JPH06301935A - Thin film magnetic head of magnetoresistance effect type - Google Patents

Thin film magnetic head of magnetoresistance effect type

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JPH06301935A
JPH06301935A JP9338793A JP9338793A JPH06301935A JP H06301935 A JPH06301935 A JP H06301935A JP 9338793 A JP9338793 A JP 9338793A JP 9338793 A JP9338793 A JP 9338793A JP H06301935 A JPH06301935 A JP H06301935A
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JP
Japan
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bias
circuit
sense
resistor
current
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JP9338793A
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Japanese (ja)
Inventor
Kiyoshi Ota
清志 太田
Tetsuo Sekiya
哲夫 関谷
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

PURPOSE:To drive a magnetic head while a sense current and a bias current are individually set at the optimum value even making the number of terminals of a reproducing circuit minimum. CONSTITUTION:This is an MR head having a reproducing circuit which consists of a sense circuit 32 and a bias circuit 31. An MR element is a resistance RMR and a sense current IMR is supplied in the sense circuit 32. On the other hand, a bias conductor of the bias circuit 31 is a resistance RBias and a bias current IBias is supplied to the bias circuit 31. The reproducing circuit has the sense circuit 32 and the bias circuit 31 connected in parallel, with a variable resistance R consisting of a resistor connected in series to the bias circuit 31.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体からの信
号磁界によって、抵抗率が変化する磁気抵抗効果素子を
用い、その磁気抵抗効果素子の抵抗変化を再生出力電圧
として検出する磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention uses a magnetoresistive effect element whose resistivity changes according to a signal magnetic field from a magnetic recording medium, and detects a resistance change of the magnetoresistive effect element as a reproduction output voltage. Type thin film magnetic head.

【0002】[0002]

【従来の技術】近時、ハードディスク装置における小型
大容量化が進行する中で、特にノート型パソコンに代表
されるような可搬型コンピュータへの適用が考慮される
用途では、例えば2.5インチハードディスク装置に対
する要求が高まっている。
2. Description of the Related Art In recent years, as hard disk devices have become smaller and have larger capacities, particularly in applications where portable computers such as notebook computers are considered, for example, a 2.5-inch hard disk. The demand for equipment is increasing.

【0003】このような小型ハードディスクではディス
ク径に依存して媒体速度が遅くなるため、再生出力が媒
体速度に依存する従来の誘導型磁気ヘッドでは、再生出
力が低下し、大容量化の妨げとなっている。
In such a small hard disk, the medium speed becomes slow depending on the disk diameter. Therefore, in the conventional induction type magnetic head in which the reproducing output depends on the medium speed, the reproducing output is lowered and the increase in capacity is hindered. Has become.

【0004】しかし、磁界によって抵抗率が変化する磁
気抵抗効果素子(以下、単にMR素子と記す)の抵抗変
化を再生出力電圧として検出する磁気抵抗効果型磁気ヘ
ッドは、その再生出力が媒体速度に依存せず、低媒体速
度でも高再生出力が得られるという特長を有するため、
小型ハードディスクにおいて大容量化を実現する磁気ヘ
ッドとして注目されている。
However, a magnetoresistive effect type magnetic head which detects a change in resistance of a magnetoresistive effect element (hereinafter, simply referred to as an MR element) whose resistivity changes according to a magnetic field as a reproduction output voltage has a reproduction output at a medium speed. Since it has the feature that it can obtain a high reproduction output even at a low medium speed,
It is attracting attention as a magnetic head that realizes a large capacity in a small hard disk.

【0005】従来では、上記MRヘッドをハードディス
ク装置の磁気ヘッドとして実現させるために、スライダ
材に、薄膜のMR素子を、下部シールドコアと上部シー
ルドコアとでサンドイッチした構造の磁気抵抗効果型薄
膜磁気ヘッド(以下、MRヘッドと記す)を形成するよ
うにしている。
Conventionally, in order to realize the above-mentioned MR head as a magnetic head of a hard disk drive, a magnetoresistive effect type thin film magnetic having a structure in which a thin film MR element is sandwiched between a slider material and a lower shield core and an upper shield core. A head (hereinafter referred to as an MR head) is formed.

【0006】このMRヘッドにおいては、再生回路とし
て、MR素子にセンス電流を流すセンス回路と、バイア
ス電流が供給されることによってMR素子に対してバイ
アス磁界を印加するバイアス回路を設けるようにしてい
る。
In this MR head, as a reproducing circuit, a sense circuit for supplying a sense current to the MR element and a bias circuit for applying a bias magnetic field to the MR element by supplying a bias current are provided. .

【0007】一般に、MR素子の困難軸方向の磁界成分
に対する抵抗値の変化は、図11のR−H特性曲線に示
すように、困難軸方向の磁界成分Hの絶対値が大きくな
るに従って、抵抗値Rが徐々に減少する特性を有する。
Generally, the change of the resistance value with respect to the magnetic field component in the hard axis direction of the MR element is as shown in the RH characteristic curve of FIG. 11, as the absolute value of the magnetic field component H in the hard axis direction increases. It has a characteristic that the value R gradually decreases.

【0008】このMRヘッドにて磁気記録媒体の記録信
号を再生する場合は、バイアス回路に所定のバイアス電
流を流して、MR素子の困難軸方向に予め固定のバイア
ス磁界HB を印加することにより、その動作点AをR−
H特性曲線の直線部分の中央にもってくるようにしてい
る。これは、検出感度を高めるためである。
When reproducing a recording signal of a magnetic recording medium with this MR head, a predetermined bias current is applied to the bias circuit and a fixed bias magnetic field H B is applied in advance in the hard axis direction of the MR element. , Its operating point A is R-
It is arranged so that it comes to the center of the straight line portion of the H characteristic curve. This is to increase the detection sensitivity.

【0009】このような状態において、磁気記録媒体か
らの信号磁界が入力されると、この信号磁界の困難軸方
向の磁界成分によって、MR素子の抵抗値が変化する。
MR素子には、センス回路を通して一定のセンス電流が
流れているため、MR素子の両端電圧Vがその抵抗値変
化に応じて変化することになる。従って、このMR素子
の両端電圧を検出することにより、磁気記録媒体に磁気
記録されている情報を知ることができる。
When a signal magnetic field from the magnetic recording medium is input in such a state, the resistance value of the MR element changes due to the magnetic field component of the signal magnetic field in the hard axis direction.
Since a constant sense current flows in the MR element through the sense circuit, the voltage V across the MR element changes according to the change in its resistance value. Therefore, the information magnetically recorded on the magnetic recording medium can be known by detecting the voltage across the MR element.

【0010】そして、従来のMRヘッドにおいては、上
記センス回路とバイアス回路をそれぞれ別回路又は直列
接続して再生回路を構成している(例えば特開昭60−
47222号公報参照)。
In the conventional MR head, the reproducing circuit is constructed by connecting the sense circuit and the bias circuit separately or in series (for example, Japanese Patent Laid-Open No. Sho 60-60).
47222).

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、センス
回路とバイアス回路が別回路の場合は、各々の回路から
端子を取り出す必要があるため、再生回路の端子として
は4本必要になる。従って、MRヘッドの組立工程にお
ける配線作業が煩雑になると共に、端子パターンの形成
領域を広くとる必要があり、ヘッド自体が大型化すると
いう問題があった。
However, when the sense circuit and the bias circuit are separate circuits, it is necessary to take out terminals from each circuit, and therefore four terminals are required for the reproducing circuit. Therefore, there is a problem that the wiring work in the MR head assembling process becomes complicated, and it is necessary to widen the area for forming the terminal pattern, and the head itself becomes large.

【0012】一方、センス回路とバイアス回路を直列接
続して再生回路を構成した場合は、再生回路の端子が2
本で済み、上記のような問題は生じなくなる。しかし、
新たに以下のような問題が生じる。
On the other hand, when the reproducing circuit is constructed by connecting the sense circuit and the bias circuit in series, the reproducing circuit has two terminals.
All that is needed is a book, and the problems described above do not occur. But,
The following new problems arise.

【0013】即ち、センス回路に供給されるセンス電流
と、バイアス回路に供給されるバイアス電流は、MR素
子のR−H特性やMRヘッドの仕様等によって、各電流
の最適電流値が異なる。しかしながら、上記MRヘッド
においては、センス回路とバイアス回路とが直列接続さ
れているため、各電流を個別に制御することができな
い。従って、一方の回路の電流値を最適電流値に設定し
たとしても、他方の回路の電流値が最適電流値からずれ
てしまい、再生出力特性が悪くなるという問題が生じ
る。
That is, the sense current supplied to the sense circuit and the bias current supplied to the bias circuit have different optimum current values depending on the RH characteristics of the MR element and the specifications of the MR head. However, in the MR head, since the sense circuit and the bias circuit are connected in series, each current cannot be controlled individually. Therefore, even if the current value of one circuit is set to the optimum current value, the current value of the other circuit deviates from the optimum current value, and the reproduction output characteristic deteriorates.

【0014】本発明は、上記の課題に鑑みてなされたも
ので、その目的とするところは、再生回路の端子数を最
小にしながらも、センス電流とバイアス電流を個別に制
御することができ、センス電流とバイアス電流をそれぞ
れ最適電流値に設定して動作させることができる磁気抵
抗効果型薄膜磁気ヘッドを提供することにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to individually control the sense current and the bias current while minimizing the number of terminals of the reproducing circuit. An object of the present invention is to provide a magnetoresistive thin-film magnetic head that can be operated by setting the sense current and the bias current to optimum current values.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明は、磁気抵抗効果
を有する磁気抵抗効果素子1にセンス電流IMRを流すセ
ンス回路32と、バイアス電流IBiasが供給されること
によって上記磁気抵抗効果素子1に対してバイアス磁界
を印加するバイアス回路31とから構成された再生回路
を有する磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドにおいて、セン
ス回路32とバイアス回路31の各電流値IMR及びI
Biasを調節する抵抗体23を設けて構成する。
According to the present invention, a sense circuit 32 for supplying a sense current I MR to a magnetoresistive effect element 1 having a magnetoresistive effect, and a bias current I Bias are supplied to the magnetoresistive effect element. In the magnetoresistive thin-film magnetic head having a reproducing circuit composed of a bias circuit 31 for applying a bias magnetic field to the magnetic field sensor 1, the current values I MR and I MR of the sense circuit 32 and the bias circuit 31, respectively.
A resistor 23 for adjusting Bias is provided and configured.

【0016】この場合、センス回路32とバイアス回路
31を並列接続し、かつバイアス回路31に抵抗体23
を接続して再生回路を構成するようにしてもよいし、あ
るいは、センス回路32とバイアス回路31を直列接続
し、かつ片方あるいは両方の回路に抵抗体23を並列接
続して再生回路を構成するようにしてもよい。
In this case, the sense circuit 32 and the bias circuit 31 are connected in parallel, and the resistor 23 is connected to the bias circuit 31.
May be connected to form a reproducing circuit, or the reproducing circuit may be formed by connecting the sense circuit 32 and the bias circuit 31 in series and connecting the resistor 23 in parallel to one or both circuits. You may do it.

【0017】また、抵抗体23は、化学的又は物理的あ
るいはこれらの組合せにより成膜し、化学的又は物理的
エッチングにより形成することができる。
The resistor 23 can be formed by chemical or physical or a combination thereof, and chemical or physical etching.

【0018】[0018]

【作用】本発明に係る磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド
(以下、単にMRヘッドと記す)においては、センス回
路32を通して磁気抵抗効果素子(以下、単にMR素子
と記す)1にセンス電流IMRが流れ、バイアス回路31
へのバイアス電流IBiasの供給によって、MR素子1に
対してバイアス磁界が印加される。
In the magnetoresistive thin film magnetic head (hereinafter simply referred to as MR head) according to the present invention, the sense current I MR is passed through the sense circuit 32 to the magnetoresistive effect element (hereinafter simply referred to as MR element) 1. Flow, bias circuit 31
A bias magnetic field is applied to the MR element 1 by supplying the bias current I Bias to the MR element 1.

【0019】このような状態において、磁気記録媒体か
らの信号磁界が入力されると、この信号磁界の困難軸方
向の磁界成分によって、MR素子1の抵抗値RMRが変化
する。MR素子1には、上記のように、センス回路32
を通して一定のセンス電流I MRが流れているため、MR
素子1の両端電圧Vがその抵抗値RMRの変化に応じて変
化することになる。従って、このMR素子1の両端電圧
Vを検出することにより、磁気記録媒体に磁気記録され
ている情報を知ることができる。
In such a state, a magnetic recording medium
When the signal magnetic field from
The resistance value R of the MR element 1 depends on the direction magnetic field component.MRChanges
To do. As described above, the MR element 1 includes the sense circuit 32.
Through a constant sense current I MRIs flowing, so MR
The voltage V across element 1 is its resistance value RMRChanges according to changes in
Will be changed. Therefore, the voltage across the MR element 1
By detecting V, magnetic recording is performed on the magnetic recording medium.
You can find out what information you have.

【0020】そして、センス回路32に供給されるセン
ス電流IMRと、バイアス回路31に供給されるバイアス
電流IBiasは、MR素子1のR−H特性やMRヘッドの
仕様等によって、各電流IMR及びIBiasの最適電流値が
異なる。
The sense current I MR supplied to the sense circuit 32 and the bias current I Bias supplied to the bias circuit 31 depend on the RH characteristics of the MR element 1 and the specifications of the MR head. The optimum current values of MR and I Bias are different.

【0021】本発明に係るMRヘッドにおいては、セン
ス回路32とバイアス回路31の各電流値IMR及びI
Biasを調節する抵抗体23を有することから、この抵抗
体23にてセンス回路32とバイアス回路31の各電流
値IMR及びIBiasを調節することにより、センス回路3
2及びバイアス回路31に供給される電流値IMR及びI
Biasをそれぞれ個別に最適電流値に設定することができ
る。
In the MR head according to the present invention,
Current value I of the bias circuit 32 and the bias circuit 31MRAnd I
BiasSince the resistor 23 for adjusting
Each current of the sense circuit 32 and the bias circuit 31 in the body 23
Value IMRAnd IBiasBy adjusting the sense circuit 3
2 and the current value I supplied to the bias circuit 31MRAnd I
BiasCan be set individually to the optimum current value.
It

【0022】具体的には、化学的又は物理的あるいはこ
れらの組合せにより成膜された抵抗体23を化学的又は
物理的エッチングによるトリミングによって、抵抗体2
3の電気抵抗値Rを調節して、センス回路32及びバイ
アス回路31に供給される電流値IMR及びIBiasをそれ
ぞれ個別に最適電流値に設定することができる。
Specifically, the resistor 2 formed by chemical or physical or a combination thereof is trimmed by chemical or physical etching to form the resistor 2.
By adjusting the electric resistance value R of No. 3, the current values I MR and I Bias supplied to the sense circuit 32 and the bias circuit 31 can be individually set to the optimum current values.

【0023】また、本発明においては、センス回路32
と上記バイアス回路31を並列接続し、あるいはセンス
回路32とバイアス回路31を直列接続することから、
再生回路の端子としては2本で済む。
Further, in the present invention, the sense circuit 32
And the bias circuit 31 are connected in parallel, or the sense circuit 32 and the bias circuit 31 are connected in series,
Only two terminals are required for the reproducing circuit.

【0024】このように、本発明に係るMR素子におい
ては、再生回路の端子を最小の本数に設定することがで
き、しかもセンス電流IMRとバイアス電流IBiasを個別
に制御することができ、センス電流IMRとバイアス電流
Biasをそれぞれ最適電流値に設定して動作させること
ができる。
As described above, in the MR element according to the present invention, the number of terminals of the reproducing circuit can be set to the minimum number, and the sense current I MR and the bias current I Bias can be controlled individually. The sense current I MR and the bias current I Bias can be set to the optimum current values and operated.

【0025】[0025]

【実施例】以下、本発明に係る磁気抵抗効果型薄膜磁気
ヘッドを縦型の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドに適用し
たいくつかの実施例を図1〜図10を参照しながら説明
する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Several embodiments in which the magnetoresistive effect thin film magnetic head according to the present invention is applied to a vertical magnetoresistive effect thin film magnetic head will be described below with reference to FIGS.

【0026】まず、第1実施例に係るMRヘッドは、図
1Bに示すように、磁気抵抗効果素子(以下、単にMR
素子と記す)1を、下部シールド磁性体2と上部シール
ド磁性体3とでサンドイッチした構造となっている。
First, as shown in FIG. 1B, the MR head according to the first embodiment has a magnetoresistive effect element (hereinafter, simply referred to as MR).
An element) 1 is sandwiched between a lower shield magnetic body 2 and an upper shield magnetic body 3.

【0027】具体的には、表面に予めアルミナ等による
絶縁層(図示せず)が形成された非磁性基板11上に、
Ni−Fe等の磁性膜による下部シールド磁性体2が形
成され、この下部シールド磁性体2上に第1の再生ギャ
ップg1 を形成するアルミナ等の絶縁層12が積層され
ている。そして、この絶縁層12上に、非磁性層を間に
挟んだ磁気抵抗効果を有する2層の強磁性体薄膜、例え
ばFe−Ni膜によるMR素子1が形成され、更にこの
MR素子1上にSiO2 等による下部絶縁層13が形成
されている。
Specifically, on a non-magnetic substrate 11 having an insulating layer (not shown) made of alumina or the like formed on its surface in advance,
A lower shield magnetic body 2 made of a magnetic film such as Ni-Fe is formed, and an insulating layer 12 made of alumina or the like forming a first reproduction gap g1 is laminated on the lower shield magnetic body 2. Then, on this insulating layer 12, an MR element 1 made of two layers of ferromagnetic thin films having a magnetoresistive effect, for example, a Fe—Ni film, is formed with a non-magnetic layer sandwiched therebetween, and further on this MR element 1. A lower insulating layer 13 made of SiO 2 or the like is formed.

【0028】そして、この下部絶縁層13上に、上記M
R素子1にバイアス磁界を印加するためのバイアス導体
14とMR素子1にセンス電流を供給するための後端電
極15がそれぞれ同一の配線層にて形成され、このバイ
アス導体14及び後端電極15を含む上面にSiO2
による上部絶縁層16が形成され、この上部絶縁層16
上にFe−Ni等の磁性膜による上部シールド磁性体3
が積層されて第1実施例に係るMRヘッドが構成されて
いる。
Then, on the lower insulating layer 13, the M
A bias conductor 14 for applying a bias magnetic field to the R element 1 and a rear end electrode 15 for supplying a sense current to the MR element 1 are formed in the same wiring layer, and the bias conductor 14 and the rear end electrode 15 are formed. The upper insulating layer 16 made of SiO 2 or the like is formed on the upper surface including
An upper shield magnetic body 3 made of a magnetic film such as Fe-Ni
Are stacked to form the MR head according to the first embodiment.

【0029】特に、この第1実施例においては、下部絶
縁層13及び上部絶縁層16が、磁気記録媒体との対向
面(摺動面)a側から僅かに奥行き方向にかけて除去さ
れており、この除去された部分に第2の再生ギャップg
2 を形成する非磁性金属膜17が形成されている。この
非磁性金属膜17は、その下部において、MR素子1の
摺動面側先端部と接触形成され、その上部において、上
部シールド磁性体3と接触形成されている。
Particularly, in the first embodiment, the lower insulating layer 13 and the upper insulating layer 16 are removed from the surface (sliding surface) a facing the magnetic recording medium a little in the depth direction. The second reproduction gap g is added to the removed portion.
A nonmagnetic metal film 17 forming 2 is formed. The non-magnetic metal film 17 is formed in contact with the tip of the MR element 1 on the sliding surface side in the lower part thereof, and in contact with the upper shield magnetic body 3 in the upper part thereof.

【0030】MR素子1は、その長手方向が摺動面aと
垂直となるように配置され、その一方の端面を摺動面a
に露出させたかたちとなっている。通常、MR素子1の
摺動面側端(以下、先端と記す)部分と、その先端部分
から所定距離隔てた箇所には、それぞれ先端電極及び後
端電極が形成されるが、この第1実施例においては、第
2の再生ギャップg2 を形成する非磁性金属膜17が先
端電極を兼ねることになる。
The MR element 1 is arranged so that its longitudinal direction is perpendicular to the sliding surface a, and one end surface of the MR element 1 is set to the sliding surface a.
It has been exposed to. Normally, a front end electrode and a rear end electrode are formed at a sliding surface side end (hereinafter referred to as a front end) of the MR element 1 and at a position separated from the front end by a predetermined distance. In the example, the nonmagnetic metal film 17 forming the second reproduction gap g2 also serves as the tip electrode.

【0031】このような構成により、このMR素子1に
は、図1Aに示すように、MR素子1の長手方向に沿っ
て(即ち、摺動面aと直交する方向に)センス電流IMR
が流れることになり、このMRヘッドにおいては、磁気
記録媒体からの信号磁界の方向と同一方向にセンス電流
MRが流れることになる。従って、MR素子1中、先端
電極を構成する非磁性金属膜17の後端と後端電極18
の前端の間の領域が磁気抵抗効果を示すことになり、こ
の領域がMR素子1の感磁部を構成することになる。
With this structure, the MR element 1 has a sense current I MR along the longitudinal direction of the MR element 1 (that is, in the direction orthogonal to the sliding surface a), as shown in FIG. 1A.
Therefore, in this MR head, the sense current I MR flows in the same direction as the direction of the signal magnetic field from the magnetic recording medium. Therefore, in the MR element 1, the rear end and the rear end electrode 18 of the non-magnetic metal film 17 which constitutes the front end electrode.
The region between the front ends of the MR elements exhibits a magnetoresistive effect, and this region constitutes the magnetically sensitive portion of the MR element 1.

【0032】上記バイアス導体14は、図1Aに示すよ
うに、上記上部シールド磁性体3の後端部分に接続さ
れ、センス電流IMRを上部シールド磁性体3及び非磁性
金属膜17を通してMR素子1に供給する入力側配線パ
ターン21から分岐して形成され、その終端は、MR素
子1からのセンス電流IMRを回帰させる後端電極15の
引き回しパターン22に接続されている。また、上記入
力側配線パターン21には入力端子φin(図2参照)
が接続され、後端電極15の引き回しパターン22には
出力端子φout(図2参照)が接続される。
As shown in FIG. 1A, the bias conductor 14 is connected to the rear end portion of the upper shield magnetic body 3 and passes the sense current I MR through the upper shield magnetic body 3 and the nonmagnetic metal film 17 to the MR element 1. Is formed by branching from the input side wiring pattern 21 which is supplied to the input side wiring pattern 21 and the terminal end thereof is connected to the wiring pattern 22 of the rear end electrode 15 for returning the sense current I MR from the MR element 1. Further, the input side wiring pattern 21 has an input terminal φin (see FIG. 2).
And the output terminal φout (see FIG. 2) is connected to the routing pattern 22 of the rear end electrode 15.

【0033】そして、この第1実施例においては、バイ
アス導体14に抵抗体23が接続されて構成されてい
る。実際には、バイアス導体14の一部、図示の例で
は、バイアス導体14のMR素子1から終端までの経路
における一部が除去され、この除去された部分に抵抗体
23が形成されて、上記バイアス導体14がこの抵抗体
23を介して電気的に接続された形になっている。
Further, in the first embodiment, the resistor 23 is connected to the bias conductor 14. Actually, a part of the bias conductor 14, in the illustrated example, a part of the path of the bias conductor 14 from the MR element 1 to the terminal end is removed, and the resistor 23 is formed in the removed part, and The bias conductor 14 is electrically connected through the resistor 23.

【0034】この抵抗体23の形成例としては、例えば
図3Aに示すように、バイアス導体14及び後端電極1
5を含む配線パターン24の形成、特に、フォトリソグ
ラフィとエッチングプロセスによるパターニングにおい
て、配線パターン24の一部を断線状態にしてパターニ
ングし、その後、上記配線パターン24とエッチングレ
ートの異なる材料からなる抵抗体23を例えばスパッタ
法、めっき法あるいは蒸着法等によって成膜する。この
抵抗体23の材料としては、例えばAl、Cuなどの金
属層やTi、Wなどの高融点金属層又は高融点金属シリ
サイド層、多結晶シリコン層を用いることができる。
As an example of forming the resistor 23, for example, as shown in FIG. 3A, the bias conductor 14 and the rear end electrode 1 are formed.
In the formation of the wiring pattern 24 including 5, especially in the patterning by the photolithography and the etching process, a part of the wiring pattern 24 is disconnected and patterned, and then a resistor made of a material having an etching rate different from that of the wiring pattern 24. 23 is deposited by, for example, a sputtering method, a plating method, a vapor deposition method, or the like. As the material of the resistor 23, for example, a metal layer such as Al or Cu, a high melting point metal layer such as Ti or W, a high melting point metal silicide layer, or a polycrystalline silicon layer can be used.

【0035】その後、図3Bに示すように、上記抵抗体
23の一部、例えば幅方向両端部や厚み方向上部をエッ
チング除去して、所望の抵抗値を有する抵抗体23とし
て形成する。ここで、この抵抗体23の抵抗値は、抵抗
体23の長さをm、抵抗体23の幅をw、抵抗体23の
厚みをt、抵抗体材料の抵抗率をρとしたとき、以下の
数1で決定される。
After that, as shown in FIG. 3B, a part of the resistor 23, for example, both ends in the width direction and an upper portion in the thickness direction are removed by etching to form a resistor 23 having a desired resistance value. Here, the resistance value of the resistor 23 is as follows, where m is the length of the resistor 23, w is the width of the resistor 23, t is the thickness of the resistor 23, and ρ is the resistivity of the resistor material. It is determined by the number 1.

【0036】[0036]

【数1】 [Equation 1]

【0037】上記抵抗体23として形成するためのエッ
チング方法としては、例えばウェットエッチング、イオ
ンミリング、RIE(反応性イオンエッチング)、レー
ザカッテング等を採用することができる。
As an etching method for forming the resistor 23, for example, wet etching, ion milling, RIE (reactive ion etching), laser cutting or the like can be adopted.

【0038】また、配線パターン24上に形成される積
層膜のステップカバレージ等を考慮して、図4に示すよ
うに、上記抵抗体23を配線パターン24の上記除去部
分に埋め込んで形成するようにしてもよい。
In consideration of the step coverage of the laminated film formed on the wiring pattern 24, the resistor 23 is formed by being embedded in the removed portion of the wiring pattern 24 as shown in FIG. May be.

【0039】ここで、図2に、上記入力側配線パターン
21に接続される入力端子φinから後端電極15の引
き回しパターン22に接続される出力端子φoutまで
の再生回路の等価回路を示す。この等価回路からわかる
ように、再生回路は、バイアス導体14を抵抗RBias
し、かつバイアス電流IBiasが供給されるバイアス回路
31と、MR素子1を抵抗RMRとし、かつセンス電流I
MRが供給されるセンス回路32とが並列に接続され、更
に上記バイアス回路31に、抵抗体23によって構成さ
れた可変抵抗Rが直列に接続された回路を構成する。
FIG. 2 shows an equivalent circuit of the reproducing circuit from the input terminal φin connected to the input side wiring pattern 21 to the output terminal φout connected to the routing pattern 22 of the rear end electrode 15. As can be seen from this equivalent circuit, in the reproducing circuit, the bias conductor 14 is the resistor R Bias , the bias circuit 31 is supplied with the bias current I Bias , the MR element 1 is the resistor R MR , and the sense current I Bias.
A sense circuit 32 to which MR is supplied is connected in parallel, and a variable resistor R constituted by a resistor 23 is connected in series to the bias circuit 31 to form a circuit.

【0040】そして、バイアス電流値IBiasとセンス電
流値IMRとの比率は、以下の数2で示される。
The ratio between the bias current value I Bias and the sense current value I MR is given by the following equation 2.

【0041】[0041]

【数2】 [Equation 2]

【0042】上記数2から、上記バイアス電流値IBias
とセンス電流値IMRとの比率は、抵抗体23の抵抗値R
により決定されることがわかる。
From the above equation 2, the bias current value I Bias
And the sense current value I MR is the resistance value R of the resistor 23.
It can be seen that it is determined by

【0043】このように、上記第1実施例に係るMRヘ
ッドにおいては、センス回路32を通してMR素子1に
センス電流IMRが流れ、バイアス回路31へのバイアス
電流IBiasの供給によって、MR素子1に対してバイア
ス磁界が印加される。
As described above, in the MR head according to the first embodiment, the sense current I MR flows to the MR element 1 through the sense circuit 32, and the bias current I Bias is supplied to the bias circuit 31 to cause the MR element 1 to operate. A bias magnetic field is applied to.

【0044】このような状態において、磁気記録媒体か
らの信号磁界が入力されると、この信号磁界の困難軸方
向の磁界成分によって、MR素子1の抵抗値RMRが変化
する。MR素子1には、上記のように、センス回路32
を通して一定のセンス電流I MRが流れているため、MR
素子1の両端電圧Vがその抵抗値RMRの変化に応じて変
化することになる。従って、このMR素子1の両端電圧
Vを検出することにより、磁気記録媒体に磁気記録され
ている情報を知ることができる。
In such a state, a magnetic recording medium
When the signal magnetic field from
The resistance value R of the MR element 1 depends on the direction magnetic field component.MRChanges
To do. As described above, the MR element 1 includes the sense circuit 32.
Through a constant sense current I MRIs flowing, so MR
The voltage V across element 1 is its resistance value RMRChanges according to changes in
Will be changed. Therefore, the voltage across the MR element 1
By detecting V, magnetic recording is performed on the magnetic recording medium.
You can find out what information you have.

【0045】通常、センス回路32に供給されるセンス
電流IMRと、バイアス回路31に供給されるバイアス電
流IBiasは、MR素子1のR−H特性やMRヘッドの仕
様等によって、各電流IMR及びIBiasの最適電流値が異
なる。
Normally, the sense current I MR supplied to the sense circuit 32 and the bias current I Bias supplied to the bias circuit 31 are different depending on the RH characteristics of the MR element 1 and the specifications of the MR head. The optimum current values of MR and I Bias are different.

【0046】この第1実施例に係るMRヘッドにおいて
は、センス回路32とバイアス回路31を並列接続し、
かつバイアス回路31に抵抗体23を直列接続して再生
回路を構成するようにしていることから、この抵抗体2
3にてセンス回路32とバイアス回路31の各電流値I
MR及びIBiasを調節することにより、センス回路32及
びバイアス回路31に供給される電流値IMR及びIBias
をそれぞれ個別に最適電流値に設定することができる。
In the MR head according to the first embodiment, the sense circuit 32 and the bias circuit 31 are connected in parallel,
Moreover, since the resistor 23 is connected in series to the bias circuit 31 to configure the reproducing circuit, the resistor 2
3, each current value I of the sense circuit 32 and the bias circuit 31
By adjusting the MR and I Bias, the current value I MR and I Bias is supplied to the sense circuit 32 and bias circuit 31
Can be individually set to the optimum current value.

【0047】具体的には、図3で示したように、スパッ
タ法、めっき法、蒸着法等で成膜された抵抗体23を、
ウェットエッチング、イオンミリング、RIE、レーザ
カッティング等によるトリミングによって、抵抗体23
の電気抵抗値Rを調節して、センス回路32及びバイア
ス回路31に供給される電流値IMR及びIBiasをそれぞ
れ個別に最適電流値に設定することができる。
Specifically, as shown in FIG. 3, the resistor 23 formed by the sputtering method, the plating method, the vapor deposition method or the like is
The resistor 23 is trimmed by wet etching, ion milling, RIE, laser cutting, or the like.
It is possible to adjust the electric resistance value R of the above and set the current values I MR and I Bias supplied to the sense circuit 32 and the bias circuit 31 individually to the optimum current values.

【0048】しかも、この第1実施例においては、セン
ス回路32とバイアス回路31を並列接続することか
ら、再生回路の端子としては2本(1本の入力端子φi
n及び1本の出力端子φout)で済み、MRヘッドの
組立工程における配線作業を簡略化できると共に、端子
パターンの形成領域を狭くすることができ、MRヘッド
自体の小型化を実現させることができる。
Moreover, in the first embodiment, since the sense circuit 32 and the bias circuit 31 are connected in parallel, two terminals (one input terminal φi) are provided as terminals of the reproducing circuit.
n and one output terminal φout), the wiring work in the MR head assembling process can be simplified, the area for forming the terminal pattern can be narrowed, and the MR head itself can be miniaturized. .

【0049】次に、第2実施例に係るMRヘッドを図5
及び図6に基づいて説明する。なお、図1及び図2と対
応するものについては同符号を記す。
Next, the MR head according to the second embodiment is shown in FIG.
And FIG. 6 will be described. The same reference numerals are given to those corresponding to those in FIGS. 1 and 2.

【0050】この第2実施例に係るMRヘッドは、図5
に示すように、上記第1実施例に係るMRヘッドとほぼ
同じ構成を有するが、後端電極15の終端が、バイアス
導体14中、入力側配線パターン21の分岐点からMR
素子1にかかるまでの経路に接続されている点と、抵抗
体23がバイアス導体14中、入力側配線パターン21
の分岐点から後端電極15の終端との接続点までの経路
に接続されていることで異なる。
The MR head according to the second embodiment is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the MR head has substantially the same structure as that of the MR head according to the first embodiment, but the end of the rear end electrode 15 extends from the branch point of the input side wiring pattern 21 in the bias conductor 14 to the MR head.
The point where the resistor 23 is connected to the path up to the element 1 and the resistor 23 in the bias conductor 14 is the input side wiring pattern 21.
It is different in that it is connected to the path from the branch point to the connection point with the terminal end of the rear end electrode 15.

【0051】この第2実施例に係るMRヘッドの再生回
路の等価回路は、図6に示すように、抵抗RBiasを有す
るバイアス回路31と、抵抗RMRを有するセンス回路3
2とが直列に接続され、更に上記センス回路32に、抵
抗体23によって構成された可変抵抗Rが並列に接続さ
れた回路構成となる。
The equivalent circuit of the reproducing circuit of the MR head according to the second embodiment is, as shown in FIG. 6, a bias circuit 31 having a resistance R Bias and a sense circuit 3 having a resistance R MR.
2 is connected in series, and the variable resistance R formed by the resistor 23 is connected in parallel to the sense circuit 32.

【0052】そして、バイアス電流値IBiasとセンス電
流値IMRとの比率は、以下の数3で示される。
The ratio between the bias current value I Bias and the sense current value I MR is given by the following expression 3.

【0053】[0053]

【数3】 [Equation 3]

【0054】上記数3から、上記バイアス電流値IBias
とセンス電流値IMRとの比率は、上記第1実施例と同様
に抵抗体23の抵抗値Rにより決定されることがわか
る。
From the above equation 3, the bias current value I Bias
It can be seen that the ratio of the sense current value I MR to the sense current value I MR is determined by the resistance value R of the resistor 23 as in the first embodiment.

【0055】このように、上記第2実施例に係るMRヘ
ッドにおいても、上記第1実施例に係るMRヘッドと同
様に、再生回路の端子を最小の本数に設定することがで
き、しかもセンス電流IMRとバイアス電流IBiasを個別
に制御することができ、センス電流IMRとバイアス電流
Biasをそれぞれ最適電流値に設定してMRヘッドを動
作させることができる。
As described above, also in the MR head according to the second embodiment, as in the MR head according to the first embodiment, the number of terminals of the reproducing circuit can be set to the minimum number and the sense current can be set. I MR and the bias current I Bias can be controlled individually, and the MR head can be operated by setting the sense current I MR and the bias current I Bias to optimum current values.

【0056】次に、第3実施例に係るMRヘッドを図7
及び図8に基づいて説明する。なお、図1及び図2と対
応するものについては同符号を記す。
Next, the MR head according to the third embodiment is shown in FIG.
And it demonstrates based on FIG. The same reference numerals are given to those corresponding to those in FIGS. 1 and 2.

【0057】この第3実施例に係るMRヘッドは、図7
に示すように、上記第1実施例に係るMRヘッドとほぼ
同じ構成を有するが、後端電極15の引き回しパターン
22がバイアス導体14を兼用した構成を有し、更にこ
の引き回しパターン22(バイアス導体14)の出力端
子φoutまでの経路において、上記MR素子1からの
後端電極15が抵抗体23を介して接続されている点で
異なる。
The MR head according to the third embodiment is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the MR head according to the first embodiment has substantially the same structure, but the routing pattern 22 of the rear end electrode 15 also serves as the bias conductor 14, and the routing pattern 22 (bias conductor The difference is that the rear end electrode 15 from the MR element 1 is connected via a resistor 23 in the path to the output terminal φout in 14).

【0058】この第3実施例に係るMRヘッドの再生回
路の等価回路は、図8に示すように、抵抗RBiasを有す
るバイアス回路31と、抵抗RMRを有するセンス回路3
2が直列に接続され、更に上記バイアス回路31に、抵
抗体23によって構成された可変抵抗Rが並列に接続さ
れた回路構成となる。
The equivalent circuit of the reproducing circuit of the MR head according to the third embodiment is, as shown in FIG. 8, a bias circuit 31 having a resistance R Bias and a sense circuit 3 having a resistance R MR.
2 is connected in series, and further, the bias circuit 31 is connected in parallel with the variable resistor R constituted by the resistor 23.

【0059】そして、バイアス電流値IBiasとセンス電
流値IMRとの比率は、以下の数4で示される。
The ratio between the bias current value I Bias and the sense current value I MR is given by the following expression 4.

【0060】[0060]

【数4】 [Equation 4]

【0061】上記数4から、上記バイアス電流値IBias
とセンス電流値IMRとの比率は、上記第1実施例と同様
に抵抗体23の抵抗値Rにより決定されることがわか
る。
From the above equation 4, the bias current value I Bias
It can be seen that the ratio of the sense current value I MR to the sense current value I MR is determined by the resistance value R of the resistor 23 as in the first embodiment.

【0062】このように、上記第3実施例に係るMRヘ
ッドにおいても、上記第1実施例に係るMRヘッドと同
様に、再生回路の端子を最小の本数に設定することがで
き、しかもセンス電流IMRとバイアス電流IBiasを個別
に制御することができ、センス電流IMRとバイアス電流
Biasをそれぞれ最適電流値に設定してMRヘッドを動
作させることができる。
As described above, also in the MR head according to the third embodiment, as in the MR head according to the first embodiment, the number of terminals of the reproducing circuit can be set to the minimum number and the sense current can be set. I MR and the bias current I Bias can be controlled individually, and the MR head can be operated by setting the sense current I MR and the bias current I Bias to optimum current values.

【0063】次に、第4実施例に係るMRヘッドを図9
及び図10に基づいて説明する。なお、図1及び図2と
対応するものについては同符号を記す。
Next, the MR head according to the fourth embodiment is shown in FIG.
And it demonstrates based on FIG. The same reference numerals are given to those corresponding to those in FIGS. 1 and 2.

【0064】この第4実施例に係るMRヘッドは、図9
に示すように、上記第1実施例に係るMRヘッドとほぼ
同じ構成を有するが、入力側配線パターン21から分岐
して引き回されたバイアス導体14の途中経路に第1の
抵抗体23aが挿入接続されている点と、後端電極15
が二つに分岐されて、一方の分岐パターン15aが、バ
イアス導体14中、入力側配線パターン21の分岐点か
らMR素子1にかかるまでの経路に接続され、他方の分
岐パターン15bが、バイアス導体14中、MR素子1
上から出力端子φout(図10参照)側に向かう経路
に、第2の抵抗体23bを介して接続されている点で異
なる。
The MR head according to the fourth embodiment is shown in FIG.
As shown in FIG. 11, the MR head according to the first embodiment has almost the same configuration, but the first resistor 23a is inserted in the midway path of the bias conductor 14 branched and routed from the input side wiring pattern 21. The connected point and the rear electrode 15
Is branched into two, one branch pattern 15a is connected to the path from the branch point of the input side wiring pattern 21 to the MR element 1 in the bias conductor 14, and the other branch pattern 15b is the bias conductor. MR element 1 out of 14
It is different in that it is connected via a second resistor 23b to a path from the top to the output terminal φout (see FIG. 10) side.

【0065】この第4実施例に係るMRヘッドの再生回
路の等価回路は、図10に示すように、抵抗RBiasを有
するバイアス回路31と、抵抗RMRを有するセンス回路
32が直列に接続され、更に上記センス回路32に、第
1の抵抗体23aによって構成された第1の可変抵抗R
1 が並列に接続され、上記バイアス回路31に、第2の
抵抗体23bによって構成された第2の可変抵抗R2
並列に接続された回路構成となる。
In the equivalent circuit of the reproducing circuit of the MR head according to the fourth embodiment, as shown in FIG. 10, a bias circuit 31 having a resistance R Bias and a sense circuit 32 having a resistance R MR are connected in series. Further, in the sense circuit 32, a first variable resistor R composed of a first resistor 23a is provided.
1 is connected in parallel, and the bias circuit 31 is connected in parallel with the second variable resistor R 2 formed by the second resistor 23b.

【0066】そして、バイアス電流値IBiasとセンス電
流値IMRとの比率は、以下の数5で示される。
The ratio between the bias current value I Bias and the sense current value I MR is given by the following equation 5.

【0067】[0067]

【数5】 [Equation 5]

【0068】上記数5から、上記バイアス電流値IBias
とセンス電流値IMRとの比率は、第1の抵抗体23a及
び第2の抵抗体23bの各抵抗値R1 及びR2 により決
定されることがわかる。
From the above equation 5, the bias current value I Bias
It is understood that the ratio of the sense current value I MR and the sense current value I MR is determined by the resistance values R 1 and R 2 of the first resistor 23a and the second resistor 23b.

【0069】このように、上記第4実施例に係るMRヘ
ッドにおいても、上記第1実施例に係るMRヘッドと同
様に、再生回路の端子を最小の本数に設定することがで
き、しかもセンス電流IMRとバイアス電流IBiasを個別
に制御することができ、センス電流IMRとバイアス電流
Biasをそれぞれ最適電流値に設定してMRヘッドを動
作させることができる。
As described above, also in the MR head according to the fourth embodiment, as in the MR head according to the first embodiment, the number of terminals of the reproducing circuit can be set to the minimum number and the sense current can be set. I MR and the bias current I Bias can be controlled individually, and the MR head can be operated by setting the sense current I MR and the bias current I Bias to optimum current values.

【0070】[0070]

【発明の効果】上述のように、本発明に係る磁気抵抗効
果型薄膜磁気ヘッドによれば、磁気抵抗効果を有する磁
気抵抗効果素子にセンス電流を流すセンス回路と、バイ
アス電流が供給されることによって上記磁気抵抗効果素
子に対してバイアス磁界を印加するバイアス回路とから
構成された再生回路を有する磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘ
ッドにおいて、センス回路とバイアス回路の各電流値を
調節する抵抗体を設けるようにしたので、再生回路の端
子数を最小にしながらも、センス電流とバイアス電流を
個別に制御することができ、センス電流とバイアス電流
をそれぞれ最適電流値に設定して動作させることができ
る。
As described above, according to the magnetoresistive thin-film magnetic head of the present invention, the sense circuit for supplying the sense current and the bias current are supplied to the magnetoresistive effect element having the magnetoresistive effect. In a magnetoresistive thin-film magnetic head having a reproducing circuit composed of a bias circuit for applying a bias magnetic field to the magnetoresistive element, a resistor for adjusting each current value of the sense circuit and the bias circuit is provided. With this configuration, the sense current and the bias current can be individually controlled while the number of terminals of the reproducing circuit is minimized, and the sense current and the bias current can be set to the optimum current values and operated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1実施例に係るMRヘッドの要部の構成を示
す二面図であり、同図Aはその平面図、同図Bは同図A
におけるA−A線での断面図である。
FIG. 1 is a two-sided view showing a configuration of a main part of an MR head according to a first embodiment, where FIG. 1A is a plan view thereof and FIG.
3 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG.

【図2】第1実施例に係るMRヘッドの再生回路の等価
回路図である。
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of a reproducing circuit of the MR head according to the first embodiment.

【図3】抵抗体の成膜及びその抵抗値の調節方法を示す
作製経過図であり、同図Aは抵抗体を成膜した状態を示
し、同図Bは抵抗体をトリミングして抵抗値を調節した
状態を示す。
3A to 3C are manufacturing process diagrams showing a method of forming a resistor and adjusting a resistance value thereof. FIG. 3A shows a state in which the resistor is formed, and FIG. 3B shows a resistance value obtained by trimming the resistor. Shows the adjusted state.

【図4】抵抗体の他の成膜方法を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing another method of forming a resistor.

【図5】第2実施例に係るMRヘッドの要部の構成を示
す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing a configuration of a main part of an MR head according to a second embodiment.

【図6】第2実施例に係るMRヘッドの再生回路の等価
回路図である。
FIG. 6 is an equivalent circuit diagram of a reproducing circuit of the MR head according to the second embodiment.

【図7】第3実施例に係るMRヘッドの要部の構成を示
す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing a configuration of a main part of an MR head according to a third embodiment.

【図8】第3実施例に係るMRヘッドの再生回路の等価
回路図である。
FIG. 8 is an equivalent circuit diagram of a reproducing circuit of the MR head according to the third embodiment.

【図9】第4実施例に係るMRヘッドの要部の構成を示
す平面図である。
FIG. 9 is a plan view showing a configuration of a main part of an MR head according to a fourth example.

【図10】第4実施例に係るMRヘッドの再生回路の等
価回路図である。
FIG. 10 is an equivalent circuit diagram of a reproducing circuit of an MR head according to a fourth example.

【図11】MR素子のR−H特性を示す特性図である。FIG. 11 is a characteristic diagram showing RH characteristics of the MR element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 MR素子 2 下部シールド磁性体 3 上部シールド磁性体 11 非磁性基体 12 絶縁層 13 下部絶縁層 14 バイアス導体 15 後端電極 16 上部絶縁層 17 非磁性金属層(先端電極) 21 入力側配線パターン 22 引き回しパターン 23,23a,23b 抵抗体 1 MR element 2 Lower shield magnetic body 3 Upper shield magnetic body 11 Non-magnetic substrate 12 Insulating layer 13 Lower insulating layer 14 Bias conductor 15 Rear end electrode 16 Upper insulating layer 17 Non-magnetic metal layer (tip electrode) 21 Input side wiring pattern 22 Routing patterns 23, 23a, 23b Resistors

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁気抵抗効果を有する磁気抵抗効果素子
にセンス電流を流すセンス回路と、バイアス電流が供給
されることによって上記磁気抵抗効果素子に対してバイ
アス磁界を印加するバイアス回路とから構成された再生
回路を有する磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドにおいて、 上記センス回路とバイアス回路の各電流値を調節する抵
抗体を有することを特徴とする磁気抵抗効果型薄膜磁気
ヘッド。
1. A sense circuit for supplying a sense current to a magnetoresistive effect element having a magnetoresistive effect, and a bias circuit for applying a bias magnetic field to the magnetoresistive effect element by supplying a bias current. A magnetoresistive thin-film magnetic head having a reproducing circuit, comprising a resistor for adjusting each current value of the sense circuit and the bias circuit.
【請求項2】 上記センス回路と上記バイアス回路が並
列接続され、かつ上記バイアス回路に上記抵抗体が接続
されていることを特徴とする請求項1記載の磁気抵抗効
果型薄膜磁気ヘッド。
2. The magnetoresistive thin-film magnetic head according to claim 1, wherein the sense circuit and the bias circuit are connected in parallel, and the resistor is connected to the bias circuit.
【請求項3】 上記センス回路と上記バイアス回路が直
列接続され、かつ片方あるいは両方の回路に上記抵抗体
が並列接続されていることを特徴とする請求項1記載の
磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド。
3. The magnetoresistive thin film magnetic head according to claim 1, wherein the sense circuit and the bias circuit are connected in series, and one or both circuits are connected in parallel with the resistor. .
【請求項4】 上記抵抗体は、化学的成膜手段又は物理
的成膜手段あるいはこれらの組合せにより成膜され、化
学的又は物理的エッチングにより形成されることを特徴
とする請求項1、2又は3記載の磁気抵抗効果型薄膜磁
気ヘッド。
4. The resistor is formed by a chemical film forming means, a physical film forming means or a combination thereof, and is formed by chemical or physical etching. Alternatively, the magnetoresistive thin-film magnetic head described in 3 above.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0725388A2 (en) * 1995-01-31 1996-08-07 Sony Corporation Magneto-resistance effect type magnetic head operable at optimum biasing point

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