JPH06295969A - Surface treatment equipment for ic lead frame - Google Patents

Surface treatment equipment for ic lead frame

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JPH06295969A
JPH06295969A JP8054893A JP8054893A JPH06295969A JP H06295969 A JPH06295969 A JP H06295969A JP 8054893 A JP8054893 A JP 8054893A JP 8054893 A JP8054893 A JP 8054893A JP H06295969 A JPH06295969 A JP H06295969A
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tank
roller
processing
liquid
overflow receiving
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Tetsuo Matsushita
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Abstract

PURPOSE:To realize remarkable cost reduction while the height of an equipment is reduced and quick confirmation of treatment process is enabled. CONSTITUTION:An overflow receiver tank 20 is so formed that the plane shape can surround the treatment tank 10. The rotation retaining parts of each roller 2 which forms a roller conveyer 1 are arranged on both outsides of the tank 20. Recesses 17, 17 whose upper parts are opened are formed on both upper parts of the treatment tank 10, into which holes the roller 2 is inserted. Liquid cut franges 7, 7 for dropping downward treatment liquid flowing outside while traveling the roller 2 are fixed to the part from the recesses 17, 17 of the roller 2 inserted into the recesses 17, 17 to tank walls 23, 24 of the overflow receiver tank 20.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ICリードフレームを
ローラコンベヤで搬送しながら前処理,めっき処理等を
行う表面処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface treatment apparatus for carrying out pretreatment, plating treatment, etc. while conveying an IC lead frame by a roller conveyor.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来表面処理装置の構成を図3〜図6に
示す。これらの図において、1はローラコンベヤで、所
定ピッチpで列配された複数個のローラ2を有してい
る。また、10はオーバーフロー型処理槽、20はオー
バーフロー受け槽である。また、30Aは液循環装置
で、供給管31,回収管32,循環ポンプ33,管理槽
35,各種弁類等からなる。
2. Description of the Related Art The structure of a conventional surface treatment apparatus is shown in FIGS. In these figures, 1 is a roller conveyor, which has a plurality of rollers 2 arranged in rows at a predetermined pitch p. Further, 10 is an overflow type processing tank, and 20 is an overflow receiving tank. Further, 30A is a liquid circulation device, which comprises a supply pipe 31, a recovery pipe 32, a circulation pump 33, a management tank 35, various valves and the like.

【0003】上記液循環装置30Aの循環ポンプ33を
駆動して、管理槽35内の処理液を供給管31等を通し
て処理槽10へ循環供給すると、当該処理槽10内には
上昇液流が発生して両堰11a,12a間に所定高さの
盛り上り処理液Quが形成される。この盛り上り処理液
Qu中にローラコンベヤ1の各ローラ2上を搬送される
ICリードフレームWを連続通過させつつその表面処理
が行われる。なお、処理槽10からのオーバーフロー液
はオーバーフロー受け槽20に排出され当該槽20から
回収管22等を通して管理槽35に戻される。
When the circulating pump 33 of the liquid circulating device 30A is driven to circulate and supply the processing liquid in the management tank 35 to the processing tank 10 through the supply pipe 31 and the like, an ascending liquid flow is generated in the processing tank 10. As a result, the rising treatment liquid Qu having a predetermined height is formed between the both weirs 11a and 12a. The surface treatment is performed while continuously passing the IC lead frame W conveyed on each roller 2 of the roller conveyor 1 in the rising treatment liquid Qu. The overflow liquid from the processing tank 10 is discharged to the overflow receiving tank 20 and returned from the tank 20 to the management tank 35 through the recovery pipe 22 and the like.

【0004】ここで、上記表面処理装置においては、図
4に示す如く、処理槽10の搬送方向長さL1はローラ
コンベヤ1の搬送速度と表面処理に要する時間との関係
から決定されている。また、ローラコンベヤ1のローラ
ピッチpは、ICリードフレームWの長さに応じて決定
される。そこで、処理槽10に1又は2以上のローラ2
を配置しなければならないことが生じる。
Here, in the surface treatment apparatus, as shown in FIG. 4, the length L1 of the treatment tank 10 in the conveyance direction is determined from the relation between the conveyance speed of the roller conveyor 1 and the time required for the surface treatment. The roller pitch p of the roller conveyor 1 is determined according to the length of the IC lead frame W. Therefore, one or more rollers 2 are provided in the processing tank 10.
Will have to be placed.

【0005】処理槽10に配置されるローラ2の回転支
持部(8,8)は、図5に示す如く、当該処理槽10内
(槽壁13,14内面)に設けられているのが一般的で
ある。同様に、オーバーフロー受け槽20に配置される
ローラ2の回転支持部も当該オーバーフロー受け槽20
内又は図6に示す如く両槽壁23,24の上縁部に設け
られる。
As shown in FIG. 5, the rotation support portions (8, 8) of the rollers 2 arranged in the processing tank 10 are generally provided inside the processing tank 10 (inner surfaces of the tank walls 13 and 14). Target. Similarly, the rotation support portion of the roller 2 arranged in the overflow receiving tank 20 is also the overflow receiving tank 20.
It is provided inside or on the upper edges of both tank walls 23 and 24 as shown in FIG.

【0006】ここに、オーバーフロー受け槽20は、処
理槽10からのオーバーフロー液を受けて液循環装置3
0Aへ確実に流し込めればよいので、コスト低減等の観
点から機械的強度および加工精度は最少限に止めてい
る。処理槽20も同様である。
Here, the overflow receiving tank 20 receives the overflow liquid from the processing tank 10 and the liquid circulating device 3
Since it suffices to pour it into 0 A reliably, the mechanical strength and processing accuracy are kept to a minimum from the viewpoint of cost reduction and the like. The same applies to the processing tank 20.

【0007】ところで、オーバーフロー受け槽20の搬
送方向長さL2を長くして処理槽10前後の複数又はほ
とんどのローラ2をオーバーフロー受け槽20に持たせ
たいが、実現はされていない。なぜならば、上記最少限
的条件からオーバーフロー受け槽20の槽壁23,24
は長くなればなるほど変形する度合が増大してしまうた
めに、ローラ送り精度が低下してICリードフレームW
の円滑搬送に支障を来たすという事態が生じてしまうか
らである。
By the way, it is desired to lengthen the length L2 of the overflow receiving tank 20 in the transport direction so that the overflow receiving tank 20 has a plurality of or most rollers 2 before and after the processing tank 10, but this has not been realized. Because, from the above-mentioned minimum conditions, the tank walls 23, 24 of the overflow receiving tank 20 are
Since the degree of deformation increases as the length of the IC lead frame increases, the roller feed accuracy decreases and the IC lead frame W
This is because a situation will occur that hinders smooth transportation of the paper.

【0008】かくして、従来のオーバーフロー受け槽2
0は、その本来目的,コスト低減等の観点から、各槽内
に上流側または下流側の各1個のローラ2を配置してい
るに過ぎない。オーバーフロー受け槽20をローラ支持
するために搬送方向に長くすることは、レイアウトの縮
小化の観点からも許されないことである。よって、オー
バーフロー受け槽20は小容量とされ、かつ液循環の円
滑化および処理液組成の安定化のために必要とされる大
量の処理液を保有することは管理槽35を大きくするこ
とによって達成している。このために、管理槽35は慣
習的にオーバーフロー槽20の下方に設けている。
Thus, the conventional overflow receiving tank 2
From the viewpoint of its original purpose, cost reduction, etc., 0 means that only one upstream or downstream roller 2 is arranged in each tank. Lengthening the overflow receiving tank 20 in the transport direction to support the rollers is not allowed from the viewpoint of layout reduction. Therefore, the overflow receiving tank 20 has a small capacity, and it is achieved by enlarging the management tank 35 to hold a large amount of the processing liquid required for facilitating the liquid circulation and stabilizing the composition of the processing liquid. is doing. For this reason, the management tank 35 is conventionally provided below the overflow tank 20.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかし、ICリードフ
レームの生産量が増大するとともにつまり普及拡大がさ
れるに伴って次のような問題点が指摘されている。すな
わち、上記従来構造によると、装置全体の背が大きくな
るため処理工程の確認に手間どり品質低下の一因とな
る。したがって、当該装置周辺に点検用の架台を設ける
ことになるが、この場合は、コスト高,保守点検困難,
作業安全性の確保困難、下側が汚れる等の不具合が誘発
される。
However, the following problems have been pointed out as the production amount of IC lead frames is increased, that is, as they are widely spread. That is, according to the above-mentioned conventional structure, the height of the entire apparatus becomes large, which is a time-consuming task in checking the processing steps, which is one of the causes of deterioration in quality. Therefore, a pedestal for inspection must be provided around the device, but in this case, high cost, difficult maintenance and inspection,
Problems such as difficulty in ensuring work safety and stains on the lower side are induced.

【0010】これに対して、オーバーフロー受け槽20
と管理槽35とを一体化する、つまりオーバーフロー受
け槽20で管理槽35を兼用することにより背を低くす
ることが考えられるが、装置経済とローラコンベヤの構
成および送り精度の保障という相対問題を一挙に解決で
きないことから、結果的にはオーバーフロー受け槽20
と管理槽35とを分け、管理槽35を大型化する上記従
来構造とし、かつ管理槽を処理槽の下に配設するという
妥協案としているのが実情である。
On the other hand, the overflow receiving tank 20
It is conceivable that the height and the management tank 35 are integrated, that is, the overflow receiving tank 20 also serves as the management tank 35 to reduce the height. As it cannot be solved all at once, eventually the overflow receiving tank 20
In reality, the management tank is divided into the management tank 35 and the management tank 35 having the above-mentioned conventional structure, and the management tank is arranged below the processing tank.

【0011】本発明の目的は、装置全体の背を低くして
処理工程の確認を迅速に行えるようにしつつ大幅なコス
ト低減を達成することができるICリードフレームの表
面処理装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a surface treatment apparatus for an IC lead frame capable of achieving a significant cost reduction while keeping the height of the apparatus as a whole short and enabling quick confirmation of the treatment process. is there.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本出願人は、各ローラの
回転支持部を処理槽およびオーバーフロー受け槽の両側
外方に配設して所要のローラ送り精度を確保し、かつオ
ーバーフロー受け槽を両回転支持部間のスペースを利用
して大容量とすることにより従来管理槽の役目も果たさ
せれば、ICリードフレームの円滑搬送を確保しつつ装
置全体の背を低くすることが可能となるとの発想のもと
に試作機を製作して試験してみたが、この方法によると
ローラ位置が高くなってしまうため、ローラ上を搬送さ
れるICリードフレームを完全処理可能な盛り上り処理
液を処理槽上に確立できず本末転倒となってしまうので
実用化できなかった。そこで、各ローラと各槽との位置
関係において槽形態を種々変えるなどして当該各ローラ
の配設位置を低くしてみたところ、今度は液漏れという
新たで厄介な問題が生じ実用化できなかった。
The applicant of the present invention arranges the rotation support portion of each roller outside both sides of the processing tank and the overflow receiving tank to ensure the required roller feeding accuracy, and If the space between the two rotation supporting parts is used to make it large in capacity and also serve as a conventional management tank, it is possible to make the height of the entire device low while ensuring smooth conveyance of the IC lead frame. Based on the idea, I made a prototype and tested it, but this method would raise the roller position, so the IC lead frame conveyed on the roller can be treated completely It could not be put to practical use because it could not be established on the tank and it would fall over. Therefore, we tried to lower the installation position of each roller by changing the tank form in the positional relationship between each roller and each tank, but this time a new troublesome problem of liquid leakage occurred and it could not be put to practical use. It was

【0013】そこで、本発明は、発想を転換し処理槽か
らのローラに沿う液漏れは許容するが、そのローラの回
転支持部に至る以前に強制的に下方に落下させる手立て
を講じることにより、始めて前記目的を達成できる構成
の表面処理装置を創成したものに係る。
Therefore, in the present invention, although the idea is changed and liquid leakage along the roller from the processing tank is allowed, by taking measures to forcibly drop the liquid before reaching the rotation supporting portion of the roller, The present invention relates to a surface treatment device having a structure capable of achieving the above-mentioned object for the first time.

【0014】すなわち、本発明に係るICリードフレー
ムの表面処理装置は、処理槽と,オーバーフロー受け槽
と,このオーバーフロー受け槽から吸込んだ処理液を処
理槽に循環供給する液循環装置と,ローラコンベヤとを
含み、処理槽上に形成された盛り上り処理液中にローラ
コンベヤで搬送されるICリードフレームを連続通過さ
せつつその表面処理を行うICリードフレームの表面処
理装置において、前記オーバーフロー受け槽を平面形状
が前記処理槽を包囲可能に形成するとともに、前記ロー
ラコンベヤを形成する各ローラの回転支持部をオーバー
フロー受け槽の両側外方に配設し、該処理槽の両側上部
にローラを通すための上部開放凹部を形成しかつこの上
部開放凹部を通して装着されたローラの当該上部開放凹
部からオーバーフロー受け槽の槽壁までの間に当該ロー
ラを伝わって外方に流れる処理液を下方に落下させる液
切鍔体を取付けたことを特徴とする。
That is, the surface treatment apparatus for an IC lead frame according to the present invention comprises a processing tank, an overflow receiving tank, a liquid circulating device for circulating the processing liquid sucked from the overflow receiving tank to the processing tank, and a roller conveyor. In a surface treatment apparatus for an IC lead frame, which comprises: and a surface treatment while continuously passing an IC lead frame conveyed by a roller conveyor into a rising treatment liquid formed on the treatment tank, In order to form the plane shape so as to surround the processing tank, the rotation supporting portions of the rollers forming the roller conveyor are arranged on both outsides of the overflow receiving tank, and the rollers are passed through the upper portions on both sides of the processing tank. Forming an upper open recess of the roller and an overflow from the upper open recess of the roller mounted through the upper open recess. Characterized in that attaching the liquid Setsutsuba body dropping the treatment liquid flowing outwardly downwardly transmitted the roller until the tank wall over tub.

【0015】[0015]

【作用】上記構成による本発明では、液循環装置を駆動
させると、オーバーフロー受け槽に収容された処理液は
処理槽へ循環供給される。すると、処理槽内には上昇液
流が発生し盛り上り処理液が形成される。また、処理槽
からのオーバーフロー液はオーバーフロー受け槽に戻さ
れる。しかも、オーバーフロー受け槽を大容量とするこ
とができたので、液循環を円滑にかつ処理液組成を安定
化できる。
In the present invention having the above structure, when the liquid circulating device is driven, the processing liquid contained in the overflow receiving tank is circulated and supplied to the processing tank. Then, a rising liquid flow is generated in the processing tank, and a rising processing liquid is formed. Further, the overflow liquid from the processing tank is returned to the overflow receiving tank. Moreover, since the overflow receiving tank can have a large capacity, it is possible to smoothly circulate the liquid and stabilize the composition of the processing liquid.

【0016】かくして、ローラコンベヤを用いてICリ
ードフレームを処理槽へ向けて搬送させると、処理槽上
に形成された盛り上り処理液中に入り上部開放凹部を通
して低く配設された各ローラによって当該盛り上り処理
液中を円滑に搬送通過させられ、かつICリードフレー
ムの完全処理を長期に亘って安定して行える。この運転
中、処理液がローラを伝って処理槽の外側へ流れ出るが
液切鍔体によって強制的に下方に落下させられてオーバ
ーフロー受け槽に回収される。したがって、槽外への液
漏れが防止できるので、問題はない。
Thus, when the IC lead frame is conveyed toward the processing tank by using the roller conveyor, the IC lead frame enters the rising processing solution formed on the processing tank, and the rollers are arranged low through the upper open concave portion. The rise processing solution can be smoothly conveyed and passed, and complete processing of the IC lead frame can be stably performed for a long period of time. During this operation, the processing liquid flows through the rollers to the outside of the processing tank, but is forcibly dropped downward by the liquid cutting collar body and collected in the overflow receiving tank. Therefore, there is no problem because the liquid leakage to the outside of the tank can be prevented.

【0017】[0017]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。本ICリードフレームの表面処理装置は、図1お
よび図2に示す如く、基本的構成(ローラコンベヤ1,
処理槽10,オーバーフロー受け槽20,液循環装置3
0等)が従来例(図3)と同様とされており、各ローラ
2の回転支持部(4,4)を処理槽10およびオーバー
フロー受け槽20の両側外方に配設して所要のローラ送
り精度を確保し、かつオーバーフロー受け槽20を両回
転支持部(4,4)間のスペースを積極的に利用するこ
とにより容量増大させて管理槽を兼用可能とし、さらに
処理液がローラ2を伝って槽外へ流れ出るのを液切鍔体
7を用いて防止可能に形成して、装置全体の背を低くし
て処理工程の確認を迅速に行えるようにしつつ大幅なコ
スト低減を達成できるようにしたものである。なお、従
来例(図3)と共通する構成要素については同一の符号
を付し、その説明を省略もしくは簡略化する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 and 2, the surface treatment device for this IC lead frame has a basic structure (roller conveyor 1,
Processing tank 10, overflow receiving tank 20, liquid circulation device 3
No. 0) is similar to the conventional example (FIG. 3), and the rotation support portions (4, 4) of each roller 2 are arranged outside both sides of the processing tank 10 and the overflow receiving tank 20 to obtain the required rollers. By ensuring the feed accuracy and by positively utilizing the space between the rotation support portions (4, 4) of the overflow receiving tank 20, the capacity can be increased and the management tank can also be used as a processing liquid. A liquid cutting collar body 7 can be used to prevent the water from flowing out of the tank, so that the overall height of the device can be lowered and the processing steps can be confirmed quickly, while achieving a significant cost reduction. It is the one. The same components as those in the conventional example (FIG. 3) are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted or simplified.

【0018】ここで、オーバーフロー受け槽20は、図
1に示す如く、平面形状が処理槽10を包囲可能に形成
されている。具体的には、オーバーフロー受け槽20
は、処理槽10の幅方向の周辺スペースを積極的に利用
するべく幅寸法(搬送方向と直交する方向の長さ)を増
大させかつ搬送方向長さはレイアウトの縮小化を図るた
めに短くしている。かかる構成により、オーバーフロー
受け槽20は、大容量となり管理槽を兼用可能となる。
また、オーバーフロー受け槽20に、処理槽10からの
オーバーフロー液はもとより液切鍔体7でローラ2から
強制的に落下させられた処理液も確実に回収することが
できる。また、オーバーフロー受け槽20は、コスト低
減等の観点から処理液の安定保持に支障を来たさない範
囲内でその機械的強度および加工精度は最少限に止めら
れている。なお、オーバーフロー受け槽20の槽壁2
3,24は、その上縁が各ローラ2よりも下方となるよ
うに高さが決定されている。
Here, as shown in FIG. 1, the overflow receiving tank 20 is formed so that it can surround the processing tank 10 in plan view. Specifically, the overflow receiving tank 20
Is to increase the width dimension (length in the direction orthogonal to the transport direction) in order to positively utilize the peripheral space in the width direction of the processing tank 10 and shorten the transport direction length in order to reduce the layout. ing. With this configuration, the overflow receiving tank 20 has a large capacity and can be used also as a management tank.
Further, not only the overflow liquid from the processing tank 10 but also the processing liquid forcibly dropped from the roller 2 by the liquid cutting collar 7 can be reliably collected in the overflow receiving tank 20. Further, the overflow receiving tank 20 has its mechanical strength and processing accuracy kept to a minimum within a range that does not hinder stable holding of the processing liquid from the viewpoint of cost reduction and the like. In addition, the tank wall 2 of the overflow receiving tank 20
The heights of 3 and 24 are determined so that the upper edges thereof are below the respective rollers 2.

【0019】また、処理槽10の槽壁13,14の上部
には、ローラ2の配設位置を低くするための上部開放凹
部17,17が形成されている。この処理槽10は、槽
壁13,14,図示しない上流側槽壁,下流側槽壁12
および底部16より形成されており、その容量はオーバ
ーフロー受け槽20の容量を増大させるために盛り上り
処理液Quを安定して確立できる範囲内で最小とされて
いる。また、処理槽10の槽壁13,14の下部には液
通過穴15が設けられており処理槽10の下方の空間
(処理槽10の容積の約3倍)部分に処理液を収容でき
るようにしている。
Further, upper open recesses 17 and 17 for lowering the installation position of the roller 2 are formed in the upper parts of the tank walls 13 and 14 of the processing tank 10. The processing tank 10 includes tank walls 13 and 14, an upstream side tank wall (not shown), and a downstream side tank wall 12.
And the bottom portion 16, the volume of which is minimized within a range in which the rising processing liquid Qu can be stably established in order to increase the volume of the overflow receiving tank 20. Further, liquid passage holes 15 are provided in the lower portions of the tank walls 13 and 14 of the processing tank 10 so that the processing liquid can be stored in the space below the processing tank 10 (about 3 times the volume of the processing tank 10). I have to.

【0020】また、各ローラ2の回転支持部は、図2に
示す如く、オーバーフロー受け槽20の両側外方に配設
された高剛性のローラ支持プレート4,4より形成され
ている。各ローラ支持プレート4は、ベース9上にオー
バーフロー受け槽20の槽璧23,24に沿って強固に
取付けられており、その上部には各ローラ2の端部を回
転支持する軸受部5がローラ2の個数分だけ同一ピッチ
で設けられている。
Further, as shown in FIG. 2, the rotation support portion of each roller 2 is formed of highly rigid roller support plates 4 and 4 which are disposed on both outer sides of the overflow receiving tank 20. Each roller support plate 4 is firmly mounted on the base 9 along the tank walls 23 and 24 of the overflow receiving tank 20, and a bearing portion 5 for rotatably supporting the end portion of each roller 2 is provided on the upper portion thereof. Two pieces of the same number are provided at the same pitch.

【0021】これにより、各槽10,20の機械的強度
・加工精度に関係なくICリードフレームの円滑搬送に
必要なローラ送り精度を確保することができる。本実施
例では、各ローラ2は、それぞれの最上部を結ぶ面(ワ
ーク搬送面)が平滑となりかつ処理槽10ではローラ位
置が低くなるように上部開放凹部17,17を通されて
ローラ支持プレート4,4の各軸受部5,5に回転支持
されている。
As a result, it is possible to secure the roller feeding accuracy required for the smooth conveyance of the IC lead frame regardless of the mechanical strength and processing accuracy of each tank 10, 20. In the present embodiment, each roller 2 is passed through the upper open recesses 17, 17 so that the surface connecting the uppermost portions (work transfer surface) is smooth and the roller position is low in the processing tank 10, and the roller support plate. The bearings 4 and 4 are rotatably supported by the bearings 5 and 5.

【0022】また、液切鍔体7,7は、上部開放凹部1
7,17を通して装着されたローラ2の当該上部開放凹
部17,17からオーバーフロー受け槽20の槽壁2
3,24までの間に取付けられており、当該ローラ2を
伝わって槽外へ流れる処理液を方向転換して下方に落下
させる機能を有している。
Further, the liquid cutting collar bodies 7 and 7 are provided with an upper open concave portion 1.
The tank wall 2 of the overflow receiving tank 20 from the upper open recesses 17 and 17 of the roller 2 mounted through the rollers 7 and 17.
It is mounted between 3 and 24, and has a function of changing the direction of the processing liquid flowing through the roller 2 to the outside of the tank and dropping it downward.

【0023】かかる液切鍔体7,7により、ローラ2を
上部開放凹部17,17を通して配設位置を低くしたこ
とによる処理液の漏れを一掃することができ、オーバー
フロー受け槽20を大容量として管理槽を兼用させるこ
とが実用上可能であることが保障される。本実施例で
は、各液切鍔体7は、より一段と効果的に液漏れを防止
するために各ローラ2に沿って三段形状とされており、
各ローラ2の上部開放凹部17および槽壁23(24)
間部分の中央部にパッキンを介して装着されている。
The liquid cutting collar bodies 7 and 7 can eliminate the leakage of the processing liquid caused by lowering the position of the roller 2 through the upper open recesses 17 and 17, and the overflow receiving tank 20 can have a large capacity. It is guaranteed that it is practically possible to use it as a management tank. In the present embodiment, each liquid cutting collar body 7 has a three-step shape along each roller 2 in order to prevent liquid leakage more effectively.
The upper open concave portion 17 of each roller 2 and the tank wall 23 (24)
It is attached via a packing to the center of the space.

【0024】また、上記した如く、オーバーフロー受け
槽20で管理槽を兼用させる構成としたことより、液循
環装置30を供給管32,循環ポンプ33,モータ34
等から構成し、モータ34により循環ポンプ33を駆動
して大容量のオーバーフロー受け槽20内の処理液を供
給管31等を介して処理槽10へ循環供給している。な
お、液循環装置30の各構成部品は、オーバーフロー受
け槽20の近傍に集中して配設されている。また、液循
環装置30の供給管31は、処理槽10がオーバーフロ
ー受け槽20に内包されていることより極めて短くな
る。また、循環ポンプ33は、吐出水頭の減少により負
荷が大幅に軽減されるので小型のポンプを使用してい
る。
As described above, since the overflow receiving tank 20 also serves as the control tank, the liquid circulating device 30 is provided with the supply pipe 32, the circulation pump 33, and the motor 34.
The circulation pump 33 is driven by the motor 34 to circulate the processing liquid in the large-capacity overflow receiving tank 20 to the processing tank 10 via the supply pipe 31 and the like. It should be noted that each component of the liquid circulation device 30 is centrally arranged near the overflow receiving tank 20. Further, the supply pipe 31 of the liquid circulation device 30 becomes extremely short because the processing tank 10 is included in the overflow receiving tank 20. Further, the circulation pump 33 uses a small pump because the load is significantly reduced by reducing the discharge head.

【0025】なお、図2において、41は回転駆動機構
である。回転駆動機構41は、各ローラ2の一端部に装
着された歯付きプーリ42と,各プーリ42と噛合しつ
つ図中矢印方向に回動される歯付きベルト43と,歯付
きベルト43を回動するための駆動モータ44とを含み
構成されている。したがって、駆動モータ44を駆動す
ると、各ローラ2は、同期的に同一方向に回転してIC
リードフレームを搬送することができる。
In FIG. 2, reference numeral 41 is a rotary drive mechanism. The rotation drive mechanism 41 rotates a toothed pulley 42 mounted on one end of each roller 2, a toothed belt 43 that meshes with each pulley 42 and is rotated in the direction of the arrow in the drawing, and a toothed belt 43. And a drive motor 44 for moving. Therefore, when the drive motor 44 is driven, the rollers 2 synchronously rotate in the same direction and the IC
The lead frame can be transported.

【0026】次に、作用について説明する。液循環装置
30のモータ34を駆動して循環ポンプ33を作動させ
ることにより、オーバーフロー受け槽20に収容された
処理液は供給管31を通して処理槽10へ供給され、当
該処理槽10上には所定高さの盛り上り処理液Quが形
成される。また、処理槽10からのオーバーフロー液
は、オーバーフロー受け槽20に戻される。しかも、オ
ーバーフロー受け槽20を大容量としたので、液循環を
円滑にかつ処理液組成を安定化できる。
Next, the operation will be described. By driving the motor 34 of the liquid circulating device 30 to operate the circulation pump 33, the processing liquid contained in the overflow receiving tank 20 is supplied to the processing tank 10 through the supply pipe 31, and a predetermined amount is provided on the processing tank 10. A rising processing liquid Qu having a height is formed. The overflow liquid from the processing tank 10 is returned to the overflow receiving tank 20. Moreover, since the overflow receiving tank 20 has a large capacity, it is possible to smoothly circulate the liquid and stabilize the composition of the processing liquid.

【0027】かくして、ローラコンベヤ1を用いてIC
リードフレームを処理槽10へ向けて搬送させると、処
理槽10に形成された盛り上り処理液Qu中に入り各ロ
ーラ2によって円滑に当該盛り上り処理液Qu中を搬送
通過させられ表面処理される。ここで、オーバーフロー
受け槽20によって処理液組成が安定化されているの
で、ICリードフレームの完全処理を長期に亘って安定
して行える。
Thus, using the roller conveyor 1, IC
When the lead frame is conveyed toward the processing tank 10, the lead frame enters the rising processing liquid Qu formed in the processing tank 10 and is smoothly transferred and passed through the rising processing liquid Qu by each roller 2 for surface treatment. . Here, since the composition of the processing liquid is stabilized by the overflow receiving tank 20, the complete processing of the IC lead frame can be stably performed for a long period of time.

【0028】この運転中、処理槽10内の処理液がロー
ラ2を伝って外方へ流れ出るが液切鍔体7によって強制
的に下方に落下させられてオーバーフロー受け槽20に
回収される。したがって、槽外への液漏れが防止できる
ので問題はない。
During this operation, the processing liquid in the processing tank 10 flows outward through the rollers 2, but is forcibly dropped downward by the liquid cutting collar body 7 and collected in the overflow receiving tank 20. Therefore, there is no problem because the liquid leakage to the outside of the tank can be prevented.

【0029】しかして、この実施例によれば、オーバー
フロー受け槽20を平面形状が処理槽10を包囲可能に
形成するとともに、ローラコンベヤ1を形成する各ロー
ラ2の回転支持部(4,4)をオーバーフロー受け槽2
0の両側外方に配設し、処理槽10の両側上部にローラ
2を通すための上部開放凹部17,17を形成しかつこ
の上部開放凹部17,17を通して装着されたローラ2
の当該上部開放凹部17,17からオーバーフロー受け
槽20の槽壁23,24までの間に当該ローラ2を伝わ
って外方に流れる処理液を下方に落下させる液切鍔体7
を取付けた構成としたので、次のような効果を奏する。
Therefore, according to this embodiment, the overflow receiving tank 20 is formed so that the planar shape can surround the processing tank 10, and the rotation supporting portions (4, 4) of the respective rollers 2 forming the roller conveyor 1 are formed. Overflow receiving tank 2
The roller 2 which is disposed on both outer sides of 0, has upper opening recesses 17 and 17 for passing the roller 2 on both upper sides of the processing tank 10 and is mounted through the upper opening recesses 17 and 17.
The liquid-cutting collar body 7 for dropping the processing liquid flowing outwardly along the roller 2 between the upper open recessed portions 17, 17 to the tank walls 23, 24 of the overflow receiving tank 20 downward.
Since it is configured to have the following, the following effects can be obtained.

【0030】 オーバーフロー受け槽20で管理槽を
兼用することができ大幅なコスト低減を図ることができ
る。特に、各槽10,20の機械的強度・加工精度を最
少限としたので、より一層のコスト低減を図ることがで
きる。
The overflow receiving tank 20 can also serve as a control tank, and a significant cost reduction can be achieved. In particular, since the mechanical strength and processing accuracy of each tank 10, 20 are minimized, it is possible to further reduce the cost.

【0031】 また、回転支持部(4,4)で各ロー
ラ2の送り精度が確保され、かつ大容量のオーバーフロ
ー受け槽20で処理液の組成を安定化できるのでICリ
ードフレームを高品質に表面処理することができる。
Further, the rotation supporting portions (4, 4) ensure the feeding accuracy of each roller 2 and the overflow receiving tank 20 having a large capacity can stabilize the composition of the processing liquid, so that the IC lead frame can be surfaced with high quality. Can be processed.

【0032】 また、オーバーフロー受け槽20を容
量を大きくしつつ搬送方向長さを短くすることができレ
イアウトの縮小化を図ることができる。この点からも大
幅なコスト低減を図ることができる。
Further, the overflow receiving tank 20 can have a large capacity and a short length in the carrying direction, and the layout can be reduced. From this point as well, a significant cost reduction can be achieved.

【0033】 さらに、オーバーフロー受け槽20で
管理槽を兼用することができるので装置全体の背が低く
なり、点検用の架台を用いることなく品種切替作業やI
Cリードフレームの搬送状況を監視できる。つまり、処
理工程の確認を迅速に行える。この点からも、大幅なコ
スト低減と高品質処理を図ることができる。しかも、保
守点検が容易となり、架台の乗り降りの際の事故も一掃
できる。さらに下側が汚れるといった事態も生じない。
Furthermore, since the overflow receiving tank 20 can also serve as a management tank, the height of the entire apparatus becomes short, and the product type switching work and I can be performed without using a stand for inspection.
C Lead frame transport status can be monitored. That is, the processing steps can be confirmed quickly. From this point as well, a significant cost reduction and high quality processing can be achieved. Moreover, maintenance and inspection is easy, and accidents when getting on and off the platform can be eliminated. Furthermore, the situation that the lower side becomes dirty does not occur.

【0034】 さらに、液循環装置30の供給管31
が短小となるとともに、ポンプ33が小型化されるの
で、装置全体の小型化を一段と図ることができる。ま
た、液循環装置30の各構成部品をオーバーフロー受け
槽20の近傍に集中配設したので保守点検が容易とな
る。
Furthermore, the supply pipe 31 of the liquid circulation device 30
The size of the pump 33 is reduced and the size of the pump 33 is reduced. Therefore, the size of the entire apparatus can be further reduced. Further, since each component of the liquid circulation device 30 is centrally arranged in the vicinity of the overflow receiving tank 20, maintenance and inspection is facilitated.

【0035】 さらにまた、処理槽10下方の空間部
分にも処理液を収容できるようにしたので、オーバーフ
ロー受け槽20に一段と処理液を安定的に収容すること
ができる。そのため、より一層の液循環の円滑化および
処理液組成の安定化を図ることができる。この点からも
ICリードフレームWの高品質処理が達成される。
Furthermore, since the processing liquid can be stored in the space below the processing bath 10, the overflow receiving bath 20 can further stably store the processing liquid. Therefore, the liquid circulation can be further facilitated and the composition of the treatment liquid can be further stabilized. From this point as well, high quality processing of the IC lead frame W is achieved.

【0036】なお、上記実施例では、液切鍔体7をロー
ラ2の上部開放凹部17および槽壁23(24)間部分
の中央部にパッキンを介して装着したが、ローラ2を伝
ってきた処理液を強制的に方向転換させて下方へ落下さ
せることができればどのように構成してもよい。例え
ば、液切鍔体7をローラ2の上部開放凹部17の近傍部
分に装着してもよい。また、液切鍔体7をローラ2と一
体に形成してもよい。
In the above embodiment, the liquid cutting collar body 7 is attached to the central portion between the upper open concave portion 17 of the roller 2 and the tank wall 23 (24) via the packing, but it is transmitted through the roller 2. Any configuration may be adopted as long as the treatment liquid can be forcibly turned and dropped downward. For example, the liquid cutting collar body 7 may be mounted on the roller 2 in the vicinity of the upper open concave portion 17. Further, the liquid cutting collar body 7 may be formed integrally with the roller 2.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明によれば、オーバーフロー受け槽
を平面形状が処理槽を包囲可能に形成するとともに、ロ
ーラコンベヤを形成する各ローラの回転支持部をオーバ
ーフロー受け槽の両側外方に配設し、処理槽の両側上部
にローラを通すための上部開放凹部を形成しかつこの上
部開放凹部を通して装着されたローラの当該上部開放凹
部からオーバーフロー受け槽の槽壁までの間に当該ロー
ラを伝わって外方に流れる処理液を下方に落下させる液
切鍔体を取付けた構成としたので、液漏れ防止およびI
Cリードフレームの完全処理を確約しつつオーバーフロ
ー受け槽を大容量として管理槽を兼用可能とすることが
できる。これにより、装置全体の背を低くして処理工程
の確認を迅速に行えるようにしつつ大幅なコスト低減を
図ることができる。
According to the present invention, the overflow receiving tank is formed so that the planar shape can surround the processing tank, and the rotation supporting portions of the respective rollers forming the roller conveyor are arranged on both outsides of the overflow receiving tank. Then, upper opening recesses for passing the rollers are formed on both upper sides of the processing tank, and the rollers are transmitted through the upper opening recesses from the upper opening recesses of the mounted rollers to the tank wall of the overflow receiving tank. Since a liquid cutting collar body for dropping the processing liquid flowing outward is attached, liquid leakage prevention and I
It is possible to make the overflow receiving tank a large capacity and also serve as the management tank while ensuring the complete processing of the C lead frame. This makes it possible to reduce the height of the entire apparatus and quickly confirm the processing steps, while significantly reducing the cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例を説明するための一部を切り欠
いた斜視図である。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view for explaining an embodiment of the present invention.

【図2】同じく、ローラコンベヤとローラ支持プレート
との位置関係を説明するための斜視図である。
FIG. 2 is also a perspective view for explaining the positional relationship between the roller conveyor and the roller support plate.

【図3】従来表面処理装置の構成を説明するための図で
ある。
FIG. 3 is a diagram for explaining the configuration of a conventional surface treatment apparatus.

【図4】従来表面処理装置におけるローラコンベヤの処
理槽およびオーバーフロー受け槽に対する配設状況を説
明するための平面図である。
FIG. 4 is a plan view for explaining an arrangement state of a roller conveyor in a conventional surface treatment apparatus with respect to a processing tank and an overflow receiving tank.

【図5】従来表面処理装置におけるローラ支持方法を説
明するための図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining a roller supporting method in a conventional surface treatment apparatus.

【図6】従来表面処理装置におけるローラ支持方法の別
の例を説明するための図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining another example of the roller supporting method in the conventional surface treatment apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ローラコンベヤ 2 ローラ 4 ローラ支持プレート(回転支持部) 7 液切鍔体 10 処理槽 17 上部開放凹部 20 オーバーフロー受け槽 30 液循環装置 1 Roller Conveyor 2 Roller 4 Roller Support Plate (Rotation Support Part) 7 Liquid Cutting Collar Body 10 Processing Tank 17 Upper Opening Recess 20 Overflow Receiving Tank 30 Liquid Circulation Device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/50 D ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H01L 21/50 D

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 処理槽と,オーバーフロー受け槽と,こ
のオーバーフロー受け槽から吸込んだ処理液を処理槽に
循環供給する液循環装置と,ローラコンベヤとを含み、
処理槽上に形成された盛り上り処理液中にローラコンベ
ヤで搬送されるICリードフレームを連続通過させつつ
その表面処理を行うICリードフレームの表面処理装置
において、 前記オーバーフロー受け槽を平面形状が前記処理槽を包
囲可能に形成するとともに、前記ローラコンベヤを形成
する各ローラの回転支持部をオーバーフロー受け槽の両
側外方に配設し、該処理槽の両側上部にローラを通すた
めの上部開放凹部を形成しかつこの上部開放凹部を通し
て装着されたローラの当該上部開放凹部からオーバーフ
ロー受け槽の槽壁までの間に当該ローラを伝わって外方
に流れる処理液を下方に落下させる液切鍔体を取付けた
ことを特徴とするICリードフレームの表面処理装置。
1. A processing tank, an overflow receiving tank, a liquid circulating device for circulating the processing liquid sucked from the overflow receiving tank to the processing tank, and a roller conveyor,
In a surface treatment device for an IC lead frame, which continuously passes through an IC lead frame conveyed by a roller conveyor in a rising treatment liquid formed on a treatment tank, the overflow receiving tank has a planar shape as described above. The processing tank is formed so as to be able to be surrounded, and the rotation supporting portions of the rollers forming the roller conveyor are arranged on both outsides of the overflow receiving tank, and the upper open concave portions for passing the rollers on both upper sides of the processing tank. And a liquid-cutting collar body for dropping the processing liquid flowing outward through the roller between the upper open recess of the roller mounted through the upper open recess and the tank wall of the overflow receiving tank. A surface treatment device for an IC lead frame, characterized by being attached.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103966647A (en) * 2013-01-24 2014-08-06 昆山博通机械设备有限公司 Water retaining and absorbing apparatus for plating bath
CN106435698A (en) * 2016-08-30 2017-02-22 昆山东威电镀设备技术有限公司 Water stop device for passing through circuit board in electroplating tank and vertical electroplating system
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103966647A (en) * 2013-01-24 2014-08-06 昆山博通机械设备有限公司 Water retaining and absorbing apparatus for plating bath
CN103966647B (en) * 2013-01-24 2016-08-03 昆山博通机械设备有限公司 Electroplating bath dash water absorber
CN106637361A (en) * 2015-08-18 2017-05-10 昆山科比精工设备有限公司 Copper electroplating groove inlet section and outlet section water blocking buffer apparatus
CN106637361B (en) * 2015-08-18 2019-02-22 昆山科比精工设备有限公司 A kind of water retaining cushioning device of copper electroplating groove inlet and outlet section
CN106435698A (en) * 2016-08-30 2017-02-22 昆山东威电镀设备技术有限公司 Water stop device for passing through circuit board in electroplating tank and vertical electroplating system

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