, and then
Acrylonitrile gas was introduced at 140 torr, and nitrogen gas was added to adjust to 1 atm. After standing at room temperature for 1 hour, unreacted acrylonitrile gas was replaced with nitrogen gas, a sample was taken out, and the film formed on the surface was analyzed. The contact angle θ with water according to the Wilhelmy method was 75 °, and an acrylonitrile film was formed on the sample surface (θ = 96 °). As a result of XPS analysis, since a peak (401 eV) attributed to —CN was observed, it was confirmed that the formed film had an acrylonitrile structure and the film thickness was 50 Å or more.

【0033】比較例1 フッ素に対し耐性を有する反応器内に2500℃焼成の
炭素繊維試料を入れ、真空排気後、テトラフルオロエチ
レンガスを導入して760torrとした。80℃で1
時間静置した後、室温に戻し未反応のテトラフルオロエ
チレンガスを窒素ガスにより置換した。再度、窒素ガス
を真空排気後、重合末端をフッ素置換するため窒素で1
0%に希釈したフッ素ガスを導入して100torrと
し、5分間静置した。最後に、フッ素ガスを窒素で置換
後、試料を取り出し、炭素繊維表面の分析を行った。ウ
イルヘルミイ法による水に対する接触角θは84°であ
り、試料表面(θ=97°)上に撥水性膜が形成されて
いないことが確認された。
Comparative Example 1 A carbon fiber sample calcined at 2500 ° C. was put in a reactor having resistance to fluorine, evacuated and then tetrafluoroethylene gas was introduced to 760 torr. 1 at 80 ° C
After standing for a while, the temperature was returned to room temperature and the unreacted tetrafluoroethylene gas was replaced with nitrogen gas. After evacuating the nitrogen gas again, use nitrogen to replace the polymerization end with fluorine.
Fluorine gas diluted to 0% was introduced to 100 torr, and the mixture was allowed to stand for 5 minutes. Finally, after replacing the fluorine gas with nitrogen, the sample was taken out and the carbon fiber surface was analyzed. The contact angle θ with water by the Wilhelmy method was 84 °, and it was confirmed that the water-repellent film was not formed on the sample surface (θ = 97 °).

【0034】比較例2 反応器内に1500℃焼成の炭素繊維試料を入れ、真空
排気後、アクリロニトリルガスを140torr導入し
た。更に、窒素ガスを加えて760torrとした後、
室温で1時間静置した。未反応のアクリロニトリルガス
を窒素置換した後、試料を取り出し、炭素繊維表面の分
析を行った。ウイルヘルミイ法による水に対する接触角
θは97°であり、XPS分析の結果、窒素に由来する
ピークは観測されなかったことから、試料表面にアクリ
ロニトリル膜が形成されていないことが確認された。
Comparative Example 2 A carbon fiber sample calcined at 1500 ° C. was placed in a reactor, evacuated, and then acrylonitrile gas was introduced at 140 torr. Furthermore, after adding nitrogen gas to 760 torr,
It was left to stand at room temperature for 1 hour. After the unreacted acrylonitrile gas was replaced with nitrogen, a sample was taken out and the carbon fiber surface was analyzed. The contact angle θ with water by the Wilhelmy method was 97 °, and as a result of XPS analysis, a peak derived from nitrogen was not observed. Therefore, it was confirmed that the acrylonitrile film was not formed on the sample surface.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明によれば、特殊な装置及び多大の
エネルギーを必要とせず、簡便なプロセスにより、広範
囲の種類の炭素材料表面に任意の膜厚の均一な含官能器
ポリマー膜をコーティングすることができ、あるいは数
種のモノマーを用いれば多層構造にすることも可能であ
り、その産業的意義は多大である。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, a wide variety of types of carbon material surfaces are coated with a uniform functional-containing polymer film having an arbitrary thickness by a simple process without requiring a special apparatus and a large amount of energy. It is also possible to make a multi-layer structure by using several kinds of monomers, and its industrial significance is great.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 D06M 11/07 14/36 // D06M 101:40 (72)発明者 今木 直 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI Technical display location D06M 11/07 14/36 // D06M 101: 40 (72) Inventor Nao Imaki Yokohama City, Kanagawa Prefecture 1000, Kamoshida-cho, Midori-ku Sanryo Kasei Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 炭素材料表面にフッ素ガスを接触させた
後、アルフレイ−プライスのe値が、1.7>e>−
1.0であるモノマーを接触させて炭素材料表面に新た
なポリマー層を形成させることを特徴とする炭素材料表
面の改質方法。
1. An Alfrey-price e value of 1.7>e>-after a fluorine gas is brought into contact with the surface of a carbon material.
A method for modifying a surface of a carbon material, which comprises contacting a monomer of 1.0 to form a new polymer layer on the surface of the carbon material.
【請求項2】 表面の水滴接触角が100°以上である
ことを特徴とする新規炭素材料。
2. A novel carbon material having a surface water drop contact angle of 100 ° or more.
JP9440293A 1993-04-21 1993-04-21 Method for modifying surface of carbon material Pending JPH06305858A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001110407A (en) * 1999-10-05 2001-04-20 Mitsubishi Chemicals Corp Negative electrode material for lithium ion battery and the lithium ion secondary battery
JP2002322105A (en) * 2001-04-26 2002-11-08 Showa Denko Kk Preparation method for 2,3-dichloro-1-propanol and epichlorohydrin

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