JPH06290587A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

Info

Publication number
JPH06290587A
JPH06290587A JP5077852A JP7785293A JPH06290587A JP H06290587 A JPH06290587 A JP H06290587A JP 5077852 A JP5077852 A JP 5077852A JP 7785293 A JP7785293 A JP 7785293A JP H06290587 A JPH06290587 A JP H06290587A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
cell array
data
sense amplifier
address
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5077852A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hirohito Kikukawa
博仁 菊川
Hisakazu Kotani
久和 小谷
Hironori Akamatsu
寛範 赤松
Akihiro Sawada
昭弘 澤田
Masashi Agata
政志 縣
Shunichi Iwanari
俊一 岩成
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP5077852A priority Critical patent/JPH06290587A/en
Publication of JPH06290587A publication Critical patent/JPH06290587A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Dram (AREA)

Abstract

PURPOSE:To shorten a writing time of the same data or a data pattern and to make writing of a certain data pattern possible. CONSTITUTION:In a memory cell array 119 constituted with word lines WL(1)- WL(n) of (n) lines selected by a row decoder and but line pairs BLP(1)-BLP(m) of (m) groups connected to a sense amplifier, after data for writing is written in a memory cell 120 on an arbitrary word line, the prescribed mode setting (function setting for batch writing) is performed. Next, /RAS is made active, after the word line is activated, a sense amplifier activation signal SE is made active, and data is read out to the sense amplifier through BLP(1)211-BLP(m)214. And desired word lines are collectively activated, data held in the sense amplifier is written in memory cells on each word line.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置、特にデ
ータの書き込み機能に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a data writing function.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、コンピュータシステムや映像機器
等の高機能化の達成に、ダイナミック・ランダム・アク
セス・メモリ(以下、DRAM)の大容量化、高性能化が大
きく寄与している。さらに機器の画像処理機能の大幅な
改善のために、汎用DRAMに対してシリアルアクセスポー
トを付加したマルチポートメモリを用いている。このマ
ルチポートメモリは、主として画像データを扱うシステ
ムに用いられることからビデオメモリとも呼ばれ、ラン
ダムアクセス機能に加え、画像データの形式や取り扱い
に対応したシリアルアクセス機能を標準機能として搭載
しており、さらに、より高速にデータを扱えるように、
最近では様々なオプション機能を搭載している。その中
でも、同一データの書き込み機能に関しては、例え
ば、'91三菱半導体メモリDRAM編DataBook P.4-37に記載
のフラッシュライト機能があげられ、主たる用途とし
て、高速の画面クリアの実行等に用いられている。
2. Description of the Related Art In recent years, large capacity and high performance of dynamic random access memory (hereinafter referred to as DRAM) have greatly contributed to the achievement of high functionality of computer systems and video equipment. Furthermore, in order to greatly improve the image processing function of the device, a multi-port memory with a serial access port added to a general-purpose DRAM is used. This multi-port memory is also called a video memory because it is mainly used in a system that handles image data, and in addition to the random access function, it is equipped with a serial access function that corresponds to the format and handling of image data as a standard function. Furthermore, to handle data at higher speed,
Recently, it is equipped with various optional functions. Among them, regarding the write function of the same data, for example, there is a flash write function described in '91 Mitsubishi Semiconductor Memory DRAM Edition DataBook P.4-37, which is mainly used for high-speed screen clear execution. ing.

【0003】以下図面を参照しながら、上記した従来の
同一データの書き込み機能の一例であるフラッシュライ
ト機能について説明する。
A flash write function, which is an example of the conventional same data write function, will be described below with reference to the drawings.

【0004】図29はフラッシュライト機能を搭載した
1MbitデュアルポートDRAMのブロック図を示すものであ
る。また図30はフラッシュライト機能の動作タイミン
グチャートを示すものである。
FIG. 29 is equipped with a flashlight function.
1 is a block diagram of a 1 Mbit dual port DRAM. Further, FIG. 30 shows an operation timing chart of the flash write function.

【0005】図29において、101は/RAS、102は
/CAS、103はライトイネーブル信号(以下、/WE)、
104は/OE、107は特殊機能指定信号(以下、DSF)
である。また108はアドレス信号(A0〜A8)、109
はライトマスク信号/データ入出力信号(W/IO0〜W/IO
3)である。122はアドレスバッファ、129は1Mメ
モリセルアレイ、124は前記1Mメモリセルアレイ12
9内のワード線を選択する行デコーダ、125は前記1M
メモリセルアレイ129内のビット線が接続されている
センスアンプ127を選択する列デコーダ、130は前
記センスアンプ127と外部との間でランダムにデータ
を入出力し、またライトマスク信号133をタイミング
発生回路121に伝達するためのデータ入出力バッファ
である。前記タイミング発生回路121は101〜10
7、133の信号が入力し、図中の各回路ブロック12
2〜132を制御する信号を発生するタイミング発生回
路である。132はフラッシュライト用データレジスタ
である。
In FIG. 29, 101 is / RAS and 102 is
/ CAS, 103 is a write enable signal (hereinafter, / WE),
104 is / OE, 107 is a special function designation signal (hereinafter, DSF)
Is. Further, 108 is an address signal (A0 to A8), 109
Is a write mask signal / data input / output signal (W / IO0 to W / IO
3). 122 is an address buffer, 129 is a 1M memory cell array, and 124 is the 1M memory cell array 12.
A row decoder for selecting a word line in 9;
A column decoder for selecting the sense amplifier 127 to which the bit line in the memory cell array 129 is connected, a random input / output of data between the sense amplifier 127 and the outside, and a timing generation circuit for the write mask signal 133. A data input / output buffer for transmission to 121. The timing generation circuit 121 includes 101 to 10
7 and 133 signals are input, and each circuit block 12 in the figure
2 is a timing generation circuit that generates a signal for controlling 2 to 132. Reference numeral 132 is a flash write data register.

【0006】以上のように構成された1Mbitデュアルポ
ートDRAMのフラッシュライト機能について、以下にその
動作について説明する。
The operation of the flash write function of the 1 Mbit dual port DRAM configured as described above will be described below.

【0007】フラッシュライト機能は、初めにメモリセ
ルアレイに書き込むデータをチップ内部に取り込み(ロ
ードカラーサイクル)、それに引き続き、前記データを
1行(1ワード)ずつ書き込む動作(フラッシュライト
サイクル)を、全行(全ワード)に対して行うことによ
り全メモリセルに対して同一データの書き込みを行う機
能である。これにより、ランダムアクセスによる同一デ
ータの書き込みに比較して、トータルの書き込み時間は
約1/(同時に書き込まれるビット数)に高速化され
る。
In the flash write function, first, the data to be written in the memory cell array is taken into the chip (load color cycle), and subsequently, the operation (flash write cycle) of writing the data one row (one word) at a time is performed for all rows. This is a function of writing the same data to all memory cells by performing (all words). As a result, the total writing time is shortened to about 1 / (the number of bits simultaneously written) as compared with the writing of the same data by random access.

【0008】まず、フラッシュライト機能においては必
須のサイクルであるロードカラーサイクルについて説明
する。図30に示すように、/RAS101の立ち下がり時
に/CAS102、/WE103、/OE104、DSF107をハ
イにし、ロードカラーサイクルを設定する。次に、/CAS
102、/WE103を立ち下げ、同時にメモリセルに書
き込むためのデータを入力する。このデータはデータ入
出力バッファ130を介してフラッシュライト用データ
レジスタ132に蓄えられる。最後に、/RAS101、/C
AS102、/WE103、/OE104、DSF 107を全てハ
イにしてスタンバイ状態にする。
First, the load color cycle, which is an essential cycle in the flashlight function, will be described. As shown in FIG. 30, at the fall of / RAS101, / CAS102, / WE103, / OE104 and DSF107 are set high, and the load color cycle is set. Then / CAS
102 and / WE103 are turned off, and at the same time, data for writing to the memory cell is input. This data is stored in the flash write data register 132 via the data input / output buffer 130. Finally, / RAS101, / C
AS 102, / WE 103, / OE 104, and DSF 107 are all set to high to put them in a standby state.

【0009】次に、フラッシュライト機能におけるフラ
ッシュライトサイクルについて説明する。図30に示す
ように、/RAS101の立ち下がり時に/CAS102、/OE
104、DSF107をハイにし、/WE103、をローにす
ることでフラッシュライトサイクルを設定し、同時にロ
ードカラーサイクルで蓄えたデータを書き込む行アドレ
ス108を入力する。このときデータを書き込むプレー
ンについてはW/IOnをハイにし(ノンマスク)、書き込
まないプレーンについてはW/IOnをローにする(マス
ク)。ここでプレーンとは、ランダムアクセス時の各I/
Oに対応するメモリセルアレイを意味する。次に、指定
された行アドレスにより各プレーン(各メモリセルアレ
イ)のワード線が活性化された後、ノンマスクのプレー
ンのセンスアンプ127に対してはフラッシュライト用
データレジスタ132内のデータが転送され、メモリセ
ルにそのデータが書き込まれる。またマスクされたプレ
ーンにおいては、フラッシュライト用データレジスタ1
32内のデータは転送されず、ビット線に読み出された
データをセンスアンプ127で増幅しメモリセルにリス
トアする。最後に、/RAS101をハイにしてプリチャー
ジを行い、スタンバイ状態にする。
Next, the flash write cycle in the flash write function will be described. As shown in FIG. 30, when / RAS101 falls, / CAS102, / OE
The flash write cycle is set by setting 104 and the DSF 107 to high and / WE103 to low, and at the same time, the row address 108 for writing the data stored in the load color cycle is input. At this time, W / IOn is set high (non-mask) for the plane to which data is written, and W / IOn is set low (mask) for the plane not to be written. The plane here means each I / at the time of random access.
It means a memory cell array corresponding to O. Next, after the word line of each plane (each memory cell array) is activated by the designated row address, the data in the flash write data register 132 is transferred to the sense amplifier 127 of the non-mask plane, The data is written in the memory cell. In the masked plane, the flash write data register 1
The data in 32 is not transferred, but the data read to the bit line is amplified by the sense amplifier 127 and restored in the memory cell. Finally, / RAS101 is set high and precharge is performed to enter the standby state.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成では、メモリセルアレイ内の全てのメモリセル
に同一データを書き込む場合、行アドレスの数(活性化
するワード線数)の/RASサイクルを繰り返さなければな
らないので、当然プリチャージも上記回数だけ行うこと
になり、ランダムアクセスによる同一データの書き込み
よりは高速であるけれども、トータルの書き込み時間は
かなり大きくなリ、今後さらにメモリ容量の大容量化が
進むと、書き込み時間はますます大きくなるという問題
点を有していた。また、メモリセルアレイに対してある
一定のデータパターン(例えば、メモリ試験時に用いる
チェッカパターン等のテストパターン)を書き込むこと
は、上記のような構成では実現することができないとい
う問題点も有していた。
However, in the above configuration, when writing the same data to all the memory cells in the memory cell array, the / RAS cycle of the number of row addresses (the number of activated word lines) is repeated. Since it must be done, of course, precharging is also performed the above number of times, which is faster than writing the same data by random access, but the total writing time is considerably longer, and the memory capacity will be further increased in the future. As the process progresses, the writing time becomes longer and longer. Further, there is a problem that writing a certain data pattern (for example, a test pattern such as a checker pattern used at the time of a memory test) into the memory cell array cannot be realized with the above configuration. .

【0011】本発明は上記問題点に鑑み、高速に同一デ
ータもしくはデータパターンの書き込みが行える半導体
記憶装置を提供するものである。
In view of the above problems, the present invention provides a semiconductor memory device capable of writing the same data or data pattern at high speed.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】また、本発明の請求項1
に係る半導体記憶装置は、複数本のワード線と複数本の
ビット線とを有するメモリセルアレイと、前記ワード線
を選択する行デコーダと、前記ビット線に接続するセン
スアンプ列とを備えた半導体記憶装置において、所定の
モード設定のもと、1回の/RASサイクル内で、/RAS入力
時に指定されたアドレスによりワード線を活性化し、前
記ワード線上のメモリセルのデータを前記センスアンプ
列に読み出し、一定時間後、異なる1本もしくは複数本
のワード線を活性化することにより、前記1本もしくは
複数本のワード線上のメモリセルに前記データを書き込
むような構成をとることを特徴とするものである。
Further, a first aspect of the present invention is provided.
According to another aspect of the semiconductor memory device of the present invention, the semiconductor memory device includes a memory cell array having a plurality of word lines and a plurality of bit lines, a row decoder for selecting the word lines, and a sense amplifier column connected to the bit lines. In the device, under a predetermined mode setting, within one / RAS cycle, the word line is activated by the address specified at the / RAS input, and the data of the memory cell on the word line is read to the sense amplifier row. After a certain period of time, different one or a plurality of word lines are activated to write the data to the memory cells on the one or a plurality of word lines. is there.

【0013】また、本発明の請求項2に係る半導体記憶
装置は、複数本のワード線と複数本のビット線とを有す
るメモリセルアレイと、前記ワード線を選択する行デコ
ーダと、前記ビット線に接続するセンスアンプ列とを複
数組備えた半導体記憶装置において、所定のモード設定
のもと、1回の/RASサイクル内で、/RAS入力時に指定さ
れたアドレスにより選択されたメモリセルアレイ内のワ
ード線及び、前記選択メモリセルアレイに接続されるセ
ンスアンプ列を活性化し、同時に、非選択メモリセルア
レイにおいては1本もしくは複数本のワード線を活性化
し、前記選択メモリセルアレイ内のワード線上のメモリ
セルのデータをセンスアンプ列に読み出した後、前記非
選択メモリセルアレイに接続されるセンスアンプ列に前
記データを転送し、一定時間後、前記非選択メモリセル
アレイに接続されるセンスアンプ列を活性化することに
より、前記1本もしくは複数本のワード線上のメモリセ
ルに前記データを書き込むような構成をとることを特徴
とするものである。
According to a second aspect of the present invention, a semiconductor memory device has a memory cell array having a plurality of word lines and a plurality of bit lines, a row decoder for selecting the word lines, and a bit line. In a semiconductor memory device having a plurality of sets of sense amplifiers to be connected, a word in a memory cell array selected by an address specified at the time of / RAS input in one / RAS cycle under a predetermined mode setting. Line and a sense amplifier column connected to the selected memory cell array, and at the same time activate one or a plurality of word lines in the non-selected memory cell array, to activate the memory cells on the word line in the selected memory cell array. After reading the data to the sense amplifier row, transfer the data to the sense amplifier row connected to the non-selected memory cell array, After a fixed time, the sense amplifier row connected to the non-selected memory cell array is activated to write the data to the memory cells on the one or more word lines. It is a thing.

【0014】また、本発明の請求項3に係る半導体記憶
装置は、複数本のワード線と複数本のビット線とを有す
るメモリセルアレイ及び前記ワード線を選択する行デコ
ーダをセンスアンプ列の左右に配置し、前記センスアン
プ列をシェアードスイッチを介して前記左右のメモリセ
ルアレイのビット線に接続する半導体記憶装置におい
て、所定のモード設定のもと、1回の/RASサイクル内
で、/RAS入力時に指定されたアドレスにより選択された
メモリセルアレイ内のワード線を活性化し、非選択メモ
リセルアレイにおいても1本もしくは複数本のワード線
を活性化し、同時に、非選択メモリセルアレイと前記セ
ンスアンプ列を接続するシェアードスイッチ制御線を非
活性化した後、前記選択メモリセルアレイ内のワード線
上のメモリセルのデータをセンスアンプ列に読み出し、
一定時間後、前記非選択メモリセルアレイと前記センス
アンプ列とを接続するシェアードスイッチ制御線を活性
化することにより、前記1本もしくは複数本のワード線
上のメモリセルに前記データを書き込むような構成をと
ることを特徴とするものである。
In a semiconductor memory device according to a third aspect of the present invention, a memory cell array having a plurality of word lines and a plurality of bit lines and row decoders for selecting the word lines are provided on the left and right of the sense amplifier column. In a semiconductor memory device in which the sense amplifier row is arranged and connected to the bit lines of the left and right memory cell arrays via a shared switch, under a predetermined mode setting, within one / RAS cycle, at the time of / RAS input The word line in the memory cell array selected by the designated address is activated, and also one or more word lines are activated in the non-selected memory cell array, and at the same time, the non-selected memory cell array and the sense amplifier row are connected. After deactivating the shared switch control line, the data of the memory cell on the word line in the selected memory cell array Read to the sense amplifier array,
After a certain period of time, by activating a shared switch control line that connects the non-selected memory cell array and the sense amplifier row, the data is written in the memory cells on the one or more word lines. It is characterized by taking.

【0015】また、本発明の請求項4に係る半導体記憶
装置は、複数本のワード線と複数本のビット線とを有す
るメモリセルアレイ及び前記ワード線を選択する行デコ
ーダをセンスアンプ列の左右に配置し、前記センスアン
プ列をシェアードスイッチを介して前記左右のメモリセ
ルアレイのビット線に接続する半導体記憶装置におい
て、所定のモード設定のもと、1回の/RASサイクル内
で、/RAS入力時に指定されたアドレスにより選択された
メモリセルアレイ内のワード線を活性化し、前記選択メ
モリセルアレイと前記センスアンプ列を接続するシェア
ードスイッチ制御線及び非選択メモリセルアレイと前記
センスアンプ列とを接続するシェアードスイッチ制御線
を活性化し続けて、前記選択メモリセルアレイ内のワー
ド線上のメモリセルのデータをセンスアンプ列に読み出
し、一定時間後、前記非選択メモリセルアレイにおい
て、1本もしくは複数本のワード線を活性化することに
より、前記1本もしくは複数本のワード線上のメモリセ
ルに前記データを書き込むような構成をとることを特徴
とするものである。
In the semiconductor memory device according to a fourth aspect of the present invention, a memory cell array having a plurality of word lines and a plurality of bit lines and row decoders for selecting the word lines are provided on the left and right of the sense amplifier column. In a semiconductor memory device in which the sense amplifier row is arranged and connected to the bit lines of the left and right memory cell arrays via a shared switch, under a predetermined mode setting, within one / RAS cycle, at the time of / RAS input A shared switch control line that activates a word line in a memory cell array selected by a designated address and connects the selected memory cell array and the sense amplifier row and a shared switch that connects a non-selected memory cell array and the sense amplifier row. Continuing to activate the control lines, the memory cells on the word lines in the selected memory cell array are deactivated. Data to the sense amplifier column, and after a certain time, in the non-selected memory cell array, one or more word lines are activated to store the data in the memory cells on the one or more word lines. It is characterized in that it has a writing structure.

【0016】また、本発明の請求項5に係る半導体記憶
装置は、複数本のワード線と複数本のビット線とを有す
るメモリセルアレイを備えた半導体記憶装置において、
前記ビット線とVDD線及びVSS線に接続するスイッチを設
け、所定のモード設定のもと、1回の/RASサイクル内
で、/RAS入力後に前記ビット線をVDD線もしくはVSS線に
接続し、前記メモリセルアレイ内において1本もしくは
複数本のワード線を活性化することにより、前記1本も
しくは複数本のワード線上のメモリセルに対し、ハイレ
ベルもしくはローレベルのデータの一括書き込みを行う
ような構成をとることを特徴とするものである。
A semiconductor memory device according to a fifth aspect of the present invention is a semiconductor memory device including a memory cell array having a plurality of word lines and a plurality of bit lines,
A switch for connecting to the bit line and the VDD line and the VSS line is provided, and the bit line is connected to the VDD line or the VSS line after / RAS input within one / RAS cycle under a predetermined mode setting, A configuration in which high-level or low-level data is collectively written to memory cells on the one or more word lines by activating one or more word lines in the memory cell array It is characterized by taking.

【0017】[0017]

【作用】本発明の請求項1、2、3、4の構成により、
メモリセルアレイ内の全てのメモリセルに同一データを
書き込む場合、1回の/RASサイクルで書き込みを完了さ
せることもできるので、書き込み動作時間を、従来のフ
ラッシュライト機能に比較して、約1/(全ワード数)
にすることができる。さらに、メモリセルアレイに対し
てのある一定のデータパターンの書き込みも行うことが
でき、かつ書き込み動作時間も、ランダムアクセスによ
る書き込み時間の約1/(同時に書き込まれるビット数
×全ワード数/データパターン1組に必要なワード数)
にすることができる。
According to the constitutions of claims 1, 2, 3, and 4 of the present invention,
When the same data is written to all the memory cells in the memory cell array, the writing can be completed in one / RAS cycle, so the write operation time is about 1 / (compared to the conventional flash write function. (Total number of words)
Can be Furthermore, it is possible to write a certain data pattern to the memory cell array, and the write operation time is about 1 / (the number of bits simultaneously written × the total number of words / data pattern 1) of the write time by random access. Number of words required for group)
Can be

【0018】さらに本発明の請求項5の構成により、メ
モリセルアレイ内の全てのメモリセルに同一データを書
き込む場合、1回の/RASサイクルで書き込みを完了させ
ることもできるので、書き込み動作時間を、従来のフラ
ッシュライト機能に比較して、約1/(全ワード数)に
することができる。
Further, according to the configuration of claim 5 of the present invention, when the same data is written in all the memory cells in the memory cell array, the writing can be completed in one / RAS cycle, so that the write operation time is It can be reduced to about 1 / (total number of words) as compared with the conventional flash write function.

【0019】[0019]

【実施例】本発明の実施例を図面を用いて説明する。Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0020】まず、図1に一般的なデュアルポートメモ
リのブロック構成図を示す。図1において、101は/R
AS、102は/CAS、103は/WE、104は/OEである。
また108はアドレス(A0〜A8)、109はデータ入出
力信号(IO0〜IO3)である。122はアドレスバッフ
ァ、119はメモリセルアレイ、124は前記メモリセ
ルアレイ119内のワード線を選択する行デコーダ、1
25は前記メモリセルアレイ119内のビット線が接続
されているセンスアンプ127を選択する列デコーダ、
130は前記センスアンプ127と外部との間でランダ
ムにデータを入出力するデータ入出力バッファである。
121はタイミング発生回路で、101〜107の信号
が入力し、図中の各回路ブロック122〜131を制御
する信号を発生するタイミング発生回路である。本構成
は、本発明の全実施例に共通である。
First, FIG. 1 shows a block diagram of a general dual port memory. In FIG. 1, 101 is / R
AS, 102 is / CAS, 103 is / WE, and 104 is / OE.
Reference numeral 108 is an address (A0 to A8), and 109 is a data input / output signal (IO0 to IO3). 122 is an address buffer, 119 is a memory cell array, 124 is a row decoder for selecting a word line in the memory cell array 119, 1
Reference numeral 25 is a column decoder for selecting the sense amplifier 127 to which the bit line in the memory cell array 119 is connected,
Reference numeral 130 is a data input / output buffer for randomly inputting / outputting data between the sense amplifier 127 and the outside.
Reference numeral 121 denotes a timing generation circuit, which is a timing generation circuit which receives signals 101 to 107 and generates signals for controlling the circuit blocks 122 to 131 in the figure. This configuration is common to all the embodiments of the present invention.

【0021】(実施例1)図2に本発明の実施例1にお
ける半導体記憶装置のメモリセルアレイ、センスアン
プ、行デコーダからなるコア部のブロック構成図を示
す。図2において、メモリセルアレイ119は、行デコ
ーダ124により選択されるn本のワード線WL(1)20
1〜WL(n)210とセンスアンプ127と接続されるm
組のビット線対BLP(1)211〜BLP(m)214から構成さ
れ、m×n個のメモリセル120を配置してある。23
0はセンスアンプ活性化信号(以下、SE)であリ、図1
のタイミング発生回路121において、前記センスアン
プ127を活性化するように設定される信号である。本
実施例では所定のモード設定(一括書き込み機能設定)
時のデータ一括書き込み時に、行デコーダ124は複数
本のワード線を同時に活性化するように制御される。
(Embodiment 1) FIG. 2 shows a block diagram of a core portion including a memory cell array, a sense amplifier, and a row decoder of a semiconductor memory device according to Embodiment 1 of the present invention. In FIG. 2, the memory cell array 119 has n word lines WL (1) 20 selected by the row decoder 124.
1 to WL (n) 210 and sense amplifier 127 are connected m
A set of bit line pairs BLP (1) 211 to BLP (m) 214 are formed, and m × n memory cells 120 are arranged. 23
0 is a sense amplifier activation signal (SE), as shown in FIG.
In the timing generation circuit 121, the signal is set so as to activate the sense amplifier 127. In this embodiment, a predetermined mode setting (batch writing function setting)
At the time of batch writing of data, the row decoder 124 is controlled to activate a plurality of word lines at the same time.

【0022】以上のように構成された本実施例の半導体
記憶装置における全メモリセルへの同一データ書き込み
動作のタイミングチャートを図3に示す。以下にその動
作を説明する。まず、予め書き込み用のデータをWL(1)
201上のメモリセル120に書き込んでおき、所定の
モード設定を行う。次に/RAS101をアクティブにし、
外部より指定したアドレスによりWL(1)201を活性化
した後、SE230をアクティブにして、BLP(1)211〜
BLP(m)214を介してセンスアンプ127にデータを読
み出す(データ読み出し)。そして、一括してWL(2)2
02〜WL(n)210を活性化し、センスアンプに保持し
ておいたデータによって、各ワード線上のメモリセル1
20にデータを書き込む(一括書き込み)。最後に、所
定のモード解除を行い、/RAS101の立ち上がりでワー
ド線、SE230をリセットする。
FIG. 3 shows a timing chart of the same data write operation to all the memory cells in the semiconductor memory device of this embodiment having the above-mentioned structure. The operation will be described below. First, write data in advance with WL (1)
Data is written in the memory cell 120 on 201 and a predetermined mode is set. Then activate / RAS101,
After activating WL (1) 201 with an externally specified address, SE 230 is activated and BLP (1) 211-
Data is read to the sense amplifier 127 via the BLP (m) 214 (data reading). Then, collectively WL (2) 2
02-WL (n) 210 is activated, and the data stored in the sense amplifier is used for the memory cell 1 on each word line.
Write data to 20 (batch write). Finally, the predetermined mode is released, and the word line and SE230 are reset at the rising edge of / RAS101.

【0023】以上のように本実施例によれば、所定のモ
ード設定のもとデータ読み出し後、一括書き込み時に複
数本のワード線を同時に活性化することにより、メモリ
セルアレイ内の全てのメモリセルに同一データを書き込
む場合、1回の/RASサイクルで完了するので、従来のフ
ラッシュライト機能に比較して、トータルの書き込み時
間を約1/(全ワード数)にすることができる。さら
に、メモリセルアレイに対してのある一定のデータパタ
ーンの書き込みも行うことができ、かつ書き込み動作時
間も、ランダムアクセスによる書き込み時間の約1/
(同時に書き込まれるビット数×全ワード数/データパ
ターン1組に必要なワード数)にすることができる。
As described above, according to this embodiment, all the memory cells in the memory cell array are activated by simultaneously activating a plurality of word lines at the time of batch writing after reading data under a predetermined mode setting. When writing the same data, since it is completed in one / RAS cycle, the total write time can be reduced to about 1 / (total number of words) as compared with the conventional flash write function. Furthermore, it is possible to write a certain data pattern to the memory cell array, and the write operation time is about 1 / l of the write time by random access.
(Number of bits written simultaneously × total number of words / number of words required for one data pattern set).

【0024】(実施例2)図4に本発明の実施例2にお
ける半導体記憶装置のメモリセルアレイ、センスアン
プ、行デコーダからなるコア部のブロック構成図を示
す。図4において、図2と同一の機能を有するものは同
一の番号を付し説明を省略する。240はメモリセルア
レイ119a、119b間のデータ転送に使われるデー
タ転送線で、ビット線対と同数配置してある。250
a、250bは各メモリコア部のセンスアンプを選択す
るコラム選択線(以下、Y)で、本実施例では所定のモ
ード設定(一括書き込み機能設定)時に、センスアンプ
の一括選択を行う。
(Embodiment 2) FIG. 4 shows a block diagram of a core portion including a memory cell array, a sense amplifier and a row decoder of a semiconductor memory device according to Embodiment 2 of the present invention. In FIG. 4, those having the same functions as those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. Reference numeral 240 denotes a data transfer line used for data transfer between the memory cell arrays 119a and 119b, the number of which is the same as that of bit line pairs. 250
Reference numerals a and 250b are column selection lines (hereinafter, Y) for selecting the sense amplifiers of the respective memory cores, and in the present embodiment, the sense amplifiers are collectively selected when a predetermined mode is set (batch write function setting).

【0025】以上のように構成された本実施例の半導体
記憶装置における全メモリセルへの同一データ書き込み
動作のタイミングチャートを図5に示す。以下にその動
作を説明する。まず、予め書き込み用のデータをメモリ
セルアレイ119a内のWL(1)201a上のメモリセル
120に書き込んでおき、所定のモード設定を行う。次
に/RAS101をアクティブにし、外部より指定したアド
レスによりメモリセルアレイ119a内のWL(1)201
aを活性化し、同時にメモリセルアレイ119b内のWL
(1)201b〜WL(n)210bを活性化しておく。その後
SE230aをアクティブにして、メモリセルアレイ11
9a内のWL(1)201a上のデータを、BLP(1)211a
〜BLP(m)214aを介してセンスアンプ127aにデー
タを読み出した後、Y250aを全選択状態にしてデー
タ転送線240に転送する(データ読み出し)。そして
メモリセルアレイ119bにおいて、Y250bを全選
択状態にしてBLP(1)211b〜BLP(m)214bとデータ
転送線240を接続し、SE230bをアクティブにし
て、メモリセルアレイ119b内の各ワード線上のメモ
リセル120にデータを書き込む(一括書き込みサイク
ル)。最後に、所定のモード解除を行い、/RAS101の
立ち上がりでSE230a、230bをリセットする。
FIG. 5 shows a timing chart of the same data write operation to all memory cells in the semiconductor memory device of the present embodiment having the above-mentioned structure. The operation will be described below. First, write data is written in advance in the memory cell 120 on the WL (1) 201a in the memory cell array 119a to set a predetermined mode. Next, / RAS101 is activated, and WL (1) 201 in the memory cell array 119a is activated by an externally specified address.
a is activated and at the same time WL in the memory cell array 119b is activated.
(1) 201b to WL (n) 210b are activated. afterwards
The SE 230a is activated to activate the memory cell array 11
Data on WL (1) 201a in 9a is converted to BLP (1) 211a
After reading the data to the sense amplifier 127a via the BLP (m) 214a, the Y250a is transferred to the data transfer line 240 in the fully selected state (data read). Then, in the memory cell array 119b, the Y250b is fully selected to connect the BLP (1) 211b to BLP (m) 214b to the data transfer line 240, and the SE 230b is activated to activate the memory cells on each word line in the memory cell array 119b. Data is written to 120 (collective write cycle). Finally, the predetermined mode is released, and SE 230a and 230b are reset at the rising edge of / RAS101.

【0026】以上のように本実施例によれば、所定のモ
ード設定のもとデータ読み出し後、一括書き込み時に複
数本のワード線を同時に活性化することにより、メモリ
セルアレイ内の全てのメモリセルに同一データを書き込
む場合、1回の/RASサイクルで完了するので、従来のフ
ラッシュライト機能に比較して、トータルの書き込み時
間を約1/(全ワード数)にすることができる。さら
に、メモリセルアレイに対してのある一定のデータパタ
ーンの書き込みも行うことができ、かつ書き込み動作時
間も、ランダムアクセスによる書き込み時間の約1/
(同時に書き込まれるビット数×全ワード数/データパ
ターン1組に必要なワード数)にすることができる。
As described above, according to this embodiment, all the memory cells in the memory cell array are activated by simultaneously activating a plurality of word lines at the time of batch writing after reading data under a predetermined mode setting. When writing the same data, since it is completed in one / RAS cycle, the total write time can be reduced to about 1 / (total number of words) as compared with the conventional flash write function. Furthermore, it is possible to write a certain data pattern to the memory cell array, and the write operation time is about 1 / l of the write time by random access.
(Number of bits written simultaneously × total number of words / number of words required for one data pattern set).

【0027】(実施例3)図6に本発明の実施例3にお
ける半導体記憶装置のメモリセルアレイ、センスアン
プ、行デコーダからなるコア部のブロック構成図を示
す。図6において、図2と同一の機能を有するものは同
一の番号を付し説明を省略する。本実施例の構成は、メ
モリセルアレイ119a、119bをセンスアンプ12
7の左右に配置し、シェアードスイッチ137a、13
7bを介して、センスアンプと各メモリセルアレイのビ
ット線を接続してある。前記シェアードスイッチ137
a、137bは、シェアードスイッチ制御信号(L)
(以下、SSL)260a及びシェアードスイッチ制御信
号(R)(以下、SSR)260bにより制御される。そ
の動作は、通常、/RASが非活性時(待機時)にはプリチ
ャージのためセンスアンプと左右のメモリセルアレイを
同時に接続するが、/RASが活性時(動作時)には選択メ
モリセルアレイとのみセンスアンプを接続し、データの
読み書きを行うものである。本実施例において前記シェ
アードスイッチ137a、137bは、所定のモード設
定(一括書き込み機能設定)時のデータ一括書き込み時
に、センスアンプと左右メモリセルアレイの同時接続を
行うことを特徴とする。
(Embodiment 3) FIG. 6 shows a block diagram of a core portion including a memory cell array, a sense amplifier, and a row decoder of a semiconductor memory device according to Embodiment 3 of the present invention. 6, those having the same functions as those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. In the configuration of this embodiment, the memory cell arrays 119a and 119b are connected to the sense amplifier 12.
7 are arranged on the left and right, and shared switches 137a, 13
The sense amplifier and the bit line of each memory cell array are connected via 7b. The shared switch 137
a and 137b are shared switch control signals (L)
It is controlled by (hereinafter, SSL) 260a and shared switch control signal (R) (hereinafter, SSR) 260b. Normally, when / RAS is inactive (standby), the sense amplifier and the left and right memory cell arrays are connected at the same time for precharging, but when / RAS is active (operating), the selected memory cell array is connected. Only the sense amplifier is connected to read and write data. In the present embodiment, the shared switches 137a and 137b are characterized in that the sense amplifier and the left and right memory cell arrays are simultaneously connected when data is collectively written in a predetermined mode setting (collective writing function setting).

【0028】次に図6におけるシェアードセンスアンプ
136の回路例を図7に示す。センスアンプ136はシ
ェアードスイッチ137a、137b、ラッチ型検知増
幅器及びビット線イコライズ/プリチャージ信号(以
下、EQ)231により制御されるビット線イコライズ/
プリチャージ回路から構成され、前記ラッチ型検知増幅
器のソースは、SE230により制御されるセンスアンプ
ドライバ135によって駆動される。
Next, FIG. 7 shows a circuit example of the shared sense amplifier 136 in FIG. The sense amplifier 136 includes shared switches 137a and 137b, a latch type sense amplifier, and a bit line equalize / precharge signal (hereinafter referred to as EQ) 231 which controls the bit line equalize /
A source of the latch type sense amplifier, which is composed of a precharge circuit, is driven by a sense amplifier driver 135 controlled by the SE 230.

【0029】以上のように構成された本実施例の半導体
記憶装置における全メモリセルへの同一データ書き込み
動作のタイミングチャートを図8に示す。以下にその動
作を説明する。まず、予め書き込み用のデータをメモリ
セルアレイ119a内のWL(1)201a上のメモリセル
120に書き込んでおき、所定のモード設定を行う。次
に/RAS101をアクティブにし、外部より指定したアド
レスによりメモリセルアレイ119a内のWL(1)201
aを活性化し、同時にメモリセルアレイ119b内のWL
(1)201b〜WL(n)210bを活性化し、EQ231、SS
R260bを非活性化させる。その後SE230をアクテ
ィブにして、メモリセルアレイ119a内のWL(1)20
1a上のデータをBLP(1)211a〜BLP(m)214aを介
してセンスアンプ127にデータを読み出す(データ読
み出し)。そしてデータ読み出し確定後、SSR260b
を活性化してメモリセルアレイ119bとセンスアンプ
127を接続し、メモリセルアレイ119b内の各ワー
ド線上のメモリセル120に前記データを書き込む(一
括書き込み)。最後に、所定のモード解除を行い、/RAS
101の立ち上がりでSE230をリセットし、EQ231
を活性化させる。
FIG. 8 shows a timing chart of the same data write operation to all memory cells in the semiconductor memory device of the present embodiment having the above-mentioned structure. The operation will be described below. First, write data is written in advance in the memory cell 120 on the WL (1) 201a in the memory cell array 119a to set a predetermined mode. Next, / RAS101 is activated, and WL (1) 201 in the memory cell array 119a is activated by an externally specified address.
a is activated and at the same time WL in the memory cell array 119b is activated.
(1) 201b to WL (n) 210b are activated, EQ231, SS
R260b is inactivated. After that, the SE 230 is activated and the WL (1) 20 in the memory cell array 119a is activated.
The data on 1a is read to the sense amplifier 127 via the BLP (1) 211a to BLP (m) 214a (data reading). After confirming the data reading, SSR260b
Are activated to connect the memory cell array 119b and the sense amplifier 127, and the data is written to the memory cells 120 on each word line in the memory cell array 119b (collective writing). Finally, release the specified mode and / RAS
At the rising edge of 101, SE230 is reset and EQ231
Activate.

【0030】以上のように本実施例によれば、所定のモ
ード設定のもとデータ読み出し後、一括書き込み時に複
数本のワード線を同時に活性化することにより、メモリ
セルアレイ内の全てのメモリセルに同一データを書き込
む場合、1回の/RASサイクルで完了するので、従来のフ
ラッシュライト機能に比較して、トータルの書き込み時
間を約1/(全ワード数)にすることができる。さら
に、メモリセルアレイに対してのある一定のデータパタ
ーンの書き込みも行うことができ、かつ書き込み動作時
間も、ランダムアクセスによる書き込み時間の約1/
(同時に書き込まれるビット数×全ワード数/データパ
ターン1組に必要なワード数)にすることができる。
As described above, according to the present embodiment, all the memory cells in the memory cell array are activated by simultaneously activating a plurality of word lines at the time of batch writing after reading data under a predetermined mode setting. When writing the same data, since it is completed in one / RAS cycle, the total write time can be reduced to about 1 / (total number of words) as compared with the conventional flash write function. Furthermore, it is possible to write a certain data pattern to the memory cell array, and the write operation time is about 1 / l of the write time by random access.
(Number of bits written simultaneously × total number of words / number of words required for one data pattern set).

【0031】(実施例4)本発明の実施例4における半
導体記憶装置の構成のうち実施例3と異なる点のみ述べ
る。基本的な構成は図6、図7のとおりであるが、本実
施例では所定のモード設定(一括書き込み機能設定)時
に、シェアードスイッチ137a、137bが、/RAS1
01の状態に関わらず、メモリセルアレイと常に接続す
るように制御される。
(Embodiment 4) Only the points of the configuration of the semiconductor memory device according to Embodiment 4 of the present invention which are different from those of Embodiment 3 will be described. The basic configuration is as shown in FIGS. 6 and 7, but in this embodiment, the shared switches 137a and 137b are set to / RAS1 when a predetermined mode is set (batch write function setting).
Regardless of the state of 01, it is controlled so as to always connect to the memory cell array.

【0032】以上のように構成された本実施例の半導体
記憶装置における全メモリセルへの同一データ書き込み
動作のタイミングチャートを図9に示す。以下にその動
作を説明する。まず、予め書き込み用のデータをメモリ
セルアレイ119a内のWL(1)201a上のメモリセル
120に書き込んでおき、所定のモード設定を行う。次
に/RAS101をアクティブにし、外部より指定したアド
レスによりメモリセルアレイ119a内のWL(1)201
aを活性化し、同時にEQ231を非活性化させる。その
後SE230をアクティブにして、メモリセルアレイ11
9a内のWL(1)201a上のデータをBLP(1)211a〜B
LP(m)214aを介してセンスアンプ127にデータを
読み出す(データ読み出し)。この時SSR260bは活
性化したままなので、メモリセルアレイ119b内のBL
P(1)211b〜BLP(m)214bに前記データが書き込ま
れる。そしてデータ読み出し確定後、メモリセルアレイ
119b内のWL(1)201b〜WL(n)210bを活性化
し、メモリセルアレイ119b内の各ワード線上のメモ
リセル120に前記データを書き込む(一括書き込
み)。最後に、所定のモード解除を行い、/RAS101の
立ち上がりでSE230をリセットとし、EQ231を活性
化させる。
FIG. 9 shows a timing chart of the same data write operation to all memory cells in the semiconductor memory device of the present embodiment having the above-mentioned structure. The operation will be described below. First, write data is written in advance in the memory cell 120 on the WL (1) 201a in the memory cell array 119a to set a predetermined mode. Next, / RAS101 is activated, and WL (1) 201 in the memory cell array 119a is activated by an externally specified address.
Activates a and simultaneously deactivates EQ231. After that, the SE 230 is activated and the memory cell array 11
Data on WL (1) 201a in 9a is transferred to BLP (1) 211a-B
Data is read to the sense amplifier 127 via the LP (m) 214a (data reading). At this time, the SSR 260b is still activated, so the BL in the memory cell array 119b is
The data is written in P (1) 211b to BLP (m) 214b. After the data reading is confirmed, WL (1) 201b to WL (n) 210b in the memory cell array 119b are activated, and the data is written to the memory cells 120 on each word line in the memory cell array 119b (collective writing). Finally, the predetermined mode is released, SE230 is reset at the rising edge of / RAS101, and EQ231 is activated.

【0033】以上のように本実施例によれば、所定のモ
ード設定のもとデータ読み出し後、一括書き込み時に複
数本のワード線を同時に活性化することにより、メモリ
セルアレイ内の全てのメモリセルに同一データを書き込
む場合、1回の/RASサイクルで完了するので、従来のフ
ラッシュライト機能に比較して、トータルの書き込み時
間を約1/(全ワード数)にすることができる。さら
に、メモリセルアレイに対してのある一定のデータパタ
ーンの書き込みも行うことができ、かつ書き込み動作時
間も、ランダムアクセスによる書き込み時間の約1/
(同時に書き込まれるビット数×全ワード数/データパ
ターン1組に必要なワード数)にすることができる。
As described above, according to the present embodiment, all the memory cells in the memory cell array are activated by simultaneously activating a plurality of word lines at the time of batch writing after reading data under a predetermined mode setting. When writing the same data, since it is completed in one / RAS cycle, the total write time can be reduced to about 1 / (total number of words) as compared with the conventional flash write function. Furthermore, it is possible to write a certain data pattern to the memory cell array, and the write operation time is about 1 / l of the write time by random access.
(Number of bits written simultaneously × total number of words / number of words required for one data pattern set).

【0034】(実施例5)図10に本発明の実施例5に
おける半導体記憶装置のブロック構成図を示す。図10
において、図2と同一の機能を有するものは同一の番号
を付し説明を省略する。138は、ビット線対BLP(1)2
11〜BLP(m)214とVDD線及びVSS線とを接続する書き
込み電源選択スイッチブロックで、VDDスイッチ制御信
号233及びVSSスイッチ制御信号234により制御さ
れる。
(Fifth Embodiment) FIG. 10 shows a block diagram of a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention. Figure 10
2 having the same functions as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. 138 is a bit line pair BLP (1) 2
A write power supply selection switch block that connects the 11 to BLP (m) 214 and the VDD line and the VSS line is controlled by the VDD switch control signal 233 and the VSS switch control signal 234.

【0035】前記書き込み電源選択スイッチブロック1
38内の1ビット分の書き込み電源選択スイッチ139
の詳細を図11に示す。図11において、書き込み電源
選択スイッチ139は、VDDスイッチ制御信号233を
ゲートに、VDD線をソースに、BL(1)211−1をドレ
インに接続したPMOSFETと、VSSスイッチ制御信号234
の反転信号をゲートに、VDD線をソースに、/BL(1)21
1−2をドレインに接続したPMOSFETの直列接続、及
び、VSSスイッチ制御信号234をゲートに、VSS線をソ
ースに、BL(1)211−1をドレインに接続したNMOSFE
TとVDDスイッチ制御信号233の反転信号をゲートに、
VSS線をソースに、/BL(1)211−2をドレインに接続
したNMOSFETの直列接続で構成されたものである。
Write power source selection switch block 1
Write power source selection switch 139 for 1 bit in 38
The details are shown in FIG. In FIG. 11, the write power supply selection switch 139 includes a PMOSFET in which the VDD switch control signal 233 is connected to the gate, the VDD line is connected to the source, and the BL (1) 211-1 is connected to the drain, and the VSS switch control signal 234.
/ BL (1) 21 is the inverted signal of
A series connection of PMOSFETs in which 1-2 is connected to the drain, and an NMOSFE in which the VSS switch control signal 234 is connected to the gate, the VSS line is connected to the source, and BL (1) 211-1 is connected to the drain.
The inverted signal of T and VDD switch control signal 233 is used as a gate,
It is configured by a series connection of NMOSFETs in which the VSS line is connected to the source and / BL (1) 211-2 is connected to the drain.

【0036】以上のように構成された本実施例の半導体
記憶装置における全メモリセルへのハイ/ロー一括書き
込み動作のタイミングチャートを図12に示す。以下に
その動作を説明する。まず、所定のモード設定を行う。
次に/RAS101をアクティブにし、外部より書き込むデ
ータの論理を指定する。ビット線イコライズ/プリチャ
ージを解除すると同時に、前記データ論理に基づいてVD
Dスイッチ制御信号233あるいはVSSスイッチ制御信号
234のいずれかを活性化する。これによりビット線対
BLP(1)211〜BLP(m)214は全てハイレベルかローレ
ベルのいずれかのデータが書き込まれる。そして全ワー
ド線WL(1)201〜WL(n)210を同時に活性化し、ハイ
レベルかローレベルのデータを一括に書き込む(一括書
き込み)。最後に、所定のモード解除を行い、/RAS10
1の立ち上がりでビット線イコライズ/プリチャージを
行う。
FIG. 12 shows a timing chart of the high / low batch write operation to all the memory cells in the semiconductor memory device of this embodiment configured as described above. The operation will be described below. First, a predetermined mode setting is performed.
Next, / RAS101 is activated and the logic of data to be written is specified from the outside. At the same time as releasing the bit line equalize / precharge, VD based on the data logic
Either the D switch control signal 233 or the VSS switch control signal 234 is activated. This allows bit line pairs
BLP (1) 211 to BLP (m) 214 are all written with either high level data or low level data. Then, all the word lines WL (1) 201 to WL (n) 210 are activated at the same time, and high-level or low-level data is collectively written (collective writing). Finally, release the specified mode, / RAS10
Bit line equalization / precharge is performed at the rising edge of 1.

【0037】以上のように本実施例によれば、所定のモ
ード設定のもと、メモリセルアレイ内の全てのメモリセ
ルに同一データを書き込む場合、1回の/RASサイクルで
書き込みを完了させることもできるので、書き込み動作
時間を、従来のフラッシュライト機能に比較して、約1
/(全ワード数)にすることができる。
As described above, according to the present embodiment, when the same data is written in all the memory cells in the memory cell array under the predetermined mode setting, the writing can be completed in one / RAS cycle. Therefore, the write operation time is about 1 time compared to the conventional flash write function.
It can be / (total number of words).

【0038】(実施例6)図13に本発明の実施例6に
おける半導体記憶装置のブロック構成図を示す。図13
において、図12と同一の機能を有するものは同一の番
号を付し説明を省略する。140は、ビット線対BLP(1)
211〜BLP(m)214とVDDより高い電圧に昇圧された
電源(以下、VPP)線及びVSS線とを接続する書き込み電
源選択スイッチブロックで、VPPスイッチ制御信号23
5及びVSSスイッチ制御信号234により制御される。
(Sixth Embodiment) FIG. 13 shows a block diagram of a semiconductor memory device according to a sixth embodiment of the present invention. FIG.
In FIG. 12, those having the same functions as those in FIG. 140 is a bit line pair BLP (1)
211 to BLP (m) 214 and a power supply (hereinafter, VPP) line boosted to a voltage higher than VDD and a VSS power supply select switch block for connecting the VPP switch control signal 23.
5 and VSS switch control signal 234.

【0039】前記書き込み電源選択スイッチブロック1
40内の1ビット分の書き込み電源選択スイッチ141
の詳細を図14に示す。図14において、書き込み電源
選択スイッチ141は、VPPスイッチ制御信号235を
ゲートに、VPP線をソースに、BL(1)211−1をドレ
インに接続したNMOSFETと、VSSスイッチ制御信号234
をゲートに、VPP線をソースに、/BL(1)211−2をド
レインに接続したNMOSFETの直列接続、及び、VSSスイッ
チ制御信号234をゲートに、VSS線をソースに、BL
(1)211−1をドレインに接続したNMOSFETとVPPスイ
ッチ制御信号235をゲートに、VSS線をソースに、/BL
(1)211−2をドレインに接続したNMOSFETの直列接
続で構成されたものである。
The write power source selection switch block 1
Write power source selection switch 141 for 1 bit in 40
The details of the above are shown in FIG. In FIG. 14, the write power supply selection switch 141 includes an NMOSFET in which the VPP switch control signal 235 is connected to the gate, a VPP line is connected to the source, and BL (1) 211-1 is connected to the drain, and a VSS switch control signal 234.
To the gate, VPP line to the source, / BL (1) 211-2 connected to the drain in series, and the VSS switch control signal 234 to the gate, VSS line to the source, BL
(1) NMOSFET with 211-1 connected to drain and VPP switch control signal 235 at gate, VSS line at source, / BL
(1) It is configured by series connection of NMOSFETs in which 211-2 is connected to the drain.

【0040】以上のように構成された本実施例の半導体
記憶装置における全メモリセルへのハイ/ロー一括書き
込み動作のタイミングチャートを図15に示す。以下に
その動作を説明する。まず、所定のモード設定を行う。
次に/RAS101をアクティブにし、外部より書き込むデ
ータの論理を指定する。ビット線イコライズ/プリチャ
ージを解除すると同時に、前記データ論理に基づいてVP
Pスイッチ制御信号235あるいはVSSスイッチ制御信号
234のいずれかを活性化する。これによりビット線対
BLP(1)211〜BLP(m)214は全てハイレベルかローレ
ベルのいずれかのデータが書き込まれる。そして全ワー
ド線WL(1)201〜WL(n)210を同時に活性化し、ハイ
レベルかローレベルのデータを一括に書き込む(一括書
き込み)。最後に、所定のモード解除を行い、/RAS10
1の立ち上がりでビット線イコライズ/プリチャージを
行う。
FIG. 15 shows a timing chart of the high / low batch write operation to all the memory cells in the semiconductor memory device of the present embodiment configured as described above. The operation will be described below. First, a predetermined mode setting is performed.
Next, / RAS101 is activated and the logic of data to be written is specified from the outside. At the same time that the bit line equalize / precharge is released, VP is
Either the P switch control signal 235 or the VSS switch control signal 234 is activated. This allows bit line pairs
BLP (1) 211 to BLP (m) 214 are all written with either high level data or low level data. Then, all the word lines WL (1) 201 to WL (n) 210 are activated at the same time, and high-level or low-level data is collectively written (collective writing). Finally, release the specified mode, / RAS10
Bit line equalization / precharge is performed at the rising edge of 1.

【0041】以上のように本実施例によれば、所定のモ
ード設定のもと、メモリセルアレイ内の全てのメモリセ
ルに同一データを書き込む場合、1回の/RASサイクルで
書き込みを完了させることもできるので、書き込み動作
時間を、従来のフラッシュライト機能に比較して、約1
/(全ワード数)にすることができる。
As described above, according to this embodiment, when the same data is written in all the memory cells in the memory cell array under the predetermined mode setting, the writing can be completed in one / RAS cycle. Therefore, the write operation time is about 1 time compared to the conventional flash write function.
It can be / (total number of words).

【0042】またハイレベルのデータの書き込みのため
にVPP線を用いることにより、書き込み電源選択スイッ
チ141内のスイッチングトランジスタを全てNMOSFET
で構成することができるので、PMOSFETとNMOSFETとで構
成している実施例5の場合よりも、レイアウト面積を削
減でき、かつ、書き込み電源選択スイッチの制御線も削
減できる。
By using the VPP line for writing high level data, all the switching transistors in the write power supply selection switch 141 are NMOSFETs.
Therefore, the layout area can be reduced and the control line of the write power supply selection switch can be reduced as compared with the case of the fifth embodiment including the PMOSFET and the NMOSFET.

【0043】(実施例7)図16に本発明の実施例7に
おける半導体記憶装置のブロック構成図を示す。図16
において、図2と同一の機能を有するものは同一の番号
を付し説明を省略する。146、147はロウアドレス
のプリデコード回路で、/RAS101の内部信号であるIn
ternal RAS306によって起動され、それぞれアドレス
301、303が入力しプリデコード信号302、30
4を出力する。前記アドレス303は、所定のモード設
定(一括書き込み機能設定)時に、/RAS101に対して
一定時間遅延させたアドレス縮退信号305によって、
前記プリデコード回路147において縮退されるアドレ
スである。
(Embodiment 7) FIG. 16 shows a block diagram of a semiconductor memory device according to Embodiment 7 of the present invention. FIG.
2 having the same functions as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. Reference numerals 146 and 147 denote row address predecode circuits, which are internal signals of / RAS101.
It is activated by the internal RAS 306, and the addresses 301 and 303 are input, and the predecode signals 302 and 30 are input.
4 is output. The address 303 is generated by the address degeneration signal 305 delayed by a certain time with respect to / RAS101 when a predetermined mode is set (collective write function setting).
This is an address degenerated in the predecode circuit 147.

【0044】図17にアドレスが6ビットである場合の
プリデコード回路及び行デコーダの詳細を示す。図17
において、縮退アドレス303をA0〜A3、非縮退アドレ
スをA4、A5とし、それぞれ縮退アドレス用プリデコード
回路147a、147b、非縮退アドレス用プリデコー
ド回路146に入力する。前記縮退アドレス用プリデコ
ード回路147a、147bは縮退アドレス303とIn
ternal RAS306が入力する第1のNAND回路144及び
前記第1のNAND回路144の出力とアドレス縮退信号3
05が入力する第2のNAND回路145より構成され、通
常動作時には出力(プリデコード信号)304−1〜3
04−4のうち1出力が選択され、所定のモード設定
(一括書き込み機能設定)時には出力(プリデコード信
号)304−1〜304−4のうち1出力の選択後、前
記アドレス縮退信号305により全選択状態になる。ま
た前記非縮退アドレス用プリデコード回路146は非縮
退アドレス301とInternal RAS306が入力するAND
回路で構成され、モード設定に関わらず、出力(プリデ
コード信号)302のうち1出力が選択される。よって
所定のモード設定(一括書き込み機能設定)時には、例
えば入力アドレスが全て0の場合、前記縮退アドレスに
よるプリデコード信号304及び前記非縮退アドレスに
よるプリデコード信号302により行デコーダ124に
おいてWL(1)201がまず選択され、その後WL(1)201
〜WL(4)204〜…のワード線が選択されることにな
る。
FIG. 17 shows details of the predecode circuit and row decoder when the address is 6 bits. FIG. 17
In A, the degenerate address 303 is set to A0 to A3, the non-degenerate address is set to A4 and A5, and they are input to the degenerate address predecode circuits 147a and 147b and the non-degenerate address predecode circuit 146, respectively. The degenerate address predecode circuits 147a and 147b are connected to the degenerate address 303 and In
The first NAND circuit 144 input by the internal RAS 306, the output of the first NAND circuit 144, and the address degeneration signal 3
The second NAND circuit 145, to which 05 is input, outputs (predecode signals) 304-1 to 3 in normal operation.
One output of 04-4 is selected, and when one of the outputs (predecode signals) 304-1 to 304-4 is selected when a predetermined mode is set (batch write function setting), all are output by the address degeneration signal 305. The selected state is set. The non-degenerate address predecode circuit 146 is ANDed by the non-degenerate address 301 and the Internal RAS 306.
One of the outputs (predecode signal) 302 is selected regardless of the mode setting. Therefore, when a predetermined mode is set (batch write function setting), for example, when all the input addresses are 0, the WL (1) 201 in the row decoder 124 is generated by the predecode signal 304 by the degenerate address and the predecode signal 302 by the non-degenerate address. Is selected first, then WL (1) 201
The word line of WL (4) 204 ... Is selected.

【0045】以上のように構成された本実施例の半導体
記憶装置における全メモリセルへの同一データ書き込み
動作のタイミングチャートを図18に示す。以下にその
動作を説明する。まず、予め書き込み用のデータをWL
(1)201上のメモリセル120に書き込んでおき、所
定のモード設定を行う。次に/RAS101をアクティブに
し、外部より指定したアドレスによりプリデコード信号
302−1、304a−1、304b−1を活性化しWL
(1)201を活性化した後、SE230をアクティブにし
て、BLP(1)211〜BLP(m)214を介してセンスアンプ
127にデータを読み出す(データ読み出し)。一定時
間後、アドレス縮退信号305をアクティブにすること
により、他のプリデコード信号304a−2〜304a
−4、304b−2〜304b−4を活性化し、WL(2)
202〜WL(4) 204〜…を活性化する。そしてセンス
アンプに保持しておいたデータによって、各ワード線上
のメモリセル120にデータを書き込む(一括書き込
み)。最後に、所定のモード解除を行い、/RAS101の
立ち上がりでSE230をリセットする。
FIG. 18 shows a timing chart of the same data write operation to all the memory cells in the semiconductor memory device of this embodiment having the above-mentioned structure. The operation will be described below. First, write the data for writing in WL
(1) The data is written in the memory cell 120 on 201 and a predetermined mode is set. Next, activate / RAS101 and activate predecode signals 302-1, 304a-1, 304b-1 by an externally specified address, and WL
(1) After activating 201, SE230 is activated and data is read to the sense amplifier 127 via BLP (1) 211 to BLP (m) 214 (data reading). After a certain period of time, the address degeneration signal 305 is activated so that the other predecode signals 304a-2 to 304a are activated.
-4, 304b-2 to 304b-4 are activated, and WL (2)
202-WL (4) 204 -... are activated. Then, the data held in the sense amplifier is used to write the data in the memory cells 120 on each word line (collective writing). Finally, the predetermined mode is released, and SE230 is reset at the rising edge of / RAS101.

【0046】以上のように本実施例によれば、所定のモ
ード設定のもとデータ読み出し後、一括書き込み時に複
数本のワード線を同時に活性化することにより、メモリ
セルアレイ内の全てのメモリセルに同一データを書き込
む場合、1回の/RASサイクルで完了するので、従来のフ
ラッシュライト機能に比較して、トータルの書き込み時
間を約1/(全ワード数)にすることができる。さら
に、メモリセルアレイに対してのある一定のデータパタ
ーンの書き込みも行うことができ、かつ書き込み動作時
間も、ランダムアクセスによる書き込み時間の約1/
(同時に書き込まれるビット数×全ワード数/データパ
ターン1組みに必要なワード数)にすることができる。
As described above, according to the present embodiment, all the memory cells in the memory cell array are activated by simultaneously activating a plurality of word lines at the time of batch writing after reading data under a predetermined mode setting. When writing the same data, since it is completed in one / RAS cycle, the total write time can be reduced to about 1 / (total number of words) as compared with the conventional flash write function. Furthermore, it is possible to write a certain data pattern to the memory cell array, and the write operation time is about 1 / l of the write time by random access.
(Number of bits written simultaneously × total number of words / number of words required for one set of data patterns).

【0047】(実施例8)図19に本発明の実施例8に
おける半導体記憶装置のブロック構成図を示す。また図
20にはアドレスが6ビットである場合のプリデコード
回路及び行デコーダの詳細を示す。図19及び図20に
おいて、図16及び図17と同一の機能を有するものは
同一の番号を付し説明を省略する。本実施例の場合、実
施例7におけるアドレス縮退信号305を第1アドレス
縮退信号305a及び第2アドレス縮退信号305bの
2系統に分け、異なるタイミングで前記第1アドレス縮
退信号305a及び前記第2アドレス縮退信号305b
を活性化する。この第1アドレス縮退信号305a及び
第2アドレス縮退信号305bをそれぞれプリデコード
回路147a、147bに入力し、所定のモード設定
(一括書き込み機能設定)時に、プリデコード信号30
4a−1〜304a−4、304b−1〜304b−4
を全選択状態にする。
(Embodiment 8) FIG. 19 shows a block diagram of a semiconductor memory device according to an embodiment 8 of the present invention. Further, FIG. 20 shows details of the predecode circuit and the row decoder when the address is 6 bits. 19 and 20, those having the same functions as those in FIGS. 16 and 17 are designated by the same reference numerals and description thereof will be omitted. In the case of the present embodiment, the address degeneration signal 305 in the seventh embodiment is divided into two systems, a first address degeneration signal 305a and a second address degeneration signal 305b, and the first address degeneration signal 305a and the second address degeneration are performed at different timings. Signal 305b
Activate. The first address degenerate signal 305a and the second address degenerate signal 305b are input to the predecode circuits 147a and 147b, respectively, and the predecode signal 30 is input when a predetermined mode is set (batch write function setting).
4a-1 to 304a-4, 304b-1 to 304b-4
To select all.

【0048】以上のように構成された本実施例の半導体
記憶装置における全メモリセルへの同一データ書き込み
動作のタイミングチャートを図21に示す。以下にその
動作を説明する。まず、予め書き込み用のデータをWL
(1)201上のメモリセル120に書き込んでおき、所
定のモード設定を行う。次に/RAS101をアクティブに
し、外部より指定したアドレスによりプリデコード信号
302−1、304a−1、304b−1を活性化しWL
(1)201を活性化した後、SE230をアクティブにし
て、BLP(1)211〜BLP(m)214を介してセンスアンプ
127にデータを読み出す(データ読み出し)。一定時
間後、まずアドレス縮退信号305aをアクティブにす
ることにより、プリデコード信号304a−2〜304
a−4を活性化し、WL(5) 205…を活性化する。次に
アドレス縮退信号305bをアクティブにすることによ
り、プリデコード信号304b−2〜304b−4を活
性化し、WL(2)202〜WL(4)204、WL(6)206〜WL
(8)208、…を活性化する。そして所望のワード線を
全て活性化した後、センスアンプに保持しておいたデー
タによって、各ワード線上のメモリセル120にデータ
を書き込む(一括書き込み)。最後に、所定のモード解
除を行い、/RAS101の立ち上がりでSE230をリセッ
トする。
FIG. 21 shows a timing chart of the same data write operation to all memory cells in the semiconductor memory device of the present embodiment having the above-mentioned configuration. The operation will be described below. First, write the data for writing in WL
(1) The data is written in the memory cell 120 on 201 and a predetermined mode is set. Next, activate / RAS101 and activate predecode signals 302-1, 304a-1, 304b-1 by an externally specified address, and WL
(1) After activating 201, SE230 is activated and data is read to the sense amplifier 127 via BLP (1) 211 to BLP (m) 214 (data reading). After a certain time, first, the address degeneration signal 305a is activated to make the predecode signals 304a-2 to 304
a-4 is activated, and WL (5) 205 ... Is activated. Next, the address degeneration signal 305b is activated to activate the predecode signals 304b-2 to 304b-4, and WL (2) 202 to WL (4) 204 and WL (6) 206 to WL
(8) Activate 208, ... Then, after activating all the desired word lines, the data held in the sense amplifier is used to write the data to the memory cells 120 on each word line (collective writing). Finally, the predetermined mode is released, and SE230 is reset at the rising edge of / RAS101.

【0049】以上のように本実施例によれば、所定のモ
ード設定のもとデータ読み出し後、一括書き込み時に複
数本のワード線を同時に活性化することにより、メモリ
セルアレイ内の全てのメモリセルに同一データを書き込
む場合、1回の/RASサイクルで完了するので、従来のフ
ラッシュライト機能に比較して、トータルの書き込み時
間を約1/(全ワード数)にすることができる。さら
に、メモリセルアレイに対してのある一定のデータパタ
ーンの書き込みも行うことができ、かつ書き込み動作時
間も、ランダムアクセスによる書き込み時間の約1/
(同時に書き込まれるビット数×全ワード数/データパ
ターン1組みに必要なワード数)にすることができる。
また、アドレス縮退信号を2系統設けることにより、所
定のモード設定(一括書き込み機能設定)時のワード線
の多重選択を分散して行うことができるので、ピーク電
流を緩和することができ、素子の信頼性向上に有効であ
る。
As described above, according to the present embodiment, all the memory cells in the memory cell array are activated by simultaneously activating a plurality of word lines at the time of batch writing after reading data under a predetermined mode setting. When writing the same data, since it is completed in one / RAS cycle, the total write time can be reduced to about 1 / (total number of words) as compared with the conventional flash write function. Furthermore, it is possible to write a certain data pattern to the memory cell array, and the write operation time is about 1 / l of the write time by random access.
(Number of bits written simultaneously × total number of words / number of words required for one set of data patterns).
Further, by providing two systems of address degeneration signals, multiple selection of word lines at the time of setting a predetermined mode (collective write function setting) can be performed in a distributed manner, so that the peak current can be alleviated and the element current can be reduced. It is effective for improving reliability.

【0050】(実施例9)図22に本発明の実施例9に
おける半導体記憶装置のブロック構成図を示す。図22
において、図2と同一の機能を有するものは同一の番号
を付し説明を省略する。148は内部アドレス発生回路
で、回路内部は、外部入力アドレス307をもとにアド
レスを発生させる内部アドレス発生手段148a及び前
記外部入力アドレス307と前記内部アドレス発生手段
148aの出力である内部発生アドレス308とを選択
するセレクタ148bより構成される。プリデコード回
路149においては、前記セレクタの出力である内部ア
ドレス309をプリデコードし、プリデコード信号31
0を発生させ行デコーダ124に入力する。
(Embodiment 9) FIG. 22 shows a block diagram of a semiconductor memory device in Embodiment 9 of the present invention. FIG. 22
2 having the same functions as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. Reference numeral 148 denotes an internal address generating circuit. Inside the circuit, an internal address generating means 148a for generating an address based on an external input address 307 and an internally generated address 308 which is an output of the external input address 307 and the internal address generating means 148a. And a selector 148b for selecting and. The predecode circuit 149 predecodes the internal address 309 which is the output of the selector, and outputs the predecode signal 31.
0 is generated and input to the row decoder 124.

【0051】以上のように構成された本実施例の半導体
記憶装置における全メモリセルへの同一デ−タ書き込み
動作のタイミングチャ−トを図23に示す。以下にその
動作を説明する。まず、予め書き込み用のデ−タをWL
(1)201上のメモリセル120に書き込んでおき、所
定のモ−ド設定を行う。次に/RAS101をアクティ
ブにし外部より指定したアドレス108を取り込み、そ
の外部入力アドレス307を内部アドレス発生回路14
8に入力する。前記内部アドレス発生回路148におい
ては、制御信号A311で内部アドレス発生手段148
aの動作を止め、制御信号B312によりセレクタ14
8bにおいて前記外部入力アドレス307を内部アドレ
ス309としてプリデコード回路149へ送出し、プリ
デコ−ド信号310を活性化する。前記プリデコード信
号310によりWL(1)201を活性化した後、SE230
をアクティブにして、BLP(1)211〜BLP(m)214を介
してセンスアンプ127にデ−タを読み出す(デ−タ読
み出し)。一定時間後、内部アドレス発生回路148に
おいて、制御信号A311で内部アドレス発生手段14
8aの動作を開始させた後、制御信号B312によりセ
レクタ148bにおいて前記内部アドレス発生手段14
8aの出力である内部発生アドレス308を内部アドレ
ス309としてプリデコード回路149へ送出するよう
に切り替える。その後前記内部アドレス発生手段148
aにおいて、前記外部入力アドレス307をもとに順次
アドレスを発生させ、プリデコード回路149に入力し
てプリデコード信号310の選択状態を変え、WL(2) 2
02〜WL(4) 204〜…を順次活性化し、先にセンスア
ンプに保持しておいたデ−タによって、各ワ−ド線上の
メモリセル120にデ−タを書き込む(一括書き込
み)。最後に、所定のモ−ド解除を行い、/RAS101の
立ち上がりでSE230をリセットする。
FIG. 23 shows a timing chart of the same data write operation to all memory cells in the semiconductor memory device of the present embodiment configured as described above. The operation will be described below. First, write data in advance to WL
(1) Data is written in the memory cell 120 on 201 and a predetermined mode is set. Next, / RAS 101 is activated and the address 108 designated externally is fetched, and the external input address 307 is used as the internal address generation circuit 14
Enter in 8. In the internal address generating circuit 148, the internal address generating means 148 receives the control signal A311.
The operation of a is stopped, and the selector 14 is activated by the control signal B312.
In 8b, the external input address 307 is sent to the predecode circuit 149 as the internal address 309, and the predecode signal 310 is activated. After the WL (1) 201 is activated by the predecode signal 310, SE230
Is activated to read data from the BLP (1) 211 to BLP (m) 214 to the sense amplifier 127 (data reading). After a fixed time, the internal address generating circuit 148 outputs the control signal A311 to the internal address generating means 14
After the operation of 8a is started, the internal address generating means 14 is operated in the selector 148b by the control signal B312.
The internally generated address 308, which is the output of 8a, is switched as the internal address 309 to the predecode circuit 149. After that, the internal address generating means 148
In a, addresses are sequentially generated based on the external input address 307 and input to the predecode circuit 149 to change the selection state of the predecode signal 310, and WL (2) 2
02-WL (4) 204 -... are sequentially activated, and the data previously stored in the sense amplifier is used to write the data to the memory cells 120 on each word line (collective writing). Finally, the predetermined mode is released, and SE230 is reset at the rising edge of / RAS101.

【0052】以上のように本実施例によれば、所定のモ
−ド設定のもとデ−タ読み出し後、一括書き込み時に複
数本のワ−ド線を同時に活性化することにより、メモリ
セルアレイ内の全てのメモリセルに同一デ−タを書き込
む場合、1回の/RASサイクルで完了するので、従来のフ
ラッシュライト機能に比較して、ト−タルの書き込み時
間を約1/(全ワ−ド数)にすることができる。さら
に、メモリセルアレイに対してのある一定のデ−タパタ
−ンの書き込みも行うことができ、かつ書き込み動作時
間も、ランダムアクセスによる書き込み時間の約1/
(同時に書き込まれるビット数×全ワ−ド数/デ−タパ
タ−ン1組みに必要なワ−ド数)にすることができる。
As described above, according to this embodiment, a plurality of word lines are simultaneously activated at the time of batch writing after the data is read under a predetermined mode setting, so that the memory cell array When the same data is written to all memory cells of the above, it is completed in one / RAS cycle. Therefore, compared with the conventional flash write function, the total write time is about 1 / (total word). Number). Further, it is possible to write a certain data pattern to the memory cell array, and the write operation time is about 1 / l of the write time by random access.
(Number of bits written simultaneously × total number of words / number of words required for one set of data patterns).

【0053】(実施例10)図24に本発明の実施例1
0における半導体記憶装置のブロック構成図を示す。図
24において、図2と同一の機能を有するものは同一の
番号を付し説明を省略する。316はアドレスバッファ
制御信号で、所定のモード設定(一括書き込み機能設
定)時、/CAS及び/RASが活性化されたときにアドレス1
08を取り込むようにバッファの制御を行う信号であ
る。
(Embodiment 10) FIG. 24 shows a first embodiment of the present invention.
2 is a block diagram of the semiconductor memory device in FIG. In FIG. 24, those having the same functions as those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. Reference numeral 316 is an address buffer control signal, which is an address 1 when / CAS and / RAS are activated in a predetermined mode setting (batch write function setting).
This is a signal for controlling the buffer so as to capture 08.

【0054】以上のように構成された本実施例の半導体
記憶装置におけるワード線間の同一デ−タ書き込み動作
のタイミングチャ−トを図25に示す。以下にその動作
を説明する。まず、予め書き込み用のデ−タをWL(1)2
01上のメモリセル120に書き込んでおき、/CAS、/O
Eを活性化し、所定のモ−ド設定(一括書き込み機能設
定)を行う。このときアドレス108で行アドレス1を
指定し、アドレスバッファ制御信号316によって前記
行アドレス1を取り込み、内部アドレス309としてプ
リデコード回路149へ入力する。前記行アドレス1に
よってWL(1)201を活性化した後、SE230をアクテ
ィブにして、BLP(1)211〜BLP(m)214を介してセン
スアンプ127にデ−タを読み出す(デ−タ読み出
し)。一定時間後、/RASを活性化し、そのときアドレス
108で行アドレス2を指定し、アドレスバッファ制御
信号316によって前記行アドレス2を取り込み、内部
アドレス309としてプリデコード回路149へ入力す
る。前記行アドレス2によってWL(2)202を活性化
し、先にセンスアンプに保持しておいたデ−タによっ
て、WL(2)202上のメモリセル120にデ−タを書き
込む(一括書き込み)。最後に、所定のモ−ド解除を行
い、/RAS101の立ち上がりでSE230をリセットす
る。
FIG. 25 shows a timing chart of the same data write operation between word lines in the semiconductor memory device of the present embodiment configured as described above. The operation will be described below. First, write data in advance to WL (1) 2
01 is written in the memory cell 120 and / CAS, / O
Activate E and set the specified mode (batch write function setting). At this time, the row address 1 is designated by the address 108, the row address 1 is fetched by the address buffer control signal 316, and is input to the predecode circuit 149 as the internal address 309. After the WL (1) 201 is activated by the row address 1, the SE 230 is activated and the data is read to the sense amplifier 127 via the BLP (1) 211 to BLP (m) 214 (data read). ). After a certain period of time, / RAS is activated, the row address 2 is designated by the address 108 at that time, the row address 2 is fetched by the address buffer control signal 316, and the row address 2 is input to the predecode circuit 149 as the internal address 309. The WL (2) 202 is activated by the row address 2, and the data previously stored in the sense amplifier is used to write the data to the memory cell 120 on the WL (2) 202 (collective writing). Finally, the predetermined mode is released, and SE230 is reset at the rising edge of / RAS101.

【0055】以上のように本実施例によれば、/CAS、/O
Eを/RASよりも先に活性化することで、所定のモ−ド設
定(一括書き込み機能設定)を行い、/CAS及び/RASの活
性化時にアドレスを指定することにより、1回の/RASサ
イクル内で、ワード線上のデータを異なるワード線上に
一括して書き込むことができ、書き込み動作時間を、ラ
ンダムアクセスによる書き込み時間の約1/(同時に書
き込まれるビット数)にすることができる。
As described above, according to this embodiment, / CAS, / O
By activating E before / RAS, the specified mode setting (batch write function setting) is performed, and by specifying the address when activating / CAS and / RAS, one / RAS operation is performed. In a cycle, the data on the word lines can be collectively written on different word lines, and the write operation time can be about 1 / (the number of bits simultaneously written) of the random access write time.

【0056】(実施例11)図26に本発明の実施例1
1における半導体記憶装置のブロック構成図を示す。図
26において、図2と同一の機能を有するものは同一の
番号を付し説明を省略する。152は、メモリコア部1
18に対して、VDDより高い電圧に昇圧された電圧(以
下、VPP)221を発生させ印加する昇圧電源発生回路
である。この昇圧電源発生回路152は、昇圧電源発生
回路A150及び昇圧電源発生回路B151の2系統から
構成され、それぞれタイミング発生回路121で発生さ
せた、Internal RAS306及び昇圧電源発生回路制御信
号313によって制御される。
(Embodiment 11) FIG. 26 shows an embodiment 1 of the present invention.
1 is a block diagram of the semiconductor memory device in FIG. 26, those having the same functions as those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. 152 is the memory core unit 1
It is a boosted power supply generation circuit that generates and applies a voltage (hereinafter, VPP) 221 boosted to a voltage higher than VDD to 18. The booster power supply generation circuit 152 is composed of two systems, a booster power supply generation circuit A 150 and a booster power supply generation circuit B 151, and is controlled by an internal RAS 306 and a booster power supply generation circuit control signal 313 generated by the timing generation circuit 121. .

【0057】以上のように構成された本実施例の半導体
記憶装置において、前記昇圧電源発生回路152の昇圧
電源供給能力を、前記昇圧電源発生回路A150につい
ては通常動作時に必要な能力に設定し、前記昇圧電源発
生回路B151については所定のモード設定(一括書き
込み機能設定)時のワード線多重選択動作時に必要な能
力に設定し、前記所定のモード設定(一括書き込み機能
設定)時に前記昇圧電源発生回路制御信号313によっ
て、動作回路を前記昇圧電源発生回路A150から前記
昇圧電源発生回路B151に切り替えることにより能力
を向上させる。
In the semiconductor memory device of the present embodiment configured as described above, the boosting power supply power supply capability of the boosting power supply generation circuit 152 is set to the capability required for the normal operation of the boosting power supply generation circuit A150. The step-up power supply generation circuit B151 is set to have a capability required for word line multiplex selection operation in a predetermined mode setting (collective write function setting), and the boost power supply generation circuit B151 is set in the predetermined mode setting (collective write function setting). By the control signal 313, the operation circuit is switched from the boosted power supply generation circuit A150 to the boosted power supply generation circuit B151 to improve the capability.

【0058】また、前記昇圧電源発生回路152の昇圧
電源供給能力を、前記昇圧電源発生回路A150につい
ては通常動作時に必要な能力に設定し、前記昇圧電源発
生回路B150については所定のモード設定(一括書き
込み機能設定)時のワード線多重選択動作時に必要な能
力と通常動作時に必要な能力との差分に設定し、前記所
定のモード設定(一括書き込み機能設定)時に前記昇圧
電源発生回路制御信号313によって、前記昇圧電源発
生回路A150と前記昇圧電源発生回路B150とを同時
に動作させることにより能力を向上させてもよい。
The boosting power supply generating circuit 152 is set to have a boosting power supply capability required for normal operation of the boosting power generation circuit A150, and a predetermined mode setting (collective operation) is set for the boosting power generation circuit B150. It is set to the difference between the ability required in the word line multiplex selection operation in the write function setting) and the ability required in the normal operation, and is set by the boost power supply generation circuit control signal 313 in the predetermined mode setting (collective write function setting). The capacity may be improved by operating the boosting power supply generation circuit A150 and the boosting power supply generation circuit B150 at the same time.

【0059】以上のように本実施例によれば、能力の異
なる昇圧電源発生回路を2系統設けることによって、所
定のモード設定(一括書き込み機能設定)時のワード線
多重選択動作時にVPP221のレベルダウンを防ぐこと
ができる。
As described above, according to the present embodiment, by providing two systems of boosting power supply generation circuits having different capacities, the level of the VPP 221 is lowered during the word line multiplex selection operation in the predetermined mode setting (collective write function setting). Can be prevented.

【0060】(実施例12)図27に本発明の実施例1
2における半導体記憶装置のブロック構成図を示す。図
27において、図26と同一の機能を有するものは同一
の番号を付し説明を省略する。昇圧電源発生回路152
は、チャージポンプ155、VPPレベル検出回路156
及び2系統のリングオシレータ(リングオシレータA1
53及びリングオシレータB154)から構成される。
ここで前記リングオシレータA153及びリングオシレ
ータB154は、タイミング発生回路121で発生させ
た、Internal RAS306、昇圧電源発生回路制御信号3
13及び前記VPPレベル検出回路156で発生するVPPレ
ベル検出信号315によって制御される。前記VPPレベ
ル検出信号315は、前記VPPレベル検出回路156に
おいてVPP221のレベルをモニターし、VPP221のレ
ベルが設定されているVPPレベルよりも下がってくると
活性化し、VPP221のレベルが設定されているVPPレベ
ルよりも上がってくると非活性化する信号である。
(Embodiment 12) FIG. 27 shows an embodiment 1 of the present invention.
2 is a block diagram of the semiconductor memory device in FIG. 27, those having the same functions as those in FIG. 26 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. Boost power supply generation circuit 152
Is a charge pump 155 and a VPP level detection circuit 156.
And a two-system ring oscillator (ring oscillator A1
53 and a ring oscillator B154).
Here, the ring oscillator A 153 and the ring oscillator B 154 are the internal RAS 306 generated by the timing generation circuit 121, the boosting power supply generation circuit control signal 3
13 and the VPP level detection signal 315 generated by the VPP level detection circuit 156. The VPP level detection signal 315 monitors the level of the VPP 221 in the VPP level detection circuit 156, activates when the level of the VPP 221 becomes lower than the set VPP level, and activates when the level of the VPP 221 is set. This signal is inactivated when it rises above the level.

【0061】以上のように構成された本実施例の半導体
記憶装置において、前記昇圧電源発生回路152内のリ
ングオシレータの発振周波数を、前記リングオシレータ
A153については通常動作時に必要な昇圧電源供給能
力を発生させる発振周波数に設定し、前記リングオシレ
ータB154については所定のモード設定(一括書き込
み機能設定)時のワード線多重選択動作時に必要な昇圧
電源供給能力を発生させる発振周波数に設定し、前記所
定のモード設定(一括書き込み機能設定)時に前記昇圧
電源発生回路制御信号313によって、動作するリング
オシレータを前記リングオシレータA153からリング
オシレータB154に切り替えることにより、昇圧電源
供給能力を向上させる。
In the semiconductor memory device of this embodiment configured as described above, the oscillation frequency of the ring oscillator in the boosted power supply generation circuit 152 is set to the ring oscillator.
A153 is set to the oscillation frequency that generates the boosted power supply capability required during normal operation, and the ring oscillator B154 is supplied with the boosted power required during word line multiplex selection operation during the specified mode setting (collective write function setting). By setting the oscillation frequency for generating the capacity, and switching the ring oscillator to be operated from the ring oscillator A153 to the ring oscillator B154 by the step-up power supply generation circuit control signal 313 at the predetermined mode setting (collective write function setting), Improves boost power supply capability.

【0062】以上のように本実施例によれば、発振周波
数の異なるリングオシレータを2系統設けることによっ
て、所定のモード設定(一括書き込み機能設定)時のワ
ード線多重選択動作時にVPP221のレベルダウンを防
ぐことができる。
As described above, according to this embodiment, by providing two systems of ring oscillators having different oscillation frequencies, the level of the VPP 221 is lowered during the word line multiplex selection operation in the predetermined mode setting (collective write function setting). Can be prevented.

【0063】(実施例13)図28に本発明の実施例1
3における半導体記憶装置のブロック構成図を示す。図
28において、図26と同一の機能を有するものは同一
の番号を付し説明を省略する。昇圧電源発生回路152
は、タイミング発生回路121で発生させた、Internal
RAS306、アドレス縮退信号305によって制御され
る回路で、チャージポンプ及び制御回路で構成される。
前記アドレス縮退信号305は、行デコーダ124に入
力し、所定のモード設定(一括書き込み機能設定)時
に、ワード線多重選択を行うためのアドレスを縮退させ
る信号で、/RAS101に対してある一定時間後アクティ
ブになる。
(Embodiment 13) FIG. 28 shows a first embodiment of the present invention.
3 is a block diagram of the semiconductor memory device in FIG. 28, those having the same functions as those in FIG. 26 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. Boost power supply generation circuit 152
Is the Internal generated by the timing generation circuit 121.
A circuit controlled by the RAS 306 and the address degeneration signal 305, which is composed of a charge pump and a control circuit.
The address degeneration signal 305 is a signal that is input to the row decoder 124 and degenerates an address for performing word line multiplex selection in a predetermined mode setting (collective write function setting). Become active.

【0064】以上のように構成された本実施例の半導体
記憶装置において、前記Internal RAS306と前記アド
レス縮退信号305の状態遷移検出信号を昇圧電源発生
回路152内で発生し、前記状態遷移検出信号によって
前記チャージポンプを制御することにより、前記Intern
al RAS306の状態遷移信号のみで制御するような構成
をとる場合より、昇圧電源発生回路152の昇圧電源供
給能力を向上させることができる。
In the semiconductor memory device of the present embodiment configured as described above, the state transition detection signals of the Internal RAS 306 and the address degeneration signal 305 are generated in the boosting power supply generation circuit 152, and the state transition detection signal is used. By controlling the charge pump, the Intern
It is possible to improve the boosting power supply capability of the boosting power supply generation circuit 152 as compared with the case where the configuration is controlled only by the state transition signal of the RAS 306.

【0065】また昇圧電源発生回路152内の制御回路
に発振周波数の異なるリングオシレータを2系統設け、
前記アドレス縮退信号305によって、所定のモード設
定(一括書き込み機能設定)時に、発振周波数の低いリ
ングオシレータから発振周波数の高いリングオシレータ
へ動作を切り替える様な構成をとっても、昇圧電源発生
回路152の昇圧電源供給能力を向上させることができ
る。
Further, two systems of ring oscillators having different oscillation frequencies are provided in the control circuit in the step-up power supply generation circuit 152,
Even if the configuration is such that the operation is switched from the ring oscillator having a low oscillation frequency to the ring oscillator having a high oscillation frequency in the predetermined mode setting (batch write function setting) by the address degeneration signal 305, The supply capacity can be improved.

【0066】以上のように本実施例によれば、ワード線
の多重選択動作のためのアドレス縮退信号を昇圧電源発
生回路の制御に用いることにより、所定のモード設定
(一括書き込み機能設定)時のワード線多重選択動作時
にVPP221のレベルダウンを防ぐことができる。
As described above, according to this embodiment, the address degeneration signal for the multiple selection operation of the word lines is used for controlling the boosting power supply generation circuit, so that the predetermined mode setting (batch write function setting) is performed. It is possible to prevent the level of the VPP 221 from being lowered during the word line multiplex selection operation.

【0067】なお上記実施例1〜実施例13は、デュア
ルポートメモリの場合について述べたが、汎用DRAMやSR
AMの場合でもよい。
Although the above-mentioned first to thirteenth embodiments have been described for the case of the dual port memory, the general-purpose DRAM and SR
It may be AM.

【0068】[0068]

【発明の効果】以上のように本発明は、所定のモード設
定のもとで、複数の/RASサイクルの間、前記モード設定
解除時まで前記センスアンプ列を常時活性化するセンス
アンプ制御信号を設けるか、あるいは、所定のモード設
定のもと、1回の/RASサイクル内で、複数本のワード線
を活性化する手段を設けることにより、同一データの書
き込み時間の短縮し、かつ、ある一定のデータパターン
の書き込みも行うことができ、その実用的効果は大き
い。
As described above, according to the present invention, under a predetermined mode setting, a sense amplifier control signal for constantly activating the sense amplifier row is activated during a plurality of / RAS cycles until the mode setting is released. Either by providing or by providing a means for activating a plurality of word lines within one / RAS cycle under a predetermined mode setting, the write time of the same data can be shortened and a certain fixed time can be achieved. The data pattern can also be written, and its practical effect is great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】一般的なデュアルポートメモリのブロック構成
FIG. 1 is a block configuration diagram of a general dual port memory.

【図2】本発明の実施例1における半導体記憶装置のブ
ロック構成図
FIG. 2 is a block configuration diagram of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図3】同実施例における半導体記憶装置中の全メモリ
セルへの同一データ書き込み動作のタイミングチャート
FIG. 3 is a timing chart diagram of the same data write operation to all memory cells in the semiconductor memory device in the embodiment.

【図4】本発明の実施例2における半導体記憶装置のブ
ロック構成図
FIG. 4 is a block diagram of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】同実施例における半導体記憶装置中の全メモリ
セルへの同一データ書き込み動作のタイミングチャート
FIG. 5 is a timing chart diagram of the same data write operation to all memory cells in the semiconductor memory device in the embodiment.

【図6】本発明の実施例3における半導体記憶装置のブ
ロック構成図
FIG. 6 is a block configuration diagram of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.

【図7】同実施例における半導体記憶装置中のシェアー
ドスイッチの構成図
FIG. 7 is a configuration diagram of a shared switch in the semiconductor memory device according to the same embodiment.

【図8】同実施例における半導体記憶装置中の全メモリ
セルへの同一データ書き込み動作のタイミングチャート
FIG. 8 is a timing chart of the same data write operation to all memory cells in the semiconductor memory device according to the same embodiment.

【図9】本発明の実施例4における半導体記憶装置中の
全メモリセルへの同一データ書き込み動作のタイミング
チャート図
FIG. 9 is a timing chart diagram of the same data write operation to all memory cells in the semiconductor memory device according to the fourth embodiment of the present invention.

【図10】本発明の実施例5における半導体記憶装置の
ブロック構成図
FIG. 10 is a block configuration diagram of a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図11】同実施例における半導体記憶装置中の書き込
み電源選択スイッチの構成図
FIG. 11 is a configuration diagram of a write power supply selection switch in the semiconductor memory device according to the same embodiment.

【図12】同実施例における半導体記憶装置中の全メモ
リセルへのハイ/ロー一括書き込み動作のタイミングチ
ャート図
FIG. 12 is a timing chart of a high / low batch write operation to all memory cells in the semiconductor memory device according to the embodiment.

【図13】本発明の実施例6における半導体記憶装置の
ブロック構成図
FIG. 13 is a block configuration diagram of a semiconductor memory device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図14】同実施例における半導体記憶装置中の書き込
み電源選択スイッチの構成図
FIG. 14 is a configuration diagram of a write power supply selection switch in the semiconductor memory device according to the same embodiment.

【図15】同実施例における半導体記憶装置中の全メモ
リセルへのハイ/ロー一括書き込み動作のタイミングチ
ャート図
FIG. 15 is a timing chart diagram of a high / low batch write operation to all memory cells in the semiconductor memory device in the example.

【図16】本発明の実施例7における半導体記憶装置の
ブロック構成図
FIG. 16 is a block configuration diagram of a semiconductor memory device according to a seventh embodiment of the present invention.

【図17】同実施例における半導体記憶装置中のアドレ
スが6ビットである場合のプリデコード回路及び行デコ
ーダの構成図
FIG. 17 is a configuration diagram of a predecode circuit and a row decoder when an address is 6 bits in the semiconductor memory device according to the same embodiment.

【図18】同実施例における半導体記憶装置中の全メモ
リセルへの同一データ書き込み動作のタイミングチャー
ト図
FIG. 18 is a timing chart diagram of the same data write operation to all memory cells in the semiconductor memory device in the embodiment.

【図19】本発明の実施例8における半導体記憶装置の
ブロック構成図
FIG. 19 is a block configuration diagram of a semiconductor memory device according to an eighth embodiment of the present invention.

【図20】同実施例における半導体記憶装置中のアドレ
スが6ビットである場合のプリデコード回路及び行デコ
ーダの構成図
FIG. 20 is a configuration diagram of a predecode circuit and a row decoder when an address is 6 bits in the semiconductor memory device in the embodiment.

【図21】同実施例における半導体記憶装置中の全メモ
リセルへの同一データ書き込み動作のタイミングチャー
ト図
FIG. 21 is a timing chart of the same data write operation to all memory cells in the semiconductor memory device in the example.

【図22】本発明の実施例9における半導体記憶装置の
ブロック構成図
FIG. 22 is a block configuration diagram of a semiconductor memory device according to a ninth embodiment of the present invention.

【図23】同実施例における半導体記憶装置中の全メモ
リセルへの同一データ書き込み動作のタイミングチャー
ト図
FIG. 23 is a timing chart diagram of the same data write operation to all memory cells in the semiconductor memory device in the example.

【図24】本発明の実施例10における半導体記憶装置
のブロック構成図
FIG. 24 is a block configuration diagram of a semiconductor memory device according to a tenth embodiment of the present invention.

【図25】同実施例における半導体記憶装置中の全メモ
リセルへの同一データ書き込み動作のタイミングチャー
ト図
FIG. 25 is a timing chart of the same data write operation to all memory cells in the semiconductor memory device in the example.

【図26】本発明の実施例11における半導体記憶装置
のブロック構成図
FIG. 26 is a block configuration diagram of a semiconductor memory device according to an eleventh embodiment of the present invention.

【図27】本発明の実施例12における半導体記憶装置
のブロック構成図
FIG. 27 is a block configuration diagram of a semiconductor memory device according to a twelfth embodiment of the present invention.

【図28】本発明の実施例13における半導体記憶装置
のブロック構成図
FIG. 28 is a block configuration diagram of a semiconductor memory device according to a thirteenth embodiment of the present invention.

【図29】フラッシュライト機能を搭載した1Mbitデュ
アルポートDRAMのブロック図
[Figure 29] Block diagram of 1Mbit dual-port DRAM with flash write function

【図30】フラッシュライト機能の動作タイミングチャ
ート図
FIG. 30 is an operation timing chart of the flashlight function.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

119 メモリセルアレイ 121 タイミング発生回路 119 memory cell array 121 timing generation circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 澤田 昭弘 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 縣 政志 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 岩成 俊一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Akihiro Sawada 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Masashi Agata, 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 72) Inventor Shunichi Iwanari 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数本のワード線と複数本のビット線とを
有するメモリセルアレイと、前記ワード線を選択する行
デコーダと、前記ビット線に接続するセンスアンプとを
備えた半導体記憶装置において、 所定のモード設定のもと、1回の/RASサイクル内で、/R
AS入力時に指定されたアドレスによりワード線を活性化
し、前記ワード線上のメモリセルのデータを前記センス
アンプ列に読み出し、一定時間後、異なる1本もしくは
複数本のワード線を活性化することにより、前記1本も
しくは複数本のワード線上のメモリセルに前記データを
書き込むことを特徴とする半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device comprising: a memory cell array having a plurality of word lines and a plurality of bit lines; a row decoder for selecting the word lines; and a sense amplifier connected to the bit lines. Under the specified mode setting, within one / RAS cycle, / R
By activating a word line by an address designated at the time of AS input, reading the data of the memory cell on the word line to the sense amplifier column, and activating a different word line or a plurality of word lines after a certain period of time, A semiconductor memory device, wherein the data is written to the memory cells on the one or more word lines.
【請求項2】複数本のワード線と複数本のビット線とを
有するメモリセルアレイと、前記ワード線を選択する行
デコーダと、前記ビット線に接続するセンスアンプとを
複数組備えた半導体記憶装置において、 所定のモード設定のもと、1回の/RASサイクル内で、/R
AS入力時に指定されたアドレスにより選択されたメモリ
セルアレイ内のワード線及び、前記選択メモリセルアレ
イに接続されるセンスアンプ列を活性化し、同時に、非
選択メモリセルアレイにおいては1本もしくは複数本の
ワード線を活性化し、前記選択メモリセルアレイ内のワ
ード線上のメモリセルのデータをセンスアンプ列に読み
出した後、前記非選択メモリセルアレイに接続されるセ
ンスアンプ列に前記データを転送し、一定時間後、前記
非選択メモリセルアレイに接続されるセンスアンプ列を
活性化することにより、前記1本もしくは複数本のワー
ド線上のメモリセルに前記データを書き込むことを特徴
とする半導体記憶装置。
2. A semiconductor memory device comprising a memory cell array having a plurality of word lines and a plurality of bit lines, a row decoder for selecting the word lines, and a plurality of sense amplifiers connected to the bit lines. , Under the specified mode setting, within one / RAS cycle, / R
A word line in a memory cell array selected by an address designated at the time of AS input and a sense amplifier row connected to the selected memory cell array are activated, and at the same time, one or more word lines in a non-selected memory cell array. To read the data of the memory cell on the word line in the selected memory cell array to the sense amplifier row, transfer the data to the sense amplifier row connected to the non-selected memory cell array, and after a certain time, A semiconductor memory device characterized in that the data is written into the memory cells on the one or more word lines by activating a sense amplifier column connected to the non-selected memory cell array.
【請求項3】複数本のワード線と複数本のビット線とを
有するメモリセルアレイ及び前記ワード線を選択する行
デコーダをセンスアンプ列の左右に配置し、前記センス
アンプ列をシェアードスイッチを介して前記左右のメモ
リセルアレイのビット線に接続する半導体記憶装置にお
いて、 所定のモード設定のもと、1回の/RASサイクル内で、/R
AS入力時に指定されたアドレスにより選択されたメモリ
セルアレイ内のワード線を活性化し、非選択メモリセル
アレイにおいても1本もしくは複数本のワード線を活性
化し、同時に、非選択メモリセルアレイと前記センスア
ンプ列を接続するシェアードスイッチ制御線を非活性化
した後、前記選択メモリセルアレイ内のワード線上のメ
モリセルのデータをセンスアンプ列に読み出し、一定時
間後、前記非選択メモリセルアレイと前記センスアンプ
列とを接続するシェアードスイッチ制御線を活性化する
ことにより、前記1本もしくは複数本のワード線上のメ
モリセルに前記データを書き込むことを特徴とする半導
体記憶装置。
3. A memory cell array having a plurality of word lines and a plurality of bit lines and row decoders for selecting the word lines are arranged on the left and right of a sense amplifier column, and the sense amplifier column is connected via a shared switch. In the semiconductor memory device connected to the bit lines of the left and right memory cell arrays, / R is set in one / RAS cycle under a predetermined mode setting.
A word line in the memory cell array selected by the address designated at the time of AS input is activated, and also one or more word lines are activated in the non-selected memory cell array. At the same time, the non-selected memory cell array and the sense amplifier row are also activated. After deactivating the shared switch control line that connects the memory cell array and the memory cell on the word line in the selected memory cell array, the data is read out to the sense amplifier column, and after a certain period of time, the non-selected memory cell array and the sense amplifier column are switched to each other. A semiconductor memory device, characterized in that the data is written in a memory cell on the one or a plurality of word lines by activating a shared switch control line to be connected.
【請求項4】複数本のワード線と複数本のビット線とを
有するメモリセルアレイ及び前記ワード線を選択する行
デコーダをセンスアンプ列の左右に配置し、前記センス
アンプ列をシェアードスイッチを介して前記左右のメモ
リセルアレイのビット線に接続する半導体記憶装置にお
いて、 所定のモード設定のもと、1回の/RASサイクル内で、/R
AS入力時に指定されたアドレスにより選択されたメモリ
セルアレイ内のワード線を活性化し、前記選択メモリセ
ルアレイと前記センスアンプ列を接続するシェアードス
イッチ制御線及び非選択メモリセルアレイと前記センス
アンプ列とを接続するシェアードスイッチ制御線を活性
化し続けて、前記選択メモリセルアレイ内のワード線上
のメモリセルのデータをセンスアンプ列に読み出し、一
定時間後、前記非選択メモリセルアレイにおいて、1本
もしくは複数本のワード線を活性化することにより、前
記1本もしくは複数本のワード線上のメモリセルに前記
データを書き込むことを特徴とする半導体記憶装置。
4. A memory cell array having a plurality of word lines and a plurality of bit lines and row decoders for selecting the word lines are arranged on the left and right of a sense amplifier column, and the sense amplifier column is connected via a shared switch. In the semiconductor memory device connected to the bit lines of the left and right memory cell arrays, / R is set in one / RAS cycle under a predetermined mode setting.
A word line in the memory cell array selected by an address designated at the time of AS input is activated, and a shared switch control line connecting the selected memory cell array and the sense amplifier row and a non-selected memory cell array and the sense amplifier row are connected. The shared switch control line is continuously activated to read the data of the memory cell on the word line in the selected memory cell array to the sense amplifier column, and after a certain time, in the non-selected memory cell array, one or more word lines Is activated to write the data to the memory cells on the one or more word lines.
【請求項5】複数本のワード線と複数本のビット線とを
有するメモリセルアレイを備えた半導体記憶装置におい
て、 前記ビット線と電源線(以下、VDD線)及び接地線(以
下、VSS線)に接続するスイッチを設け、所定のモード
設定のもと、1回の/RASサイクル内で、/RAS入力後に前
記ビット線をVDD線もしくはVSS線に接続し、前記メモリ
セルアレイ内において1本もしくは複数本のワード線を
活性化することにより、前記1本もしくは複数本のワー
ド線上のメモリセルに対し、ハイレベルもしくはローレ
ベルのデータの一括書き込みを行うことを特徴とする半
導体記憶装置。
5. A semiconductor memory device comprising a memory cell array having a plurality of word lines and a plurality of bit lines, wherein the bit lines, power supply lines (hereinafter VDD lines) and ground lines (hereinafter VSS lines) A switch to connect to the bit line is connected to the VDD line or the VSS line after inputting / RAS within a single / RAS cycle under the specified mode setting. A semiconductor memory device, wherein high-level or low-level data is collectively written to the memory cells on the one or more word lines by activating the word lines.
【請求項6】請求項5記載のハイレベルの書き込みにVD
D より高い電源電圧を用いることを特徴とする半導体記
憶装置。
6. The VD for high level writing according to claim 5.
A semiconductor memory device characterized by using a power supply voltage higher than D.
【請求項7】請求項1から6の何れかに記載において、
所定のモード設定のもとで、/RAS入力時に指定されたア
ドレスをプリデコードした後、/RASに対してあるタイミ
ングをもってアドレスを縮退させる信号を発生させ、前
記アドレス縮退信号を縮退させるアドレスのプリデコー
ド回路に入力し、前記プリデコード回路の出力信号を全
選択状態にし、ワード線、シェアードスイッチ制御信
号、センスアンプ活性化信号等を多重に活性化すること
を特徴とする半導体記憶装置。
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Under the specified mode setting, after predecoding the address specified at the / RAS input, generate a signal to degenerate the address to / RAS at a certain timing, and predecode the address degenerating the address degeneration signal. A semiconductor memory device, comprising: inputting to a decoding circuit, setting all output signals of the predecoding circuit to a selected state, and activating a word line, a shared switch control signal, a sense amplifier activation signal and the like in a multiple manner.
【請求項8】請求項1から6の何れかに記載において、
所定のモード設定のもとで、/RAS入力時に指定されたア
ドレスをプリデコードした後、/RASに対してあるタイミ
ングをもち、かつ遅延差を持ったアドレスを縮退させる
信号を複数系統発生させ、前記アドレス縮退信号を縮退
させるアドレスのプリデコード回路に入力し、前記プリ
デコード回路の出力信号を順次活性化し、最終的に全選
択状態にし、ワード線、シェアードスイッチ制御信号、
センスアンプ活性化信号等を多重に活性化することを特
徴とする半導体記憶装置。
8. The method according to any one of claims 1 to 6,
Under the specified mode setting, after pre-decoding the address specified at the / RAS input, generate multiple systems of signals that have a certain timing with respect to / RAS and degenerate an address with a delay difference, The address degeneration signal is input to a predecode circuit for degenerating the address, the output signals of the predecode circuit are sequentially activated, and finally all selected states are set, and word lines, shared switch control signals,
A semiconductor memory device having multiple activations of sense amplifier activation signals and the like.
【請求項9】複数本のワード線と複数本のビット線とを
有するメモリセルアレイと、前記ワード線を選択する行
デコーダと、前記ビット線に接続するセンスアンプ列と
を備えた半導体記憶装置において、 内部アドレス発生回路を設け、所定のモード設定のも
と、1回の/RASサイクル内で、/RAS入力時に指定された
アドレスによりワード線を選択した後、前記ワード線上
のメモリセルのデータを前記センスアンプ列に読み出
し、一定時間後、前記アドレスをもとに前記内部アドレ
ス発生回路で順次発生させた異なるアドレスを用いて、
ワード線を順次活性化することにより、1本もしくは複
数本のワード線上のメモリセルに前記データを書き込む
ことを特徴とする半導体記憶装置。
9. A semiconductor memory device comprising: a memory cell array having a plurality of word lines and a plurality of bit lines; a row decoder for selecting the word lines; and a sense amplifier column connected to the bit lines. By providing an internal address generation circuit and selecting the word line by the address specified at the / RAS input within one / RAS cycle under the specified mode setting, the data of the memory cell on the word line is selected. After reading out to the sense amplifier column, after a certain time, using different addresses sequentially generated by the internal address generation circuit based on the address,
A semiconductor memory device characterized in that the data is written into memory cells on one or a plurality of word lines by sequentially activating the word lines.
【請求項10】複数本のワード線と複数本のビット線と
を有するメモリセルアレイと、前記ワード線を選択する
行デコーダと、前記ビット線に接続するセンスアンプと
を備えた半導体記憶装置において、 所定のモード設定のもとで、/RAS入力時に指定されたア
ドレスでワード線を選択するとともに、コラムアドレス
ストローブ信号(以下、/CAS)入力時に指定されたアド
レスを用いて異なるワード線を多重に活性化して、ワー
ド線間のデータ転送を行うことを特徴とする半導体記憶
装置。
10. A semiconductor memory device comprising: a memory cell array having a plurality of word lines and a plurality of bit lines; a row decoder for selecting the word lines; and a sense amplifier connected to the bit lines. Under the specified mode setting, select a word line at the address specified when / RAS is input, and multiplex different word lines by using the address specified when the column address strobe signal (hereinafter, / CAS) is input. A semiconductor memory device which is activated to transfer data between word lines.
【請求項11】請求項1から10の何れかに記載におい
て、VDDより高い電源電圧を発生させる昇圧電源発生回
路を備え、前記昇圧電源発生回路を通常動作時用とワー
ド線多重選択動作時用の2系統で構成し、かつ前記ワー
ド線多重選択動作時用昇圧電源発生回路の昇圧能力を前
記通常動作時用昇圧電源発生回路の昇圧電源供給能力よ
り大きく設定し、所定のモード設定のもとで、前記通常
動作時用昇圧電源発生回路から前記ワード線多重選択動
作時用昇圧電源発生回路へ切り替えることを特徴とする
半導体記憶装置。
11. The boosting power supply generation circuit for generating a power supply voltage higher than VDD according to claim 1, wherein the boosting power supply generation circuit is for normal operation and word line multiple selection operation. The boosting power source generating circuit for the word line multiple selection operation is set to be larger than the boosting power source supplying capacity of the boosting power source generating circuit for normal operation, and a predetermined mode setting is performed. Then, the semiconductor memory device is characterized in that the boosting power supply generating circuit for normal operation is switched to the boosting power supply generating circuit for word line multiple selection operation.
【請求項12】請求項1から10の何れかに記載におい
て、VDDより高い電源電圧を発生させる昇圧電源発生回
路を備え、前記昇圧電源発生回路を通常動作時用とワー
ド線多重選択動作時用の2系統で構成し、かつ前記ワー
ド線多重選択動作時用昇圧電源発生回路の昇圧電源供給
能力は、ワード線多重選択時に必要な能力と通常動作時
より必要な能力の差分に設定し、所定のモード設定のも
とで、前記通常動作時用昇圧電源発生回路と前記ワード
線多重選択動作時用昇圧電源発生回路を同時に動作させ
ることを特徴とする半導体記憶装置。
12. The boosting power supply generation circuit for generating a power supply voltage higher than VDD according to claim 1, wherein the boosting power supply generation circuit is for normal operation and for word line multiple selection operation. The boosting power supply capability of the boosting power supply generation circuit for the word line multiplex selection operation is set to a predetermined difference between the ability required for the word line multiplex selection and the ability required for the normal operation. According to the mode setting, the semiconductor memory device is characterized in that the step-up power supply generation circuit for normal operation and the step-up power supply generation circuit for word line multiplex selection operation are simultaneously operated.
【請求項13】請求項1から10の何れかに記載におい
て、VDDより高い電源電圧を発生させる昇圧電源発生回
路を備え、前記昇圧電源発生回路内のチャージポンプを
制御するリングオシレータを通常動作時用とワード線多
重選択動作時用の2系統で構成し、かつ前記ワード線多
重選択動作時用リングオシレータの発振周波数を前記通
常動作時用リングオシレータの発振周波数より高く設定
し、所定のモード設定のもとで、前記通常動作時用リン
グオシレータから前記ワード線多重選択動作時用リング
オシレータへ切り替えることを特徴とする半導体記憶装
置。
13. The ring oscillator according to claim 1, further comprising a step-up power supply generation circuit for generating a power supply voltage higher than VDD, wherein a ring oscillator for controlling a charge pump in the step-up power supply generation circuit is in normal operation. And the word line multiplex selection operation, and the oscillation frequency of the word line multiplex selection operation ring oscillator is set higher than the oscillation frequency of the normal operation ring oscillator to set a predetermined mode. Under the circumstances, the semiconductor memory device is characterized in that the ring oscillator for normal operation is switched to the ring oscillator for word line multiple selection operation.
【請求項14】請求項11、12、13記載のVDDより
高い電源電圧を発生させる昇圧電源発生回路を備え、所
定のモード設定のもとで、/RASに対してあるタイミング
をもってアドレスを縮退させる信号を発生させ、/RAS及
び前記アドレス縮退信号によって前記昇圧電源発生回路
内のチャージポンプをコントロールすることを特徴とす
る半導体記憶装置。
14. A boosting power supply generation circuit for generating a power supply voltage higher than VDD according to claim 11, 12, or 13, and degenerates an address at a certain timing with respect to / RAS under a predetermined mode setting. A semiconductor memory device characterized by generating a signal and controlling a charge pump in the boosted power supply generation circuit by / RAS and the address degeneration signal.
【請求項15】請求項1から10の何れかに記載におい
て、VDDより高い電源電圧を印加するピンを設けること
を特徴とする半導体記憶装置。
15. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a pin for applying a power supply voltage higher than VDD.
【請求項16】請求項1から15の何れかに記載におい
て、モード設定のタイミングに、アウトプットイネーブ
ル信号(以下、/OE)及び/CASを活性化した後、/RASを
活性化するタイミングを用いることを特徴とする半導体
記憶装置。
16. The timing for activating / RAS after activating an output enable signal (hereinafter, / OE) and / CAS at the timing of mode setting according to any one of claims 1 to 15. A semiconductor memory device characterized by being used.
【請求項17】請求項1から15の何れかに記載におい
て、モード設定用ピンを設け、モード設定信号を前記ピ
ンより入力することを特徴とする半導体記憶装置。
17. A semiconductor memory device according to claim 1, wherein a mode setting pin is provided and a mode setting signal is input from the pin.
JP5077852A 1993-04-05 1993-04-05 Semiconductor memory Pending JPH06290587A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5077852A JPH06290587A (en) 1993-04-05 1993-04-05 Semiconductor memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5077852A JPH06290587A (en) 1993-04-05 1993-04-05 Semiconductor memory

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06290587A true JPH06290587A (en) 1994-10-18

Family

ID=13645597

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5077852A Pending JPH06290587A (en) 1993-04-05 1993-04-05 Semiconductor memory

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06290587A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7640467B2 (en) 2006-03-31 2009-12-29 Panasonic Corporation Semiconductor memory with a circuit for testing the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7640467B2 (en) 2006-03-31 2009-12-29 Panasonic Corporation Semiconductor memory with a circuit for testing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5319589A (en) Dynamic content addressable memory device and a method of operating thereof
US5471430A (en) Test circuit for refresh counter of clock synchronous type semiconductor memory device
US6519192B2 (en) Semiconductor memory device having a large band width and allowing efficient execution of redundant repair
EP0647945B1 (en) Burst refresh mode for DRAMs
US6324113B1 (en) Semiconductor integrated circuit and method of controlling same
US6018487A (en) Read-only memory device having bit line discharge circuitry and method of reading data from the same
JP2000285694A (en) Semiconductor memory and semiconductor integrated circuit mounting semiconductor memory
JPH07235185A (en) Semiconductor memory
JPH11317078A (en) Semiconductor memory
US4975881A (en) Semiconductor memory device provided with an improved redundant decoder
JP2002237190A (en) Associative memory device and its constituting method
JP2610598B2 (en) Circuit device for parallel writing of data to semiconductor memory
JPH0454318B2 (en)
US4985864A (en) Static random access memory having column decoded bit line bias
JP2000293998A (en) Semiconductor memory
US5781493A (en) Semiconductor memory device having block write function
US6304498B1 (en) Semiconductor memory device capable of suppressing degradation in operation speed after replacement with redundant memory cell
EP0869506B1 (en) Memory device with reduced power dissipation
US6747908B2 (en) Semiconductor memory device and method of selecting word line thereof
KR100334574B1 (en) Burst-type semiconductor memory device having full-page mode
US6809972B2 (en) Circuit technique for column redundancy fuse latches
JPH06290587A (en) Semiconductor memory
US6262923B1 (en) Semiconductor memory device with redundancy function
US5796271A (en) Memory array having redundant word line
JP2575061B2 (en) Semiconductor storage device