JPH06295914A - Heating treater - Google Patents

Heating treater

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JPH06295914A
JPH06295914A JP30695591A JP30695591A JPH06295914A JP H06295914 A JPH06295914 A JP H06295914A JP 30695591 A JP30695591 A JP 30695591A JP 30695591 A JP30695591 A JP 30695591A JP H06295914 A JPH06295914 A JP H06295914A
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JP
Japan
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heating
heating element
zones
heat
zone
Prior art date
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Application number
JP30695591A
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Japanese (ja)
Inventor
Masamitsu Ueno
正光 上野
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Tokyo Electron Ltd
Tokyo Electron Tohoku Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Tokyo Electron Tohoku Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To equalize heat of heating units for heating continuous materials to be heated. CONSTITUTION:A heating treater is constituted into a structure, wherein heating units 10, 12 and 14 to correspond to continuous mateirals to be heated are dividedly installed in a plurality of zones Zc and Ze and independent electrodes 16a, 16b, 18b, 20a and 20b are respectively provided on the heating units in each zone to perform an independent heat generation control in each heating unit in each zone and at the same time, arbitrary intervals D are respectively set between the heating units in the zones according to a distribution of heat generation and partition walls 28 are respectively installed within the intervals between the zones.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体ウエーハなど
の加熱処理に用いる加熱器に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heater used for heat treatment of semiconductor wafers and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体製造装置において、半導体
ウエーハを加熱する加熱器を成す電気炉では、図4に示
すように,、円筒上の断熱筒2の内部にコイル状を成す
発熱体4を設置している。そして、この発熱体4は、例
えば、エンドゾーンZe及びセンターゾーンZcの3ゾ
ーンなどに分割するとともに、各ゾーンZe、Zcに対
応した電極6a、6b、6c、6dを設けている。そし
て、発熱体4は、各ゾーンZe、Zc毎に独立又はマス
タスレーブ方式で電力制御を行って、炉内に温度分布を
設定しているのである。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor manufacturing apparatus, in an electric furnace which constitutes a heater for heating a semiconductor wafer, as shown in FIG. 4, a heating element 4 having a coil shape is provided inside a cylindrical heat insulating tube 2. It is installed. The heating element 4 is divided into, for example, three zones such as an end zone Ze and a center zone Zc, and electrodes 6a, 6b, 6c and 6d corresponding to the zones Ze and Zc are provided. The heating element 4 sets the temperature distribution in the furnace by performing power control independently or in the master-slave system for each of the zones Ze and Zc.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
加熱器では、隣合うゾーンZe、Zcを成す発熱体4
は、単一で連続しており、しかも、中間部分の電極(端
子)6bは、隣合うゾーンZe、Zc間に、また、電極
6cは隣合うゾーンZc、Ze間に共用されているので
ある。
By the way, in such a heater, the heating element 4 forming the adjacent zones Ze and Zc is used.
Are single and continuous, and the intermediate electrode (terminal) 6b is shared between the adjacent zones Ze and Zc, and the electrode 6c is shared between the adjacent zones Zc and Ze. .

【0004】このため、発熱体4の隣合うゾーンZe、
Zc間の発熱が互いに影響し合って、所定の温度分布の
設定が取りにくく、また、発熱体4の発熱による伸びが
電極部分に集中し、発熱体4の変形が大きいなどの欠点
がある。
Therefore, the adjacent zones Ze of the heating element 4 are
The heat generation between Zc influences each other, and it is difficult to set a predetermined temperature distribution, and the elongation due to the heat generation of the heat generating body 4 is concentrated on the electrode portion, so that the heat generating body 4 is largely deformed.

【0005】そこで、この発明は、連続した被加熱体を
加熱する発熱体の均熱化を図った加熱器を提供すること
を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a heater in which a heating element for heating a continuous object to be heated is soaked.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】即ち、この発明の加熱器
は、連続した被加熱体に対応する発熱体(10、12、
14)を複数のゾーン(Zc、Ze)に分割して設置
し、前記各ゾーンの前記発熱体に独立した電極(16
a、16b、18a、18b、20a、20b)を設け
て前記各ゾーンの前記発熱体毎に独立した発熱制御を行
うとともに、前記各ゾーンの前記発熱体間に発熱分布に
応じて任意の間隔(D)を設定し、前記ゾーンの間隔内
に仕切壁(28)を設置したことを特徴とする。
That is, the heater according to the present invention comprises a heating element (10, 12,
14) is installed by being divided into a plurality of zones (Zc, Ze), and an electrode (16) independent of the heating element in each zone is provided.
a, 16b, 18a, 18b, 20a, 20b) are provided to independently control heat generation for each heating element in each zone, and an arbitrary interval (according to the heat generation distribution between the heating elements in each zone). D) is set, and the partition wall (28) is installed within the interval of the zone.

【0007】[0007]

【作用】この発明の加熱器では、各ゾーンZc、Ze毎
に発熱体を独立させるとともに、個別に発熱制御が行わ
れるため、温度分布の設定が容易になり、連続する被加
熱体に対して均熱加熱が可能になる。そして、各ゾーン
の間隔内には仕切壁が設置され、仕切壁によって発熱体
間の熱的影響が改善される。即ち、隣接する発熱体間に
は熱輻射による熱加算と、熱対流による熱加算が相乗的
に加わり、部分的な高温部が形成されるおそれがある。
このような仕切壁の設置は、熱輻射や熱対流による熱加
算を効果的に抑制する機能を持つものである。したがっ
て、この加熱器では連続した被加熱体に対して最適な均
熱加熱が実現される。
In the heater according to the present invention, the heating elements are made independent for each zone Zc and Ze, and the heat generation is controlled individually, so that the temperature distribution can be easily set, and continuous heating objects can be provided. Uniform heating is possible. A partition wall is installed within the interval between the zones, and the partition wall improves the thermal influence between the heating elements. That is, the heat addition due to the heat radiation and the heat addition due to the heat convection are synergistically added between the adjacent heat generating elements, so that a high temperature part may be partially formed.
The installation of such a partition wall has a function of effectively suppressing heat addition due to heat radiation and heat convection. Therefore, in this heater, optimum soaking heating is realized for the continuous object to be heated.

【0008】[0008]

【実施例】図1は、この発明の加熱器の一実施例を示
す。連続したプロセスチューブ等の被加熱体に対応した
長さを持つ断熱筒2の内部壁面に、連続する被加熱体の
長さ方向に、例えば、3ゾーン、即ち、1つのセンター
ゾーンZc及び2つのエンドゾーンZeに分割された発
熱体10、12、14が設置されている。各発熱体10
〜14は、発熱抵抗線を一定のピッチで巻回してコイル
状に成形したものであり、断熱筒2の内部に発熱分布を
考慮して特定の間隔で設置する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an embodiment of a heater according to the present invention. On the inner wall surface of the heat insulating cylinder 2 having a length corresponding to the heated object such as a continuous process tube, for example, in the length direction of the continuous heated object, for example, three zones, that is, one center zone Zc and two zones. The heating elements 10, 12, 14 divided into the end zones Ze are installed. Each heating element 10
Numerals 14 to 14 are heating resistance wires wound at a constant pitch and molded into a coil, and are installed inside the heat insulating cylinder 2 at specific intervals in consideration of the heat generation distribution.

【0009】そして、各発熱体10〜14の端部には、
複数の独立した電極16a、16b、18a、18b、
20a、20bが取り付けられ、各電極16a〜20b
は、断熱筒2を貫いて断熱筒2の外部壁面に引き出され
ている。
At the end of each heating element 10-14,
A plurality of independent electrodes 16a, 16b, 18a, 18b,
20a, 20b are attached, and each electrode 16a-20b
Penetrates the heat insulating cylinder 2 and is drawn out to the outer wall surface of the heat insulating cylinder 2.

【0010】このように構成された加熱器は、図2に示
すように各ゾーンZe、Zcを成す発熱体10、12、
14が特定の間隔Dを置いて設置され、電極16a、1
6b間、電極18a、18b間、電極20a、20b間
のそれぞれに独立した電源22、24、26を与えて、
独立した電力制御により、各発熱体10〜14の温度制
御を個別に行い、処理に必要な均一又は傾斜を持つな
ど、特定の温度分布を容易に設定できる。また、連続し
た発熱体では困難であった各ゾーンZe、Zcの間隔D
を温度分布に応じて容易に設定することができるととも
に、熱伝導による熱的影響を回避でき、温度分布精度を
高めることができる。間隔D内の発熱体が不要になるの
で、その分だけ発熱体材料の節減が図られる。
As shown in FIG. 2, the heater thus constructed has the heating elements 10, 12, which form the zones Ze, Zc, respectively.
14 are installed with a specific distance D, and electrodes 16a, 1
6b, electrodes 18a and 18b, and electrodes 20a and 20b are supplied with independent power sources 22, 24 and 26, respectively,
By independent power control, the temperature of each heating element 10 to 14 is individually controlled, and a specific temperature distribution can be easily set such that the heating elements 10 to 14 have a uniform or gradient required for processing. In addition, the interval D between the zones Ze and Zc, which was difficult with a continuous heating element,
Can be easily set according to the temperature distribution, the thermal influence due to heat conduction can be avoided, and the temperature distribution accuracy can be improved. Since the heating element in the space D is unnecessary, the heating element material can be saved accordingly.

【0011】また、各ゾーンZe、Zc毎に発熱体10
〜14が独立しているため、各発熱体10〜14の伸び
が従来の共用した電極部分に集中することがなく、応力
集中による変形が防止される。
The heating element 10 is provided in each of the zones Ze and Zc.
Since -14 are independent, the expansion of each heating element 10-14 does not concentrate on the conventional shared electrode portion, and deformation due to stress concentration is prevented.

【0012】そして、図3に示すように、各ゾーンZ
e、Zcの発熱体10、12、14の間隔D内にリング
状の仕切壁28を設置すれば、隣接する発熱体10〜1
4の間隔Dの熱伝導を遮断して熱的影響を回避でき、安
定した精度の高い温度分布の設定を容易に行うことがで
きる。仕切壁28は、断熱筒2と同様にセラミックなど
の断熱材によって、断熱筒2と一体に形成し、又は、断
熱筒2とは独立したものを断熱筒2の内部壁面に固定し
てもよい。
Then, as shown in FIG. 3, each zone Z
If a ring-shaped partition wall 28 is installed in the space D between the heating elements 10, 12 and 14 of e and Zc, the adjacent heating elements 10 to 1
It is possible to cut off the heat conduction in the interval D of 4 to avoid a thermal effect, and to easily set a stable and highly accurate temperature distribution. The partition wall 28 may be integrally formed with the heat insulating cylinder 2 by using a heat insulating material such as ceramic like the heat insulating cylinder 2, or may be fixed to the inner wall surface of the heat insulating cylinder 2 independently of the heat insulating cylinder 2. .

【0013】なお、実施例では、3ゾーンに設定した場
合について説明したが、この発明は2ゾーン又は4ゾー
ン以上の分割の場合にも適用できるものである。
In the embodiment, the case where three zones are set has been described, but the present invention can be applied to the case of division into two zones or four zones or more.

【0014】[0014]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、連続した被加熱体に対応する発熱体を各ゾーンに分
割し、各ゾーンの発熱体に独立した電極を設置して電力
制御を行うことにより独立した温度設定ができるととも
に、各ゾーン間の間隔には各発熱体を分離する仕切壁を
設置したので、隣接した発熱体間の熱輻射や熱対流によ
る温度上昇を回避でき、温度分布の設定が容易になると
ともに、連続した発熱体の場合に生じていた発熱体の変
形などの不都合を解消できる。
As described above, according to the present invention, a heating element corresponding to a continuous object to be heated is divided into zones, and an independent electrode is installed on the heating element in each zone to control electric power. By doing so, independent temperature settings can be made, and since a partition wall that separates each heating element is installed in the interval between each zone, it is possible to avoid temperature rise due to heat radiation and heat convection between adjacent heating elements. The distribution can be easily set, and the disadvantages such as the deformation of the heating element that occurs in the case of a continuous heating element can be eliminated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の加熱器の実施例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of a heater according to the present invention.

【図2】図1に示した加熱器の発熱体の構成を示す図で
ある。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a heating element of the heater shown in FIG.

【図3】この発明の加熱器の他の実施例を示す図であ
る。
FIG. 3 is a view showing another embodiment of the heater of the present invention.

【図4】従来の加熱器を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a conventional heater.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、12、14 発熱体 16a、16b、18a、18b、20a、20b 電
極 28 仕切壁 Zc センターゾーン Ze エンドゾーン D 間隔
10, 12 and 14 Heating element 16a, 16b, 18a, 18b, 20a, 20b Electrode 28 Partition wall Zc Center zone Ze End zone D Interval

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成3年12月20日[Submission date] December 20, 1991

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】全文[Correction target item name] Full text

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【書類名】 明細書[Document name] Statement

【発明の名称】 加熱処理装置Title: Heat treatment apparatus

【特許請求の範囲】[Claims]

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体ウエーハなど
の加熱処理に用いる加熱処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat treatment apparatus used for heat treatment of semiconductor wafers and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体製造装置において、半導体
ウエーハを加熱する加熱器を成す電気炉では、図4に示
すように、円筒上の断熱筒2の内部にコイル状を成す発
熱体4を設置している。この発熱体4は、例えば、エン
ドゾーンZe及びセンターゾーンZcの3ゾーンなどに
分割するとともに、各ゾーンZe、Zcに対応した電極
6a、6b、6c、6dを設けている。そして、この発
熱体4は、各ゾーンZe、Zc毎に独立又はマスタスレ
ーブ方式で電力制御を行って、炉内に温度分布を設定し
ているのである。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor manufacturing apparatus, in an electric furnace which constitutes a heater for heating a semiconductor wafer, as shown in FIG. 4, a heating element 4 having a coil shape is installed inside a cylindrical heat insulating tube 2. is doing. The heating element 4 is divided into, for example, three zones such as an end zone Ze and a center zone Zc, and electrodes 6a, 6b, 6c and 6d corresponding to the zones Ze and Zc are provided. The heating element 4 performs power control independently or in a master-slave system for each zone Ze and Zc to set the temperature distribution in the furnace.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
加熱処理装置では、発熱体4の隣合うゾーンZe、Zc
間の発熱が互いに影響し合って、所定の温度分布の設定
が取りにくい欠点がある。
By the way, in such a heat treatment apparatus, adjacent zones Ze and Zc of the heating element 4 are provided.
There is a drawback in that the heat generation between the two influences each other, making it difficult to set a predetermined temperature distribution.

【0004】そこで、この発明は、連続した被処理体を
所望する温度分布への設定を容易にした加熱処理装置を
提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a heat treatment apparatus which makes it easy to set a continuous object to be processed into a desired temperature distribution.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】この発明の加熱処理装置
は、発熱抵抗線がコイル状に設けられた発熱体と、この
発熱体に設けられた2つの電極と、上記発熱体が独立し
て複数設けられ各発熱体に夫々独立して接続された複数
の可変電源と、これら各可変電源により上記複数の発熱
体を夫々個別に電力制御する手段と、上記複数の発熱体
を内部に収容する如く設けられたセラミックからなる断
熱体とを具備してなることを特徴とする。
In the heat treatment apparatus of the present invention, a heating element having a heating resistance wire provided in a coil shape, two electrodes provided on the heating element, and the heating element are independent of each other. A plurality of variable power sources which are respectively provided and independently connected to the respective heating elements, a means for individually controlling the electric power of the plurality of heating elements by the respective variable power sources, and a plurality of the heating elements are housed inside. And a heat insulating body made of ceramics provided as described above.

【0006】また、この発明の加熱処理装置において、
各発熱体に設けられる各電極は断熱体を貫通して設けら
れることを特徴とする。
In the heat treatment apparatus of the present invention,
Each electrode provided in each heating element is characterized by being provided so as to penetrate the heat insulating body.

【0007】また、この発明の加熱処理装置は、発熱抵
抗線が一定のピッチでコイル状に設けられた発熱体と、
この発熱体に設けられた2つの電極と、上記発熱体が独
立して複数設けられ各発熱体の上記2つの電極間に夫々
接続された可変電源と、これら発熱体の外側に設けられ
たセラミックからなる断熱体とを具備してなることを特
徴とする。
Further, the heat treatment apparatus of the present invention includes a heating element in which heating resistance wires are provided in a coil shape at a constant pitch,
Two electrodes provided on the heating element, a variable power source provided with a plurality of the heating elements independently and connected between the two electrodes of each heating element, and a ceramic provided outside the heating elements And a heat insulating body comprising.

【0008】[0008]

【作用】この発明の加熱処理装置では、独立する複数の
コイル状発熱体をセラミック型なる断熱体内に収容し、
各発熱体に設けられる電極間に可変電源を接続すること
より温度分布の設定を容易にしたものである。
In the heat treatment apparatus of the present invention, a plurality of independent coil-shaped heating elements are housed in a ceramic heat insulating body,
The temperature distribution is easily set by connecting a variable power source between the electrodes provided on each heating element.

【0009】[0009]

【実施例】図1は、この発明の加熱処理装置の一実施例
を示す。連続したプロセスチューブ等の被加熱体に対応
した長さを持つ断熱筒2の内部壁面に、連続する被加熱
体の長さ方向に、例えば、3ゾーン、即ち、1つのセン
ターゾーンZc及び2つのエンドゾーンZeに分割され
た発熱体10、12、14が設置されている。各発熱体
10〜14は、発熱抵抗線を一定のピッチで巻回してコ
イル状に成形したものであり、断熱筒2の内部に発熱分
布を考慮して特定の間隔で設置する。
FIG. 1 shows an embodiment of the heat treatment apparatus of the present invention. On the inner wall surface of the heat insulating cylinder 2 having a length corresponding to the heated object such as a continuous process tube, for example, in the length direction of the continuous heated object, for example, three zones, that is, one center zone Zc and two zones. The heating elements 10, 12, 14 divided into the end zones Ze are installed. Each of the heating elements 10 to 14 is a coil formed by winding a heating resistance wire at a constant pitch, and is installed inside the heat insulating cylinder 2 at a specific interval in consideration of the heat generation distribution.

【0010】そして、各発熱体10〜14の端部には、
複数の独立した電極16a、16b、18a、18b、
20a、20bが取り付けられ、各電極16a〜20b
は、断熱筒2を貫いて断熱筒2の外部壁面に引き出され
ている。
At the end of each heating element 10-14,
A plurality of independent electrodes 16a, 16b, 18a, 18b,
20a, 20b are attached, and each electrode 16a-20b
Penetrates the heat insulating cylinder 2 and is drawn out to the outer wall surface of the heat insulating cylinder 2.

【0011】このように構成された加熱処理装置は、図
2に示すように各ゾーンZe、Zcを成す発熱体10、
12、14が特定の間隔Dを置いて設置され、電極16
a、16b間、電極18a、18b間、電極20a、2
0b間のそれぞれに独立した電源22、24、26を与
えて、独立した電力制御により、各発熱体10〜14の
温度制御を個別に行い、処理に必要な均一温度分布又は
温度勾配を持つなど、特定の温度分布を容易に設定でき
る。また、連続した発熱体では困難であった各ゾーンZ
e、Zcの間隔Dを温度分布に応じて容易に設定するこ
とができるとともに、熱伝導による熱的影響を回避で
き、温度分布精度を高めることができる。間隔D内の発
熱体が不要になるので、その分だけ発熱体材料の節減が
図られる。
As shown in FIG. 2, the heat treatment apparatus having the above-described structure includes the heating elements 10 forming the zones Ze and Zc.
12, 14 are installed at a specific distance D, and electrodes 16
a, 16b, electrodes 18a, 18b, electrodes 20a, 2
Independent power supplies 22, 24, and 26 are provided between 0b to independently control the temperature of each heating element 10 to 14 by independent power control, and have a uniform temperature distribution or temperature gradient required for processing. , Specific temperature distribution can be set easily. In addition, each zone Z which was difficult with a continuous heating element
The distance D between e and Zc can be easily set according to the temperature distribution, and the thermal influence due to heat conduction can be avoided, and the temperature distribution accuracy can be improved. Since the heating element in the space D is unnecessary, the heating element material can be saved accordingly.

【0012】また、各ゾーンZe、Zc毎に発熱体10
〜14が独立しているため、各発熱体10〜14の伸び
が従来の共用した電極部分に集中することがなく、応力
集中による変形が防止される。
The heating element 10 is provided in each of the zones Ze and Zc.
Since -14 are independent, the expansion of each heating element 10-14 does not concentrate on the conventional shared electrode portion, and deformation due to stress concentration is prevented.

【0013】そして、図3に示すように、各ゾーンZ
e、Zcの発熱体10、12、14の間隔D内にリング
状の仕切壁28を設置すれば、隣接する発熱体10〜1
4の間隔Dの熱伝導を遮断して熱的影響を回避でき、安
定した精度の高い温度分布の設定を容易に行うことがで
きる。仕切壁28は、断熱筒2と同様にセラミックなど
の断熱材によって断熱筒2と一体に形成し、又は、断熱
筒2とは独立したものを断熱筒2の内部壁面に固定して
もよい。
Then, as shown in FIG. 3, each zone Z
If a ring-shaped partition wall 28 is installed in the space D between the heating elements 10, 12 and 14 of e and Zc, the adjacent heating elements 10 to 1
It is possible to cut off the heat conduction in the interval D of 4 to avoid a thermal effect, and to easily set a stable and highly accurate temperature distribution. The partition wall 28 may be integrally formed with the heat insulating cylinder 2 by a heat insulating material such as ceramic as in the heat insulating cylinder 2, or may be independent of the heat insulating cylinder 2 and fixed to the inner wall surface of the heat insulating cylinder 2.

【0014】なお、実施例では、3ゾーンに設定した場
合について説明したが、この発明は2ゾーン又は4ゾー
ン以上の分割の場合にも適用できるものである。
In the embodiment, the case where three zones are set has been described, but the present invention can be applied to the case of division into two zones or four zones or more.

【0015】[0015]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、セラミックからなる断熱体の内部に設けられた複数
のコイル状発熱体と各発熱体に独立する2つの電極を設
置して各発熱体を独立して電力制御を行うことにより、
所望する温度分布の設定が容易になる。
As described above, according to the present invention, a plurality of coil-shaped heat generating elements provided inside a heat insulating body made of ceramic and two independent electrodes for each heat generating element are installed to generate heat. By controlling the power of the body independently,
The desired temperature distribution can be set easily.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の加熱処理装置の実施例を示す図であ
る。
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of a heat treatment apparatus of the present invention.

【図2】図1に示した加熱処理装置の発熱体の構成を示
す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a heating element of the heat treatment device shown in FIG.

【図3】図1に示した加熱処理装置の他の実施例を示す
図である。
FIG. 3 is a diagram showing another embodiment of the heat treatment apparatus shown in FIG.

【図4】従来の加熱処理装置を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a conventional heat treatment apparatus.

【符号の説明】 10、12、14 発熱体 16a、16b、18a、18b、20a、20b 電
極 Zc センターゾーン Ze エンドゾーン
[Explanation of reference numerals] 10, 12, 14 Heating element 16a, 16b, 18a, 18b, 20a, 20b Electrode Zc Center zone Ze End zone

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 連続した被加熱体に対応する発熱体を複
数のゾーンに分割して設置し、前記各ゾーンの前記発熱
体に独立した電極を設けて前記各ゾーンの前記発熱体毎
に独立した発熱制御を行うとともに、前記各ゾーンの前
記発熱体間に発熱分布に応じて任意の間隔を設定し、前
記ゾーンの間隔内に仕切壁を設置したことを特徴とする
加熱器。
1. A heating element corresponding to a continuous object to be heated is divided into a plurality of zones and installed, and each heating element in each zone is provided with an independent electrode so that each heating element in each zone is independent. In addition to performing the above-mentioned heat generation control, an arbitrary interval is set between the heating elements in each zone according to the heat generation distribution, and a partition wall is installed within the interval between the zones.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6541344B2 (en) 2000-10-19 2003-04-01 Hitachi Kokusai Electric Inc. Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

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JPS4728904U (en) * 1971-04-30 1972-12-02

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