JPH0629853B2 - Light scattering image information analyzer - Google Patents

Light scattering image information analyzer

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JPH0629853B2
JPH0629853B2 JP60053369A JP5336985A JPH0629853B2 JP H0629853 B2 JPH0629853 B2 JP H0629853B2 JP 60053369 A JP60053369 A JP 60053369A JP 5336985 A JP5336985 A JP 5336985A JP H0629853 B2 JPH0629853 B2 JP H0629853B2
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light
sample
observation
optical system
inspected
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一男 守矢
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Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/47Scattering, i.e. diffuse reflection
    • G01N21/4795Scattering, i.e. diffuse reflection spatially resolved investigating of object in scattering medium

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の属する分野] 本発明は、物体内の微細な構造あるいは組成等を光散乱
または螢光を利用して解析するための装置に関する。
Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an apparatus for analyzing a fine structure or composition in an object by utilizing light scattering or fluorescence.

[従来技術] 一般に、例えば結晶体などを微細に観察しようとする場
合、顕微鏡が利用される。このような顕微鏡としては、
通常の光学顕微鏡、偏光顕微鏡、位相差顕微鏡、電子顕
微鏡、さらには走査型電子顕微鏡などがある。このよう
な顕微鏡の基本的動作としては、試料観察面に光あるい
は電子線を照射し、観察面の各部位における相対的な色
相あるいは明暗の差異をパターンとしてとらえる。すな
わち、試料観察面における構造、組成の差異による光ま
たは電子線の透過率、反射率あるいは2次電子放射効率
の相対的差異をみようとするものである。したがって観
察面を総括的に把握する上では簡便な方法ということが
できる。
[Prior Art] Generally, for example, a microscope is used when minutely observing a crystal or the like. For such a microscope,
There are ordinary optical microscopes, polarization microscopes, phase contrast microscopes, electron microscopes, and scanning electron microscopes. The basic operation of such a microscope is to irradiate the sample observation surface with light or an electron beam, and to capture the relative hue or difference in light and darkness at each part of the observation surface as a pattern. That is, the relative difference in the transmittance or reflectance of light or electron beam or the secondary electron emission efficiency due to the difference in the structure or composition on the sample observation surface is to be examined. Therefore, it can be said that it is a simple method for comprehensively grasping the observation surface.

しかし、例えば結晶体試料内のある断面における特定元
素の配列や、格子欠陥等をパターンとして観察しようと
する場合、従来の顕微鏡ではその他の要素(例えば元素
配列や格子欠陥等)からの情報も重ねられた像として観
察され、また光あるいは電子線の照射角度、結晶体の方
位性などの影響により同種要素から等しい情報が得られ
なかったり、また異種要素から同種の情報があったりす
ることも相まって適確な観察、把握が困難であった。
However, for example, when trying to observe the array of a specific element in a certain cross section in a crystal sample or a lattice defect, etc. as a pattern, information from other elements (eg, element array, lattice defect, etc.) is overlaid in a conventional microscope. It is also observed that the same information cannot be obtained from the same kind of element due to the influence of the irradiation angle of light or electron beam, the orientation of the crystal, etc. It was difficult to properly observe and grasp.

さらに透過型顕微鏡では試料を薄片状態にする必要があ
り、また反射型のものでは観察面を表面に露出させなけ
ればならず、必ずしも最善のものとは言い難い。
Further, the transmission microscope requires the sample to be in a thin state, and the reflection type requires the observation surface to be exposed on the surface, which is not necessarily the best one.

第3図は、このような欠点を除去するために、本発明者
等が先に提案した光散乱画像情報解析装置(特開昭54-1
09488号参照)の構成を示す。
FIG. 3 shows a light-scattering image information analysis apparatus previously proposed by the present inventors in order to eliminate such a defect (Japanese Patent Laid-Open No. 54-1).
(See No. 09488).

この装置は、試料に対してその試料を透過し得る光を照
射し、その照射光によって特に試料内部に発生される散
乱光または螢光を、観察のための情報源とするものであ
る。同図において、11はレーザ光源、12はミラー13およ
び光学系14が固定された移動台、15は移動用レール、16
は試料載置台、17は試料である。18はビーム光軸Lに略
垂直な観察光軸を画定する観察光学系である。また、19
は試料17内部に発生される散乱光を観察のための情報に
変換するための情報取得手段で、図には写真乾板のよう
な感光材料を例示しているが、他に、光電変換素子また
は撮像素子等であってもよい。
This apparatus irradiates a sample with light that can pass through the sample, and uses scattered light or fluorescent light generated inside the sample by the irradiation light as an information source for observation. In the figure, 11 is a laser light source, 12 is a moving table to which a mirror 13 and an optical system 14 are fixed, 15 is a moving rail, and 16 is a moving rail.
Is a sample mounting table, and 17 is a sample. Reference numeral 18 denotes an observation optical system that defines an observation optical axis that is substantially perpendicular to the beam optical axis L. Also, 19
Is an information acquisition means for converting the scattered light generated inside the sample 17 into information for observation, and the figure illustrates a photosensitive material such as a photographic dry plate. It may be an image sensor or the like.

同図において、光源11からのビームLは、ミラー13で光
路を定められ、必要に応じて偏光方向も決められて、光
学系14により細く絞られ、試料17に側方から入射する。
この入射したビームLは試料17を透過し、その過程にお
いて散乱される。この散乱光は、試料17が結晶体であれ
ば、ビーム透過部分における結晶構造の影響を受けるこ
とになる。例えば屈折率変動、コロイダル粒子の混在、
格子欠陥、結晶の方位性不均一などの結果、均質結晶に
は見られない散乱を呈する。したがって、散乱光を観察
光学系により観察することにより、試料17内の結晶構造
について知ることができる。観察方法は、図のように感
光材料19に感光させてもよいし、図示しない光電検出器
や撮像素子等により光電変換し電気的に処理してディス
プレイ装置にパターンとして表示させてもよい。
In the figure, the beam L from the light source 11 has its optical path determined by the mirror 13, the polarization direction is also determined if necessary, is narrowed down by the optical system 14, and is incident on the sample 17 from the side.
The incident beam L passes through the sample 17 and is scattered in the process. If the sample 17 is a crystal, the scattered light will be affected by the crystal structure in the beam transmitting portion. For example, fluctuation of refractive index, mixture of colloidal particles,
As a result of lattice defects, non-uniform orientation of crystals, etc., scattering that is not seen in homogeneous crystals is exhibited. Therefore, the crystal structure in the sample 17 can be known by observing the scattered light with the observation optical system. As the observation method, the photosensitive material 19 may be exposed as shown in the drawing, or may be photoelectrically converted by a photoelectric detector or an image pickup device (not shown) and electrically processed to be displayed as a pattern on the display device.

ここで、試料17内部の切断面での情報を画像として得る
ためには、ミラー13および光学系14を保持し矢印A方向
に移動可能な移動台12により、ビームLを水平方向に走
査しなければならない。さらにこの場合、感光材料面直
前にビームと同方向に細長いスリットを配置し、ビーム
の走査に同期してスリットを移動させて記録させるよう
にすることが望ましい。
Here, in order to obtain the information on the cut surface inside the sample 17 as an image, the beam L must be horizontally scanned by the movable table 12 which holds the mirror 13 and the optical system 14 and is movable in the arrow A direction. I have to. Further, in this case, it is desirable to dispose an elongated slit in the same direction as the beam in front of the surface of the photosensitive material and move the slit in synchronization with scanning of the beam for recording.

また、ビームLそのものを走査させない場合でも、試料
載置台16を図中の矢印Bの方向に移動させることによっ
て試料17に対しビームLを相対的に走査させることが必
要になる。この場合には、像倍率を考慮しながら感光材
料19を試料載置台16の移動と同期して、例えば同図中矢
印C方向に水平走行させなければならない。
Even when the beam L itself is not scanned, the beam L needs to be relatively scanned with respect to the sample 17 by moving the sample mounting table 16 in the direction of arrow B in the drawing. In this case, the photosensitive material 19 must be horizontally moved, for example, in the direction of arrow C in the figure in synchronization with the movement of the sample mounting table 16 while taking the image magnification into consideration.

以上述べたように、従来の光散乱画像情報解析装置にお
いては、被検物体の所定の面を観察する場合、光束の走
査または被検物体の走査が必要であり、そのための走査
機構を備えていなければならなかった。さらに光電検出
器により散乱光を観察する場合には、これらの走査と同
期した画像処理を行なうことが必須であり、その場観
察、直接観察はすることができなかった。
As described above, in the conventional light scattering image information analysis device, when observing a predetermined surface of the object to be inspected, it is necessary to scan the light beam or the object to be inspected, and a scanning mechanism for that is provided. I had to. Furthermore, when observing scattered light with a photoelectric detector, it is essential to perform image processing in synchronization with these scans, and in-situ observation and direct observation cannot be performed.

[発明の目的] 本発明の目的は、上述の従来系における問題点に鑑み、
被検物体の所望の断面に光束を透過してこの光束による
被検物体内部の散乱光または螢光をもとに上記所望断面
を観察する光散乱画像情報解析装置において、上記光束
をスリット状に集束しラインビームとして被検物体を照
射し上記所望断面の全面に該光束を同時に透過させると
いう構想に基づき、光束または被検物体の走査を不要と
し、さらに画像処理なしで上記所望断面のその場観察お
よび直接観察ができるようにすることにある。
[Object of the Invention] An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems in the conventional system.
In a light-scattering image information analysis device for observing the desired cross section based on scattered light or fluorescent light inside the object to be inspected by this light flux by transmitting a light flux to a desired cross section of the object to be inspected, the light beam is slit-shaped. Based on the concept of focusing and irradiating an object to be inspected as a line beam and transmitting the light beam to the entire surface of the desired cross section at the same time, scanning of the light beam or the object to be inspected is unnecessary, and in-situ of the desired cross section without image processing. It is to enable observation and direct observation.

[実施例] 以下、実施例に基づき本発明を詳細に説明する。[Examples] Hereinafter, the present invention will be described in detail based on Examples.

第1図は、本発明の一実施例に係る光散乱画像情報解析
装置を示す。1はレーザ光源、2はミラー、3は光学
系、4は観察すべき試料である。5は観察光学系、6は
感光材料である。
FIG. 1 shows a light scattering image information analysis apparatus according to an embodiment of the present invention. 1 is a laser light source, 2 is a mirror, 3 is an optical system, and 4 is a sample to be observed. Reference numeral 5 is an observation optical system, and 6 is a photosensitive material.

第2図は、光学系3の内部構造を示す。31はシリンドリ
カルレンズ(円柱レンズ)、32は球面レンズである。
FIG. 2 shows the internal structure of the optical system 3. Reference numeral 31 is a cylindrical lens (cylindrical lens), and 32 is a spherical lens.

第1図および第2図により、本発明を詳細に説明する。
第1図において、光源1からのビームはミラー2で光路
を定められ必要に応じて偏光方向も決められて光学系3
に入射する。光学系3は第2図に示すようにシリンドリ
カルレンズと球面レンズにより構成されており、入射し
たビームはこれらのレンズにより観察したい断面と平行
な方向のスリット状に集束され、ラインビームLとして
試料4の側面に図面左方から水平に入射する。これによ
り、ラインビームLは試料4を透過するが、その過程に
おいて散乱され、その散乱光のうち図面上方にビームL
の光軸と略垂直の光は観察光学系5に入射し観察可能と
なる。このように、光束をラインビームとすることによ
り1つの光束で試料4の所望の断面の全体を同時に照射
することが可能となり、レーザビームLや試料4、感光
材料6等の走査をする必要がなく、試料からの散乱光を
同時に全面に渡って、その場観察、直接観察をすること
ができる。
The present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 and 2.
In FIG. 1, the optical path of the beam from the light source 1 is determined by the mirror 2 and the polarization direction is determined as necessary.
Incident on. As shown in FIG. 2, the optical system 3 is composed of a cylindrical lens and a spherical lens, and the incident beam is focused by these lenses in a slit shape in a direction parallel to the cross section to be observed, and a line beam L is formed as a sample 4 Is incident horizontally from the left side of the drawing. As a result, the line beam L is transmitted through the sample 4, but is scattered in the process, and the beam L of the scattered light is upward in the drawing.
The light substantially perpendicular to the optical axis of is incident on the observation optical system 5 and becomes observable. In this way, by using a light beam as a line beam, it is possible to simultaneously irradiate the entire desired cross section of the sample 4 with one light beam, and it is necessary to scan the laser beam L, the sample 4, the photosensitive material 6, and the like. Instead, scattered light from the sample can be simultaneously observed over the entire surface for in-situ observation or direct observation.

特に、シリンドリカルレンズと球面レンズを用いた光学
系3によりスリット状のラインビームLを形成し、試料
4に入射させているので、非常に薄く絞った(数10μ
m程度以下)ラインビームLとすることができ、位置精
度の高い観察が可能となる。また、レーザまたは試料の
走査駆動系がなく、TVカメラが1画面を取り込む時間
(本実施例ではほぼ1/30秒)で所望の断面の全体を
観察できる。
In particular, since the slit-shaped line beam L is formed by the optical system 3 using the cylindrical lens and the spherical lens and is made incident on the sample 4, it is very thinly focused (several 10 μm).
A line beam L can be used, which enables observation with high positional accuracy. Further, since there is no laser or sample scanning drive system, the entire desired cross section can be observed within the time taken by the TV camera to capture one screen (approximately 1/30 second in this embodiment).

また上述の実施例では、90°散乱についてのみ述べてき
たが、他の角度でも散乱像を得ることができる。光の散
乱強度は、粒径が波長より十分小さな散乱体を除くと、
90°散乱より前方散乱の方が大きい。したがって、前方
散乱を用いた光散乱画像情報解析装置も考えられる。第
4図は、前方散乱によって板状欠陥を観察する場合の配
置図である。41はシリンドリカルレンズ、42は球面レン
ズである。
Further, in the above-mentioned embodiment, only 90 ° scattering is described, but a scattered image can be obtained at other angles. The light scattering intensity is as follows:
Forward scattering is larger than 90 ° scattering. Therefore, a light scattering image information analysis device using forward scattering is also conceivable. FIG. 4 is a layout diagram when observing a plate-like defect by forward scattering. 41 is a cylindrical lens and 42 is a spherical lens.

本発明は、物体内部の情報を散乱光を観察することによ
り得ようとするのである。可視光においては、生物体な
らびに透明結晶体等の欠陥観察に有効であるが、これを
赤外光とし半導体結晶の内部を観察することもできる。
この場合、半導体結晶では伝導電子による光の吸収が大
きく、赤外光では撮像管の受光感度が悪くなるという問
題点はあるが、それらを透過するような強力な光束を使
用して本発明を実施すれば、半導体結晶内の欠陥を観察
することができる。なお、上述においては、照射光と同
一波長である散乱光を観察する場合について述べたが、
本発明の装置によれば、物体から発生する螢光をもとに
物体の結晶配列や格子欠陥等を観察することもできるこ
とは勿論である。
The present invention seeks to obtain information inside an object by observing scattered light. With visible light, it is effective for observing defects such as organisms and transparent crystals, but it can also be used as infrared light to observe the inside of semiconductor crystals.
In this case, the semiconductor crystal has a large absorption of light by conduction electrons, and the infrared light has a problem that the light receiving sensitivity of the image pickup tube is deteriorated. However, the present invention is performed by using a strong light flux that transmits them. If carried out, defects in the semiconductor crystal can be observed. In the above, the case where scattered light having the same wavelength as the irradiation light is observed has been described.
According to the apparatus of the present invention, it is needless to say that the crystal arrangement, lattice defect, etc. of the object can be observed based on the fluorescence generated from the object.

[発明の効果] 以上のように、本発明によると、試料に照射する光束を
スリット状に集束しているため、光束または被検物体の
走査を不要とし、あるいはさらに画像処理をすることな
しに、その場観察、直接観察をすることが可能である。
また、レーザや試料の走査が不要となるので、装置をよ
り簡便にすることができ、実時間観察すなわち計測にほ
とんど時間がかからないような観察が可能である。さら
に、シリンドリカルレンズと球面レンズを用いているの
で、スリット状のラインビームを非常に薄く絞ることが
でき、位置精度の高い観察が可能となる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, since the light beam to be applied to the sample is focused in a slit shape, it is not necessary to scan the light beam or the object to be inspected, or without further image processing. In-situ observation and direct observation are possible.
Further, since the laser and the scanning of the sample are not required, the apparatus can be made simpler, and real-time observation, that is, observation that requires almost no time for measurement, is possible. Furthermore, since the cylindrical lens and the spherical lens are used, the slit-shaped line beam can be narrowed down very thin, and observation with high positional accuracy becomes possible.

そして特に、極短パルスのレーザ光、例えば数ピコ(1
-12)秒のパルス幅のレーザであっても被検物体から
の散乱光像や螢光像を取り込むことができ、したがっ
て、ある瞬間における被検物体の断面状態を観察するこ
とができるという顕著な効果を奏する。すなわち、位置
や状態が時間的に変化するような被検物体のある瞬時に
おける断面観察に対しても有効であり、例えば、高速で
動いている流動体中の所定断面に含まれる微粒子の動き
を時系列的に観察すること等も行うこともできる。
And in particular, ultrashort pulsed laser light, for example, a few pico (1
Even a laser with a pulse width of 0 -12 ) seconds can capture a scattered light image or a fluorescence image from an object to be inspected, and therefore can observe the cross-sectional state of the object to be inspected at a certain moment. Has a remarkable effect. That is, it is also effective for observing a cross section at a certain moment of an object to be inspected whose position or state changes with time. For example, the movement of fine particles contained in a predetermined cross section in a fluid moving at high speed can be detected. It is also possible to perform observation in time series.

このような広範囲な領域を実時間で観察することができ
るという効果は、実時間で観察される透過画像と比較し
て被検物体を総括的に評価することをも可能にする。
The effect of being able to observe such a wide area in real time makes it possible to comprehensively evaluate the object to be inspected by comparing it with a transmission image observed in real time.

さらに、本願発明は、薄いスリット状光束を用いること
により、積層欠陥や双晶等の面状欠陥をも有効に観察で
きるという、当業者が予期し得ない顕著な効果をも奏す
るものである。すなわち、薄いスリット状光束でも径の
小さい点状光束でも欠陥は観察できるが、点状光束の場
合、面状欠陥からの散乱光の異方性が少なく広範囲の方
向へ散乱し、広い範囲から観察されるため、その欠陥が
面状のものであることが認識できない。
Furthermore, the present invention also has a remarkable effect that a person skilled in the art cannot expect, such that stacking faults and plane defects such as twins can be effectively observed by using a thin slit-shaped light beam. In other words, defects can be observed with both thin slit-like light flux and point-like light flux with a small diameter, but in the case of point-like light flux, the anisotropy of scattered light from a planar defect is small and scattered in a wide range of directions, and observation from a wide range is possible. Therefore, it cannot be recognized that the defect is planar.

これに対し、本願発明のように、薄いスリット状光束の
場合は、スリット方向成分については異方性が大きく、
面状欠陥からは特定方向にのみ強い散乱光が生じるた
め、その欠陥が面状のものであることを正確に認識する
ことができる。言い換えれば、断面の大きな光束で観察
した方が、欠陥の特性を正確に知ることができるが、観
察光学系の焦点深度内に光束を入射させる必要があるた
め、薄いスリット状光束が最適なのである。
On the other hand, as in the present invention, in the case of a thin slit-shaped light beam, the anisotropy is large in the slit direction component,
Since strong scattered light is generated from a planar defect only in a specific direction, it can be accurately recognized that the defect is a planar defect. In other words, the characteristics of the defect can be known more accurately by observing with a light beam with a large cross section, but since the light beam needs to be incident within the depth of focus of the observation optical system, a thin slit light beam is optimal. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例に係る光散乱画像情報解析装
置の構成図、 第2図は光源からの光を線状に集束する光学系の構成
図、 第3図は従来の光散乱画像情報解析装置の構成図、 第4図は前方散乱によって板状欠陥を観察する場合の配
置図である。 1,11:レーザ光源、3,14:光学系、 L:ラインビーム、 31,41:シリンドリカルレンズ、 32,42:球面レンズ、4,17:試料、 5,18:観察光学系、 6,19:情報取得手段(感光材料あるいは撮像管)。
FIG. 1 is a block diagram of a light scattering image information analysis apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram of an optical system that linearly focuses light from a light source, and FIG. 3 is conventional light scattering. FIG. 4 is a configuration diagram of the image information analysis apparatus, and FIG. 4 is an arrangement diagram when observing a plate-like defect by forward scattering. 1,11: Laser light source, 3,14: Optical system, L: Line beam, 31,41: Cylindrical lens, 32,42: Spherical lens, 4,17: Sample, 5,18: Observation optical system, 6,19 : Information acquisition means (photosensitive material or image pickup tube).

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】被検物体に対して該被検物体を透過するス
リット状の光束を照射するためのシリンドリカルレンズ
と球面レンズにより構成された集束光学系を有する照射
光学系と、該スリット状光束による被検物体内の散乱光
または螢光を該光束の光軸および該スリットの長手方向
の軸を含む面に対して交叉する方向から観察する観察光
学系とを有することを特徴とする光散乱画像情報解析装
置。
1. An irradiation optical system having a focusing optical system composed of a cylindrical lens and a spherical lens for irradiating an object to be inspected with a slit-like light beam passing through the object to be inspected, and the slit-like light beam. Scattering light or fluorescent light in the object to be inspected by an observation optical system for observing the scattered light or fluorescence from a direction intersecting a plane including the optical axis of the light flux and the longitudinal axis of the slit. Image information analysis device.
JP60053369A 1985-03-19 1985-03-19 Light scattering image information analyzer Expired - Lifetime JPH0629853B2 (en)

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