JPH06301002A - Production of liquid crystal display element - Google Patents

Production of liquid crystal display element

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Publication number
JPH06301002A
JPH06301002A JP11233593A JP11233593A JPH06301002A JP H06301002 A JPH06301002 A JP H06301002A JP 11233593 A JP11233593 A JP 11233593A JP 11233593 A JP11233593 A JP 11233593A JP H06301002 A JPH06301002 A JP H06301002A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
substrate
base material
ferroelectric
easily peelable
Prior art date
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Pending
Application number
JP11233593A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Hachiya
聡 蜂屋
Hiroyuki Endo
博之 遠藤
Katsuhiro Ono
勝弘 小野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Idemitsu Kosan Co Ltd filed Critical Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority to JP11233593A priority Critical patent/JPH06301002A/en
Publication of JPH06301002A publication Critical patent/JPH06301002A/en
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Abstract

PURPOSE:To decrease limitation in selection of the material of a substrate disposed with active matrix driving elements and to realize a high yield and low production costs by including a stage for laminating a plastic substrate with electrodes, from which an easily peelable base material is peeled, on the substrate with the elements. CONSTITUTION:The film of a ferroelectric high-polymer liquid crystal or ferroelectric high-polymer liquid crystal compsn. is formed by coating or stretching on the plastic substrate 13 with electrodes to form a liquid crystal layer. This process for production includes a stage for laminating the easily peelable base material and the plastic substrate 12 with the electrodes on the liquid crystal layer so as to hold, the liquid crystal layer between the plastic substrate 12 with the electrodes and the easily peelable base material. The process also includes a stage for orienting the ferroelectric high- polymer liquid crystal or the ferroelectric high-polymer liquid crystal compsn. by applying shearing force on the liquid crystal layer and a stage for peeling the easily peelable base material from the liquid crystal layer. The process consists of the stage for laminating the plastic substrate 12 with the electrodes, from which the easily peelable base material is peeled, on the substrate disposed with the active matrix elements.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレー装置
や各種エレクトロニクス用デバイスとして用いられるア
クティブマトリクス型の液晶表示素子の製造方法に関
し、特に、液晶材料として強誘電性高分子液晶またはそ
の組成物を用いた液晶表示素子の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an active matrix type liquid crystal display element used as a liquid crystal display device or a device for various kinds of electronics, and particularly to a ferroelectric polymer liquid crystal or a composition thereof as a liquid crystal material. The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display element used.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶ディスプレー装置等において、ドッ
ト(画素)の高密度化や、画面の大型化が進むにつれ
て、走査電極群(コモン電極群)や信号電極群(セグメ
ント電極群)を構成する電極数が膨大なものとなり、駆
動対象画素に隣接した画素にも電圧が分配されるクロス
トークによって表示が乱れたり、液晶の応答性が損なわ
れたりする問題があり、このような問題を改善するため
に、各画素ごとに薄膜ダイオード(TFD)、薄膜トラ
ンジスタ(TFT)又はメタルインシュレーティドメタ
ル(MIM)等からなるアクティブ駆動素子をマトリク
ス状に配して、液晶を直接駆動するアクティブマトリク
ス型の液晶表示素子の開発が進められている。このよう
なアクティブマトリックス型の液晶表示素子としては、
液晶材料に低分子強誘電性液晶を用い、アクティブ駆動
素子に薄膜トランジスタを用いたアクティブマトリクス
型表示素子が、特開昭61−52681号、特開昭62
−172326号等の公報に開示されている。
2. Description of the Related Art In a liquid crystal display device or the like, electrodes forming a scan electrode group (common electrode group) or a signal electrode group (segment electrode group) as the density of dots (pixels) increases and the screen size increases. The number becomes enormous, and there is a problem that the display is disturbed due to the crosstalk in which the voltage is distributed to the pixel adjacent to the pixel to be driven and the response of the liquid crystal is impaired. Further, an active matrix type liquid crystal display for directly driving liquid crystal by arranging active driving elements composed of a thin film diode (TFD), a thin film transistor (TFT) or a metal insulated metal (MIM) in a matrix for each pixel. Development of the device is in progress. As such an active matrix type liquid crystal display element,
An active matrix type display device using a low molecular weight ferroelectric liquid crystal as a liquid crystal material and a thin film transistor as an active driving device is disclosed in JP-A-61-52681 and JP-A-62-62681.
No. 172326 and the like.

【0003】一方、液晶材料を配向する方法としては、
本出願人は、先に液晶材料に強誘電性液晶を用い、曲げ
変形処理することにより強誘電性液晶を配向させる液晶
光学素子の製造方法(特開平2−10322号)、及び
液晶材料に電界を印加しながら剪断力を印加して液晶材
料を配向させる液晶材料の配向方法(特開平3−572
7号)を提案している。
On the other hand, as a method for aligning a liquid crystal material,
The applicant of the present invention has previously proposed a method of manufacturing a liquid crystal optical element in which a ferroelectric liquid crystal is used as a liquid crystal material, and the ferroelectric liquid crystal is aligned by bending and deforming the treatment (JP-A-2-10322), and an electric field is applied to the liquid crystal material. Method for aligning liquid crystal material by applying shearing force while applying liquid crystal (Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-572)
No. 7) is proposed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前者のアクテ
ィブマトリックス型表示素子では、均一な配向処理が難
しいとともに、薄膜トランジスタによって配向の乱れが
生じたり、衝撃によって配向が壊れやすいなどの問題が
あった。また、後者の液晶光学素子の製造方法、および
液晶材料の配向方法においては、液晶材料を挟持する二
枚の基板がともに可撓性を有することが必要であり、通
常アクティブ素子が設けられるようなガラス基板を用い
た表示素子には適用することができない。プラスチック
基板上にアクティブ素子を設けた場合には、この方法は
適用可能ではあるが(特願平4−293895号)、基
板の曲げ変形によりアクティブ素子の性能が劣化しやす
く表示素子の品質や、歩留りの面で、必ずしも完全に満
足しうるものではなかった。
However, in the former active matrix type display element, there are problems that uniform alignment treatment is difficult, alignment disorder occurs due to thin film transistors, and alignment is easily broken by impact. Further, in the latter method of manufacturing a liquid crystal optical element and the method of aligning a liquid crystal material, it is necessary that both substrates sandwiching the liquid crystal material have flexibility, and an active element is usually provided. It cannot be applied to a display element using a glass substrate. When the active element is provided on the plastic substrate, this method is applicable (Japanese Patent Application No. 4-293895), but the performance of the active element is easily deteriorated due to the bending deformation of the substrate, and the quality of the display element, In terms of yield, it was not always completely satisfactory.

【0005】本発明は、上述の問題に鑑みなされたもの
であり、アクティブ素子付基板の材質の選定に制限が少
なく、かつ簡易で、歩留りが高く、製造コストが安価な
液晶表示素子の製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and there are few restrictions on the selection of the material of the substrate with active elements, and it is simple, the yield is high, and the manufacturing cost is low. The purpose is to provide.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】少なくともその一方が透
明であり、かつ、その一方が電極付プラスチック基板
で、他方がアクティブ駆動素子を配設された基板であ
る、二枚の電極付基板間に、強誘電性液晶を挟持した液
晶表示素子の製造方法において、 1)電極付プラスチック基板上に、強誘電性高分子液
晶、又は強誘電性高分子液晶組成物を塗布製膜又は、延
伸製膜し、液晶層を形成する工程、 2)易剥離性基材を、その電極付プラスチック基板と易
剥離性基材との間に液晶層を挟持するようにして、液晶
層上に積層する工程、 3)液晶層に剪断力を加えて、強誘電性高分子液晶又は
強誘電性高分子液晶組成物を配向させる工程、 4)易剥離性基材を液晶層から剥離する工程、 5)易剥離性基材を剥離した電極付プラスチック基板
を、アクティブ駆動素子が配設された基板上に積層する
工程を含むことを特徴とする液晶表示素子の製造方法が
提供される。
At least one of the substrates is transparent, and one of them is a plastic substrate with an electrode, and the other is a substrate on which an active drive element is arranged. In the method for producing a liquid crystal display device sandwiching a ferroelectric liquid crystal, 1) coating or stretching of a ferroelectric polymer liquid crystal or a ferroelectric polymer liquid crystal composition on a plastic substrate with an electrode. And a step of forming a liquid crystal layer, 2) a step of laminating an easily peelable base material on the liquid crystal layer such that the liquid crystal layer is sandwiched between the electrode-attached plastic substrate and the easily peelable base material, 3) a step of applying a shearing force to the liquid crystal layer to align the ferroelectric polymer liquid crystal or the ferroelectric polymer liquid crystal composition, 4) a step of peeling the easily peelable base material from the liquid crystal layer, 5) an easy peeling The plastic substrate with an electrode from which the flexible base material has been peeled off Method of manufacturing a liquid crystal display element characterized by active driving element includes a step of laminating on a substrate that is disposed is provided.

【0007】また、強誘電性高分子液晶又は強誘電性高
分子液晶組成物を配向させる工程が、加熱状態から徐冷
しながら液晶層に剪断力を加えるものであることを特徴
とする液晶表示素子の製造方法が提供される。
A liquid crystal display characterized in that the step of aligning the ferroelectric polymer liquid crystal or the ferroelectric polymer liquid crystal composition is to apply shearing force to the liquid crystal layer while gradually cooling from the heated state. A method of manufacturing a device is provided.

【0008】また、易剥離性基材が、電極を有するもの
であり、かつ、前記強誘電性高分子液晶又は強誘電性高
分子液晶組成物を配向させる工程が、液晶層に剪断力を
加えるとともに電界を印加するものであることを特徴と
する液晶表示素子の製造方法が提供される。
Further, the easily peelable substrate has an electrode, and the step of aligning the ferroelectric polymer liquid crystal or the ferroelectric polymer liquid crystal composition applies shearing force to the liquid crystal layer. Also provided is a method for manufacturing a liquid crystal display element, characterized in that an electric field is applied.

【0009】さらに、強誘電性高分子液晶又は強誘電性
高分子液晶組成物を配向させる工程が、加熱状態から徐
冷しながら、液晶層に剪断力を加えるとともに電界を印
加するものであることを特徴とする液晶表示素子の製造
方法が提供される。
Further, the step of orienting the ferroelectric polymer liquid crystal or the ferroelectric polymer liquid crystal composition is to apply shearing force and electric field to the liquid crystal layer while gradually cooling from the heated state. A method for manufacturing a liquid crystal display device is provided.

【0010】以下本発明を具体的に説明する。 1.電極付基板上に強誘電性高分子液晶層を形成する工
程 本発明で用いられる基板としては、例えば、一軸または
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートなどの結晶性ポリ
マー、ポリスルホン,ポリエーテルスルホン(PES)
等の非結晶性ポリマー、ポリエチレン,ポリプロピレン
等のポリオレフィン、ポリカーボネート,ナイロン等の
ポリアミド等のプラスチック材料からなる可撓性のプラ
スチック基板を挙げることができる。このような可撓性
基板を用いることで、曲面表示が可能な大面積の液晶表
示素子を構成することができる。なお、アクティブマト
リックス駆動素子が配設される基板にはガラス基板をも
使用することができる。
The present invention will be specifically described below. 1. Step of Forming Ferroelectric Polymer Liquid Crystal Layer on Substrate with Electrodes Examples of the substrate used in the present invention include crystalline polymers such as uniaxially or biaxially oriented polyethylene terephthalate, polysulfone, polyether sulfone (PES).
A flexible plastic substrate made of a plastic material such as an amorphous polymer, a polyolefin such as polyethylene and polypropylene, a polycarbonate such as polycarbonate and nylon, and the like. By using such a flexible substrate, a large-area liquid crystal display element capable of curved surface display can be configured. A glass substrate can also be used as the substrate on which the active matrix driving element is arranged.

【0011】その一方の基板に形成する電極としては、
液晶表示素子に通常用いられている透明または半透明な
電極材料、例えばNESA膜やITO膜を使用すること
ができる。アクティブ駆動素子として、薄膜トランジス
タを用いる液晶表示素子(TFT)の場合には、特にパ
ターンを形成する必要はない。メタルインシュレーティ
ドメタル(MIM)を用いる液晶表示素子の場合には、
ドットマトリックス表示用のストライプ状に電極パター
ンを形成する。
The electrodes formed on one of the substrates are:
A transparent or semitransparent electrode material usually used for liquid crystal display elements, such as a NESA film or an ITO film, can be used. In the case of a liquid crystal display element (TFT) using a thin film transistor as an active driving element, it is not necessary to form a pattern. In the case of a liquid crystal display element using metal insulated metal (MIM),
An electrode pattern is formed in a stripe shape for dot matrix display.

【0012】他方の基板には、電極としてアクティブマ
トリクス駆動素子(TFT素子またはMIM素子等)を
形成する。
On the other substrate, active matrix drive elements (TFT elements, MIM elements, etc.) are formed as electrodes.

【0013】液晶材料としては、強誘電性高分子液晶又
はその組成物を使用する。強誘電性高分子液晶を含んで
いると、衝撃や曲げ等の外力に対する強度および耐久性
を向上することができる。また、強誘電性液晶のメモリ
性を利用することができ、消費電力の低減を図ることが
できる。また、本発明においては、一方の基板上への液
晶の塗布製膜、対向基板とのラミネート、曲げ配向処理
という一連の連続製造方法を採用するため、製膜性、配
向性に優れる高分子液晶を含有することが好ましい。強
誘電性高分子液晶材料としては、例えば、一種または二
種以上の強誘電性高分子液晶、一種または二種以上の強
誘電性低分子液晶と一種または二種以上の強誘電性高分
子液晶からなる強誘電性高分子液晶組成物、一種または
二種以上の強誘電性低分子液晶と一種または二種以上の
他の高分子液晶等からなる強誘電性高分子液晶組成物な
どを挙げることができる。すなわち、強誘電性高分子液
晶または強誘電性高分子液晶組成物としては、ポリマー
分子自体が強誘電性の液晶特性を示す強誘電性高分子液
晶(ホモポリマーまたはコポリマーまたはそれらの混合
物)、強誘電性高分子液晶と他の高分子液晶および/ま
たは通常のポリマーとの混合物、強誘電性高分子液晶と
強誘電性低分子液晶との混合物、強誘電性高分子液晶と
強誘電性低分子液晶と高分子液晶および/または通常の
ポリマーとの混合物、あるいはこれらと通常の低分子液
晶との混合物などの全ての強誘電性を示す高分子液晶を
使用することができる。この場合、強誘電性高分子液晶
と(強誘電性)低分子液晶との混合割合は、モル比で9
5:5〜20:80とすることが好ましく、また80:
20〜40:60とすることがさらに好ましい。
A ferroelectric polymer liquid crystal or a composition thereof is used as the liquid crystal material. By including the ferroelectric polymer liquid crystal, strength and durability against external force such as impact or bending can be improved. Further, the memory property of the ferroelectric liquid crystal can be utilized, and the power consumption can be reduced. Further, in the present invention, since a series of continuous manufacturing methods of coating film formation of liquid crystal on one substrate, laminating with a counter substrate, and bending alignment treatment are adopted, a polymer liquid crystal excellent in film forming property and alignment property. It is preferable to contain Examples of the ferroelectric polymer liquid crystal material include one or more kinds of ferroelectric polymer liquid crystals, one or more kinds of ferroelectric low-molecular liquid crystals and one or more kinds of ferroelectric polymer liquid crystals. A ferroelectric polymer liquid crystal composition composed of, a ferroelectric polymer liquid crystal composition composed of one or more kinds of ferroelectric low-molecular liquid crystal and one or more kinds of other polymer liquid crystal, etc. You can That is, as a ferroelectric polymer liquid crystal or a ferroelectric polymer liquid crystal composition, a ferroelectric polymer liquid crystal (homopolymer or copolymer or a mixture thereof) in which polymer molecules themselves exhibit ferroelectric liquid crystal characteristics, Mixture of dielectric polymer liquid crystal with other polymer liquid crystal and / or ordinary polymer, mixture of ferroelectric polymer liquid crystal and ferroelectric low molecular weight liquid crystal, ferroelectric polymer liquid crystal and ferroelectric low molecular weight liquid crystal It is possible to use all polymer liquid crystals exhibiting ferroelectricity, such as a mixture of liquid crystal and a polymer liquid crystal and / or a usual polymer, or a mixture of these and a usual low molecular liquid crystal. In this case, the mixing ratio of the ferroelectric high-molecular liquid crystal and the (ferroelectric) low-molecular liquid crystal is 9 in molar ratio.
The ratio is preferably 5: 5 to 20:80, and 80:
It is more preferable that the ratio is 20 to 40:60.

【0014】前記強誘電性高分子液晶の中でも、例え
ば、カイラルスメクチックC相をとる側鎖型強誘電性高
分子液晶を好適に使用することができる。また、強誘電
性液晶組成物には必要に応じて接着剤,減粘剤,非液晶
カイラル化合物,色素などを含んでもよい。たとえば、
素子の機械的強度を向上させるため、非液晶性の高分子
物質を混合させてもよい。液晶層の厚さは、特に制限さ
れないが塗布乾燥後に1〜10μmの膜厚になるのが好
ましく、特に1.5〜3μmとするのがさらに好まし
い。強誘電性液晶ポリマーとしては、例えば、下記式で
示すアクリレート主鎖系液晶ポリマー、メタクリレート
主鎖系液晶ポリマー、クロロアクリレート主鎖系液晶ポ
リマー、オキシラン主鎖系液晶ポリマー、シロキサン主
鎖系液晶ポリマー、シロキサン−オレフィン主鎖系液晶
ポリマー、エステル主鎖系液晶ポリマー等が含まれる。
Among the above-mentioned ferroelectric polymer liquid crystals, for example, a side chain type ferroelectric polymer liquid crystal having a chiral smectic C phase can be preferably used. Further, the ferroelectric liquid crystal composition may contain an adhesive, a viscosity reducing agent, a non-liquid crystal chiral compound, a dye, etc., if necessary. For example,
In order to improve the mechanical strength of the device, a non-liquid crystalline polymer substance may be mixed. The thickness of the liquid crystal layer is not particularly limited, but it is preferably 1 to 10 μm after coating and drying, and more preferably 1.5 to 3 μm. As the ferroelectric liquid crystal polymer, for example, an acrylate main chain liquid crystal polymer represented by the following formula, a methacrylate main chain liquid crystal polymer, a chloroacrylate main chain liquid crystal polymer, an oxirane main chain liquid crystal polymer, a siloxane main chain liquid crystal polymer, Included are siloxane-olefin main chain liquid crystal polymers and ester main chain liquid crystal polymers.

【0015】[0015]

【化1】 [Chemical 1]

【0016】[0016]

【化2】 [Chemical 2]

【0017】[0017]

【化3】 [Chemical 3]

【0018】[0018]

【化4】 [Chemical 4]

【0019】なお、上記の強誘電性液晶ポリマーの繰り
返し単位は、側鎖の骨格がビフェニル骨格、フェニルベ
ンゾエイト骨格、ビフェニルベンゾエイト骨格、フェニ
ル4−フェニルベンゾエイト骨格で置き換えられてもよ
く、これらの骨格中のベンゼン環がピリミジン環、ピリ
ジン環、ピリダジン環、ピラジン環、テトラジン環、シ
クロヘキサン環、ジオキサン環、ジオキサボリナン環で
置き換えられてもよく、フッ素、塩素などのハロゲン基
又はシアノ基で置換されてもよく、1−メチルアルキル
基、2−フルオロアルキル基、2−クロロアルキル基、
2−クロロ−3−メチルアルキル基、2−トリフルオロ
メチルアルキル基、1−アルコキシカルボニルエチル
基、2−アルコキシ−1−メチルエチル基、2−アルコ
キシプロピル基、2−クロロ−1−メチルアルキル基、
2−アルコキシカルボニル−1−トリフルオロメチルプ
ロピル基等の光学活性基で置き換えられてもよい。また
スペーサの長さは、メチレン鎖長が2〜30の範囲で変
化してもよい。また、強誘電性液晶ポリマーの数平均分
子量は1,000〜200,000のものが好ましい。
強誘電性低分子液晶化合物としては、例えば、下記式で
示すシッフ塩基系強誘電性低分子液晶化合物、アゾおよ
びアゾキシ系強誘電性低分子液晶化合物、ビフェニルお
よびアロマティックスエステル系強誘電性低分子液晶化
合物、ハロゲン、シアノ基等の環置換基を導入した強誘
電性低分子液晶化合物、複素環を有する強誘電性低分子
液晶化合物等を挙げることができる。
In the repeating unit of the above-mentioned ferroelectric liquid crystal polymer, the side chain skeleton may be replaced by a biphenyl skeleton, a phenylbenzoate skeleton, a biphenylbenzoate skeleton, or a phenyl 4-phenylbenzoate skeleton. The benzene ring in the skeleton may be replaced with a pyrimidine ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrazine ring, a tetrazine ring, a cyclohexane ring, a dioxane ring, a dioxaborinane ring, or a halogen group such as fluorine or chlorine or a cyano group. May be, 1-methylalkyl group, 2-fluoroalkyl group, 2-chloroalkyl group,
2-chloro-3-methylalkyl group, 2-trifluoromethylalkyl group, 1-alkoxycarbonylethyl group, 2-alkoxy-1-methylethyl group, 2-alkoxypropyl group, 2-chloro-1-methylalkyl group ,
It may be replaced with an optically active group such as a 2-alkoxycarbonyl-1-trifluoromethylpropyl group. Further, the length of the spacer may be changed within the range of 2 to 30 in methylene chain length. The number average molecular weight of the ferroelectric liquid crystal polymer is preferably 1,000 to 200,000.
Examples of the ferroelectric low-molecular liquid crystal compound include Schiff base type ferroelectric low-molecular liquid crystal compounds represented by the following formula, azo and azoxy type ferroelectric low-molecular liquid crystal compounds, biphenyl and aromatics ester type ferroelectric low-molecular liquid crystal compounds. Examples thereof include a molecular liquid crystal compound, a ferroelectric low molecular liquid crystal compound having a ring substituent such as a halogen or cyano group introduced therein, and a ferroelectric low molecular liquid crystal compound having a heterocycle.

【0020】[0020]

【化5】 [Chemical 5]

【0021】[0021]

【化6】 [Chemical 6]

【0022】[0022]

【化7】 [Chemical 7]

【0023】[0023]

【化8】 [Chemical 8]

【0024】なお、これらの化合物は強誘電性低分子液
晶化合物の代表的なものであり、本発明の強誘電性低分
子液晶化合物は何らこれらの構造式に限定されるもので
はない。
Note that these compounds are typical of the ferroelectric low molecular weight liquid crystal compounds, and the ferroelectric low molecular weight liquid crystal compounds of the present invention are not limited to these structural formulas.

【0025】上述の使用材料を用いて、一方の電極付基
板上に、強誘電性高分子液晶、又は強誘電性高分子液晶
組成物を塗布製膜、又は延伸製膜し、液晶層を形成す
る。この場合、延伸製膜としては、例えばキャスト延伸
法を、また、塗布製膜としては、たとえばマイクログラ
ビア法、ダイレクトグラビア法等のロールコート法、及
び含浸塗布法等を挙げることができる。いずれの製膜方
法においても、まず、強誘電性液晶材料を、その流動性
を高めるために芳香族系、脂肪族系またはアルコール系
等の一般的な有機溶媒により溶解することが好ましい。
また、いずれの製膜方法においても、基板面への液晶溶
液の製膜範囲は、液晶表示素子(液晶パネル)の表示部
の領域にほぼ合致する範囲となるように設定し、ロール
から繰り出された長尺な基板上に液晶を間欠塗布する。
このような間欠塗布を行なうと、引き出し電極部に液晶
溶液が塗布されないため、不要部分の液晶を除去する後
工程を省略することができる。液晶溶液を塗布したあと
は、溶媒を蒸発させるために乾燥を行なう。グラビアロ
ールを用いて図8に示すように液晶材料をパターン印刷
する場合には、たとえば、グラビアロール回転時のグラ
ビア表面の線速度va は、基板の移動速度v1 に対し
て、通常1.5〜100倍、好ましくは2〜50倍とな
るように設定する。また、このグラビアロールの回転速
度を変化させることにより、パターン印刷された液晶材
料及び/又は接着剤の塗布層の膜厚を制御することがで
きる。ロールBはパターン印刷を間欠的に行うための間
欠塗布機構で、エアーシリンダにより上下動可能となっ
ており、グラビアロールAを基板に接触させたり、離し
たりすることで、パターン印刷を間欠的に行うことがで
きる。ロールCはグラビアロールAに基板を押え付ける
ためのロールで、必要に応じ加熱装置を組み込んで10
0℃程度に加熱すれば、塗布する際に用いた溶媒を蒸発
させることができる。また、含浸塗布法を用いる場合に
は、液晶溶液を含浸させた含浸部材を、電極付基板面に
押し当てて移動しながら塗布を行う(前記特開平2−1
0322号)。
A ferroelectric polymer liquid crystal or a ferroelectric polymer liquid crystal composition is applied or stretched to form a liquid crystal layer on one of the substrates with electrodes by using the above-mentioned materials used. To do. In this case, examples of the stretched film formation include a cast stretching method, and examples of the coated film formation include a roll coating method such as a microgravure method and a direct gravure method, and an impregnation coating method. In any of the film forming methods, first, the ferroelectric liquid crystal material is preferably dissolved in a general organic solvent such as an aromatic, aliphatic, or alcoholic solvent in order to enhance its fluidity.
In addition, in any of the film forming methods, the film forming range of the liquid crystal solution on the substrate surface is set so as to substantially match the region of the display portion of the liquid crystal display element (liquid crystal panel), and the film is fed from the roll. Liquid crystal is intermittently applied on a long substrate.
When such intermittent coating is performed, the liquid crystal solution is not coated on the extraction electrode portion, so that a post-process for removing liquid crystal in an unnecessary portion can be omitted. After applying the liquid crystal solution, drying is performed to evaporate the solvent. In the case of pattern-printing a liquid crystal material using a gravure roll as shown in FIG. 8, for example, the linear velocity va of the gravure surface during rotation of the gravure roll is normally 1.5 to 1.5 with respect to the substrate moving velocity v1. It is set to 100 times, preferably 2 to 50 times. Further, by changing the rotation speed of the gravure roll, the film thickness of the pattern-printed liquid crystal material and / or the coating layer of the adhesive can be controlled. The roll B is an intermittent coating mechanism for performing pattern printing intermittently, and can be moved up and down by an air cylinder. The pattern printing is intermittently performed by bringing the gravure roll A into contact with or away from the substrate. It can be carried out. Roll C is a roll for pressing the substrate onto the gravure roll A.
By heating to about 0 ° C., the solvent used for coating can be evaporated. Further, when the impregnation coating method is used, the impregnation member impregnated with the liquid crystal solution is pressed against the surface of the electrode-attached substrate to move the coating (see JP-A-2-1).
No. 0322).

【0026】 2.易剥離性基材を液晶層上に積層する工程 本発明で用いられる易剥離性基材としては特に制限はな
いが、たとえば、テフロン等のフッ素樹脂,ポリエチレ
ン等のフィルム、及び基材にテフロン,テフロンAF,
ポリエチレン等を塗布したものを挙げることができる。
その厚さとしては50〜200μmが好ましい。このよ
うな易剥離性基材を、一方の電極付基板上に製膜した液
晶層上に積層する。易剥離性基材を液晶層上に積層する
方法としては、液晶層と易剥離性基材との間に気泡が入
ることがなく、かつ、液晶層が均一な膜厚となるもので
あれば特に制限はなく、たとえば、一対のロールを用い
る方法、及び、さらに基材等を加熱する方法等のいずれ
をも用いることができる。以下、具体例を挙げて説明す
る。一対のラミネートロールA、Bにより、液晶層を形
成された一方の電極付プラスチック基板と接着剤配設済
又は何も塗布していない易剥離性基材とを圧力をかけつ
つ、易剥離性基材を加熱しながらラミネートする。ここ
で、ラミネートロールは、ゴムロールとメタルロールで
構成し、メタルロールは加熱できる構造とするとよい。
そして、電極付プラスチック基板はゴムロールAに接
し、易剥離性基材はメタルロールBに接するように配置
すると、易剥離性基材を加熱しながらラミネートするこ
とができる。ゴムロールAとメタルロールBのロール径
は、両方同一でもよいし、異なっても差し支えない。好
ましいゴムロールAのロール径は50〜500mmであ
る。メタルロールの加熱方式は電気加熱でも温水又は温
液加熱又は温風加熱でもよい。あるいはメタルロールは
加熱せず、ロール入口で基板を熱風加熱等の方法で加熱
してもよい。特に好ましくはメタルロールを電気加熱や
塩水循環加熱で細かく温度制御する方式である。一対の
ロールの配置の向きは自由で、水平、垂直どちらでもよ
い。ロールの駆動はモータから直接とってもよいし、電
極付プラスチック基板を介して回転する方法でも構わな
い。但し、一対のロールが連動して回転する機構が好ま
しい。
2. Step of Laminating Easy Releasable Substrate on Liquid Crystal Layer There is no particular limitation on the easily releasable substrate used in the present invention. For example, fluororesin such as Teflon, film such as polyethylene, and Teflon as a substrate, Teflon AF,
The thing which applied polyethylene etc. can be mentioned.
The thickness is preferably 50 to 200 μm. Such an easily peelable base material is laminated on the liquid crystal layer formed on one of the electrode-attached substrates. As a method for laminating the easily peelable base material on the liquid crystal layer, as long as bubbles are not formed between the liquid crystal layer and the easily peelable base material, and the liquid crystal layer has a uniform film thickness. There is no particular limitation, and for example, a method of using a pair of rolls, a method of further heating the base material or the like can be used. Hereinafter, a specific example will be described. The pair of laminating rolls A and B applies pressure to the one electrode-equipped plastic substrate on which the liquid crystal layer is formed and the easily peelable base material on which an adhesive is provided or nothing is applied, and an easily peelable substrate is formed. Laminate the materials while heating. Here, it is preferable that the laminating roll is composed of a rubber roll and a metal roll, and the metal roll has a structure capable of being heated.
When the plastic substrate with electrode is placed in contact with the rubber roll A and the easily peelable substrate is placed in contact with the metal roll B, the easily peelable substrate can be laminated while being heated. The rubber roll A and the metal roll B may have the same or different roll diameters. The preferable roll diameter of the rubber roll A is 50 to 500 mm. The heating method of the metal roll may be electric heating, hot water or hot liquid heating, or hot air heating. Alternatively, the metal roll may not be heated, but the substrate may be heated at the roll entrance by a method such as hot air heating. Particularly preferable is a method in which the metal roll is finely temperature-controlled by electric heating or salt water circulation heating. The orientation of the pair of rolls is arbitrary and may be horizontal or vertical. The roll may be driven directly by a motor or may be rotated by a plastic substrate with electrodes. However, a mechanism in which a pair of rolls rotates in conjunction is preferable.

【0027】3.液晶材料を配向させる工程 液晶層に剪断力を加えて、強誘電性高分子液晶又はその
組成物を一軸水平配向させる方法としては、一方の電極
付プラスチック基板と易剥離性基材との間に挟持した液
晶層に曲げ変形による剪断力を加えて、配向せしめるも
のを挙げることができる。この配向方法においては、強
誘電性高分子液晶等のマルチドメイン状態におけるマク
ロな弾性率が小さい強誘電性液晶の場合には、単に曲げ
るだけでも充分な配向状態を実現することができる。強
誘電性液晶等は、ネマチック液晶と比較して弾性率が大
きいので、曲げ変形を施すと一様な変形よりもドメイン
単位の相互のすべりによる変形となり易い。したがっ
て、剪断方向に対して配向方向は垂直となる。この曲げ
変形処理による配向は、液晶種類によっては適当な温度
に加熱することにより、より有効に行うことができる。
また、この曲げ変形処理による配向は、通常、強誘電性
液晶又はその組成物が、少なくとも、等方相とスメチッ
クA相との混相、等方相とのカイラルスメチックC相と
の混相、スメチックA相、カイラルスメチックC相、カ
イラルネマチック相等の液晶相をとる温度範囲の温度で
行うのが望ましい。また、液晶表示素子全体を均一な配
向とするには、基板及び易剥離性基材の積層体を連続的
に移動させながら曲げ変形処理を行うのが好適である。
また、この曲げ変形処理による配向は、各種の装置およ
び方式を用いて行うことができるが、通常、少なくとも
一本の自由回転ローラを用いて、基板及び易剥離性基材
の積層体を移動させながら曲げ変形処理する方法、好ま
しくは少なくとも二本の自由回転ローラ間を連続的に移
動させながら曲げ変形処理する方法を好適に使用するこ
とができる。
3. Step of Aligning Liquid Crystal Material As a method of uniaxially horizontally aligning a ferroelectric polymer liquid crystal or a composition thereof by applying a shearing force to a liquid crystal layer, a method of aligning a plastic substrate with one electrode and an easily peelable base material is used. An example is one in which a shearing force due to bending deformation is applied to the sandwiched liquid crystal layer for orientation. In this alignment method, in the case of a ferroelectric liquid crystal having a small macroscopic elastic modulus in a multi-domain state such as a ferroelectric polymer liquid crystal, a sufficient alignment state can be realized by simply bending. Ferroelectric liquid crystals and the like have a larger elastic modulus than nematic liquid crystals, and therefore bending deformation tends to cause deformation due to mutual slip in domain units rather than uniform deformation. Therefore, the orientation direction is perpendicular to the shearing direction. The orientation by this bending deformation treatment can be more effectively performed by heating to an appropriate temperature depending on the type of liquid crystal.
In addition, the orientation due to this bending deformation treatment is usually at least a mixed phase of an isotropic phase and a smectic A phase, a mixed phase of an isotropic phase and a chiral smectic C phase, or a smectic phase. It is desirable to carry out at a temperature in a temperature range where a liquid crystal phase such as A phase, chiral smectic C phase and chiral nematic phase is obtained. Further, in order to make the entire liquid crystal display element have a uniform orientation, it is preferable to perform the bending deformation treatment while continuously moving the laminate of the substrate and the easily peelable base material.
The orientation by this bending deformation treatment can be performed using various devices and methods, but normally, at least one free rotating roller is used to move the laminate of the substrate and the easily peelable base material. However, a method of bending and deforming, preferably a method of bending and deforming while continuously moving between at least two free rotating rollers can be preferably used.

【0028】このような配向方法において、前記曲げ変
形処理における基板及び易剥離性基材の積層体の曲げの
度合は、曲率半径で表して、通常、5〜1,000m
m、好ましくは10〜500mmの範囲内となる度合に
設定して行うのが適当である。この曲率半径が、小さす
ぎると、基板を損傷したり、細いパターンの電極を断線
する恐れがあり、一方、大きすぎると、液晶部分に充分
な剪断応力が印加されず、良好な配向状態が得られない
ことがある。この配向方法において、前記曲げ変形処理
による強誘電性液晶の配向は、該曲げ変形処理を、基板
及び易剥離性基材の積層体を移動しながら行うことによ
って、より有効にかつ効率よく行うことができ、特に基
板及び易剥離性基材の積層体を少なくとも二本の自由回
転ローラ間を連続的に移動させることによって曲げ変形
処理することにより、さらに有効に、かつ高速量産的に
行うことができる。
In such an orientation method, the degree of bending of the laminate of the substrate and the easily peelable base material in the bending deformation treatment is usually expressed by a radius of curvature and is usually 5 to 1,000 m.
m, preferably 10 to 500 mm. If this radius of curvature is too small, it may damage the substrate or break the electrode of a thin pattern, while if it is too large, sufficient shear stress is not applied to the liquid crystal part, resulting in a good alignment state. Sometimes I can't. In this orientation method, the orientation of the ferroelectric liquid crystal by the bending deformation treatment is performed more effectively and efficiently by performing the bending deformation treatment while moving the laminate of the substrate and the easily peelable base material. In particular, by performing a bending deformation treatment by continuously moving the laminate of the substrate and the easily peelable base material between at least two free-rotating rollers, it is possible to perform it more effectively and in high-speed mass production. it can.

【0029】この曲げ変形処理における基板及び易剥離
性基材の積層体の移動速度としては、曲げ部分の曲率半
径、温度、強誘電性液晶の種類等に依存するので、一様
に限定することができないが、通常は、電極付基板上に
液晶層を形成する工程および易剥離性基材を液晶層上に
積層する工程に適合した連続製造プロセスのライン速度
に合せた速度で充分であり、したがって、曲げ変形処理
による配向工程を含めた各工程のライン速度を同一の速
度に設定することができ、これにより、液晶表示素子の
連続高速生産プロセスを効率よく実現することができ、
量産性を著しく高めることができる。
The moving speed of the laminate of the substrate and the easily peelable base material in this bending deformation treatment depends on the radius of curvature of the bent portion, the temperature, the kind of the ferroelectric liquid crystal, etc., and therefore should be uniformly limited. However, usually, a speed matched to the line speed of the continuous manufacturing process adapted to the step of forming the liquid crystal layer on the electrode-attached substrate and the step of laminating the easily peelable base material on the liquid crystal layer is sufficient, Therefore, it is possible to set the line speed of each process including the alignment process by the bending deformation process to the same speed, which makes it possible to efficiently realize the continuous high-speed production process of the liquid crystal display element,
Mass productivity can be significantly improved.

【0030】前記連続的生産プロセス等において、曲げ
変形処理における基板及び易剥離性基材の積層体の移動
速度の具体的な大きさとしては、たとえば、通常、0.
1〜50m/分(0.16〜83.9cm/秒)程度の
範囲内とするのが好適である。なお、上記に例示の曲げ
変形処理における基板及び易剥離性基材の積層体の移動
速度は、主として、液晶層の形成条件によって決定され
たものである。したがって、曲げ変形処理のみに適合し
た移動速度は、特に制限はなく、上記の範囲よりもさら
に広い範囲の大きさとすることもできるが、その移動速
度があまり大きすぎると、基板の種類によっては曲げ変
形時に割れなどの損傷を受けることがあり、一方、あま
り小さすぎると、配向は充分に得られるが、製造時間が
長くなり、実用性が低くなる。
In the continuous production process or the like, the specific moving speed of the laminate of the substrate and the easily peelable base material in the bending deformation treatment is, for example, usually 0.
It is preferable to set it in the range of about 1 to 50 m / min (0.16 to 83.9 cm / sec). The moving speed of the laminate of the substrate and the easily peelable base material in the above-described bending deformation treatment is mainly determined by the conditions for forming the liquid crystal layer. Therefore, the moving speed adapted only to the bending deformation process is not particularly limited and can be set to a wider range than the above range, but if the moving speed is too high, the bending speed may vary depending on the type of substrate. When it is deformed, it may be damaged such as cracks. On the other hand, if it is too small, the orientation can be sufficiently obtained, but the production time becomes long and the practicality becomes low.

【0031】前記曲げ変形処理による配向処理において
は、必ずしも精密な温度設定を必要としないが、広範囲
の、特に非常に大きいライン速度(製品の巻取り速度に
対応する速度)においても極めて良好な配向を得るため
には、基板及び易剥離性基材の積層体中の強誘電性液晶
の温度を、該強誘電性液晶が、スメチックA相、カイラ
ルスメチックC相、等方相とスメチックA相(SmA
相)との混相、または等方相とカイラルスメチックC相
(SmC*相)との混相のいずれかの相状態をとる温度
範囲内の温度とし、曲げ変形処理を施すのが好ましく、
特に、等方相をとる温度からスメチックA相、カイラル
スメチックC相などの液晶相をとる温度範囲内の温度ま
で冷却(徐冷)しながら曲げ変形処理を行うのが好まし
い。
In the orientation treatment by the bending deformation treatment, precise temperature setting is not necessarily required, but extremely good orientation is achieved even in a wide range, particularly a very large line speed (speed corresponding to the winding speed of the product). To obtain the temperature of the ferroelectric liquid crystal in the laminate of the substrate and the easily peelable base material, the ferroelectric liquid crystal has a smectic A phase, a chiral smectic C phase, an isotropic phase and a smectic A phase. (SmA
Phase) or a mixed phase of an isotropic phase and a chiral smectic C phase (SmC * phase) at a temperature within a temperature range in which a bending deformation treatment is preferably performed.
In particular, it is preferable to perform the bending deformation treatment while cooling (gradual cooling) from a temperature at which an isotropic phase is obtained to a temperature within a temperature range at which a liquid crystal phase such as a smectic A phase and a chiral smectic C phase is obtained.

【0032】また、他の配向方法として、液晶層に剪断
力を加えるとともに電界を印加する方法を挙げることが
できる。この電界及び剪断力の印加による配向方法にお
いて、印加する正電圧、負電圧は、交流、直流のいずれ
でも良く、連続的又は間欠的に印加する。好ましい電界
は0.1〜150μV/m、特に好ましくは5〜150
μV/mである。この場合、電圧が低すぎると配向が不
十分になり、電圧が高過ぎると液晶素子の絶縁破壊を発
生することがある。電界と剪断とを加える方法は、電界
印加用ロール又は電極付ベルト付きロールで併用して行
うか、又は、液晶素子のコモン電極、セグメント両電極
に直接電源を接続して手作業で剪断を加えて行う。電界
と剪断力を印加するときの温度は、液晶材料が何らかの
液晶相を示す温度であればよく、液晶材料が等方相又は
等方相と液晶相の混相を示す温度よりも低い温度、通常
室温でよい。強誘電性液晶では、等方相を示す温度から
の冷却(徐冷)を行うことが好ましいが、徐冷しなくて
もよい。すなわち、室温でも極めて良好な配向を瞬時に
得ることができる。これは電界の印加により剪断に対す
る液晶分子の再配向過程が極めて容易に行われるためで
あると考えられる。
As another alignment method, a method of applying a shearing force to the liquid crystal layer and applying an electric field can be mentioned. In the alignment method by applying the electric field and the shearing force, the positive voltage and the negative voltage to be applied may be alternating current or direct current, and are applied continuously or intermittently. The preferred electric field is 0.1 to 150 μV / m, particularly preferably 5 to 150.
μV / m. In this case, if the voltage is too low, the orientation becomes insufficient, and if the voltage is too high, dielectric breakdown of the liquid crystal element may occur. The method of applying an electric field and shearing is performed by using a roll for applying an electric field or a roll with a belt with an electrode in combination, or by directly connecting a power source to both the common electrode and the segment electrodes of the liquid crystal element and manually applying shearing. Do it. The temperature at which the electric field and the shearing force are applied may be a temperature at which the liquid crystal material exhibits any liquid crystal phase, and is usually lower than the temperature at which the liquid crystal material exhibits an isotropic phase or a mixed phase of an isotropic phase and a liquid crystal phase, Good at room temperature. The ferroelectric liquid crystal is preferably cooled (gradual cooling) from a temperature exhibiting an isotropic phase, but may not be gradually cooled. That is, extremely good orientation can be instantaneously obtained even at room temperature. It is considered that this is because the reorientation process of liquid crystal molecules due to shearing is extremely easily performed by applying an electric field.

【0033】 4.易剥離性基材を液晶層から剥離する工程 液晶分子を配向させた後に、易剥離性基材を液晶層から
剥離する。この工程については、特に制限はないが、た
とえば二本のロール間に易剥離性基材を積層した基板を
挿入した後、易剥離性基材と、基板とを180°異なる
方向にそれぞれ巻きとることを挙げることができる。こ
の場合、液晶分子の配向はそのまま維持される。このよ
うに液晶分子を配向させる際に、易剥離性基材を液晶層
に積層し、他方の基板を積層する前に、剥離することに
よって、 易剥離性基材として不透明な基材や複屈折の大きな基
材を用いることが可能となる。 液晶素子中の液晶材料に有効に電圧が印加されるため
低電圧での駆動が可能となる。 配向膜を必要としない。また、配向膜のラビング処理
等による余計な外力をアクティブ素子に与えることな
く、表示素子を製造することができる。 易剥離性基材とプラスチック基板とで高分子液晶を挟
持し、曲げ変形を加えると、十分な剪断力を液晶に加え
ることができ、液晶を簡単に配向させることができる。
なお、プラスチック基板に高分子液晶を塗布し、その表
面を一方向にこすることによっても液晶を配向させるこ
とは可能であるが、ライン速度が低く、生産性が低い。
4. Step of peeling easily peelable base material from liquid crystal layer After aligning liquid crystal molecules, the easily peelable base material is peeled from the liquid crystal layer. This step is not particularly limited, but for example, after inserting the substrate having the easily peelable base material laminated between two rolls, the easily peelable base material and the substrate are wound in 180 ° different directions. I can mention that. In this case, the alignment of the liquid crystal molecules is maintained as it is. When aligning the liquid crystal molecules in this way, an easily peelable base material is laminated on the liquid crystal layer, and peeled before laminating the other substrate, so that an easily peelable base material such as an opaque base material or birefringent It is possible to use a large base material. Since a voltage is effectively applied to the liquid crystal material in the liquid crystal element, it is possible to drive at a low voltage. No alignment film is required. Further, the display element can be manufactured without giving an extra external force to the active element due to the rubbing treatment of the alignment film. When the polymeric liquid crystal is sandwiched between the easily peelable base material and the plastic substrate and bending deformation is applied, sufficient shearing force can be applied to the liquid crystal, and the liquid crystal can be easily aligned.
It is possible to align the liquid crystal by coating the liquid crystal polymer on the plastic substrate and rubbing the surface in one direction, but the line speed is low and the productivity is low.

【0034】5.アクティブマトリックス駆動素子が配
設された他方の基板を積層する工程 本発明において、他方の基板上にアクティブマトリクス
駆動素子となるTFT素子を配設する手順を図1〜図3
を参照してガラス基板の場合とプラスチック基板の場合
について説明する。まず、図2(a),(b)にもとづ
いてガラス基板の場合について説明する。プラズマCV
D法を用いてガラス基板1上にCr、Ta、Al膜等を
蒸着することにより、ゲート電極3および走査線10を
形成する。続いて、ゲート電極の陽極酸化法、プラスマ
CVD法によりゲート電極3上にゲート絶縁膜5を形成
する。例えば、ゲート電極3のTaを室温で陽極酸化し
てTa25膜(陽極酸化膜)5’を形成し、その上に、
プラズマCVD法によりSi34のゲート絶縁膜5を形
成する。次に、ゲート絶縁膜5の上にアモルファスSi
膜6a、n+アモルファスSi膜6b又は多結晶Si膜
等によってチャネル半導体6をプラズマCVD法、熱C
VD法、減圧CVD法に等により形成する。続いて、画
素電極4をITO膜等で形成する。さらに、ソース電極
7およびドレイン電極8を蒸着し、Al、Mo、IT膜
等を形成する。そして、その上にチャネル保護膜9を被
着することでTFT素子2を形成する。
5. Step of Laminating Other Substrate Having Active Matrix Driving Element Arranged In the present invention, a procedure for arranging a TFT element to be an active matrix driving element on the other substrate will be described with reference to FIGS.
The case of a glass substrate and the case of a plastic substrate will be described with reference to FIG. First, the case of a glass substrate will be described based on FIGS. 2 (a) and 2 (b). Plasma CV
The gate electrode 3 and the scanning line 10 are formed by depositing a Cr, Ta, Al film or the like on the glass substrate 1 using the D method. Subsequently, the gate insulating film 5 is formed on the gate electrode 3 by the anodic oxidation method of the gate electrode and the plasma CVD method. For example, Ta of the gate electrode 3 is anodized at room temperature to form a Ta 2 O 5 film (anodized film) 5 ′, on which Ta,
The gate insulating film 5 of Si 3 N 4 is formed by the plasma CVD method. Next, amorphous Si is formed on the gate insulating film 5.
The channel semiconductor 6 is formed by the film 6a, the n + amorphous Si film 6b, the polycrystalline Si film, or the like by the plasma CVD method, the thermal C
It is formed by a VD method, a low pressure CVD method or the like. Then, the pixel electrode 4 is formed of an ITO film or the like. Further, the source electrode 7 and the drain electrode 8 are vapor-deposited to form Al, Mo, IT film and the like. Then, the TFT element 2 is formed by depositing the channel protective film 9 thereon.

【0035】次に、プラスチック基板の場合について図
3を参照しつつ説明する。PES基板などからなるプラ
スチック基板1上にITO膜を用いてゲート電極3をパ
ターン形成する。この際、同時に液晶駆動用の画素電極
4もパターン形成する。続いて、プラズマ重合法、LB
法、電析法(電界重合法)などにより、ゲート電極3上
に絶縁性を有する有機または無機化合物を用いてゲート
絶縁膜5を形成する。例えば、プラズマ重合法ではi−
カーボン膜、LB法ではアラキン酸膜、電析法ではポリ
パラフェニレン膜等としてこのゲート絶縁膜5を形成す
る。
Next, the case of a plastic substrate will be described with reference to FIG. The gate electrode 3 is patterned on the plastic substrate 1 such as a PES substrate using an ITO film. At this time, the pixel electrodes 4 for driving the liquid crystal are also patterned at the same time. Then, plasma polymerization method, LB
The gate insulating film 5 is formed on the gate electrode 3 using an organic or inorganic compound having an insulating property by a deposition method, an electrodeposition method (field polymerization method), or the like. For example, in the plasma polymerization method, i-
The gate insulating film 5 is formed as a carbon film, an arachidic acid film by the LB method, a polyparaphenylene film by the electrodeposition method, or the like.

【0036】続いて、ゲート絶縁膜5上にポリピロー
ル、ポリチオフェン、ポリアセチレン、ポリフタロシア
ニン、ポリチエニレンビニレン、ポリフェニレンビニレ
ン等の導電性高分子を用いてチャネル半導体6を形成す
る。この際、前駆体ポリマーを有機溶剤に溶解させてス
ピンコーターなどにより塗布したあと乾燥し、ゲート電
極3および画素電極4にマスクをして光照射を行ない、
未照射部を溶媒で洗い流すことでチャネル半導体6を形
成する。
Subsequently, the channel semiconductor 6 is formed on the gate insulating film 5 by using a conductive polymer such as polypyrrole, polythiophene, polyacetylene, polyphthalocyanine, polythienylenevinylene, polyphenylenevinylene. At this time, the precursor polymer is dissolved in an organic solvent and applied by a spin coater or the like and then dried, and the gate electrode 3 and the pixel electrode 4 are masked and irradiated with light.
The channel semiconductor 6 is formed by washing away the unirradiated portion with the solvent.

【0037】続いて、ゲート絶縁膜5およびチャネル半
導体6上にリフトオフ法により金を蒸着することで、ソ
ース電極7およびドレイン電極8を形成する。
Then, a source electrode 7 and a drain electrode 8 are formed by depositing gold on the gate insulating film 5 and the channel semiconductor 6 by a lift-off method.

【0038】続いて、チャネル半導体6上のソース電極
7およびドレイン電極8間にチャネル保護膜9を被着す
ることで、TFT素子2を形成する。なお、10はゲー
トバスラインからなる走査線であり、11はソースバス
ラインからなるデータ線である。基板1上に形成される
アクティブマトリクス素子がMIM素子である場合、走
査線10は不要である。
Subsequently, the TFT element 2 is formed by depositing a channel protective film 9 between the source electrode 7 and the drain electrode 8 on the channel semiconductor 6. Reference numeral 10 is a scanning line composed of a gate bus line, and 11 is a data line composed of a source bus line. When the active matrix element formed on the substrate 1 is an MIM element, the scanning line 10 is unnecessary.

【0039】易剥離性基材を液晶層から剥離した後に、
電極付プラスチック基板を、液晶層面を対向させるよう
にして、前述のアクティブマトリックス駆動素子が配設
された基板上に積層する。この場合においても、液晶層
が均一な膜厚となるように挟持する。このような膜厚の
均一化のためには、電極付基板側から加熱することが好
ましい。
After peeling the easily peelable substrate from the liquid crystal layer,
A plastic substrate with electrodes is laminated on the substrate on which the above-mentioned active matrix driving element is arranged so that the liquid crystal layer surfaces face each other. Even in this case, the liquid crystal layer is sandwiched so as to have a uniform film thickness. In order to make the film thickness uniform, it is preferable to heat from the electrode-attached substrate side.

【0040】このような工程の後で、配向済の液晶層を
二枚の電極付基板間に挟持したものを通常の方法によっ
て所定の大きさに切断することにより、所期の液晶表示
素子を製造することができる。
After such a step, a desired liquid crystal display device is obtained by cutting a product in which an oriented liquid crystal layer is sandwiched between two electrode-attached substrates into a predetermined size by an ordinary method. It can be manufactured.

【0041】なお、このような一連の液晶表示素子の製
造工程において、作業の円滑化を図るため、二枚の基板
に基準穴を設けてもよい。
In the manufacturing process of such a series of liquid crystal display elements, reference holes may be provided in the two substrates in order to facilitate the work.

【0042】[0042]

【実施例】以下、本発明を実施例によってさらに具体的
に説明する。 実施例1 ITO付PES基板に下記式に示す液晶組成物の30重
量%ジクロロメタン溶液をグラビアコーターを用いて塗
布した。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples. Example 1 A 30 wt% dichloromethane solution of a liquid crystal composition represented by the following formula was applied to a PES substrate with ITO using a gravure coater.

【0043】[0043]

【化9】 溶媒を蒸発させた後、厚さ80μmのテフロン製フィル
ムでラミネートした。図4の装置を用いてITO付PE
S基板とテフロン製フィルムとの積層体をロール間を通
すことにより液晶を配向させた。この時のライン速度は
2m/分、ロール温度はT1=90℃、T2=60℃、
T3=30℃であった。図5に示す装置を用いてこの積
層体からテフロン製フィルムを剥離させた後、液晶組成
物を塗布したITO付PES基板をアクティブ素子付の
ガラス基板に貼り付けつつ所定の長さに切断した。この
時のライン速度は、2m/分であった。電極をヒートシ
ールコネクタを用いて取り出し、周囲を紫外線硬化型接
着剤で封止し偏光板を取り付けパネルとした。このパネ
ルを5Vの直流電圧で駆動したところコントラスト30
の良好な表示が得られた。また、パネル上に10g/c
2 の重りを載せて一日放置したが、配向に乱れは生じ
なかった。
[Chemical 9] After the solvent was evaporated, it was laminated with a Teflon film having a thickness of 80 μm. PE with ITO using the device of Fig. 4
The liquid crystal was oriented by passing the laminate of the S substrate and the Teflon film between the rolls. At this time, the line speed is 2 m / min, the roll temperature is T1 = 90 ° C., T2 = 60 ° C.,
T3 = 30 ° C. The Teflon film was peeled from the laminate using the apparatus shown in FIG. 5, and the PES substrate with ITO coated with the liquid crystal composition was attached to a glass substrate with active elements and cut into a predetermined length. The line speed at this time was 2 m / min. The electrode was taken out using a heat seal connector, the periphery was sealed with an ultraviolet curable adhesive, and a polarizing plate was attached to form a panel. When this panel was driven with a DC voltage of 5 V, the contrast was 30.
A good display of was obtained. Also, 10g / c on the panel
A m 2 weight was placed and left for one day, but the alignment was not disturbed.

【0044】実施例2 ITO付PES基板に実施例1で用いた液晶組成物の3
0重量%トルエン溶液をグラビアコーターを用いて塗布
した。溶媒を蒸発させた後、厚さ100μmのアルミニ
ウム電極付PESフィルムでラミネートした。図6の装
置を用いてITO付PES基板とアルミニウム電極付P
ESフィルムとの積層体を導電ロール間を通すことによ
り液晶を配向させた。この時の電圧は40V(直流)、
ライン速度は2m/分、ロール温度はT1=90℃、T
2=60℃、T3=30℃であった。この積層体からア
ルミニウム電極付PESフィルムを剥離させた後、実施
例1と同様にしてパネルを製造した。このパネルを駆動
したところコントラスト35の良好な表示が得られた。
また、配向の安定性は実施例1と同じであった。
Example 2 3 of the liquid crystal composition used in Example 1 was applied to the PES substrate with ITO.
A 0 wt% toluene solution was applied using a gravure coater. After the solvent was evaporated, it was laminated with a PES film with an aluminum electrode having a thickness of 100 μm. PES substrate with ITO and P with aluminum electrode using the device of FIG.
The liquid crystal was aligned by passing the laminate with the ES film between the conductive rolls. The voltage at this time is 40V (DC),
Line speed is 2m / min, roll temperature is T1 = 90 ℃, T
2 = 60 ° C. and T3 = 30 ° C. After peeling off the PES film with an aluminum electrode from this laminate, a panel was manufactured in the same manner as in Example 1. When this panel was driven, a good display of contrast 35 was obtained.
The stability of orientation was the same as in Example 1.

【0045】実施例3 ITO付PES基板に下記式に示す高分子液晶の33重
量%2−ブタノン溶液をマイクログラビアコーターを用
いて塗布した。
Example 3 A PES substrate with ITO was coated with a 33 wt% 2-butanone solution of a polymer liquid crystal represented by the following formula using a microgravure coater.

【0046】[0046]

【化10】 溶媒を蒸発させた後、デュポン社製テフロンAFで被覆
した厚さ100μmのアルミニウム電極付PESフィル
ムでラミネートした。図6の装置を用いて、ITO付P
ES基板とアルミニウム電極付PESフィルムとの積層
体を導電ロール間を通すことにより液晶を配向させた。
この時の電圧は50V(交流50Hz)、ライン速度は
2m/分、ロール温度はT1=90℃、T2=50℃、
T3=30℃であった。この積層体からアルミニウム電
極付PESフィルムを剥離させた後、実施例1と同様に
してパネルを製造した。このパネルを駆動したところコ
ントラスト35の良好な表示が得られた。また、配向の
安定性は実施例1と同じであった。
[Chemical 10] After evaporating the solvent, it was laminated with a 100 μm thick PES film with an aluminum electrode coated with Teflon AF manufactured by DuPont. Using the device of FIG. 6, P with ITO
The liquid crystal was aligned by passing a laminate of the ES substrate and the PES film with an aluminum electrode between the conductive rolls.
At this time, the voltage is 50 V (AC 50 Hz), the line speed is 2 m / min, the roll temperature is T1 = 90 ° C., T2 = 50 ° C.,
T3 = 30 ° C. After peeling off the PES film with an aluminum electrode from this laminate, a panel was manufactured in the same manner as in Example 1. When this panel was driven, a good display of contrast 35 was obtained. The stability of orientation was the same as in Example 1.

【0047】比較例1 液晶材料としてメルク社製ZL14237−100を用
いてパネル製造を試みたが、実施例1〜3のいずれの方
法でもフィルムを剥離させる時に液晶の配向が乱れ、パ
ネルを製造することはできなかった。
Comparative Example 1 A panel was manufactured by using ZL14237-100 manufactured by Merck Ltd. as a liquid crystal material. In any of the methods of Examples 1 to 3, the liquid crystal orientation was disturbed when the film was peeled off to manufacture a panel. I couldn't do that.

【0048】比較例2 易剥離性基材の代わりに未被覆のPESフィルム(厚さ
100μm)を用いて素子を製造した。PESフィルム
を剥離させたところ、液晶材料(実施例1と同じ)がP
ESフィルム側にも付着し、液晶の配向が乱れ素子は製
造出来なかった。
Comparative Example 2 An element was manufactured by using an uncoated PES film (thickness 100 μm) instead of the easily peelable base material. When the PES film was peeled off, the liquid crystal material (same as in Example 1) showed P
It adhered also to the ES film side, the orientation of the liquid crystal was disturbed, and the device could not be manufactured.

【0049】比較例3 PES基板上に実施例1で用いた液晶材料を塗布し、未
配向のままTFT素子を設けたPESフィルムを積層し
た。特開平2−10322号記載の曲げ配向法により液
晶を配向させた。液晶は十分に配向したが、一部にTF
T素子の劣化による表示ムラが発生した。
Comparative Example 3 The liquid crystal material used in Example 1 was applied onto a PES substrate, and a PES film provided with TFT elements was laminated in an unoriented state. The liquid crystal was aligned by the bending alignment method described in JP-A No. 2-10322. The liquid crystal was well aligned, but partly TF
Display unevenness occurred due to deterioration of the T element.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
アクティブ素子付基板の材質の選定に制限が少なく、か
つ、簡易で歩留りが高く、製造コストが安価な液晶表示
素子の製造方法を提供することができる。
As described above, according to the present invention,
It is possible to provide a method for manufacturing a liquid crystal display element, which has few restrictions on the selection of the material of the substrate with active elements, is simple, has a high yield, and has a low manufacturing cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による液晶表示素子の構成を模式的に示
す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a configuration of a liquid crystal display element according to the present invention.

【図2】図2(a)はガラス基板を用いて液晶表示素子
を構成するアクティブマトリクス素子の一画素を取り出
して示す断面図であり、図2(b)はこのアクティブマ
トリクス素子を模式的に示す斜視図である。
FIG. 2 (a) is a cross-sectional view showing one pixel of an active matrix element which constitutes a liquid crystal display element by using a glass substrate, and FIG. 2 (b) schematically shows this active matrix element. It is a perspective view shown.

【図3】プラスチック基板を用いて液晶表示素子を構成
するアクティブマトリクス素子の一画素を取り出して示
す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing one pixel of an active matrix element that constitutes a liquid crystal display element using a plastic substrate.

【図4】易剥離性基材を液晶層上に積層する工程、及び
液晶材料を配向させる工程の説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a step of laminating an easily peelable base material on a liquid crystal layer and a step of orienting a liquid crystal material.

【図5】易剥離性基材を剥離した後、二枚の基板を積層
し、所定の大きさに切断する工程を示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a process of stacking two substrates and then cutting them into a predetermined size after peeling the easily peelable base material.

【図6】図6(a)は、液晶材料を電界の印加を併用し
て配向させる工程を示す説明図である。図6(b)は、
その一部断面拡大図である。
FIG. 6 (a) is an explanatory diagram showing a step of aligning a liquid crystal material by applying an electric field together. FIG.6 (b) is
FIG.

【図7】製造された液晶表示素子の要部断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of essential parts of a manufactured liquid crystal display element.

【図8】グラビアロールを用いて液晶材料をパターン印
刷する場合を示す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing a case where a liquid crystal material is pattern-printed using a gravure roll.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス又はプラスチック基板 2 TFT素子 3 ゲート電極 4 画素電極 5 ゲート絶縁膜 5’ 陽極酸化膜 6 チャネル半導体 7 ソース電極 8 ドレイン電極 9 チャネル保護膜 10 走査線 11 データ線 12 プラスチック基板 13 対向電極 14 液晶層 15 易剥離性基材 16,17,18 配向用のロール 19 液晶表示素子 20 封止剤 1 Glass or Plastic Substrate 2 TFT Element 3 Gate Electrode 4 Pixel Electrode 5 Gate Insulating Film 5'Anodic Oxide Film 6 Channel Semiconductor 7 Source Electrode 8 Drain Electrode 9 Channel Protective Film 10 Scan Line 11 Data Line 12 Plastic Substrate 13 Counter Electrode 14 Liquid Crystal Layer 15 Easily peelable base material 16, 17, 18 Orienting roll 19 Liquid crystal display element 20 Sealant

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくともその一方が透明であり、か
つ、その一方が電極付プラスチック基板で、他方がアク
ティブ駆動素子を配設された基板である、二枚の電極付
基板間に、強誘電性液晶を挟持した液晶表示素子の製造
方法において、 1)電極付プラスチック基板上に、強誘電性高分子液
晶、又は強誘電性高分子液晶組成物を塗布製膜又は、延
伸製膜し、液晶層を形成する工程、 2)易剥離性基材を、その電極付プラスチック基板と易
剥離性基材との間に液晶層を挟持するようにして、液晶
層上に積層する工程、 3)液晶層に剪断力を加えて、強誘電性高分子液晶又は
強誘電性高分子液晶組成物を配向させる工程、 4)易剥離性基材を液晶層から剥離する工程、 5)易剥離性基材を剥離した電極付プラスチック基板
を、アクティブ駆動素子が配設された基板上に積層する
工程を含むことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
1. A ferroelectric property between two substrates with electrodes, at least one of which is transparent, one of which is a plastic substrate with electrodes, and the other of which is a substrate on which an active drive element is disposed. In the method for producing a liquid crystal display device sandwiching liquid crystal, 1) a ferroelectric polymer liquid crystal or a ferroelectric polymer liquid crystal composition is applied or stretched on a plastic substrate with an electrode to form a liquid crystal layer. 2) A step of laminating the easily peelable base material on the liquid crystal layer such that the liquid crystal layer is sandwiched between the electrode-attached plastic substrate and the easily peelable base material, 3) Liquid crystal layer Applying a shearing force to the composition to orient the ferroelectric polymer liquid crystal or the ferroelectric polymer liquid crystal composition, 4) the step of peeling the easily peelable base material from the liquid crystal layer, 5) the easily peelable base material Remove the peeled plastic substrate with electrodes from the active drive element. Method of manufacturing a liquid crystal display device but which comprises a step of laminating the arranged has been on the substrate.
【請求項2】 前記強誘電性高分子液晶又は強誘電性高
分子液晶組成物を配向させる工程が、加熱状態から徐冷
しながら液晶層に剪断力を加えるものであることを特徴
とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。
2. The step of orienting the ferroelectric polymer liquid crystal or the ferroelectric polymer liquid crystal composition is to apply shearing force to the liquid crystal layer while gradually cooling from a heated state. Item 2. A method for manufacturing a liquid crystal display element according to item 1.
【請求項3】 前記易剥離性基材が、電極を有するもの
であり、かつ、前記強誘電性高分子液晶又は強誘電性高
分子液晶組成物を配向させる工程が、液晶層に剪断力を
加えるとともに電界を印加するものであることを特徴と
する請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。
3. The easily peelable substrate has an electrode, and the step of orienting the ferroelectric polymer liquid crystal or the ferroelectric polymer liquid crystal composition applies a shearing force to the liquid crystal layer. The method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 1, wherein an electric field is applied in addition to the addition.
【請求項4】 前記強誘電性高分子液晶又は強誘電性高
分子液晶組成物を配向させる工程が、加熱状態から徐冷
しながら、液晶層に剪断力を加えるとともに電界を印加
するものであることを特徴とする請求項3記載の液晶表
示素子の製造方法。
4. The step of orienting the ferroelectric polymer liquid crystal or the ferroelectric polymer liquid crystal composition is to apply a shearing force and an electric field to the liquid crystal layer while gradually cooling from the heated state. 4. The method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 3, wherein.
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